JPH11218614A

JPH11218614A - 導光体及びその形成方法

Info

Publication number: JPH11218614A
Application number: JP10030351A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Itou; 和尾伊藤
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1998-01-29
Filing date: 1998-01-29
Publication date: 1999-08-10

Abstract

(57)【要約】【課題】多数の光ファイバの集合により角柱状とされ
た光ファイバロッドの断面形状をより一層方形に近くす
るとともに光ファイバロッドの長さ方向において同じと
なるようにする。【解決手段】市販の光ファイバロッド１は、多数の光
ファイバを束にして断面ほぼ長方形状のロッド状とした
ものである。この市販の光ファイバロッド１の断面形状
は光ファイバロッド１の長さ方向において不均一であ
り、また断面の四隅は比較的大きな円弧となっている。
そこで、ほぼＬ字状の２つの金型１１、２１を用い、市
販の光ファイバロッド１をその断面のＸ方向から所定の
圧力で加圧し且つＹ方向から所定の高圧力と所定の低圧
力とで交互に加圧するとともに、所定の温度で加熱する
と、断面形状がより一層方形に近く且つ長さ方向におい
て同じである光ファイバロッドが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光ファイバを用
いた導光体及びその形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ファイバを用いた導光体には、多数の
光ファイバの集合により角柱状とされた光ファイバロッ
ドをその断面（長さ方向に対して垂直な断面）の縦方向
及び横方向にそれぞれ所定の本数ずつ接合して断面方形
状の光ファイバブロックとしたものが考えられている。

【０００３】次に、このような導光体の具体的な構造に
ついてその形成方法と併せ説明するに、ここでは一般に
市販されている光ファイバロッドを用いて形成する場合
について説明する。図１０に示すように、一般に市販さ
れている光ファイバロッド１は、図示しない特殊な金型
を用いた押出成形により、多数の例えば数千本のコア２
を形成するとともに各コア２にクラッド３を被覆し、且
つ、各コア２を集合するとともにクラッド３によって相
互に接合することにより、所定の断面形状の光ファイバ
ロッドを形成し、次いで加熱しながら長さ方向に引き延
ばすことにより、断面ほぼ長方形状の長尺な光ファイバ
ロッドとされたものである。この場合、コア２は高屈折
率のアクリル系樹脂からなり、クラッド３は低屈折率の
フッ素系樹脂からなっている。そして、この光ファイバ
ロッド１はロール（図示せず）に巻かれ、この状態で市
販されている。

