JPH11218707A

JPH11218707A - 走査光学装置

Info

Publication number: JPH11218707A
Application number: JP2325498A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Uzuki; 和男夘月
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1998-02-04
Filing date: 1998-02-04
Publication date: 1999-08-10

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザ光を遮蔽するためにレーザシャッタに
取り付けられた戻しバネが破断した際に、レーザ光が確
実に遮蔽される走査光学装置を実現する。【解決手段】光学箱１の内部には、半導体レーザ、コ
リメータレンズ、シリンドリカルレンズおよび回転多面
鏡がこの順番で並べられ、さらに、遮蔽部１４および１
５を備えたレーザシャッタ１１が配置されている。コリ
メータレンズとシリンドリカルレンズとの間のレーザ光
の進行方向に対して垂直な、矢印ＣおよびＤで示される
方向にレーザシャッタ１１が移動可能となっている。レ
ーザシャッタ１１が戻しバネ１６によって矢印Ｃの方向
に付勢されているとき、コリメータレンズとシリンドリ
カルレンズとの間の光路中に遮蔽部１４が配置され、戻
しバネ１６が破損したとき、レーザシャッタ１１が矢印
Ｄの方向に移動して、コリメータレンズとシリンドリカ
ルレンズとの間の光路中に遮光部１５が配置される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタやレーザファクシミリ等で使用されている走査光学
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザビームプリンタやレーザファクシ
ミリなどで使用されている走査光学装置では、偏向器に
より偏向された光束で感光体を走査することによって、
感光体に静電潜像が形成される。この静電潜像は現像装
置によって顕像化されてトナー像となり、そのトナー像
が記録紙に転写される。そして、トナー像が転写された
記録紙に定着装置によってトナーを加熱定着させること
で、記録紙への画像のプリントが行われる。

【０００３】図５は、従来の技術による走査光学装置を
示す平面図である。図５に示される走査光学装置は、レ
ーザビームプリンタに用いられ、感光体をレーザ光の光
束によって走査するためのものである。図６は、図５の
Ａ−Ａ’線断面図である。

【０００４】従来の走査光学装置は、図５に示される光
学箱５１の内部に収納されている。図５では、光学箱５
１の蓋が取り外されて、光学箱５１の内部が示されてい
る。従来の走査光学装置では、図５に示されるように、
光学箱５１の内部に、レーザ発光手段としての半導体レ
ーザ５２が配置されている。半導体レーザ５２から発せ
られたレーザ光の光束の進行方向には、コリメータレン
ズ５３、シリンドリカルレンズ５４および、レーザ光偏
向手段としての回転多面鏡５６がこの順番で配置されて
いる。半導体レーザ２から発せられたレーザ光の光束
は、コリメータレンズ５３を通過することによって平行
光束となる。コリメータレンズ５３により平行光束とな
った光束は、シリンドリカルレンズ５４を通過すること
によって線状に集光される。回転多面鏡５６は、シリン
ドリカルレンズ５４によって形成された線状の光束が入
射する偏向反射面を有している。この回転多面鏡５６は
モータ５５によって回転される。

【０００５】また、コリメータレンズ５３およびシリン
ドリカルレンズ５４を通過して回転多面鏡５６の偏向反
射面により偏向反射された光束の進行方向には、Ｆθレ
ンズ５７および表面反射ミラー５８がこの順番で配置さ
れている。回転多面鏡５６の偏向反射面により偏向反射
された光束は、Ｆθレンズ５７および表面反射ミラー５
８を通過した後、光学箱５１の、レーザビームが出射す
る開口部を通過して感光体（不図示）を照射する。表面
反射ミラー５８は、Ｆθレンズ５７を通過した光束の進
行方向を、感光体（不図示）に向かう方向に変えるため
のものである。

【０００６】回転多面鏡５６の偏向反射面により偏向反
射されてＦθレンズ５７に入射する光束は、Ｆθレンズ
５７によって感光体の表面にスポットを形成するように
集光され、また、そのスポットの走査速度が等速に保た
れるようにＦθレンズ５７が設計されている。光束によ
る感光体の主走査は、回転多面鏡５６が回転することに
よって行われる。また、走査される感光体の形状は円筒
状になっており、その円筒状の感光体の中心軸を回転中
心として感光体が回転することによって感光体の副走査
が行われる。このようにして感光体の走査が行われるこ
とで、感光体の表面に静電潜像が形成される。

