JPH11260983A - Manufacture of lead frame - Google Patents

Manufacture of lead frame

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JPH11260983A
JPH11260983A JP10062608A JP6260898A JPH11260983A JP H11260983 A JPH11260983 A JP H11260983A JP 10062608 A JP10062608 A JP 10062608A JP 6260898 A JP6260898 A JP 6260898A JP H11260983 A JPH11260983 A JP H11260983A
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lead frame
tip
lead
inner lead
sealing resin
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Osamu Adachi
修 安達
Masanori Nano
匡紀 南尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a lead frame which has a shape used to increase its close contact strength with a sealing resin and which can be manufactured by using a press working operation. SOLUTION: A metal sheet is pressed or etched in advance, and an inner lead having a tip part 50 in a simple shape is formed. Then, the tip part 50 is placed on the die 40A of a press mold. Then, the tip part 50 is pressed by the punch 30 of the press mold. The tip part 50 is rolled to the width direction and the tip direction of the inner lead. A bonding pad 13A is formed on a lead frame. Consequently, the lead frame whose contact area with a sealing resin is large, i.e., whose contact strength with the sealing resin is large, thanks to the bonding pad 13A by which the tip of the inner lead is expanded to its width direction and its tip direction can be manufactured easily by using a press working operation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップを搭
載するためのリードフレームの製造方法、特に半導体チ
ップを封止するための封止樹脂との間の密着強度が大き
いリードフレームを製造できるリードフレームの製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for mounting a semiconductor chip, and more particularly to a lead for manufacturing a lead frame having a high adhesion strength with a sealing resin for sealing a semiconductor chip. The present invention relates to a method for manufacturing a frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に半導体部品を高密度に実装することが要求され、それ
に伴って半導体部品の小型化及び薄型化が進んでいる。
以下、従来の樹脂封止型半導体装置に用いられるリード
フレームについて、図面を参照して説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, it has been required to mount semiconductor components at high density in order to cope with miniaturization of electronic equipment, and accordingly, semiconductor components have been reduced in size and thickness.
Hereinafter, a lead frame used in a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described with reference to the drawings.

【0003】図11は、樹脂封止型半導体装置に用いら
れる従来のリードフレームの平面図である。図11にお
いて、半導体チップが載置されるためのダイパッド10
0が、それぞれ吊りピン110を介してフレーム外枠1
20により支持されている。また、先端にボンディング
パッド130を有するインナーリード140が、フレー
ム外枠120からダイパッド100に近接する位置まで
延びている。
FIG. 11 is a plan view of a conventional lead frame used for a resin-sealed semiconductor device. In FIG. 11, a die pad 10 on which a semiconductor chip is mounted is shown.
0 is the frame outer frame 1 via the hanging pins 110, respectively.
20 supported. An inner lead 140 having a bonding pad 130 at the tip extends from the frame outer frame 120 to a position close to the die pad 100.

【0004】図12(a)、(b)、(c)、及び
(d)は、それぞれ従来のリードフレームのインナーリ
ードの先端を示す斜視図、平面図、正面図、及び右側面
図である。図12(a)〜(d)において、ボンディン
グパッド130とインナーリード140とは、金属の薄
板をエッチングすることにより外形加工して形成され
る。そして、封止後における封止樹脂との密着強度を高
めるために、金属の薄板の上面と下面とに形成したレジ
スト膜の開口量を変えてエッチングを行うことにより、
テーパー状の断面形状と側面150とを形成している。
FIGS. 12 (a), 12 (b), 12 (c) and 12 (d) are a perspective view, a plan view, a front view and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of a conventional lead frame. . In FIGS. 12A to 12D, the bonding pad 130 and the inner lead 140 are formed by processing the outer shape by etching a thin metal plate. Then, in order to increase the adhesion strength with the sealing resin after the sealing, the etching is performed by changing the opening amount of the resist film formed on the upper surface and the lower surface of the metal thin plate,
A tapered cross-sectional shape and a side surface 150 are formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のリードフレームにおいては、エッチング加工の精度
の制約から安定したテーパー状の断面形状が得られない
ので、リードフレームの歩留まり悪化の一因となってい
た。また、インナーリードの狭ピッチ化に伴い、インナ
ーリードの幅およびインナーリード間の空間が狭くなっ
てきたので、テーパー状の断面形状を形成する空間の確
保が困難となってきた。加えて、テーパー状の断面形状
が安定せず半導体装置と封止樹脂との密着強度を確実に
高めることができないので、半導体装置の信頼性を低下
させていた。
However, in the above-described conventional lead frame, a stable tapered cross-sectional shape cannot be obtained due to the limitation of the accuracy of the etching process, which is a cause of a decrease in the yield of the lead frame. Was. Further, as the pitch of the inner leads becomes narrower, the width of the inner leads and the space between the inner leads have become narrower, and it has become difficult to secure a space for forming a tapered cross-sectional shape. In addition, since the tapered cross-sectional shape is not stable and the adhesion strength between the semiconductor device and the sealing resin cannot be reliably increased, the reliability of the semiconductor device has been reduced.

【0006】本発明は、上記従来の問題に鑑み、密着強
度が大きいインナーリードをプレス加工により実現し得
る手段を講ずることにより、封止後における封止樹脂と
の密着強度が大きいリードフレームの製造方法を提供す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention provides a method for manufacturing a lead frame having a large adhesion strength with a sealing resin after sealing by taking measures to realize an inner lead having a large adhesion strength by press working. The aim is to provide a method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1のリードフレームの製造方法は、請
求項1に記載されているように、インナーリードの下面
が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂
封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造方法
を、インナーリードの先端部を横方向へ引き延ばす加工
を行うことにより広幅部を形成する工程を備えたことと
している。
In order to achieve the above object, a first method of manufacturing a lead frame according to the present invention is characterized in that the lower surface of the inner lead serves as an external terminal. The method for manufacturing a lead frame used for a resin-encapsulated semiconductor device exposed from the back surface of an encapsulating resin includes a step of forming a wide portion by performing a process of extending a tip portion of an inner lead in a lateral direction. And

【0008】これにより、インナーリードの先端部を横
方向へ引き延ばして広幅部を形成する。したがって、広
幅部が封止樹脂との接触面積を大きくするので、封止樹
脂との密着強度が大きいリードフレームを製造できる。
Thus, the tip of the inner lead is extended in the lateral direction to form a wide portion. Therefore, since the wide portion increases the contact area with the sealing resin, it is possible to manufacture a lead frame having a high adhesion strength with the sealing resin.

