JP2001300838A - Large ultraprecise elid aspherical work device - Google Patents

Large ultraprecise elid aspherical work device

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JP2001300838A
JP2001300838A JP2000123634A JP2000123634A JP2001300838A JP 2001300838 A JP2001300838 A JP 2001300838A JP 2000123634 A JP2000123634 A JP 2000123634A JP 2000123634 A JP2000123634 A JP 2000123634A JP 2001300838 A JP2001300838 A JP 2001300838A
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JP
Japan
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axis
elid
precision
grindstone
axis direction
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Application number
JP2000123634A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Omori
整 大森
Yutaka Yamagata
豊 山形
Kiyoshi Moriyasu
精 守安
Imin Hayashi
偉民 林
Shinya Morita
晋也 森田
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RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a large ultraprecise ELID aspherical work device capable of highly accurately holding a relative position of a workpiece and a tool by minimizing deformation by work resistance and influence of thermal expansion, capable of polishing and shape measurement on a machine without removing and installing the workpiece and capable of highly accurately and highly efficiently working a large ultraprecise X-ray mirror in excellent surface roughness. SOLUTION: This large ultraprecise ELID aspherical work device is provided with a machine bed 12 having a horizontal upper surface and being slender in the X axis direction, an X axis table 14 installed on the machine bed and numerically controllable in the X axis direction by fixing the workpiece 4 to the upper surface, a gate-shaped fixed column 16 extending in the horizontal Y axis direction orthogonal to the X axis by striding over the X axis table and having both leg parts fixed to the machine bed, a Y axis stage 18 installed on the gate-shaped fixed column and numerically controllable in the Y axis direction, a Z axis column 20 suspended by the Y axis stage and numerically controllable in the vertical Z axis direction, an ELID grinding attachment 22 installed on the Z axis column, a polishing device 24 and a shape measuring device 26.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大型超精密ELI
D非球面加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a large ultra-precision ELI.
The present invention relates to a D aspherical surface processing device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の科学技術の発展に伴って、超精密
加工への要求は飛躍的に高度化しつつあり、この要求を
満たす鏡面研削手段として、電解インプロセスドレッシ
ング研削法(Electrolytic In-pro
cess Dressing:ELID研削法)が本願
出願人等により開発され、発表されている(理研シンポ
ジウム「鏡面研削の最新技術動向」、平成3年3月5日
開催)。
2. Description of the Related Art With the development of science and technology in recent years, the demand for ultra-precision machining has been drastically enhanced, and as a mirror surface grinding means that meets this demand, an electrolytic in-process dressing grinding method (Electrolytic In-pro
ESS Dressing: ELID grinding method) has been developed and published by the applicant of the present invention (RIKEN symposium “Latest Technology Trend of Mirror Surface Grinding”, held on March 5, 1991).

【0003】このELID研削法は、図6に模式的に示
すように、従来の電解研削における電極に代えて導電性
砥石1を用い、かつこの砥石と隙間(ギャップ)を隔て
て対向する電極2を設け、砥石と電極との間に導電性液
3を流しながら砥石1と電極2との間に電圧を印加し、
砥石を電解によりドレッシングしながら、砥石によりワ
ークを研削するものである。すなわち、メタルボンド砥
石1を陽極、砥石表面にギャップを隔てて対設された電
極2を陰極とし、研削作業と同時に砥石の電解ドレッシ
ングを行うことにより、研削性能を維持・安定させるこ
とのできる研削法である。なお、この図において、4は
ワーク(被研削材)、5はELID電源、6は給電体、
7は導電性液のノズルである。
In this ELID grinding method, as schematically shown in FIG. 6, an electroconductive grinding wheel 1 is used in place of an electrode in a conventional electrolytic grinding, and an electrode 2 opposed to the grinding wheel with a gap therebetween. And applying a voltage between the grinding wheel 1 and the electrode 2 while flowing the conductive liquid 3 between the grinding wheel and the electrode,
The work is ground by the grindstone while dressing the grindstone by electrolysis. In other words, by using the metal bond grindstone 1 as an anode and the electrode 2 opposed to the grindstone surface with a gap therebetween as a cathode and performing the electrolytic dressing of the grindstone at the same time as the grinding operation, the grinding performance can be maintained and stabilized. Is the law. In this drawing, reference numeral 4 denotes a work (material to be ground), 5 denotes an ELID power supply, 6 denotes a power supply,
Reference numeral 7 denotes a conductive liquid nozzle.

【0004】このELID研削法では砥粒を細かくして
も電解ドレッシングにより砥粒の目立てにより砥石の目
詰まりが生じないので、砥粒を細かくすることにより鏡
面のような極めて優れた加工面を研削加工により得るこ
とができる。従って、ELID研削法は、高能率研削か
ら鏡面研削に至るまで砥石の切れ味を維持でき、かつ従
来技術では不可能であった高精度な表面を短時間に創成
できる手段として、種々の研削加工への適用が期待され
ている。
In this ELID grinding method, even if the abrasive grains are made fine, clogging of the grindstone does not occur due to the sharpening of the abrasive grains by electrolytic dressing. Therefore, by grinding the abrasive grains, an extremely excellent processed surface such as a mirror surface is ground. It can be obtained by processing. Therefore, the ELID grinding method can maintain the sharpness of the grinding wheel from high-efficiency grinding to mirror surface grinding, and can perform various grinding processes as a means that can create a highly accurate surface in a short time, which was impossible with the conventional technology. Is expected to be applied.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、大型の超精密X
線ミラーやホログラム光学素子あるいはその他の光学素
子、機械構造物、光電子デバイス(以下、大型超精密X
線ミラー等という)など大型かつ超精密な素子の加工要
求が、放射光利用施設や大型天体望遠鏡などの科学機器
分野あるいは光電子デバイス、高密度・高速情報機器、
フラットディスプレイなどの産業界で必要性が高まって
いる。
In recent years, large ultra-precision X
Line mirrors, hologram optical elements or other optical elements, mechanical structures, optoelectronic devices (hereinafter referred to as large ultra-precision X
Processing requirements for large and ultra-precision devices such as line mirrors) are increasing in the fields of scientific instruments such as synchrotron radiation facilities and large astronomical telescopes, optoelectronic devices, high-density and high-speed information devices,
There is a growing need in industries such as flat displays.

