JPH11219543A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH11219543A JPH11219543A JP10033857A JP3385798A JPH11219543A JP H11219543 A JPH11219543 A JP H11219543A JP 10033857 A JP10033857 A JP 10033857A JP 3385798 A JP3385798 A JP 3385798A JP H11219543 A JPH11219543 A JP H11219543A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- refractive index
- optical disk
- film
- signal surface
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半透明反射膜に安価な材料を用いて、しかも
耐湿性や再生特性を向上させることができる光ディスク
を提供する。 【解決手段】 第1の信号面4を有する第1のディスク
基体2と、この第1の信号面上に形成された半透明反射
膜6と、第2の信号面5を有する第2のディスク基体2
と、この第2の信号面上に形成された反射膜とを少なく
とも有する光ディスクにおいて、前記半透明反射膜は、
Si系化合物よりなり、その光学的膜厚が100.9〜
140nmの範囲内にあると共に、その屈折率が3.6
7以下となるようにする。このように半透明反射膜に安
価な材料を用いて、しかも耐湿性や再生特性を向上させ
る。
耐湿性や再生特性を向上させることができる光ディスク
を提供する。 【解決手段】 第1の信号面4を有する第1のディスク
基体2と、この第1の信号面上に形成された半透明反射
膜6と、第2の信号面5を有する第2のディスク基体2
と、この第2の信号面上に形成された反射膜とを少なく
とも有する光ディスクにおいて、前記半透明反射膜は、
Si系化合物よりなり、その光学的膜厚が100.9〜
140nmの範囲内にあると共に、その屈折率が3.6
7以下となるようにする。このように半透明反射膜に安
価な材料を用いて、しかも耐湿性や再生特性を向上させ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、片側面から2層の
信号面の情報を再生するようにした片面2層構造の光デ
ィスクに係り、特に、その半透明反射膜の改良に関す
る。
信号面の情報を再生するようにした片面2層構造の光デ
ィスクに係り、特に、その半透明反射膜の改良に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、光ディスクの高密度化及び大容量
化に対する要求が高まってきており、そこで、1層では
なく信号面を多層化した光ディスクが提案されている。
この多層光ディスクの内、2層構造の光ディスクに関し
ては、ディスクの両面側よりそれぞれ対応する側の記録
面の情報を読み出すようにした両面2層構造の光ディス
クやディスクの片面側より2層の記録面の情報を読み出
すようにした片面2層構造の光ディスクなどがある。こ
の片面2層構造の光ディスクは、例えば特公平8−23
941号公報等に開示されているように2層の信号面の
内、レーザ光照射側の信号面には十数%程度の一定の反
射率を有する半透明反射膜を設け、それとは反対側の他
方の信号面には略100%に近い反射率を有する単なる
反射膜を設けるように構成されている。
化に対する要求が高まってきており、そこで、1層では
なく信号面を多層化した光ディスクが提案されている。
この多層光ディスクの内、2層構造の光ディスクに関し
ては、ディスクの両面側よりそれぞれ対応する側の記録
面の情報を読み出すようにした両面2層構造の光ディス
クやディスクの片面側より2層の記録面の情報を読み出
すようにした片面2層構造の光ディスクなどがある。こ
の片面2層構造の光ディスクは、例えば特公平8−23
941号公報等に開示されているように2層の信号面の
内、レーザ光照射側の信号面には十数%程度の一定の反
射率を有する半透明反射膜を設け、それとは反対側の他
方の信号面には略100%に近い反射率を有する単なる
反射膜を設けるように構成されている。
【0003】この1枚の光ディスクに2層の信号面を設
けた光ディスクの製造は通常の光ディスクの半分の厚さ
の2枚のディスク基体にそれぞれ信号面を形成し、両信
