JPH11231535A - 平版印刷版 - Google Patents

平版印刷版

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JPH11231535A
JPH11231535A JP10030831A JP3083198A JPH11231535A JP H11231535 A JPH11231535 A JP H11231535A JP 10030831 A JP10030831 A JP 10030831A JP 3083198 A JP3083198 A JP 3083198A JP H11231535 A JPH11231535 A JP H11231535A
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JP
Japan
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group
printing plate
polymer
embedded image
formula
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JP10030831A
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English (en)
Inventor
Akira Furukawa
彰 古川
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11231535A publication Critical patent/JPH11231535A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials

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Abstract

(57)【要約】 【課題】高感度であり印刷性に優れた平版印刷版を与え
る。 【解決手段】化1で示される繰り返し単位を含む重合
体、光酸発生剤および可視光または近赤外領域に吸収を
有する光増感色素から構成されることを特徴とする平版
印刷版。 【化1】 化1中、Aは2価の連結基を表し、pは0または1であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版における
新規な感光性組成物に関し、放射線に感光して樹脂成分
が架橋不溶化することで未感光部樹脂成分と溶解性に差
異を生じることを利用した平版印刷版材料に関する。
【0002】
【従来の技術】平版印刷は印刷版表面に形成されたパタ
ーンと背景部のそれぞれの親油性、親水性の表面物性を
利用し、平版印刷においてインクと湿し水を同時に印刷
機上で版面に供給する際に、インクが親油性表面を有す
るパターン上に選択的に転移することを利用するもので
ある。パターン上に転移したインクはその後ブランケッ
トと呼ばれる中間体に転写され、これから更に印刷用紙
に転写することで印刷が行われる。
【0003】現在、平版印刷分野において主流となって
いる印刷版は、アルミニウムを支持体とする感光性樹脂
層を設けたPS版(Presensitized Plateの略)であ
る。PS版にはネガ型およびポジ型の2種があり、ネガ
型は露光部が硬化し、現像液により露光部を残し未露光
部を溶解除去することで親水性表面を有するアルミニウ
ム支持体上に、露光パターンに応じた形で、親油性表面
を有する硬化した被膜を形成するものである。ポジ型は
逆に露光部が現像液に対して可溶性を示すことで未露光
部分が露光パターンに応じて選択的にアルミニウム支持
体表面に被膜を形成するものである。
【0004】上記のようなPS版を作成するための材料
としては、例えば、米沢輝彦著、「PS版概論」(印刷
学会出版部発行)や永松元太郎・乾英夫著、「感光性高
分子」(講談社発行)、あるいは山岡亜夫・永松元太郎
著、「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工業発行)
に詳しく述べられている。
【0005】上記のようなPS版を使用して印刷版を作
成するためには、従来より行われている方法は、作成し
た原稿を銀塩写真フィルムに焼き付け、フィルム原稿を
作成し、適当な光源を備えた密着プリンターによりフィ
ルム原稿を通して露光を行い上記のような原理で支持体
表面に印刷パターンを形成するものである。
【0006】近年、コンピューターの進歩によりデジタ
ル化された原稿データをレーザービームを用いてフィル
ムを介在させずに印刷版に直接画像露光を行う各種CT
Pシステムが各社から提案されており、一部実用化が進
んでいる。例えば、特開平7−20629号、同7−2
71029号明細書等には、レゾール樹脂、ノボラック
樹脂、赤外線吸収剤、酸発生剤を基本的に含む感光性層
