JPH11199267A - 磁気ディスク基板用ガラス - Google Patents
磁気ディスク基板用ガラスInfo
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- JPH11199267A JPH11199267A JP4974298A JP4974298A JPH11199267A JP H11199267 A JPH11199267 A JP H11199267A JP 4974298 A JP4974298 A JP 4974298A JP 4974298 A JP4974298 A JP 4974298A JP H11199267 A JPH11199267 A JP H11199267A
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- glass
- thermal expansion
- magnetic disk
- coefficient
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】熱膨張係数が高く、化学強化処理ができ、さら
に、耐薬品性にきわめて優れた、磁気ディスク用基板ガ
ラスを得る。 【解決手段】重量％表示で本質的に、ＳｉＯ2 ：４５〜
６４、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１５、Ｌｉ2 Ｏ：２〜１０、
Ｎａ2 Ｏ：４〜２１、Ｋ2 Ｏ：０〜５、Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：１４〜２５、ＭｇＯ：０〜４、ＣａＯ：
０〜６、ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2 ：０．５〜１５、からな
る。
に、耐薬品性にきわめて優れた、磁気ディスク用基板ガ
ラスを得る。 【解決手段】重量％表示で本質的に、ＳｉＯ2 ：４５〜
６４、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１５、Ｌｉ2 Ｏ：２〜１０、
Ｎａ2 Ｏ：４〜２１、Ｋ2 Ｏ：０〜５、Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：１４〜２５、ＭｇＯ：０〜４、ＣａＯ：
０〜６、ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2 ：０．５〜１５、からな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
用ガラスに関する。
用ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気ディスク基板に使用できるガ
ラスとして、特開昭６２−１８７１４０、特開平５−３
２４３１、特開平８−４８５３７などに開示されたガラ
スが知られている。これらのガラスは、いずれもＬｉ2
Ｏを含有し、イオン交換による化学強化ができるガラス
である。
ラスとして、特開昭６２−１８７１４０、特開平５−３
２４３１、特開平８−４８５３７などに開示されたガラ
スが知られている。これらのガラスは、いずれもＬｉ2
Ｏを含有し、イオン交換による化学強化ができるガラス
である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらのガラ
スは熱膨張係数が小さく、ステンレス鋼などからなる磁
気ディスク用の他の部材とのマッチングが悪く、製造歩
留りが悪い難点があった。本発明は上記難点を解消する
とともに、化学強化でき、耐薬品性に優れた磁気ディス
ク基板用ガラスの提供を目的とする。
スは熱膨張係数が小さく、ステンレス鋼などからなる磁
気ディスク用の他の部材とのマッチングが悪く、製造歩
留りが悪い難点があった。本発明は上記難点を解消する
とともに、化学強化でき、耐薬品性に優れた磁気ディス
ク基板用ガラスの提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は重量％表示で本
質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６４、 Ａｌ2 Ｏ3 １０〜１５、 Ｌｉ2 Ｏ ２〜１０、 Ｎａ2 Ｏ ４〜２１、 Ｋ2 Ｏ ０〜 ５、 Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １４〜２５、 ＭｇＯ ０〜 ４、 ＣａＯ ０〜 ６、 ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2 ０．５〜１５、 からなることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラスを
提供する。
質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６４、 Ａｌ2 Ｏ3 １０〜１５、 Ｌｉ2 Ｏ ２〜１０、 Ｎａ2 Ｏ ４〜２１、 Ｋ2 Ｏ ０〜 ５、 Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １４〜２５、 ＭｇＯ ０〜 ４、 ＣａＯ ０〜 ６、 ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2 ０．５〜１５、 からなることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラスを
提供する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のガラスの組成について説
明する。以下、本明細書では、重量％を単に％と表記す
る。ＳｉＯ2 はガラスのネットワークフォーマーであ
