JPH11245152A - Polishing device - Google Patents

Polishing device

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JPH11245152A
JPH11245152A JP10050678A JP5067898A JPH11245152A JP H11245152 A JPH11245152 A JP H11245152A JP 10050678 A JP10050678 A JP 10050678A JP 5067898 A JP5067898 A JP 5067898A JP H11245152 A JPH11245152 A JP H11245152A
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curved surface
polishing
optical curved
polisher
work
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Tatsuya Kobayashi
達也 小林
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform highly accurate finish polishing for the surface shape of an optical curved surface and to increase the efficiency of polishing work for the optical curved surface. SOLUTION: A polishing device polishes the optical curved surface 1a of a work 1 attached to a work holder 10. In this case, the device is provided with a polishing head 20 having a polisher 20 provided in its tip for machining the optical curved surface 1a of the work 1 while rotating it, a slider 18a for arranging the polishing head 20 and pressing the polisher 20 in the normal direction of the optical curved surface 1a, a motor 28 for rotating the polisher 21, a Z axis mechanism section 12 for moving the polisher 21 provided in the polishing head 20 arranged in the slider 18a in contact with or away from the optical curved surface 1a of the work 1, and a non-contact displacement gauge attached to the polishing head 20 and moved together with the polishing head 20. While the polisher 21 is in contact with the optical curved surface 1a, a distance is measured between the optical curved surface 1a and the non- contact displacement gauge, and the optical curved surface 1a is polished to have a desired shape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨ヘッドによっ
て被加工物の光学曲面を研磨する研磨装置に関し、詳し
くは被加工物に沿って研磨ヘッドを移動させながら研磨
ヘッドに備えたポリシャを回転させて光学曲面を研磨す
る研磨装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus for polishing an optical curved surface of a workpiece by a polishing head, and more particularly, to rotating a polisher provided on the polishing head while moving the polishing head along the workpiece. And a polishing apparatus for polishing an optical curved surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、被加工面の光学曲面を研磨する
場合、光学曲面の形状が球面であるか、それ以外の非球
面形状であるかにより、研磨装置および研磨方法は大き
く異なっており、最近、非球面光学曲面を研磨する装置
として、小径研磨工具を用いたスモールツール研磨法が
多く用いられている。
2. Description of the Related Art Generally, when polishing an optical curved surface of a surface to be processed, a polishing apparatus and a polishing method differ greatly depending on whether the optical curved surface has a spherical shape or another aspherical shape. Recently, as an apparatus for polishing an aspherical optical curved surface, a small tool polishing method using a small-diameter polishing tool is often used.

【0003】従来、回転対称非球面光学曲面を研磨する
ための研磨装置としては、特公平4―50152号公報
に記載されているものがある。また、上記非球面以外の
非球面(自由曲面)光学曲面を研磨するための研磨装置
としては、特開平6―126607号公報に記載されて
いるものがある。
Conventionally, a polishing apparatus for polishing a rotationally symmetric aspheric optical curved surface is disclosed in Japanese Patent Publication No. 50152/1992. As a polishing apparatus for polishing an aspherical (free-form surface) optical curved surface other than the above-mentioned aspherical surface, there is one described in JP-A-6-126607.

【0004】まず、特公平4―50152号公報に示さ
れた研磨装置を図8および図9に基づいて説明する。図
8は斜視図、図9は要部断面図である。
First, a polishing apparatus disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-50152 will be described with reference to FIGS. 8 is a perspective view, and FIG. 9 is a sectional view of a main part.

【0005】この研磨装置では、図8に示すように、被
加工物であるワーク50はロータリーテーブル51上の
ワークチャック52に固定され、ロータリーテーブル5
1の回転軸を中心に回転可能となっている。ロータリー
テーブル51は、水平方向(X軸方向)に移動して位置
決め可能なX軸機構部53に載置されており、ワーク5
0はX軸機構部53によって水平方向の移動が可能とな
っている。
[0005] In this polishing apparatus, as shown in FIG. 8, a workpiece 50 as a workpiece is fixed to a work chuck 52 on a rotary table 51.
It is rotatable around one rotation axis. The rotary table 51 is mounted on an X-axis mechanism 53 that can be moved and positioned in the horizontal direction (X-axis direction).
0 can be moved in the horizontal direction by the X-axis mechanism 53.

【0006】ワークチャック52に固定されたワーク5
0を研磨する工具54は、ワーク50の上方に位置した
スピンドル55の先端に取り付けられて回転可能となっ
ている。スピンドル55は、θ機構部56の一端面にな
るR軸機構部57上に取り付けたスライダ58に支持さ
れている。θ軸機構部56は、X軸方向と直交する上下
方向(Z軸方向)に移動可能なZ軸機構部59に対し回
転制御自在に取り付けられ、回転制御により、図9に示
すように、ワーク50の表面(光学曲面)のX,Zポイ
ントにおける法線方向にスピンドル54の軸を一致させ
るように所定角度(図ではθ)を傾けることが可能にな
っている。また、スピンドル55とスライダ58との間
には、工具54の軸方向にばね力を作用させる圧縮ばね
60が介挿されており、工具54がワーク50に接触す
る圧力を調整可能となっている。
A work 5 fixed to a work chuck 52
A tool 54 for polishing 0 is attached to the tip of a spindle 55 located above the work 50 and is rotatable. The spindle 55 is supported by a slider 58 mounted on an R-axis mechanism 57 which is one end surface of the θ mechanism 56. The θ-axis mechanism 56 is attached to the Z-axis mechanism 59, which is movable in the vertical direction (Z-axis direction) perpendicular to the X-axis direction, in a freely rotatable manner. It is possible to incline a predetermined angle (θ in the figure) so that the axis of the spindle 54 coincides with the normal line direction at the X and Z points of the surface (optical curved surface) of 50. A compression spring 60 for applying a spring force in the axial direction of the tool 54 is interposed between the spindle 55 and the slider 58, so that the pressure at which the tool 54 contacts the workpiece 50 can be adjusted. .

【0007】このような構成で、工具54とワーク50
を相対的にX,Z,θの3軸の位置決めを行い、さらに
工具54を定圧でワーク50に接触させて研磨すること
により、高精度な非球面の鏡面加工が可能になる。
With such a configuration, the tool 54 and the work 50
Is relatively positioned in three axes of X, Z, and θ, and the tool 54 is brought into contact with the workpiece 50 at a constant pressure and polished, thereby enabling highly accurate aspherical mirror processing.

