JPH11190897A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
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- JPH11190897A JPH11190897A JP10292074A JP29207498A JPH11190897A JP H11190897 A JPH11190897 A JP H11190897A JP 10292074 A JP10292074 A JP 10292074A JP 29207498 A JP29207498 A JP 29207498A JP H11190897 A JPH11190897 A JP H11190897A
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- photosensitive material
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- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/08—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
- G03D3/13—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
- G03D3/132—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly fed by roller assembly
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
- G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の処理モジュールを小さな空間を必要と
するのみで結合できる感光材料処理装置を提供する。 【解決手段】 感光材料処理装置は処理モジュールと処
理溶液をモジュールの小容量部分から放出口へと循環さ
せる手段とからなっている。処理モジュールは容器とそ
の中に置かれた処理組立体とこれの近くにある輸送組立
体とを具備し、処理組立体と輸送組立体とが処理溶液の
流れる通路を形成し、この処理液通路が処理溶液全量の
少なくとも40%を含み、かつ感光材料の厚さの約10
0倍以下の厚さを有し、放出開口が前記輸送組立体又は
処理組立体に設けられ、2つ以上のモジュールが相互に
連結されて感光材料が1つのモジュールから次のモジュ
ールへ輸送されるようにする。モジュールは水平又は垂
直に配列され空間の制約と融通性のなさとを解消する。
するのみで結合できる感光材料処理装置を提供する。 【解決手段】 感光材料処理装置は処理モジュールと処
理溶液をモジュールの小容量部分から放出口へと循環さ
せる手段とからなっている。処理モジュールは容器とそ
の中に置かれた処理組立体とこれの近くにある輸送組立
体とを具備し、処理組立体と輸送組立体とが処理溶液の
流れる通路を形成し、この処理液通路が処理溶液全量の
少なくとも40%を含み、かつ感光材料の厚さの約10
0倍以下の厚さを有し、放出開口が前記輸送組立体又は
処理組立体に設けられ、2つ以上のモジュールが相互に
連結されて感光材料が1つのモジュールから次のモジュ
ールへ輸送されるようにする。モジュールは水平又は垂
直に配列され空間の制約と融通性のなさとを解消する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は写真の分野に関し、
そして詳細には感光材料処理装置に関する。
そして詳細には感光材料処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】感光材料の処理は、現像、漂白、定着、
洗浄、及び乾燥のような一連の段階を含んでいる。これ
らの段階は、連続するフィルムのウエブもしくは切断さ
れたフィルムのシート又は写真紙を、それぞれがその処
理段階に適当な異なる処理液を収容している一連の部署
又はタンクを通って運搬することにより、これら段階自
体を機械化に適合させるようにしている。
洗浄、及び乾燥のような一連の段階を含んでいる。これ
らの段階は、連続するフィルムのウエブもしくは切断さ
れたフィルムのシート又は写真紙を、それぞれがその処
理段階に適当な異なる処理液を収容している一連の部署
又はタンクを通って運搬することにより、これら段階自
体を機械化に適合させるようにしている。
【0003】様々の大きさの写真フィルム処理装置、す
なわち大きな業者処理装置と小さな現像所が存在する。
大きな業者処理装置は約100リットルの各処理溶液を