【０００４】さて、市販の光ファイバロッド１を用いて
断面方形状の光ファイバブロックを形成する場合には、
まず、光ファイバロッド１を所定の長さに切断する。次
に、図示していないが、所定の長さに切断された所定数
の光ファイバロッド１を凹状の金型内に密接させて並列
するとともに積層し、次いで押型により光ファイバロッ
ド１を押しつぶさない程度の圧力で加圧するとともに、
クラッド３の軟化点以上で融点以下の温度で加熱する
と、金型内に所定数の光ファイバロッド１が軟化したク
ラッド３によって相互に接合されて充満される。これに
より、図１１に示すような断面方形状の光ファイバブロ
ック４が得られる。この場合、クラッド３の融点以下の
温度で加熱するのは、融点よりも高い温度で加熱する
と、クラッド３が熱損傷しやすく、光損失の原因となる
ので、これを回避するためである。なお、図１０では、
光ファイバロッド１の本数を５×５本として図示してい
るが、これは図示の便宜上であり、実際には、形成すべ
き光ファイバブロック４の断面形状（長方形あるいは正
方形）及び断面サイズに応じて決まるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図１０に示
す市販の光ファイバロッド１では、断面形状が長さ方向
において不均一であり、また断面の四隅が曲率半径５０
０μｍ以上の比較的大きな円弧となっている。このた
め、図１１に示す光ファイバブロック４の状態では、図
１２（この図では、光ファイバロッド１の本数を３×３
本として図示している。）に示すように、隣接する４つ
の光ファイバロッド１間の隙間５を軟化したクラッド３
によって十分に埋めることができず、光ファイバロッド
１の長さ方向に隙間５が連続的にあるいは断続的に残っ
てしまう。この結果、この光ファイバブロック４では、
一方の端面から入射された光が連続的に形成された隙間
５に対応する部分で乱反射して光損失が生じ、断続的に
形成された隙間５に対応する部分で遮光され、光伝達が
悪いという問題がある。この発明の課題は、角柱状の光
ファイバロッドの断面形状を方形に近くするとともに光
ファイバロッドの長さ方向において同じとなるようにす
ることである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
る導光体は、多数のコアが集合され且つ各コアがクラッ
ドにより被覆されているとともに相互に接合されている
ことにより角柱状とされた光ファイバロッドの断面形状
を長さ方向において同じとし、且つ、同断面の四隅の曲
率半径を５０μｍ以下としたものである。請求項２記載
の発明に係る導光体の形成方法は、多数のコアが集合さ
れ且つ各コアがクラッドにより被覆されているとともに
相互に接合されてなる光ファイバロッドを、その断面の
所定の一方向から所定の圧力で加圧し且つ前記一方向に
対して垂直な方向から所定の高圧力と所定の低圧力とで
交互に加圧するとともに、前記クラッドの軟化点以上で
融点以下の温度で加熱することにより、断面形状が方形
に近く且つ長さ方向において同じである光ファイバロッ
ドを形成するようにしたものである。この発明によれ
ば、当初の光ファイバロッドがただ単に多数のコアを集
合し且つ各コアをクラッドによって被覆するとともに相
互に接合したものであっても、その断面の所定の一方向
及びこの一方向に対して垂直な方向から加圧加熱するこ
とにより、断面形状が方形に近く且つ長さ方向において
同じである光ファイバロッドを得ることができる。この
場合、所定の一方向に対して垂直な方向から所定の高圧
力と所定の低圧力とで交互に加圧しているので、形成さ
れた光ファイバロッドの断面の四隅の曲率半径を５０μ
ｍ以下とかなり小さくすることができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態にお
ける導光体形成（整形）装置の要部の一部を断面した概
略構成図を示したものである。この導光体形成装置は下
金型１１及び上金型２１を備えている。下金型１１は、
鉄や銅等の金属あるいは合金によってほぼＬ字状に形成
され、つまり下板部１１ａの左端上部に側壁１１ｂが設
けられた構造となっている。下板部１１ａに形成された
貫通孔１２内には板状のヒータ１３が設けられている。
また、図示していないが、下金型１１の所定の箇所に
は、下金型１１の温度を検出するための温度センサが設
けられている。ヒータ１３及び温度センサは温度コント
ローラ１４に接続されている。下金型１１は固定されて
配置されている。

【０００８】上金型２１は、鉄や銅等の金属あるいは合
金によってほぼＬ字状に形成され、つまり上板部２１ａ
の右端下部に側壁２１ｂが設けられた構造となってい
る。上板部２１ａに形成された貫通孔２２内には板状の
ヒータ２３が設けられている。また、図示していない
が、上金型２１の所定の箇所には、上金型２１の温度を
検出するための温度センサが設けられている。ヒータ２
３及び温度センサは温度コントローラ２４に接続されて
いる。上金型２１は、下金型１１の右上方向に配置さ
れ、左右方向（Ｘ方向、両金型１１、２１の当て止め方
向）及び上下方向（Ｙ方向、両金型１１、２１の当て止
め方向に対して垂直な方向）に移動可能となっている。
そして、上金型２１の側壁２１ｂの右側には、上金型２
１を左右方向に移動させるためのエアシリンダやオイル
シリンダ等からなるＸ方向加圧器２５が設けられてい
る。また、上金型２１の上板部２１ａの上側には、上金
型２１を上下方向に移動させるためのエアシリンダやオ
イルシリンダ等からなるＹ方向加圧器２６が設けられて
いる。Ｙ方向加圧器２６は加圧コントローラ２７に接続
されている。なお、両金型１１、２１のほぼＬ字状の内
面は機械的あるいは化学的研磨方法により鏡面処理され
ている。これは、後述のように形成する光ファイバロッ
ドの表面に傷を付けないようにするためである。

