JPH1119570A - Liquid supply mechanism - Google Patents
Liquid supply mechanismInfo
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- JPH1119570A JPH1119570A JP19337497A JP19337497A JPH1119570A JP H1119570 A JPH1119570 A JP H1119570A JP 19337497 A JP19337497 A JP 19337497A JP 19337497 A JP19337497 A JP 19337497A JP H1119570 A JPH1119570 A JP H1119570A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハやＬＣＤ基板等の被処理体に対してレジスト液や現像
液等の液体を供給するために用いられる液供給機構に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid supply mechanism used for supplying a liquid such as a resist liquid or a developing liquid to a processing target such as a semiconductor wafer or an LCD substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体デバイスや液晶表示素子の製造に
おいては、被処理体としての半導体ウエハやにＬＣＤ基
板にフォトレジストを塗布し、回路パターンに対応して
フォトレジストを露光し、これを現像処理するという、
いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターン
が形成される。2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor devices and liquid crystal display elements, a photoresist is applied to an LCD substrate on a semiconductor wafer or the like as an object to be processed, and the photoresist is exposed in accordance with a circuit pattern and developed. To do
A circuit pattern is formed by a so-called photolithography technique.
【０００３】このような塗布・現像処理においては、処
理液として、レジスト液、現像液等の薬液が用いられ
る。このような薬液は、配管を通って輸送されている
が、このような薬液をガロンビン等の容器に入れ、直接
容器内にガスを供給してガス圧送する場合には、薬液を
フィルターで濾過する必要がある。このため、従来は、
配管にフィルターを取り付けている。この場合に、フィ
ルターを配管に取り付けるためには、継手が２箇所必要
となる。In such a coating / developing process, a chemical solution such as a resist solution or a developing solution is used as a processing solution. Such a chemical solution is transported through a pipe. When such a chemical solution is put into a container such as a gallon bin and a gas is directly supplied into the container and gas pressure is supplied, the chemical solution is filtered by a filter. There is a need. For this reason, conventionally,
A filter is attached to the piping. In this case, two joints are required to attach the filter to the pipe.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな継手は薬液のリークの原因となるため、継手はでき
るだけ使用したくない。また、薬液を輸送する場合に、
配管中に継手等が介在されていると、オリフィスが多く
形成されて液の圧力変化が発生するため、それに伴って
処理液中に微細気泡が発生し、例えばデバイスの微細化
の要請に対応して用いられているｉ線レジスト等を用い
る場合に、微細気孔の存在により精度の高い配線パター
ンを形成できないおそれがある。However, since such a joint causes a leakage of a chemical solution, it is not desirable to use the joint as much as possible. Also, when transporting chemicals,
If a joint or the like is interposed in the pipe, many orifices are formed and the pressure of the liquid changes, so that fine bubbles are generated in the processing liquid. When an i-line resist or the like is used, there is a possibility that a highly accurate wiring pattern cannot be formed due to the presence of fine pores.
【０００５】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであって、配管の途中に継手を設けることなく液体の
濾過が可能な液供給機構を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a liquid supply mechanism capable of filtering a liquid without providing a joint in the middle of a pipe.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、液体を収容する液体収容容器と、液体収
容容器から液体を供給するための液供給配管と、液体収
容容器から配管を通って液体を供給する駆動力を与える
液供給駆動系と、前記液体収容容器内に設けられ、液体
を濾過するフィルターとを具備することを特徴とする液
供給機構を提供する。この場合に、前記フィルターとし
て、一端側が前記液供給配管に接続され、他端側に液吸
引口を有しているものを用いることができる。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention provides a liquid container for storing a liquid, a liquid supply pipe for supplying the liquid from the liquid container, and a pipe from the liquid container. A liquid supply drive system for providing a driving force for supplying a liquid through the liquid supply mechanism, and a filter provided in the liquid container and filtering the liquid. In this case, a filter having one end connected to the liquid supply pipe and having a liquid suction port at the other end can be used as the filter.
