JPH11224433A

JPH11224433A - 情報の光記録又は再生方法並びに光記録又は再生装置

Info

Publication number: JPH11224433A
Application number: JP10303618A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miyauchi; 靖宮内; Kimio Nakamura; 公夫中村; Motoyasu Terao; 元康寺尾
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1997-11-25
Filing date: 1998-10-26
Publication date: 1999-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】記録又は再生の高密度化をはかる。【解決手段】浮上ヘッド３に搭載したＳＩＬ(Solid I
mmersion Lens)の底面に超解像膜６を形成する。超解像
膜６として、主にフォトクロミック材料を用い、多光子
吸収、光退色性（光消色性）、吸収飽和等を利用する。【効果】超解像による効果により高密度記録又は再生
が可能となった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光等の記録用
ビームによって、たとえば映像や音声などのアナログ符
号をＦＭ変調したものや、たとえば電子計算機のデータ
や、ファクシミリ信号やディジタルオーディオ信号など
のディジタル情報を、リアルタイムで記録又は再生する
ことが可能な情報の記録又は再生方法及び記録又は再生
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報の大容量化に伴い、光記録を
用いた高密度記録技術の開発が活発に行われている。光
記録では、その限界が光の回折により、記録ビット径が
500nm前後といわれている。この回折限界は光の波長に
比例し、さらに、レンズの性能指数(ＮＡ)に反比例す
る。このため、高密度化の１つの方向は、光の波長を短
波長化すること、絞り込みレンズを高ＮＡ化することに
ある。また、別の方法としては、この回折限界によらな
い光学現象を利用する方法である。記録媒体において
は、超解像膜を記録膜上に形成する方法がある。また、
光ヘッドにおいては、最近、特に、これらを推進する方
法として、光における近接場が注目されている。たとえ
ば、「United States Patent 5,121,256」のように、Ｓ
ＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いて高ＮＡ化を実現
し、通常の光学レンズを用いたものより小さなスポット
径を得ている。以下、この従来技術の原理を説明する。
まず、ＳＩＬは屈折率ｎが大きな透明物質からなる球面
レンズを例えば半球面に研磨し作製する。次に絞り込み
レンズで絞られたレーザ光の焦点をこの研磨面に合せ
る。ＳＩＬの中に入ったレーザ光の速度は屈折率の分だ
け遅くなり、波長は１／ｎに短くなっている。つまり、
ＳＩＬ中での回折限界は通常の１／ｎと小さくなる。見
方を変えれば対物レンズのＮＡをｎ倍に増やせたといっ
てもよい。この時、ＳＩＬの内部ではＮＡを高められて
もレーザ光がＳＩＬを抜けて空気中に出ると、再び元の
ビームスポット径に戻ってしまう。しかし、ＳＩＬの底
面である研磨面と試料（ディスクの記録膜上など）との
間が200nm以下と接近した場合（近接場）、入射光の波
長λに対して波長が１／ｎのまま試料に伝播するため、
分解能がｎ倍になる。すなわち、通常の１／ｎの回折限
界が得られる。

【０００３】本発明の目的は、上記従来技術よりも更な
る高密度化を実現するための情報の記録又は再生方法及
び記録又は再生装置を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明では、光ヘッドに
超解像膜を形成することにより従来よりも更なる高密度
化が可能となる。さらにＳＩＬに超解像膜を形成するこ
とにより更なる高密度化が可能となる。ここでの超解像
膜とは、入射してきたビームが超解像膜中を透過し出射
するとき、入射してきたビームのスポット径よりも出射
したビームスポット径の方が小さくなる薄膜の事をい
う。どの程度ビームスポット径が小さくなるかは、用い
る超解像膜の種類によって異なる。また、超解像膜はＳ
ＩＬの平面部分（たとえば底面の研磨面など）に形成す
ることが多い。本発明の超解像膜として、主にフォトク
ロミック材料を用い、多光子吸収、光退色性（光消色
性）、可飽和吸収等を利用する。たとえば２光子吸収
は、１光子の波長では光吸収がなく、２光子のエネルギ
ー領域(１光子波長の半分の波長)で光吸収を持つ材料で
あればよい。２光子吸収の反応は光強度の２乗で効くた
め、光変化領域は照射光のスポットサイズを２乗した形
状となる。これはまた別な見方をすれば、波長→光強度
に、また吸収→透過に置き換えてもよい。例えば、弱い
光強度では多光子吸収膜の透過率は変化せず、それより
も十分強い光強度で２光子吸収が起こり、その領域では
透過率が高くなる。多光子吸収膜として、ＤＡＮＳ（4-
Dimethylamino-4-nitrostilbene）やＮ−メチルアニリ
ンやＰ−ニトロアニリン等を含有する膜、アクリル樹脂
などがある。また、光退色性とは、強い光強度の照射部
分では光反応が生じて退色が進み光を透過するが、弱い
光強度の照射部分では退色があまり進まず光が透過しな
い膜である。光退色性膜として、水溶性ジアゾニウム塩
やフッ素環系ジアリールエテン分子（FC-124）、ポリケ
イ皮酸ビニル膜などがある。また、可飽和吸収膜のよう
に、あるしきい値を越える程度のレーザ光が照射される
と基底状態にある色素が無くなり、それ以上は光を吸収
しなくなる性質を持っている材料も使用可能である。こ
れにはフタロシアニンやナフタロシアニン色素等があ
る。以上のように、照射ビームの中心部分の透過率が高
くなるためこの領域だけビームが透過する。その結果、
見かけ上ビームスポット径が小さくなっていることにな
る（超解像効果）。

