JPH11267113A - 磁気共鳴スペクトロスコピ―・イメ―ジング方法及び装置 - Google Patents
磁気共鳴スペクトロスコピ―・イメ―ジング方法及び装置Info
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- JPH11267113A JPH11267113A JP11037963A JP3796399A JPH11267113A JP H11267113 A JPH11267113 A JP H11267113A JP 11037963 A JP11037963 A JP 11037963A JP 3796399 A JP3796399 A JP 3796399A JP H11267113 A JPH11267113 A JP H11267113A
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Abstract
る化学シフト誤差を減少させる。 【解決手段】 PRESSのような領域励起パルス・シ
ーケンスと極めて高い選択性の領域外飽和パルスとを印
加して、領域を、励起シーケンスに関連した位置ずれ誤
差の存在しない関心領域に制限する。結果として得られ
る領域は、極めて高い選択性の飽和パルスの極く微小な
化学シフト位置ずれによってのみ限定されるものとな
る。
Description
鳴スペクトロスコピーに関し、より具体的には、化学シ
フト誤差が減少したボリューム・スペクトロスコピーに
関する。
コピーは、脳内の拡散的化学変化をもたらす異常の検出
に特に有用なルーチン的な臨床ツールとなっている。関
心領域(volume of interest)内のスピンを直接励起し
て、3次元の選択を実現する手法としては、誘導エコー
の利用及びカー・パーセル(Carr-Purcell)エコーの利
用を含めて様々なものが知られている。これらの手法
は、1回の走査で局在化されたスペクトルを取得するも
のである。例えば、ポイント分解スペクトロスコピー
(PRESS:point resolved spectroscopy ;米国特
許第4,480,228を参照されたい。)は、各々が
周波数選択性である3つのパルス・シーケンスを用いて
いる。
メージング(MRSI)の多くの重要な臨床的応用は、
限定された励起領域の位相エンコーディング(pahase en
coding) に基づいている。典型的には、領域の励起は、
PRESSを用いて行われており、この方法は、2重の
スピン・エコーの形態で3つの直交するスライスを利用
して、特定の関心領域を選択している。残念なことに、
この手法の1つの弱点は、化学シフト周波数の範囲
(1.5Tにおいてプロトンの場合で200Hzを上回
る)が、殆どの励起パルス(1000Hz〜2000H
z)の限定された帯域幅に対して小さいものではないと
いうことである。その結果、送信器の周波数以外の周波
数では化学シフト周波数のために関心領域の位置ずれ
(misregistration )が起こる。このことを図1に示
す。化学シフト誤差は、RFプロファイルの遷移帯域部
分(f)によって励起される信号について最大の難点を
生ずる。関心のある化学シフト周波数と共通の通過帯域
の部分(c)を除いては、各々の共鳴が異なって励起さ
れてしまう。従って、PRESS領域をMRSIによっ
て分解すると、化学レベルが組織レベル、すなわちT1
及びT2に依存するばかりでなく、関心領域内での位置
にも依存することになる。唯一の例外は、共通通過帯域
[RF通過帯域(a)−化学シフト誤差(d)」の限度
内にある場合である。遷移帯域内では、誤差の大きさは
化学シフト誤差及び遷移帯域の形状に依存する。評価尺
度(figure of merit )の1つに、遷移帯域の90%に
わたる所望の化学シフトの両極における励起の差、すな
わち、最大誤差=(化学シフト帯域幅)×(遷移帯域の
傾き)がある。これは、遷移帯域が比較的直線的であ
り、また励起がピーク値の5%から95%まで増大する
範囲の遷移帯域を傾斜が表しているものと仮定してい
る。これらの値は、PRESSで用いられる90°励起
については40%を上回り、再収束(リフォーカシン
グ)パルスについては60%を上回る可能性がある。
レベル及びピーク比の測定における空間依存的な変化の
不確定性を減少させるためには、選択度百分率(これは
[通過帯域/(通過帯域+遷移帯域)]×100として
定義される)を最大化すると共に、化学シフト誤差百分
率(これは[化学シフト帯域幅/有効RF帯域幅」×1
00として定義される)を最小化することが重要であ