【０００７】さらに、光学箱５１の内部において、半導
体レーザ５２の近傍にレーザ光遮蔽手段としてのレーザ
シャッタ６１が備えられている。図５および図６に示さ
れるように、レーザシャッタ６１の一端部には第１の遮
蔽部としての遮蔽部６４が備えられている。遮蔽部６４
は、コリメータレンズ５３とシリンドリカルレンズ５４
との間でレーザ光を遮蔽するためのものである。また、
レーザシャッタ６１の、遮蔽部６４側と反対側の端部に
は、押圧部６２が形成されている。この押圧部６２は、
レーザプリンタの本体の前カバーなどに設けられた押圧
部材７０によって押圧される。このようなレーザシャッ
タ６１が、コリメータレンズ５３とシリンドリカルレン
ズ５４との間のレーザ光の進行方向に対してほぼ垂直な
一直線上に往復移動可能に支持され、図６に示される矢
印ＣまたはＤの方向に移動する。

【０００８】図６に示されるように、レーザシャッタ６
１の、遮蔽部６４と押圧部６２との間の部分には、突起
部７１が形成されている。また、光学箱５１の、押圧部
６２の近傍の部分には突起部７２が形成されている。突
起部７１に、付勢手段としての戻しバネ６６の一端が取
り付けられ、突起部７２に戻しバネ６６の他端が取り付
けられている。この戻しバネ６６の弾性力によってレー
ザシャッタ６１が押圧部材７０側に付勢されている。こ
のレーザシャッタ６１の遮蔽部６４が押圧部６２よりも
低い位置に配置されるように、走査光学装置がレーザプ
リンタに取り付けられている。

【０００９】また、図５に示されるように、レーザシャ
ッタ６１の一部からは係止部６３が突出している。一
方、光学箱５１の、係止部６３の近傍の部分には、突出
部７３が形成されている。図５では、係止部６３が戻し
バネ６６の弾性力によって突出部７３と圧接し、レーザ
シャッタ６１の移動が規制されている。

【００１０】図５および図６に示される状態の走査光学
装置では、押圧部６２が押圧部材７０によって押圧され
ておらず、遮蔽部６４がコリメータレンズ５３とシリン
ドリカルレンズ５４との間に配置されている。この状態
では、遮蔽部６４のレーザ光照射位置８０にレーザ光が
照射され、コリメータレンズ５３とシリンドリカルレン
ズ５４との間で遮蔽部６４によってレーザ光が遮蔽され
る。

【００１１】通常、走査光学装置が使用される状態で
は、押圧部材６２が押圧部材７０によって押圧され、レ
ーザシャッタ６１全体が矢印Ｄの方向に移動する。従っ
て、遮蔽部６４も矢印Ｄの方向に移動することにより、
半導体レーザ５２からのレーザ光が遮蔽部６４によって
遮蔽されず、レーザ光によって感光体が照射される。

【００１２】走査光学装置に用いられる半導体レーザは
一般的に不可視光であり、そのレーザのパワーが、人間
の目に入射した時に安全性が保証されるレベルより大き
いことが多い。このため、通常、走査光学装置でレーザ
光を使用する時は勿論のこと、走査光学装置の電源が投
入されている状態で走査光学装置のメンテナンスなどを
行う時にも、レーザ光の安全対策が要求される。