【０００７】本発明においては、液体を濾過するための
フィルターを液体収容容器内に設けたので、液供給配管
の途中にフィルターを取り付けることが不要となる。し
たがって、液供給配管に継手を設けることなく液体の濾
過が可能となる。この場合に、容器内において、フィル
ターの一端を配管の先端に取り付けるようにし、他端か
ら液を吸引するようにすることにより、１箇所の継手に
より簡単に取り付けることができる。In the present invention, since the filter for filtering the liquid is provided in the liquid container, it is not necessary to attach the filter in the middle of the liquid supply pipe. Therefore, the liquid can be filtered without providing a joint in the liquid supply pipe. In this case, in the container, one end of the filter is attached to the tip of the pipe, and the liquid is sucked from the other end, so that the filter can be easily attached by one joint.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、本発
明の液供給機構が組み込まれた半導体ウエハのレジスト
塗布ユニットにおけるレジスト液供給系を示す図であ
る。この図に示すように、レジスト塗布ユニット１０
は、半導体ウエハＷを吸着保持するスピンチャック１１
を有し、その上方に、ノズルホルダー１２が設けられて
いる。ノズルホルダー１２には、レジスト液ノズル１３
と溶剤ノズル１４が取り付けられている。なお、スピン
チャック１１に保持された半導体ウエハＷはカップ（図
示せず）に囲繞されている。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a view showing a resist liquid supply system in a semiconductor wafer resist coating unit in which a liquid supply mechanism of the present invention is incorporated. As shown in FIG.
Is a spin chuck 11 for holding a semiconductor wafer W by suction.
And a nozzle holder 12 is provided above the nozzle holder. The nozzle holder 12 has a resist solution nozzle 13
And a solvent nozzle 14 are attached. The semiconductor wafer W held by the spin chuck 11 is surrounded by a cup (not shown).
【０００９】レジスト液ノズル１３にはノズル１３内の
液面を検出するための透過型センサー１５が設けられて
いる。この透過型センサー１５は、図２に示すように、
発光子１５ａおよび受光子１５ｂを備えており、発光子
１５ａからノズル１３を透過して受光子１５ｂに入射し
た光の光量によりその透過部分の液の有無を検出し、こ
れにより液面検出を行う。The resist liquid nozzle 13 is provided with a transmission sensor 15 for detecting the liquid level in the nozzle 13. As shown in FIG.
It has a light emitting element 15a and a light receiving element 15b, and detects the presence or absence of liquid in the transmitting portion based on the amount of light transmitted through the nozzle 13 from the light emitting element 15a and incident on the light receiving element 15b, thereby performing liquid level detection. .
【００１０】レジスト液供給機構２０は、レジスト液供
給配管２１を有しており、その一端には前記レジスト液
ノズル１３が設けられ、他端はレジスト液容器２２内に
挿入されている。レジスト液容器２２内にはレジスト液
Ｌが貯留されており、蓋２２ａが取り付けられている。
そしてレジスト液容器２２内には、後で詳述するよう
に、レジスト液を濾過するためのフィルター２３がレジ
スト液供給配管２１に接続された状態で設けられてい
る。なお、レジスト液供給配管２１には従来のようなポ
ンプ、エアオペレーションバルブ、サックバックバル
ブ、フィルター等は設けられていない。The resist solution supply mechanism 20 has a resist solution supply pipe 21, one end of which is provided with the resist solution nozzle 13, and the other end of which is inserted into a resist solution container 22. A resist solution L is stored in the resist solution container 22, and a lid 22a is attached.
As will be described later in detail, a filter 23 for filtering the resist solution is provided in the resist solution container 22 so as to be connected to the resist solution supply pipe 21. The resist solution supply pipe 21 is not provided with a pump, an air operation valve, a suck-back valve, a filter, and the like as in the related art.
【００１１】レジスト液容器２２には蓋２２ａを貫通す
るようにして配管２４の一端が接続されており、配管２
４の他端は大気開放されている。この配管２４にはエア
オペレーションバルブ２５が設けられている。配管２４
のエアオペレーションバルブ２５と加圧容器２３との間
の部分には配管２６が分岐して接続されており、その先
端にはＮ2ガスボンベ２７が設けられている。この配管
２６には、加圧のための圧力を調整するレギュレータ２
８およびエアオペレーションバルブ２９が設けられてい
る。また、配管２６のレギュレータ２８とエアオペレー
ションバルブ２９との間の部分には配管３０が分岐して
接続されており、配管３０の他端は配管２４の加圧容器
２３近傍部分に接続されている。この配管３０にはレギ
ュレータ３１が設けられている。One end of a pipe 24 is connected to the resist solution container 22 so as to penetrate the lid 22a.
The other end of 4 is open to the atmosphere. The pipe 24 is provided with an air operation valve 25. Piping 24
A pipe 26 is branched and connected to a portion between the air operation valve 25 and the pressurized container 23, and an N 2 gas cylinder 27 is provided at a tip end thereof. A regulator 2 for adjusting pressure for pressurization is provided in this pipe 26.