り、４５％未満では耐水性、耐酸性が低下するおそれが
ある。好ましくは５０％以上である。一方、６４％超で
は熱膨張係数が低くなるおそれがある。好ましくは６１
％以下である。
明する。以下、本明細書では、重量％を単に％と表記す
る。ＳｉＯ2 はガラスのネットワークフォーマーであ
り、４５％未満では耐水性、耐酸性が低下するおそれが
ある。好ましくは５０％以上である。一方、６４％超で
は熱膨張係数が低くなるおそれがある。好ましくは６１
％以下である。
【０００６】Ａｌ2 Ｏ3 は、化学強化の速度を向上する
ために添加する。これが１０％未満ではこうした効果が
充分に得られないおそれがある。好ましくは１１％以上
である。一方、１５％超では熱膨張係数が低くなるおそ
れがある。好ましくは１４％以下である。
ために添加する。これが１０％未満ではこうした効果が
充分に得られないおそれがある。好ましくは１１％以上
である。一方、１５％超では熱膨張係数が低くなるおそ
れがある。好ましくは１４％以下である。
【０００７】Ｌｉ2 Ｏはガラス溶解時のフラックスとし
て作用するとともに、低温型イオン交換処理による化学
強化においてイオン交換される成分である。これが２％
未満では化学強化時に圧縮応力の形成される表層の厚さ
が不充分になるおそれがある。好ましくは３％以上であ
る。一方、１０％超では耐水性が低下するとともに粘性
が低くなりすぎ成形性が低下するおそれがある。好まし
くは９％以下である。
て作用するとともに、低温型イオン交換処理による化学
強化においてイオン交換される成分である。これが２％
未満では化学強化時に圧縮応力の形成される表層の厚さ
が不充分になるおそれがある。好ましくは３％以上であ
る。一方、１０％超では耐水性が低下するとともに粘性
が低くなりすぎ成形性が低下するおそれがある。好まし
くは９％以下である。
【０００８】Ｎａ2 Ｏは溶解時のフラックスとして作用
するとともに、熱膨張係数を増加させる成分である。こ
れが４％未満では溶解性が低下するとともに、熱膨張係
数が低下するおそれがある。好ましくは８％以上であ
る。一方、２１％超では化学強化時のイオン交換の速度
が低下するとともに耐水性が低下するおそれがある。好
ましくは２０％以下であり、特に好ましくは１６％以下
である。
するとともに、熱膨張係数を増加させる成分である。こ
れが４％未満では溶解性が低下するとともに、熱膨張係
数が低下するおそれがある。好ましくは８％以上であ
る。一方、２１％超では化学強化時のイオン交換の速度
が低下するとともに耐水性が低下するおそれがある。好
ましくは２０％以下であり、特に好ましくは１６％以下
である。
【０００９】Ｋ2 Ｏも溶解時のフラックスとして作用す
るとともに、熱膨張係数を増加させる成分であって、必
須ではないが添加できる。好ましくは０．２％以上であ
る。一方、５％超では耐水性が低下するおそれがある。
好ましくは４％以下である。
るとともに、熱膨張係数を増加させる成分であって、必
須ではないが添加できる。好ましくは０．２％以上であ
る。一方、５％超では耐水性が低下するおそれがある。
好ましくは４％以下である。
【００１０】また、Ｌｉ2 Ｏ、Ｎａ2 ＯおよびＫ2 Ｏは
合量で１４％未満であると、熱膨張係数が低くなるおそ
れがある。好ましくは１６％以上である。一方、２５％
超では耐水性が低下するおそれがある。好ましくは２４
％以下、特に好ましくは２２％以下である。
合量で１４％未満であると、熱膨張係数が低くなるおそ
れがある。好ましくは１６％以上である。一方、２５％
超では耐水性が低下するおそれがある。好ましくは２４
％以下、特に好ましくは２２％以下である。
【００１１】ＭｇＯは、必須ではないが、添加すること
により、溶解性を向上し熱膨張係数を増大させうる。好
ましくは０．３％以上である。一方、４％超では化学強
化時のイオン交換の速度が低下するおそれがある。好ま
しくは３％以下である。
により、溶解性を向上し熱膨張係数を増大させうる。好
ましくは０．３％以上である。一方、４％超では化学強
化時のイオン交換の速度が低下するおそれがある。好ま
しくは３％以下である。
【００１２】ＣａＯも、必須ではないが、添加すること
により、溶解性を向上し熱膨張係数を増大させうる。好
ましくは０．３％以上である。一方、ＣａＯの含有量は
本発明では６％以下とされ、好ましくは５％以下であ
る。
により、溶解性を向上し熱膨張係数を増大させうる。好
ましくは０．３％以上である。一方、ＣａＯの含有量は
本発明では６％以下とされ、好ましくは５％以下であ
る。
【００１３】ＺｒＯ2 およびＴｉＯ2 は、化学強化時の
イオン交換の速度を向上し、耐酸性を向上するための成
分であり、少なくとも一方は必須である。しかし合量で
０．５％未満ではこうした効果が得られないおそれがあ
る。好ましくは合量で６％以上である。一方、合量で１
５％超では、ガラスの失透温度が高くなり、溶融炉の底
部に失透が生じ溶融が困難になるおそれがある。好まし
くは合量で１２％以下である。ＺｒＯ2 は０．５〜１０
％とすることが好ましい。ＴｉＯ2 は０．５〜４％とす
ることが好ましい。
イオン交換の速度を向上し、耐酸性を向上するための成
分であり、少なくとも一方は必須である。しかし合量で
０．５％未満ではこうした効果が得られないおそれがあ
る。好ましくは合量で６％以上である。一方、合量で１
５％超では、ガラスの失透温度が高くなり、溶融炉の底
部に失透が生じ溶融が困難になるおそれがある。好まし
くは合量で１２％以下である。ＺｒＯ2 は０．５〜１０
％とすることが好ましい。ＴｉＯ2 は０．５〜４％とす
ることが好ましい。
【００１４】本発明のガラスは、以上の成分の外にＡｓ
2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 等の清澄剤およびＣｏＯ、Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、Ｓｅ等の着色剤を合量で５％
