JPH11216582A - 磁気目盛付きロッドの製造方法およびピストンロッド - Google Patents
磁気目盛付きロッドの製造方法およびピストンロッドInfo
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- JPH11216582A JPH11216582A JP10034165A JP3416598A JPH11216582A JP H11216582 A JPH11216582 A JP H11216582A JP 10034165 A JP10034165 A JP 10034165A JP 3416598 A JP3416598 A JP 3416598A JP H11216582 A JPH11216582 A JP H11216582A
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- Japan
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- rod
- magnetic
- magnetic scale
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強度低下をきたすことなく、しかもロッド素
材の選択に特別の制限を受けることなくロッドに磁気目
盛を付与することができるようにする。 【解決手段】 強磁性の鉄系材料からなるロッド基体１
０の表面にクロムめっき層１１とニッケルめっき層１２
とを積層形成した複合体１３を用意し、この複合体１３
の表面にレーザトーチ１４から出射させたレーザビーム
を局部的に照射し、ガスノズル１５から噴出させた不活
性ガス雰囲気中で前記照射部を溶融して、その溶込み部
１６を鉄、クロム、ニッケルを主成分とするオーステナ
イト系ステンレス鋼の合金層に変質させて非磁性化し、
レーザビームの照射を複合体１３の軸方向に所定のピッ
チで繰り返して、非磁性部と磁性部とを交互に配列した
磁気目盛を形成する。
材の選択に特別の制限を受けることなくロッドに磁気目
盛を付与することができるようにする。 【解決手段】 強磁性の鉄系材料からなるロッド基体１
０の表面にクロムめっき層１１とニッケルめっき層１２
とを積層形成した複合体１３を用意し、この複合体１３
の表面にレーザトーチ１４から出射させたレーザビーム
を局部的に照射し、ガスノズル１５から噴出させた不活
性ガス雰囲気中で前記照射部を溶融して、その溶込み部
１６を鉄、クロム、ニッケルを主成分とするオーステナ
イト系ステンレス鋼の合金層に変質させて非磁性化し、
レーザビームの照射を複合体１３の軸方向に所定のピッ
チで繰り返して、非磁性部と磁性部とを交互に配列した
磁気目盛を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、直線移動量を検出
するための磁気目盛を付したロッドを製造する方法およ
びこの方法によって製造した磁気目盛付きピストンロッ
ドに関するものである。
するための磁気目盛を付したロッドを製造する方法およ
びこの方法によって製造した磁気目盛付きピストンロッ
ドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シリンダ装置のストローク位置を検出す
るため、図２に示すように、ピストンロッド１の表面に
磁性部２と非磁性部３とをストローク方向に交互に形成
してこれを磁気目盛４とし、シリンダ本体に内蔵したセ
ンサ部からロッド移動量に対応した磁気パルス信号を取
出して、ストローク制御に用いることが従来より行われ
ている。
るため、図２に示すように、ピストンロッド１の表面に
磁性部２と非磁性部３とをストローク方向に交互に形成
してこれを磁気目盛４とし、シリンダ本体に内蔵したセ
ンサ部からロッド移動量に対応した磁気パルス信号を取
出して、ストローク制御に用いることが従来より行われ
ている。
【０００３】ところで従来、ピストンロッド１に磁気目
盛４を形成するには、例えば、特開平４−１４７７８５
号公報に記載されるように、強磁性の鉄系材料からなる
母材（ロッド基体）表面に所定の間隔で溝を形成した
後、レーザビーム等の高密度熱エネルギー媒体を用いて
前記溝内にオーステナイト系ステンレス材料を溶融肉盛
りし、この溝部分を非磁性部とする方法、あるいは「塑
性と加工（日本塑性加工学会誌），第３０巻第３４７号
（1989−12），第1593〜1599頁」に記載されるように、