る。典型的な臨床用スキャナの0.2ガウス程度のB1
磁場では、1.5Tにおいて3.4ppmの化学シフト
範囲について、選択度を59%よりも高くすると共に化
学シフト誤差を20%未満として、PRESSに要求さ
れる再集束パルスを設計することは困難である。
I応用における選択度は、遷移帯域幅及び化学シフトの
両方によって制限されるので、実際の選択度を、MRS
I選択度百分率=[(通過帯域−化学シフト誤差)/
(通過帯域+遷移帯域+化学シフト誤差)]×100と
して定義すると便利である。この定義によれば、上述の
ような典型的な選択度は、再集束パルスの場合には僅か
46%に留まり、典型的な90°励起の場合には約52
%となる。選択度が50%未満である場合には、この選
択度部分より外側で分解されるボクセルは、無視する
か、又は励起プロファイルについて補正するかしなけれ
ばならない。しかしながら、最終的には、これらの補正
及び付随する仮定を回避するために、限局的MRSI選
択度を向上させることが好ましい。
実上この問題を取り扱っていて、位相符号化周波数を歪
ませてスライス選択の位置ずれを整合させている。これ
は、各々の位相符号化増分に対して、展開時間符号化
(evolution time encoding )を加えることにより達成
されている。スペクトロスコピー・イメージング用とし
ての短所の可能性としては、展開時間符号化が結合スピ
ンに対して及ぼす影響、及び関心領域より外側の脂質等
の大信号を励起してしまうことによる影響がある。
SSのような領域励起を、極めて高い選択性の領域外(o
ut of volume) 飽和パルスと組み合わせて、関心領域よ
り外側からの信号を抑制すると共に、この領域内での化
学シフト誤差を最小化する。関心領域の両側で極めて高
い選択性の飽和帯域を用いることにより、関心のある位
置/周波数帯域より外側でのPRESS励起及びこれに
付随する化学シフトが除去される。次いで、関心領域か
ら信号が検出される。
図面と併せて以下の詳細な記載及び特許請求の範囲から
より容易に明らかとなろう。
図2(A)は、MRIシステムのコイル装置を部分的に
断面で示す斜視図であり、図2(B)〜図2(D)は、
図2(A)の装置内で発生させることのできる磁場勾配
を示す図である。この装置は、"Proceedings of the IE
EE" 誌、第71巻、第3号、1993年3月、第338
頁〜第350頁に所載のHinshaw 及びLentによる論文
「NMRイメージング入門:Bloch 方程式からイメージ
ング方程式まで(An Introduction to NMR Imaging: Fr
omthe Bloch Equation to the Imaging Equation )」
で議論されている。簡単に述べると、コイル対10を含
んでいる磁石によって、一様な静磁場B0 が発生され
る。円筒12上に巻回することの可能な複合的な勾配コ
イル・セットによって、勾配磁場G(x)が発生され
る。RF磁場B1 が、RFコイル14によって発生され
る。被検サンプルが、RFコイル14の内部にZ軸に沿
って配置される。
り、X勾配磁場は、静磁場B0 に垂直で且つX軸に沿っ
て距離と共に直線的に変化するが、Y軸又はZ軸に沿っ
て距離と共に変化することはない。図2(C)及び図2
(D)はそれぞれ、Y勾配磁場及びZ勾配磁場について
の同様の図である。図3は、NMR装置の機能ブロック
図である。コンピュータ20が、MRI装置の動作をプ
ログラム制御すると共に、MRI装置から検出されるF
ID(自由誘導減衰)信号を処理する。勾配磁場は勾配
増幅器22によってエネルギを与えられ、また、ラーモ
ア周波数のB1 磁場を発生するためのRFコイル26は
送信器24によって制御される。選択された核が励起さ
れた後に、RFコイル26を用いてFID信号が検出さ
れ、このFID信号は、受信器28へ伝送された後に、
ディジタイザ30を介してコンピュータ20で処理され
る。
励起パルスを、領域外飽和パルスと組み合わせて、関心
領域より外側からの緩和信号回復を抑制する。1996
年7月15日に出願された米国特許出願第08/68
3,589号、「NMR測定シーケンスのための実時間
RFパルス構成(Real Time RF Pulse Construction fo
r NMR Measurement Sequences )」には、このような領
域外飽和パルスを構成する方法を開示している。
に、NMRパルス・シーケンスのためのRFパルスは、
逆SLR変換法を用いてNMRシステムにおいて設計さ
れる。SLR変換に必要な多項式は、重み付き最小平均