を有する平版印刷版が開示されている。この平版印刷版
は例えば高出力半導体レーザー等により露光し、感光性
層中の赤外線吸収剤が光熱変換を行うことで露光部を局
所的に高温に至らしめ、この際酸発生剤が発生する酸に
よりレゾール樹脂およびノボラック樹脂からなる樹脂層
の現像液に対する溶解性が架橋等により変化することを
利用したものである。ネガ型処理では、こうした方式を
用いる場合に露光後に版面を加熱処理することが上記明
細書中に記載されており、露光部に発生した強酸による
レゾール樹脂・ノボラック樹脂間の架橋を促進させる上
で必要とされる工程であるが、加熱される温度により露
光部/未露光部の溶解性の差が一定に保たれず、例えば
十分な加熱が行われなければ現像液により露光部まで溶
解する場合や、逆に加熱温度が高すぎる場合には未露光
部が部分的に不溶化し、現像が十分に行われない等の問
題点がある。
【0007】CTPシステムの別の例として、例えば特
開平7−314934号、特開平8−48018号に記
載されるようなレーザーアブレーションを利用した平版
印刷版作成方法や、特開平8−305007号のような
同じくフレキソグラフ印刷版の形成方法等が示されてい
るが、こうしたアブレーションを生じさせるために必要
な露光エネルギーを与えるためにはYAGレーザーのよ
うに極めて高出力のレーザーを使用する必要がある。現
在のところこうしたレーザーは寿命が短く、かつ高価で
あり、さらにはアブレーションにより飛散するカスの除
去が問題となっている。
【0008】重合性モノマーを含む光重合反応を利用し
たレーザー露光可能なCTP印刷版の例として、例えば
清水茂樹、「印刷雑誌」78巻、9頁、1995年等に
解説がなされている。この方式はラジカル発生剤と光増
感色素を組み合わせた上記2種のCTPシステムと比較
して高感度の印刷版を与えるが、材料の保存性、感度等
に安定性、長期保存性を確保することが困難であるなど
の問題があった。
【0009】さらに高感度のCTPシステム用平版印刷
版材料として、銀錯塩拡散転写方式を利用したアルミニ
ウムを支持体とする印刷版の例が挙げられ、例えば特開
平5−265216号、同313206号、特開平7−
56345号、同7−56347号、特開平9−600
5号明細書等に記載されるような、物理現像核を担持し
たアルミニウム支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けた
構成からなる高感度平版印刷版材料についてもその有効
性が示されている。こうした銀塩写真方式を利用した平
版印刷版は安価な低出力レーザーで十分な露光感度を有
し、かつ解像度が高いというメリットを有するが、現像
工程において現像液pHや液温度の管理が重要であり、
かつ高感度であるが故に版材を暗室中で扱わざるを得な
く、ハンドリングの点で問題があった。
【0010】印刷版とは用途が異なるが、同様にフォト
レジストの分野で、フェノール性水酸基を有するポリマ
ーを酸により容易に脱離可能な置換基で保護した状態で
光酸発生剤とともに基板にコートし、紫外光照射により
発生した酸の存在下に加熱することで照射部ポリマーの
保護基が脱離し、フェノール性水酸基の発現によりこの
部分のポリマーがアルカリ可溶性となることを利用した
系が実用化されており、例えば、J. Photopolymer Sci.
& Tech., Volume 2, 1-10, (1989)や、Polymer, Volum
e 24, 995-1000, (1983)、Pure & Appl. Chem., Volume
64, 1239-1248, (1992)等に記載されている。
【0011】本発明では特に、安価な半導体レーザーを
露光光源とした可視〜近赤外光露光に感度を有し、印刷
版としての機能を満足させるために最適なポリマーの構
造を見出すことが主眼であった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明は特開平7−2
71029号明細書等に記載される平版印刷版と目的を
同じくするが、感光材料としてより高感度であり、感光
波長域が広く選択できることから種々のレーザーを含め
た光源が利用でき、さらに露光後に加熱処理を行っても
加熱条件のより広い範囲にわたって安定した結果を与え
るとともに、画質、耐刷力に優れた保存性の良好な平版
印刷版を与えることを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的は以下に述べる
本発明により達成される。即ち、化5で示される繰り返
し単位を含む重合体、光酸発生剤および光増感色素から
構成されることを特徴とする平版印刷版であることが本
発明の骨子である。
【0014】
【化5】
【0015】化5中、Aは2価の連結基を表し、pは0
または1である。
【0016】
【発明の実施形態】
【0017】上記化5で示される繰り返し単位を有する
重合体は、後述する合成例に示すように、例えば、完全