号面が対向するようにして両ディスク基体を背中合わせ
にして厚さ50μm程度の中間層、例えば紫外線硬化樹
脂で貼り合わせるようにした方法と、1枚のディスク基
体について射出成形により信号面を形成し、この上に2
P法(フォトポリマー法)により紫外線硬化樹脂を射出
して2層目の信号面を形成するようにした方法とが知ら
れている。そして、これらの両信号面の情報を、読み出
しレーザ光のフォーカス位置を調整することで、或いは
再生波長を変えることで情報を再生できるようになって
いる。
けた光ディスクの製造は通常の光ディスクの半分の厚さ
の2枚のディスク基体にそれぞれ信号面を形成し、両信
号面が対向するようにして両ディスク基体を背中合わせ
にして厚さ50μm程度の中間層、例えば紫外線硬化樹
脂で貼り合わせるようにした方法と、1枚のディスク基
体について射出成形により信号面を形成し、この上に2
P法(フォトポリマー法)により紫外線硬化樹脂を射出
して2層目の信号面を形成するようにした方法とが知ら
れている。そして、これらの両信号面の情報を、読み出
しレーザ光のフォーカス位置を調整することで、或いは
再生波長を変えることで情報を再生できるようになって
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記片側2
層構造の光ディスクの半透明反射膜としては、化学的に
安定して耐湿性にも強いことから、一般的には金(A
u)が用いられている。しかしながら、金を用いる場合
には、コスト高で、しかも樹脂である中間層との接着性
が少し劣ってしまうという問題があった。これに対し
て、金に代えて半透明反射膜としてSi、SiNx、S
iC、SiOx、SiON、ZnS、ZnS−SiOx
等を用いることも種々検討されているが、この場合に
は、コスト的には削減できるが、高温高湿テスト等の信
頼性テストにおいて反射率の低下が生じるなどして未だ
耐湿性や再生特性が十分な光ディスクが得られないのが
現状である。
層構造の光ディスクの半透明反射膜としては、化学的に
安定して耐湿性にも強いことから、一般的には金(A
u)が用いられている。しかしながら、金を用いる場合
には、コスト高で、しかも樹脂である中間層との接着性
が少し劣ってしまうという問題があった。これに対し
て、金に代えて半透明反射膜としてSi、SiNx、S
iC、SiOx、SiON、ZnS、ZnS−SiOx
等を用いることも種々検討されているが、この場合に
は、コスト的には削減できるが、高温高湿テスト等の信
頼性テストにおいて反射率の低下が生じるなどして未だ
耐湿性や再生特性が十分な光ディスクが得られないのが
現状である。
【0005】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は半透明反射膜に安価な材料を用いて、しかも耐湿性
や再生特性を向上させることができる光ディスクを提供
することにある。
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は半透明反射膜に安価な材料を用いて、しかも耐湿性
や再生特性を向上させることができる光ディスクを提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、半透明反
射膜について鋭意研究した結果、光の吸収率をできるだ
け抑制するために従来にあっては半透明反射膜の屈折率
を高くしてこの膜厚をできるだけ薄くした方が信号特性
が良くなると思われていたが、発想を逆転させて、半透
明反射膜の屈折率を下げたところ、所定の反射率を得る
ためには膜厚を大きくせざるを得なかったが、この場合
には逆に耐湿性を向上させることができる、という知見
を得ることにより本発明に至ったものである。
射膜について鋭意研究した結果、光の吸収率をできるだ
け抑制するために従来にあっては半透明反射膜の屈折率
を高くしてこの膜厚をできるだけ薄くした方が信号特性
が良くなると思われていたが、発想を逆転させて、半透
明反射膜の屈折率を下げたところ、所定の反射率を得る
ためには膜厚を大きくせざるを得なかったが、この場合
には逆に耐湿性を向上させることができる、という知見
を得ることにより本発明に至ったものである。
【0007】すなわち、本発明は、第1の信号面を有す
る第1のディスク基体と、この第1の信号面上に形成さ
れた半透明反射膜と、第2の信号面を有する第2のディ
スク基体と、この第2の信号面上に形成された反射膜と
を少なくとも有する光ディスクにおいて、前記半透明反