【００１３】レーザプリンタのカートリッジ交換、ある
いはジャム処理などでレーザプリンタの本体の前カバー
を開けると、押圧部材７０が、押圧部６２から離れる方
向に移動する。それと同時に、レーザシャッタ６１が戻
しバネ６６の弾性力により押圧部材７０側に移動し、係
止部６３が突出部７３に突き当たる。レーザシャッタ６
１は、係止部６３が突出部７３に当接した位置で停止
し、押圧部材７０が押圧部６２から離れる。このような
状態が図５および図６に示されており、この時、コリメ
ータレンズ５３とシリンドリカルレンズ５４との間のレ
ーザ光の光路に遮蔽部６４が配置される。従って、レー
ザプリンタのカートリッジ交換、あるいはジャム処理な
どでレーザプリンタの本体の前カバーを開けた時、万
一、半導体レーザ５２からレーザ光が出射されても、遮
蔽部６４によってレーザ光が遮蔽され、走査光学装置か
らレーザ光が放射されることが防止される。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
走査光学装置が、図６に示したようにレーザシャッタ６
１の遮蔽部６４が押圧部６２よりも低い位置になるよう
に、レーザプリンタに取り付けられている場合、戻しバ
ネ６６が破断した時にレーザシャッタ６１が自重によっ
て移動し、レーザ光が遮蔽部６４によって遮蔽されない
状態となってしまう。この時、万一、半導体レーザ５２
からレーザ光が出射されると、出射されたレーザ光は遮
蔽されず、走査光学装置の外部へレーザ光が放射されて
しまうという問題点がある。

【００１５】走査光学装置の、レーザプリンタへの取り
付け姿勢が、遮蔽部６４が押圧部６２よりも高くなるよ
うに傾いている場合、戻しバネ６６が破断しても、レー
ザシャッタ６１は、レーザ光を遮蔽する位置に移動す
る。しかし、実際にレーザプリンタなどに走査光学装置
を取り付ける場合、遮蔽部６４が押圧部６２よりも低く
なることが多い。レーザシャッタ６１は、ユーザやサー
ビスマンを保護するために備えられているので、戻しバ
ネ６６が破断した時でも安全性が確保されることが望ま
しい。

【００１６】本発明の目的は、安全性のためにレーザ光
を遮蔽するようにレーザシャッタに取り付けられた戻し
バネが破断したときでも、レーザ光が確実に遮蔽される
走査光学装置を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、レーザ光を発するレーザ発光手段と、レーザ発光手
段から発せられたレーザ光を偏向反射すると共にレーザ
光の主走査を行うレーザ光偏向手段と、レーザ発光手段
とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に配置さ
れることでレーザ光を遮蔽する第１の遮蔽部が一端部に
備えられ、レーザ光の進行方向に対して略垂直な一直線
上に往復移動可能に支持されたレーザ光遮蔽手段と、レ
ーザ発光手段と前記レーザ光偏向手段との間のレーザ光
の光路中に第１の遮蔽部を配置させるように一方向に向
けてレーザ光遮蔽手段を付勢する付勢手段とを有する走
査光学装置において、付勢手段が破損した時にレーザ発
光手段とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に
配置され、レーザ光を遮蔽する第２の遮蔽部がレーザ光
遮蔽手段にさらに備えられていることを特徴とする。

【００１８】上記の発明では、安全性のために、レーザ
発光手段とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中
に第１の遮蔽部が配置されるように、レーザ光遮蔽手段
が付勢手段によって一方向に向けて付勢された走査光学
装置において、付勢手段が破損した際、レーザ発光手段
とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に第２の
遮蔽部が配置され、第２の遮蔽部によってレーザ光が遮
蔽される。例えば、レーザ光遮蔽手段の第１の遮蔽部側
の一端がレーザ光遮蔽手段の他端よりも低くなるように
走査光学装置が設置されている場合に、付勢手段が破損
してレーザ光遮蔽手段が自重によって移動しても、第２
の遮蔽部によってレーザ光が遮蔽される。従って、付勢
手段が破損した場合には、第２の遮蔽部によって確実に
レーザ光が遮蔽され、走査光学装置からレーザ光が出射
することがない。その結果、安全性の高い走査光学装置
が得られる。

【００１９】また、前記第１および第２の遮蔽部が、レ
ーザ発光手段から発せられたレーザ光が通過するための
空間を隔ててレーザ光遮蔽手段の移動方向と平行な方向
に並ぶように、第１および第２の遮蔽部がレーザ光遮蔽
手段に備えられている。このようなレーザ光遮蔽手段を
走査光学装置が有していることにより、付勢手段が破損
した際に、レーザ発光手段とレーザ光偏向手段との間の
レーザ光の進行方向に対して垂直な方向にレーザ光遮蔽
手段が移動することで、レーザ発光手段とレーザ光偏向
手段との間のレーザ光の光路中に第２の遮蔽部が配置さ
れる。従って、付勢手段が破損しても、第２の遮蔽部に
よってレーザ光が遮蔽され、走査光学装置からレーザ光
が出射されることがない。