【0006】かかる大型超精密X線ミラー等は、従来の
加工手段では、ラッピング又は通常の研削により表面粗
さを加工限界であるRmax1〜2μm(1000〜2
000nm)まで加工し、次いで、ポリッシングにより
必要な表面粗さを(例えば数Å)まで仕上げる必要があ
る。しかし、ポリッシングによる取り代は、通常加工前
の表面粗さの10倍程度が必要となるため、実際には1
0〜20μmをポリッシングで加工する必要があり、ポ
リッシングによる取り代(加工量)が大きい問題点があ
った。このため、弾性変形する工具を、傷を付けないよ
うに光学素子の表面に軽く押し付け、微細砥粒を含むス
ラリーを供給して磨く従来のポリッシングでは、大型ミ
ラー表面の10〜20μmを加工するのに数カ月以上の
長期間を必要とした。
In such a large ultra-precision X-ray mirror or the like, the conventional processing means reduces the surface roughness by lapping or ordinary grinding to a processing limit of Rmax1 to 2 μm (1000 to 2 μm).
000 nm), and then polishing to the required surface roughness (for example, several Å). However, the removal allowance by polishing usually requires about 10 times the surface roughness before processing.
It is necessary to process 0 to 20 μm by polishing, and there is a problem in that the removal amount (processing amount) by polishing is large. For this reason, a tool that elastically deforms is lightly pressed against the surface of the optical element so as not to damage the surface, and a conventional polishing method in which a slurry containing fine abrasive grains is supplied and polished is used to process a large mirror surface of 10 to 20 μm. Required a long period of several months.

【0007】また、ポリッシングで10〜20μmを除
去すると、ラッピング又は研削の際の表面の加工歪みが
除去されるため、表面と基準面の形状精度が変化する問
題があり、超精密鏡面に必要な形状精度(λ/4以下)
を得るためには、ポリッシング後に基準面を再加工し、
再度ポリッシングを繰り返し、必要な精度がでるまでこ
れを繰り返す必要があった。更に、ワークの取外し/取
付けの繰り返しの際に、光学素子の基準面にズレが生じ
やすい問題があった。
[0007] Further, when 10 to 20 µm is removed by polishing, the processing distortion of the surface during lapping or grinding is removed, so that there is a problem that the shape accuracy between the surface and the reference surface changes, and the ultra-precision mirror surface is required. Shape accuracy (λ / 4 or less)
In order to obtain, after polishing, re-work the reference plane,
It was necessary to repeat the polishing again until the required precision was obtained. Further, there is a problem that the reference surface of the optical element is likely to be displaced when the work is repeatedly removed / attached.

【0008】一方、上述したELID研削法は、原理的
には、高能率かつ高精度な研削加工に適するにもかかわ
らず、これを単に大型化しても、加工抵抗による変形や
熱膨張の影響によりワークと工具の相対位置を高精度に
保持することができない問題点があった。また、このE
LID研削法を単に適用しても、上述したポリッシング
のためにワークの取外し/取付けを繰り返す必要が生
じ、この際に、光学素子の基準面にズレが生じる問題点
があった。
On the other hand, although the above-mentioned ELID grinding method is suitable in principle for high-efficiency and high-precision grinding processing, even if it is simply increased in size, it is affected by deformation due to processing resistance and thermal expansion. There was a problem that the relative position between the workpiece and the tool could not be maintained with high accuracy. In addition, this E
Even if the LID grinding method is simply applied, it is necessary to repeat the removal / attachment of the work for the above-mentioned polishing, and at this time, there has been a problem that the reference surface of the optical element is shifted.

【0009】本発明はかかる問題点を解決するために創
案されたものである。すなわち、本発明の目的は、加工
抵抗による変形や熱膨張の影響を最小限に抑えてワーク
と工具の相対位置を高精度に保持することができ、かつ
ワークの取外し/取付けを行うことなく、機上でポリッ
シング及び形状計測が可能であり、これにより、大型超
精密X線ミラー等を高精度かつ優れた表面粗さに高能率
に加工することができる大型超精密ELID非球面加工
装置を提供することにある。
The present invention has been made in order to solve such a problem. That is, an object of the present invention is to minimize the influence of deformation and thermal expansion due to machining resistance, to maintain the relative position of a work and a tool with high precision, and to perform removal / attachment of a work without removing the work. Provides a large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing device that can perform polishing and shape measurement on a machine, and thereby can efficiently process large-scale ultra-precision X-ray mirrors and the like with high accuracy and excellent surface roughness. Is to do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、水平な
上面を有するX軸方向に細長いマシーンベット(12)
と、該マシーンベット上に取り付けられ上面にワーク
(4)を固定してX軸方向にNC制御可能なX軸テーブ
ル(14)と、該X軸テーブルを跨いでX軸に直交する
水平なY軸方向に延び両脚部がマシーンベットに固定さ
れた門型固定コラム(16)と、該門型固定コラム上に
取り付けられY軸方向にNC制御可能なY軸ステージ
(18)と、該Y軸ステージに吊り下げられ鉛直なZ軸
方向にNC制御可能なZ軸コラム(20)と、該Z軸コ
ラムに取り付けられたELID研削装置(22)、ポリ
ッシング装置(24)及び形状計測装置(26)とを備
えた、ことを特徴とする大型超精密ELID非球面加工
装置が提供される。
According to the present invention, a machine bed (12) elongated in the X-axis direction having a horizontal upper surface.
An X-axis table (14) mounted on the machine bed and fixed on the upper surface to fix the work (4) and capable of performing NC control in the X-axis direction; and a horizontal Y-axis straddling the X-axis table and orthogonal to the X-axis. A gate-type fixed column (16) extending in the axial direction and having both legs fixed to a machine bed; a Y-axis stage (18) mounted on the gate-type fixed column and capable of performing NC control in the Y-axis direction; A Z-axis column (20) suspended on a stage and capable of NC control in a vertical Z-axis direction, and an ELID grinding device (22), a polishing device (24), and a shape measuring device (26) attached to the Z-axis column The present invention provides a large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus, comprising:

【0011】上記本発明の構成により、細長いマシーン
ベット(12)の幅方向に門型固定コラム(16)が固
定されたフレーム構造となっているので、フレームが高
剛性であり、かつ対称性をもった構造のため熱変形によ
る影響を最小限にとどめることができる。また、細長い
マシーンベット(12)の上にX軸テーブル(14)が
取り付けられ、門型固定コラム(16)にY軸ステージ
(18)及びZ軸コラム(20)が取り付けられている
ので、主に放射光利用施設などで利用される細長いトロ
イダル面をもったミラーなどを効率よく加工することが
できる。更に、同一のZ軸コラムにELID研削装置
(22)、ポリッシング装置(24)及び形状計測装置
(26)が取り付けられているので、ELID研削、ポ
リッシング及び形状計測を同一の機上でワークの取外し
/取付けを行うことなく、修正を加えながら繰り返すこ
とができ、大型の大型超精密X線ミラー等を高精度かつ
優れた表面粗さに高能率に加工することができる。
According to the configuration of the present invention, since the frame structure is such that the gate-shaped fixing column (16) is fixed in the width direction of the elongated machine bed (12), the frame has high rigidity and symmetry. Due to the structure, the influence of thermal deformation can be minimized. Further, the X-axis table (14) is mounted on the elongated machine bed (12), and the Y-axis stage (18) and the Z-axis column (20) are mounted on the portal fixed column (16). In addition, it is possible to efficiently process a mirror having an elongated toroidal surface used in a facility utilizing radiation light. Further, since the ELID grinding device (22), the polishing device (24), and the shape measuring device (26) are mounted on the same Z-axis column, the workpiece can be removed on the same machine by performing ELID grinding, polishing, and shape measurement. / It can be repeated while making corrections without performing mounting, and it is possible to process large and large ultra-precision X-ray mirrors and the like with high accuracy and excellent surface roughness with high efficiency.

【0012】本発明の好ましい実施形態によれば、前記
X,Y,Z軸をそれぞれ1対のV形ローラガイドで案内
する超精密V−Vローラガイドを備える。この構成によ
り、1対のV形ローラガイドでガイド精度とガイド剛性
を高め、いわゆるガタのない超精密な直進運動が可能と
なる。
According to a preferred embodiment of the present invention, there is provided an ultra-precision VV roller guide for guiding the X, Y, and Z axes by a pair of V-shaped roller guides. With this configuration, the pair of V-shaped roller guides enhances the guide accuracy and guide rigidity, and enables a super-precision linear motion without any backlash.

【0013】また、前記X,Y,Z軸をそれぞれ駆動す
るボールネジを有し、該ボールネジの少なくとも1本
は、水冷の中空に形成されている。この構成により、特
に高速駆動するボールネジ(例えばX軸)の発熱を防
ぎ、ボールネジの熱膨張による精度低下と、ワークやガ
イドの昇温による悪影響を回避することができる。
Further, the apparatus has a ball screw for driving each of the X, Y, and Z axes, and at least one of the ball screws is formed as a water-cooled hollow. With this configuration, it is possible to prevent the heat generated by the ball screw (for example, the X axis) that is driven at high speed, and to prevent the accuracy from being deteriorated due to the thermal expansion of the ball screw and the adverse effect due to the temperature rise of the work and the guide.

【0014】前記X,Y,Z軸をNC制御するNC制御
装置と、該NC制御装置とHSSB接続されたパーソナ
ルコンピュータとを備え、該パーソナルコンピュータに
NC制御用のプログラムを記憶する。この構成により、
高価なNC制御装置のメモリ容量を小さくでき、かつ汎
用のパーソナルコンピュータ(PC)により、NC制御
用プログラムのシュミレーションを自由にでき、そのバ
グを低減し、誤加工を未然に防止できる。
An NC controller for controlling the X, Y, and Z axes by NC and a personal computer connected to the NC controller by HSSB are stored in the personal computer. With this configuration,
The memory capacity of the expensive NC control device can be reduced, and the simulation of the NC control program can be freely simulated by a general-purpose personal computer (PC), thereby reducing bugs and preventing erroneous processing.