自乗(WLMS:weighted least mean squares )法を
用いて算出され、この方法では、初期重み関数が、NM
Rシステムのオペレータによって入力される所望のパル
ス・プロファイルと共に用いられる。オペレータはま
た、WLMS法に対する入力として位相プロファイルを
指定することもできる。より詳しく述べると、所望のパ
ルス・プロファイルdes(ω)が入力され、重み関数
W(ω)が算出され、これら所望のパルス・プロファイ
ルdes(ω)及び重み関数W(ω)を入力とする重み
付き最小平均自乗法を用いて一組のSLR多項式が算出
され、これらのSLR多項式を逆SLR法において用い
て、RFパルス波形R(t)を発生させる。RFパルス
を用いる走査の前にオペレータによって指定されている
RFパルス・プロファイルに応答して、MRIシステム
内でRFパルスを発生させることができる。
ることに加えて、RFパルス・プロファイル指定はま
た、位相指定を含むことができる。このような場合に
は、位相指定もまた重み付き最小平均自乗法の入力とな
り、この重み付き最小平均自乗法を1回又はそれよりも
多い回数繰り返すと、所望の大きさ指定を満たすことが
できる。
これらの飽和パルスは、極めて大きな有効RF帯域幅を
有しており、従って、極めて小さな化学シフト誤差しか
有さない。これらの飽和パルスを用いると、最大99%
のMRSI選択度百分率で、局在化された領域を画定す
ることが可能になる。領域外飽和のみを用いて領域を画
定することに関連する問題点は、一旦所望の領域が全体
の励起領域よりも大幅に小さくなると、選択度が低下
し、飽和した信号の比較的穏やかな緩和回復ですら関心
領域内の結果を損なう可能性があるということである。
性の領域外飽和パルスとの組み合わせを用いて、選択度
を向上させると共に、限局的MRSIにおける化学シフ
ト誤差を大幅に減少させる。この概念を図4に示す。こ
の方法では、極めて高い選択性の飽和帯域(g)を用い
て、共通通過帯域(c)より外側のPRESS励起領域
を除去する。関心領域がそのMRSI選択度百分率につ
いて極めて高い選択性の飽和帯域にのみ依存するよう
に、新たな規定部(j)が関心領域を制限する。飽和帯
域の作用量を全遷移帯域(f)に制限することにより、
飽和帯域の幅を制約することができ、飽和信号の緩和回
復に関連した問題が最小限に抑えられる。図5は、従来
の10cmのRx PRESS領域と、極めて高い選択性
のPRESS領域を用いた場合の10cmのRx とを対
比して、1cm単位のMRSI分解能における影響を示
している。
合わせて関心領域より外側からの緩和信号回復を抑制す
ることにより、磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージ
ングにおける化学シフト誤差を最小化する方法について
述べた。特定の実施例を参照して本発明を記載したが、
この記載は発明を説明するためのものであって、発明を
限定するものと解釈してはならない。特許請求の範囲に
よって画定される本発明の要旨及び範囲から逸脱しない
様々な改変及び応用が、当業者には想到されよう。
おける選択されたスライスにおける化学シフトによる誤
差を示す図である。
装置において発生される磁場(B〜D)を示す図であ
る。
ロック図である。
化学シフト誤差を減少させる領域励起を示す図である。
図である。
Claims (18)
- 【請求項1】 化学シフト誤差を減少させる磁気共鳴ス
ペクトロスコピー・イメージング方法であって、 (a)磁場内にイメージング対象の物体を置く工程と、 (b)関心領域より外側の周波数に対して極めて高い選
択性の領域外飽和パルスを印加し、これにより該関心領
域より外側からの信号のあらゆる後続の発生を抑制する
工程と、 (c)前記関心領域が、すべての所望の化学シフト周波
数に共通の通過帯域により励起されるように、前記関心
領域よりも大きなスライス又は領域を選択的に励起する
パルス・シーケンスを印加する工程と、 (d)化学シフト不感受性の関心領域から信号を検出す
る工程と、を備えている磁気共鳴スペクトロスコピー・
イメージング方法。 - 【請求項2】 前記関心領域は、1次元又は多次元の位
相符号化により更に分解される請求項1に記載の磁気共
鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項3】 前記関心領域は、位相符号化及び周波数
符号化により更に分解される請求項1に記載の磁気共鳴
スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項4】 前記工程(c)は、ポイント分解スペク