【０００９】次に、この導光体形成装置を用いて図１０
に示す市販の光ファイバロッド１を整形して新たな光フ
ァイバロッドを形成する場合について、図２〜図５を参
照して説明する。この場合、図１０に示す市販の光ファ
イバロッド１は、直径数十μｍの光ファイバ３を３千〜
４千本程度集合するとともにクラッド３によって相互に
接合することにより断面ほぼ長方形状のロッド状とした
ものであり、その断面形状は四隅が曲率半径５００μｍ
以上の比較的大きな円弧となっているとともに、左右辺
及び上下辺が外側に向かってやや膨らんだ形状となって
いる。また、同断面形状は光ファイバロッド１の長さ方
向において不均一となっている。そして、一例として、
同断面の長軸方向（Ｘ方向）の最大長さは１０〜１０．
５ｍｍ程度となっており、短軸方向（Ｙ方向）の最大長
さは１．７１〜１．７９ｍｍ程度となっている。なお、
この断面サイズは上記数値より大きくても小さくてもか
まわない。

【００１０】また、図５はこの導光体形成装置の動作を
説明するために示す図である。この図において、横軸は
時間を示し、左縦軸は金型１１、２１に加える圧力を示
し、右縦軸は金型温度を示す。この場合、右縦軸の温度
Ｔ₁は室温を示し、温度Ｔ₂はクラッド３の軟化点に相当
する金型温度を示し、温度Ｔ₃は予め設定された処理温
度であってクラッド３の軟化点以上で融点以下に相当す
る金型温度を示し、温度Ｔ₄はクラッド３の融点に相当
する金型温度を示す。したがって、この４つの温度の関
係は、Ｔ₁＜Ｔ₂＜Ｔ₃＜Ｔ₄となる。このうち処理温度Ｔ
₃は、クラッド３がフッ素系樹脂である場合には、クラ
ッド３の温度が１００℃程度となるような金型温度であ
ることが好ましい。また、図５において、実線は金型１
１、２１の温度特性曲線を示し、一点鎖線はＸ方向加圧
器２５による圧力特性曲線を示し、二点鎖線はＹ方向加
圧器２６による圧力特性曲線を示す。

【００１１】さて、図１０に示す市販の光ファイバロッ
ド１を整形して新たな光ファイバロッドを形成する場合
には、まず、図２に示すように、所定の長さに切断され
た市販の光ファイバロッド１を下金型１１の下板部１１
ａの上面に載置する。次に、図５の時間０の時点におい
て、同図の一点鎖線で示し、且つ、図２に示すように、
Ｘ方向加圧器２５によって上金型２１に圧力Ｐｘ（７０
０〜８００ｇ／ｍｍ²程度）を加えることにより、上金
型２１を左方向に移動させ、その上板部２１ａの左端面
を下金型１１の側壁１１ｂの右面に圧接（当て止め）さ
せるとともに、その側壁２１ｂの左面を下金型１１の下
板部１１ａの右端面に圧接（当て止め）させる。また、
図５の時間０の時点において、両温度コントローラ１
４、２４の制御により両ヒータ１３、２３を発熱させ、
図５の実線で示すように、両金型１１、２１の温度を室
温Ｔ₁から上昇させる。