射膜は、Si系化合物よりなり、その光学的膜厚が10
0.9〜140nmの範囲内にあると共に、その屈折率
が3.67以下となるように構成したものである。
る第1のディスク基体と、この第1の信号面上に形成さ
れた半透明反射膜と、第2の信号面を有する第2のディ
スク基体と、この第2の信号面上に形成された反射膜と
を少なくとも有する光ディスクにおいて、前記半透明反
射膜は、Si系化合物よりなり、その光学的膜厚が10
0.9〜140nmの範囲内にあると共に、その屈折率
が3.67以下となるように構成したものである。
【0008】これにより、半透明反射膜に金を用いない
でも光ディスクの耐湿性を向上して信号特性も高く維持
することが可能となる。このようなSi系化合物は、S
iNx(x<4/3)、SiC及びSiOy(y<2)
の内のいずれか1つを用いることができる。
でも光ディスクの耐湿性を向上して信号特性も高く維持
することが可能となる。このようなSi系化合物は、S
iNx(x<4/3)、SiC及びSiOy(y<2)
の内のいずれか1つを用いることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る光ディスク
の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発
明に係る光ディスクの一実施例を示す拡大部分断面図で
ある。図示するようにこの光ディスク1は、例えばポリ
カーボネート製の透明基板よりなる第1及び第2のディ
スク基体2、3を有しており、それぞれのディスク基体
2、3の内側面には、凹凸状になされたピット等が形成
されて第1の信号面4及び第2の信号面5として構成さ
れている。第1の信号面4上には本発明とする半透明反
射膜6が形成されており、また、第2の信号面5上には
例えばアルミニウム等よりなる略100%近い反射率を
有する反射膜7が形成されている。そして、両ディスク
基板2、3は、半透明反射膜6と反射膜7を内側にし
て、例えば紫外線硬化樹脂よりなる中間層8を介して接
合されている。尚、前述したように上記構造を2P法で
形成してもよいのは勿論である。
の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発
明に係る光ディスクの一実施例を示す拡大部分断面図で
ある。図示するようにこの光ディスク1は、例えばポリ
カーボネート製の透明基板よりなる第1及び第2のディ
スク基体2、3を有しており、それぞれのディスク基体
2、3の内側面には、凹凸状になされたピット等が形成
されて第1の信号面4及び第2の信号面5として構成さ
れている。第1の信号面4上には本発明とする半透明反
射膜6が形成されており、また、第2の信号面5上には
例えばアルミニウム等よりなる略100%近い反射率を
有する反射膜7が形成されている。そして、両ディスク
基板2、3は、半透明反射膜6と反射膜7を内側にし
て、例えば紫外線硬化樹脂よりなる中間層8を介して接
合されている。尚、前述したように上記構造を2P法で
形成してもよいのは勿論である。
【0010】読み出し用レーザ光Lは波長λが例えば6
50nm程度であり、このレーザ光Lは第1のディスク
基体2側から入射され、フォーカス調整を行なうことに
より半透明反射膜6で反射されたレーザ光L1或いは反
射膜7で反射されたレーザ光L2を選択的に図示しない
光ピックアップで受けることになる。ここで、半透明反
射膜6としては、金ではなく、Si系化合物よりなる材
料、例えばSiNx(x<4/3)、SiC、SiOy
(y<2)の内のいずれか1つを用いる。そして、この
半透明反射膜6の光学的膜厚、すなわち膜厚と屈折率の
積を100.9〜140nmの範囲内に設定し、また、
その屈折率を3.67以下に設定する。尚、ここで第1
のディスク基板2の厚みは0.55〜0.6mm程度、
中間層8の厚みは40〜70μm程度、反射層7の厚み
は40〜100nm程度及び第2のディスク基体3の厚
みは0.55〜0.6mm程度である。これにより、光
ディスクの耐湿性を向上させることができ、信号特性の
劣化を防止することが可能となる。
50nm程度であり、このレーザ光Lは第1のディスク
基体2側から入射され、フォーカス調整を行なうことに
より半透明反射膜6で反射されたレーザ光L1或いは反
射膜7で反射されたレーザ光L2を選択的に図示しない
光ピックアップで受けることになる。ここで、半透明反
射膜6としては、金ではなく、Si系化合物よりなる材