8 and an air operation valve 29 are provided. A pipe 30 is branched and connected to a portion of the pipe 26 between the regulator 28 and the air operation valve 29, and the other end of the pipe 30 is connected to a portion of the pipe 24 near the pressurized container 23. . The piping 30 is provided with a regulator 31.
【００１２】エアオペレーションバルブ２５，２９およ
びレギュレータ２８，３１はコントローラ６０により制
御される。また、透過型センサー１５の受光子１５ｂか
らの出力はコントローラ４０に入力される。そして、エ
アオペレーションバルブ２５を閉じエアオペレーション
バルブ２９を開にすることにより、レジスト液容器２２
内にＮ2ガスボンベ２７のガス圧が印加され、そのガス
圧により容器２２内のレジスト液Ｌがレジスト液供給配
管２１を圧送され、ノズル１３から吐出される。また、
エアオペレーションバルブ２５を開にしてエアオペレー
ションバルブ２９を閉にすることにより、レジスト液吐
出終了後にノズル１３先端のレジスト液をサックバック
することができる。さらに、これらバルブを両方とも閉
にすることにより、レジスト液ノズル１３内のレジスト
液面が停止する。The air operation valves 25 and 29 and the regulators 28 and 31 are controlled by a controller 60. The output from the light receiving element 15 b of the transmission sensor 15 is input to the controller 40. Then, by closing the air operation valve 25 and opening the air operation valve 29, the resist liquid container 22 is opened.
The gas pressure of the N 2 gas cylinder 27 is applied to the inside, and the resist pressure L in the container 22 is pumped through the resist liquid supply pipe 21 by the gas pressure, and is discharged from the nozzle 13. Also,
By opening the air operation valve 25 and closing the air operation valve 29, the resist liquid at the tip of the nozzle 13 can be sucked back after the discharge of the resist liquid. Further, by closing both of these valves, the resist liquid level in the resist liquid nozzle 13 stops.
【００１３】フィルター２３は、図３に示すように、円
柱状をなし、その軸を鉛直にしてレジスト液容器２２に
貯留されたレジスト液Ｌに浸漬した状態で設けられてい
る。フィルター２３は、レジスト液容器２２内に挿入さ
れたレジスト液配管２１の先端に継手３２により取り付
けられている。フィルター２３の下端部には吸引口２３
ａが形成されており、この吸引口２３ａからレジスト液
Ｌが吸引される。そして、吸引されたレジスト液Ｌは、
フィルター２３で濾過され、レジスト液配管２１を通っ
てノズル１３に供給される。As shown in FIG. 3, the filter 23 has a columnar shape, and is provided in a state where its axis is vertical and immersed in the resist solution L stored in the resist solution container 22. The filter 23 is attached to a tip of a resist solution pipe 21 inserted into the resist solution container 22 by a joint 32. A suction port 23 is provided at the lower end of the filter 23.
a is formed, and the resist liquid L is sucked through the suction port 23a. Then, the sucked resist liquid L is
After being filtered by the filter 23, it is supplied to the nozzle 13 through the resist solution pipe 21.
【００１４】一方、溶剤供給機構５０は、溶剤供給配管
５１を有しており、その一端には前記溶剤ノズル１４が
設けられている。図示は省略しているが、この溶剤供給
機構５０は基本的にレジスト液供給機構２０と同様の構
成を有している。On the other hand, the solvent supply mechanism 50 has a solvent supply pipe 51, and the solvent nozzle 14 is provided at one end thereof. Although not shown, the solvent supply mechanism 50 has basically the same configuration as the resist liquid supply mechanism 20.
【００１５】次に、レジスト液供給機構２０によるレジ
スト液供給動作について説明する。レジスト液をノズル
１３から吐出させて、レジスト液を半導体ウエハＷに供
給する場合には、まず、エアオペレーションバルブ２５
を閉にし、エアオペレーションバルブ２９を開にして、
Ｎ2ガスボンベ４７から配管２６および２４を通って、
レジスト液容器２２内にＮ2ガスを供給する。このガス
圧により、レジスト液容器２２内のレジスト液Ｌがフィ
ルター２３で濾過され、配管２１を通ってその先端に設
けられたノズル１３から吐出され、半導体ウエハＷに供
給される。この場合に、コントローラ４０がレギュレー
タ２８をコントロールし、加圧レベルが適切な値になる
ように調整する。このようにして加圧レベルを調整する
ことにより、所定の圧力が容器２２内のレジスト液Ｌに
印加され、所望の量のレジスト液が所定時間、例えば１
〜５secの間吐出される。Next, the operation of supplying the resist liquid by the resist liquid supply mechanism 20 will be described. When discharging the resist liquid from the nozzle 13 and supplying the resist liquid to the semiconductor wafer W, first, the air operation valve 25 is used.