鹸化または部分鹸化ポリビニルアルコールを対応する適
当なアルデヒドでアセタール化することで容易に合成さ
れる。アセタール化率、即ち重合体中に含まれる化5の
繰り返し単位の割合は酸触媒の存在下で、水中で反応を
行うよりジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシド
のような非水系溶媒を使用して反応を行った方がアセタ
ール化率は高く、さらにベンゼン等を利用して副成する
水を系外に除去することで100%近いアセタール化率
を達成することが出来る。アセタール化に引き続いてフ
ェノール性水酸基をブトキシカルボキシ基により保護す
るために、ジ−tert−ブチルジカーボネートを塩基の存
在下で反応させることで目的とする重合体が得られる。
本発明の目的を達成するためには、化5の繰り返し単位
は重合体中に5〜90%の範囲で含まれることが好まし
く、さらに20〜70%の範囲がさらに好ましい。化5
の好ましい例を化6〜化8に示す。
【0018】
【化6】
【0019】
【化7】
【0020】
【化8】
【0021】化5で示す繰り返し単位以外に、前駆体合
成時に、種々のアルデヒドをさらに加えてアセタール化
により結合させた重合体を前駆体として使用した系も好
ましく使用される。例えば、ヒドロキシベンズアルデヒ
ド類とブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデ
ヒド類をあわせてアセタール化することにより、これら
による疎水性置換基が同一重合体中に導入されるため、
こうした重合体により形成される被膜の親インク性、耐
刷性が向上するなどの好ましい性質が発現できる。こう
した好ましい重合体の例として化9〜化11のような例
を挙げることが出来る。尚、重合体の分子量については
特に制限は無いが、通常、出発物質であるポリビニルア
ルコールの数平均重合度として100〜数1000程度
の物が適度な溶液粘度を示すため好ましく使用される。
また、鹸化度についても特に制限は無いが、通常70%
以上の物が好ましく使用される。
【0022】
【化9】
【0023】
【化10】
【0024】
【化11】
【0025】感光材料を構成する2番目の要素として光
酸発生剤が必要であり、具体的には公知のジアリールヨ
ードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩あるいはハ
ロアルキル置換したs−トリアジンが挙げられる。これ
らは露光される光によりそれ自身が直接光を吸収して酸
を発生する場合や、後述する光増感色素により増感作用
を受けて酸を発生する場合であっても良く、さらに光増
感色素が光を吸収し、これを熱に変換する結果発生する
熱により酸を発生する場合などがいずれも好ましく利用
される。こうした光酸発生剤としては、例えば、J. Pol
ym. Sci., Polym. Chem. Ed., Volume 17, 977-999, (1
979)や Adv. Polym. Sci., Volume 62,1-48, (1984)等
に記載されるジアリールヨードニウム塩やトリアリール
スルホニウム塩や特開平8−208597号、同8−1
88569号、同8−188570号、同8−1698
53号、同8−53442号明細書等に記載される方法
で得られる化合物も好ましく使用することが出来る。ま
た、ハロアルキル置換したs−トリアジンとして好まし
い例は一般式化12で示される化合物であり、特に好ま
しい例として化13〜化18で示す化合物が挙げられ
る。
【0026】
【化12】
【0027】化12においてRは置換もしくは非置換の
脂肪族または芳香族基を表す。
【0028】
【化13】
【0029】
【化14】
【0030】
【化15】
【0031】
【化16】
【0032】
【化17】
【0033】
【化18】
【0034】感光層を構成する第3の要素として光増感
色素が挙げられる。光増感色素を本発明に係わる感光層
に使用せずとも、紫外線露光により酸発生剤を活性化
し、酸を発生させることで目的とする印刷版を形成する
ことも可能であるが、可視光あるいは近赤外領域に吸収
を有する光増感色素を感光層に添加することで、各種光
源に応じた好ましい波長領域に感度を有する感光層を与
えることが出来るため、極めて好ましい。光増感剤の機
能としては、酸発生剤の分解を分光増感的に促進する場
合と、単に光増感剤が光熱変換を行うことで発生する熱
を利用した酸発生剤の分解を誘起する場合の2つのケー
スが挙げられる。後者の光熱変換作用を利用する場合に
は、光源の波長に吸収を有する適当な色素が選択され、
各種染料あるいはカーボンブラック、フタロシアニン顔
料、酸化チタン等の各種顔料等も選択することが出来
る。あるいは、分光増感的に作用する色素の場合には、
使用する酸発生剤との組み合わせにおいて、色素の構造
的な因子が極めて重要であり、いわゆるヒートモード記