【0015】また、前記ELID研削装置(22)は、
水平又は鉛直に回転軸を変換可能な研削スピンドル(2
2a)と、該研削スピンドルに回転可能に取り付けられ
た導電性砥石(22b)と、砥石と間隔を隔てて対向す
る電極と、砥石と電極との間に導電性液を流すノズル
と、砥石と電極との間に電圧を印加する電源及び給電体
とからなり、砥石と電極との間に導電性液を流しなが
ら、砥石と電極との間に電圧を印加し、砥石を電解によ
りドレッシングしながらワーク(4)を研削するように
なっている。この構成により、研削スピンドル(22
a)の回転軸を水平又は鉛直に変換することにより、導
電性砥石(22b)として円板状砥石、ボールノーズ砥
石、その他の導電性砥石を用いることができ、種々の形
状の大型超精密X線ミラー等を、ELID研削により高
能率、高精度かつ高品質の表面粗さに研削加工すること
ができる。
Further, the ELID grinding device (22) includes:
Grinding spindle (2) that can change the axis of rotation horizontally or vertically
2a) a conductive grindstone (22b) rotatably mounted on the grinding spindle; an electrode facing the grindstone at an interval; a nozzle for flowing a conductive liquid between the grindstone and the electrode; It consists of a power supply and a power supply that applies a voltage between the electrodes, and while applying a conductive liquid between the grindstone and the electrode, while applying a voltage between the grindstone and the electrode, the grindstone is dressed by electrolysis. The work (4) is ground. With this configuration, the grinding spindle (22
By converting the rotation axis of a) to horizontal or vertical, a disc-shaped grindstone, a ball nose grindstone, or another conductive grindstone can be used as the conductive grindstone (22b). A line mirror or the like can be ground to high efficiency, high precision and high quality surface roughness by ELID grinding.

【0016】更に、前記ポリッシング装置(24)は、
下端にポリッシングパッドを有するポリッシングヘッド
(24a)と、該ポリッシングヘッドを揺動可能に支持
しながら鉛直軸を中心に回転駆動する回転駆動装置(2
4b)と、ポリッシングヘッドをワークに対して下向き
に押し付ける押付けシリンダ(24b)とからなる。こ
の構成により、押付けシリンダ(24b)でポリッシン
グヘッド(24a)を所定の押付力で押付けながら、回
転駆動装置(24b)でポリッシングヘッドを回転さ
せ、軟質のポリッシングヘッドを加工面に沿って揺動か
つ回転させて、効率的にポリッシングを行うことができ
る。
Further, the polishing apparatus (24)
A polishing head (24a) having a polishing pad at a lower end thereof; and a rotary driving device (2) for rotating the polishing head about a vertical axis while supporting the polishing head in a swingable manner.
4b) and a pressing cylinder (24b) for pressing the polishing head downward against the work. With this configuration, while the polishing head (24a) is pressed with a predetermined pressing force by the pressing cylinder (24b), the polishing head is rotated by the rotary drive device (24b), and the soft polishing head is swung along the processing surface. By rotating, polishing can be performed efficiently.

【0017】また、前記形状計測装置(26)は、下端
に球形の接触子を有するプローブ(26a)と、該プロ
ーブを上下動可能に支持して下方に付勢する付勢ガイド
装置(26b)と、プローブの位置を検出する位置検出
器(26c)とからなる。この構成により、位置検出器
(26c)に例えばレーザー式位置検出器を用い、プロ
ーブ(26a)を空気軸受で支持することにより、プロ
ーブの動特性を高め、被加工物の加工面形状を機上で高
精度に計測することができる。
The shape measuring device (26) includes a probe (26a) having a spherical contact at a lower end, and an urging guide device (26b) for supporting the probe so as to be vertically movable and urging it downward. And a position detector (26c) for detecting the position of the probe. With this configuration, for example, a laser type position detector is used for the position detector (26c), and the probe (26a) is supported by an air bearing, thereby improving the dynamic characteristics of the probe and allowing the machined surface shape of the workpiece to be machined. Can be measured with high accuracy.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を図面を参照して説明する。なお、各図において共通す
る部分には同一の符号を付して使用する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, common parts are denoted by the same reference numerals.

【0019】図1は、本発明による大型超精密ELID
非球面加工装置の全体斜視図である。この図に示すよう
に、本発明の大型超精密ELID非球面加工装置10
は、マシーンベット12、X軸テーブル14、門型固定
コラム16、Y軸ステージ18、Z軸コラム20及びZ
軸コラムに取り付けられたELID研削装置22、ポリ
ッシング装置24及び形状計測装置26からなる。ま
た、この例では、更にマシーンベット12に回転式ツル
ーア28を備え、その外周面と砥石22bとを接触させ
ることにより、砥石2の加工面をツルーイングするよう
になっている。更に、この大型超精密ELID非球面加
工装置10は図示しない恒温室内に設置し、恒温室内を
常に一定の温度に保持し、ワーク4や構成機器の熱膨張
による変位を抑え、高精度を維持するようになってい
る。
FIG. 1 shows a large super precision ELID according to the present invention.
It is the whole perspective view of an aspherical surface processing device. As shown in this figure, a large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus 10 of the present invention
Are a machine bed 12, an X-axis table 14, a gate-shaped fixed column 16, a Y-axis stage 18, a Z-axis column 20, and a Z-axis.
It comprises an ELID grinding device 22, a polishing device 24, and a shape measuring device 26 mounted on a shaft column. Further, in this example, the machine bed 12 is further provided with a rotary truer 28, and the processing surface of the grindstone 2 is trued by bringing the outer peripheral surface thereof into contact with the grindstone 22b. Further, the large-sized super-precision ELID aspherical surface processing apparatus 10 is installed in a constant temperature chamber (not shown), the constant temperature chamber is always maintained at a constant temperature, displacement due to thermal expansion of the work 4 and the components is suppressed, and high accuracy is maintained. It has become.

