JPH11251363A - Flip-chip mounting method and structure thereof - Google Patents

Flip-chip mounting method and structure thereof

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JPH11251363A
JPH11251363A JP5067798A JP5067798A JPH11251363A JP H11251363 A JPH11251363 A JP H11251363A JP 5067798 A JP5067798 A JP 5067798A JP 5067798 A JP5067798 A JP 5067798A JP H11251363 A JPH11251363 A JP H11251363A
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JP
Japan
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land
bump
width
lands
flip
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JP5067798A
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Japanese (ja)
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Tomoyuki Hatakeyama
智之 畠山
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Landscapes

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable connection of a wiring board without the provision of soft material for lands of the board at mounting a flip chip and moreover with a fine pitch. SOLUTION: A semiconductor chip 1 having bumps 3 formed on pads 2 of the chip is mounted facedown on a wiring board 5 having lands 4. The lands 4 have a sectional shape which tapere toward its top side and are made of a material that is harder than the material of the bumps 3. When the tops of the lands 4 are embedded into the bumps 3 to electrically connect the lands 4 and bumps 3, the need for providing a soft material for the lands 4 can be eliminated, and connecting with fine pitches becomes possible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フェースダウンに
よって半導体チップを配線基板に実装するフリップチッ
プ実装方法及びその実装構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flip-chip mounting method for mounting a semiconductor chip on a wiring board by face-down and a mounting structure thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】図13は、フリップチップを配線基板に
実装するため、特開平6−333982号公報に開示さ
れた従来の構造を示す。この構造は、配線基板25と半
導体チップ21とをAuランド27とAuボール24と
を熱圧着することにより電気的に接続するものである。
このため、配線基板25の電極パッド26上には2層の
Auランド27が形成される一方、半導体チップ21の
電極パッド22上には2層のAuボール24が形成され
ている。Auボール24には先端が尖ったアンカー部2
3が設けられており、このアンカー部23をAuランド
27に熱圧着して接合することにより、アンカー部23
をAuランド27に埋め込んで電気的に接続している。
2. Description of the Related Art FIG. 13 shows a conventional structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-333982 for mounting a flip chip on a wiring board. In this structure, the wiring substrate 25 and the semiconductor chip 21 are electrically connected to each other by thermocompression bonding of the Au lands 27 and the Au balls 24.
Therefore, two layers of Au lands 27 are formed on the electrode pads 26 of the wiring board 25, while two layers of Au balls 24 are formed on the electrode pads 22 of the semiconductor chip 21. The Au ball 24 has a sharp anchor 2
3 is provided, and the anchor portion 23 is bonded to the Au land 27 by thermocompression bonding.
Are embedded in the Au lands 27 for electrical connection.

【0003】このようなフリップチップ実装構造は、半
導体チップ21側のAuボール24と配線基板25側の
Auランド27とを重ね合わせたときに、両者の中心位
置が僅かにずれたり、半導体チップ21の背面に加える
荷重の向きが配線基板25の主面に対して垂直な方向か
ら僅かにずれたりしても、半導体チップ21側のAuボ
ール24が横方向に滑りにくくなっているため、接続不
良の発生を防ぐことができる。
In such a flip-chip mounting structure, when the Au balls 24 on the semiconductor chip 21 side and the Au lands 27 on the wiring board 25 are superimposed, the center positions of the Au balls 24 are slightly shifted, Even if the direction of the load applied to the back surface of the semiconductor chip 21 slightly deviates from the direction perpendicular to the main surface of the wiring board 25, the Au balls 24 on the semiconductor chip 21 side are unlikely to slide in the lateral direction, so that the connection failure is caused. Can be prevented.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のフリップチップ実装構造では、半導体チップ2
1側に設けたAuボール24のアンカー部23を埋め込
ませるために配線基板25の電極ランド26上に軟らか
いAuランド27もしくは導電性ゴムなど軟性材料を設
けなくてはならない。このため、工程の増加や材料費ア
ップ等による製造コストの増加がある。
However, in the above-mentioned conventional flip-chip mounting structure, the semiconductor chip 2
In order to embed the anchor portion 23 of the Au ball 24 provided on one side, a soft material such as a soft Au land 27 or conductive rubber must be provided on the electrode land 26 of the wiring board 25. For this reason, there is an increase in manufacturing costs due to an increase in the number of processes and material costs.

【0005】また、搭載精度を確保するために、配線基
板25の電極ランド26あるいはAuランド27のラン
ド幅を半導体チップ21の電極パッド22のパッド幅よ
り大きくしなくてはならず、接続ピッチが配線基板25
側の電極ランド26のランドピッチで決定される。従っ
て、配線基板25側に広いランド幅を確保しなければな
らないので、ピッチの小さい配線基板25を使用するこ
とが困難であると共に、微細ピッチでの接続が困難とな
っている。
In order to secure mounting accuracy, the land width of the electrode land 26 or the Au land 27 of the wiring board 25 must be larger than the pad width of the electrode pad 22 of the semiconductor chip 21. Wiring board 25
It is determined by the land pitch of the electrode lands 26 on the side. Therefore, it is necessary to secure a wide land width on the wiring board 25 side, so that it is difficult to use the wiring board 25 having a small pitch and it is difficult to connect at a fine pitch.