【００１２】次に、図５の時間０の時点から数秒経過し
た時間ｔ₁の時点において、同図の二点鎖線で示し、且
つ、図３に示すように、加圧コントローラ２７の制御に
よりＹ方向加圧器２６によって上金型２１に低圧力Ｐｙ
₁（５０〜１００ｇ／ｍｍ²程度）を加えることにより、
上金型２１を下方向に移動させて光ファイバロッド１に
軽く圧接させる。これにより、両金型１１、２１の熱が
光ファイバロッド１に伝えられやすくなる。そして、図
５の時間ｔ₂の時点において、同図の実線で示す金型１
１、２１の温度が処理温度Ｔ₃に達すると、これを温度
センサが検出し、両温度コントローラ１４、２４を介し
て両ヒータ１３、２３の発熱を、金型１１、２１の温度
が処理温度Ｔ₃を維持するように制御する。また、図５
の時間ｔ₂の時点において、同図の二点鎖線で示し、且
つ、図４に示すように、上記温度センサの検出結果に基
づいて加圧コントローラ２７の制御によりＹ方向加圧器
２６によって上金型２１に処理圧力Ｐｙ₂（５００〜６
００ｇ／ｍｍ²程度）を加えることにより、光ファイバ
ロッド１を処理圧力Ｐｙ₂で加圧する。そして、これ以
後、加圧コントローラ２７の制御によりＹ方向加圧器２
６による加圧を処理圧力Ｐｙ₂と低圧力Ｐｙ₁とに交互に
切り換える。これにより、光ファイバロッド１は、処理
温度Ｔ₃つまりクラッド３の軟化点以上で融点以下の温
度で加熱されながら、処理圧力Ｐｙ₂と低圧力Ｐｙ₁とで
交互に加圧される。この場合、処理圧力Ｐｙ₂を加えて
いる時間と低圧力Ｐｙ₁を加えている時間とは１：１で
あり、各時間は数秒以上であればよいが、生産性を考慮
すると、各時間はなるべく短い方がよく、例えば５秒程
度としてもよい。また、各時間は必ずしも１：１とする
必要はない。

【００１３】ここで、圧力Ｐｘ、Ｐｙ₁、Ｐｙ₂の関係等
について説明する。この３つの圧力の関係は、Ｐｙ₁＜
Ｐｙ₂＜Ｐｘである。具体的には、上述のように、Ｐｙ₁
は５０〜１００ｇ／ｍｍ²程度であり、Ｐｙ₂は５００〜
６００ｇ／ｍｍ²程度であり、Ｐｘは７００〜８００ｇ
／ｍｍ²程度である。このうち処理圧力Ｐｙ₂は、クラッ
ド３がフッ素系樹脂である場合には、５００ｇ／ｍｍ²
程度であることが好ましい。また、この処理圧力Ｐｙ₂
は、光ファイバロッド１を押しつぶさない程度の値とな
っている。また、圧力Ｐｘを処理圧力Ｐｙ₂よりも大き
くしているのは、図４において上金型２１が右方向にず
れないようにすることにより、加圧加熱された光ファイ
バロッド１が両金型１１、２１の当接部分から食み出さ
ないようにするためである。さらに、圧力Ｐｘを加えた
後に処理圧力Ｐｙ₂を加えているのは、光ファィバロッ
ド１の左右方向（Ｘ方向）への広がりを防ぐことによ
り、整形後の新たな光ファィバロッド１の断面の寸法精
度を良くするためである。