【0008】一方、特開平6―126607号公報に示
された研磨装置を図10に基づいて説明する。図10は
研磨装置の断面図である。
On the other hand, a polishing apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-126607 will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a sectional view of the polishing apparatus.

【0009】この研磨装置では、被加工物61の加工面
(光学曲面)61aを加工する円盤状工具62が工具回
転軸63を介して研磨ヘッド64に回転自在に支持され
ている。工具回転軸63は駆動装置65により回転駆動
され、工具回転軸63に固定されている円盤状工具62
は工具回転軸63を中心にして回転可能となっている。
また、工具回転軸63が加工点での接線Cと平行となる
ように研磨ヘッド64を揺動させるNCテーブル66が
設けられている。
In this polishing apparatus, a disk-shaped tool 62 for processing a processing surface (optical curved surface) 61 a of a workpiece 61 is rotatably supported by a polishing head 64 via a tool rotation shaft 63. The tool rotating shaft 63 is rotationally driven by a driving device 65, and is fixed to the tool rotating shaft 63.
Is rotatable about a tool rotation shaft 63.
Further, an NC table 66 that swings the polishing head 64 so that the tool rotation shaft 63 is parallel to the tangent C at the processing point is provided.

【0010】このような構成で、研磨ヘッド64を揺動
して工具回転軸63を加工点での接線と平行にすること
で、被加工物61の加工面61aに円盤状工具62の外
周面が押し当てられるため、円盤状工具62と加工面6
1aとの接触部における相対速度が均一となり、精度よ
く研磨することが可能になる。
In such a configuration, the polishing head 64 is swung to make the tool rotation shaft 63 parallel to the tangent at the processing point, so that the processing surface 61a of the workpiece 61 is provided on the outer peripheral surface of the disk-shaped tool 62. Is pressed against the disk-shaped tool 62 and the processing surface 6.
The relative speed at the contact portion with 1a becomes uniform, and polishing can be performed with high accuracy.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】一般に、研磨加工後の
光学曲面には高い形状精度が要求されており、このよう
な要求を満足させるため、加工中の光学曲面の形状を測
定しつつ、所望の形状に仕上げるようにしている。
In general, the optical curved surface after polishing is required to have high shape accuracy, and in order to satisfy such a requirement, it is necessary to measure the shape of the optical curved surface during processing and obtain a desired shape. The shape is finished.

【0012】しかし、上記従来の研磨装置にあっては、
研磨装置とは異なる位置に配置した形状測定機により光
学曲面の形状を測定する必要があるが、所望の形状に研
磨加工するためには、研磨装置から被加工物を数回取り
外して研磨加工中の光学曲面の形状を測定し、所望の曲
面形状との形状誤差を積極的に修正しながら、光学曲面
を繰り返し研磨し、光学曲面の形状精度を所望の精度に
していく必要がある。したがって、加工形状の研磨なら
びに測定を研磨装置と形状測定機との間で着脱しながら
繰り返し行うため、加工時間が長くなるという問題点が
あった。
However, in the above-mentioned conventional polishing apparatus,
It is necessary to measure the shape of the optical curved surface with a shape measuring machine arranged at a position different from the polishing device, but in order to polish to the desired shape, remove the workpiece from the polishing device several times and It is necessary to repeatedly polish the optical curved surface while positively correcting the shape error from the desired curved surface shape by measuring the shape of the optical curved surface, and to make the optical curved surface shape accuracy the desired accuracy. Therefore, there is a problem that the processing time is lengthened because polishing and measurement of the processed shape are repeatedly performed while attaching and detaching between the polishing apparatus and the shape measuring machine.

【0013】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたもので、光学曲面の表面形状を更に高精度に仕
上げ研磨できるとともに、光学曲面の研磨加工の効率化
を図ることができる研磨装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and is capable of finishing and polishing a surface shape of an optical curved surface with higher accuracy and improving the efficiency of polishing of the optical curved surface. It is intended to provide a device.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に係る本発明の研磨装置は、ワーク保持具
に取り付けられた被加工物の光学曲面を研磨する研磨装
置において、前記被加工物の光学曲面を回転しながら加
工するポリシャを先端に備えた研磨ヘッドと、前記研磨
ヘッドを配設して前記ポリシャを光学曲面の法線方向に
押圧する押圧手段と、前記ポリシャを回転させる回転手
段と、前記押圧手段に配設した研磨ヘッドに備えたポリ
シャを被加工物の光学曲面に対して当接または離反する
ように移動させる移動手段と、前記研磨ヘッドまたは研
磨ヘッドを配設した押圧手段に取り付けられて研磨ヘッ
ドとともに移動する非接触変位計と、を備え、光学曲面
に前記ポリシャが当接している状態で、光学曲面と非接
触変位計との距離を測定して光学曲面の形状を測定す
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a polishing apparatus for polishing an optically curved surface of a workpiece attached to a work holder. A polishing head having a polisher at its tip for processing while rotating an optical curved surface of a workpiece, pressing means for disposing the polishing head and pressing the polisher in a normal direction of the optical curved surface, and rotating the polisher Rotating means for moving, a moving means for moving a polisher provided on a polishing head provided on the pressing means so as to abut or separate from an optical curved surface of a workpiece, and the polishing head or the polishing head are provided. A non-contact displacement meter attached to the pressing means and moved together with the polishing head, and the distance between the optical curved surface and the non-contact displacement meter in a state where the polisher is in contact with the optical curved surface. Measured to measure the shape of the optical curved surface.

【0015】また、請求項2に係る本発明の研磨装置
は、請求項1の構成において、前記非接触変位計は、前
記研磨ヘッドの走査方向の前後に各々配置した。
According to a second aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the first aspect, the non-contact displacement meters are respectively disposed before and after in the scanning direction of the polishing head.

【0016】さらに、請求項3に係る本発明の研磨装置
は、請求項1の構成において、前記研磨ヘッドの回転中
心軸に中空穴を設け、この中空穴の上方にレーザー測長
器を配置した。
Further, in the polishing apparatus of the present invention according to a third aspect, in the configuration of the first aspect, a hollow hole is provided in a rotation center axis of the polishing head, and a laser length measuring device is disposed above the hollow hole. .