【0006】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、配線基板上に軟性材料を設け
ることなく、半導体チップを実装することができ、しか
も微細ピッチでの接続を容易に行うことが可能なフリッ
プチツプ実装方法及び実装構造を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in consideration of such conventional problems, and allows a semiconductor chip to be mounted without providing a flexible material on a wiring board, and furthermore, to connect at a fine pitch. It is an object of the present invention to provide a flip-chip mounting method and a mounting structure capable of easily performing the flip-chip mounting.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明のフリップチップ実装方法は、パッ
ド上に形成したバンプを有する半導体チップを、ランド
を有する配線基板にフェースダウンによって実装するフ
リップチップ実装方法において、その頂部側が先細りの
断面形状のランドを前記配線基板に形成する一方、その
材質がランドの材質と比較して軟らかいバンプを前記パ
ッド上に形成し、ランドの頂部をバンプに埋め込ませる
ことによりランドとバンプを電気的に接続することを特
徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a flip chip mounting method for mounting a semiconductor chip having bumps formed on pads on a wiring board having lands by face-down. In the flip-chip mounting method, a land having a tapered cross-sectional shape on the top side is formed on the wiring board, and a bump whose material is softer than the material of the land is formed on the pad, and the top of the land is bumped. The land and the bump are electrically connected by being buried in the substrate.

【0008】この発明では、頂部側が先細りする断面形
状のランドを、ランドよりも材質が軟らかいバンプに埋
め込ませることにより電気的に接続するため、ランド上
に軟性材料を設ける必要がなく、しかもバンプのピッチ
と同等の微細ピッチでフリップチップ実装を行うことが
できる。
According to the present invention, the land having a cross-sectional shape whose tapered top is tapered is electrically connected to the land by embedding the land in a bump softer than the land. Therefore, it is not necessary to provide a soft material on the land. Flip chip mounting can be performed at a fine pitch equivalent to the pitch.

【0009】請求項2の発明は、請求項1記載の発明で
あって、前記ランドの断面形状を台形または三角形とす
ることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the land has a trapezoidal or triangular cross-sectional shape.

【0010】この発明では、ランドを台形または三角形
の断面形状とするため、小さな加圧力でバンプに埋め込
むことができる。このため、半導体チップにチップクラ
ック不良の発生が少ないと共に、バンプのピッチと同等
の微細ピッチでフリップチップ実装を行うことができ
る。
According to the present invention, since the land has a trapezoidal or triangular cross-sectional shape, it can be embedded in the bump with a small pressing force. For this reason, the occurrence of chip crack defects in the semiconductor chip is small, and the flip chip can be mounted at a fine pitch equivalent to the pitch of the bumps.

【0011】請求項3の発明は、請求項1記載の発明で
あって、前記ランドの断面形状が台形であり、前記バン
プに埋め込まれる頂部の平面形状が略円形またはT字形
であることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect, the land has a trapezoidal cross-sectional shape, and a planar shape of a top portion embedded in the bump is substantially circular or T-shaped. And

【0012】この発明によれば、バンプに埋め込まれる
ランドの頂部の平面形状が略円形またはT字形のため、
配線方向と平行な力が加わってもバンプとランドとの位
置ずれが生じにくくなり、位置ずれ不良を防止すること
ができる。
According to this invention, since the planar shape of the top of the land embedded in the bump is substantially circular or T-shaped,
Even if a force parallel to the wiring direction is applied, a displacement between the bump and the land is less likely to occur, and a displacement error can be prevented.

【0013】請求項4の発明のフリップチップ実装構造
は、パッド上に形成したバンプを有する半導体チップ
を、ランドを有する配線基板上にフェースダウンで実装
するフリップチップ実装構造において、前記バンプはラ
ンドの材質よりも軟らかい材質であり、前記ランドの断
面形状が頂部側で先細りし、且つ頂部がバンプの先端部
の幅よりも小さく設定されており、前記ランドの頂部が
バンプの先端部に埋め込まれていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a flip chip mounting structure for mounting a semiconductor chip having bumps formed on pads face-down on a wiring board having lands, wherein the bumps are formed on the lands. It is a material softer than the material, the cross-sectional shape of the land is tapered on the top side, and the top is set smaller than the width of the tip of the bump, and the top of the land is embedded in the tip of the bump. It is characterized by being.

