JP2824059B2 - 耐熱性磁気スケールの製造方法 - Google Patents
耐熱性磁気スケールの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は高温度域で使用する耐熱性磁気スケールの
製造方法に関するものである。 〔従来の技術〕 第６図は例えば特公昭48−10655号公報に示された従
来の磁気スケールを示す断面図であり，図において，
（６）は鉄またはエリンバー（商品名）のごとき鉄合金
よりなる断面円形の棒状の基体，（７）は基体（６）の
表面にメツキまたはクラツドで被着形成された銅または
アルミニウムのごとき非磁性金属層，（８）は非磁性金
属層（７）の上に被着形成されたコバルト−ニツケルの
ごとき磁性層である。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の磁気スケールは以上のように構成されており，
例えば金属データブツク（日本金属学会編，昭和49年）
の表１・２・６および表６・６・４に示さるているよう
に，鉄またはエリンバー（商品名）のごとき鉄合金の熱
膨張係数はそれぞれ12.1×10-6および8.0×10-6であ
り，銅およびアルミニウムの熱膨張係数はそれぞれ17.0
×10-6および23.5×10-6であり，また例えば耐熱鋼デー
タ集（特殊鋼倶楽部編，昭和40年）の表６（その２）に
示されているようにコバルト−ニツケルの熱膨張係数は
例えばＳ−816（AISI No.671）では11.9×10-6（AISI21
〜316℃）である。第６図に示すような構成では，磁気
スケールの熱膨張係数は基体の熱膨張係数でほとんど決
るが,100〜300℃の高温度領域でかかる磁気スケールを
使用した場合，基体，非磁性金属層および磁性層の熱膨
張係数がそれぞれ異なるため，基体，非磁性金属層およ
び磁性層の膨張の量が異なり，基体から非磁性金属層や
磁性層が剥離する恐れがあつた。 更に，剥離しない場合でも基体，非磁性金属層および
磁性層の熱膨張係数がそれぞれ異なるためかかる磁気ス
ケールを高温度領域で使用した場合，基体，非磁性金属
層および磁性層の膨張の量が異なるため，基体，非磁性
金属層および磁性層のそれぞれに熱膨張に伴う応力が加
わり，磁性層の磁気特性が劣化し，磁気スケールの感度
が低下するという問題点があつた。 また，磁気テープ等を磁気スケールに用いるものがあ
るが，この場合は熱により消磁されてしまい，例えば50
℃ぐらいまでしか使えないという問題点があつた。 この発明の上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので,100℃以上でも消磁せず，温度変化に対して
も剥離が生じず，安定かつ測定精度が高い耐熱性磁気ス
ケールを製造する方法を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 製造方法は、非磁性体からなる耐熱性基材に、出力が
0.1KW〜15KW、掃引速度が１分当り0.1m〜15.0m、単位長
当りの照射エネルギーが20kJ/m〜300kJ/m、ビームの焦
点位置が基材表面から±０〜±100mmの範囲の電子ビー
ム又はレーザビーム又はプラズマにより所定間隔に熱を
加えて加熱溶融部分を磁性相にした、上記基材及び上記
加熱溶融部分の少なくともいずれか一方のキユリー点が
100℃以上のものである。 〔作用〕 磁気スケールは非磁性体からなる耐熱性基材に、所定
の加熱条件により、所定間隔で熱を加えて加熱溶融部分
を確実に磁性相にしているので、剥離等の恐れがなく、
また安定かつ測定精度が高く、さらに基材及び加熱溶融
部分の少なくともいずれか一方のキユリー点が100℃以
上であるので耐熱性がある。 〔実施例〕 以下，この発明の一実施例を図について説明する。 第１図はこの発明の一実施例による耐熱性磁気スケー
ルの製造方法を示す斜視図である。図において，（１）
は板状の耐熱性基材であり，ステンレス鋼板（例えばJI
SのSUS304）よりなる非磁性体である。（２）は電子ビ
ーム（３）等により加熱された加熱部分であり，磁気特
性が変化した部分である。この場合は磁性相を形成して
おり，基板（１）に所定間隔で形成される。 第２図はこの発明の一実施例に係る耐熱性磁気スケー
ルを着磁している様子を示す側面構成図であり，図にお
いて（10）は耐熱性磁気スケール，（４）は着磁用の電
磁石である。 第３図は第２図に示す方法によつて着磁した磁気スケ
ールを用いて変位量を検出している様子を示す斜視図で
あり，図において，（５）は磁気スケールに残留してい