【０００５】なお、この超解像膜の代わりに入射される
ビームの径よりも小さいピンホールを形成したピンホー
ル膜をＳＩＬの底面に設けても同様な効果が得られる。
ピンホールを用いるという点では、「特開平５―２３４
１１７」にも同様な技術が開示されているが、本発明で
はＳＩＬの底面に設けるためにピンホールの開いた膜を
用いなくてはならない。

【０００６】従来、この超解像膜は試料側（記録媒体
側）に設けられ、主に超解像再生に用いられていた。本
発明ではレンズ側にこの超解像膜を設けることにより、
超解像再生に限らず超解像記録にも適用できることが大
きな特徴である。もちろん、超解像膜をＳＩＬに形成す
ることによりさらに高密度となるが、なおかつ超解像膜
を試料側にも設けることにより更なる高密度記録が可能
となる。

【０００７】本発明で用いる超解像膜は、エネルギービ
ームが照射されている間、超解像膜上のエネルギービー
ムが照射されている部分の中心部の透過率が高くなり、
照射が中止されると該透過率が低くなる膜（可逆性膜）
を用いると、ビームの位置ずれが起きても常にエネルギ
ービームが照射されている部分の中心部の透過率が高く
なるので、記録又は再生における制御性の問題で好まし
い。ただし場合によっては、ビーム照射が中止されても
中心部の透過率が高い状態でそのまま残る膜（非可逆性
膜）でもよい。ピンホール膜の場合はピンホールからビ
ームがずれると記録又は再生ができなくなるが安価で簡
単に製造できるのが利点であり、可逆性膜の場合には常
に記録又は再生ができる点が優れている。

【０００８】超解像膜として、エネルギービームが照射
されている間、超解像膜上のエネルギービームが照射さ
れている部分の中心部の屈折率が変わるものを用いても
同様な効果が得られる。ここで屈折率の実数部が変化す
る膜を用いるのが好ましいが、虚数部も同様に変化して
も良い。このような特性を示すものとして、SiO2-CdS膜
やポリケイ皮酸ビニル膜等がある。この場合には、ビー
ム（波長λ）が照射されていないときの屈折率をｎとす
ると、その膜厚がλ／２ｎ程度が好ましい。

【０００９】超解像膜として可飽和吸収膜を用い、読み
出し光とは異なる波長のバイアス光を照射しながら情報
を読み出しても良い。こうすることにより、励起状態の
寿命を短くしてアパーチャーがどんどん広がらないよう
にすることができる。

【００１０】また、場合によっては、ＳＩＬと試料との
間に潤滑剤を入れてもよい。潤滑剤としてＳＩＬと同じ
材料が好ましい。

【００１１】また、ＳＮＯＭ等に用いる光ファイバーの
先端に超解像膜を設けることにより、更なるビームスポ
ット径の縮小効果がある。

【００１２】本発明に用いる記録又は再生装置は、レー
ザを搭載し、レーザから出射されたビームを絞り込みレ
ンズによりＳＩＬに形成した超解像膜に集光する手段、
ＳＩＬの超解像膜面と試料との間の間隔を制御する手
段、記録媒体を回転させる手段を有している。また場合
によっては波長の異なる２つのレーザを搭載し、１つの
レーザ光照射により記録を行い、もう１つのレーザ光照
射により再生を行う手段を有してもよい。

【００１３】また、本発明は、ディスク状のみならず、
カード状などの他の形態の記録媒体にも適用可能であ
る。

【００１４】さらに、本発明は、完成したディスクの記
録再生にかぎらず、ディスク製造の原盤カッティングに
も適用できる。

【００１５】（実施例）以下、本発明の詳細を実施例を
用いて説明する。

【００１６】実施例１図１は、本実施例における記録又は再生系の概要を示し
たものである。ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)１及び絞
り込みレンズ２が一体化した浮上型ヘッド３に、半導体
レーザ（波長410nm）から出たレーザビーム４を入射す
る。レーザビーム４の焦点はＳＩＬの研磨面５に合うよ
うになっている。更にＳＩＬの研磨面（平面部）５
に、超解像膜６を形成している。また、この浮上型ヘッ
ド（光ヘッド）３とディスク７との間の距離は、約100n
mと近づいている（近接場領域）。この距離は、浮上型
ヘッドの形状やディスク７の回転数などで制御されほぼ
一定に保たれる。図２に拡大図を示した。ここで、Ｓ
ＩＬの研磨面５でのビームスポット径（Φ１）は、以下
の式で表される。ＳＩＬの屈折率をｎ、レーザ波長を
λ、絞り込みレンズの開口数をＮＡとすると、 Φ１≒（１／ｎ）×（λ／ＮＡ）となる。すなわち、通常の１／ｎの回折限界が得られ
る。また球の大半を残しながら一部だけを平面で切り取
った「超半球」の形状にすることにより、Φ１≒λ／ｎ
²とビーム径を更に小さくできる。本実施例では、超解
像膜６として、多光子吸収膜を用いた。具体的にはアク
リル樹脂を100nm形成した。アクリル樹脂は、１光子の
波長である410nm付近では光吸収がなく、２光子のネル
ギー領域(１光子波長の半分の波長)である205nm付近の
波長において光吸収を持つ材料である。２光子吸収の反
応は光強度の２乗で効くため、光変化領域は照射光のス
ポットサイズを２乗した形状となる。また、３光子吸収
の反応は光強度の３乗で効くため、光変化領域は照射光
のスポットサイズを３乗した形状となる。本実施例にお
ける１／e²でのスポット径は、ＳＩＬのみの場合のスポ
ット径（Φ１）を１００％とすると、多光子吸収膜を出
たところ（Φ２）では２光子吸収で約７４％、３光子吸
収で約６１％となった。