【0020】マシーンベット12は、水平な上面を有す
るX軸方向に水平に延びる細長い本体フレームであり、
剛性の高い一体構造になっている。X軸テーブル14
は、マシーンベット12の上に取り付けられ、その上面
にワーク4を固定してワークをX軸方向にNC制御で高
速かつ高精度に移動できるよになっている。門型固定コ
ラム16は、X軸テーブル14を跨いでX軸に直交する
水平なY軸方向に延び、両脚部がマシーンベット12に
固定されている。門型固定コラム16もマシーンベット
12と同様に本体フレームの一部であり、剛性の高い一
体構造になっている。Y軸ステージ18は、門型固定コ
ラム16のこの例では上面に取り付けられ、Y軸方向に
NC制御で高速かつ高精度に移動できるよになってい
る。Z軸コラム20は、このY軸ステージ18に吊り下
げられ、鉛直なZ軸方向にNC制御で高速かつ高精度に
移動できるよになっている。
The machine bed 12 is an elongated main body frame having a horizontal upper surface and extending horizontally in the X-axis direction.
It has an integral structure with high rigidity. X axis table 14
Is mounted on the machine bed 12, and the work 4 is fixed on the upper surface thereof so that the work can be moved at high speed and with high accuracy in the X-axis direction by NC control. The gate-shaped fixed column 16 extends in the horizontal Y-axis direction orthogonal to the X-axis across the X-axis table 14, and both legs are fixed to the machine bed 12. The gate-shaped fixed column 16 is also a part of the main body frame similarly to the machine bed 12, and has an integral structure with high rigidity. The Y-axis stage 18 is mounted on the upper surface of the portal fixed column 16 in this example, and can be moved at high speed and with high accuracy by NC control in the Y-axis direction. The Z-axis column 20 is suspended from the Y-axis stage 18 so that it can be moved at high speed and with high precision in the vertical Z-axis direction by NC control.

【0021】上述した構成により、細長いマシーンベッ
ト12の幅方向に門型固定コラム16が固定されたフレ
ーム構造となっているので、フレームが高剛性であり、
かつ対称性をもった構造のため熱変形による影響を最小
限にとどめることができる。特に、後述する実施例のよ
うに、X軸ストロークを長くし(例えば1400m
m)、Y軸とZ軸のストロークを比較的短くする(例え
ばそれぞれ550mm、200mm)ことにより、高い
フレーム剛性を保持しながら、大型の大型超精密X線ミ
ラー等(例えば主に放射光利用施設などで利用される細
長いトロイダル面をもったミラーなど)を高精度に加工
することができる。
With the above-described structure, the frame structure is such that the gate-shaped fixing column 16 is fixed in the width direction of the elongated machine bed 12, so that the frame has high rigidity.
In addition, due to the symmetrical structure, the influence of thermal deformation can be minimized. In particular, as in the embodiment described later, the X-axis stroke is increased (for example, 1400 m).
m), by making the Y-axis and Z-axis strokes relatively short (for example, 550 mm and 200 mm, respectively), while maintaining high frame rigidity, large large-scale ultra-precision X-ray mirrors etc. Mirrors with a slender toroidal surface used in such applications) can be machined with high precision.

【0022】また、X,Y,Z軸は、それぞれ図2に示
す超精密V−Vローラガイド32により直進運動を案内
されている。この超精密V−Vローラガイド32は、高
精度のニードルベアリング33で支持された1対のV形
ローラガイド34からなり、ガイド精度とガイド剛性を
高め、いわゆるガタのない超精密な直進運動を実現して
いる。更に、X,Y,Z軸をそれぞれ駆動するボールネ
ジ(図示せず)を有し、このボールネジの少なくとも1
本(例えばX軸用)は、高速駆動時の発熱を防ぎ、ボー
ルネジの熱膨張による精度低下と、ワークやガイドの昇
温による悪影響を回避するために、水冷の中空に形成さ
れている。
The X, Y, and Z axes are guided by an ultra-precision VV roller guide 32 shown in FIG. The super-precision V-V roller guide 32 is composed of a pair of V-shaped roller guides 34 supported by a high-accuracy needle bearing 33, which increases the guide accuracy and guide rigidity, and realizes an ultra-precise linear motion without play. Has been realized. Further, it has ball screws (not shown) for driving the X, Y, and Z axes, respectively.
The book (for example, for the X axis) is formed in a water-cooled hollow in order to prevent heat generation at the time of high-speed driving, to prevent a decrease in accuracy due to thermal expansion of the ball screw, and to avoid an adverse effect due to a rise in temperature of the work or guide.

【0023】また、X,Y,Z軸をNC制御するNC制
御装置(図示せず)と、このNC制御装置とHSSB接
続されたパーソナルコンピュータとを備える。このパー
ソナルコンピュータには、高価なNC制御装置のメモリ
容量を小さくし、かつ汎用のパーソナルコンピュータ
(PC)により、NC制御用プログラムのシュミレーシ
ョンを自由に行って、そのバグを低減し、誤加工を未然
に防止するために、NC制御用のプログラムが記憶され
ている。
An NC controller (not shown) for performing NC control of the X, Y, and Z axes, and a personal computer connected to the NC controller by an HSSB are provided. In this personal computer, the memory capacity of an expensive NC control device is reduced, and the NC control program is freely simulated by a general-purpose personal computer (PC) to reduce bugs and prevent erroneous processing. In order to prevent this, a program for NC control is stored.

【0024】図1において、ELID研削装置22は、
水平又は鉛直に回転軸を変換可能な研削スピンドル22
aと、研削スピンドル22aに回転可能に取り付けられ
た導電性砥石22bと、砥石と間隔を隔てて対向する電
極(図示せず)と、砥石と電極との間に導電性液を流す
ノズル(図示せず)と、砥石と電極との間に電圧を印加
する電源及び給電体(図示せず)とからなる。この構成
により、研削スピンドル22aの回転軸を水平又は鉛直
に変換することにより、導電性砥石22bとして円板状
砥石、ボールノーズ砥石、その他の導電性砥石を用いる
ことができ、種々の形状の大型超精密X線ミラー等を加
工できる。また、従来のELID研削装置と同様に、砥
石と電極との間に導電性液を流しながら、砥石と電極と
の間に電圧を印加し、砥石を電解によりドレッシングし
ながらワーク4をELID研削により高能率、高精度か
つ高品質の表面粗さに研削加工することができる。
In FIG. 1, the ELID grinding device 22 comprises:
Grinding spindle 22 that can change the axis of rotation horizontally or vertically
a, a conductive grindstone 22b rotatably mounted on the grinding spindle 22a, an electrode (not shown) facing the grindstone at an interval, and a nozzle for flowing a conductive liquid between the grindstone and the electrode (FIG. And a power supply (not shown) for applying a voltage between the grindstone and the electrode. With this configuration, by converting the rotation axis of the grinding spindle 22a to horizontal or vertical, a disc-shaped grindstone, a ball nose grindstone, and other conductive grindstones can be used as the conductive grindstones 22b. Can process ultra-precision X-ray mirrors. In addition, similarly to the conventional ELID grinding apparatus, a voltage is applied between the grindstone and the electrode while flowing a conductive liquid between the grindstone and the electrode, and the work 4 is subjected to ELID grinding while dressing the grindstone by electrolysis. Grinding can be performed with high efficiency, high precision and high quality surface roughness.