録に対しフォトンモード記録に適合した色素の選択にお
いて、本発明において化19、化20または化21に示
す一般式を有する色素が極めて有効であることを見出し
た。
【0035】
【化19】
【0036】式中Z1およびZ2は、それぞれ5または6
員含窒素複素環を形成するのに必要な原子群を表す。L
1は置換あるいは無置換のメチン基が7個以下の奇数個
共役二重結合で連結されて形成される3価の基を表す。
2およびR3は、置換もしくは無置換のアルキル基、ア
リール基を表す。pおよびqはそれぞれ0または1を表
し、X-は該分子の電荷を中和するための陰イオンを表
す。
【0037】
【化20】
【0038】式中Z1,Z2,R2,R3,pは一般式化1
9におけるそれぞれと同義である。L2は置換あるいは
無置換のメチン基が6個以下の偶数個共役二重結合をす
るように連結された4価の基を表し、L3は置換あるい
は無置換のメチン基が7個以下の奇数個共役二重結合で
連結されて形成される3価の基を表す。Y1およびY
2は、5または6員含窒素複素環を形成するのに必要な
原子群を表す。rは0または1を表し、X-は該分子の
電荷を中和するための陰イオンを表す。
【0039】
【化21】
【0040】式中Z1,R2,pは一般式化19における
それぞれと同義であり、L2,Y1,Y2,rは一般式化
7におけるそれぞれと同義である。Y3およびY4は、5
または6員含窒素複素環を形成するのに必要な原子群を
表す。mは0または1を表す。
【0041】次に一般式化19,化20,化21につい
て具体的に説明する。式中Z1およびZ2は、それぞれ5
または6員含窒素複素環を形成するのに必要な原子群を
表す。これらの含窒素複素環の具体例としては、例え
ば、オキサゾリン環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾ
ール環、ナフトオキサゾール環、チアゾリン環、チアゾ
ール環、チアジン環、ベンゾチアゾール環、ナフトチア
ゾール環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール
環、キノリン環、ベンゾキノリン環、インドレニン環、
ベンゾインドレニン環、ベンズイミダゾール環、ナフト
イミダゾール環等がある。さらにこれらの複素環の炭素
原子にはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子な
ど)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−アミル
基など)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキ
シ基、n−プロポキシ基など)、ヒドロキシ基、トリフ
ルオロメチル基、シアノ基、アルカンスルホニル基(例
えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基な
ど)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル基、
N,N−ジメチルスルファモイル基、ピペリジノスルホ
ニル基、モルホリノスルホニル基など)、アリール基
(例えば、フェニル基、メトキシフェニル基など)など
の置換基がついていても良い。これらの中で好ましいも
のは、置換基を含めての炭素数が12個以下のものであ
る。
【0042】Y1、Y2およびY3、Y4によって形成され
る含窒素複素環の具体例としては、例えばオキサゾリジ
ン環、チアゾリジン環、イミダゾリジン環、チオバルビ
ツール酸環等があり、これらの複素環の窒素置換基の例
としてはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、n−ア
ミル基、β−ヒドロキシエチル基、γ−ヒドロキシプロ
ピル基、β−アセトキシエチル基、γ−アセトキシプロ
ピル基、β−メトキシエチル基、γ−メトキシプロピル
基、カルボキシメチル基、β−カルボキシエチル基、γ
−カルボキシプロピル基、δ−カルボキシブチル基、ω
−カルボキシペンチル基、メトキシカルボニルメチル
基、エトキシカルボニルメチル基、β−メトキシカルボ
ニルエチル基、γ−メトキシカルボニルプロピル基、δ
−メトキシカルボニルブチル基、β−スルホエチル基、
γ−スルホプロピル基、γ−スルホブチル基、δ−スル
ホブチル基、ベンジル基、フェネチル基、p−カルボキ
シベンジル基、p−スルホフェネチル基、アリル基、プ
ロパルギル基など)、アリール基(例えば、フェニル
基、メトキシフェニル基など)、複素環基(例えば、2
−ピリジル基、2−チアゾリル基、4−テトラヒドロピ
ラニル基など)等がある。これらの中で好ましいもの
は、置換基を含めての炭素数が12個以下のものであ
る。
【0043】R2あるいはR3は置換もしくは無置換のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、n−アミル基、β