料、例えばSiNx(x<4/3)、SiC、SiOy
(y<2)の内のいずれか1つを用いる。そして、この
半透明反射膜6の光学的膜厚、すなわち膜厚と屈折率の
積を100.9〜140nmの範囲内に設定し、また、
その屈折率を3.67以下に設定する。尚、ここで第1
のディスク基板2の厚みは0.55〜0.6mm程度、
中間層8の厚みは40〜70μm程度、反射層7の厚み
は40〜100nm程度及び第2のディスク基体3の厚
みは0.55〜0.6mm程度である。これにより、光
ディスクの耐湿性を向上させることができ、信号特性の
劣化を防止することが可能となる。
【0011】次に、上記半透明反射膜6の特性について
詳しく説明する。ここでは、半透明反射膜6の材料とし
てSiNxを用いてDVD用光ディスクを製造する場合
を例にとって説明する。SiNxの成膜方法は、Siタ
ーゲットを用いたDCマグネトロンスパッタ方式が一般
的であり、ArガスにN2 ガスを混合して供給し、Si
とN2 を反応させてSiNx膜として成膜させる。ま
ず、表1に示すように半透明反射膜の成膜時の成膜圧力
を0.6〜1.4Paの範囲内で、また膜厚を23.1
〜37nmの範囲内で種々変更して実施例1、2と比較
例1の光ディスクを作成した。
詳しく説明する。ここでは、半透明反射膜6の材料とし
てSiNxを用いてDVD用光ディスクを製造する場合
を例にとって説明する。SiNxの成膜方法は、Siタ
ーゲットを用いたDCマグネトロンスパッタ方式が一般
的であり、ArガスにN2 ガスを混合して供給し、Si
とN2 を反応させてSiNx膜として成膜させる。ま
ず、表1に示すように半透明反射膜の成膜時の成膜圧力
を0.6〜1.4Paの範囲内で、また膜厚を23.1
〜37nmの範囲内で種々変更して実施例1、2と比較
例1の光ディスクを作成した。
【0012】
【表1】
【0013】ここで屈折率nの調整は、成膜圧力を0.
6〜1.4Paの範囲内で変化させることによって行な
った。この時の半透明反射膜の成膜条件は、Arガス流
量が20sccm、N2 ガスの流量が2.5sccm、
DCパワーが1A(アンペア)−540Vである。この
ようにして得られた実施例1、2及び比較例1の各光デ
ィスクについて、反射率、DVD信号反射率、反射率変
化量(80℃、85%RH、96h)、DVD信号反射
率変化量(80℃、85%RH、96h)の各特性を測
定した。その測定結果も、上記表1に併せて記載されて
いる。尚、ここで、反射率はスライドガラス上に成膜し
た物を波長が650nmの分光光度計で測定した値を示
しており、DVD信号反射率とは、DVD規格に従って
測定した値(波長は650nm)を示しており、この値
の規格上の許容範囲は18〜30%である。また、屈折
率nはエリプリメータで測定し、膜厚dはタリステップ
で測定した。また、高温高湿試験は、温度が80℃、湿
度が85%の雰囲気中に試料(ディスク)を96時間放
置することによって行なった。
6〜1.4Paの範囲内で変化させることによって行な
った。この時の半透明反射膜の成膜条件は、Arガス流
量が20sccm、N2 ガスの流量が2.5sccm、
DCパワーが1A(アンペア)−540Vである。この
ようにして得られた実施例1、2及び比較例1の各光デ
ィスクについて、反射率、DVD信号反射率、反射率変
化量(80℃、85%RH、96h)、DVD信号反射
率変化量(80℃、85%RH、96h)の各特性を測
定した。その測定結果も、上記表1に併せて記載されて
いる。尚、ここで、反射率はスライドガラス上に成膜し
た物を波長が650nmの分光光度計で測定した値を示
しており、DVD信号反射率とは、DVD規格に従って
測定した値(波長は650nm)を示しており、この値
の規格上の許容範囲は18〜30%である。また、屈折
率nはエリプリメータで測定し、膜厚dはタリステップ
で測定した。また、高温高湿試験は、温度が80℃、湿
度が85%の雰囲気中に試料(ディスク)を96時間放
置することによって行なった。
【0014】図2は表1に示す結果を参照して横軸に光
学的膜厚n・dをとり、縦軸にDVD信号反射率変化量
と反射率変化量をそれぞれとった時の関係を示すグラフ
である。また、図3は表1に示す結果を参照して横軸に
屈折率nをとり、縦軸にDVD信号反射率変化量と、反
射率変化量をそれぞれとった時の関係を示すグラフであ
る。図2及び図3から明らかなように比較例1のように
膜厚が23nm程度で屈折率が3.73の場合で、光学
的膜厚が86nm程度の場合には、反射率変化量は6.