【0025】図3は、Z軸コラムに取り付けられたポリ
ッシング装置の構成図である。この図に示すように、ポ
リッシング装置24は、下端にポリッシングパッドを有
するポリッシングヘッド24aと、ポリッシングヘッド
24aを揺動可能に支持しながら鉛直軸を中心に回転駆
動する回転駆動装置24bと、ポリッシングヘッド24
aをワークに対して下向きに押し付ける押付けシリンダ
24cとからなる。回転駆動装置24bは、例えば電動
機、プーリ及びベルトで構成されている。この構成によ
り、導電性砥石22bによるELID研削後に、押付け
シリンダ24cでポリッシングヘッド24aを所定の押
付力で押付けながら、回転駆動装置24bでポリッシン
グヘッドを回転させ、軟質のポリッシングヘッドを加工
面に沿って揺動かつ回転させて、効率的にポリッシング
を行うことができる。
FIG. 3 is a configuration diagram of a polishing apparatus mounted on a Z-axis column. As shown in this figure, the polishing apparatus 24 includes a polishing head 24a having a polishing pad at a lower end, a rotation driving device 24b for rotating and driving the polishing head 24a about a vertical axis while swingably supporting the polishing head 24a, 24
and a pressing cylinder 24c for pressing a downwardly against the work. The rotation drive device 24b includes, for example, an electric motor, a pulley, and a belt. With this configuration, after the ELID grinding by the conductive grindstone 22b, the polishing head 24a is rotated by the rotation driving device 24b while pressing the polishing head 24a with a predetermined pressing force by the pressing cylinder 24c, and the soft polishing head is moved along the processing surface. By swinging and rotating, polishing can be performed efficiently.

【0026】図4は、Z軸コラムに取り付けられた形状
計測装置の構成図である。この図に示すように、形状計
測装置26は、下端に球形の接触子を有するプローブ2
6aと、プローブ26aを上下動可能に支持して下方に
付勢する付勢ガイド装置26bと、プローブ26aの位
置を検出する位置検出器26cとからなる。また、この
例では位置検出器26cは、レーザー式位置検出器であ
り、プローブ26aは空気軸受で支持されており、プロ
ーブの動特性を高め、被加工物の加工面形状を機上で高
精度に計測できるようになっている。
FIG. 4 is a configuration diagram of a shape measuring device attached to a Z-axis column. As shown in this figure, the shape measuring device 26 has a probe 2 having a spherical contact at the lower end.
6a, an urging guide device 26b that supports the probe 26a so as to be vertically movable and urges the probe 26a downward, and a position detector 26c that detects the position of the probe 26a. Further, in this example, the position detector 26c is a laser type position detector, and the probe 26a is supported by an air bearing to enhance the dynamic characteristics of the probe and to precisely process the processed surface of the workpiece on the machine. Can be measured.

【0027】[0027]

【実施例】表1は、実際に製作した大型超精密ELID
非球面加工装置の仕様である。
Table 1 shows the large ultra-precision ELID actually manufactured.
This is the specification of the aspherical surface processing device.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】この表から明らかなように、X,Y,Z軸
は、それぞれ10nmの位置決め分解能を有する。ま
た、各軸の真直度も超精密V−Vローラガイドの採用に
より、X軸で0.5μm/1400mm、Y,Z軸では
0.2μm/550mm、0.2μm/200mmを実
現している。従って、この装置により、1200mm×
500mm×200mmの大型の超精密X線ミラー等を
加工することができる。また、上述したように、この装
置は、同一のZ軸コラムにELID研削装置22、ポリ
ッシング装置24及び形状計測装置26が取り付けられ
ているので、ELID研削、ポリッシング及び形状計測
を同一の機上でワークの取外し/取付けを行うことな
く、修正を加えながら繰り返すことができ、大型の大型
超精密X線ミラー等を高精度かつ優れた表面粗さに高能
率に加工することができる。
As is clear from this table, the X, Y, and Z axes each have a positioning resolution of 10 nm. Also, the straightness of each axis is 0.5 μm / 1400 mm on the X axis and 0.2 μm / 550 mm and 0.2 μm / 200 mm on the Y and Z axes by employing the ultra-precision VV roller guide. Therefore, with this device, 1200 mm x
A large ultra-precision X-ray mirror of 500 mm × 200 mm can be processed. In addition, as described above, in this apparatus, since the ELID grinding device 22, the polishing device 24, and the shape measuring device 26 are attached to the same Z-axis column, ELID grinding, polishing, and shape measurement are performed on the same machine. The work can be repeated while making corrections without removing / attaching the work, and a large large-sized ultra-precision X-ray mirror can be machined with high precision and excellent surface roughness with high efficiency.