【0009】本発明の第2のリードフレームの製造方法
は、請求項2に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法を、インナーリードの先端部における厚さ方向の一
部を横方向へ引き延ばす加工を行うことにより広幅部を
形成する工程を備えたこととしている。
According to a second method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 2, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed from the back surface of the encapsulating resin as an external terminal. The method for manufacturing a lead frame used in the apparatus includes a step of forming a wide portion by performing a process of extending a part of the inner lead in a thickness direction at a tip end portion in a lateral direction.

【0010】これにより、インナーリードの先端部の厚
さ方向の一部を横方向へ引き延ばして広幅部を形成す
る。したがって、広幅部が封止樹脂との接触面積を大き
くし、かつ広幅部の下へ封止樹脂が回り込めるので、封
止樹脂との密着強度が更に大きいリードフレームを製造
できる。
As a result, a part of the tip of the inner lead in the thickness direction is extended in the lateral direction to form a wide portion. Therefore, since the wide portion increases the contact area with the sealing resin and the sealing resin can flow under the wide portion, it is possible to manufacture a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin.

【0011】本発明の第3のリードフレームの製造方法
は、請求項3に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法を、インナーリードの先端部を金型のテーパー状の
凹部に押し込んで、該凹部の形状をリードフレームに転
写する加工を行うことにより上面が下面より広いテーパ
ー部を形成する工程を備えたこととしている。
According to a third method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 3, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed as an external terminal from the rear surface of the encapsulating resin. The method of manufacturing the lead frame used in the device is as follows. By pressing the tip of the inner lead into the tapered recess of the mold and transferring the shape of the recess to the lead frame, the upper surface has a tapered portion wider than the lower surface. A forming step is provided.

【0012】これにより、インナーリードの先端部に金
型の凹部の形状を転写して、上面が下面より広いテーパ
ー部を形成する。したがって、テーパー部の上面が封止
樹脂との接触面積を大きくし、かつテーパー部の側面の
下へ封止樹脂が回り込めるので、封止樹脂との密着強度
が更に大きいリードフレームを製造できる。
As a result, the shape of the concave portion of the mold is transferred to the tip of the inner lead to form a tapered portion whose upper surface is wider than the lower surface. Therefore, since the upper surface of the tapered portion increases the contact area with the sealing resin and the sealing resin can flow under the side surface of the tapered portion, it is possible to manufacture a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin.

【0013】本発明の第4のリードフレームの製造方法
は、請求項4に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法を、インナーリードの先端付近の一部を下方へ突出
させる曲げ加工を行うことにより一部がインナーリード
の先端部よりも下方へ突出してなる外部端子を形成する
工程を備えたこととしている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a resin-sealed semiconductor device wherein the lower surface of the inner lead is exposed as an external terminal from the back surface of the sealing resin. A method of manufacturing a lead frame used in an apparatus, wherein a step of forming an external terminal partly protruding below the front end of the inner lead by performing a bending process to protrude a part near the front end of the inner lead downward. It has been provided with.

【0014】これにより、インナーリードの先端付近の
一部を曲げ加工して、先端部よりも下方へ突出した外部
端子を形成する。したがって、下方へ突出していない部
分のインナーリードの下へ封止樹脂が回り込めるので、
封止樹脂との密着強度が更に大きいリードフレームを製
造できる。
Thus, a part of the inner lead near the tip is bent to form an external terminal projecting downward from the tip. Therefore, since the sealing resin can flow under the inner lead of the portion that does not protrude downward,
It is possible to manufacture a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
の第1の実施形態に係るリードフレーム及びその製造方
法について、図1〜図3を参照して説明する。図1は、
本実施形態に係るリードフレームの平面図である。図1
において、半導体チップが載置されるためのダイパッド
10が、それぞれ吊りピン11を介してフレーム外枠1
2により支持されている。また、先端にボンディングパ
ッド13Aを有するインナーリード14が、フレーム外
枠12からダイパッド10に近接する位置まで延びてい
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) A lead frame and a method for manufacturing the same according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG.
FIG. 3 is a plan view of the lead frame according to the embodiment. FIG.
, A die pad 10 on which a semiconductor chip is mounted is connected to a frame outer frame 1 via a suspending pin 11.
2 supported. An inner lead 14 having a bonding pad 13 </ b> A at the tip extends from the frame outer frame 12 to a position close to the die pad 10.

【0016】ボンディングパッド13Aは、図2に示す
ような形状を有している。図2(a)〜(d)は、それ
ぞれ本実施形態に係るリードフレームのインナーリード
の先端を示す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図
である。図2(a),(b)において、インナーリード
14の先端に設けられた広幅部からなるボンディングパ
ッド13Aは、インナーリード14の先端部において厚
さ方向のすべての部分が、材料上面20の側からプレス
される、つまりコイニング加工されることにより、イン
ナーリード14の幅方向及び先端方向に圧延され形成さ
れている。
The bonding pad 13A has a shape as shown in FIG. 2A to 2D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the lead frame according to the present embodiment. In FIGS. 2A and 2B, the bonding pad 13 </ b> A having a wide portion provided at the tip of the inner lead 14 is such that all portions in the thickness direction at the tip of the inner lead 14 are on the side of the material upper surface 20. The inner leads 14 are pressed and rolled in the width direction and the tip direction by coining.