未満含有させうる。
2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 等の清澄剤およびＣｏＯ、Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、Ｓｅ等の着色剤を合量で５％
未満含有させうる。
【００１５】本発明のガラスは、熱膨張係数として、−
５０℃〜＋７０℃の平均熱膨張係数が、７０×１０-7〜
２００×１０-7／℃であることが好ましい。この範囲を
はずれると、磁気ディスクに用いられるステンレス鋼な
どからなる他の部材との熱膨張係数マッチングが悪くな
り、製造歩留りが低下するおそれがある。好ましくは、
７５×１０-7〜１９０×１０-7／℃である。
５０℃〜＋７０℃の平均熱膨張係数が、７０×１０-7〜
２００×１０-7／℃であることが好ましい。この範囲を
はずれると、磁気ディスクに用いられるステンレス鋼な
どからなる他の部材との熱膨張係数マッチングが悪くな
り、製造歩留りが低下するおそれがある。好ましくは、
７５×１０-7〜１９０×１０-7／℃である。
【００１６】また、耐酸性としては、８０℃に保った
０．１規定ＨＣｌ水溶液に２４時間浸漬したときの重量
減が０．１ｍｇ／ｃｍ2 以下であることが好ましい。よ
り好ましくはこれが０．０５ｍｇ／ｃｍ2 以下である。
０．１規定ＨＣｌ水溶液に２４時間浸漬したときの重量
減が０．１ｍｇ／ｃｍ2 以下であることが好ましい。よ
り好ましくはこれが０．０５ｍｇ／ｃｍ2 以下である。
【００１７】本発明のガラスは次のようにして製造でき
る。すなわち、目標組成となるように調合したバッチを
約１５００℃に約２時間保持しガラス化し、この溶融ガ
ラスを所定形状に成形する。
る。すなわち、目標組成となるように調合したバッチを
約１５００℃に約２時間保持しガラス化し、この溶融ガ
ラスを所定形状に成形する。
【００１８】一方、磁気ディスク用として用いるために
は、本発明のガラスを化学強化することが好ましい。強
化は一般的にはガラスを高温でナトリウム塩またはカリ
ウム塩と接触させることにより行われる。ガラスを上記
塩の溶融浴に浸漬するのが実際的であるが、上記塩をガ
ラスの表面に塗布し加熱することによっても行える。こ
れに使用する塩としては硝酸塩が実用上好ましいが、硫
酸塩、硫酸水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩、ハロゲン化物
等が使用される。
は、本発明のガラスを化学強化することが好ましい。強
化は一般的にはガラスを高温でナトリウム塩またはカリ
ウム塩と接触させることにより行われる。ガラスを上記
塩の溶融浴に浸漬するのが実際的であるが、上記塩をガ
ラスの表面に塗布し加熱することによっても行える。こ
れに使用する塩としては硝酸塩が実用上好ましいが、硫
酸塩、硫酸水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩、ハロゲン化物
等が使用される。
【００１９】
【実施例】表１の組成になるように調合、混合したバッ
チを１５００℃にて２時間加熱して溶解し、直径３〜４
ｍｍφ、長さ約７ｃｍのロッドに成形した。そのロッド
状試料を８０℃に保った０．１規定ＨＣｌ水溶液に２４
時間浸漬し、重量減（ｍｇ／ｃｍ2 ）を測定することに
よって、耐酸性を評価した。
チを１５００℃にて２時間加熱して溶解し、直径３〜４
ｍｍφ、長さ約７ｃｍのロッドに成形した。そのロッド
状試料を８０℃に保った０．１規定ＨＣｌ水溶液に２４
時間浸漬し、重量減（ｍｇ／ｃｍ2 ）を測定することに
よって、耐酸性を評価した。
【００２０】一方、同様に溶解して得たカレットを使
い、高温粘度（粘度が１０2.5 ポアズとなる温度（℃）
および粘度が１０4.0 ポアズとなる温度（℃））、ガラ
ス転移点（℃）、平均熱膨張係数（−５０℃〜＋７０℃
の平均熱膨張係数（×１０-7／℃））を測定した。高温
粘度は、ビスコメーターを使い、内筒回転法によって測
定した。ガラス転移点および熱膨張係数は、加熱による
長さの変化を測ることによって測定した。
い、高温粘度（粘度が１０2.5 ポアズとなる温度（℃）
および粘度が１０4.0 ポアズとなる温度（℃））、ガラ
ス転移点（℃）、平均熱膨張係数（−５０℃〜＋７０℃
の平均熱膨張係数（×１０-7／℃））を測定した。高温
粘度は、ビスコメーターを使い、内筒回転法によって測
定した。ガラス転移点および熱膨張係数は、加熱による
長さの変化を測ることによって測定した。
【００２１】表１に示したように、本発明のガラスは、
熱膨張係数が大きく、また耐薬品性にきわめて優れてい
る。また、本発明のガラスはイオン交換される成分を含
んでおり、化学強化ができる。
熱膨張係数が大きく、また耐薬品性にきわめて優れてい
る。また、本発明のガラスはイオン交換される成分を含
んでおり、化学強化ができる。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、熱膨張係数が高く、化
学強化処理ができ、さらに、耐薬品性にきわめて優れ
た、磁気ディスク用基板ガラスが得られる。
学強化処理ができ、さらに、耐薬品性にきわめて優れ
た、磁気ディスク用基板ガラスが得られる。
Claims (1)