【００１７】本実施例で用いる多光子吸収膜は、光学定
数（ｎ、ｋ）のうち消衰係数ｋが変化することにより超
解像効果が生じる膜が多い。すなわち、２光子吸収が生
じていないビームの外周部ではビームは透過しないが、
２光子吸収が生じる中心部分では光吸収が起こり（フォ
トンモード）、その部分ではｋが０になりビームを透過
する。これにより、多光子吸収膜に入射するビームスポ
ットよりも透過するビームスポットの方が小さくなる。
また、ｋの変化ではなく、屈折率ｎの変化により超解像
効果が生じる超解像膜でも良い。これには、SiO2-CdS膜
などがある。すなわち、２光子吸収が生じていないビー
ムの外周部ではビームは透過しないが、２光子吸収が生
じる中心部分ではｎが変化し、ビームを透過する。これ
により、多光子吸収膜に入射するビームスポットよりも
透過するビームスポットの方が小さくなる。この場合に
は、２光子吸収が生じない領域での反射率が１００％近
くになるように、超解像膜の膜厚を制御することが重要
である。ここで、２光子吸収が生じない領域（ビームを
照射していない領域も含む）の屈折率をｎ、ビームの波
長をλとすると、超解像膜の膜厚ｄは、ｄ≒（λ／２ｎ）が好ましい。

【００１８】本実施例では、多光子吸収膜としてアクリ
ル樹脂を用いたが、ＤＡＮＳ（4-Dimethylamino-4-nitr
ostilbene）やＮ−メチルアニリンやＰ−ニトロアニリ
ン等を含有する膜でも同様な効果があった。

【００１９】また、超解像膜として、多光子吸収膜の変
わりに、光退色性（光消色性）を利用した光退色性膜
（水溶性ジアゾニウム塩やフッ素環系ジアリールエテン
分子（FC-124）、ポリケイ皮酸ビニル膜など）や吸収飽
和膜（ナフタロシアニン色素など）などのフォトクロミ
ック材料を用いても同様な効果があった。この場合、水
溶性ジアゾニウム塩などの光退色性のものでは、ビーム
照射が中止されても中心部の透過率が高い状態でそのま
ま残っているものもあるが、ディスクに照射されるスポ
ット径は小さいままなので問題無い。また、入射ビーム
の中心付近に超解像膜に入る入射ビームよりも小さいピ
ンホールを予め形成したピンホール膜を用いても同様な
効果があった。

【００２０】また、超解像膜として可飽和吸収膜を用
い、読み出し光とは異なる波長（例えば波長８３０ｎｍ
の半導体レーザ）のバイアス光を照射しながら情報を読
み出しても良い。こうすることにより、励起状態の寿命
を短くしてアパーチャーがどんどん広がらないようにす
ることができる。

【００２１】以上のように、ＳＩＬの研磨面に超解像膜
を形成することにより、ビームスポット径を従来よりも
更に小さくでき、高密度記録又は再生が可能となった。

【００２２】また、前記の記録又は再生装置と超解像膜
を設けたディスク（例えば、磁気的超解像技術（ＭＳ
Ｒ）が可能な光磁気ディスクなど）とを併用することに
より、更に高密度記録又は再生が可能となる。

【００２３】本実施例では、1つのレーザにより記録又
は再生を行ったが、波長の異なる２つのレーザを用いて
記録又は再生を行っても同様な効果がある。また、レー
ザや光学系が一体となった薄膜ヘッドを用いても良い。

【００２４】ＳＩＬの研磨面に形成した超解像膜とディ
スクの記録膜面上との距離は、近接場を用いるため約10
0nmと近づいている。このスペース部分に透明な潤滑剤
を設けてもよい。特にＳＩＬと同じ材料ならさらに好ま
しい。また、ＳＩＬの平面部は必ずしも研磨していなく
ても良い。

【００２５】本発明に用いる記録又は再生装置は、レー
ザを搭載し、レーザから出射されたビームを絞り込みレ
ンズによりＳＩＬに形成した超解像膜に集光する手段、
ＳＩＬの超解像膜面と試料との間の間隔を制御する手
段、記録媒体を回転させる手段を少なくとも有してい
る。