【００２０】さらに、前記レーザ光遮蔽手段が、レーザ
発光手段とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の進行方
向に対して略垂直な方向に延びると共に一部が第２の遮
蔽部を構成する棒状のアーム部と、アーム部の一端部か
ら下方に向かって突出する第１の遮蔽部とから少なくと
も構成され、かつ、アーム部と略平行な、アーム部から
離れた回転軸を中心にアーム部が旋回するようにレーザ
光遮蔽手段が回転可能に支持されると同時に、アーム部
が付勢手段によって上方に向けて付勢されている。

【００２１】上記のようなレーザ光遮蔽手段を走査光学
装置が有していることにより、付勢手段が破損した際、
付勢手段による付勢力がなくなることで、アーム部がそ
の自重によって下方に向かって旋回して、第２の遮蔽部
を構成するアーム部の一部が、レーザ発光手段とレーザ
光偏向手段との間のレーザ光の光路中に配置される。従
って、付勢手段が破損しても、第２の遮光部によってレ
ーザ光が遮蔽され、走査光学装置からレーザ光が出射さ
れることがない。また、この場合、レーザ光遮蔽手段の
第１の遮蔽部側の一端が、他端よりも低くても、あるい
は他端よりも高くても、第２の遮光部によってレーザ光
が遮蔽される。

【００２２】前記付勢手段としては、ばねが用いられて
いることが好ましい。

【００２３】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。

【００２４】（第１の実施の形態）図１は、本発明の第
１の実施形態の走査光学装置を示す平面図である。図１
に示される走査光学装置はレーザビームプリンタなどに
用いられる。図２は、図１のＡ−Ａ’線断面図である。
また、図２では、付勢手段としてのばねが破断した状態
が示されている。

【００２５】本実施形態の走査光学装置は、図１に示さ
れる光学箱１の内部に収納されている。図１では、光学
箱１の蓋が取り外されて、光学箱１の内部が示されてい
る。本実施形態の走査光学装置では、図１に示されるよ
うに、光学箱１の内部に、レーザ発光手段としての半導
体レーザ２が配置されている。半導体レーザ２から発せ
られたレーザ光の光束の進行方向には、コリメータレン
ズ３、シリンドリカルレンズ４および、レーザ光偏向手
段としての回転多面鏡６がこの順番で配置されている。
半導体レーザ２から発せられたレーザ光の光束は、コリ
メータレンズ３を通過することによって平行光束とな
る。コリメータレンズ３により平行光束となった光束
は、シリンドリカルレンズ４を通過することによって線
状に集光される。回転多面鏡６は、シリンドリカルレン
ズ４によって形成された線状の光束が入射する偏向反射
面を有している。この回転多面鏡６は、光学箱１の内壁
に取り付けられたモータ５によって回転される。

【００２６】また、コリメータレンズ３およびシリンド
リカルレンズ４を通過して回転多面鏡６の偏向反射面に
より偏向反射された光束の進行方向には、Ｆθレンズ７
および表面反射ミラー８がこの順番で配置されている。
回転多面鏡６の偏向反射面により偏向反射された光束
は、Ｆθレンズ７および表面反射ミラー８を通過した
後、光学箱１の、レーザビームが出射する開口部を通過
して感光体（不図示）を照射する。表面反射ミラー８
は、Ｆθレンズ７を通過した光束の進行方向を、感光体
（不図示）に向かう方向に変えるためのものである。

【００２７】回転多面鏡６の偏向反射面により偏向反射
されてＦθレンズ７に入射する光束は、Ｆθレンズ７に
よって感光体の表面にスポットを形成するように集光さ
れ、また、そのスポットの走査速度が等速に保たれるよ
うにＦθレンズ７が設計されている。光束による感光体
の主走査は、回転多面鏡６が回転することによって行わ
れる。走査される感光体の形状は円筒であり、その円筒
の中心軸を回転中心として感光体が回転することによっ
て感光体の副走査が行われる。このようにして感光体の
走査が行われることによって、感光体の表面に静電潜像
が形成される。