【0017】すなわち、請求項1に係る研磨装置は、ポ
リシャを回転させる回転手段により研磨ヘッドに備えた
ポリシャを回転し、移動手段によりポリシャを被加工物
の光学曲面に当接させるとともに、押圧手段により一定
の加工圧力をポリシャに付加する。そして、この状態で
所定の光学曲面形状を走査してポリシャで研磨しつつ、
研磨ヘッドまたは研磨ヘッドを配設した押圧手段に取り
付けた非接触変位計により光学曲面との距離を検出す
る。そして、そのデータを基に研磨条件を最適化しなが
ら研磨し、非接触変位計と光学曲面との距離を所定の値
にすることで研磨を完了とする。
That is, in the polishing apparatus according to the first aspect, the polisher provided in the polishing head is rotated by the rotating means for rotating the polisher, and the polisher is brought into contact with the optical curved surface of the workpiece by the moving means, and the pressing means is provided. Applies a constant processing pressure to the polisher. Then, while scanning a predetermined optical curved surface shape in this state and polishing with a polisher,
The distance to the optical curved surface is detected by a non-contact displacement meter attached to the polishing head or a pressing means provided with the polishing head. Then, polishing is performed while optimizing the polishing conditions based on the data, and the polishing is completed by setting the distance between the non-contact displacement meter and the optical curved surface to a predetermined value.

【0018】また、請求項2に係る研磨装置は、研磨ヘ
ッドの走査方向の前後に各々配置した非接触変位計によ
り、光学曲面上の未研磨面部と済研磨面部の両方の面と
の距離を検出し、研磨状況をリアルタイムで把握しつつ
研磨する。
Further, in the polishing apparatus according to the present invention, the distance between both the unpolished surface portion and the polished surface portion on the optical curved surface is determined by the non-contact displacement meters arranged before and after in the scanning direction of the polishing head. Detecting and polishing while grasping the polishing status in real time.

【0019】さらに、請求項3に係る研磨装置は、研磨
ヘッドの回転軸に中空穴を設け、この中空穴の上方にレ
ーザー測長器からレーザー光を中空穴を介して光学曲面
に照射して光学曲面との距離を測定し、請求項1と同様
に光学曲面を所望の形状に研磨する。
Further, in the polishing apparatus according to the third aspect, a hollow hole is provided in the rotating shaft of the polishing head, and a laser beam is radiated from a laser length measuring device to the optical curved surface through the hollow hole above the hollow hole. The distance from the optical curved surface is measured, and the optical curved surface is polished into a desired shape as in the first aspect.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]本発明の実施の
形態1を図1〜3に基づいて説明する。図1〜3は本実
施の形態が適用された研磨装置を示すもので、図1は正
面図、図2は図1の左側面図、図3は研磨ヘッドの要部
断面図である。
[First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3 show a polishing apparatus to which the present embodiment is applied. FIG. 1 is a front view, FIG. 2 is a left side view of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view of a main part of a polishing head.

【0021】研磨装置には、被加工物として研磨加工さ
れる光学曲面1aを有するワーク1を水平方向(X軸方
向およびY軸方向)に移動可能とするX軸機構部2およ
びY軸機構部3が設けられている。
The polishing apparatus includes an X-axis mechanism section 2 and a Y-axis mechanism section which allow a workpiece 1 having an optical curved surface 1a to be polished as a workpiece to be moved in a horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction). 3 are provided.

【0022】X軸機構部2には、X軸機構部2の基台2
bに対しガイドレール2d上を上記水平方向の面(以
下、水平面という)内で、X軸方向に直線移動自在な移
動テーブル2aが設けられている。移動テーブル2a
は、基台2bの側壁に取り付けたステッピングモータ2
cにより所定位置に移動、停止して位置決め可能となっ
ている。
The X-axis mechanism 2 includes a base 2 of the X-axis mechanism 2.
A moving table 2a is provided on the guide rail 2d to move linearly in the X-axis direction on the guide rail 2d in the horizontal plane (hereinafter, referred to as a horizontal plane). Moving table 2a
Is a stepping motor 2 attached to the side wall of the base 2b.
With c, it can be moved to a predetermined position, stopped and positioned.

【0023】また、Y軸機構部3には、X軸機構部2の
移動テーブル2a上に取り付けた第2基台3bと、この
第2基台3b内で不図示のガイドレール上を水平面内で
Y軸方向に直線移動自在なY軸移動テーブル3aが設け
られている。Y軸移動テーブル3aは、第2基台3bの
側壁に取り付けたステッピングモータ3cにより、移動
テーブル2aの移動方向と直交するY軸方向に移動され
て所定位置に停止し位置決め可能となっている。
The Y-axis mechanism 3 has a second base 3b mounted on a moving table 2a of the X-axis mechanism 2, and a guide rail (not shown) in the second base 3b is located on a horizontal plane. , A Y-axis moving table 3a capable of linearly moving in the Y-axis direction is provided. The Y-axis moving table 3a is moved in a Y-axis direction orthogonal to the moving direction of the moving table 2a by a stepping motor 3c mounted on a side wall of the second base 3b, and is stopped at a predetermined position and can be positioned.

【0024】Y軸機構部3には、ワーク1の回転中心軸
4を、上記水平方向に対し直交する面内で傾斜可能とす
るθ軸機構部5が設けられている。θ軸機構部5には、
図2に示すように、Y軸移動テーブル3a上に固定され
たL字型の台座5aが設けられており、台座5aは、移
動テーブル2aとY軸移動テーブル3aにより、水平面
内における任意の位置に移動、停止が可能となってい
る。台座5aの立ち上がり側面の裏面には、モータ6が
取り付けられている。モータ6の駆動軸6aには、台座
5aの立ち上がり側面の前面に配置したワークスピンド
ル固定板7が取り付けられている。モータ6の駆動軸6
aは、Y軸方向に延在しワーク1の回転中心軸4と垂直
に交わる水平軸8を中心にして回転可能となっている。
回転中心軸4と水平軸8との交点は、ワーク1の研磨加
工する光学曲面1aの球心O(光学曲面1aの曲率半径
の中心)となるように設定されており、ワークスピンド
ル固定板7は、モータ6により水平軸8、すなわち球心
Oを中心にして所定の揺動角度の範囲で揺動可能となっ
ている。
The Y-axis mechanism 3 is provided with a θ-axis mechanism 5 that enables the rotation center axis 4 of the work 1 to be tilted in a plane perpendicular to the horizontal direction. The θ-axis mechanism 5 includes
As shown in FIG. 2, an L-shaped pedestal 5a fixed on the Y-axis moving table 3a is provided. The pedestal 5a can be moved to any position in the horizontal plane by the moving table 2a and the Y-axis moving table 3a. Can be moved and stopped. The motor 6 is mounted on the rear surface of the rising side surface of the pedestal 5a. A work spindle fixing plate 7 disposed on the front surface of the rising side surface of the pedestal 5a is attached to the drive shaft 6a of the motor 6. Drive shaft 6 of motor 6
“a” is rotatable about a horizontal axis 8 extending in the Y-axis direction and perpendicularly intersecting the rotation center axis 4 of the work 1.
The intersection between the rotation center axis 4 and the horizontal axis 8 is set to be the spherical center O (the center of the radius of curvature of the optical curved surface 1a) of the optical curved surface 1a to be polished of the work 1, and the work spindle fixing plate 7 Can be swung by a motor 6 around a horizontal axis 8, that is, a ball center O within a predetermined swing angle range.