−ヒドロキシエチル基、γ−ヒドロキシプロピル基、β
−アセトキシエチル基、γ−アセトキシプロピル基、β
−メトキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、カルボ
キシメチル基、β−カルボキシエチル基、γ−カルボキ
シプロピル基、δ−カルボキシブチル基、ω−カルボキ
シペンチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシ
カルボニルメチル基、β−メトキシカルボニルエチル
基、γ−メトキシカルボニルプロピル基、δ−メトキシ
カルボニルブチル基、β−スルホエチル基、γ−スルホ
プロピル基、γ−スルホブチル基、δ−スルホブチル
基、ベンジル基、フェネチル基、p−カルボキシベンジ
ル基、p−スルホフェネチル基、アリル基、プロパルギ
ル基など)、アリ−ル基(例えば、フェニル基、メトキ
シフェニル基など)を表す。これらのうち、炭素数6個
以下の置換もしくは無置換のアルキル基が好ましい。
【0044】L1あるいはL3は置換されていてもよいメ
チン基が7個以下の奇数個共役二重結合で連結されて形
成される3価の基(例えば、=CH−、=CH−CH=
CH−、=CH−CH=CH−CH=CH−、=CH−
CH=CH−CH=CH−CH=CH−など)を表す。
2は置換されていてもよいメチン基が6個以下の偶数
個共役二重結合を形成するように連結された4価の基
(例えば、=CH−CH=、=CH−CH=CH−CH
=、=CH−CH=CH−CH=CH−CH=など)を
表す。これらのメチン基の置換基としては、置換されて
いてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
ベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基な
ど)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基
など)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基な
ど)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチル
チオ基など)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ
基など)、置換アミノ基(例えば、ピペリジノ基な
ど)、またはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子など)などが挙げられる。また、メチン鎖の置換基同
士で5ないし6員環として環を形成していてもよく、こ
のような環の例としては下記化22などが挙げられる。
【0045】
【化22】
【0046】p,q,mはそれぞれ0または1を表し、
p,qは好ましくは0である。rは0または1を表す。
【0047】X-は、該分子の電荷を中和するための陰
イオンを表す。これは、分子内の陽イオンの電荷を中和
するのに必要な数の陰電荷を供給するものであり、一価
でなくてもよく、二価でも、三価でもよい。このような
陰イオンの具体例としては、ハロゲンイオン(例えば、
-,Cl-,Br-,I-など)、アルキル硫酸イオン
(例えば、SO4 2-,HSO4 -,CH3OSO3 -など)、
スルホン酸イオン(例えば、p−トルエンスルホン酸イ
オン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンス
ルホン酸イオンなど)、カルボン酸イオン(酢酸イオ
ン、トリフルオロ酢酸イオン、シュウ酸イオンなど)、
あるいは、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、IO4 -、PO4
3-、NO3 -、ピクリン酸イオンなどが挙げられる。
【0048】化19、化20または化21で示される色
素を感光層中に導入することで、色素の吸収波長領域に
おいて露光感度を飛躍的に高めることが可能となり、例
えば安価な半導体レーザーを使用した露光装置を使用し
ても良好な結果を与えることが出来る。化19〜化21
で示される色素は感光層をフォトンモード記録およびヒ
ートモード記録の両方において高い感度を示すことが特
徴であり、平版印刷版の作成方法において従来からのフ
ィルム原稿からの密着露光にも対応できると同時に、各
種CTPシステムにおいて使用されるレーザービーム記
録方式に対応した感度を示すことが大きな特徴である。
露光光源としては各種ガスレーザー、半導体レーザーあ
るいはLED等に加えて、ハロゲンランプ、タングステ
ンランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、水
銀ランプなど種々の光源が利用でき、色素の選択により
紫外光から可視光および近赤外領域の広い波長範囲にわ