オーステナイト系ステンレス材料よりなるロッド基体を
冷間引抜きして、その表層部を加工誘起変態させてマル
テンサイト化し、その後、ロッド基体表面にレーザビー
ムを所定の間隔で局部的に照射し、その照射部分を溶融
して非磁性のオーステナイト組織に変質させる方法があ
った。
盛４を形成するには、例えば、特開平４−１４７７８５
号公報に記載されるように、強磁性の鉄系材料からなる
母材（ロッド基体）表面に所定の間隔で溝を形成した
後、レーザビーム等の高密度熱エネルギー媒体を用いて
前記溝内にオーステナイト系ステンレス材料を溶融肉盛
りし、この溝部分を非磁性部とする方法、あるいは「塑
性と加工（日本塑性加工学会誌），第３０巻第３４７号
（1989−12），第1593〜1599頁」に記載されるように、
オーステナイト系ステンレス材料よりなるロッド基体を
冷間引抜きして、その表層部を加工誘起変態させてマル
テンサイト化し、その後、ロッド基体表面にレーザビー
ムを所定の間隔で局部的に照射し、その照射部分を溶融
して非磁性のオーステナイト組織に変質させる方法があ
った。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た２つの方法のうち、前者の方法によれば、ロッド基体
表面に溝を加工するため、この溝がノッチ効果となって
ピストンロッド自体の強度を低下させる原因となり、一
方、後者の方法によれば、ロッド基体として高価なオー
ステナイト系ステンレス材料を用いなければならないた
め、コスト負担の増大が避けられず、何れも問題を有す
るところとなっていた。
た２つの方法のうち、前者の方法によれば、ロッド基体
表面に溝を加工するため、この溝がノッチ効果となって
ピストンロッド自体の強度を低下させる原因となり、一
方、後者の方法によれば、ロッド基体として高価なオー
ステナイト系ステンレス材料を用いなければならないた
め、コスト負担の増大が避けられず、何れも問題を有す
るところとなっていた。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点を解決するた
めになされたもので、その課題とするところは、強度低
下をきたすことなく、しかもロッド素材の選択に特別の
制限を受けることなくロッドに磁気目盛を付与すること
ができるようにすることにある。
めになされたもので、その課題とするところは、強度低
下をきたすことなく、しかもロッド素材の選択に特別の
制限を受けることなくロッドに磁気目盛を付与すること
ができるようにすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の製造方法は、強磁性の鉄系材料からなるロ
ッド基体の表面にニッケル皮膜とクロム皮膜とを積層形
成した複合体を用意し、前記複合体の表面に高密度エネ
ルギー媒体を所定の間隔で局部的に照射し、その照射部
分を溶融合金化して、非磁性のオーステナイト組織に変
質させるようにしたことを特徴とする。
め、本発明の製造方法は、強磁性の鉄系材料からなるロ
ッド基体の表面にニッケル皮膜とクロム皮膜とを積層形
成した複合体を用意し、前記複合体の表面に高密度エネ
ルギー媒体を所定の間隔で局部的に照射し、その照射部
分を溶融合金化して、非磁性のオーステナイト組織に変
質させるようにしたことを特徴とする。
【０００７】このようにロッド基体表面にニッケル皮膜
とクロム皮膜とを積層形成した複合体に高密度エネルギ
ー媒体を照射することで、幅が狭くかつ深さの深い溶込
み部が得られ、したがって、ニッケル皮膜とクロム皮膜
とを適宜厚さに設定しかつ溶込み深さと幅とを適当に設
定することで、その溶込み部が、鉄、ニッケル、クロム
を適当な比率で含有するオーステナイト組織に変質して
非磁性化し、強磁性の鉄系材料の影響を強く受ける隣接
の非照射部分との間に大きな磁気特性の差が生じ、磁気
目盛が形成される。
とクロム皮膜とを積層形成した複合体に高密度エネルギ
ー媒体を照射することで、幅が狭くかつ深さの深い溶込
み部が得られ、したがって、ニッケル皮膜とクロム皮膜
とを適宜厚さに設定しかつ溶込み深さと幅とを適当に設
定することで、その溶込み部が、鉄、ニッケル、クロム
を適当な比率で含有するオーステナイト組織に変質して
非磁性化し、強磁性の鉄系材料の影響を強く受ける隣接
の非照射部分との間に大きな磁気特性の差が生じ、磁気
目盛が形成される。
【０００８】本発明の製造方法において、上記ニッケル
皮膜とクロム皮膜とは、ニッケル皮膜が上層となるよう
にロッド基体の表面に積層形成するのが望ましい。この