【００１４】次に、図５の時間ｔ₃の時点において、つ
まり予め設定された処理時間（ｔ₂からｔ₃までの時間）
が経過した時点において、両温度コントローラ１４、２
４の制御により両ヒータ１３、２３の発熱を停止し、自
然冷却方法あるいは強制冷却方法により冷却する。ま
た、図５の時間ｔ₃の時点において、加圧コントローラ
２７の制御によりＹ方向加圧器２６による加圧を低圧力
Ｐｙ₁とする。この場合、図５では、時間ｔ₃の時点と処
理圧力Ｐｙ₂の周期の立下がりとを同時点としている
が、同時点とする必要性はない。そして、図５の時間ｔ
₄の時点において、同図の実線で示す金型１１、２１の
温度が室温Ｔ₁に達すると、これを温度センサが検出
し、この検出結果に基づいてＹ方向加圧器２６による加
圧を解除する。次に、図５の時間ｔ₄の時点から数秒経
過した時間ｔ₅の時点において、Ｘ方向加圧器２５によ
る加圧を解除する。かくして、市販の光ファイバロッド
１が整形され、新たな光ファイバロッド１が形成され
る。この場合、金型１１、２１の温度が室温Ｔ₁に達し
てから圧力Ｐｙ₁、Ｐｘを解除しているのは、軟化した
クラッド３を十分に固化させてから圧力Ｐｙ₁、Ｐｘを
解除することにより、整形後の新たな光ファィバロッド
１の断面の寸法精度を良くするためである。また、低圧
力Ｐｙ₁を解除した後に圧力Ｐｘを解除しているのは、
光ファィバロッド１の左右方向（Ｘ方向）への広がりを
防ぐことにより、整形後の新たな光ファィバロッド１の
断面の寸法精度を良くするためである。

【００１５】以上のように、この形成方法では、図１０
に示す当初の市販の光ファイバロッド１がほぼ角柱状で
あってその断面形状が長さ方向において不均一であると
ともにその断面の四隅が比較的大きな円弧とされたもの
であっても、その断面のＸ方向及びＹ方向から加圧加熱
しているので、断面形状がより一層方形に近く且つ長さ
方向において同じとされた新たな光ファイバロッド１を
得ることができる。また、光ファイバロッド１を押しつ
ぶさない程度の圧力で加圧するとともに、クラッド３の
軟化点以上で融点以下の温度で加熱しているので、コア
２が変形しないようにすることができるとともに、クラ
ッド３が熱損傷しないようにすることができる。

【００１６】ところで、図４の状態における両金型１
１、２１によって形成されるキャビティの断面サイズを
図１０に示す当初の市販の光ファイバロッド１の断面サ
イズに応じて例えば１０×１．８ｍｍとし、図１０に示
す当初の市販の光ファイバロッド１の断面のＸＹ方向の
長さの正規分布と新たな光ファイバロッド１の断面のＸ
Ｙ方向の長さの正規分布とを調べたところ、図６に示す
結果が得られた。この図において、一点鎖線は市販の光
ファイバロッド１の正規分布を示し、実線は新たな光フ
ァイバロッド１の正規分布を示す。この図から明らかな
ように、一点鎖線で示す正規分布は、平均がｘで標準偏
差が比較的大きくなっている。これに対し、実線で示す
正規分布は、平均がｘ／４で標準偏差が比較的小さくな
っている。したがって、新たな光ファイバロッド１の断
面のＸＹ方向の長さのバラツキを当初の市販の光ファイ
バロッド１のほぼ１／４とすることができる。また、Ｙ
方向から高圧力の処理圧力Ｐｙ₂と低圧力Ｐｙ₁とで交互
に加圧しているので、新たな光ファイバロッド１の断面
の四隅の曲率半径を５０μｍ以下と実に従来の１／１０
以下とすることができる。

【００１７】そして、新たな光ファイバロッド１を所定
数用いて断面方形状の光ファイバブロックを形成する
と、すなわち、図示していないが、新たな所定数の光フ
ァイバロッド１を凹状の金型内に密接させて並列すると
ともに積層し、次いで押型により光ファイバロッド１を
押しつぶさない程度の圧力で加圧するとともに、クラッ
ド３の軟化点以上で融点以下の温度で加熱すると、図７
に示すような断面方形状の光ファイバブロック３１が得
られる。なお、この場合も、図７では、光ファイバロッ
ド１の本数を５×５本として図示しているが、これは図
示の便宜上であり、実際には、形成すべき光ファイバブ
ロック３１の断面形状（長方形あるいは正方形）及び断
面サイズに応じて決まるものである。このようにして得
られた光ファイバブロック３１では、隣接する４つの光
ファイバロッド１間に隙間が連続的にあるいは断続的に
残存してもかなり小さくすることができ、したがって光
伝達を良くすることができる。