【0025】ワークスピンドル固定板7には、ワークス
ピンドル9が取り付けられている。ワークスピンドル9
には、ワーク1の回転中心軸4を中心に回転するワーク
保持具10が回転可能に保持されている。ワークスピン
ドル9の下方にはモータ11が接続され、このモータ1
1によりワーク保持具10が回転されるようになってい
る。
A work spindle 9 is attached to the work spindle fixing plate 7. Work spindle 9
, A work holder 10 that rotates about the rotation center axis 4 of the work 1 is rotatably held. A motor 11 is connected below the work spindle 9.
1, the work holder 10 is rotated.

【0026】ワーク保持具10には、光学曲面1aを上
に向けてワーク1が着脱自在に取り付け可能となってい
る。ワーク1の着脱は、開閉自在な保持チャック(図示
省略)をワーク1の外周方向から進退させることにより
行うようになっている。
The work 1 can be removably attached to the work holder 10 with the optical curved surface 1a facing upward. The work 1 is attached and detached by moving a holding chuck (not shown) that can be freely opened and closed from the outer circumferential direction of the work 1.

【0027】上記X軸機構部2の基台2b上には、X軸
機構部2の移動テーブル2aの後方において、Z軸機構
部12の一部を構成するスタンド13が立設されてい
る。Z軸機構部12は、ワーク保持具10に取り付けた
ワーク1の光学曲面1aを研磨加工するポリシャ21を
有する研磨ヘッド20を上下方向(Z軸方向)に移動す
るもので、上記スタンド13と、このスタンド13の上
側両側面に対で配設したガイド14と、このガイド14
に案内されて上下方向に移動するスライド板15とを備
えている。すなわち、Z軸機構部12は、ポリシャ21
を光学曲面1aに対して当接または離反するように移動
させる移動手段を構成している。
On the base 2b of the X-axis mechanism 2, a stand 13 constituting a part of the Z-axis mechanism 12 is provided upright behind the moving table 2a of the X-axis mechanism 2. The Z-axis mechanism 12 moves the polishing head 20 having a polisher 21 for polishing the optical curved surface 1a of the work 1 attached to the work holder 10 in the vertical direction (Z-axis direction). A pair of guides 14 provided on both upper side surfaces of the stand 13,
And a slide plate 15 that is guided in the vertical direction and moves vertically. That is, the Z-axis mechanism 12 is
Of the optical curved surface 1a so as to contact or separate from the optical curved surface 1a.

【0028】スタンド13の上端には、取付台16bを
介してモータ16が取り付けられている。モータ16の
駆動軸には、スライド板15に螺合するボールネジ16
aがZ軸方向に延在するように接続されており、スライ
ド板15の上下動はモータ16の駆動によるボールネジ
16aの回転により行われる。
A motor 16 is mounted on the upper end of the stand 13 via a mounting 16b. The drive shaft of the motor 16 has a ball screw 16 screwed to the slide plate 15.
is connected so as to extend in the Z-axis direction, and the vertical movement of the slide plate 15 is performed by the rotation of a ball screw 16 a driven by a motor 16.

【0029】スライド板15には、静圧スライド18が
底板17を介して取り付けられている。静圧スライド1
8には、スライド板15と同じZ軸方向に移動可能なス
ライダ18aが設けられており、このスライダ18aの
前面には、保持台19を介してポリシャ21を先端に備
えた研磨ヘッド20が光学曲面1aの球心Oに向かうよ
うに固定されている。静圧スライド18は、図示しない
静圧制御装置により作動されるとともに、研磨加工時に
は、加工圧力を一定に制御するようにした定圧倣い制御
装置18bによりスライダ18aを介して研磨ヘッド2
0をワーク1に対して常に一定の荷重を付加するように
制御されている。ここにスライダ18aは研磨ヘッド2
0を配設してポリシャ21を光学曲面1aの法線方向に
押圧する押圧手段を構成している。
A static pressure slide 18 is mounted on the slide plate 15 via a bottom plate 17. Static pressure slide 1
8 is provided with a slider 18a that can move in the same Z-axis direction as the slide plate 15, and a polishing head 20 having a polisher 21 at the front end via a holding table 19 is optically mounted on the front surface of the slider 18a. It is fixed so as to face the spherical center O of the curved surface 1a. The static pressure slide 18 is operated by a static pressure control device (not shown), and at the time of polishing, the polishing head 2 is controlled via a slider 18a by a constant pressure copying control device 18b which controls the processing pressure to be constant.
0 is controlled so that a constant load is always applied to the work 1. Here, the slider 18a is the polishing head 2
0 is provided to constitute a pressing means for pressing the polisher 21 in the normal direction of the optical curved surface 1a.

【0030】研磨ヘッド20は、工具べース22とポリ
シャ軸23を有している。工具べース22は、図3に示
すように、略上側半分が大径部22aで略下側半分の先
端側が細径の先端部軸22bからなっており、大径部2
2aが保持台19に固定されている。研磨ヘッド20の
回転中心軸である工具べース22の中心部には、大径部
22aと先端部軸22bの内部をZ軸方向に貫通した中
空穴24が設けられている。
The polishing head 20 has a tool base 22 and a polisher shaft 23. As shown in FIG. 3, the tool base 22 has a large-diameter portion 22a in the upper half and a small-diameter tip shaft 22b in the lower half.
2 a is fixed to the holding table 19. At the center of the tool base 22, which is the rotation center axis of the polishing head 20, there is provided a hollow hole 24 penetrating through the inside of the large-diameter portion 22a and the tip shaft 22b in the Z-axis direction.