場合は、高密度エネルギー媒体を照射して非磁性化した
部分の相互間に強磁性のニッケルが表層として配置され
るので、照射部分と非照射部分との間により大きな磁気
特性の差が生じ、磁気目盛としての精度が向上する。
皮膜とクロム皮膜とは、ニッケル皮膜が上層となるよう
にロッド基体の表面に積層形成するのが望ましい。この
場合は、高密度エネルギー媒体を照射して非磁性化した
部分の相互間に強磁性のニッケルが表層として配置され
るので、照射部分と非照射部分との間により大きな磁気
特性の差が生じ、磁気目盛としての精度が向上する。
【０００９】また、本発明の製造方法において、上記ニ
ッケル皮膜とクロム皮膜とを形成する方法は任意である
が、簡単かつ安価に形成できるところから、めっき法を
採用するのが望ましい。
ッケル皮膜とクロム皮膜とを形成する方法は任意である
が、簡単かつ安価に形成できるところから、めっき法を
採用するのが望ましい。
【００１０】上記した各方法によって製造された磁気目
盛付きピストンロッドは、機械的なノッチがないので強
度的に優れたものとなることはもちろん、汎用の鋼材を
ロッド素材として使用できるのでコスト的にも割安とな
り、車両に装備される車高調整用のシリンダ装置や各種
機械設備に装備される駆動用シリンダ装置に向けて好適
となる。
盛付きピストンロッドは、機械的なノッチがないので強
度的に優れたものとなることはもちろん、汎用の鋼材を
ロッド素材として使用できるのでコスト的にも割安とな
り、車両に装備される車高調整用のシリンダ装置や各種
機械設備に装備される駆動用シリンダ装置に向けて好適
となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基いて説明する。
図面に基いて説明する。
【００１２】図１は、本発明に係る磁気目盛付きロッド
の製造方法の一つの実施の形態を示したものである。本
発明の実施に際しては、予め強磁性の鉄系材料（例え
ば、低炭素乃至中炭素鋼）からなるロッド基体１０の表
面に、クロムめっき層（クロム皮膜）１１とニッケルめ
っき層（ニッケル皮膜）１２とを積層形成した複合体１
３を用意する。この複合体１３の製造に際しては、クロ
ムめっき層１１が下層、ニッケルめっき層１２が上層と
なるように両者を積層すると共に、クロムめっき層１１
がニッケルめっき層１２より厚肉となるように両者を積
層する。
の製造方法の一つの実施の形態を示したものである。本
発明の実施に際しては、予め強磁性の鉄系材料（例え
ば、低炭素乃至中炭素鋼）からなるロッド基体１０の表
面に、クロムめっき層（クロム皮膜）１１とニッケルめ
っき層（ニッケル皮膜）１２とを積層形成した複合体１
３を用意する。この複合体１３の製造に際しては、クロ
ムめっき層１１が下層、ニッケルめっき層１２が上層と
なるように両者を積層すると共に、クロムめっき層１１
がニッケルめっき層１２より厚肉となるように両者を積
層する。
【００１３】次に、上記複合体１３の表面に、レーザト
ーチ１４から出射させた高密度熱エネルギー媒体として
のレーザビームを照射し、レーザトーチ１４に併設した
ガスノズル１５から噴出させた不活性ガスの雰囲気中
で、複合体１３の表層部を局部的に溶融する。この時、
表面のニッケルめっき層１２からロッド基体１０まで到
達する十分な溶込み深さｄが得られるように、かつ所定
の溶込み幅（最大幅）ｗが得られるようにレーザトーチ
１４の位置とレーザ出力とを設定し、複合体１３を軸線
回りに回転させながらレーザビームの照射を複合体１３
の周方向へ所定の距離だけ行う。これにより、複合体１
３の表層部には、前出図２に示した非磁性部２のごと
き、周方向に延びる帯状の溶込み部（ビード）１６が形
成される。
ーチ１４から出射させた高密度熱エネルギー媒体として
のレーザビームを照射し、レーザトーチ１４に併設した
ガスノズル１５から噴出させた不活性ガスの雰囲気中
で、複合体１３の表層部を局部的に溶融する。この時、
表面のニッケルめっき層１２からロッド基体１０まで到
達する十分な溶込み深さｄが得られるように、かつ所定
の溶込み幅（最大幅）ｗが得られるようにレーザトーチ
１４の位置とレーザ出力とを設定し、複合体１３を軸線
回りに回転させながらレーザビームの照射を複合体１３
の周方向へ所定の距離だけ行う。これにより、複合体１
３の表層部には、前出図２に示した非磁性部２のごと
き、周方向に延びる帯状の溶込み部（ビード）１６が形
成される。
【００１４】上記溶込み部１６は、ニッケルめっき層１
２と、クロムめっき層１１とロッド基体１０の素材とし