Is closed, and the air operation valve 29 is opened,
From the N 2 gas cylinder 47 through the pipes 26 and 24,
N 2 gas is supplied into the resist solution container 22. Due to this gas pressure, the resist solution L in the resist solution container 22 is filtered by the filter 23, discharged from the nozzle 13 provided at the tip through the pipe 21, and supplied to the semiconductor wafer W. In this case, the controller 40 controls the regulator 28 to adjust the pressurization level to an appropriate value. By adjusting the pressurization level in this manner, a predetermined pressure is applied to the resist liquid L in the container 22, and a desired amount of the resist liquid is supplied for a predetermined time, for example, 1 hour.
Discharged for ~ 5 sec.
【００１６】所定量のレジスト液を吐出した時点でエア
オペレーションバルブ２９を閉じレジスト液の吐出を停
止する。そして、それと同時にエアオペレーションバル
ブ２５を開にして配管２４を大気開放する。これによ
り、レジスト液容器２２内が減圧され、配管２１内のレ
ジスト液が容器２２に向けて引き戻される。このような
サックバック機能により、レジスト液吐出終了後、配管
に残存したレジスト液が滴下されることが防止される。
この場合に、透過型センサー１５により、ノズル１３内
の液面がセンサーからの光のレベよりも先端にあること
が検出されている際にはエアオペレーションバルブ２５
は開のままにし、液面が光のレベルよりも戻されたこと
を検出した時点でエアオペレーションバルブ２５を閉に
する。これによりノズル１３内の液面が停止する。ノズ
ル１３内の液面位置の微調整は、バルブ２５および２９
が閉じられた状態で、レギュレータ３１を調整し、わず
かな加圧力をレジスト液容器２２内に印加することによ
り行う。When a predetermined amount of the resist solution has been discharged, the air operation valve 29 is closed to stop the discharge of the resist solution. At the same time, the air operation valve 25 is opened to open the pipe 24 to the atmosphere. Thus, the pressure in the resist solution container 22 is reduced, and the resist solution in the pipe 21 is drawn back toward the container 22. Such a suck-back function prevents the resist liquid remaining on the piping from dropping after the resist liquid discharge is completed.
In this case, when the transmission type sensor 15 detects that the liquid level in the nozzle 13 is located at the tip of the level of the light from the sensor, the air operation valve 25 is used.
Is left open, and the air operation valve 25 is closed when it is detected that the liquid level has returned below the light level. Thereby, the liquid level in the nozzle 13 stops. Fine adjustment of the liquid level in the nozzle 13 is performed by the valves 25 and 29.
Is closed, the regulator 31 is adjusted, and a slight pressing force is applied to the inside of the resist solution container 22.
【００１７】このようにして１回のレジスト液の吐出が
終了した後、次のレジスト液吐出に備える。そして、同
様の動作を繰り返すことにより、所定枚の半導体ウエハ
Ｗのレジスト塗布を行う。After one discharge of the resist liquid has been completed in this way, preparations are made for the next discharge of the resist liquid. By repeating the same operation, a predetermined number of semiconductor wafers W are coated with a resist.
【００１８】このように、レジスト液Ｌを濾過するため
のフィルター２３をレジスト液容器２２内に設けたの
で、レジスト液供給配管２１の途中にフィルターを取り
付けることが不要となり、したがって、レジスト液供給
配管２１に継手を設けることなくレジスト液の濾過が可
能となる。また、レジスト液配管２１に、従来のような
エアオペレーションバルブ、サックバックバルブ、ポン
プ等を介在させず、また上述のようにフィルターも介在
させる必要もないため、これらの継手も不要となり、レ
ジスト液流路には他の部材が全く存在していな状態とな
って、よどみなくレジスト液を通流させることができ
る。As described above, since the filter 23 for filtering the resist solution L is provided in the resist solution container 22, it is not necessary to attach a filter in the middle of the resist solution supply pipe 21. The resist solution can be filtered without providing a joint at 21. In addition, since the conventional air operation valve, suck back valve, pump, and the like do not intervene in the resist liquid pipe 21 and the filter does not need to intervene as described above, these joints become unnecessary, and the resist liquid is not required. Since no other member is present in the flow path, the resist solution can flow without stagnation.