【0017】ここで、本実施形態に係るリードフレーム
の特徴は、図2(c),(d)に示すように、材料下面
21と共通の下面を有し、かつ材料上面20と材料下面
21との間に上面が存在するように設けられたボンディ
ングパッド13Aが、インナーリード14の幅方向及び
先端方向に拡げられて形成されている点である。これに
より、ボンディングパッド13Aを平面的にみた場合の
面積、つまり樹脂封止後における封止樹脂とボンディン
グパッド13Aとの接触面積が大きくなるので、封止樹
脂との間の密着強度が大きいリードフレームが実現され
る。
Here, the features of the lead frame according to the present embodiment are, as shown in FIGS. 2C and 2D, a common lower surface with the material lower surface 21, and a material upper surface 20 and a material lower surface 21. The bonding pad 13 </ b> A provided so that the upper surface exists between the inner lead 14 and the inner lead 14 is formed so as to expand in the width direction and the tip direction. As a result, the area when the bonding pad 13A is viewed in a plane, that is, the contact area between the sealing resin and the bonding pad 13A after resin sealing is increased, so that the lead frame having a large adhesion strength between the sealing resin and the sealing resin. Is realized.

【0018】図3(a),(b)は、本実施形態に係る
リードフレームの製造方法の各工程を示す断面図であ
る。
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a lead frame according to the present embodiment.

【0019】まず、図3(a)に示すように、プレス加
工又はエッチング加工により金属の薄板を外形加工して
予めインナーリードの先端部50を形成し、プレス金型
のダイ40A上に先端部50を載置する。
First, as shown in FIG. 3 (a), a metal thin plate is externally worked by press working or etching work to form the tip 50 of the inner lead in advance, and the tip 50 is placed on the die 40A of the press die. Place 50.

【0020】次に、図3(b)に示すように、プレス金
型のパンチ30により先端部50をプレスして、先端部
50をインナーリードの幅方向(図中の左右方向)及び
先端方向に圧延する。このことにより、広幅部からなる
ボンディングパッド13Aを容易に形成できる。
Next, as shown in FIG. 3B, the tip 50 is pressed by the punch 30 of a press die, and the tip 50 is moved in the width direction (left-right direction in the figure) and the tip direction of the inner lead. Rolled. Thus, the bonding pad 13A having a wide portion can be easily formed.

【0021】なお、図3(a),(b)において、圧延
後のボンディングパッド13Aの幅を規制し、又は一定
にするために、ダイ40A上で先端部50を載置する領
域から所定の間隔をおいて、ダイ40Aの上面を盛り上
げるように段差を設けてもよい。
In FIGS. 3 (a) and 3 (b), in order to regulate or keep the width of the bonding pad 13A after rolling, a predetermined area is set from a region where the tip 50 is placed on the die 40A. A step may be provided at intervals so as to raise the upper surface of the die 40A.

【0022】本実施形態によれば、ボンディングパッド
13Aの最終形状と体積とを考慮して予め金属の薄板を
プレス加工又はエッチング加工し、単純な形状の先端部
50を有するインナーリードを形成する。そして、プレ
ス加工によりその先端部50を圧延し、先端部50が幅
方向及び先端方向に拡げられたボンディングパッド13
Aを形成する。したがって、樹脂封止後における封止樹
脂との間の密着強度が大きいリードフレームを、プレス
加工によって歩留まりよく製造できる。
According to the present embodiment, a metal thin plate is pre-pressed or etched in consideration of the final shape and volume of the bonding pad 13A to form an inner lead having a simple-shaped tip portion 50. Then, the tip portion 50 is rolled by pressing, and the tip portion 50 is expanded in the width direction and the tip direction.
Form A. Therefore, a lead frame having a large adhesion strength with the sealing resin after resin sealing can be manufactured with high yield by press working.

【0023】(第2の実施形態)以下、本発明の第2の
実施形態に係るリードフレーム及びその製造方法につい
て、図4と図5とを参照して説明する。本実施形態に係
るリードフレームの全体構成は図1と同様なので、その
説明を省略する。図4(a)〜(d)は、それぞれ本実
施形態に係るリードフレームのインナーリードの先端を
示す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
図4(a),(b)において、インナーリード14の先
端に設けられた広幅部からなるボンディングパッド13
Bは、インナーリード14の先端部において厚さ方向の
一部が、材料上面20の側からプレスされる、つまりコ
イニング加工されることにより、インナーリード14の
幅方向及び先端方向に圧延され形成されている。
(Second Embodiment) A lead frame and a method for manufacturing the same according to a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The overall configuration of the lead frame according to the present embodiment is the same as that of FIG. 1, and a description thereof will be omitted. 4A to 4D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the lead frame according to the present embodiment.
4 (a) and 4 (b), the bonding pad 13 having a wide portion provided at the tip of the inner lead 14 is provided.
B is formed by being rolled in the width direction and the tip direction of the inner lead 14 by pressing a part of the tip of the inner lead 14 in the thickness direction from the material upper surface 20 side, that is, by coining. ing.

【0024】ここで、本実施形態に係るリードフレーム
の特徴は、図4(c),(d)に示すように、材料上面
20と材料下面21との間において一定の厚さを有する
ボンディングパッド13Bが、インナーリード14の幅
方向及び先端方向に拡げられて形成されている点であ
る。これにより、ボンディングパッド13Bを平面的に
みた場合の面積、つまり樹脂封止後における封止樹脂と
ボンディングパッド13Bとの接触面積が大きくなり、
かつ、封止樹脂がボンディングパッド13Bの下へ回り
込めるので、樹脂封止後における封止樹脂との間の密着
強度が更に大きいリードフレームが実現される。
Here, the feature of the lead frame according to the present embodiment is that, as shown in FIGS. 4C and 4D, a bonding pad having a constant thickness between the upper surface 20 and the lower surface 21 of the material. 13B is formed so as to be expanded in the width direction and the tip direction of the inner lead 14. As a result, the area when the bonding pad 13B is viewed in a plane, that is, the contact area between the sealing resin and the bonding pad 13B after resin sealing is increased,
In addition, since the sealing resin can flow under the bonding pad 13B, a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin after resin sealing is realized.

【0025】図5(a),(b)は、本実施形態に係る
リードフレームの製造方法の各工程を示す断面図であ
る。
FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views showing each step of the method for manufacturing a lead frame according to the present embodiment.