【００１８】なお、上記実施形態では、図５の時間ｔ₃
の時点において、Ｙ方向加圧器２６による処理圧力Ｐｙ
₂と低圧力Ｐｙ₁との交互の加圧を止め、低圧力Ｐｙ₁の
加圧とし、次いで図５の時間ｔ₄の時点において、Ｙ方
向加圧器２６による低圧力Ｐｙ₁の加圧を解除する場合
について説明したが、これに限定されるものではない。
例えば、図５の時間ｔ₄の時点まで、処理圧力Ｐｙ₂と低
圧力Ｐｙ₁とで交互に加圧するようにしてもよい。ま
た、図５の時間ｔ₃の時点からある程度経過して、同図
の実線で示す金型１１、２１の温度が温度Ｔ₂（クラッ
ド３の軟化点に相当する温度）になった時点以降におい
て、Ｙ方向加圧器２６による加圧を全く解除するように
してもよい。このようにしても、金型１１、２１の温度
がクラッド３の軟化点に相当する温度よりも低くなって
からＹ方向加圧器２６による加圧を解除することになる
ので、整形後の新たな光ファイバロッド１の断面の寸法
精度を良くすることができる。そして、この場合も、Ｙ
方向加圧器２６による加圧を解除してから数秒後に、Ｘ
方向加圧器２５による加圧を解除する。すると、光ファ
イバロッド整形時間を短縮することができ、生産性を向
上することができる。

【００１９】また、上記実施形態では、Ｘ方向加圧器２
５による圧力ＰｘをＹ方向加圧器２６による処理圧力Ｐ
ｙ₂よりも大きくした場合について説明したが、これに
限定されるものではない。例えば、図８に示すように、
Ｘ方向加圧器２５による圧力ＰｘをＹ方向加圧器２６に
よる処理圧力Ｐｙ₂よりも小さくしてもよい。具体的に
は、Ｐｘは上記実施形態の場合と同じで７００〜８００
ｇ／ｍｍ²程度とし、Ｐｙ₂は８００〜９００ｇ／ｍｍ²
程度とする。ただし、この場合、Ｙ方向加圧器２６によ
る処理圧力Ｐｙ₂及び低圧力Ｐｙ₁の加圧周期は上記実施
形態の場合と同じとし、処理圧力Ｐｙ₂を加えている時
間を低圧力Ｐｙ₁を加えている時間よりも適宜に短くす
る。このようにすると、処理圧力Ｐｙ₂を圧力Ｐｘより
も大きくしても、処理圧力Ｐｙ₂を加えている時間が短
くなるので、図４において上金型２１が右方向にずれな
いようにすることができ、ひいては加圧加熱された光フ
ァイバロッド１が両金型１１、２１の当接部分から食み
出さないようにすることができる。しかも、処理圧力Ｐ
ｙ₂が８００〜９００ｇ／ｍｍ²程度と比較的大きいの
で、整形後の新たな光ファイバロッドの断面形状をより
一層方形に近づけることができ、同断面の四隅の曲率半
径を１０μｍ以下とすることができる。なお、処理圧力
Ｐｙ₂を圧力Ｐｘと同じとしてもよい。

【００２０】さらに、上記実施形態では、光ファイバロ
ッドを１本ずつ整形する場合について説明したが、例え
ば図９に示すように、下金型４１と上金型４２とによっ
て複数のキャビティ４３が形成されるものを用意し、複
数本の光ファイバロッドを同時に整形するようにしても
よい。この場合、下金型４１を固定し、上金型４２を左
側から右側に移動させた後に上側から下側に移動させる
と、図９に示す状態となる。このように、複数本の光フ
ァイバロッドを同時に整形すると、生産性を向上するこ
とができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、当初の光ファイバロッドがただ単に多数のコアを集
合し且つ各コアをクラッドによって被覆するとともに相
互に接合したものであっても、その断面の所定の一方向
から所定の圧力で加圧し且つ前記一方向に対して垂直な
方向から所定の高圧力と所定の低圧力とで交互に加圧す
るとともに、所定の温度で加熱することにより、断面形
状が方形に近く且つ長さ方向において同じである光ファ
イバロッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態における導光体形成装置
の要部の一部を断面した概略構成図。