【００２６】実施例２図３は、本実施例における記録又は再生系の概要を示し
たものである。絞り込みレンズ２が一体化した浮上型ヘ
ッド３に、半導体レーザ（波長410nm）から出たレーザ
ビーム４を入射する。浮上型ヘッド３の底面には薄い透
明基板８が配置され、この透明基板８に接して超解像膜
６を形成している。この超解像膜６にレーザビーム４の
焦点が合うように制御する。また、この浮上型ヘッド
（光ヘッド）３とディスク７との間の距離は、約100nm
と近づいている（近接場領域）。この距離は、浮上型ヘ
ッド３の形状やディスク７の回転数などで制御されほぼ
一定に保たれる。図４に拡大図を示した。ここで、超
解像膜６に入射するビームスポット径（Φ３）は、以下
の式で表される。レーザ波長をλ、絞り込みレンズの開
口数をＮＡとすると、 Φ３≒（λ／ＮＡ）となる。本実施例では、超解像膜６として、多光子吸収
膜を用いた。具体的にはＤＡＮＳ（4-Dimethylamino-4-
nitrostilbene）を含有した膜を100nm形成した。ＤＡＮ
Ｓは、３次の非線形効果が大きく２光子吸収による光学
定数の変化が大きい。本実施例における超解像膜を出た
ところのビームスポット径Φ２（１／e²での値）は、超
解像膜に入射するビームスポット径Φ３とすると、多光
子吸収膜を出たところのビームスポット径Φ４は２光子
吸収で約０．７８Φ３となった。

【００２７】また、超解像膜として、ポリケイ皮酸ビ
ニル膜のような光退色性（光消色性）を利用した光退色
性膜やフタロシアニン吸収飽和膜などのフォトクロミッ
ク材料を用いても同様な効果があった。

【００２８】以上のように、光ヘッドに超解像膜を形成
することにより、ビームスポット径を従来よりも更に小
さくでき、高密度記録又は再生が可能となった。

【００２９】超解像膜とディスクの記録膜面上との距離
は、近接場を用いるため約100nmと近づいている。この
スペース部分に透明な潤滑剤を設けてもよい。特にＳＩ
Ｌと同じ材料ならさらに好ましい。

【００３０】本実施例に用いる記録又は再生装置は、絞
り込みレンズと超解像膜を形成した透明基板とが一体と
なった浮上型の光ヘッドを用い、レーザから出射された
ビームを絞り込みレンズにより超解像膜に集光する手
段、超解像膜面とディスクとの間の間隔を制御する手
段、記録媒体を回転させる手段を少なくとも有してい
る。

【００３１】本実施例では、絞り込みレンズと超解像膜
を形成した透明基板とが一体となった浮上型の光ヘッド
を用いたが、これに限らず、絞り込みレンズと浮上ヘッ
ドが分離した光ヘッドや絞り込みレンズの筐体に超解像
膜を形成した透明基板が接している光ヘッド（浮上して
いない）等を用いても同様な効果があった。

【００３２】また、前記の記録又は再生装置と超解像膜
を設けたディスク（例えば、磁気的超解像技術（ＭＳ
Ｒ）が可能な光磁気ディスクなど）との併用、さらに光
学超解像技術（ＯＳＲ）との併用により、更なる高密度
記録又は再生が可能となる。

【００３３】実施例３図５は、本実施例における記録又は再生系の概要を示し
たものである。絞り込みレンズが一体となった浮上型ヘ
ッド３にはビームスポットが照射される２つの穴を形成
している。このうちの穴９の浮上ヘッドの底面側の直径
は入射ビーム径４よりも大きく、更に超解像膜６である
多光子吸収膜を形成した薄い透明基板８をとりつけてい
る。他方の穴１０の浮上ヘッドの底面側の直径は入射ビ
ーム径１１よりも小さくなっている。本実施例では、こ
の2つの穴には波長の異なるレーザビームを照射する。
穴９に入射するビームの波長λ１、穴１０に入射する
ビームの波長λ２とすると、λ１≧λ２の式を満足す
る場合が好ましい。通常、ビームの波長が短い方がレー
ザの最高出力は小さいため、穴９に入射したビーム４は
記録・再生に用い、穴１０に入射したビーム１１は再生
に用いるのがよい。もちろん、これに限る必要はない。
本実施例では、λ１を６８０ｎｍ、λ２を４１０ｎｍと
した。また、目的に応じて2つのビームを同時に照射し
てもよい。次に、浮上ヘッドの底面部のそれぞれの穴か
ら出る出射ビーム径の大きさについて説明する。まず、
穴９に入射するビーム４は図４と同じように超解像膜６
に焦点が合うように制御されている。超解像膜６へ入射
するビーム径をΦ３とすると、この超解像膜６から出た
ビーム径Φ４は２光子吸収で約０．７５Φ３となった。
また、穴１０に入射するビームは図６に示すように浮上
ヘッド３の底面側の穴（アパーチャ部分）に焦点が合う
ように制御している。そして浮上ヘッド３の底面側の穴
へ入射するビーム径（約λ／ＮＡ）をΦ５とすると、こ
の浮上ヘッド３の底面側の穴から出たビーム径Φ６が約
０．７Φ５となるように浮上ヘッド３の底面側の穴を形
成している。浮上ヘッド３とディスク７の表面との間
は、約１００μｍと制御しているため（近接場領域）、
浮上ヘッド３から出た両者のビームは、そのビーム径
（約０．７５Φ３および約０．７Φ５）のままでディス
ク上に照射される。