【0014】この発明では、先細りしたランドの頂部を
ランドよりも柔らかい材質のバンプの先端部に埋め込む
だけでランドとバンプとが接続されるため、ランドとバ
ンプとの電気的な接続領域が大きくなり、且つ低コスト
とすることができる。
According to the present invention, since the land and the bump are connected only by embedding the top of the tapered land in the tip of the bump made of a material softer than the land, the electrical connection area between the land and the bump is increased. And cost can be reduced.

【0015】請求項5の発明は、請求項4記載の発明で
あって、前記ランドの断面形状の底部側の幅寸法が前記
バンプの基端部の幅寸法を越えない寸法に設定されてい
ることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the width of the cross section of the land on the bottom side is set to a size not exceeding the width of the base end of the bump. It is characterized by the following.

【0016】この発明では、請求項4の作用に加えて、
ランドの底部側の幅寸法がバンプの基端部の幅寸法を越
えないため、ランドの幅寸法を大きく確保する必要がな
く、ランドのピッチを小さくすることができ、バンプの
ピッチと同等とすることができる。
According to the present invention, in addition to the function of claim 4,
Since the width of the bottom of the land does not exceed the width of the base end of the bump, it is not necessary to secure a large width of the land, and the pitch of the land can be reduced, and it is equal to the pitch of the bump. be able to.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。なお、各実施の形態において、同一の要
素は同一の符号を付して対応させてある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below. In each of the embodiments, the same elements are denoted by the same reference numerals and correspond to each other.

【0018】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1のフリップチップ実装構造の断面図、図2は図1
のフリップチップ接合部分を拡大した断面図、図3は図
2のフリップチップ接合部分の平面図である。また、図
4及び図5は、半導体チップを実装する過程を示してい
る。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a flip-chip mounting structure according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG.
2 is an enlarged cross-sectional view of the flip chip bonding portion, and FIG. 3 is a plan view of the flip chip bonding portion of FIG. 4 and 5 show a process of mounting a semiconductor chip.

【0019】この実装構造は図1に示すように、半導体
チップ1及び配線基板5を備えるものであり、半導体チ
ップ1と配線基板5とは、バンプ3及びランド4によっ
て電気的に接続されることにより半導体チップ1が実装
されている。
This mounting structure, as shown in FIG. 1, includes a semiconductor chip 1 and a wiring board 5, and the semiconductor chip 1 and the wiring board 5 are electrically connected by bumps 3 and lands 4. The semiconductor chip 1 is mounted.

【0020】半導体チップ1はGaAsなどの化合物半
導体、その他の半導体が使用されている。バンプ3は半
導体チップ1の回路面上のパッド2に、メッキまたはワ
イヤボンディング法により形成される。このバンプ3の
材質はAuやハンダ等の軟質材料であり、ランド4の材
質より柔らかいものが使用される。
The semiconductor chip 1 uses a compound semiconductor such as GaAs or another semiconductor. The bumps 3 are formed on the pads 2 on the circuit surface of the semiconductor chip 1 by plating or wire bonding. The material of the bump 3 is a soft material such as Au or solder, and a material softer than the material of the land 4 is used.

【0021】図示する形態において、バンプ3の平面形
状は図3に示すような円形、或いは楕円形、四角形であ
る。平面が円形の場合、厚さは20〜50μmで、先端
部の最小幅、即ち先端部に内接する円の直径が50μm
程度である。
In the illustrated embodiment, the planar shape of the bump 3 is a circle, an ellipse, or a square as shown in FIG. When the plane is circular, the thickness is 20 to 50 μm, and the minimum width of the tip, that is, the diameter of the circle inscribed in the tip is 50 μm.
It is about.

【0022】配線基板5は、ポリイミドやガラスエポキ
シ等の絶縁基板10と、この絶縁基板10内に埋設され
たCu等の導体とを有している。ランド4はこの配線基
板5内の導体に接続されており、配線基板5の表面をエ
ッチングすることにより、基板表面から露出している。
The wiring board 5 has an insulating substrate 10 such as polyimide or glass epoxy, and a conductor such as Cu embedded in the insulating substrate 10. The lands 4 are connected to the conductors in the wiring board 5 and are exposed from the surface of the wiring board 5 by etching the surface of the wiring board 5.