8%程度になって大きく落ち込んで好ましくなく、ま
た、DVD信号反射率変化量も2.6%程度も落ち込ん
で好ましくない。
学的膜厚n・dをとり、縦軸にDVD信号反射率変化量
と反射率変化量をそれぞれとった時の関係を示すグラフ
である。また、図3は表1に示す結果を参照して横軸に
屈折率nをとり、縦軸にDVD信号反射率変化量と、反
射率変化量をそれぞれとった時の関係を示すグラフであ
る。図2及び図3から明らかなように比較例1のように
膜厚が23nm程度で屈折率が3.73の場合で、光学
的膜厚が86nm程度の場合には、反射率変化量は6.
8%程度になって大きく落ち込んで好ましくなく、ま
た、DVD信号反射率変化量も2.6%程度も落ち込ん
で好ましくない。
【0015】これに対して、実施例1のように膜厚が2
8nm程度で屈折率が3.67の場合であって光学的膜
厚が100nm程度の時には、反射率変化量は4.6%
程度になってかなり改善されており、特に、DVD信号
反射率変化量は1.3%になって大きく改善されて、良
好な結果を示していることが判明する。特に、実施例2
に示すように膜厚が37nm程度で屈折率が3.40の
場合であって光学的膜厚が126nm程度の時には、反
射率変化量も2.89%程度に大幅に改善されており、
特に良好な結果を示していることが判明する。従って、
以上の結果より、反射率変化量及びDVD反射率変化量
を向上させて良好に維持するためには、少なくとも屈折
率nを3.67以下に維持し、且つ光学的膜厚n・dを
100.9以上に設定しなければならないことが判明す
る。
8nm程度で屈折率が3.67の場合であって光学的膜
厚が100nm程度の時には、反射率変化量は4.6%
程度になってかなり改善されており、特に、DVD信号
反射率変化量は1.3%になって大きく改善されて、良
好な結果を示していることが判明する。特に、実施例2
に示すように膜厚が37nm程度で屈折率が3.40の
場合であって光学的膜厚が126nm程度の時には、反
射率変化量も2.89%程度に大幅に改善されており、
特に良好な結果を示していることが判明する。従って、
以上の結果より、反射率変化量及びDVD反射率変化量
を向上させて良好に維持するためには、少なくとも屈折
率nを3.67以下に維持し、且つ光学的膜厚n・dを
100.9以上に設定しなければならないことが判明す
る。
【0016】ここで、SiNxのxを4/3よりも小さ
くしている理由は、Siを完全に窒化させたSi3 N4
は屈折率が2.0前後となってそのDVD信号反射率は
10%前後と低くなり過ぎ(DVD規格は18〜30
%)、好ましくない。そのため、不完全な窒化、すなわ
ち窒化率の低い窒化シリコンSiNxにして屈折率を上
げることにより、上記DVD信号反射率の規格を満たす
ようにしている。上述のように、半透明反射膜の光学的
膜厚が100.9以上でも、この膜のDVD信号反射率
を規格である18〜30%内に収めなければならない。
そこで、光学的膜厚とDVD信号反射率及び変調度(モ
ジュレーション)との関係を調べた。
くしている理由は、Siを完全に窒化させたSi3 N4
は屈折率が2.0前後となってそのDVD信号反射率は
10%前後と低くなり過ぎ(DVD規格は18〜30
%)、好ましくない。そのため、不完全な窒化、すなわ
ち窒化率の低い窒化シリコンSiNxにして屈折率を上
げることにより、上記DVD信号反射率の規格を満たす
ようにしている。上述のように、半透明反射膜の光学的
膜厚が100.9以上でも、この膜のDVD信号反射率
を規格である18〜30%内に収めなければならない。
そこで、光学的膜厚とDVD信号反射率及び変調度(モ
ジュレーション)との関係を調べた。
【0017】図4はこの時の結果を示しており、光学的
膜厚を25〜150nmの範囲内で種々変更している。
縦軸には変調度をとっており、この変調度は光ディスク
の情報を再生したときにピックアップから得られるRF
信号より求められ、この特性が大きいほどピット長さの
識別精度が上がる。尚、この時の半透明反射膜の成膜条
件は、圧力が1.0Pa、Arガス流量が20scc
m、N2 ガス流量が2.5sccm、パワーが1A−5
70Vである。グラフから明らかなように光学的膜厚n
・dが大きくなる程、変調度も大きくなり、全て0.8
4以上の大きさなので良好であるが、DVD信号反射率
規格範囲である18〜30%を満足する光学的膜厚は8
1nm(λ/8)〜140nmの範囲内である。
膜厚を25〜150nmの範囲内で種々変更している。
縦軸には変調度をとっており、この変調度は光ディスク
の情報を再生したときにピックアップから得られるRF
信号より求められ、この特性が大きいほどピット長さの
識別精度が上がる。尚、この時の半透明反射膜の成膜条