【００３４】本実施例では、ＳＩＬは用いなかったが、
例えば、穴９においては透明基板８の変わりにＳＩＬを
用いたり、穴１０においては浮上ヘッド３の底面側の穴
のところにＳＩＬを配置することにより更にディスクに
照射するビーム径を小さくすることができる。

【００３５】また、超解像膜６として、光退色性（光消
色性）を利用した光退色性膜や吸収飽和膜などのフォト
クロミック材料を用いても同様な効果があったが、ビー
ム照射が終了すると元の状態に戻る材質の方が好まし
い。

【００３６】超解像膜とディスクの記録膜面上との距離
は、近接場を用いるため約100nmと近づいている。この
スペース部分に透明な潤滑剤を設けてもよい。特にＳＩ
Ｌと同じ材料ならさらに好ましい。

【００３７】本実施例では、2つの穴を浮上ヘッドの進
行方向にならべたが、浮上ヘッドの進行方向の直角方向
にならべても良い。

【００３８】本実施例に用いる記録又は再生装置は、波
長の異なる２つのレーザを搭載し、レーザから出射され
たビームを浮上ヘッドにある2つの穴にそれぞれ入射す
る手段、該ビームを絞り込みレンズにより浮上ヘッドの
底面部のそれぞれの穴付近に集光する手段、浮上ヘッド
とディスクとの間の間隔を制御する手段、記録媒体を回
転させる手段を少なくとも有している。

【００３９】本実施例では、絞り込みレンズと浮上ヘッ
ドとを一体化したが、これに限らず、絞り込みレンズと
浮上ヘッドが分離した光ヘッド等を用いても同様な効果
があった。

【００４０】また、本実施例では、波長の異なる２つの
レーザを用いたが、もちろん同じ波長のレーザを２つ用
いても同様な効果が得られる。この時は、2つのレーザ
でそれぞれ記録・再生を行っても良い。更に、２つ以上
の穴を浮上ヘッド内に設け、２つ以上のレーザあるいは
２つ以上のビームで行っても良い。また、レーザは１つ
でそのビームを2つに分けたり、あるいは1つのレーザ１
つのビームで目的に応じてそれぞれの穴にその都度入射
させることによって記録・再生を行っても良い。

【００４１】また、前記の記録又は再生装置と超解像膜
を設けたディスク（例えば、磁気的超解像技術（ＭＳ
Ｒ）が可能な光磁気ディスクなど）との併用、さらに光
学超解像技術（ＯＳＲ）との併用により、更なる高密度
記録又は再生が可能となる。

【００４２】実施例４図7は、本実施例における記録又は再生系の概要を示し
たものである。ＳＩＬ１を搭載した浮上型ヘッド３に絞
り込みレンズ２を介して、半導体レーザ（波長635nm）
から出たレーザビーム４を入射する。ここで、絞り込み
レンズ２は固定ヘッド１２に取り付けられている。レー
ザビーム４の焦点はＳＩＬの研磨面５に合うようになっ
ている。更にＳＩＬの研磨面（平面部）５に、超解像
膜６及び超解像膜１３を形成している。ここでは、ビー
ム入射側の超解像膜６よりもビーム出射側の超解像膜１
３の方が、レーザパワー感度（ビーム強度に反応する感
度）が悪いものを用いる必要がある。また、この浮上型
ヘッド（光ヘッド）３とディスク７との間の距離は、約
100nmと近づいている（近接場領域）。この距離は、浮
上型ヘッド３の形状やディスク７の回転数などで制御さ
れほぼ一定に保たれる。図8に拡大図を示した。ここ
で、ＳＩＬの研磨面５でのビームスポット径（Φ７）
は、以下の式で表される。ＳＩＬの屈折率をｎ、レーザ
波長をλ、絞り込みレンズの開口数をＮＡとすると、 Φ７≒（１／ｎ）×（λ／ＮＡ）となる。すなわち、通常の１／ｎの回折限界が得られ
る。また球の大半を残しながら一部だけを平面で切り取
った「超半球」の形状にすることにより、Φ７≒λ／ｎ
²とビーム径を更に小さくできる。本実施例では、超解
像膜６、１３として、光反応条件が異なる２種類の超解
像膜を用いた。本実施例におけるそれぞれの位置でのス
ポット径は次のようになる。まず、ＳＩＬを出たところ
の１／e²でのスポット径をΦ７とすると、本実施例で用
いた超解像膜６の２光子吸収が生じるのは約７５％であ
る為、Φ８は０．７５Φ７となる。さらに、超解像膜６
を出た光は、超解像膜１３により０．７８Φ８の径にな
る。すなわち、ディスク面上に照射されるビーム径（Φ
９）は、ＳＩＬを出たところのスポット径Φ７の約６０
％（０．７５×０．７８）となる。