【0031】ポリシャ軸23は、工具べース22の先端
部軸22bを挿入可能な穴部を有しており、スペーサ2
5により上下方向に配置したベアリング26を介して先
端部軸22bに回転可能に取り付けられている。ベアリ
ング26はポリシャ軸23に取り付けた固定リング27
により保持されている。ポリシャ軸23の先端には、リ
ング状のポリシャ21が保持されている。ポリシャ21
は円柱形状で、その中心部には工具べース22の先端部
軸22bを挿入可能な穴が設けられている。このポリシ
ャ21は弾性体からなっているが、固定砥粒、固形研磨
部材であってもよい。
The polisher shaft 23 has a hole into which the tip shaft 22b of the tool base 22 can be inserted.
5 is rotatably attached to the distal end shaft 22b via bearings 26 arranged vertically. The bearing 26 is a fixing ring 27 attached to the polisher shaft 23.
Is held by A ring-shaped polisher 21 is held at the tip of the polisher shaft 23. Polisher 21
Is a columnar shape, and has a hole at the center thereof into which a tip shaft 22b of the tool base 22 can be inserted. The polisher 21 is made of an elastic material, but may be a fixed abrasive or a solid abrasive member.

【0032】ポリシャ軸23の外周には、ポリシャ21
を回転させる回転手段としてのモータ28の駆動軸に巻
回したベルト29が巻き付けられており、モータ28で
ポリシャ軸23と一緒にポリシャ21を回転可能となっ
ている。モータ28はスライダ18aに固定されてい
る。
A polisher 21 is provided on the outer periphery of the polisher shaft 23.
A belt 29 is wound around a drive shaft of a motor 28 as a rotating means for rotating the polisher 21. The motor 28 can rotate the polisher 21 together with the polisher shaft 23. The motor 28 is fixed to the slider 18a.

【0033】上記工具べース22の中空穴24内には、
先端部軸22bの先端側に非接触変位計30がポリシャ
軸23の回転とは独立して固持されている。非接触変位
計30の先端は、ポリシャ21の研磨面(先端面)より
も後退した位置に設定されており、ワーク1の光学曲面
1aとは非接触状態に配置されている。この非接触変位
計30には静容量タイプを用い、非接触状態でワーク1
の光学曲面1aとの距離を測定可能となっている。そし
て、非接触変位計30から検出される信号は、コード3
1を介してアンプ32により検出され、そのデータはC
PU33に取り込まれる。
In the hollow hole 24 of the tool base 22,
A non-contact displacement meter 30 is fixed to the distal end side of the distal end shaft 22b independently of the rotation of the polisher shaft 23. The tip of the non-contact displacement meter 30 is set at a position retracted from the polished surface (tip surface) of the polisher 21, and is arranged in a non-contact state with the optical curved surface 1 a of the work 1. The non-contact displacement meter 30 is of a static capacity type, and the work 1
Can be measured with respect to the optical curved surface 1a. The signal detected from the non-contact displacement meter 30 is a code 3
1 and detected by the amplifier 32, and the data
It is taken into the PU33.

【0034】次に、上記構成からなる研磨装置の作用を
説明する。研磨ヘッド20が研磨加工する際にワーク1
の光学曲面1aを走査する軌跡は、ワーク1の加工形状
によりCPU33がX軸機構部2、θ軸機構部5および
Z軸機構部12を同時制御するNCプログラムによるも
のであり、同時にその軌跡を走査した時のワーク1の光
学曲面1aと非接触変位計30との距離は、ワーク1の
光学曲面1aが所望の曲率に加工されたときに所定の距
離になるように、あらかじめ目標値として算出してお
く。したがって、ワーク1の加工前では、光学曲面1a
と非接触変位計30との距離は長く、ワーク1が所望の
曲率になったときは目標値になる。すなわち、非接触変
位計30の先端とポリシャ21の研磨面との間の距離が
目標値になったとき、ワーク1の光学曲面1aが所望の
曲率に加工されるようになっている。
Next, the operation of the polishing apparatus having the above configuration will be described. When the polishing head 20 performs polishing, the work 1
The trajectory for scanning the optical curved surface 1a is based on an NC program in which the CPU 33 simultaneously controls the X-axis mechanism 2, the θ-axis mechanism 5, and the Z-axis mechanism 12 according to the processing shape of the workpiece 1. The distance between the optical curved surface 1a of the work 1 and the non-contact displacement meter 30 at the time of scanning is calculated as a target value in advance so that the optical curved surface 1a of the work 1 becomes a predetermined distance when the optical curved surface 1a is processed into a desired curvature. Keep it. Therefore, before machining the work 1, the optical curved surface 1a
The distance between the workpiece 1 and the non-contact displacement meter 30 is long, and becomes a target value when the workpiece 1 has a desired curvature. That is, when the distance between the tip of the non-contact displacement meter 30 and the polished surface of the polisher 21 reaches a target value, the optical curved surface 1a of the work 1 is processed to have a desired curvature.

【0035】まず、被加工物であるワーク1をワーク保
持具10に固定する。次に、あらかじめ設定したNCプ
ログラムをCPU33により実行することにより、モー
タ11によりワークスピンドル9を介してワーク保持具
10およびモータ28によりベルト29を介してポリシ
ャ軸23をそれぞれ回転させ、ワーク1およびポリシャ
21の双方を回転させながらポリシャ21の研磨面をワ
ーク1の光学曲面1aに当接させる。この時、研磨ヘッ
ド20の研磨圧は、定圧倣い制御装置18bが作動して
スライダ18aにより一定の圧力が与えられる。そし
て、この状態で、X軸機構部2、θ軸機構部5およびZ
軸機構部12を同時制御し、ワーク1の光学曲面1aに
対して所望の光学曲面1aとなるようにポリシャ21に
より研磨を進める。
First, the work 1 which is a workpiece is fixed to the work holder 10. Next, by executing a preset NC program by the CPU 33, the work holder 10 is rotated by the motor 11 via the work spindle 9 and the polisher shaft 23 is rotated by the motor 28 via the belt 29, respectively. The polished surface of the polisher 21 is brought into contact with the optically curved surface 1a of the workpiece 1 while rotating both of them. At this time, a constant pressure is applied to the polishing pressure of the polishing head 20 by the slider 18a by the operation of the constant pressure copying control device 18b. Then, in this state, the X-axis mechanism 2, the θ-axis mechanism 5, and the Z-axis mechanism 5
The shaft mechanism 12 is simultaneously controlled, and polishing is advanced by the polisher 21 so that the optical curved surface 1a of the work 1 becomes a desired optical curved surface 1a.