る磁化を検出する例えばホール素子のようなセンサーで
ある。第４図は第３図の方法で検出された磁気量を示す
関係図であり，横軸に変位量，縦軸に磁化量をとつてい
る。 第１図において，板状の非磁性ステンレスSUS304の基
材（１）に出力1.1KW,掃引速度1.0m/min,焦点距離＋50m
mの電子ビーム（３）を照射すると，電子ビームを照射
された部分は急激に加熱溶融される。続いて，電子ビー
ムを移動すると，いままで電子ビームを照射されていた
部分は今度は急激に冷却個体化される。そのため，電子
ビームを掃引した部分は線状あるいは面状に急激な加熱
冷却作用を受け，極度の残留応力が発生する。SUS304の
ような非磁性ステンレスでは応力によつて，結晶構造が
面心立方格子から一部，磁性体の体心立方格子に変化
し，磁性を帯びることがしられており，そのため，板状
の非磁性ステンレスSUS304の基材に電子ビームを照射し
たので基材の表面あるいは内部に線状あるいは面状の磁
性相（２），即ち磁気格子が形成される。 上述のように形成された磁気格子は，極度の応力を受
けているため保磁力が大きく第２図に示す方法で着磁す
ると，大きな残留磁化が発生する。従つて，電子ビーム
を照射する間隔を任意に選び，第３図のように残留磁化
量を検出する素子例えばホール素子などを用いることに
より，第４図に示すような変位量と残留磁化量の関係図
が得られ，変位の検出が可能となる。また，この発明で
は非磁性の基材の表面あるいは内部の一方あるいは両方
に線状あるいは面状にある間隔でそれぞれ独立して熱的
方法により磁性相を形成したので，残留磁化が第４図に
示すようにパルス的に検出され，従来の方法に比べ安定
で，かつ非常に検出感度が高くなる。 また，加熱部分（２）は基材（１）そのものを磁性を
もつた体心立方格子に変化させて形成されたものであ
り,100℃以上のキユリー点を共に有するので，耐熱性が
ある。 なお，この実施例では，電子ビームの出力を1.1KWと
したが,0.1〜15KWの範囲であつてもよい。なお，電子ビ
ームの出力が0.1W未満では掃引速度を非常に遅くしなけ
れば基体が溶融しないので磁性相が形成できず，また,1
5KWを越えると掃引速度を非常に速くしなければ溶融幅
が広くなり溶融体が急冷されないので磁性相が形成しな
くなるので実用的でない。 電子ビームの掃引速度を1.0m/minとしたが,0.1〜15.0
m/minの範囲であつてもよい。また，電子ビームの焦点
距離を基体表面から＋50mmとしたが，±０〜±100mmの
範囲であつてもよい。なお，電子ビームの焦点距離が＋
100mmを越える場合や−100mm未満の場合には電子ビーム
の焦点が離れすぎるので基体が溶融せず磁性相が形成し
ない。なお単位長当りの照射エネルギーは20kJ/m〜300k
J/mがのぞましい。 また，上記実施例では電子ビームにより加熱したが，
他の加熱方法，例えばレーザビーム，プラズマ，抵抗加
熱による加熱するようにしてもよい。 なお，例えばレーザビームの場合も，出力，掃引速
度，焦点距離等が電子ビームの場合と同様に限定され
る。さらに，上記実施例では，耐熱性基材（１）として
非磁性ステンレスSUS304を用いたが，他の非磁性ステン
レス鋼，例えばSUS316,SOS309,SUS310などであつてもよ
いし，又，銅,Al等であつてもよい。 また，基材（１）は上記のような非磁性体でなくても
焼き入れ硬化が可能な合金，例えば炭素鋼S35Cのような
強磁性体であつてもよい。S35Cのような炭素鋼では急激
な溶融固化を行なうと焼き入れ効果により硬度が非常に
高くなることが知られている。従つて強磁性の炭素鋼S3
5Cの基材に電子ビームを照射すれば基材の表面あるいは
内部に線状あるいは面状の磁気特性の変化層，即ち磁気
格子が形成される。上述のように形成された磁気格子
は，極度の応力を受けて硬度が高くなつているため保磁
力が大きく第２図に示す方法で電磁石（４）を使つて着
磁すると，大きな残留磁化が発生する。従つて前記実施
例と同様電子ビームを照射する間隔を任意に選び，第３
図のように残留磁化量を検出する素子例えばホール素子
（５）などを用いることにより，第４図に示すような変
位量と残留磁化量の関係図が得られ，変位の検出が可能
となる。 強磁性体としては，他の耐熱性の優れた強磁性材料で
磁気特性が変化する素材であれば例えばフエライト系又
はマルテンサイト系ステンレスでもよく，加熱によつて
軟化するインバータのようなFe−Ni合金であつてもよ
い。 また，上記実施例では基材及び加熱部分の少なくとも
いずれか一方を着磁して残留磁化量を検出するようにし