ての鉄系材料の溶融混合により、鉄、クロムおよびニッ
ケルを主成分とする合金層に変質し、したがって、いま
ニッケルめっき層１２およびクロムめっき層１１をそれ
ぞれ適当な厚さに設定し、かつ上記した溶込み深さｄと
溶込み幅ｗとを適当な大きさに設定することで、該溶込
み部１６は、例えば、ＪＩＳ３０４に規定されるステン
レス鋼（18％Ｃr −８％Ｎi ）に類似の合金層となる。
しかして、この合金層（溶込み部１６）は、溶融後の急
冷によりオーステナイト組織となって非磁性化し、一
方、レーザビームの照射を受けない部分は、強磁性を有
する表面のニッケルめっき層１２と下地のロッド基体１
０の影響を受けて強磁性を有しており、したがって、該
溶込み部１６とこれに隣接する部分との間には大きな磁
気特性の差が生じるようになる。なお、溶込み部１６
は、一例として溶込み深さｄ： 0.3〜0.5mm ，溶込み幅
ｗ： 0.5〜1.0mm ，長さ：10〜20mm程度の大きさに形成
される。
２と、クロムめっき層１１とロッド基体１０の素材とし
ての鉄系材料の溶融混合により、鉄、クロムおよびニッ
ケルを主成分とする合金層に変質し、したがって、いま
ニッケルめっき層１２およびクロムめっき層１１をそれ
ぞれ適当な厚さに設定し、かつ上記した溶込み深さｄと
溶込み幅ｗとを適当な大きさに設定することで、該溶込
み部１６は、例えば、ＪＩＳ３０４に規定されるステン
レス鋼（18％Ｃr −８％Ｎi ）に類似の合金層となる。
しかして、この合金層（溶込み部１６）は、溶融後の急
冷によりオーステナイト組織となって非磁性化し、一
方、レーザビームの照射を受けない部分は、強磁性を有
する表面のニッケルめっき層１２と下地のロッド基体１
０の影響を受けて強磁性を有しており、したがって、該
溶込み部１６とこれに隣接する部分との間には大きな磁
気特性の差が生じるようになる。なお、溶込み部１６
は、一例として溶込み深さｄ： 0.3〜0.5mm ，溶込み幅
ｗ： 0.5〜1.0mm ，長さ：10〜20mm程度の大きさに形成
される。
【００１５】本実施の形態では、上記したレーザビーム
の照射を複合体１３の軸方向に所定のピッチで繰り返す
ようにする。これにより、非磁性化された溶込み部１６
が複合体１３の軸方向に所定のピッチで形成され、前出
図２に示したごとき、磁性部２と非磁性部３とが交互に
配列した磁気目盛４を有するピストンロッド１が得られ
るようになる。なお、このピストンロッド１は研磨加工
を行って所定の表面粗さに仕上げた後、実用に供され
る。
の照射を複合体１３の軸方向に所定のピッチで繰り返す
ようにする。これにより、非磁性化された溶込み部１６
が複合体１３の軸方向に所定のピッチで形成され、前出
図２に示したごとき、磁性部２と非磁性部３とが交互に
配列した磁気目盛４を有するピストンロッド１が得られ
るようになる。なお、このピストンロッド１は研磨加工
を行って所定の表面粗さに仕上げた後、実用に供され
る。
【００１６】ここで、上記クロムめっき層１１は非磁性
を有しているが、その厚さは数十μｍ程度であるため、
これをニッケルめっき層１２の上層に配置（図１に示し
たものと上下逆に配置）しても、上記複合体１３の表面
は、強磁性を有する下地のニッケルめっき層１２とロッ
ド基体１０の影響を強く受けて、全体として磁性部とし
て提供されることになる。したがって、本発明の他の実
施の形態としては、上記ロッド基体１０の表面に、ニッ
ケルめっき層１２とクロムめっき層１１とを、クロムめ
っき層１１が上層となるように積層形成した複合体１３
を用意し、この複合体１３に上記実施の形態と同様の手
順でレーザビームを照射して溶込み部１６を形成するよ
うにしても良く、この場合も、上記実施の形態と同様に
磁性部２と非磁性部３とが交互に配列した磁気目盛４を
有するピストンロッド１（図２）が得られるようにな
る。
を有しているが、その厚さは数十μｍ程度であるため、
これをニッケルめっき層１２の上層に配置（図１に示し
たものと上下逆に配置）しても、上記複合体１３の表面
は、強磁性を有する下地のニッケルめっき層１２とロッ
ド基体１０の影響を強く受けて、全体として磁性部とし
て提供されることになる。したがって、本発明の他の実
施の形態としては、上記ロッド基体１０の表面に、ニッ
ケルめっき層１２とクロムめっき層１１とを、クロムめ
っき層１１が上層となるように積層形成した複合体１３
を用意し、この複合体１３に上記実施の形態と同様の手
順でレーザビームを照射して溶込み部１６を形成するよ
うにしても良く、この場合も、上記実施の形態と同様に