【0036】この研磨加工中において、研磨ヘッド20
内に配置した非接触変位計30は、研磨しているワーク
1の光学曲面1aとの距離を検出し、アンプ32を介し
てCPU33に転送する。一度研磨が終了すると、CP
U33に転送された変位が所望の変位(目標値)になっ
ているか算出し、所望の変位になるようにCPU33に
よりNCプログラムを補正して繰り返し研磨加工を行
う。
During the polishing, the polishing head 20
The non-contact displacement meter 30 disposed in the inside detects the distance from the optical curved surface 1a of the workpiece 1 being polished, and transfers the distance to the CPU 33 via the amplifier 32. Once polishing is completed, CP
It is calculated whether the displacement transferred to U33 is a desired displacement (target value), and the NC program is corrected by the CPU 33 so that the desired displacement is obtained, and polishing is repeatedly performed.

【0037】本実施の形態によれば、ワーク1の光学曲
面1aを研磨ヘッド20に備えたポリシャ21で研磨し
つつ、研磨ヘッド20の内部に配置した非接触変位計3
0によりワーク1の光学曲面1aとの距離を検出し、そ
のデータを基に研磨条件の最適化をしながら、光学曲面
1aの研磨を行うことができる。そのため、研磨加工中
に、ワーク保持具10からワーク1を取り外すことな
く、ワーク1にポリシャ21に当接させた状態で、ワー
ク1の光学曲面1aの形状測定を行う回数を最小限に抑
えることができるため、研磨加工時間の短縮化を図って
効率良く研磨でき、加工コストの低減を図ることができ
る。
According to the present embodiment, the non-contact displacement meter 3 disposed inside the polishing head 20 while polishing the optical curved surface 1a of the work 1 with the polisher 21 provided on the polishing head 20.
The distance from the optical curved surface 1a of the work 1 is detected based on 0, and the optical curved surface 1a can be polished while optimizing the polishing conditions based on the data. Therefore, the number of times the shape measurement of the optical curved surface 1a of the work 1 is performed while the work 1 is in contact with the polisher 21 without removing the work 1 from the work holder 10 during the polishing process is minimized. Therefore, polishing can be efficiently performed by shortening the polishing processing time, and the processing cost can be reduced.

【0038】[実施の形態2]本発明の実施の形態2を
図4,5に基づいて説明する。図4,5は本実施の形態
が適用された研磨装置を示すもので、図4は正面図、図
5は図4の左側面図である。なお、実施の形態1と同一
の要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
Second Embodiment A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5 show a polishing apparatus to which the present embodiment is applied. FIG. 4 is a front view, and FIG. 5 is a left side view of FIG. The same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0039】本実施の形態の研磨装置には、静圧スライ
ド18に設けられZ軸方向に移動可能なスライダ18a
の前面に保持台39を介して研磨ヘッド40が設けられ
ている。この研磨ヘッド40は、ワーク1の回転中心軸
4に対し、Y軸方向に略45°傾けた状態で配設されて
いる。研磨ヘッド40の内部には、図示しないモータが
設けられている。このモータの駆動軸41の先端には、
ワーク1の光学曲面1aに当接して研磨加工する球体状
のポリシャ42が取り付けられており、モータの駆動に
よりポリシャ42は回転軸43を中心に回転可能となっ
ている。
The polishing apparatus according to the present embodiment has a slider 18a provided on the static pressure slide 18 and movable in the Z-axis direction.
A polishing head 40 is provided on the front surface of the device via a holding table 39. The polishing head 40 is disposed so as to be inclined at approximately 45 ° in the Y-axis direction with respect to the rotation center axis 4 of the work 1. A motor (not shown) is provided inside the polishing head 40. At the tip of the drive shaft 41 of this motor,
A spherical polisher 42, which is in contact with the optical curved surface 1a of the work 1 and is polished, is attached. The polisher 42 is rotatable about a rotation shaft 43 by driving a motor.

【0040】また、研磨ヘッド40のポリシャ42付近
には、ポリシャ42を挟んで研磨ヘッド40の走査方向
の前後であるX軸方向に一対の非接触変位計44,45
が配設されている。この一対の非接触変位計44,45
は、スライダ18aの前面に固定されたL字保持台46
に取り付けられてポリシャ42と並列に配置されてい
る。一対の非接触変位計44,45は、ワーク1の光学
曲面1aとの距離を非接触でそれぞれ測定し、その信号
はそれぞれに接続した図示しない2つのアンプを介して
図示しないCPUに取り込まれるようになっている。
In the vicinity of the polisher 42 of the polishing head 40, a pair of non-contact displacement meters 44 and 45 are arranged in the X-axis direction which is before and after the polishing head 40 in the scanning direction of the polishing head 40.
Are arranged. The pair of non-contact displacement meters 44 and 45
Is an L-shaped holder 46 fixed to the front surface of the slider 18a.
And are arranged in parallel with the polisher 42. The pair of non-contact displacement meters 44 and 45 each measure the distance to the optical curved surface 1a of the work 1 in a non-contact manner, and the signals are taken into a CPU (not shown) via two amplifiers (not shown) connected to the respective sensors. It has become.

【0041】次に、上記構成からなる研磨装置の作用を
説明する。ワーク1を研磨する動作は、上記実施の形態
1と同様であるので、その説明を省略する。この時、ポ
リシャ42が研磨加工するワーク1の光学曲面1aの前
後を、一対の非接触変位計44,45で光学曲面1aと
の距離を検出する。
Next, the operation of the polishing apparatus having the above configuration will be described. The operation of polishing the work 1 is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted. At this time, a pair of non-contact displacement meters 44 and 45 detect the distance from the optical curved surface 1a before and after the optical curved surface 1a of the workpiece 1 to be polished by the polisher 42.

【0042】本実施の形態によれば、一対の非接触変位
計44,45は、ポリシャ42がワーク1の光学曲面1
aを加工する走査方向の前後に配置されているので、未
加工部表面と加工完了状態の表面との距離を検出するこ
とができる。したがって、研磨状態が所望の精度になる
か、具体的には走査方向の前後の表面における差が小さ
くなって一致するか、あるいは所定の範囲内に収まって
いるか、などをリアルタイムに検出することができる。
これにより、高精度な研磨加工が可能になるとともに、
実施の形態1と同様に研磨加工の効率を向上させること
ができ、加工コストの低減を図ることができる。
According to the present embodiment, the pair of non-contact displacement gauges 44 and 45 are configured such that the polisher 42
Since a is arranged before and after in the scanning direction for processing a, it is possible to detect the distance between the surface of the unprocessed portion and the surface in the completed state. Therefore, it is possible to detect in real time whether the polishing state has a desired accuracy, specifically, whether the difference between the front and rear surfaces in the scanning direction is small and coincides with each other, or whether the polishing state is within a predetermined range. it can.
This enables high-precision polishing,
As in the first embodiment, the efficiency of the polishing process can be improved, and the processing cost can be reduced.