たる感度を有する印刷版材料を与えることが可能であ
る。色素の特に好ましい例としては、以下の化合物例中
に挙げられるように、チアゾール環を有するシアニン色
素が好ましい。色素の好ましい例として化23〜化31
のような色素が挙げられる。
【0049】
【化23】
【0050】
【化24】
【0051】
【化25】
【0052】
【化26】
【0053】
【化27】
【0054】
【化28】
【0055】
【化29】
【0056】
【化30】
【0057】
【化31】
【0058】本発明による感光層を構成する各要素につ
いて説明を行ったが、それぞれの要素が感光層中に占め
る割合については好ましい範囲が存在する。該重合体1
00重量部に対し、酸発生剤の好ましい割合は1重量部
から50重量部の範囲であり、さらに好ましい範囲は1
重量部から10重量部の範囲である。光増感色素の好ま
しい割合は0.1重量部から20重量部の範囲であり、
さらに好ましい範囲は1重量部から10重量部の範囲で
ある。
【0059】感光層自体の厚みに関しては、支持体上に
0.5ミクロンから10ミクロンの範囲の乾燥厚みで形
成することが好ましく、さらに1ミクロンから5ミクロ
ンの範囲であることが耐刷性を大幅に向上させるために
極めて好ましい。感光層は上述の4つの要素を混合した
溶液を作成し、公知の種々の塗布方式を用いて支持体上
に塗布、乾燥される。支持体については、例えばフィル
ムやポリエチレン被覆紙を使用しても良いが、より好ま
しい支持体は、研磨され、陽極酸化皮膜を有するアルミ
ニウム板である。
【0060】上記のようにして支持体上に形成された感
光層を有する材料を印刷版として使用するためには、こ
れに密着露光あるいはレーザー走査露光を行い、好まし
くは先に述べた露光後の加熱処理を施した後に現像処理
が行われる。この際の現像液としては、化5の繰り返し
単位を有する重合体を溶解する液で有れば特に制限は無
いが、好ましくはアルカリ性である水溶液が良く、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、珪酸ナトリウム、メタ
珪酸ナトリウムのようなアルカリ性化合物を溶解した水
性現像液が良好に未露光部を選択的に溶解し、下方の支
持体表面を露出出来るため極めて好ましい。こうしたア
ルカリ現像液を用いて現像処理を行った後に、アラビア
ゴム等を使用して通常のガム引きが好ましく行われる。
【0061】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、効果はもとより本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。実施例中の部は重量部を示す。
【0062】合成例(化6の合成例) ポリビニルアルコール(クラレPVA−105、鹸化度
98.5モル%)44グラム(1.0モル)をジメチル
ホルムアミド(DMF)200グラムおよびベンゼン1
00グラムに懸濁し、p−トルエンスルホン酸2グラム
を添加した。内温80℃にてp−ヒドロキシベンズアル
デヒド61グラム(0.5モル)を分割して加え、還流
温度でベンゼンを還流しながら共沸する水を除去しつつ
6時間撹拌を行った後、全体を大量のイオン交換水中に
投入した。析出した沈殿物を流水にて十分に洗浄を行
い、減圧下加熱乾燥した。得られたポリマーを少量採取
し、重水素化DMSOに溶解してプロトンNMRにより
構造解析した結果、元のPVAの1,3−ジオールユニ
ットの内、約70%がアセタール化していることが確認
された。得られた重合体50グラムを乾燥したテトラヒ
ドロフラン500mlに溶解し、室温下でジ−tert−ブ
チルジカーボネート100グラムを添加し、カリウムte
rt−ブトキシド56グラムを徐々に添加した。室温で2
時間撹拌した後、混合物を3リッターの0.1%酢酸水
溶液中に移し、析出した沈殿を濾別し、十分に水洗を行
った。得られたポリマーは真空乾燥器内で1昼夜乾燥を
行い目的とする重合体を得た。
【0063】実施例1 上記の合成例で得た重合体をメタノール/ジオキサン
(1/1)の混合溶媒に加熱溶解し10重量%溶液を1
00グラム作成した。さらに酸発生剤として、ジフェニ
ルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートを2グ
ラム添加し、光増感色素として化27で示す化合物を
0.1グラム添加して溶解した。得られた溶液を、砂目
立て処理を行った陽極酸化アルミニウム板上に、ドクト
ルバーを使用して、塗布量が乾燥状態で平米当り2.0
グラムになるよう塗布し、乾燥機にて70℃で10分間
乾燥を行い印刷版材料を作成した。
【0064】上記のようにして得られた印刷版材料をタ
ングステンランプを備えた密着露光機(三菱製紙、ヒシ
ラコピープリンター)を使用して、解像力パターンを有
する透明フィルムを通して30秒間密着露光を行った。
露光された印刷版材料は150℃に加熱された乾燥機中