【0023】ランド4の材質は、Cu等の導体であり、
厚さは12μm以下に設定される。この実施の形態にお
いて、ランド4は底部である下底4aと頂部である上底
4bとが、同一角度で傾斜する斜辺4cによって連結さ
れた等脚台形の断面となっている。より具体的には、ラ
ンド4は頂部である上底4bが底部である下底4aより
も短くなった先細りの台形断面に形成されている。ま
た、底部4aの幅はバンプ3の幅と同等であるのに対
し、頂部4bの幅はバンプ3の先端部の幅より10μm
以上15μm未満の寸法で小さくなっており、実装時に
はバンプ3に埋め込むことが可能となっている。この埋
め込みによるアンカー効果により、電気的な接続状態が
保持される。なお、本実施の形態では、底部4aの幅を
バンプ3の幅と同等にすることにより、底部4aの幅寸
法がバンプの基端側の幅寸法を越えないようにしてい
る。
The material of the land 4 is a conductor such as Cu.
The thickness is set to 12 μm or less. In this embodiment, the land 4 has an isosceles trapezoidal cross section in which a lower bottom 4a as a bottom and an upper bottom 4b as a top are connected by a hypotenuse 4c inclined at the same angle. More specifically, the land 4 is formed in a tapered trapezoidal cross section in which the upper bottom 4b as the top is shorter than the lower bottom 4a as the bottom. The width of the bottom 4a is equal to the width of the bump 3, whereas the width of the top 4b is 10 μm larger than the width of the tip of the bump 3.
The size is smaller than 15 μm or less, and can be embedded in the bump 3 at the time of mounting. An electrical connection state is maintained by the anchor effect by this embedding. In the present embodiment, the width of the bottom 4a is made equal to the width of the bump 3 so that the width of the bottom 4a does not exceed the width of the base end of the bump.

【0024】なお、ランド4の頂部4bは、Cu素地を
防錆処理またはCu素地にNiメッキした後に、Auメ
ッキあるいはCu素地にハンダメッキして表面処理され
るものである。また、ランド4は半導体チップ1のパッ
ドに対応して、図5に示すように形成されている。
The top 4b of the land 4 is subjected to a surface treatment by rust-preventive treatment of the Cu base or Ni plating on the Cu base, followed by Au plating or solder plating on the Cu base. The lands 4 are formed corresponding to the pads of the semiconductor chip 1 as shown in FIG.

【0025】半導体チップ1と配線基板5とを接続する
バンプ3及びランド4の周囲は、封止材6によって封止
される。封止材6は熱硬化性の絶縁有機樹脂にフィラー
を混合したもの、または絶縁有機樹脂単独からなり、ペ
ースト状またはフィルム状の形態で実装に供される。こ
の封止材6は図1に示すように、半導体チップ1の回路
面及び側面と配線基板5上のランド4の間を接着し、且
つ封止する。
The surroundings of the bumps 3 and the lands 4 connecting the semiconductor chip 1 and the wiring board 5 are sealed with a sealing material 6. The sealing material 6 is made of a mixture of a thermosetting insulating organic resin and a filler or an insulating organic resin alone, and is mounted in a paste or film form. As shown in FIG. 1, the sealing material 6 adheres and seals between the circuit surface and the side surface of the semiconductor chip 1 and the land 4 on the wiring board 5.

【0026】次に、この実施の形態のフリップチップ実
装方法を説明する。半導体チップ1のパッド2上には、
上述した構造でバンプ3を形成する。配線基板5のラン
ド4は、エッチファクタを1.5、ランド厚を12μ
m、ランド幅を50μmに設定した場合、ランド頂部の
幅が36μmとなって形成される。
Next, a flip chip mounting method according to this embodiment will be described. On the pad 2 of the semiconductor chip 1,
The bump 3 is formed with the above-described structure. The land 4 of the wiring board 5 has an etch factor of 1.5 and a land thickness of 12 μm.
When the land width is set to 50 μm, the width of the land top is 36 μm.

【0027】そして、図5に示すように半導体チップ1
が実装される配線基板5上の各ランド4にかからないよ
うに、ペースト状またはフィルム状の封止材6を供給す
る。次に、図4に示すように、バンプ形成面を下にした
状態で、相対応するバンプ3とランド4が一致するよう
に半導体チップ1の位置を調整する。
Then, as shown in FIG.
Is supplied so as not to cover each land 4 on the wiring board 5 on which the is mounted. Next, as shown in FIG. 4, the position of the semiconductor chip 1 is adjusted so that the corresponding bumps 3 and lands 4 coincide with the bump formation surface facing down.

【0028】この調整後、図4の矢印Eで示すように、
半導体チップ1を配線基板5方向に接近させる。そし
て、矢印Fで示すように、半導体チップ1の背面から各
バンプ3に対する圧力を25〜100g/バンプとなる
ように作用させることにより、図2に示す状態までバン
プ3にランド4を埋め込ませる。例えば、バンプ3の先
端が基板5に接触しない10μmの深さまで埋め込む場
合には、バンプ3が軟性材料であるため、約70g/バ
ンプの圧力で埋め込みできる。また、この埋め込み時に
は200g/バンプ以下の荷重であれば殆ど縦方向しか
変形せず、膨らみがほとんどないため、隣接するバンプ
3と接触することはない。これと同時に、封止材6が半
導体チップ1の外側にはみ出して上述した部分の全体を
覆う。
After this adjustment, as shown by arrow E in FIG.
The semiconductor chip 1 is moved closer to the wiring board 5. Then, as shown by an arrow F, the lands 4 are buried in the bumps 3 until the state shown in FIG. 2 by applying a pressure to each bump 3 from the back surface of the semiconductor chip 1 to 25 to 100 g / bump. For example, when the tip of the bump 3 is buried to a depth of 10 μm that does not make contact with the substrate 5, the bump 3 can be buried at a pressure of about 70 g / bump because the bump 3 is a soft material. In addition, at the time of embedding, if the load is 200 g / bump or less, almost no deformation occurs in the vertical direction, and there is almost no swelling. At the same time, the sealing material 6 protrudes outside the semiconductor chip 1 and covers the entire above-described portion.