【0043】[実施の形態3]本発明の実施の形態3を
図6,7に基づいて説明する。図6,7は本実施の形態
が適用された研磨装置を示すもので、図6は正面図、図
7は研磨ヘッドの要部断面図である。なお、実施の形態
1と同一の要素には同一の符号を付し、その説明を省略
する。
Third Embodiment A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7 show a polishing apparatus to which the present embodiment is applied. FIG. 6 is a front view, and FIG. 7 is a sectional view of a main part of a polishing head. The same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0044】本実施の形態の研磨装置には、実施の形態
1と同様に、Z軸方向に移動可能なスライダ18aの前
面に研磨ヘッド20が取り付けられている。研磨ヘッド
20は、図7に示すように、実施の形態1と同様に構成
されている。本実施の形態では、研磨ヘッド20の中央
部に設けた中空穴24は、上下に貫通している状態とな
っている。研磨ヘッド20の中空穴24の上方には、ス
ライダ18aの前面に固定したレーザー測長器48が配
置されている。なお、レーザー測長器48は研磨ヘッド
20の上端に直接取り付け、中空穴24の上方に配置し
てもよい。
In the polishing apparatus of this embodiment, a polishing head 20 is mounted on the front surface of a slider 18a movable in the Z-axis direction, as in the first embodiment. The polishing head 20 has the same configuration as that of the first embodiment, as shown in FIG. In the present embodiment, the hollow hole 24 provided in the center of the polishing head 20 is vertically penetrated. Above the hollow hole 24 of the polishing head 20, a laser length measuring device 48 fixed to the front surface of the slider 18a is arranged. The laser length measuring device 48 may be directly attached to the upper end of the polishing head 20 and may be disposed above the hollow hole 24.

【0045】次に、上記構成からなる研磨装置の作用を
説明する。ワーク1を研磨する動作は、上記実施の形態
1と同様であるので、その説明を省略する。研磨時、レ
ーザー測長器48からレーザー光を中空穴24を通して
ワーク1の光学曲面1aに照射し、光学曲面1aまでの
距離を検出する。
Next, the operation of the polishing apparatus having the above configuration will be described. The operation of polishing the work 1 is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted. At the time of polishing, a laser beam is radiated from the laser length measuring device 48 to the optical curved surface 1a of the work 1 through the hollow hole 24, and the distance to the optical curved surface 1a is detected.

【0046】本実施の形態によれば、実施の形態1と同
様に、ワーク1の光学曲面1aをポリシャ21で研磨し
つつ、レーザー測長器48によりワーク1の光学曲面1
aとの距離を検出し、そのデータを基に研磨条件の最適
化をしながら、光学曲面1aの研磨を行うことができ
る。そのため、研磨加工中に、ワーク保持具10からワ
ーク1を取り外すことなく、ワーク1の光学曲面1aの
形状測定を行う回数を最小限に抑えることができるた
め、研磨加工時間の短縮化を図って効率良く研磨でき、
加工コストの低減を図ることができる。
According to the present embodiment, the optical curved surface 1a of the work 1 is polished by the polisher 21 and the optical curved surface 1a of the work 1 is
The optical curved surface 1a can be polished while detecting the distance to a and optimizing the polishing conditions based on the data. Therefore, the number of times the shape measurement of the optical curved surface 1a of the work 1 is performed can be minimized without removing the work 1 from the work holding tool 10 during the polishing process. Can be polished efficiently,
Processing cost can be reduced.

【0047】なお、上記実施の形態1,2,3において
は、ワーク1の光学曲面1aが回転軸対称の曲面形状を
研磨加工する場合を説明したが、これに限らず、対称軸
を持たない回転軸非対称の曲面形状についても、X軸機
構部2、Y軸機構部3、θ軸機構部5およびZ軸機構部
12のNC制御により研磨することができ、実施の形態
1と同様な効果を得ることができる。
In the first, second, and third embodiments, the case where the optically curved surface 1a of the work 1 is polished to have a curved surface symmetrical with respect to the rotational axis has been described. A curved surface having an asymmetrical rotation axis can be polished by NC control of the X-axis mechanism unit 2, the Y-axis mechanism unit 3, the θ-axis mechanism unit 5, and the Z-axis mechanism unit 12, and the same effect as in the first embodiment can be obtained. Can be obtained.

【0048】なお、上記した具体的実施の形態から次の
ような構成の技術的思想が導き出される。 (付記) (1)ワーク保持具に取り付けられた被加工物の光学曲
面を研磨する研磨方法において、前記光学曲面を研磨ヘ
ッドに備えたポリシャで研磨しつつ、研磨ヘッドに配置
した非接触変位計により光学曲面と非接触変位計との距
離を測定し、そのデータを基に研磨ヘッドの滞留時間を
補正し光学曲面を所望の形状に研磨することを特徴とす
る研磨方法。
The technical idea having the following configuration is derived from the above-described specific embodiment. (Supplementary Note) (1) In a polishing method for polishing an optical curved surface of a workpiece attached to a work holder, a non-contact displacement meter arranged on a polishing head while polishing the optical curved surface with a polisher provided in the polishing head. And measuring the distance between the optical curved surface and the non-contact displacement meter, and correcting the residence time of the polishing head based on the data to polish the optical curved surface into a desired shape.

【0049】付記(1)の研磨方法によれば、非接触変
位計により研磨加工している光学曲面との距離を測定す
ることで、被加工物を研磨装置から取り外すこと無く被
加工物の光学曲面を所望の形状に研磨することができ、
研磨の効率化を図ることができる。
According to the polishing method described in the appendix (1), by measuring the distance from the optically curved surface being polished by the non-contact displacement meter, the optics of the workpiece can be removed without removing the workpiece from the polishing apparatus. The curved surface can be polished to the desired shape,
Polishing efficiency can be improved.