【0026】まず、図5(a)に示すように、プレス加
工又はエッチング加工により金属の薄板を外形加工して
予めインナーリードの先端部50を形成し、厚さ方向の
一部がプレス金型のダイ40Bにおける凹部41に固定
され、残りの部分が凹部41から突出するように、先端
部50をダイ40Bへ載置する。
First, as shown in FIG. 5 (a), a metal thin plate is externally worked by press working or etching work to form the tip 50 of the inner lead in advance, and a part in the thickness direction is a press die. The tip 50 is placed on the die 40B so that the remaining portion of the die 40B is fixed to the concave portion 41 of the die 40B.

【0027】次に、図5(b)に示すように、プレス金
型のパンチ30により先端部50をプレスして、先端部
50が凹部41から突出した部分をインナーリードの幅
方向(図中の左右方向)及び先端方向に圧延する。この
ことにより、広幅部からなるボンディングパッド13B
を容易に形成できる。
Next, as shown in FIG. 5B, the tip 50 is pressed by the punch 30 of a press die, and the portion where the tip 50 protrudes from the concave portion 41 is moved in the width direction of the inner lead (in the drawing). In the left-right direction) and the tip direction. As a result, the bonding pad 13B having a wide portion is formed.
Can be easily formed.

【0028】なお、図5(a),(b)においても、第
1の実施形態と同様に圧延後のボンディングパッド13
Bの幅を規制し、又は一定にするために、先端部50を
載置する凹部41から所定の間隔をおいて、ダイ40B
の上面を盛り上げるように段差を設けてもよい。
5A and 5B, similarly to the first embodiment, the bonding pad 13 after rolling.
In order to regulate or keep the width of B at a predetermined distance from the recess 41 on which the tip 50 is placed, the die 40B
A step may be provided so as to raise the upper surface of.

【0029】本実施形態によれば、ボンディングパッド
13Bの最終形状と体積とを考慮して予め金属の薄板を
プレス加工又はエッチング加工し、単純な形状の先端部
50を有するインナーリードを形成する。そして、プレ
ス加工によりその先端部50を圧延し、先端部50の厚
さ方向の一部が幅方向及び先端方向に拡げられたボンデ
ィングパッド13Bを形成する。したがって、先端部5
0の厚さ方向の一部、つまり先端部50がダイ40Bに
おける凹部41から突出した部分のみを圧延するので、
狭ピッチ化によるリード幅が小さいリードフレームを、
座屈を生じることなく形成できる。このことにより、樹
脂封止後における封止樹脂との間の密着強度が更に大き
くリード幅が小さいリードフレームを、プレス加工によ
って歩留まりよく製造できる。
According to the present embodiment, a metal thin plate is pre-pressed or etched in consideration of the final shape and volume of the bonding pad 13B to form an inner lead having a simple-shaped tip portion 50. Then, the tip portion 50 is rolled by press working to form a bonding pad 13B in which a part of the tip portion 50 in the thickness direction is expanded in the width direction and the tip direction. Therefore, the tip 5
Since only a part in the thickness direction of 0, that is, only the part whose tip 50 protrudes from the recess 41 in the die 40B,
Lead frames with small lead width due to narrow pitch
It can be formed without buckling. As a result, a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin after resin sealing and a smaller lead width can be manufactured with high yield by press working.

【0030】(第3の実施形態)以下、本発明の第3の
実施形態に係るリードフレーム及びその製造方法につい
て、図6と図7とを参照して説明する。本実施形態に係
るリードフレームの全体構成は図1と同様なので、その
説明を省略する。図6(a)〜(d)は、それぞれ本実
施形態に係るリードフレームのインナーリードの先端を
示す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
図6(a),(b)において、インナーリード14の先
端に設けられたボンディングパッド13Cは、インナー
リード14の先端部の一部が、材料上面20の側からプ
レスされる、つまりコイニング加工される。このことに
より、ボンディングパッド13Cは、材料上面20の側
の面積が材料下面21の側よりも広くなるように、つま
りテーパー状の断面形状と側面15とを有するテーパー
部になるように圧延され形成されている。
(Third Embodiment) A lead frame and a method of manufacturing the same according to a third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The overall configuration of the lead frame according to the present embodiment is the same as that of FIG. 1, and a description thereof will be omitted. 6A to 6D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the lead frame according to the present embodiment.
6A and 6B, the bonding pad 13C provided at the tip of the inner lead 14 has a part of the tip of the inner lead 14 pressed from the material upper surface 20 side, that is, coining processing. You. As a result, the bonding pad 13C is formed by rolling so that the area on the material upper surface 20 side is larger than the material lower surface 21 side, that is, the bonding pad 13C is formed into a tapered portion having a tapered cross-sectional shape and a side surface 15. Have been.

【0031】ここで、本実施形態に係るリードフレーム
の特徴は、図6(c),(d)に示すように、ボンディ
ングパッド13Cが、材料上面20の側の面積が材料下
面21の側よりも広くなるように、つまりテーパー部に
なるように形成されている点である。これにより、封止
樹脂がボンディングパッド13Cの側面15の下へ回り
込めるので、樹脂封止後における封止樹脂との間の密着
強度が大きいリードフレームが実現される。
Here, the feature of the lead frame according to the present embodiment is that, as shown in FIGS. 6C and 6D, the bonding pad 13C is formed such that the area of the material upper surface 20 is smaller than that of the material lower surface 21. Is also widened, that is, it is formed to be a tapered portion. As a result, the sealing resin can flow under the side surface 15 of the bonding pad 13C, so that a lead frame having high adhesion strength with the sealing resin after resin sealing is realized.

【0032】図7(a),(b)は、本実施形態に係る
リードフレームの製造方法の各工程を示す断面図であ
る。
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a lead frame according to the present embodiment.

【0033】まず、図7(a)に示すように、プレス加
工又はエッチング加工により金属の薄板を外形加工して
予めインナーリードの先端部50を形成し、プレス金型
のダイ40Cにおけるテーパー形成用凹部42の上へ先
端部50を載置する。
First, as shown in FIG. 7 (a), a metal thin plate is externally worked by press working or etching work to form the tip 50 of the inner lead in advance, and is used to form a taper in the die 40C of the press die. The tip 50 is placed on the recess 42.