【００４３】また、ＳＩＬの中に多光子吸収を起こす材
料などを添加することもビーム径を小さくする１つの方
法である。この方法は別の実施例でも適用可能である。

【００４４】また、超解像膜として、多光子吸収膜の変
わりに、光退色性（光消色性）を利用した光退色性膜
（水溶性ジアゾニウム塩やフッ素環系ジアリールエテン
分子（FC-124）など）や吸収飽和膜（ナフタロシアニン
色素など）などのフォトクロミック材料を用いても同様
な効果があった。ただ、、光退色性のものは、弱いビー
ム照射でも徐々に反応して透明になってくるため多光子
吸収膜の方が好ましい。また、超解像膜のかわりに、例
えばどちらか一方に入射ビームよりも小さいピンホール
膜を形成したピンホール膜を用いても同様な効果があっ
た。ピンホール膜はビームの入射側に設ける方が好まし
い。このピンホール膜は、予めＳＩＬに薄膜を形成後、
ピンホールを機械的に形成しても良い。本実施例ではＳ
ＩＬを用いたが、場合によってはＳＩＬを用いなくても
良い。

【００４５】以上のように、ＳＩＬの研磨面に少なくと
も２層以上の超解像効果を有する膜あるいはピンホール
を形成することにより、ビームスポット径を従来よりも
更に小さくでき、高密度記録又は再生が可能となった。

【００４６】また、前記の記録又は再生装置と超解像膜
を設けたディスク（例えば、磁気的超解像技術（ＭＳ
Ｒ）が可能な光磁気ディスクなど）とを併用することに
より、更に高密度記録又は再生が可能となる。

【００４７】ＳＩＬの研磨面に形成した超解像膜とディ
スクの記録膜面上との距離は、近接場を用いるため約10
0nmと近づいている。このスペース部分に透明な潤滑剤
を設けてもよい。特にＳＩＬと同じ材料ならさらに好ま
しい。

【００４８】本実施例に用いる記録又は再生装置は、レ
ーザを搭載し、レーザから出射されたビームを絞り込み
レンズによりＳＩＬに少なくとも２層以上形成した超解
像膜に集光する手段、ＳＩＬとディスク表面との間の間
隔を制御する手段、記録媒体を回転させる手段を少なく
とも有している。本実施例では、絞り込みレンズと浮上
ヘッドとは分離したが、これに限らず、絞り込みレンズ
と浮上ヘッドが一体化した光ヘッド等を用いても同様な
効果があった。

【００４９】更に、本発明の記録方法および記録装置
は、原盤カッティング装置にも適用できる。

【００５０】実施例５図９は、本実施例における記録又は再生系の概要を示し
たものである。浮上型ヘッド３に光ファイバー１４が装
着され、その先端は光アパーチャ１５を形成するように
終わっている。浮上型ヘッド３の底面には薄い透明基板
８が配置され、この透明基板８に接して超解像膜６を形
成している。本実施例では、超解像膜６として、多光子
吸収膜を用いた。そしてこの透明基板８と光アパーチャ
１５は接するように調整する。半導体レーザ（波長635n
m）から出たレーザビーム４は光ファイバー１４により
伝播し、この超解像膜６に照射される。また、この浮上
型ヘッド（光ヘッド）３とディスク７との間の距離は、
約100nmと近づいている（近接場領域）。この距離は、
浮上型ヘッド３の形状やディスク７の回転数などで制御
されほぼ一定に保たれる。図１０に拡大図を示した。
ここで、超解像膜に入射するビームスポット径をΦ１０
とすると、超解像膜６を出たところのビームスポット径
Φ１１（１／e²での値）は、２光子吸収で約０．８０Φ
１０となった。

【００５１】また、超解像膜として、光退色性（光消色
性）を利用した光退色性膜や吸収飽和膜などの材料を用
いても同様な効果があった。また、超解像膜のかわり
に、例えば入射ビームよりも小さいピンホールを予め形
成したピンホール膜を用いても同様な効果があった。

【００５２】以上のように、光ヘッドに光ファイバと超
解像効果を有する膜を形成することにより、ビームスポ
ット径を従来よりも更に小さくでき、高密度記録又は再
生が可能となった。

【００５３】本実施例に用いる記録又は再生装置は、レ
ーザを搭載し、レーザから出射されたビームを光ファイ
バにより超解像膜に集光する手段、超解像膜面とディ
スクとの間の間隔を制御する手段、記録媒体を回転させ
る手段を少なくとも有している。

【００５４】また、前記の記録又は再生装置と超解像膜
を設けたディスク（例えば、磁気的超解像技術（ＭＳ
Ｒ）が可能な光磁気ディスクなど）との併用、さらに光
学超解像技術（ＯＳＲ）との併用により、更なる高密度
記録又は再生が可能となる。

【００５５】

【発明の効果】本発明によれば、光ヘッドに超解像膜を
形成することにより、ビームスポット径を従来よりも更
に小さくでき、高密度記録又は再生が可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１における記録又は再生系の説明図。