【0050】[0050]

【発明の効果】請求項1の研磨装置によれば、ポリシャ
を回転させる回転手段により研磨ヘッドに備えたポリシ
ャを回転し、移動手段によりポリシャを被加工物の光学
曲面に当接させるとともに、押圧手段により一定の加工
圧力をポリシャに付加して光学曲面を研磨する際、非接
触変位計により光学曲面との距離を検出することでき
る。そのため、ワーク保持具から被加工物を取り外すこ
となく加工時の光学曲面の形状変位を測定しながら、光
学曲面を研磨することができ、研磨の効率化を図ること
ができる。
According to the polishing apparatus of the first aspect, the polisher provided on the polishing head is rotated by the rotating means for rotating the polisher, and the polisher is brought into contact with the optical curved surface of the workpiece by the moving means, and is pressed. When the optical curved surface is polished by applying a constant processing pressure to the polisher by the means, the distance from the optical curved surface can be detected by a non-contact displacement meter. Therefore, the optical curved surface can be polished while measuring the shape displacement of the optical curved surface at the time of processing without removing the workpiece from the work holder, and the polishing efficiency can be improved.

【0051】また、請求項2の研磨装置は、請求項1の
効果に加えて、研磨ヘッドの走査方向の前後に各々配置
した非接触変位計により、光学曲面上の未研磨面部と済
研磨面部の両方の面との距離を検出し、研磨状況をリア
ルタイムで把握しつつ研磨することができる。
In the polishing apparatus according to the second aspect, in addition to the effect of the first aspect, the non-polished surface portion and the polished surface portion on the optical curved surface are provided by non-contact displacement meters respectively disposed before and after in the scanning direction of the polishing head. Can be polished while detecting the distance to both surfaces and grasping the polishing state in real time.

【0052】さらに、請求項3の研磨装置は、研磨ヘッ
ドの回転軸に中空穴を設け、この中空穴の上方にレーザ
ー測長器からレーザー光を中空穴を介して光学曲面に照
射して光学曲面との距離を測定することで、請求項1と
同様な効果を得ることができる。
Further, in the polishing apparatus according to the third aspect, a hollow hole is provided in the rotating shaft of the polishing head, and a laser beam is irradiated from a laser length measuring device onto the optical curved surface through the hollow hole above the hollow hole. By measuring the distance to the curved surface, the same effect as in claim 1 can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1が適用された研磨装置を
示す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing a polishing apparatus to which Embodiment 1 of the present invention is applied.

【図2】本発明の実施の形態1が適用された研磨装置を
示す左側面図である。
FIG. 2 is a left side view showing the polishing apparatus to which Embodiment 1 of the present invention is applied.

【図3】本発明の実施の形態1が適用された研磨装置の
研磨ヘッドを示す要部断面図である。
FIG. 3 is a fragmentary cross-sectional view showing a polishing head of the polishing apparatus to which Embodiment 1 of the present invention is applied.

【図4】本発明の実施の形態2が適用された研磨装置を
示す正面図である。
FIG. 4 is a front view showing a polishing apparatus to which Embodiment 2 of the present invention is applied.

【図5】本発明の実施の形態2が適用された研磨装置を
示す左側面図である。
FIG. 5 is a left side view showing a polishing apparatus to which Embodiment 2 of the present invention is applied.

【図6】本発明の実施の形態3が適用された研磨装置を
示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing a polishing apparatus to which a third embodiment of the present invention is applied.

【図7】本発明の実施の形態3が適用された研磨装置の
研磨ヘッドを示す要部断面図である。
FIG. 7 is a fragmentary cross-sectional view showing a polishing head of a polishing apparatus to which Embodiment 3 of the present invention has been applied.

【図8】従来の研磨装置を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a conventional polishing apparatus.

【図9】従来の研磨装置の要部断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a main part of a conventional polishing apparatus.

【図10】従来の研磨装置を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a conventional polishing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ワーク 1a 光学曲面 2 X軸機構部 3 Y軸機構部 5 θ軸機構部 12 Z軸機構部 18 静圧スライド 18a スライダ 18b 定圧倣い制御装置 20,40 研磨ヘッド 21 ポリシャ 28 モータ 29 ベルト 30,44,45 非接触変位計 48 レーザー測長器 Reference Signs List 1 work 1a optical curved surface 2 X-axis mechanism 3 Y-axis mechanism 5 θ-axis mechanism 12 Z-axis mechanism 18 Static pressure slide 18a Slider 18b Constant-pressure copying controller 20, 40 Polishing head 21 Polisher 28 Motor 29 Belt 30, 44 , 45 Non-contact displacement meter 48 Laser length measuring instrument

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワーク保持具に取り付けられた被加工物
の光学曲面を研磨する研磨装置において、 前記被加工物の光学曲面を回転しながら加工するポリシ
ャを先端に備えた研磨ヘッドと、 前記研磨ヘッドを配設して前記ポリシャを光学曲面の法
線方向に押圧する押圧手段と、 前記ポリシャを回転させる回転手段と、 前記押圧手段に配設した研磨ヘッドに備えたポリシャを
被加工物の光学曲面に対して当接または離反するように
移動させる移動手段と、 前記研磨ヘッドまたは研磨ヘッドを配設した押圧手段に
取り付けられて研磨ヘッドとともに移動する非接触変位
計と、を備え、光学曲面に前記ポリシャが当接している
状態で、光学曲面と非接触変位計との距離を測定して光
学曲面の形状を測定することを特徴とする研磨装置。
1. A polishing apparatus for polishing an optical curved surface of a workpiece attached to a workpiece holder, the polishing head having a polisher at a tip for rotating and processing the optical curved surface of the workpiece; Pressing means for disposing a head and pressing the polisher in the normal direction of the optical curved surface; rotating means for rotating the polisher; A moving means for moving so as to abut or separate from the curved surface, and a non-contact displacement meter attached to the polishing head or a pressing means provided with the polishing head and moved together with the polishing head; A polishing apparatus for measuring a shape of an optical curved surface by measuring a distance between an optical curved surface and a non-contact displacement meter while the polisher is in contact with the polishing machine.
【請求項2】 前記非接触変位計は、前記研磨ヘッドの
走査方向の前後に各々配置したことを特徴とする請求項
1記載の研磨装置。
2. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the non-contact displacement meters are respectively arranged before and after in a scanning direction of the polishing head.
【請求項3】 前記研磨ヘッドの回転中心軸に中空穴を
設け、この中空穴の上方にレーザー測長器を配置したこ
とを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
3. The polishing apparatus according to claim 1, wherein a hollow hole is provided in a rotation center axis of the polishing head, and a laser length measuring device is disposed above the hollow hole.
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