【００２８】さらに、光学箱１の内部では、半導体レー
ザ２の近傍に、レーザ光遮蔽手段としてのレーザシャッ
タ１１が配置されている。図１および図２に示されるよ
うに、レーザシャッタ１１の一端部には第１の遮蔽部と
しての遮蔽部１４が備えられている。遮蔽部１４がコリ
メータレンズ３とシリンドリカルレンズ４との間のレー
ザ光の光路中に配置されることでレーザ光が遮蔽され
る。また、レーザシャッタ１１には第２の遮蔽部として
の遮蔽部１５が備えられている。遮蔽部１５は、遮蔽部
１４におけるレーザシャッタ１１の他端側に、半導体レ
ーザ２から発せられたレーザ光が通過するための空間を
隔てて配置されている。また、レーザシャッタ１１の、
遮蔽部１４側と反対側の端部には、押圧部１２が形成さ
れている。この押圧部１２は、レーザプリンタの本体の
前カバーなどに設けられた押圧部材２０によって押圧さ
れる。このようなレーザシャッタ１１が、コリメータレ
ンズ３とシリンドリカルレンズ４との間のレーザ光の進
行方向に対してほぼ垂直な一直線上に往復移動可能に支
持されており、レーザシャッタ１１は、図２に示される
矢印ＣまたはＤの方向に移動する。このレーザシャッタ
１１は、光学箱１内のレーザシャッタ１１周辺に設けら
れた案内リブによってレーザシャッタ１１の移動が規制
されている。遮蔽部１４および１５は、レーザシャッタ
１１の移動方向と平行な方向に並べられている。

【００２９】図２に示されるように、レーザシャッタ１
１の、遮蔽部１５と押圧部１２との間の部分には、突起
部２１が形成されている。また、光学箱１の、押圧部１
２の近傍の部分には突起部２２が形成されている。突起
部２１に、付勢手段としての戻しバネ１６の一端が取り
付けられ、突起部２２に戻しバネ１６の他端が取り付け
られている。この戻しバネ１６の弾性力によってレーザ
シャッタ１１が押圧部材２０側に付勢されている。この
レーザシャッタ１１の遮蔽部１４が押圧部１２よりも低
い位置に配置されるように、走査光学装置がレーザプリ
ンタに取り付けられている。

【００３０】また、図１に示されるように、レーザシャ
ッタ１１の一部からは係止部１３が突出している。一
方、光学箱１の、係止部１３の近傍の部分には、突出部
２３が形成されている。図１では、戻しバネ６６の弾性
力によって係止部６３が突出部７３と圧接し、レーザシ
ャッタ６１の移動が規制されている。

【００３１】図１に示される状態の走査光学装置では、
押圧部１２が押圧部材２０によって押圧されておらず、
遮蔽部１４がコリメータレンズ３とシリンドリカルレン
ズ４との間のレーザ光の光路中に配置されている。この
状態では、コリメータレンズ３とシリンドリカルレンズ
４との間で遮蔽部１４によってレーザ光が遮蔽されてい
る。

【００３２】通常、走査光学装置が使用される状態で
は、押圧部材１２が押圧部材２０によって押圧され、図
１に示した状態からレーザシャッタ１１が矢印Ｄの方向
に移動する。この時、コリメータレンズ３とシリンドリ
カルレンズ４との間の光路が、遮蔽部１４と遮蔽部１５
との間の空間により構成され、レーザ光が遮蔽部１４ま
たは遮蔽部１５によって遮蔽されることがない。従っ
て、レーザシャッタ１１が、押圧部材２０により押圧さ
れる共に戻しバネ１６により付勢された状態では、コリ
メータレンズ３とシリンドリカルレンズ４との間でレー
ザ光が遮蔽されず、レーザ光によって感光体が照射され
る。

【００３３】一方、レーザプリンタのカートリッジ交
換、あるいはジャム処理などでレーザプリンタの本体の
前カバーを開けると、押圧部材２０が、押圧部１２から
離れる方向に移動する。それと同時に、レーザシャッタ
１１が戻しバネ１６の弾性力により押圧部材２０側に移
動し、係止部１３が突出部２３に突き当たる。レーザシ
ャッタ１１は、係止部１３が突出部２３に当接した位置
で停止し、押圧部材２０が押圧部１２から離れる。この
ような状態が図１に示されており、この時、コリメータ
レンズ３とシリンドリカルレンズ４との間のレーザ光の
光路に遮蔽部１４が配置される。従って、レーザプリン
タのカートリッジ交換、あるいはジャム処理などでレー
ザプリンタの本体の前カバーを開けた時、万一、半導体
レーザ２からレーザ光が出射されても、遮蔽部１４によ
ってレーザ光が遮蔽され、走査光学装置からレーザ光が
放射されることが防止される。