【0034】次に、図7(b)に示すように、プレス金
型のパンチ30により先端部50をプレスして、ダイ4
0Cのテーパー形成用凹部42の形状をリードフレーム
の先端部50へ転写する。このことにより、図6のテー
パー部からなるボンディングパッド13Cを容易に形成
できる。
Next, as shown in FIG. 7B, the tip 50 is pressed by the punch 30 of a press die, and the die 4 is pressed.
The shape of the concave portion 42 for taper formation of 0C is transferred to the tip 50 of the lead frame. Thus, the bonding pad 13C formed of the tapered portion in FIG. 6 can be easily formed.

【0035】本実施形態によれば、ボンディングパッド
13Cの最終形状と体積とを考慮して予め金属の薄板を
プレス加工又はエッチング加工し、単純な形状の先端部
50を有するインナーリードを形成する。そして、プレ
ス加工によりその先端部50へダイ40Cのテーパー形
成用凹部42の形状を転写する。したがって、プレス金
型のパンチの進行方向に関わりなく、テーパー状の断面
形状を有するボンディングパッド13Cを形成できる。
このことにより、樹脂封止後における封止樹脂との間の
密着強度が大きいリードフレームを、プレス加工によっ
て歩留まりよく製造できる。
According to the present embodiment, a metal thin plate is pre-pressed or etched in consideration of the final shape and volume of the bonding pad 13C to form an inner lead having a simple-shaped tip portion 50. Then, the shape of the tapered concave portion 42 of the die 40C is transferred to the tip portion 50 by press working. Therefore, it is possible to form the bonding pad 13C having a tapered cross-sectional shape irrespective of the traveling direction of the punch of the press die.
Thus, a lead frame having a large adhesion strength with the sealing resin after resin sealing can be manufactured with high yield by press working.

【0036】(第4の実施形態)以下、本発明の第4の
実施形態に係るリードフレーム及びその製造方法につい
て、図8と図9とを参照して説明する。本実施形態に係
るリードフレームの全体構成は図1と同様なので、その
説明を省略する。図8(a)〜(d)は、それぞれ本実
施形態に係るリードフレームのインナーリードの先端付
近を示す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図であ
る。図8(a),(b)において、段差61を有する曲
げ加工部60は、インナーリード14の一部が、材料上
面の側からプレス加工されることにより形成されてい
る。そして、曲げ加工部60から先端方向へ延びるよう
にして、ボンディングパッド13Dが形成されている。
(Fourth Embodiment) A lead frame and a method of manufacturing the same according to a fourth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The overall configuration of the lead frame according to the present embodiment is the same as that of FIG. 1, and a description thereof will be omitted. FIGS. 8A to 8D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the vicinity of the tip of the inner lead of the lead frame according to the present embodiment. 8A and 8B, the bent portion 60 having the step 61 is formed by pressing a part of the inner lead 14 from the upper surface side of the material. The bonding pad 13D is formed so as to extend from the bent portion 60 in the distal direction.

【0037】ここで、本実施形態に係るリードフレーム
の特徴は、図8(c),(d)に示すように、インナー
リード14の一部に、段差61を有する曲げ加工部60
が形成されている点である。これにより、樹脂封止後に
おいて、曲げ加工部60の底部からなる外部端子17の
みを封止樹脂から露出させ、封止樹脂がボンディングパ
ッド13Dとインナーリード14との下へ回り込めるの
で、封止樹脂との間の密着強度が更に大きいリードフレ
ームが実現される。
Here, the feature of the lead frame according to the present embodiment is that, as shown in FIGS. 8C and 8D, a bent portion 60 having a step 61 in a part of the inner lead 14 is provided.
Is formed. As a result, after the resin is sealed, only the external terminals 17 formed at the bottom of the bent portion 60 are exposed from the sealing resin, and the sealing resin can flow under the bonding pads 13D and the inner leads 14, so that the sealing is performed. A lead frame having a higher adhesion strength with the resin is realized.

【0038】図9(a),(b)は、本実施形態に係る
リードフレームの製造方法の各工程を示す断面図であ
る。
FIGS. 9A and 9B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a lead frame according to the present embodiment.

【0039】まず、図9(a)に示すように、予めプレ
ス加工又はエッチング加工により金属の薄板を外形加工
して先端部50を有するインナーリード14を形成し、
プレス金型のダイ40Dにおいて、曲げ加工用凹部43
の上をインナーリード14が横断するようにして先端部
50を平面部へ載置する。
First, as shown in FIG. 9A, an outer lead is formed on a thin metal plate by pressing or etching in advance to form an inner lead 14 having a tip portion 50.
In the press die 40D, the bending recess 43 is formed.
The tip 50 is placed on a flat surface so that the inner lead 14 crosses over the top.

【0040】次に、図9(b)に示すように、プレス金
型の、曲げ加工用凸部32を有するパンチ31によりイ
ンナーリード14をプレスして、曲げ加工用凸部32と
曲げ加工用凹部43との形状をインナーリード14へ転
写する。
Next, as shown in FIG. 9B, the inner lead 14 is pressed by the punch 31 of the press die having the bending projection 32, and the bending projection 32 and the bending projection 32 are pressed. The shape with the concave portion 43 is transferred to the inner lead 14.

【0041】本実施形態によれば、予め金属の薄板をプ
レス加工又はエッチング加工して、単純な形状を有する
インナーリード14を形成する。そして、プレス加工に
よりインナーリード14へ、パンチ31の曲げ加工用凸
部32とダイ40Dの曲げ加工用凹部43との形状を転
写する。したがって、曲げ加工によって段差61を有す
る曲げ加工部60を形成するので、先端部50からなる
ボンディングパッド13Dとインナーリード14との下
へ封止樹脂が回り込むことにより、樹脂封止後における
封止樹脂との間の密着強度が更に大きいリードフレーム
を、プレス加工によって歩留まりよく製造できる。
According to this embodiment, the inner lead 14 having a simple shape is formed by pressing or etching a thin metal plate in advance. Then, the shapes of the convex portions 32 for bending of the punch 31 and the concave portions 43 for bending of the die 40D are transferred to the inner leads 14 by pressing. Therefore, since the bent portion 60 having the step 61 is formed by the bending process, the sealing resin flows under the bonding pad 13 </ b> D formed of the tip end portion 50 and the inner lead 14, so that the sealing resin after resin sealing is formed. A lead frame having a higher adhesion strength between the lead frame and the lead frame can be manufactured with high yield by press working.