たが，あらかじめ着磁せずに，検出時に，第５図に示す
ように，励磁用磁石（４）と磁束量を検出する素子，例
えばホール素子（５）などを用いて第４図と同様の変位
量と検出磁束量の関係が得られ，変位の検出が可能とな
る。 また，このような励磁式の磁気検出器を用いれば,3〜
４百℃の高温にさらされるような環境下でも使用するこ
とができる。 〔発明の効果〕 以上のように，この発明によれば、非磁性体からなる
耐熱性基材に、出力が0.1KW〜15KW、掃引速度が１分当
り0.1m〜15.0m、単位長当りの照射エネルギーが20kJ/m
〜300kJ/m、ビームの焦点位置が基材表面から±０〜±1
00mmの範囲の電子ビーム又はレーザビーム又はプラズマ
により所定間隔に熱を加えて加熱溶融部分を磁性相に
し、上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくともいずれ
か一方のキユリー点を100℃以上となるようにしたの
で，高温でも消磁せず耐熱性のある磁気スケールが得ら
れる。また，温度変化に対して剥離等の恐れがなく，安
定かつ測定精度の高いものが製造できる効果がある。
製造方法に関するものである。 〔従来の技術〕 第６図は例えば特公昭48−10655号公報に示された従
来の磁気スケールを示す断面図であり，図において，
（６）は鉄またはエリンバー（商品名）のごとき鉄合金
よりなる断面円形の棒状の基体，（７）は基体（６）の
表面にメツキまたはクラツドで被着形成された銅または
アルミニウムのごとき非磁性金属層，（８）は非磁性金
属層（７）の上に被着形成されたコバルト−ニツケルの
ごとき磁性層である。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の磁気スケールは以上のように構成されており，
例えば金属データブツク（日本金属学会編，昭和49年）
の表１・２・６および表６・６・４に示さるているよう
に，鉄またはエリンバー（商品名）のごとき鉄合金の熱
膨張係数はそれぞれ12.1×10-6および8.0×10-6であ
り，銅およびアルミニウムの熱膨張係数はそれぞれ17.0
×10-6および23.5×10-6であり，また例えば耐熱鋼デー
タ集（特殊鋼倶楽部編，昭和40年）の表６（その２）に
示されているようにコバルト−ニツケルの熱膨張係数は
例えばＳ−816（AISI No.671）では11.9×10-6（AISI21
〜316℃）である。第６図に示すような構成では，磁気
スケールの熱膨張係数は基体の熱膨張係数でほとんど決
るが,100〜300℃の高温度領域でかかる磁気スケールを
使用した場合，基体，非磁性金属層および磁性層の熱膨
張係数がそれぞれ異なるため，基体，非磁性金属層およ
び磁性層の膨張の量が異なり，基体から非磁性金属層や
磁性層が剥離する恐れがあつた。 更に，剥離しない場合でも基体，非磁性金属層および
磁性層の熱膨張係数がそれぞれ異なるためかかる磁気ス
ケールを高温度領域で使用した場合，基体，非磁性金属
層および磁性層の膨張の量が異なるため，基体，非磁性
金属層および磁性層のそれぞれに熱膨張に伴う応力が加
わり，磁性層の磁気特性が劣化し，磁気スケールの感度
が低下するという問題点があつた。 また，磁気テープ等を磁気スケールに用いるものがあ
るが，この場合は熱により消磁されてしまい，例えば50
℃ぐらいまでしか使えないという問題点があつた。 この発明の上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので,100℃以上でも消磁せず，温度変化に対して
も剥離が生じず，安定かつ測定精度が高い耐熱性磁気ス
ケールを製造する方法を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 製造方法は、非磁性体からなる耐熱性基材に、出力が
0.1KW〜15KW、掃引速度が１分当り0.1m〜15.0m、単位長
当りの照射エネルギーが20kJ/m〜300kJ/m、ビームの焦
点位置が基材表面から±０〜±100mmの範囲の電子ビー
ム又はレーザビーム又はプラズマにより所定間隔に熱を
加えて加熱溶融部分を磁性相にした、上記基材及び上記
加熱溶融部分の少なくともいずれか一方のキユリー点が
100℃以上のものである。 〔作用〕 磁気スケールは非磁性体からなる耐熱性基材に、所定
の加熱条件により、所定間隔で熱を加えて加熱溶融部分
を確実に磁性相にしているので、剥離等の恐れがなく、
また安定かつ測定精度が高く、さらに基材及び加熱溶融
部分の少なくともいずれか一方のキユリー点が100℃以