収容するタンクを用いる。小さな業者処理装置又は小現
像所は10リットル以下の処理溶液を収容するタンクを
用いている。
なわち大きな業者処理装置と小さな現像所が存在する。
大きな業者処理装置は約100リットルの各処理溶液を
収容するタンクを用いる。小さな業者処理装置又は小現
像所は10リットル以下の処理溶液を収容するタンクを
用いている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】典型的には大きな業者
処理装置と小現像所は固定され一体化された水平及び垂
直のラックとタンクの配置構造を用いる。固定され一体
化された業者処理装置と小現像所に関する問題はこのラ
ック及びタンクの構造が水平な表面、すなわち床の上に
配置されることである。この配置構造は大きな床空間を
必要とする。
処理装置と小現像所は固定され一体化された水平及び垂
直のラックとタンクの配置構造を用いる。固定され一体
化された業者処理装置と小現像所に関する問題はこのラ
ック及びタンクの構造が水平な表面、すなわち床の上に
配置されることである。この配置構造は大きな床空間を
必要とする。
【0005】さらにラックとタンクの前記配置構造は写
真処理装置において利用される写真処理段階(現像、漂
白、定着及び洗浄)によって決定される。写真処理装置
のために利用しようとする場所が十分な水平の床空間を
有していなかったならば、写真処理装置は設置すること
ができない。この場合には、現存する写真処理装置が水
平の空間に置かれ処理装置で順次行われる処理を余分の
ラックとタンクとを追加することにより変更しようとす
るが、利用できる水平の空間の大きさにより制約を受け
る。
真処理装置において利用される写真処理段階(現像、漂
白、定着及び洗浄)によって決定される。写真処理装置
のために利用しようとする場所が十分な水平の床空間を
有していなかったならば、写真処理装置は設置すること
ができない。この場合には、現存する写真処理装置が水
平の空間に置かれ処理装置で順次行われる処理を余分の
ラックとタンクとを追加することにより変更しようとす
るが、利用できる水平の空間の大きさにより制約を受け
る。
【0006】さらにまた、ラックとタンクを処理の工程
からなくさねばならない場合には、ラックとタンクはク
ロスオーバー(渡し部)の使用によって省略される。ラ
ックとタンクが占めた空間は、このラックとタンクが取
除かれないため省略されない。渡し部が付加される。し
たがって、余分の空間が得られない。上記の事実は利用
できない空間を形成するだけでなくまた処理段階に余分
の渡し込み時間を加えることになる。処理工程の変更が
ラックとタンクの追加を必要としても、現在の固定され
一体化されたラックとタンクの構造は不可変性のため、
余分のラックとタンクを付加するための空間又は手段を
得ることができない。
からなくさねばならない場合には、ラックとタンクはク
ロスオーバー(渡し部)の使用によって省略される。ラ
ックとタンクが占めた空間は、このラックとタンクが取
除かれないため省略されない。渡し部が付加される。し
たがって、余分の空間が得られない。上記の事実は利用
できない空間を形成するだけでなくまた処理段階に余分
の渡し込み時間を加えることになる。処理工程の変更が
ラックとタンクの追加を必要としても、現在の固定され
一体化されたラックとタンクの構造は不可変性のため、
余分のラックとタンクを付加するための空間又は手段を
得ることができない。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、感光材
料を処理する装置であって、容器と前記容器の中に配置
された少なくとも1つの処理組立体と少なくとも1つの
処理組立体に近接して配置された少なくとも1つの輸送
組立体とからなる処理モジュールを有し、前記少なくと
も1つの処理組立体と少なくとも1つの輸送組立体とが
処理溶液が流れる実質的に連続した通路を形成し、前記
少なくとも1つの処理組立体には前記処理溶液を前記処
理通路に直接供給する少なくとも1つのスロットノズル
が設けられ、さらに、前記処理溶液を前記少なくとも1
つのスロットノズルを通って前記処理通路に供給する少
なくとも1つの供給導管と、前記処理モジュールに設け
られ前記処理モジュールから前記処理溶液を放出する少
なくとも1つの放出導管と、前記処理溶液を前記供給導
管と前記放出導管とを介し前記処理モジュールを通って
循環させる手段、とを具備し、2つ又はそれ以上の処理
モジュールが相互に連結され感光材料が1つの処理モジ
ュールから次の処理モジュールへと輸送されるようにし
ていることを特徴とする感光材料処理装置が提供され
る。
料を処理する装置であって、容器と前記容器の中に配置
された少なくとも1つの処理組立体と少なくとも1つの