【0042】なお、本実施形態の説明においては、外部
電極17を底部に有する曲げ加工部60のみが下方へ突
出してその両側は曲げ加工されていないが、これに代え
て、ボンディングパッド13D以外のインナーリード1
4を曲げ加工して下方へ突出させ、その突出した部分の
少なくとも一部を外部電極として使用してもよい。
In the description of the present embodiment, only the bent portion 60 having the external electrode 17 at the bottom protrudes downward and both sides thereof are not bent. Inner lead 1
4 may be bent to project downward, and at least a part of the projecting portion may be used as an external electrode.

【0043】(第5の実施形態)以下、本発明の第5の
実施形態に係る半導体装置について、図10を参照して
説明する。本実施形態に係る半導体装置は、第1の実施
形態のリードフレームを用いて半導体チップを実装した
ものである。図1及び図2と同一の構成要素には同一の
符号を付して、その説明を省略する。
(Fifth Embodiment) Hereinafter, a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The semiconductor device according to the present embodiment has a semiconductor chip mounted using the lead frame of the first embodiment. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0044】図10(a)は本実施形態に係る半導体装
置の封止樹脂を透視した状態を示す平面図であり、図1
0(b)は図10(a)のX−X線における断面図であ
る。図10において、70は半導体チップ、71は半導
体チップ70が有する電極、80は電極71とボンディ
ングパッド13Aとをワイヤーボンディングにより接続
するための金属細線、90はワイヤーボンディング後の
半導体装置を封止するための封止樹脂である。そして、
16は図1に示すインナーリード14がそれぞれフレー
ム外枠から切断され形成されたリード、17はリード1
6が封止樹脂90から下方に露出した部分であって半導
体装置の外部へ電気的に接続される外部端子である。
FIG. 10A is a plan view showing a state in which the sealing resin of the semiconductor device according to this embodiment is seen through, and FIG.
0 (b) is a sectional view taken along line XX of FIG. 10 (a). 10, reference numeral 70 denotes a semiconductor chip, 71 denotes an electrode of the semiconductor chip 70, 80 denotes a thin metal wire for connecting the electrode 71 and the bonding pad 13A by wire bonding, and 90 denotes a semiconductor device after wire bonding. Sealing resin. And
16 is a lead formed by cutting the inner lead 14 shown in FIG. 1 from the outer frame of the frame, and 17 is a lead 1
Reference numeral 6 denotes an external terminal that is exposed downward from the sealing resin 90 and is electrically connected to the outside of the semiconductor device.

【0045】本実施形態によれば、第1の実施形態のリ
ードフレームを用いることにより、ボンディングパッド
13Aを平面的にみた場合の面積、つまり封止樹脂90
とボンディングパッド13Aとの接触面積が大きくな
る。したがって、ボンディングパッド13Aと封止樹脂
90との間の密着強度が大きいので、信頼性に優れた半
導体装置が実現される。
According to the present embodiment, by using the lead frame of the first embodiment, the area when the bonding pad 13A is viewed in a plane, that is, the sealing resin 90A is obtained.
The contact area between the contact pad and the bonding pad 13A increases. Therefore, since the adhesion strength between the bonding pad 13A and the sealing resin 90 is large, a highly reliable semiconductor device is realized.

【0046】なお、本実施形態の説明においては第1の
実施形態のリードフレームを例にとって説明したが、こ
れに代えて、第2〜第4の実施形態に係るリードフレー
ムのうちいずれか1つを用いてもよいことはいうまでも
ない。
In the description of the present embodiment, the lead frame of the first embodiment has been described as an example. Instead, any one of the lead frames of the second to fourth embodiments may be used. It is needless to say that may be used.

【0047】[0047]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、インナーリー
ドの先端部を横方向へ引き延ばす加工を行って幅広部を
形成するので、封止樹脂との接触面積を大きくして封止
樹脂との密着強度が大きいリードフレームを製造でき
る。
According to the first aspect of the present invention, since the wide portion is formed by extending the tip of the inner lead in the lateral direction, the contact area with the sealing resin is increased to increase the contact area with the sealing resin. A lead frame having a high adhesion strength can be manufactured.

【0048】請求項2の発明によれば、インナーリード
の先端部の厚さ方向の一部を横方向へ引き延ばす加工を
行って幅広部を形成するので、封止樹脂との接触面積を
大きくし、かつ幅広部の下へ封止樹脂を回り込ませて封
止樹脂との密着強度が更に大きいリードフレームを製造
できる。
According to the second aspect of the present invention, since a wide portion is formed by extending a portion of the tip of the inner lead in the thickness direction in the lateral direction, the contact area with the sealing resin is increased. In addition, it is possible to manufacture a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin by wrapping the sealing resin under the wide portion.

【0049】請求項3の発明によれば、インナーリード
の先端部に金型の凹部を転写する加工を行ってテーパー
部を形成するので、テーパー部の上面が封止樹脂との接
触面積を大きくし、かつ側面の下へ封止樹脂を回り込ま
せて封止樹脂との密着強度が更に大きいリードフレーム
を製造できる。
According to the third aspect of the present invention, since the tapered portion is formed by transferring the concave portion of the mold to the tip of the inner lead, the upper surface of the tapered portion increases the contact area with the sealing resin. In addition, it is possible to manufacture a lead frame having a higher adhesion strength with the sealing resin by wrapping the sealing resin under the side surface.

【0050】請求項4の発明によれば、インナーリード
を曲げ加工して先端部よりも下方へ突出した外部端子を
形成するので、突出していない部分のインナーリードの
下へ封止樹脂を回り込ませて封止樹脂との密着強度が大
きいリードフレームを製造できる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the inner lead is bent to form the external terminal projecting downward from the front end portion, the sealing resin is allowed to flow under the portion of the inner lead which does not project. As a result, a lead frame having high adhesion strength to the sealing resin can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係るリードフレーム
の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a lead frame according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(a)〜(d)は、各々本発明の第1の実施形
態に係るリードフレームのインナーリードの先端を示
す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
FIGS. 2A to 2D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the lead frame according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図2のリードフレームの製造方法の各工程を示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing the lead frame of FIG. 2;

【図4】(a)〜(d)は、各々本発明の第2の実施形
態に係るリードフレームのインナーリードの先端を示
す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
FIGS. 4A to 4D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of inner leads of a lead frame according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4のリードフレームの製造方法の各工程を示
す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing each step of a method for manufacturing the lead frame of FIG. 4;

【図6】(a)〜(d)は、各々本発明の第3の実施形
態に係るリードフレームのインナーリードの先端を示
す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
FIGS. 6A to 6D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the lead frame according to the third embodiment of the present invention.