上であるので耐熱性がある。 〔実施例〕 以下，この発明の一実施例を図について説明する。 第１図はこの発明の一実施例による耐熱性磁気スケー
ルの製造方法を示す斜視図である。図において，（１）
は板状の耐熱性基材であり，ステンレス鋼板（例えばJI
SのSUS304）よりなる非磁性体である。（２）は電子ビ
ーム（３）等により加熱された加熱部分であり，磁気特
性が変化した部分である。この場合は磁性相を形成して
おり，基板（１）に所定間隔で形成される。 第２図はこの発明の一実施例に係る耐熱性磁気スケー
ルを着磁している様子を示す側面構成図であり，図にお
いて（10）は耐熱性磁気スケール，（４）は着磁用の電
磁石である。 第３図は第２図に示す方法によつて着磁した磁気スケ
ールを用いて変位量を検出している様子を示す斜視図で
あり，図において，（５）は磁気スケールに残留してい
る磁化を検出する例えばホール素子のようなセンサーで
ある。第４図は第３図の方法で検出された磁気量を示す
関係図であり，横軸に変位量，縦軸に磁化量をとつてい
る。 第１図において，板状の非磁性ステンレスSUS304の基
材（１）に出力1.1KW,掃引速度1.0m/min,焦点距離＋50m
mの電子ビーム（３）を照射すると，電子ビームを照射
された部分は急激に加熱溶融される。続いて，電子ビー
ムを移動すると，いままで電子ビームを照射されていた
部分は今度は急激に冷却個体化される。そのため，電子
ビームを掃引した部分は線状あるいは面状に急激な加熱
冷却作用を受け，極度の残留応力が発生する。SUS304の
ような非磁性ステンレスでは応力によつて，結晶構造が
面心立方格子から一部，磁性体の体心立方格子に変化
し，磁性を帯びることがしられており，そのため，板状
の非磁性ステンレスSUS304の基材に電子ビームを照射し
たので基材の表面あるいは内部に線状あるいは面状の磁
性相（２），即ち磁気格子が形成される。 上述のように形成された磁気格子は，極度の応力を受
けているため保磁力が大きく第２図に示す方法で着磁す
ると，大きな残留磁化が発生する。従つて，電子ビーム
を照射する間隔を任意に選び，第３図のように残留磁化
量を検出する素子例えばホール素子などを用いることに
より，第４図に示すような変位量と残留磁化量の関係図
が得られ，変位の検出が可能となる。また，この発明で
は非磁性の基材の表面あるいは内部の一方あるいは両方
に線状あるいは面状にある間隔でそれぞれ独立して熱的
方法により磁性相を形成したので，残留磁化が第４図に
示すようにパルス的に検出され，従来の方法に比べ安定
で，かつ非常に検出感度が高くなる。 また，加熱部分（２）は基材（１）そのものを磁性を
もつた体心立方格子に変化させて形成されたものであ
り,100℃以上のキユリー点を共に有するので，耐熱性が
ある。 なお，この実施例では，電子ビームの出力を1.1KWと
したが,0.1〜15KWの範囲であつてもよい。なお，電子ビ
ームの出力が0.1W未満では掃引速度を非常に遅くしなけ
れば基体が溶融しないので磁性相が形成できず，また,1
5KWを越えると掃引速度を非常に速くしなければ溶融幅
が広くなり溶融体が急冷されないので磁性相が形成しな
くなるので実用的でない。 電子ビームの掃引速度を1.0m/minとしたが,0.1〜15.0
m/minの範囲であつてもよい。また，電子ビームの焦点
距離を基体表面から＋50mmとしたが，±０〜±100mmの
範囲であつてもよい。なお，電子ビームの焦点距離が＋
100mmを越える場合や−100mm未満の場合には電子ビーム
の焦点が離れすぎるので基体が溶融せず磁性相が形成し
ない。なお単位長当りの照射エネルギーは20kJ/m〜300k
J/mがのぞましい。 また，上記実施例では電子ビームにより加熱したが，
他の加熱方法，例えばレーザビーム，プラズマ，抵抗加
熱による加熱するようにしてもよい。 なお，例えばレーザビームの場合も，出力，掃引速
度，焦点距離等が電子ビームの場合と同様に限定され
る。さらに，上記実施例では，耐熱性基材（１）として
非磁性ステンレスSUS304を用いたが，他の非磁性ステン
レス鋼，例えばSUS316,SOS309,SUS310などであつてもよ
いし，又，銅,Al等であつてもよい。 また，基材（１）は上記のような非磁性体でなくても
焼き入れ硬化が可能な合金，例えば炭素鋼S35Cのような
強磁性体であつてもよい。S35Cのような炭素鋼では急激
な溶融固化を行なうと焼き入れ効果により硬度が非常に
高くなることが知られている。従つて強磁性の炭素鋼S3
5Cの基材に電子ビームを照射すれば基材の表面あるいは
内部に線状あるいは面状の磁気特性の変化層，即ち磁気
格子が形成される。上述のように形成された磁気格子