件は、圧力が1.0Pa、Arガス流量が20scc
m、N2 ガス流量が2.5sccm、パワーが1A−5
70Vである。グラフから明らかなように光学的膜厚n
・dが大きくなる程、変調度も大きくなり、全て0.8
4以上の大きさなので良好であるが、DVD信号反射率
規格範囲である18〜30%を満足する光学的膜厚は8
1nm(λ/8)〜140nmの範囲内である。
【0018】尚、このグラフより半透明反射膜の反射率
が最大になる膜厚、すなわち読み出しレーザ光の波長λ
の1/4の膜厚(162nm)よりも少し小さい140
nmの所に光学的膜厚の上限値が存在している点を、理
解することができる。このように、前述した表1に示す
結果で得られた良好な光学的膜厚の範囲である100.
9nm以上と、上記した図4に示す結果より得られた良
好な光学的膜厚の範囲である81〜140nmとを参照
すると最終的に採用することができる光学的膜厚の範囲
は100.9〜140nmの範囲となる。従って、反射
率変化量及びDVD反射率変化量を向上させて良好に維
持するためには、半透明反射膜の屈折率nを3.67以
下とし、且つこの光学的膜厚n・dを100.9〜14
0nmの範囲に設定すればよいことが判明する。そし
て、これにより、光ディスクの耐湿性を大幅に向上させ
ることができ、しかも、再生信号特性も高く維持するこ
とができる。
が最大になる膜厚、すなわち読み出しレーザ光の波長λ
の1/4の膜厚(162nm)よりも少し小さい140
nmの所に光学的膜厚の上限値が存在している点を、理
解することができる。このように、前述した表1に示す
結果で得られた良好な光学的膜厚の範囲である100.
9nm以上と、上記した図4に示す結果より得られた良
好な光学的膜厚の範囲である81〜140nmとを参照
すると最終的に採用することができる光学的膜厚の範囲
は100.9〜140nmの範囲となる。従って、反射
率変化量及びDVD反射率変化量を向上させて良好に維
持するためには、半透明反射膜の屈折率nを3.67以
下とし、且つこの光学的膜厚n・dを100.9〜14
0nmの範囲に設定すればよいことが判明する。そし
て、これにより、光ディスクの耐湿性を大幅に向上させ
ることができ、しかも、再生信号特性も高く維持するこ
とができる。
【0019】上記実施例では、半透明反射膜であるSi
Nxの窒化率(屈折率)を変化させる方法として、N2
ガスの供給量を一定として成膜圧力を変えたが、これに
代えて、成膜圧力を一定としてN2 ガスの供給量を変化
させることによって、窒化率を変化させるようにしても
よい。すなわち、成膜圧力を一定に維持しつつN2 ガス
の供給量を増加すれば、逆に屈折率を減少させることが
できる。図5はN2 ガス流量と屈折率との関係を示すグ
ラフであり、成膜圧力を例えば0.6Paに一定に維持
しつつN2 ガス流量を増加する程、すなわち窒化率を増
加させる程、屈折率が減少しており、これにより屈折率
の調整を行なうことができる。尚、ここでは半透明反射
膜の材料としてSiNxを例にとって説明したが、他の
Si系化合物、例えばSiC、SiOyにも適用できる
のは勿論である。SiCの場合には成膜時にCH4 ガス
やC2 H6 ガスを供給して、この流量調整を行なうこと
によって屈折率の制御を行なうことができ、また、Si
Oyの場合には成膜時にO2 ガスを供給してこの流量を
調整することによって屈折率の制御を行なうことができ
る。
Nxの窒化率(屈折率)を変化させる方法として、N2
ガスの供給量を一定として成膜圧力を変えたが、これに
代えて、成膜圧力を一定としてN2 ガスの供給量を変化
させることによって、窒化率を変化させるようにしても
よい。すなわち、成膜圧力を一定に維持しつつN2 ガス
の供給量を増加すれば、逆に屈折率を減少させることが
できる。図5はN2 ガス流量と屈折率との関係を示すグ
ラフであり、成膜圧力を例えば0.6Paに一定に維持
しつつN2 ガス流量を増加する程、すなわち窒化率を増
加させる程、屈折率が減少しており、これにより屈折率
の調整を行なうことができる。尚、ここでは半透明反射
膜の材料としてSiNxを例にとって説明したが、他の
Si系化合物、例えばSiC、SiOyにも適用できる
のは勿論である。SiCの場合には成膜時にCH4 ガス
やC2 H6 ガスを供給して、この流量調整を行なうこと
によって屈折率の制御を行なうことができ、また、Si
Oyの場合には成膜時にO2 ガスを供給してこの流量を
調整することによって屈折率の制御を行なうことができ
る。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ディス
クによれば次のように優れた作用効果を発揮することが
できる。半透明反射膜の材質を金ではなくSi系化合物