【図２】実施例１における超解像膜部分の拡大図。

【図３】実施例２における記録又は再生系の説明図。

【図４】実施例２における超解像膜部分の拡大図。

【図５】実施例３における記録又は再生系の説明図。

【図６】実施例３における穴１０のアパーチャ部分の拡
大図。

【図７】実施例４における記録又は再生系の説明図。

【図８】実施例４における超解像膜部分の拡大図。

【図９】実施例５における記録又は再生系の説明図。

【図１０】実施例５における超解像膜部分の拡大図。

【符号の説明】

１ＳＩＬ(Solid Immersion Lens) ２絞り込みレンズ３浮上型ヘッド４，１１レーザビーム５ＳＩＬの研磨面６，１３超解像膜７ディスク８透明基板９，１０穴１２固定ヘッド１４光ファイバ１５光アパーチャ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エネルギービームの照射によって記録媒体
に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法にお
いて、超解像膜を形成した光ヘッドを用いることを特徴
とする情報の記録又は再生方法。
【請求項２】請求項１記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、ビームを照射していない領域での超解像膜の屈
折率をｎ、ビームの波長をλとすると、上記超解像膜の
膜厚ｄが、ｄ≒（λ／２ｎ）であることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３】請求項１記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、上記超解像膜を２層以上積層していることを特
徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４】請求項３記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、ビームの入射側から出射側にかけてビーム強度
に反応する感度が徐々に低くなっていることを特徴とす
る情報の記録又は再生方法。
【請求項５】請求項１から４のいずれか記載の情報の記
録又は再生方法において、上記超解像膜としてフォトク
ロミック材料を用いることを特徴とする情報の記録又は
再生方法。
【請求項６】請求項５記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項７】請求項５記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項８】請求項５記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項９】請求項５記載の情報の記録又は再生方法に
おいて、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用いる
ことを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１０】請求項５記載の情報の記録又は再生方法
において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１１】請求項１０記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項１２】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、超解像膜を形成した光ヘッドを有することを特
徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１３】請求項１２記載の情報の記録又は再生装
置において、上記光ヘッドは、上記エネルギービームを生成するレー
ザと、該エネルギービームを絞り込むレンズと、該レン
ズにより集光した位置に設けられた超解像膜とを有する
ことを特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１４】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、超解像膜を底面に形成したＳＩＬ(Solid Immer
sion Lens)を用いることを特徴とする情報の記録又は再
生方法。
【請求項１５】請求項１４記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームを照射していない領域での超解像膜
の屈折率をｎ、ビームの波長をλとすると、上記超解像
膜の膜厚ｄが、ｄ≒（λ／２ｎ）であることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１６】請求項１４記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜を２層以上積層していること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１７】請求項１６記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側から出射側にかけてビーム
強度に反応する感度が徐々に低くなっていることを特徴
とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１８】請求項１４から１７のいずれか記載の情
報の記録又は再生方法において、上記超解像膜としてフ
ォトクロミック材料を用いることを特徴とする情報の記
録又は再生方法。
【請求項１９】請求項１８記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項２０】請求項１８記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項２１】請求項１８記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収
膜を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項２２】請求項１８記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項２３】請求項１８記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項２４】請求項２３記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項２５】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、超解像膜を底面に形成したＳＩＬ(Solid Immer
sion Lens)を用いることを特徴とする情報の記録又は再
生装置。
【請求項２６】請求項２５記載の情報の記録又は再生装
置において、上記エネルギービームを生成するレーザと、該エネルギ
ービームを絞り込むレンズとをさらに具備し、上記ＳＩ
Ｌは、上記レンズからのエネルギービームを上記超解像
膜に集光することを特徴とする情報の記録又は再生装
置。
【請求項２７】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜を底面に形成したＳ
ＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いることを特徴とする
情報の記録又は再生方法。
【請求項２８】請求項２７記載の情報の記録又は再生方
法において、上記ＳＩＬにピンホール膜となる薄膜を形
成した後、ピンホールを形成することを特徴とする情報
の記録又は再生方法。
【請求項２９】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜を底面に形成したＳ
ＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いることを特徴とする
情報の記録又は再生装置。
【請求項３０】請求項２９記載の情報の記録又は再生装
置において、上記エネルギービームを生成するレーザと、該エネルギ
ービームを絞り込むレンズとをさらに具備し、上記ＳＩ
Ｌは、上記レンズからのエネルギービームを上記ピンホ
ール膜の上記ピンホールに集光することを特徴とする情
報の記録又は再生装置。
【請求項３１】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜と超解像膜を同一場
所に積層した光ヘッドを用いることを特徴とする情報の
記録又は再生方法。
【請求項３２】請求項３１記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームを照射していない領域でのビームの
入射側に形成した膜の屈折率をｎ、ビームの波長をλと
すると、ビームの入射側に形成した膜の膜厚ｄが、ｄ≒（λ／２ｎ）であることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３３】請求項３１記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側に上記ピンホール膜が形成
されていることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３４】請求項３１記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜を２層以上積層していること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３５】請求項３４記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側から出射側にかけてビーム
強度に反応する感度が徐々に低くなっていることを特徴
とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３６】請求項３１から３５のいずれか記載の情
報の記録又は再生方法において、上記超解像膜としてフ
ォトクロミック材料を用いることを特徴とする情報の記
録又は再生方法。
【請求項３７】請求項３６記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項３８】請求項３６記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項３９】請求項３６記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収
膜を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４０】請求項３６記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４１】請求項３６記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４２】請求項４１記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項４３】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜と超解像膜を同一場