は，極度の応力を受けて硬度が高くなつているため保磁
力が大きく第２図に示す方法で電磁石（４）を使つて着
磁すると，大きな残留磁化が発生する。従つて前記実施
例と同様電子ビームを照射する間隔を任意に選び，第３
図のように残留磁化量を検出する素子例えばホール素子
（５）などを用いることにより，第４図に示すような変
位量と残留磁化量の関係図が得られ，変位の検出が可能
となる。 強磁性体としては，他の耐熱性の優れた強磁性材料で
磁気特性が変化する素材であれば例えばフエライト系又
はマルテンサイト系ステンレスでもよく，加熱によつて
軟化するインバータのようなFe−Ni合金であつてもよ
い。 また，上記実施例では基材及び加熱部分の少なくとも
いずれか一方を着磁して残留磁化量を検出するようにし
たが，あらかじめ着磁せずに，検出時に，第５図に示す
ように，励磁用磁石（４）と磁束量を検出する素子，例
えばホール素子（５）などを用いて第４図と同様の変位
量と検出磁束量の関係が得られ，変位の検出が可能とな
る。 また，このような励磁式の磁気検出器を用いれば,3〜
４百℃の高温にさらされるような環境下でも使用するこ
とができる。 〔発明の効果〕 以上のように，この発明によれば、非磁性体からなる
耐熱性基材に、出力が0.1KW〜15KW、掃引速度が１分当
り0.1m〜15.0m、単位長当りの照射エネルギーが20kJ/m
〜300kJ/m、ビームの焦点位置が基材表面から±０〜±1
00mmの範囲の電子ビーム又はレーザビーム又はプラズマ
により所定間隔に熱を加えて加熱溶融部分を磁性相に
し、上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくともいずれ
か一方のキユリー点を100℃以上となるようにしたの
で，高温でも消磁せず耐熱性のある磁気スケールが得ら
れる。また，温度変化に対して剥離等の恐れがなく，安
定かつ測定精度の高いものが製造できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明の一実施例による耐熱性磁気スケール
の製造方法を示す斜視図，第２図はこの発明の一実施例
に係る耐熱性磁気スケールを着磁している様子を示す側
面構成図，第３図はこの発明に係る耐熱性磁気スケール
を用いて変位量を検出する様子を示す斜視図，第４図は
第３図の方法で検出された磁化量と変位量の関係を示す
関係図，第５図はこの発明の他の実施例に係る耐熱性磁
気スケールを用いて変位量を検出する様子を示す斜視図
及び第６図は従来の磁気スケールを示す断面図である。 （１）……耐熱性基材，（２）……加熱部分，（３）…
…電子ビーム，（４）……電磁石，（５）……ホール素
子，（10）……耐熱性磁気スケール なお，図中，同一符号は同一又は相当部分を示す。
の製造方法を示す斜視図，第２図はこの発明の一実施例
に係る耐熱性磁気スケールを着磁している様子を示す側
面構成図，第３図はこの発明に係る耐熱性磁気スケール
を用いて変位量を検出する様子を示す斜視図，第４図は
第３図の方法で検出された磁化量と変位量の関係を示す
関係図，第５図はこの発明の他の実施例に係る耐熱性磁
気スケールを用いて変位量を検出する様子を示す斜視図
及び第６図は従来の磁気スケールを示す断面図である。 （１）……耐熱性基材，（２）……加熱部分，（３）…
…電子ビーム，（４）……電磁石，（５）……ホール素
子，（10）……耐熱性磁気スケール なお，図中，同一符号は同一又は相当部分を示す。
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フロントページの続き
(72)発明者 池田 英男
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号
三菱電機株式会社材料研究所内
(72)発明者 大村 俊次
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号
三菱電機株式会社材料研究所内
(72)発明者 大峯 恩
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号
三菱電機株式会社生産技術研究所内
(72)発明者 森安 雅治
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号
三菱電機株式会社生産技術研究所内
(56)参考文献 特開 昭57−16309（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−129704（ＪＰ，Ａ)