【図7】図6のリードフレームの製造方法の各工程を示
す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing each step of the method for manufacturing the lead frame of FIG. 6;

【図8】(a)〜(d)は、各々本発明の第4の実施形
態に係るリードフレームのインナーリードの先端付近を
示す、斜視図、平面図、正面図、及び右側面図である。
FIGS. 8A to 8D are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the vicinity of the tip of an inner lead of a lead frame according to a fourth embodiment of the present invention. .

【図9】図8のリードフレームの製造方法の各工程を示
す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing each step of the method for manufacturing the lead frame of FIG. 8;

【図10】(a)は本発明の第5の実施形態に係る半導
体装置の封止樹脂を除去した状態を示す平面図、(b)
は(a)のX−X線における断面図である。
FIG. 10A is a plan view showing a state in which a sealing resin of a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention has been removed, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG.

【図11】従来のリードフレームの平面図である。FIG. 11 is a plan view of a conventional lead frame.

【図12】(a)〜(d)は、各々従来のリードフレー
ムのインナーリードの先端を示す、斜視図、平面図、正
面図、及び右側面図である。
12 (a) to (d) are a perspective view, a plan view, a front view, and a right side view, respectively, showing the tips of the inner leads of the conventional lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ダイパッド 11 吊りピン 12 フレーム外枠 13A,13B,13C,13D ボンディングパッド 14 インナーリード 15 側面 16 リード 17 外部端子 20 材料上面 21 材料下面 30,31 パンチ 32 曲げ加工用凸部 40A,40B,40C,40D ダイ 41 凹部 42 テーパー加工用凹部 43 曲げ加工用凹部 50 先端部 60 曲げ加工部 61 段差 70 半導体チップ 71 電極 80 金属細線 90 封止樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Die pad 11 Hanging pin 12 Frame outer frame 13A, 13B, 13C, 13D Bonding pad 14 Inner lead 15 Side surface 16 Lead 17 External terminal 20 Material upper surface 21 Material lower surface 30, 31 Punch 32 Bending convex part 40A, 40B, 40C, 40D die 41 concave portion 42 tapered concave portion 43 bending concave portion 50 tip portion 60 bent portion 61 step 70 semiconductor chip 71 electrode 80 metal thin wire 90 sealing resin

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年3月15日[Submission date] March 15, 1999

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1のリードフレームの製造方法は、請
求項1に記載されているように、インナーリードの下面
が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂
封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造方法
あって、インナーリードに対して圧延加工を行い広幅部
を形成する工程において、前記インナーリード先端を幅
方向及び先端方向に圧延することにより、その下面が前
記インナーリードの他の面と共通の下面を有するととも
にその上面が前記インナーリードの他の面の上面と下面
との間に存在する広幅部をインナーリードのボンディン
グパッドに相当する先端部にのみ形成するものである。
In order to achieve the above object, a first method of manufacturing a lead frame according to the present invention is characterized in that the lower surface of the inner lead serves as an external terminal. in the manufacturing method of the lead frame used in a resin-sealed semiconductor device comprising exposed from the back surface of the sealing resin
There is a rolling process for the inner lead
In the step of forming the
By rolling in the direction
It has a common lower surface with the other surface of the inner lead.
The upper surface is the upper surface and the lower surface of the other surface of the inner lead.
The wide part that exists between the inner lead bondin
It is formed only at the tip corresponding to the pad.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】本発明の第2のリードフレームの製造方法
は、請求項2に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法であって、インナーリードに対して圧延加工を行い
広幅部を形成する工程において、前記インナーリード先
端の厚さ方向の一部を幅方向及び先端方向に圧延するこ
とにより、その下面が前記インナーリードの他の面と共
通の下面を有するとともにその上面が前記インナーリー
ドの他の面の上面と下面との間に存在する広幅部をイン
ナーリードのボンディングパッドに相当する先端部にの
み形成するものである。
According to a second method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 2, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed from the back surface of the encapsulating resin as an external terminal. A method for manufacturing a lead frame used in an apparatus, wherein a rolling process is performed on an inner lead.
In the step of forming a wide portion, the inner lead
Roll a part of the edge thickness direction in the width direction and the tip direction.
As a result, the lower surface is shared with the other surface of the inner lead.
Has a lower surface and the upper surface is
The wide part existing between the upper and lower surfaces of the other
To the tip corresponding to the bonding pad of the knurled lead.
It forms only.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】本発明の第3のリードフレームの製造方法
は、請求項3に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法であって、インナーリード先端を金型のテーパー状
の凹部に押し込んで圧延し、前記テーパー状の凹部の形
状をインナーリードに転写する工程において、前記イン
ナーリードのボンディングパッドに相当する先端部にの
み上面が下面より広いテーパー状の断面形状を形成する
ものである。
According to a third method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 3, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed as an external terminal from the rear surface of the encapsulating resin. A method for manufacturing a lead frame used in an apparatus, wherein a tip of an inner lead is tapered in a mold.
Rolled by pressing into the recess of the shape of the tapered recess
In the step of transferring the shape to the inner lead,
To the tip corresponding to the bonding pad of the knurled lead.
The upper surface forms a tapered cross section that is wider than the lower surface
Things.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0013[Correction target item name] 0013

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0050[Correction target item name] 0050

【補正方法】削除 ─────────────────────────────────────────────────────
[Correction method] Deleted ───────────────────────────────────────────── ────────

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年5月18日[Submission date] May 18, 1999