- 【請求項１】重量％表示で本質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６４、 Ａｌ2 Ｏ3 １０〜１５、 Ｌｉ2 Ｏ ２〜１０、 Ｎａ2 Ｏ ４〜２１、 Ｋ2 Ｏ ０〜 ５、 Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １４〜２５、 ＭｇＯ ０〜 ４、 ＣａＯ ０〜 ６、 ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2 ０．５〜１５、 からなることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4974298A JPH11199267A (ja) | 1997-11-12 | 1998-03-02 | 磁気ディスク基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-310911 | 1997-11-12 | ||
| JP31091197 | 1997-11-12 | ||
| JP4974298A JPH11199267A (ja) | 1997-11-12 | 1998-03-02 | 磁気ディスク基板用ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199267A true JPH11199267A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=26390192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4974298A Pending JPH11199267A (ja) | 1997-11-12 | 1998-03-02 | 磁気ディスク基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199267A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6413892B1 (en) * | 1997-06-20 | 2002-07-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic recording media |
| US6436859B1 (en) | 1999-03-25 | 2002-08-20 | Central Glass Company, Limited | Glass composition and ion exchange strengthened glass article produced from same |
| JP2006290704A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | ガラス |
| US7192898B2 (en) | 2003-05-29 | 2007-03-20 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| JP2011057547A (ja) * | 2010-09-17 | 2011-03-24 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
| US8222170B2 (en) | 2001-05-31 | 2012-07-17 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic information recording medium to which the glass substrate is applied |
| CN109867442A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-06-11 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
-
1998
- 1998-03-02 JP JP4974298A patent/JPH11199267A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6413892B1 (en) * | 1997-06-20 | 2002-07-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic recording media |
| US6436859B1 (en) | 1999-03-25 | 2002-08-20 | Central Glass Company, Limited | Glass composition and ion exchange strengthened glass article produced from same |
| US8222170B2 (en) | 2001-05-31 | 2012-07-17 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic information recording medium to which the glass substrate is applied |
| US8697592B2 (en) | 2001-05-31 | 2014-04-15 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic information recording medium to which the glass substrate is applied |
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| CN109867442A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-06-11 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
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