特開 昭50−3017（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−269004（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．非磁性体からなる耐熱性基材に、出力が0.1KW〜15K
W、掃引速度が１分当り0.1m〜15.0m、単位長当りの照射
エネルギーが20kJ/m〜300kJ/m、ビームの焦点位置が基
材表面から±０〜±100mmの範囲の電子ビーム又はレー
ザビーム又はプラズマにより所定間隔に熱を加えて加熱
溶融部分を磁性相にした、上記基材及び上記加熱溶融部
分の少なくともいずれか一方のキュリー点が100℃以上
である耐熱性磁気スケールの製造方法。 ２．耐熱性基材はステンレス鋼板である特許請求の範囲
第１項記載の耐熱性磁気スケールの製造方法。 ３．基材及び加熱溶融部分の少なくともいずれか一方を
着磁した特許請求の範囲第１項または第２項に記載の耐
熱性磁気スケールの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62217316A JP2824059B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
| FR888811336A FR2619931B1 (fr) | 1987-08-31 | 1988-08-29 | Procede de fabrication d'un organe de detection magnetique resistant a la chaleur, et organe de detection ainsi obtenu |
| US07/237,384 US4935070A (en) | 1987-08-31 | 1988-08-29 | Method of manufacturing heat resisting magnetic scale |
| US07/513,967 US5076862A (en) | 1987-08-31 | 1990-04-24 | Method of manufacturing heat resisting magnetic scale |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62217316A JP2824059B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8105180A Division JP2886131B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6459123A JPS6459123A (en) | 1989-03-06 |
| JP2824059B2 true JP2824059B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=16702256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62217316A Expired - Lifetime JP2824059B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2824059B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02187624A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 磁気スケールの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716309A (en) * | 1980-07-04 | 1982-01-27 | Toshiba Mach Co Ltd | Displacement detector |
| JPS62129704A (ja) * | 1985-11-30 | 1987-06-12 | Nippon Gakki Seizo Kk | 磁気スケ−ルの製造方法 |
-
1987
- 1987-08-31 JP JP62217316A patent/JP2824059B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6459123A (en) | 1989-03-06 |
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