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1のリードフレームの製造方法は、請
求項1に記載されているように、インナーリードの下面
が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂
封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造方法で
あって、インナーリードに対してプレスによるコイニン
加工を行い広幅部を形成する工程において、前記イン
ナーリード先端を幅方向及び先端方向にプレスによるコ
イニング加工によって拡げることにより、その下面が前
記インナーリードの他の面と共通の下面を有するととも
にその上面が前記インナーリードの他の面の上面と下面
との間に存在する広幅部をインナーリードのボンディン
グパッドに相当する先端部にのみ形成するものである。
In order to achieve the above object, a first method of manufacturing a lead frame according to the present invention is characterized in that the lower surface of the inner lead serves as an external terminal. A method of manufacturing a lead frame used for a resin-encapsulated semiconductor device exposed from the back surface of an encapsulating resin, comprising:
In the step of forming a wide portion by performing a grinding process, a tip of the inner lead is pressed in a width direction and a tip direction by pressing.
By expanding by the inning process , the lower surface has a common lower surface with the other surface of the inner lead, and the upper surface has a wide portion existing between the upper surface and the lower surface of the other surface of the inner lead. It is formed only at the tip corresponding to the bonding pad.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】本発明の第2のリードフレームの製造方法
は、請求項2に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法であって、インナーリードに対してプレスによるコ
イニング加工を行い広幅部を形成する工程において、前
記インナーリード先端の厚さ方向の一部を幅方向及び先
端方向にプレスによるコイニング加工によって拡げる
とにより、その下面が前記インナーリードの他の面と共
通の下面を有するとともにその上面が前記インナーリー
ドの他の面の上面と下面との間に存在する広幅部をイン
ナーリードのボンディングパッドに相当する先端部にの
み形成するものである。
According to a second method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 2, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed from the back surface of the encapsulating resin as an external terminal. A method for manufacturing a lead frame used in an apparatus, wherein a press
In the step of forming the wide portion performs innings machining, said by the this <br/> widened by coining by press to a thickness of a portion in the width direction and the tip end direction of the direction of the inner lead tip, a lower surface wherein the inner leads And has a common lower surface with the other surface, and the upper surface forms a wide portion existing between the upper surface and the lower surface of the other surface of the inner lead only at the tip portion corresponding to the bonding pad of the inner lead. is there.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】本発明の第3のリードフレームの製造方法
は、請求項3に記載されているように、インナーリード
の下面が外部端子として封止樹脂の裏面から露出してな
る樹脂封止型半導体装置に用いるリードフレームの製造
方法であって、インナーリード先端を金型のテーパー状
の凹部に押し込んでプレスによるコイニング加工をする
ことによって、前記テーパー状の凹部の形状をインナー
リードに転写し、前記インナーリードのボンディングパ
ッドに相当する先端部にのみ上面が下面より広いテーパ
ー状の断面形状を形成する工程を包含するものである。
According to a third method of manufacturing a lead frame of the present invention, as set forth in claim 3, a resin-encapsulated semiconductor in which the lower surface of the inner lead is exposed as an external terminal from the rear surface of the encapsulating resin. A method for manufacturing a lead frame used in an apparatus, wherein a tip of an inner lead is pushed into a tapered concave portion of a mold and coining is performed by a press.
By, by transferring the shape of the tapered recess to the inner lead, the upper surface only at the tip portion corresponding to the bonding pads of the inner lead is of includes forming a wide tapered cross-section from the lower surface .

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インナーリードの下面が外部端子として
封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂封止型半導体装置
に用いるリードフレームの製造方法であって、 前記インナーリードの先端部を横方向へ引き延ばす加工
を行うことにより広幅部を形成する工程を備えたことを
特徴とするリードフレームの製造方法。
1. A method of manufacturing a lead frame used for a resin-encapsulated semiconductor device in which a lower surface of an inner lead is exposed as an external terminal from a back surface of a sealing resin, wherein a tip portion of the inner lead is laterally moved. A method for manufacturing a lead frame, comprising a step of forming a wide portion by performing a stretching process.
【請求項2】 インナーリードの下面が外部端子として
封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂封止型半導体装置
に用いるリードフレームの製造方法であって、 前記インナーリードの先端部における厚さ方向の一部を
横方向へ引き延ばす加工を行うことにより広幅部を形成
する工程を備えたことを特徴とするリードフレームの製
造方法。
2. A method of manufacturing a lead frame for use in a resin-encapsulated semiconductor device in which a lower surface of an inner lead is exposed from a back surface of a sealing resin as an external terminal, wherein a thickness direction at a tip portion of the inner lead is provided. Forming a wide portion by subjecting a part of the lead frame to a lateral stretching process.
【請求項3】 インナーリードの下面が外部端子として
封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂封止型半導体装置
に用いるリードフレームの製造方法であって、 前記インナーリードの先端部を金型のテーパー状の凹部
に押し込んで、該凹部の形状をリードフレームに転写す
る加工を行うことにより上面が下面より広いテーパー部
を形成する工程を備えたことを特徴とするリードフレー
ムの製造方法。
3. A method of manufacturing a lead frame for use in a resin-encapsulated semiconductor device in which a lower surface of an inner lead is exposed from a back surface of a sealing resin as an external terminal, wherein a tip of the inner lead is formed by a mold. A method for manufacturing a lead frame, comprising a step of forming a tapered portion whose upper surface is wider than its lower surface by performing a process of pressing the concave portion into a tapered concave portion and transferring the shape of the concave portion to a lead frame.
【請求項4】 インナーリードの下面が外部端子として
封止樹脂の裏面から露出してなる樹脂封止型半導体装置
に用いるリードフレームの製造方法であって、 前記インナーリードの先端付近の一部を下方へ突出させ
る曲げ加工を行うことにより前記一部が前記インナーリ
ードの先端部よりも下方へ突出してなる外部端子を形成
する工程を備えたことを特徴とするリードフレームの製
造方法。
4. A method of manufacturing a lead frame for use in a resin-encapsulated semiconductor device in which a lower surface of an inner lead is exposed from a back surface of a sealing resin as an external terminal, the method comprising: A method for manufacturing a lead frame, comprising a step of forming an external terminal in which the part protrudes below the tip of the inner lead by performing a bending process to protrude downward.
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