とし、この光学的膜厚と屈折率を特定することにより、
光ディスクのコストを削減して、この耐湿性及び信号特
性を大幅に向上させることができる。
クによれば次のように優れた作用効果を発揮することが
できる。半透明反射膜の材質を金ではなくSi系化合物
とし、この光学的膜厚と屈折率を特定することにより、
光ディスクのコストを削減して、この耐湿性及び信号特
性を大幅に向上させることができる。
【図1】本発明に係る光ディスクの一実施例を示す拡大
部分断面図である。
部分断面図である。
【図2】表1に示す結果を参照して横軸に光学的膜厚を
とり、縦軸にDVD信号反射率変化量と反射率変化量を
それぞれとった時の関係を示すグラフである。
とり、縦軸にDVD信号反射率変化量と反射率変化量を
それぞれとった時の関係を示すグラフである。
【図3】表1に示す結果を参照して横軸に屈折率をと
り、縦軸にDVD信号反射率変化量と、反射率変化量を
それぞれとった時の関係を示すグラフである。
り、縦軸にDVD信号反射率変化量と、反射率変化量を
それぞれとった時の関係を示すグラフである。
【図4】光学的膜厚とDVD信号反射率及び変調度(モ
ジュレーション)との関係を示すグラフである。
ジュレーション)との関係を示すグラフである。
【図5】N2 ガス流量と屈折率との関係を示すグラフで
ある。
ある。
1…光ディスク、2…第1のディスク基体、3…第2の
ディスク基体、4…第1の信号面、5…第2の信号面、
6…半透明反射膜、7…反射膜、8…中間層。
ディスク基体、4…第1の信号面、5…第2の信号面、
6…半透明反射膜、7…反射膜、8…中間層。
Claims (2)
- 【請求項1】 第1の信号面を有する第1のディスク基
体と、この第1の信号面上に形成された半透明反射膜
と、第2の信号面を有する第2のディスク基体と、この
第2の信号面上に形成された反射膜とを少なくとも有す
る光ディスクにおいて、前記半透明反射膜は、Si系化
合物よりなり、その光学的膜厚が100.9〜140n
mの範囲内にあると共に、その屈折率が3.67以下で
あることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項2】 前記Si系化合物は、SiNx(x<4
/3)、SiC及びSiOy(y<2)の内のいずれか
1つよりなることを特徴とする請求項1記載の光ディス
ク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10033857A JPH11219543A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10033857A JPH11219543A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 光ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11219543A true JPH11219543A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12398186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10033857A Pending JPH11219543A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 光ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11219543A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008287777A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Sharp Corp | 光情報記録媒体 |
JP2011044190A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP10033857A patent/JPH11219543A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008287777A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Sharp Corp | 光情報記録媒体 |
JP2011044190A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク |
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