【0029】次に、半導体チップ1の背面から180〜
250℃の熱を5〜30sec作用させて封止材6を硬
化する。この硬化により封止材6が半導体チップ1の回
路面及び側面を配線基板5と接着する。また、この封止
によって半導体チップ1と配線基板5間の接着強度と半
導体チップ1の耐湿性とが向上する。
Next, from the back of the semiconductor chip 1,
The sealing material 6 is cured by applying heat of 250 ° C. for 5 to 30 seconds. By this curing, the sealing material 6 adheres the circuit surface and the side surface of the semiconductor chip 1 to the wiring substrate 5. In addition, the sealing improves the adhesive strength between the semiconductor chip 1 and the wiring board 5 and the moisture resistance of the semiconductor chip 1.

【0030】このような実施の形態によれば、相対応す
る配線基板5上のランド4より材質が軟らかく、且つ先
端部の面積が大きいバンプ3の先端部に、頂部4bの幅
が狭いランド4を加圧により埋め込ませて電気的に導通
させるため、配線基板5のランド4上に軟性材料を設け
る必要がなくなると共に、バンプのピッチと同等の微細
ピッチのフリップチップ実装を行うことができる。
According to such an embodiment, the land 4 whose material is softer than the corresponding land 4 on the wiring board 5 and whose top 4b has a narrow width is provided at the tip of the bump 3 having a large area at the tip. Is embedded by pressurization to make it electrically conductive, so that it is not necessary to provide a soft material on the lands 4 of the wiring board 5, and it is possible to perform flip-chip mounting at a fine pitch equivalent to the pitch of the bumps.

【0031】(実施の形態2)この実施の形態では、実
施の形態1と同様に台形断面のランド4を用いるが、寸
法が異なった台形となっている。すなわち、この実施の
形態のランド4は、厚さが実施の形態1のランドよりも
厚く、且つ37.5μm以下で、頂部4bの幅がバンプ
3の径よりも15μm以上小さな寸法とすると共に、底
部4aの幅もバンプ3の径よりも小さな寸法とするもの
である。従って、底部側の幅寸法がバンプの基端部の幅
寸法を越えない寸法に設定されることになる。具体的に
は、エッチファクタを1.5、ランド4の厚さを22.
5μm、ランド4の底部4aの幅を50μmに設定する
ことにより、ランド4の頂部4bの幅は20μmとな
る。従って、この実施の形態2のランド4は、実施の形
態1のランド4よりも頂部4bの幅が小さくなってい
る。
(Embodiment 2) In this embodiment, the lands 4 having a trapezoidal cross section are used as in Embodiment 1, but the trapezoids have different dimensions. That is, the land 4 of this embodiment has a thickness larger than that of the land of the first embodiment, is 37.5 μm or less, and the width of the top 4 b is smaller than the diameter of the bump 3 by 15 μm or more. The width of the bottom 4 a is also smaller than the diameter of the bump 3. Therefore, the width dimension on the bottom side is set to a size not exceeding the width dimension of the base end portion of the bump. Specifically, the etch factor is 1.5 and the thickness of the land 4 is 22.
By setting the width of the bottom 4a of the land 4 to 5 μm and the width of the top 4b of the land 4 to 20 μm. Therefore, the width of the top 4b of the land 4 of the second embodiment is smaller than that of the land 4 of the first embodiment.

【0032】図6はランド4の頂部4bの幅の大きさを
変えた場合において、バンプ3へランド4を埋め込むと
きの圧力(荷重)とバンプ埋め込み量の関係を示した図
であり、特性曲線Gは頂部4bの幅が20μm、特性曲
線Hは頂部4bの幅が40μmのランドである。埋め込
み量を10μmとした場合、頂部4bの幅が20μmの
ランドでは、頂部4bの幅が40μmのランドに比べて
17g/バンプ小さな58g/バンプの加圧力で良く、
小さな圧力で目的の埋め込み量に達することができる。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the pressure (load) when the land 4 is embedded in the bump 3 and the amount of embedded bump when the width of the top 4b of the land 4 is changed. G is a land with a top 4b having a width of 20 μm, and a characteristic curve H is a land with a top 4b having a width of 40 μm. When the embedding amount is 10 μm, the pressing force of 58 g / bump, which is 17 g / bump smaller than that of the land having the top portion 4 b of 40 μm, is sufficient for the land having the top portion 4 b of 20 μm width.
The desired embedding amount can be reached with a small pressure.