【００３４】図２に示すように、戻しバネ１６が破断し
たときには、レーザシャッタ１１が自重によって低い位
置に移動する。この時、レーザシャッタ１１の押圧部１
２が、図１に示される当接部２４に突き当たり、レーザ
シャッタ１１が停止する。この状態では、コリメータレ
ンズ３とシリンドリカルレンズ４との間のレーザ光の光
路中に遮蔽部１５が配置され、図２に示されるように、
遮蔽部１５のレーザ光照射位置２５にレーザ光が照射さ
れる。従って、コリメータレンズ３とシリンドリカルレ
ンズ４との間で、遮蔽部１５によってレーザ光が遮蔽さ
れる。

【００３５】上述したように、本実施形態の走査光学装
置では、戻しバネ１６が破断したときにレーザ光を遮蔽
する遮蔽部１５がレーザシャッタ１１に備えられた。こ
れにより、レーザシャッタ１１の遮蔽部１４が押圧部１
２よりも低くなるように走査光学装置が設置された場合
に戻しバネ１６が破断しても、レーザシャッタ１１が自
重により移動して、コリメータレンズ３とシリンドリカ
ルレンズ４との間のレーザ光の光路中に遮蔽部１５が配
置される。従って、戻しバネ１６が破断したときでも遮
蔽部１５によって確実にレーザ光が遮蔽され、走査光学
装置からレーザ光が出射されることがない。その結果、
安全性の高い走査光学装置が得られる。

【００３６】（第２の実施の形態）図３は、本発明の第
２の実施形態の走査光学装置を表わす断面図である。図
４は、図３に示した走査光学装置の動作について説明す
るための断面図である。本実施形態の走査光学装置で
は、第１の実施形態と比較して、レーザ光遮蔽手段とし
てのレーザシャッタや、光学箱の、レーザシャッタ周辺
の部分が異なっている。以下では、第１の実施形態と異
なる点を中心に説明する。また、以下の説明では、第１
の実施形態と同一の構成部品に同一の符号を付して説明
する。

【００３７】図３では、第１の実施形態における図１の
Ａ−Ａ’線断面図に対応する断面図が示されている。図
４（ａ）および図４（ｂ）は、図３のＡ矢視図である。
図４（ａ）が、図３に示した状態でのＡ矢視図であり、
図４（ｂ）が、付勢手段としての戻しバネが破断した状
態におけるＡ矢視図である。

【００３８】本実施形態の走査光学装置では、図３に示
すように、光学箱１の内部にレーザ光遮蔽手段としての
レーザシャッタ３１が取り付けられている。レーザシャ
ッタ３１の、コリメータレンズ３およびシリンドリカル
レンズ４側の部分は、棒状のアーム部３７で構成されて
いる。アーム部３７は、コリメータレンズ３とシリンド
リカルレンズ４との間のレーザ光の進行方向に対してほ
ぼ垂直な方向に延びている。アーム部３７の、コリメー
タレンズ３およびシリンドリカルレンズ４側の先端部に
は第１の遮蔽部としての遮蔽部３４が形成されている。
遮蔽部３４は、アーム部３７に対してほぼ垂直に、下方
に向かって突出している。このアーム部３７の、遮蔽部
３４側の部分が、第２の遮蔽部としての遮蔽部３５を構
成している。レーザシャッタ３１の、遮蔽部３４側と反
対側の端部には、第１の実施形態で用いたレーザシャッ
タ１１の押圧部１２に対応する押圧部３２が形成されて
いる。

【００３９】また、レーザシャッタ３１の、アーム部３
７と押圧部３２との間の部分には、突起部４１が形成さ
れ、光学箱１の、レーザシャッタ３１近傍の部分には突
起部４２が備えられている。突起部４１に、付勢手段と
しての戻しバネ３６の一端が取り付けられ、突起部４２
に戻しバネ３６の他端が取り付けられている。