処理組立体に近接して配置された少なくとも1つの輸送
組立体とからなる処理モジュールを有し、前記少なくと
も1つの処理組立体と少なくとも1つの輸送組立体とが
処理溶液が流れる実質的に連続した通路を形成し、前記
少なくとも1つの処理組立体には前記処理溶液を前記処
理通路に直接供給する少なくとも1つのスロットノズル
が設けられ、さらに、前記処理溶液を前記少なくとも1
つのスロットノズルを通って前記処理通路に供給する少
なくとも1つの供給導管と、前記処理モジュールに設け
られ前記処理モジュールから前記処理溶液を放出する少
なくとも1つの放出導管と、前記処理溶液を前記供給導
管と前記放出導管とを介し前記処理モジュールを通って
循環させる手段、とを具備し、2つ又はそれ以上の処理
モジュールが相互に連結され感光材料が1つの処理モジ
ュールから次の処理モジュールへと輸送されるようにし
ていることを特徴とする感光材料処理装置が提供され
る。
【0008】本発明においては、前記処理通路は前記処
理通路で処理される感光材料の厚さの100倍に等しい
か100倍より小さい厚さとなっている。また、前記少
なくとも1つのスロットノズルの出口の流量(リットル
/分)が、 0.59≦F/A≦24 ここでFはリットル/分で表わす処理溶液の流量を示
し、Aは平方センチメートルで表わす前記少なくとも1
つのスロットノズルの前記出口の全断面積、によって規
定されている。
理通路で処理される感光材料の厚さの100倍に等しい
か100倍より小さい厚さとなっている。また、前記少
なくとも1つのスロットノズルの出口の流量(リットル
/分)が、 0.59≦F/A≦24 ここでFはリットル/分で表わす処理溶液の流量を示
し、Aは平方センチメートルで表わす前記少なくとも1
つのスロットノズルの前記出口の全断面積、によって規
定されている。
【0009】処理モジュールの内部構造は水平又は垂直
の方向に処理モジュールを加え又は減じることができる
ようにし、従来の写真処理構造の空間の制約と融通性の
なさとをなくする。処理モジュールの垂直方向の配置は
処理モジュールの水平方向の配置よりも非常に小さな空
間を必要としそしていかなる空間の付加なしにより大き
く複雑な処理を可能にする。
の方向に処理モジュールを加え又は減じることができる
ようにし、従来の写真処理構造の空間の制約と融通性の
なさとをなくする。処理モジュールの垂直方向の配置は
処理モジュールの水平方向の配置よりも非常に小さな空
間を必要としそしていかなる空間の付加なしにより大き
く複雑な処理を可能にする。
【0010】異なる感光材料は処理の異なった部分にと
って異なる量の時間を必要とし、すなわちより厚いゼラ
チンを有する感光材料はより長い洗浄時間を必要とす
る。したがって、同一の水平空間にモジュールを加え又
は減じる能力は実際上の利点である。写真処理装置を、
モジュールを加え又は減じることにより異なるように構
成する能力又はモジュールを水平に又は垂直に組合せる
能力は、処理装置をより有利な場所の空間を得るように
して場所の空間により便利に位置させることができるよ
うにする。したがって、写真処理装置がより多くの場所
に用いることができるようになる。
って異なる量の時間を必要とし、すなわちより厚いゼラ
チンを有する感光材料はより長い洗浄時間を必要とす
る。したがって、同一の水平空間にモジュールを加え又
は減じる能力は実際上の利点である。写真処理装置を、
モジュールを加え又は減じることにより異なるように構
成する能力又はモジュールを水平に又は垂直に組合せる
能力は、処理装置をより有利な場所の空間を得るように
して場所の空間により便利に位置させることができるよ
うにする。したがって、写真処理装置がより多くの場所
に用いることができるようになる。
【0011】
【発明の実施の形態】図面を詳細に参照、特に図1を参
照すると、参照符号10は処理モジュールを示し、この
処理モジュールは単独に又は他の処理モジュール10と
容易に組合されもしくは接合され、感光材料を処理する
ための連続した低容量のユニットを形成する。
照すると、参照符号10は処理モジュールを示し、この
処理モジュールは単独に又は他の処理モジュール10と
容易に組合されもしくは接合され、感光材料を処理する
ための連続した低容量のユニットを形成する。
【0012】処理モジュール10は、容器11と、上向
きの入口通路100(図2に記載されている)と、輸送
組立体を構成する入口輸送ローラ組立体12、輸送ロー
ラ組立体13及び出口輸送ローラ組立体15と、上向き
の出口通路101(図2に記載されている)と、高速衝
突スロットノズル17a,17b及び17cと、駆動装
置16と、駆動装置16を回転するための任意の公知の
手段、すなわちモータ、歯車、ベルト、チェーン等とす