【0033】このように、ランド頂部の幅を小さくする
ことにより、小さな圧力でランド4をバンプ3に埋め込
むことができる。このため、加圧に弱い半導体チップ1
のチップクラック不良の発生を防ぐことができると共
に、微細ピッチのフリップチップの実装が可能となる。
As described above, by reducing the width of the land top, the land 4 can be embedded in the bump 3 with a small pressure. For this reason, the semiconductor chip 1 that is vulnerable to pressure
Chip crack failure can be prevented, and a flip chip with a fine pitch can be mounted.

【0034】また、実施の形態1とランド底部の幅が同
じであり、ランド頂部の幅を小さくすることによって、
実施の形態1よりランド厚を大きくすることできる。こ
れにより半導体チップ1と配線基板5との間隔が大きく
なるため、半導体チップ1の回路形成面に傷が付きにく
くなる。
Further, the width of the land bottom is the same as that of the first embodiment, and by reducing the width of the land top,
The land thickness can be made larger than in the first embodiment. As a result, the distance between the semiconductor chip 1 and the wiring board 5 increases, so that the circuit forming surface of the semiconductor chip 1 is less likely to be damaged.

【0035】(実施の形態3)図7及び図8は実施の形
態3を示し、図7はフリップチップ接合部分を拡大した
断面図、図8は図7のフリップチップ接合部分の平面図
である。
(Embodiment 3) FIGS. 7 and 8 show Embodiment 3, FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a flip chip bonding portion, and FIG. 8 is a plan view of the flip chip bonding portion of FIG. .

【0036】この実施の形態では、ランド7が3辺7
a、7b、7cからなる三角形断面となっている。この
ように断面構造を三角形にする場合は、実施の形態1に
おいて厚さを37.5μmにするか、または底部7cの
幅を30μmにすることにより可能である。この三角形
断面のランド7では、その厚さを実施の形態1と同一厚
さの12μmとした場合、底部7cの幅が実施の形態1
よりも小さくなる。
In this embodiment, the land 7 has three sides 7
It has a triangular cross section composed of a, 7b, and 7c. In the case where the cross-sectional structure is made triangular as described above, it is possible to set the thickness to 37.5 μm or to set the width of the bottom 7 c to 30 μm in the first embodiment. In the land 7 having the triangular cross section, when the thickness is 12 μm, which is the same thickness as that of the first embodiment, the width of the bottom 7c is
Smaller than.

【0037】このような先細りの三角形断面のランド7
では、バンプ3に埋め込む加圧力を台形断面のランドよ
りもさらに小さくしても、目的の埋め込み量に到達する
ことができる。また、ランド7の底部の幅を小さくする
こともでき、加圧に弱い半導体半導体チップ1のチップ
クラック不良の発生をさらに確実に防止することができ
ると共に、さらに微細ピッチのフリップチップ実装が可
能となる。
The land 7 having such a tapered triangular cross section is used.
In this case, the target embedding amount can be reached even if the pressure applied to the bump 3 is smaller than that of the land having the trapezoidal cross section. In addition, the width of the bottom of the land 7 can be reduced, so that the occurrence of chip crack failure of the semiconductor chip 1 that is vulnerable to pressure can be more reliably prevented, and flip-chip mounting with a finer pitch is possible. Become.

【0038】(実施の形態4)図9〜図12は発明の実
施の形態4を示す。図9及び図10におけるランド8
は、バンプ3との接続部8eでは平面的に円形、バンプ
との接続部以外の配線部8dでは四角形となっている。
そして、ランド8の全体は断面的には、頂部8bと底部
8aとが斜辺8cによって連結された台形となってい
る。このランド8の接続部8eの頂部8bは、バンプ3
の径よりも小さく、底部8aはバンプ3の径と略同等と
なっている。さらに、接続部8eの頂部8bは配線部8
dの頂部8bの幅よりも大きくなるように形成されてい
る。
(Embodiment 4) FIGS. 9 to 12 show Embodiment 4 of the present invention. Land 8 in FIGS. 9 and 10
Has a circular shape in plan view at the connection portion 8e with the bump 3, and has a square shape at the wiring portion 8d other than the connection portion with the bump.
The entire land 8 has a trapezoidal cross section in which the top 8b and the bottom 8a are connected by a hypotenuse 8c. The top 8b of the connecting portion 8e of the land 8 is
, And the bottom 8a is substantially equal to the diameter of the bump 3. Further, the top portion 8b of the connection portion 8e is
d is formed to be larger than the width of the top 8b.