【図２】図１に示す導光体形成装置において下金型上に
光ファイバロッドを載置して上金型を左方向に加圧した
状態を示す図。

【図３】図２に示す導光体形成装置において上金型を下
方向に低圧力で加圧した状態を示す図。

【図４】図３に示す導光体形成装置において上金型を下
方向に処理圧力で加圧した状態を示す図。

【図５】図１に示す導光体形成装置の動作を説明するた
めに示す図。

【図６】整形前と整形後の各光ファイバロッドの断面の
ＸＹ方向の長さの正規分布を示す図。

【図７】整形後の新たな光ファイバロッドによって断面
方形状の光ファイバブロックを形成した状態を示す斜視
図。

【図８】図１に示す導光体形成装置の動作の他の例を説
明するために示す図。

【図９】この発明の他の実施形態における導光体形成装
置の要部の断面図。

【図１０】市販の光ファイバロッドの斜視図。

【図１１】図１０に示す光ファイバロッドによって断面
方形状の光ファイバブロックを形成した状態を示す斜視
図。

【図１２】従来の問題を説明するために示す図１１の状
態における光ファイバブロックの断面図。

【符号の説明】

１光ファイバロッド１１下金型１３ヒータ２１上金型２３ヒータ２５Ｘ方向加圧器２６Ｙ方向加圧器

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】多数のコアが集合され且つ各コアがクラ
ッドにより被覆されているとともに相互に接合されてい
ることにより角柱状とされた光ファイバロッドの断面形
状が長さ方向において同じであり、且つ、同断面の四隅
の曲率半径が５０μｍ以下となっていることを特徴とす
る導光体。
【請求項２】多数のコアが集合され且つ各コアがクラ
ッドにより被覆されているとともに相互に接合されてな
る光ファイバロッドを、その断面の所定の一方向から所
定の圧力で加圧し且つ前記一方向に対して垂直な方向か
ら所定の高圧力と所定の低圧力とで交互に加圧するとと
もに、前記クラッドの軟化点以上で融点以下の温度で加
熱することにより、断面形状が方形に近く且つ長さ方向
において同じである光ファイバロッドを形成することを
特徴とする導光体の形成方法。
【請求項３】請求項２記載の発明において、前記光フ
ァイバロッドへの加圧は、２つの金型を用い、且つ、前
記両金型の当て止め方向に対して垂直な方向から所定の
高圧力と所定の低圧力とを交互に加えて行うことを特徴
とする導光体の形成方法。
【請求項４】請求項３記載の発明において、前記両金
型の当て止め方向からの圧力はそれに対して垂直な方向
からの所定の高圧力よりも大きいことを特徴とする導光
体の形成方法。
【請求項５】請求項３記載の発明において、前記両金
型の当て止め方向からの圧力はそれに対して垂直な方向
からの所定の高圧力と同じかそれよりも小さいことを特
徴とする導光体の形成方法。
【請求項６】請求項４または５記載の発明において、
前記光ファイバロッドへの当初の加圧は前記両金型の当
て止め方向から加圧した後にそれに対して垂直な方向か
ら加圧し、前記光ファイバロッドへの加圧の解除は前記
両金型の当て止め方向に対して垂直な方向からの加圧を
解除した後に前記両金型の当て止め方向からの加圧を解
除することを特徴とする導光体の形成方法。
【請求項７】請求項３〜６のいずれかに記載の発明に
おいて、前記２つの金型によって複数のキャビティを形
成し、複数本の光ファイバロッドを同時に加圧加熱する
ことを特徴とする導光体の形成方法。