【0030】図5は、本発明の装置による加工制御例を
示す図であり、10nmステップの指令を繰り返したと
きのX軸のステップ移動位置を示している。この結果か
ら、10nmステップの指令値に精度よく追従している
ことがわかる。また、繰り返し位置精度も各軸とも0.
1μm以下であり、超精密加工に必要な精度を有してい
ることが確認された。
FIG. 5 is a diagram showing an example of machining control by the apparatus of the present invention, and shows a step movement position on the X-axis when a command of a 10 nm step is repeated. From this result, it can be seen that the command value accurately follows the command value in 10 nm steps. In addition, the repetition position accuracy is set to 0.
It was 1 μm or less, and it was confirmed that it had the precision required for ultra-precision processing.

【0031】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されず、本発明の要旨を逸脱しない限りで主種に変更で
きることは勿論である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be changed to a main type without departing from the gist of the present invention.

【0032】[0032]

【発明の効果】上述した大型超精密ELID非球面加工
装置により、(1)溶融石英、SiCなどの超硬質材料
によるトロイダル面などの非軸対称非球面形状の加工、
(2)単結晶ダイヤモンド工具によるホログラム光学素
子/ホログラフィックグレーティングの形成、等の加工
を行うことができる。
According to the above-described large-sized super-precision ELID aspherical surface processing apparatus, (1) processing of a non-axisymmetric aspherical surface such as a toroidal surface by using a super-hard material such as fused silica or SiC;
(2) Processing such as formation of a holographic optical element / holographic grating with a single crystal diamond tool can be performed.

【0033】また、X軸テーブル上に回転テーブルを備
え、この軸(C軸)をNC制御することにより、(3)
円筒形の大型光学素子の加工、(4)軸対称大型レンズ
/反射鏡の加工、(5)C軸を含めた4軸同時制御によ
る大型非軸対称非球面の加工等を行うこともできる。
A rotary table is provided on the X-axis table, and this axis (C-axis) is NC-controlled to obtain (3)
Processing of a large cylindrical optical element, (4) processing of an axisymmetric large lens / reflector, (5) processing of a large non-axisymmetric aspheric surface by simultaneous control of four axes including the C axis, and the like can also be performed.

【0034】従って、本発明の大型超精密ELID非球
面加工装置は、加工抵抗による変形や熱膨張の影響を最
小限に抑えてワークと工具の相対位置を高精度に保持す
ることができ、かつワークの取外し/取付けを行うこと
なく、機上でポリッシング及び形状計測が可能であり、
これにより、大型超精密X線ミラー等を高精度かつ優れ
た表面粗さに高能率に加工することができる、等の優れ
た効果を有する。
Therefore, the large super-precision ELID aspherical surface processing apparatus of the present invention can maintain the relative position of the workpiece and the tool with high precision while minimizing the influence of deformation and thermal expansion due to processing resistance, and Polishing and shape measurement are possible on the machine without removing / attaching the workpiece.
Thereby, there is an excellent effect that a large-sized ultra-precision X-ray mirror or the like can be processed with high accuracy and excellent surface roughness with high efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による大型超精密ELID非球面加工装
置の全体斜視図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus according to the present invention.

【図2】超精密V−Vローラガイドの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of an ultra-precision VV roller guide.

【図3】ポリッシング装置の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a polishing apparatus.

【図4】形状計測装置の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a shape measuring device.

【図5】本発明の装置による加工制御例を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing an example of processing control by the apparatus of the present invention.

【図6】ELID研削法の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of an ELID grinding method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 導電性砥石、2 電極、3 導電性液、4 ワーク
(被研削材)、5 ELID電源、6 給電体、7 ノ
ズル、10 大型超精密ELID非球面加工装置、12
マシーンベット、14 X軸テーブル、16 門型固
定コラム、18 Y軸ステージ、20 Z軸コラム、2
2 ELID研削装置、22a 研削スピンドル、22
b 導電性砥石、24 ポリッシング装置、24a ポ
リッシングヘッド、24b 回転駆動装置、24c 押
付けシリンダ、26 形状計測装置、26a プロー
ブ、26b 付勢ガイド装置、26c 位置検出器、2
8 回転式ツルーア、32 超精密V−Vローラガイ
ド、33 ニードルベアリング、34 V形ローラガイ
Reference Signs List 1 conductive whetstone, 2 electrodes, 3 conductive liquid, 4 work (material to be ground), 5 ELID power supply, 6 feeder, 7 nozzle, 10 large super precision ELID aspherical processing device, 12
Machine bed, 14 X-axis table, 16 fixed columns, 18 Y-axis stage, 20 Z-axis column, 2
2 ELID grinding device, 22a grinding spindle, 22
b conductive grindstone, 24 polishing device, 24a polishing head, 24b rotation drive device, 24c pressing cylinder, 26 shape measuring device, 26a probe, 26b urging guide device, 26c position detector, 2
8 rotary truer, 32 super precision V-V roller guide, 33 needle bearing, 34 V-type roller guide