磁性部２と非磁性部３とが交互に配列した磁気目盛４を
有するピストンロッド１（図２）が得られるようにな
る。
【００１７】なお、上記実施の形態において、高密度熱
エネルギー媒体としてレーザビームを用いるようにした
が、その種類は任意であり、レーザビーム以外にも、例
えば電子ビーム、プラズマアーク等を用いることができ
る。また、上記実施の形態において、めっき法を利用し
てロッド基体上にニッケル皮膜とクロム皮膜とを積層形
成するようにしたが、これら皮膜の形成方法も任意であ
り、めっき法に代えて、例えば蒸着法、スパッタリング
法等を用いることができる。また、上記実施の形態にお
いて、非磁性化された溶込み部１６を周方向に部分的に
形成したが、この溶込み部１６は、全周にわたって形成
してもよいことはもちろんである。さらに、本発明の方
法は、上記したピストンロッド１の製造に限るものでは
ないことはもちろんで、例えば、シリンダ装置以外の機
械装置に装備される各種作動ロッドや直線移動量を検知
する検知装置のセンサロッドの製造にも適用することが
できる。
エネルギー媒体としてレーザビームを用いるようにした
が、その種類は任意であり、レーザビーム以外にも、例
えば電子ビーム、プラズマアーク等を用いることができ
る。また、上記実施の形態において、めっき法を利用し
てロッド基体上にニッケル皮膜とクロム皮膜とを積層形
成するようにしたが、これら皮膜の形成方法も任意であ
り、めっき法に代えて、例えば蒸着法、スパッタリング
法等を用いることができる。また、上記実施の形態にお
いて、非磁性化された溶込み部１６を周方向に部分的に
形成したが、この溶込み部１６は、全周にわたって形成
してもよいことはもちろんである。さらに、本発明の方
法は、上記したピストンロッド１の製造に限るものでは
ないことはもちろんで、例えば、シリンダ装置以外の機
械装置に装備される各種作動ロッドや直線移動量を検知
する検知装置のセンサロッドの製造にも適用することが
できる。
【００１８】
【発明の効果】上記したように、本発明に係る磁気目盛
付きロッドの製造方法によれば、ロッド基体表面にニッ
ケル皮膜とクロム皮膜とを積層形成した複合体に高密度
エネルギー媒体を照射して、その照射部分を鉄、ニッケ
ル、クロムを適当な比率で含有するオーステナイト組織
に変質させて非磁性化するので、強度低下の原因となる
溝を形成する必要がなくなるばかりか、ロッド素材とし
て汎用の鉄系材料を選択することが可能になり、強度的
に優れかつコスト的に割安な磁気目盛付きロッドを得る
ことができる。また、本発明の方法によって製造した磁
気目盛付きピストンロッドは、強度的に優れかつコスト
的に割安となっているので、ストローク制御を行う各種
シリンダ装置に向けて好適となる。
付きロッドの製造方法によれば、ロッド基体表面にニッ
ケル皮膜とクロム皮膜とを積層形成した複合体に高密度
エネルギー媒体を照射して、その照射部分を鉄、ニッケ
ル、クロムを適当な比率で含有するオーステナイト組織
に変質させて非磁性化するので、強度低下の原因となる
溝を形成する必要がなくなるばかりか、ロッド素材とし
て汎用の鉄系材料を選択することが可能になり、強度的
に優れかつコスト的に割安な磁気目盛付きロッドを得る
ことができる。また、本発明の方法によって製造した磁
気目盛付きピストンロッドは、強度的に優れかつコスト
的に割安となっているので、ストローク制御を行う各種
シリンダ装置に向けて好適となる。
【図１】本発明に係る磁気目盛付きロッドの製造方法の
一つの実施の形態を示す断面図である。
一つの実施の形態を示す断面図である。
【図２】磁気目盛付きピストンロッドの外観の一部を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１ ピストンロッド ２ 非磁性部 ３ 磁性部 ４ 磁気目盛 １０ ロッド基体 １１ クロムめっき層 １２ ニッケルめっき層 １３ 複合体 １４ レーザトーチ １６ 溶込み部
Claims (4)
- 【請求項１】 強磁性の鉄系材料からなるロッド基体の
表面にニッケル皮膜とクロム皮膜とを積層形成した複合
体を用意し、前記複合体の表面に高密度熱エネルギー媒
体を所定の間隔で局部的に照射し、その照射部分を溶融
合金化して非磁性のオーステナイト組織に変質させるこ
とを特徴とする磁気目盛付きロッドの製造方法。 - 【請求項２】 ニッケル皮膜とクロム皮膜とを、ニッケ
ル皮膜が上層となるようにロッド基体の表面に積層形成
することを特徴とする請求項１に記載の磁気目盛付きロ
