JPH11200044A - 真空装置内の基体除電装置 - Google Patents
真空装置内の基体除電装置Info
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- JPH11200044A JPH11200044A JP1790498A JP1790498A JPH11200044A JP H11200044 A JPH11200044 A JP H11200044A JP 1790498 A JP1790498 A JP 1790498A JP 1790498 A JP1790498 A JP 1790498A JP H11200044 A JPH11200044 A JP H11200044A
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Abstract
くなっても、真空装置内でのフィルム剥離帯電によるフ
ィルム切れが多発しない装置を得る。 【解決手段】 真空容器内において、ロール状の基体を
直接除電することを特徴とする真空装置内の基体除電装
置によって解決可能となる。
Description
の除電装置に関する。
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体(いわゆる蒸着テープ)を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。とくに、蒸
着テープの支持体として用いられるベースフィルムが、
切れるという不具合が発生し、その生産性を低かさせる
原因となっている。
断を防止する方法について検討が行われてきている。た
とえば、特開昭62−20137号公報によれば、フィ
ルムと冷却ドラム上の回転のずれにより発生する擦り傷
を防止するために、高分子フィルムの巻き出し直後に、
高圧プローブにより静電帯電させて、さらに巻き取り直
前に、グロー放電処理する方法が記されている。しか
し、ビデオテープの長時間の要求に伴いフィルム厚が非
常にうすくなってくると、フィルムがロール状基体から
離れた場所で除電することでは不十分であり、剥離帯電
によるフィルム切れや穴あきが発生することが多くなっ
たいた。
て、本発明の課題は、高記録密度化に伴いフィルム厚み
が非常に薄くなっても、真空装置内でのフィルム剥離帯
電によるフィルム切れが多発しない装置を得ることにあ
る。
に示す本発明によって達成される。すなわち本発明は、
真空容器内において、ロール状の基体を直接除電するこ
とを特徴とする真空装置内の基体除電装置にある。
て、図1の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
槽110中において、排気口108を経て真空ポンプ
(図示せず)に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体102を供給ロール
103から繰り出し、回転する冷却ドラム104の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板(マスク)191を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ105中の強
磁性金属150表面に電子銃106からの電子ビーム1
06Bを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体102上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター193によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置194から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体102は、巻き
取りロール107に巻き取られる。
となく直接除電できるものであれば、特に指定は無い
が、酸素またはアルゴンガスを使用したプラズマ発生機
構をもつ除電装置からプラズマ流を吹き出させる方式
や、フィルムに直接接触しアースをとる方式でもよい。
直接アースを取る方法としては、導電性ブラシ等を接触
させる方法や、導電性ゴムや導電性樹脂を表面に配した
タッチロール等がある。
位置であればよい。特に望ましくは剥離部に最も近いロ
ール外側である。除電の機構については特に規定は無い
が、なるべく非接触式の除電方法が望ましい。除電の方
式としては、プラズマやグロー放電を用いる方法、高圧
プローブを近接させる方法、導電性を有したタッチロー
ルやブラシを接触させる方法などがある。
をさらに詳細に説明する。
厚さ4.6μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムからなる非磁性基体102上に、強磁性金
属薄膜を形成した。平均の最小入射角θmin.を50
度、るつぼの湯面とドラム104の蒸着面の平均距離を
約300mm、蒸着部の幅を500mmとした。
槽内の圧力を10-5Torrに保った。るつぼには、酸
化マグネシウム製のものを用い、電子銃のパワーは12
0kWとした。ガス供給ノズルは幅方向長さで600m
mであり、蒸着時に酸素主成分のガスを供給した。ま
た、蒸着時の目標膜厚は200nmとして蒸着を行っ
た。
スのプラズマ流を吹き出させる機能を有したものとし
て、これを剥離部と剥離部以外に設置したもの、高圧プ
ローブを用いたもの、基体ロールに直接タッチロールや
ブラシを触れさせたものを実施例として、また第一のガ
イドロールの前後にグロー放電処理機構を用いたものを
比較例とした。
し、10回の蒸着を行いフィルムの剥離帯電による切断
の回数を調査した。
ロール状態のフィルムを直接除電することにより、フィ
ルムがロールから繰り出される際に発生する剥離帯電に
よるフィルム切れや穴あきを防止し、安定に強磁性金属
を形成することが可能になった。
れていない装置では、フィルム切れの発生頻度が10バ
ッチ成膜すると8回程度発生し、非常に生産効率が劣っ
ていた。
にガイドロールの前を除電しても、擦り傷防止対策には
なっても、フィルム切れや穴あきの防止には効果が少な
かった。
の基体を除電する機構を設けることにより、その方式に
かかわらずフィルム切れ発生回数を0回/10バッチに
抑えることが可能になった。
ことにより、その方式にかかわらず、薄層のフィルムが
ロールから繰り出される際に発生する剥離帯電によるフ
ィルム切れを防止し、安定に強磁性金属を形成すること
が可能になった。
式図である。
Claims (1)
- 【請求項1】真空容器内において、ロール状の基体を直
接除電することを特徴とする真空装置内の基体除電装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01790498A JP3827116B2 (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空装置内の基体除電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01790498A JP3827116B2 (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空装置内の基体除電装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11200044A true JPH11200044A (ja) | 1999-07-27 |
JP3827116B2 JP3827116B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=11956742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP01790498A Expired - Fee Related JP3827116B2 (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空装置内の基体除電装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3827116B2 (ja) |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP01790498A patent/JP3827116B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3827116B2 (ja) | 2006-09-27 |
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