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守安 精 東京都板橋区加賀2−20−3 ハイコーポ 十条403 (72)発明者 林 偉民 埼玉県浦和市下大久保716−1−203 (72)発明者 森田 晋也 東京都板橋区板橋4−46−9 パークハイ ツ202 Fターム(参考) 3C029 BB01 3C047 AA13 AA25 AA27 3C049 AA03 AA11 AC02 BA01 BA07 BB06 BB09 CA02 CB01 3C059 AA02 AB01 GC01 HA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Minoru Moriya 2-20-3 Kaga, Itabashi-ku, Tokyo High Corp. Jujo 403 (72) Inventor Weimin Hayashi 716-1-203 Shimookubo, Urawa-shi, Saitama (72) Inventor Shinya Morita Park Heights 4-46-9 Itabashi, Tokyo, Itabashi-ku, Tokyo 202 F F-term (reference) 3C029 BB01 3C047 AA13 AA25 AA27 3C049 AA03 AA11 AC02 BA01 BA07 BB06 BB09 CA02 CB01 3C059 AA02 AB01 GC01 HA08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水平な上面を有するX軸方向に細長いマ
シーンベット(12)と、該マシーンベット上に取り付
けられ上面にワーク(4)を固定してX軸方向にNC制
御可能なX軸テーブル(14)と、該X軸テーブルを跨
いでX軸に直交する水平なY軸方向に延び両脚部がマシ
ーンベットに固定された門型固定コラム(16)と、該
門型固定コラム上に取り付けられY軸方向にNC制御可
能なY軸ステージ(18)と、該Y軸ステージに吊り下
げられ鉛直なZ軸方向にNC制御可能なZ軸コラム(2
0)と、該Z軸コラムに取り付けられたELID研削装
置(22)、ポリッシング装置(24)及び形状計測装
置(26)とを備えた、ことを特徴とする大型超精密E
LID非球面加工装置。
1. A machine bed (12) having a horizontal upper surface and elongated in the X-axis direction, and an X-axis table mounted on the machine bed and having a work (4) fixed on the upper surface and capable of NC control in the X-axis direction. (14) a portal-type fixed column (16) extending in the horizontal Y-axis direction orthogonal to the X-axis across the X-axis table and having both legs fixed to a machine bed, and mounted on the portal-type fixed column; A Y-axis stage (18) that can be NC-controlled in the Y-axis direction, and a Z-axis column (2) that is suspended from the Y-axis stage and that can be NC-controlled in the vertical Z-axis direction.
0) and an ELID grinding device (22), a polishing device (24), and a shape measuring device (26) attached to the Z-axis column.
LID aspherical surface processing equipment.
【請求項2】 前記X,Y,Z軸をそれぞれ1対のV形
ローラガイドで案内する超精密V−Vローラガイドを備
える、ことを特徴とする請求項1に記載の大型超精密E
LID非球面加工装置。
2. The large-sized ultra-precision E according to claim 1, further comprising an ultra-precision VV roller guide for guiding each of the X, Y, and Z axes by a pair of V-shaped roller guides.
LID aspherical surface processing equipment.
【請求項3】 前記X,Y,Z軸をそれぞれ駆動するボ
ールネジを有し、該ボールネジの少なくとも1本は、水
冷の中空に形成されている、ことを特徴とする請求項2
に記載の大型超精密ELID非球面加工装置。
3. The apparatus according to claim 2, further comprising a ball screw for driving each of the X, Y, and Z axes, wherein at least one of the ball screws is formed as a water-cooled hollow.
3. A large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus according to item 1.
【請求項4】 前記X,Y,Z軸をNC制御するNC制
御装置と、該NC制御装置とHSSB接続されたパーソ
ナルコンピュータとを備え、該パーソナルコンピュータ
にNC制御用のプログラムを記憶する、ことを特徴とす
る請求項1に記載の大型超精密ELID非球面加工装
置。
4. An NC controller for performing NC control on the X, Y, and Z axes, and a personal computer connected to the NC controller by HSSB, wherein a program for NC control is stored in the personal computer. The large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項5】 前記ELID研削装置(22)は、水平
又は鉛直に回転軸を変換可能な研削スピンドル(22
a)と、該研削スピンドルに回転可能に取り付けられた
導電性砥石(22b)と、砥石と間隔を隔てて対向する
電極と、砥石と電極との間に導電性液を流すノズルと、
砥石と電極との間に電圧を印加する電源及び給電体とか
らなり、砥石と電極との間に導電性液を流しながら、砥
石と電極との間に電圧を印加し、砥石を電解によりドレ
ッシングしながらワーク(4)を研削するようになって
いる、ことを特徴とする請求項1に記載の大型超精密E
LID非球面加工装置。
5. The grinding spindle (22), wherein the ELID grinding device (22) is capable of converting a rotation axis horizontally or vertically.
a), a conductive grindstone (22b) rotatably mounted on the grinding spindle, an electrode facing the grindstone at an interval, and a nozzle for flowing a conductive liquid between the grindstone and the electrode;
It consists of a power supply and a power supply that applies a voltage between the grindstone and the electrode, and while applying a conductive liquid between the grindstone and the electrode, applies a voltage between the grindstone and the electrode to dress the grindstone by electrolysis. 2. The large ultra-precision E according to claim 1, wherein the workpiece (4) is ground while grinding.
LID aspherical surface processing equipment.
【請求項6】 前記ポリッシング装置(24)は、下端
にポリッシングパッドを有するポリッシングヘッド(2
4a)と、該ポリッシングヘッドを揺動可能に支持しな
がら鉛直軸を中心に回転駆動する回転駆動装置(24
b)と、ポリッシングヘッドをワークに対して下向きに
押し付ける押付けシリンダ(24b)とからなる、こと
を特徴とする請求項1に記載の大型超精密ELID非球
面加工装置。
6. A polishing head (2) having a polishing pad at a lower end thereof.
4a) and a rotation driving device (24) for rotating the polishing head about a vertical axis while swingably supporting the polishing head.
2. A large-sized ultra-precision ELID aspherical surface processing apparatus according to claim 1, comprising: b) and a pressing cylinder (24b) for pressing the polishing head downward against the workpiece.
【請求項7】 前記形状計測装置(26)は、下端に球
形の接触子を有するプローブ(26a)と、該プローブ
を上下動可能に支持して下方に付勢する付勢ガイド装置
(26b)と、プローブの位置を検出する位置検出器
(26c)とからなる、ことを特徴とする請求項1に記
載の大型超精密ELID非球面加工装置。
7. The shape measuring device (26) includes a probe (26a) having a spherical contact at a lower end, and an urging guide device (26b) supporting the probe so as to be vertically movable and urging it downward. The large super-precision ELID aspherical surface processing apparatus according to claim 1, comprising: a position detector (26c) for detecting a position of the probe.
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