【００４０】レーザシャッタ３１は、第１の実施形態の
レーザシャッタ１１と同様に、コリメータレンズ３とシ
リンドリカルレンズ４との間のレーザ光の進行方向に対
してほぼ垂直な一直線上に、往復移動移動可能に支持さ
れている。また、図４（ａ）に示すように、レーザシャ
ッタ３１の、アーム部３７側と反対側の部分は、断面形
状が円形の回転軸４７となっている。回転軸４７は、光
学箱１に備えられた支持部４９によって支持されてお
り、レーザシャッタ３１が、コリメータレンズ３とシリ
ンドリカルレンズ４との間のレーザ光の進行方向に対し
てほぼ垂直な中心軸を中心に回転可能に、かつ、その中
心軸と平行な方向に往復可能になっている。この回転軸
４７に、アーム部３７の、遮蔽部３４側と反対側の端部
が接続部材３７を介して接続されている。従って、アー
ム部３７は、アーム部３７とほぼ平行な、アーム部３７
から離れた回転軸４７を中心に旋回可能となっている。

【００４１】このようなレーザシャッタ３１が戻しバネ
３６によって、図１に示した押圧部材２０側に付勢され
ると共に、戻しバネ３６によってアーム部３７が上方に
向かって付勢されている。従って、アーム部３７が回転
軸４７の回転中心軸を中心に上方に向かって旋回するよ
うに、戻しバネ３６によってレーザシャッタ３１にモー
メントが付与されている。このようにして、レーザシャ
ッタ３１に戻しバネ３６の弾性力によって付勢力が付与
されることでレーザシャッタ３１が押圧部材２０側に移
動し、遮蔽部が３４がコリメータレンズ３とシリンドリ
カルレンズ４との間のレーザ光の光路中に配置された状
態でレーザシャッタ３１が停止する。このような状態が
図３および図４（ａ）に示されており、図３に示すよう
に、遮蔽部３４のレーザ光照射位置４８にレーザ光が照
射される。。また、図４（ａ）に示すように、光学箱１
の内壁の、アーム部の近傍の部分には突き当て部４５が
備えられており、この状態では、突き当て部４５にアー
ム部３７の上面が当接している。このことにより、突き
当て部４５によってレーザシャッタ３１の回転が規制さ
れている。

【００４２】一方、図４（ｂ）に示すように、戻しバネ
３６が破断したときには、レーザシャッタ３１がその自
重によって回転軸４７を中心に回転し、アーム部３７が
下方に向かって旋回する。その後、光学箱１の内壁の、
接続部材３８の近傍に備えられた突き当て部４６に接続
部材３７が突き当たる。この突き当て部４６によってレ
ーザシャッタ３１の回転が規制される。

【００４３】それと同時に、図３に示されるようにレー
ザシャッタ３１の遮蔽部３５側の端部が押圧部３２側の
端部よりも低くなるように走査光学装置が設置されてい
る場合、戻しバネ３６が破断した際にレーザシャッタ３
１が低い位置に移動する。低い位置に移動するレーザシ
ャッタ３１は、第１の実施形態と同様に、所定の位置で
停止し、コリメータレンズ３とシリンドリカルレンズ４
との間のレーザ光の光路中に遮蔽部３５が配置される。
これにより、遮蔽部３５にレーザ光が照射されてレーザ
光が遮蔽される。