【００１９】また、フィルター２３は、レジスト液容器
２２内において、その一端がレジスト液供給配管２１の
先端に取り付けられ、他端からレジスト液Ｌを吸引する
ようにしたので、フィルター２３は１箇所の継手３２に
より簡単に取り付けることができる。In the resist solution container 22, one end of the filter 23 is attached to the tip of the resist solution supply pipe 21 and the resist solution L is sucked from the other end. It can be easily attached by the joint 32.
【００２０】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の形態で使用することができる。例えば、上記
実施の形態では、配管２１にエアオペレーションバル
ブ、サックバックバルブ、ポンプ等を介在させないレジ
スト液供給機構について本発明を適用したが、必ずしも
これに限らず、これらが介在している場合にも適用する
ことができる。また、上記実施の形態では、本発明をレ
ジスト液の供給機構に適用した例について示したが、こ
れに限らず、シンナーやＨＭＤＳＤ等、他の液体の場合
にも適用することができる。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be used in various forms. For example, in the above embodiment, the present invention is applied to the resist liquid supply mechanism in which the air operation valve, the suck back valve, the pump, and the like are not interposed in the pipe 21, but the present invention is not limited to this. Can also be applied. Further, in the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the resist liquid supply mechanism is described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to other liquids such as thinner and HMDSD.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液体を濾過するためのフィルターを液体収容容器内に設
けたので、液供給配管の途中にフィルターを取り付ける
ことが不要となる。したがって、液供給配管に継手を設
けることなく液体の濾過が可能となる。また、容器内に
おいて、フィルターの一端を配管の先端に取り付けるよ
うにし、他端から液を吸引するようにすることにより、
１箇所の継手により簡単に取り付けることができる。As described above, according to the present invention,
Since the filter for filtering the liquid is provided in the liquid container, it is not necessary to attach the filter in the middle of the liquid supply pipe. Therefore, the liquid can be filtered without providing a joint in the liquid supply pipe. Also, in the container, by attaching one end of the filter to the tip of the pipe, by sucking the liquid from the other end,
It can be easily installed with one joint.
【図１】本発明の液供給機構が組み込まれた半導体ウエ
ハのレジスト塗布ユニットにおけるレジスト液供給系を
示す図。FIG. 1 is a diagram showing a resist liquid supply system in a semiconductor wafer resist coating unit in which a liquid supply mechanism of the present invention is incorporated.
【図２】レジスト液ノズル内の液面を検出する状態を説
明する図。FIG. 2 is a diagram illustrating a state of detecting a liquid level in a resist liquid nozzle.
【図３】レジスト液容器内に挿入されたフィルターを拡
大して示す断面図。FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a filter inserted into a resist solution container.
１０……レジスト塗布ユニット ２０……レジスト液供給機構 ２１……レジスト液供給配管 ２２……レジスト液容器 ２２ａ……蓋 ２３……フィルター ２３ａ……吸引口 ３２……継手 Ｌ……レジスト液 Reference Signs List 10 resist coating unit 20 resist liquid supply mechanism 21 resist liquid supply piping 22 resist liquid container 22a lid 23 filter 23a suction port 32 joint L resist liquid
Claims (2)
与える液供給駆動系と、 前記液体収容容器内に設けられ、液体を濾過するフィル
ターとを具備することを特徴とする液供給機構。1. A liquid storage container for storing a liquid, a liquid supply pipe for supplying the liquid from the liquid storage container, and a liquid supply drive system for providing a driving force for supplying the liquid from the liquid storage container through the pipe. And a filter provided in the liquid container and filtering the liquid.
配管に接続され、他端側に液吸引口を有していることを
特徴とする請求項１に記載の液供給機構。2. The liquid supply mechanism according to claim 1, wherein the filter has one end connected to the liquid supply pipe and a liquid suction port at the other end.
Priority Applications (9)
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|---|---|---|---|
| JP19337497A JP3442263B2 (en) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | Liquid supply mechanism, liquid processing apparatus and liquid processing method |
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP3442263B2 JP3442263B2 (en) | 2003-09-02 |
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ID=16306864
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19337497A Expired - Fee Related JP3442263B2 (en) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | Liquid supply mechanism, liquid processing apparatus and liquid processing method |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3442263B2 (en) |
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