所に積層した光ヘッドを有することを特徴とする情報の
記録又は再生装置。
【請求項４４】請求項４３記載の情報の記録又は再生装
置において、上記光ヘッドは、上記エネルギービームを生成するレー
ザと、該エネルギービームを絞り込むレンズと、該レン
ズにより集光した位置に設けられたピンホール膜あるい
は超解像膜を有することを特徴とする情報の記録又は再
生装置。
【請求項４５】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜と超解像膜を底面に
積層したＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いることを
特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４６】請求項４５記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームを照射していない領域でのビームの
入射側に形成した膜の屈折率をｎ、ビームの波長をλと
すると、ビームの入射側に形成した膜の膜厚ｄが、ｄ≒（λ／２ｎ）であることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４７】請求項４５記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側に上記ピンホール膜が形成
されていることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４８】請求項４５記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜を２層以上積層していること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項４９】請求項４８記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側から出射側にかけてビーム
強度に反応する感度が徐々に低くなっていることを特徴
とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５０】請求項４５から４９のいずれか記載の情
報の記録又は再生方法において、上記超解像膜としてフ
ォトクロミック材料を用いることを特徴とする情報の記
録又は再生方法。
【請求項５１】請求項５０記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項５２】請求項５０記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５３】請求項５０記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収
膜を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５４】請求項５０記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５５】請求項５０記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５６】請求項５５記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項５７】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、入射されるエネルギービーム径よりも小さなピ
ンホールが形成されたピンホール膜と超解像膜を底面に
積層したＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いることを
特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項５８】請求項５７記載の情報の記録又は再生装
置において、上記エネルギービームを生成するレーザと、該エネルギ
ービームを絞り込むレンズとをさらに具備し、上記ＳＩＬは、上記レンズからのエネルギービームを上
記ＳＩＬの底面に集光することを特徴とする情報の記録
又は再生装置。
【請求項５９】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、超解像膜を先端に形成した光ファイバーを用い
ることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６０】請求項５９記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームを照射していない領域での超解像膜
の屈折率をｎ、ビームの波長をλとすると、上記超解像
膜の膜厚ｄが、ｄ≒（λ／２ｎ）であることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６１】請求項５９記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜を２層以上積層していること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６２】請求項５９記載の情報の記録又は再生方
法において、ビームの入射側から出射側にかけてビーム
強度に反応する感度が徐々に低くなっていることを特徴
とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６３】請求項５９から６２のいずれか記載の情
報の記録又は再生方法において、上記超解像膜としてフ
ォトクロミック材料を用いることを特徴とする情報の記
録又は再生方法。
【請求項６４】請求項６３記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項６５】請求項６３記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６６】請求項６３記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収
膜を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６７】請求項６３記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６８】請求項６３記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６９】請求項６８記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項７０】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、超解像膜を先端に形成した光ファイバーを用い
ることを特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項７１】請求項７０記載の情報の記録又は再生装
置において、上記エネルギービームを生成するレーザと、該エネルギ
ービームを光ファイバーの先端に形成した超解像膜に集
光することを特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項７２】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法に
おいて、エネルギービームを通過させるための２つ以上
の穴が形成された光ヘッドを用いることを特徴とする情
報の記録又は再生方法。
【請求項７３】請求項７２記載の情報の記録又は再生方
法において、上記２つ以上の穴のうち少なくとも１つの
穴には超解像膜が形成されていることを特徴とする情報
の記録又は再生方法。
【請求項７４】請求項７３記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜としてフォトクロミック材料
を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項７５】請求項７４記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ている間、該超解像膜上の上記エネルギービームが照射
されている部分の中心部の透過率が高くなり、照射が中
止されると該透過率が低くなる膜を用いることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項７６】請求項７４記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として、上記エネルギービームが照射され
ることにより屈折率の実数部が変化する膜を用いること
を特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項７７】請求項７４記載の情報の記録又は再生方
法において、上記超解像膜として少なくとも多光子吸収
膜を用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項７８】請求項７４記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも光退色性膜を用
いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項７９】請求項７４記載の情報の記録又は再生方
法において、超解像膜として少なくとも可飽和吸収膜を
用いることを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項８０】請求項７９記載の情報の記録又は再生方
法において、可飽和吸収膜を用い、読み出し光とは異な
る波長のバイアス光を照射しながら情報を読み出すこと
を特徴とする情報の記録又は再生方法
【請求項８１】エネルギービームの照射によって記録媒
体に情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置に
おいて、エネルギービームが通過する２つ以上の穴が形
成された光ヘッドを有することを特徴とする情報の記録
又は再生装置。
【請求項８２】請求項８１記載の情報の記録又は再生装
置において、上記エネルギービームを生成するレーザと、上記形成さ
れているそれぞれの穴にレーザから出たエネルギービー
ムを通過させる手段、該エネルギービームを絞り込むレ
ンズと、該レンズにより集光した位置に設けられた超解
像膜を有することを特徴とする情報の記録又は再生装
置。
【請求項８３】請求項８１記載の情報の記録又は再生装
置において、波長の異なる２つ以上のレーザを用い、上記形成されて
いるそれぞれの穴に別々のレーザから出たエネルギービ
ームを通過させる手段を有することを特徴とする情報の
記録又は再生装置。
【請求項８４】請求項８１記載の情報の記録又は再生装
置において、１つのレーザを用い、上記形成されているそれぞれの穴
にそのレーザから出たエネルギービームを２つ以上のビ
ームに分離した後、通過させる手段を有することを特徴
とする情報の記録又は再生装置。