に2分間置かれ、ついで6%メタ珪酸ナトリウム水溶液
中に5秒間浸漬し現像を行ない、露光部分(解像力パタ
ーンにより光が透過した部分)を溶出した。水洗、乾燥
後に形成された画像を光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、細線で10ミクロン、ドットで15ミクロンのパタ
ーンが明瞭に再現されていることが確認された。
【0065】上記のようにして画像形成されたプレート
をアラビアゴム水溶液で表面をコートし、印刷版として
印刷試験に供した。印刷機はリョービ3200(モルト
ン方式印刷機)を使用し、インクはニューチャンピオン
墨H(大日本インク)を使用し、湿し水は1%東邦エッ
チ液を使用して通常のオフセット印刷を行った。インク
着肉性は刷りはじめより良好で、かつ非画像部において
は地汚れの発生も印刷を通して認められなかった。耐刷
性は20万部を印刷した時点でも何ら問題は生じなかっ
た。
【0066】実施例2 実施例1と同様に、重合体として化9で示される重合体
を使用し、光増感色素として化33で示される色素を用
いた以外には全く同様にして印刷版材料を作成した。露
光機としては830nmの発信波長を有する2W出力の
半導体レーザーを使用し、印刷版材料をドラムに巻き付
けてパルス露光を行い、解像力テストパターンを印字し
た。版面上の露光エネルギーは200mJ/cm2であっ
た。得られた露光済みプレートを実施例1と全く同様に
して加熱処理および現像を行い、得られたプレートを光
学顕微鏡を使用して画像評価を行ったところ、10ミク
ロンの細線およびドットが明瞭に形成されていた。実施
例1と同じくガム引きを行い印刷版とし、さらに実施例
と同一条件で印刷試験を行った結果、実施例1と同様な
良好な結果を得た。
【0067】比較例 実施例1において、合成例で得た重合体の代わりに、市
販のポリヒドロキシスチレンであるマルカリンカー(丸
善石油化学株式会社、マルカリンカーS−2P、重量平
均分子量4900)を使用して、合成例と同様にtert−
ブトキシカルボニル基を導入した重合体を使用した以外
は全く同様にして印刷版材料を作成した。実施例1と同
様に密着露光機により露光を行い、加熱処理後に現像処
理を行ったが露光部は未露光部とともに部分的に溶解
し、プレート上に残存した画像の解像力は低いものであ
った。加熱条件として120℃に加熱したオーブン中で
5分間加熱したところ、今度は露光部の溶出性が顕著に
悪化し、露光部が部分的に残存する結果となった。
【0068】
【発明の効果】感光材料として高感度であり、感光波長
域が広く選択できることから種々のレーザーを含めた光
源が利用でき、さらに露光後に加熱処理を行っても加熱
条件のより広い範囲にわたって安定した結果を与えると
ともに、画質、耐刷力に優れた保存性の良好な平版印刷
版を与える。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化1で示される繰り返し単位を含む重合
    体、光酸発生剤および光増感色素から構成されることを
    特徴とする平版印刷版。 【化1】 化1中、Aは2価の連結基を表し、pは0または1であ
    る。
  2. 【請求項2】 請求項1における光増感色素として一般
    式化2、化3または化4で示される構造を有する色素を
    含むことを特徴とする平版印刷版。 【化2】 式中Z1およびZ2は、それぞれ5または6員含窒素複素
    環を形成するのに必要な原子群を表す。L1は置換ある
    いは無置換のメチン基が7個以下の奇数個共役二重結合
    で連結されて形成される3価の基を表す。R2およびR3
    は、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基を表
    す。pおよびqはそれぞれ0または1を表し、X-は該
    分子の電荷を中和するための陰イオンを表す。 【化3】 式中Z1,Z2,R2,R3,pは一般式化2におけるそれ
    ぞれと同義である。L2は置換あるいは無置換のメチン
    基が6個以下の偶数個共役二重結合をするように連結さ
    れた4価の基を表し、L3は置換あるいは無置換のメチ
    ン基が7個以下の奇数個共役二重結合で連結されて形成
    される3価の基を表す。Y1およびY2は、5または6員
    含窒素複素環を形成するのに必要な原子群を表す。rは
    0または1を表し、X-は該分子の電荷を中和するため
    の陰イオンを表す。 【化4】 式中Z1,R2,pは一般式化2におけるそれぞれと同義
    であり、L2,Y1,Y2,rは一般式化3におけるそれ
    ぞれと同義である。Y3およびY4は、5または6員含窒
    素複素環を形成するのに必要な原子群を表す。mは0ま
    たは1を表す。
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