【0039】図11及び図12におけるランド9は平面
から見てT字形となっており、T字形の頭部がバンプ3
との接続部9e、脚部が配線部9dとなっている。ま
た、ランド9の全体は断面的には、頂部9b及び底部9
aが斜辺9cによって連結された台形となっている。さ
らに、接続部9eにおける頂部9bの幅はバンプ3の径
よりも小さくなっており、底部9aはバンプ3の径と略
同等となっている。また、接続部9eの頂部9bは配線
部9dの頂部9bの幅よりも大きくなっている。
The land 9 in FIGS. 11 and 12 is T-shaped when viewed from the top, and the T-shaped head is
The connection part 9e and the leg part are the wiring part 9d. In addition, the entire land 9 is cross-sectionally formed at the top 9b and the bottom 9b.
a is a trapezoid connected by the hypotenuse 9c. Further, the width of the top portion 9b in the connection portion 9e is smaller than the diameter of the bump 3, and the bottom portion 9a is substantially equal to the diameter of the bump 3. The width of the top 9b of the connection portion 9e is larger than the width of the top 9b of the wiring portion 9d.

【0040】このような実施の形態では、図9及び図1
1に示すように、配線基板5上に実装された半導体チッ
プ1に対して、半導体チップ1の外周側面から力が加わ
った場合、即ち、配線部8d、9dの方向に対して平行
な力がランド8、9とバンプ3との接続部8e、9eに
加わった場合、配線部8d、9dの頂部8b、9b幅よ
りも接続部8e、9eの頂部8b、9bの幅が大きく、
この接続部8e、9eがバンプ3内に埋まっていること
により、平行な力に対して大きな抵抗力を有する。その
ため、バンプ3とランド8、9とが外れることがなくな
る。
In such an embodiment, FIG. 9 and FIG.
As shown in FIG. 1, when a force is applied to the semiconductor chip 1 mounted on the wiring board 5 from the outer peripheral side surface of the semiconductor chip 1, that is, a force parallel to the directions of the wiring portions 8d and 9d is applied. When added to the connection portions 8e, 9e between the lands 8, 9 and the bump 3, the width of the top portions 8b, 9b of the connection portions 8e, 9e is larger than the width of the top portions 8b, 9b of the wiring portions 8d, 9d,
Since the connection portions 8e and 9e are buried in the bump 3, the connection portions 8e and 9e have a large resistance to a parallel force. Therefore, the bump 3 and the lands 8, 9 do not come off.

【0041】このような実施の形態によれば、ランド
8、9における接続部8e、9eがバンプ3内に埋まっ
ているため、配線方向と平行な力が加わっても位置ずれ
することがない。このため、その背面の対向する2辺の
みにバンプ3が並設してあるタイプの半導体チップ1を
実装した場合、配線基板5と半導体チップ1との位置ず
れ不良を防ぐことができる。
According to such an embodiment, since the connecting portions 8e and 9e of the lands 8 and 9 are buried in the bumps 3, they do not shift even if a force parallel to the wiring direction is applied. For this reason, when the semiconductor chip 1 of the type in which the bumps 3 are juxtaposed only on two opposite sides on the back surface is mounted, it is possible to prevent a misalignment defect between the wiring board 5 and the semiconductor chip 1.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、頂部側が先細りする断面形状のランドを、ラン
ドよりも材質が軟らかいバンプに埋め込ませることによ
り電気的に接続するため、ランド上に軟性材料を設ける
必要がなく、しかもバンプのピッチと同等の微細ピッチ
で実装することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the land having the cross-sectional shape tapering off at the top is electrically connected to the land by embedding the land in a bump softer than the land. There is no need to provide a soft material on the top, and the mounting can be performed at a fine pitch equivalent to the pitch of the bumps.

【0043】請求項2の発明によれば、ランドを台形ま
たは三角形の断面形状とするため、小さな加圧力でバン
プに埋め込むことができ、半導体チップにチップクラッ
ク不良の発生が少ないと共に、バンプのピッチと同等の
微細ピッチで実装することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the land has a trapezoidal or triangular cross-sectional shape, it can be embedded in the bump with a small pressing force. It can be mounted at a fine pitch equivalent to.

【0044】請求項3の発明によれば、バンプに埋め込
まれるランドの頂部の平面形状が略円形またはT字形の
ため、配線方向と平行な力が加わってもバンプとランド
との位置ずれが生じにくくなり、位置ずれ不良を防止す
ることができる。
According to the third aspect of the present invention, since the planar shape of the top of the land embedded in the bump is substantially circular or T-shaped, the displacement between the bump and the land occurs even when a force parallel to the wiring direction is applied. This makes it difficult to prevent misalignment.

【0045】請求項4の発明によれば、先細りしたラン
ドの頂部をランドよりも柔らかい材質のバンプの先端部
に埋め込むだけでランドとバンプとが接続されるため、
ランドとバンプとの電気的な接続領域が大きくなり、し
かも低コストとすることができる。
According to the fourth aspect of the invention, the land and the bump are connected only by embedding the top of the tapered land in the tip of the bump made of a material softer than the land.
The electrical connection area between the land and the bump is increased, and the cost can be reduced.