【００４４】また、図３に示した状態と異なり、レーザ
シャッタ３１の遮蔽部３４側の端部が押圧部３２側の端
部よりも高くなるように、走査光学装置が設置されてい
る場合でも、戻しバネ３６が破断したときにアーム部３
７が下方に向かって旋回し、遮蔽部３５によってレーザ
光が確実に遮蔽される。さらに、レーザシャッタ３１の
遮光部３４側の端部、および押圧部３２側の端部がほぼ
水平な同一平面内に配置されるように、レーザシャッタ
３１の姿勢がほぼ水平となる状態で走査光学装置が設置
された場合でも、戻しバネ３６が破断したときにアーム
部３７が下方に向かって旋回する。これにより、遮蔽部
３５によってレーザ光が確実に遮蔽される。従って、本
実施形態の走査光学装置では、第１の実施形態のものと
異なり、走査光学装置の取り付け姿勢に関わらず、遮蔽
部３５によってレーザ光を確実に遮蔽することができ
る。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、レーザ発
光手段とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に
第１の遮蔽部が配置されるように、レーザ光遮蔽手段が
付勢手段によって一方向に向けて付勢された走査光学装
置において、付勢手段が破損した時に、レーザ発光手段
とレーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に配置さ
れて、そのレーザ光を遮蔽する第２の遮蔽部が備えられ
た。これにより、安全性のために備えられたレーザ光遮
蔽手段を付勢する付勢手段が破損しても、第２の遮蔽部
によってレーザ光が確実に遮蔽され、走査光学装置から
レーザ光から出射されることが防止される。従って、安
全性のより高い走査光学装置が得られるという効果があ
る。

【００４６】また、走査光学装置が、第１および第２の
遮蔽部が備えられたレーザ光遮蔽手段を有することとに
より、付勢手段が破損したときの安全装置を別に設ける
必要がないので、走査光学装置のコストアップを生じさ
せることなく、安全性を高めることができるという効果
がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の走査光学装置を示す
平面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ’線断面図である。

【図３】本発明の第２の実施形態の走査光学装置を表わ
す断面図である。

【図４】図３に示した走査光学装置の動作について説明
するための断面図である。

【図５】従来の技術による走査光学装置を示す平面図で
ある。

【図６】図５のＡ−Ａ’線断面図である。

【符号の説明】

１光学箱２半導体レーザ３コリメータレンズ４シリンドリカルレンズ５モータ６回転多面鏡７Ｆθレンズ８表面反射ミラー１１、３１レーザシャッタ１２押圧部１３係止部１４、１５、３４、３５遮蔽部１６、３６戻しバネ２０押圧部２３突出部２４当接部２５、４８レーザ光照射位置３７アーム部４５、４６突き当て部４７回転軸４９支持部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ光を発するレーザ発光手段と、前記レーザ発光手段から発せられたレーザ光を偏向反射
すると共に該レーザ光の主走査を行うレーザ光偏向手段
と、前記レーザ発光手段と前記レーザ光偏向手段との間のレ
ーザ光の光路中に配置されることで前記レーザ光を遮蔽
する第１の遮蔽部が一端部に備えられ、前記レーザ光の
進行方向に対して略垂直な一直線上に往復移動可能に支
持されたレーザ光遮蔽手段と、前記レーザ発光手段と前記レーザ光偏向手段との間のレ
ーザ光の光路中に前記第１の遮蔽部を配置させるように
一方向に向けて前記レーザ光遮蔽手段を付勢する付勢手
段とを有する走査光学装置において、前記付勢手段が破損した時に前記レーザ発光手段と前記
レーザ光偏向手段との間のレーザ光の光路中に配置され
て該レーザ光を遮蔽する第２の遮蔽部が前記レーザ光遮
蔽手段にさらに備えられていることを特徴とする走査光
学装置。
【請求項２】前記第１および第２の遮蔽部が、前記レ
ーザ発光手段から発せられたレーザ光が通過するための
空間を隔てて前記レーザ光遮蔽手段の移動方向と平行な
方向に並ぶように、前記第１および第２の遮蔽部が前記
レーザ光遮蔽手段に備えられている請求項１に記載の走
査光学装置。
【請求項３】前記レーザ光遮蔽手段が、前記レーザ発
光手段と前記レーザ光偏向手段との間のレーザ光の進行
方向に対して略垂直な方向に延びると共に一部が前記第
２の遮蔽部を構成する棒状のアーム部と、該アーム部の
一端部から下方に向かって突出する第１の遮蔽部とから
少なくとも構成され、かつ、前記アーム部と略平行な、
前記アーム部から離れた回転軸を中心に前記アーム部が
旋回するように前記レーザ光遮蔽手段が回転可能に支持
されると同時に、前記付勢手段によって前記アーム部が
上方に向けて付勢されている請求項１に記載の走査光学
装置。
【請求項４】前記付勢手段として、ばねが用いられて
いる請求項１〜３のいずれか１項に記載の走査光学装
置。