トロスコピー(PRESS)を含んでいる請求項1に記
載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項5】 前記工程(c)は、誘導エコー取得モー
ド(STEAM)を含んでいる請求項1に記載の磁気共
鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項6】 前記工程(c)は、1次元スライス選択
を含んでいる請求項1に記載の磁気共鳴スペクトロスコ
ピー・イメージング方法。 - 【請求項7】 前記工程(c)は、2次元スライス選択
を含んでいる請求項1に記載の磁気共鳴スペクトロスコ
ピー・イメージング方法。 - 【請求項8】 前記工程(b)は、 (i)所望のパルス・プロファイルを示すデータdes
(ω)を入力する工程と、 (ii)初期重み関数W(ω)を算出する工程と、 (iii )重み付き最小平均自乗法と、前記所望のパルス
・プロファイルdes(ω)と、前記初期重み関数W
(ω)とを用いて、一組のSLR多項式を算出する工程
と、 (iv)算出された前記SLR多項式を用いて逆SRL変
換を実行することにより、RFパルス包絡線R(t)を
発生させる工程と、を含んでいる請求項2に記載の磁気
共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項9】 前記工程(c)は、 (i)所望のパルス・プロファイルを示すデータdes
(ω)を入力する工程と、 (ii)初期重み関数W(ω)を算出する工程と、 (iii )重み付き最小平均自乗法と、前記所望のパルス
・プロファイルdes(ω)と、前記初期重み関数W
(ω)とを用いて、一組のSLR多項式を算出する工程
と、 (iv)算出された前記SLR多項式を用いて逆SRL変
換を実行することにより、RFパルス包絡線R(t)を
発生させる工程と、を含んでいる請求項1に記載の磁気
共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項10】 前記工程(c)は、ポイント分解スペ
クトロスコピー(PRESS)を含んでいる請求項2に
記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方
法。 - 【請求項11】 前記工程(c)は、誘導エコー取得モ
ード(STEAM)を含んでいる請求項2に記載の磁気
共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項12】 前記工程(c)は、1次元スライス選
択を含んでいる請求項2に記載の磁気共鳴スペクトロス
コピー・イメージング方法。 - 【請求項13】 前記工程(c)は、2次元スライス選
択を含んでいる請求項2に記載の磁気共鳴スペクトロス
コピー・イメージング方法。 - 【請求項14】 前記工程(c)は、ポイント分解スペ
クトロスコピー(PRESS)を含んでいる請求項3に
記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方
法。 - 【請求項15】 前記工程(c)は、誘導エコー収集モ
ード(STEAM)を含んでいる請求項3に記載の磁気
共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。 - 【請求項16】 前記工程(c)は、1次元スライス選
択を含んでいる請求項3に記載の磁気共鳴スペクトロス
コピー・イメージング方法。 - 【請求項17】 前記工程(c)は、2次元スライス選
択を含んでいる請求項3に記載の磁気共鳴スペクトロス
コピー・イメージング方法。 - 【請求項18】 化学シフト誤差を減少させる磁気共鳴
スペクトロスコピー・イメージング装置であって、 (a)磁場内にイメージング対象の物体を載置させる手
段と、 (b)関心領域より外側の周波数に対して極めて高い選
択性の領域外飽和パルスを印加し、これにより該関心領
域より外側からの信号のあらゆる後続の発生を抑制する
手段と、 (c)前記関心領域が、すべての所望の化学シフト周波
数に共通の通過帯域により励起されるように、前記関心
領域よりも大きなスライス又は領域を選択的に励起する
パルス・シーケンスを印加する手段と、 (d)化学シフト不感受性の関心領域から信号を検出す
る手段と、を備えている磁気共鳴スペクトロスコピー・
イメージング装置。
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