ッドの製造方法。 - 【請求項３】 ニッケル皮膜とクロム皮膜とをめっき法
により形成することを特徴とする請求項１または２に記
載の目盛付きロッドの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１乃至３の何れか１項に記載の方
法によって製造した磁気目盛付きピストンロッドであっ
て、表層部に非磁性部と磁性部とを交互に配列したも
の。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10034165A JPH11216582A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 磁気目盛付きロッドの製造方法およびピストンロッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10034165A JPH11216582A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 磁気目盛付きロッドの製造方法およびピストンロッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11216582A true JPH11216582A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12406608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10034165A Pending JPH11216582A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 磁気目盛付きロッドの製造方法およびピストンロッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11216582A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522630A (ja) * | 2010-03-16 | 2013-06-13 | イートン コーポレーション | 耐食位置測定システム及びこのシステムを形成する方法 |
| JP2014515997A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-07-07 | アールエルエス メリルナ テニカ ディー．オー．オー． | 基板内にパターンを書き込むための装置および方法 |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP10034165A patent/JPH11216582A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522630A (ja) * | 2010-03-16 | 2013-06-13 | イートン コーポレーション | 耐食位置測定システム及びこのシステムを形成する方法 |
| JP2014515997A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-07-07 | アールエルエス メリルナ テニカ ディー．オー．オー． | 基板内にパターンを書き込むための装置および方法 |
| US10578418B2 (en) | 2011-05-25 | 2020-03-03 | Rls Merilna Tehnika D.O.O. | Apparatus and method for writing a pattern in a substrate |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20041125 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041129 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041201 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070720 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070725 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071121 |