【0046】請求項5の発明によれば、ランドの底部側
の幅寸法がバンプの基端部の幅寸法を越えないため、ラ
ンドの幅寸法を大きく確保する必要がなく、ランドのピ
ッチを小さくすることができ、これによりランドをバン
プのピッチと同等とすることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the width of the land on the bottom side does not exceed the width of the base end of the bump, it is not necessary to secure a large width of the land, and the land pitch can be reduced. Therefore, the land can be made equal to the pitch of the bumps.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における実装状態の断面
図である。
FIG. 1 is a sectional view of a mounted state according to a first embodiment of the present invention.

【図2】実施の形態1の実装部分を拡大した図3におけ
るA−A線断面図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3 of a mounting part of the first embodiment;

【図3】実施の形態1の実装部分の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a mounting part according to the first embodiment;

【図4】実施の形態1の実装を説明する断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating mounting of the first embodiment.

【図5】実施の形態1の封止剤を配線基板に供給した状
態を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a state in which the sealant of the first embodiment is supplied to the wiring substrate.

【図6】ランドの頂部の幅を変更したときのランドの埋
め込み量と加圧荷重との関係を示す特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram illustrating a relationship between a land embedding amount and a pressing load when a width of a land top is changed.

【図7】実施の形態3の実装部分を拡大した図8のB−
B線断面図である。
FIG. 7B is an enlarged view of a mounting part of the third embodiment;
It is a B sectional view.

【図8】実施の形態3の実装部分の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a mounting part according to the third embodiment.

【図9】実施の形態3の実装部分の平面図である。FIG. 9 is a plan view of a mounting part according to the third embodiment.

【図10】図9のC−C線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line CC of FIG. 9;

【図11】実施の形態3の別の実装部分の平面図であ
る。
FIG. 11 is a plan view of another mounting portion of the third embodiment.

【図12】図11のD−D線断面図である。FIG. 12 is a sectional view taken along line DD of FIG. 11;

【図13】従来のフリップチップ実装構造の断面図であ
る。
FIG. 13 is a sectional view of a conventional flip chip mounting structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 パッド 3 バンプ 4 ランド 5 配線基板 6 封止材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Pad 3 Bump 4 Land 5 Wiring board 6 Sealing material

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パッド上に形成したバンプを有する半導
体チップを、ランドを有する配線基板にフェースダウン
によって実装するフリップチップ実装方法において、 その頂部側が先細りの断面形状のランドを前記配線基板
に形成する一方、その材質がランドの材質と比較して軟
らかいバンプを前記パッド上に形成し、ランドの頂部を
バンプに埋め込ませることによりランドとバンプを電気
的に接続することを特徴とするフリップチップ実装方
法。
1. A flip-chip mounting method for mounting a semiconductor chip having a bump formed on a pad on a wiring board having a land by face-down, wherein a land having a tapered cross-sectional shape at the top is formed on the wiring board. On the other hand, a flip chip mounting method characterized in that a bump softer than the material of the land is formed on the pad, and the land and the bump are electrically connected by embedding the top of the land in the bump. .
【請求項2】 前記ランドの断面形状を台形または三角
形とすることを特徴とする請求項1記載のフリップチッ
プ実装方法。
2. The method according to claim 1, wherein the land has a trapezoidal or triangular cross-sectional shape.
【請求項3】 前記ランドの断面形状が台形であり、前
記バンプに埋め込まれる頂部の平面形状が略円形または
T字形であることを特徴とする請求項1記載のフリップ
チップ実装方法。
3. The flip-chip mounting method according to claim 1, wherein the land has a trapezoidal cross-sectional shape, and a planar shape of a top portion embedded in the bump is substantially circular or T-shaped.
【請求項4】 パッド上に形成したバンプを有する半導
体チップを、ランドを有する配線基板上にフェースダウ
ンで実装するフリップチップ実装構造において、 前記バンプはランドの材質よりも軟らかい材質であり、
前記ランドの断面形状が頂部側で先細りし、且つ頂部が
バンプの先端部の幅よりも小さく設定されており、前記
ランドの頂部がバンプの先端部に埋め込まれていること
を特徴とするフリップチップ実装構造。
4. A flip-chip mounting structure for mounting a semiconductor chip having bumps formed on pads face down on a wiring board having lands, wherein the bumps are softer than the lands.
A flip chip, wherein the cross-sectional shape of the land is tapered on the top side, the top is set to be smaller than the width of the tip of the bump, and the top of the land is embedded in the tip of the bump. Mounting structure.
【請求項5】 前記ランドの断面形状の底部側の幅寸法
が前記バンプの基端部の幅寸法を越えない寸法に設定さ
れていることを特徴とする請求項4記載のフリップチッ
プ実装構造。
5. The flip-chip mounting structure according to claim 4, wherein the width of the cross section of the land on the bottom side is set to a size not exceeding the width of the base end of the bump.
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