ることのできる回転組立体18とを含んでいる。接近孔
61が容器11に設けられている。孔61はモジュール
10を相互に連結するために利用される。組立体12,
13及び15すなわち輸送ローラ組立体は容器11の壁
の近くで容器11内部に配置され、スロットノズル17
a,17b及び17cは容器11の壁の近くで内側に配
置されている。駆動装置16は輸送ローラ組立体12,
13及び15と回転組立体18に連結され駆動装置16
は回転組立体18の運動を輸送ローラ組立体12,13
及び15に伝達するのに用いられる。
きの入口通路100(図2に記載されている)と、輸送
組立体を構成する入口輸送ローラ組立体12、輸送ロー
ラ組立体13及び出口輸送ローラ組立体15と、上向き
の出口通路101(図2に記載されている)と、高速衝
突スロットノズル17a,17b及び17cと、駆動装
置16と、駆動装置16を回転するための任意の公知の
手段、すなわちモータ、歯車、ベルト、チェーン等とす
ることのできる回転組立体18とを含んでいる。接近孔
61が容器11に設けられている。孔61はモジュール
10を相互に連結するために利用される。組立体12,
13及び15すなわち輸送ローラ組立体は容器11の壁
の近くで容器11内部に配置され、スロットノズル17
a,17b及び17cは容器11の壁の近くで内側に配
置されている。駆動装置16は輸送ローラ組立体12,
13及び15と回転組立体18に連結され駆動装置16
は回転組立体18の運動を輸送ローラ組立体12,13
及び15に伝達するのに用いられる。
【0013】輸送ローラ組立体12,13及び15とス
ロットノズル17a,17b及び17cとは容易に容器
11に挿入され又は容器11から取外される。ローラ組
立体13は、頂部ローラ22と、底部ローラ23と、底
部ローラ23に対し圧縮するよう頂部ローラ22を保持
する引張りスプリング29と、軸受ブラケット26と、
上下の厚さの薄い狹い低容量の処理通路25を有する通
路部分24とを含んでいる。狹い通路開口27が部分2
4の内部に通じている。部分24の入口側の開口27は
部分24の出口側の開口27と同じ大きさ及び形状とす
ることができる。部分24の入口側の開口27はまた解
放されテーパーがつけられ又は部分24の出口側より大
きくされて種々の型式の感光材料21の堅さの変化に適
合するようになっている。通路開口27は処理通路25
の一部を形成する。ローラ22と23は駆動又は被駆動
ローラとすることができ、ローラ22と23はブラケッ
ト26に連結される。ローラ22と23は相互に噛合う
歯車28によって回転される。
ロットノズル17a,17b及び17cとは容易に容器
11に挿入され又は容器11から取外される。ローラ組
立体13は、頂部ローラ22と、底部ローラ23と、底
部ローラ23に対し圧縮するよう頂部ローラ22を保持
する引張りスプリング29と、軸受ブラケット26と、
上下の厚さの薄い狹い低容量の処理通路25を有する通
路部分24とを含んでいる。狹い通路開口27が部分2
4の内部に通じている。部分24の入口側の開口27は
部分24の出口側の開口27と同じ大きさ及び形状とす
ることができる。部分24の入口側の開口27はまた解
放されテーパーがつけられ又は部分24の出口側より大
きくされて種々の型式の感光材料21の堅さの変化に適
合するようになっている。通路開口27は処理通路25
の一部を形成する。ローラ22と23は駆動又は被駆動
ローラとすることができ、ローラ22と23はブラケッ
ト26に連結される。ローラ22と23は相互に噛合う
歯車28によって回転される。
【0014】感光材料21は輸送ローラ組立体12,1
3及び15により処理通路25を通って自動的に方向A
又は方向Bに輸送される。感光材料21は切断されたシ
ートもしくはロール形式とすることができ、又は感光材
料21は同時にロールにまた同時に切断シート形式にす
ることができる。感光材料21はその表面の一方又は両
方の側にエマルジョンを含むことができる。
3及び15により処理通路25を通って自動的に方向A
又は方向Bに輸送される。感光材料21は切断されたシ
ートもしくはロール形式とすることができ、又は感光材
料21は同時にロールにまた同時に切断シート形式にす
ることができる。感光材料21はその表面の一方又は両
方の側にエマルジョンを含むことができる。
【0015】カバー20が容器11上に置かれた時、光
不透過の閉鎖が形成される。したがって、図5の記載で
説明される組込まれた循環装置60を有するモジュール
10が、感光材料を処理することのできる単独に立つ光
不透過モジュール、すなわちモノバスとなる。2つ又は
それ以上のモジュール10が組合された時多段連続処理
ユニットが形成される。1つ又は複数のモジュール10
の組合せは図6の記載においてさらに十分に説明され
る。
不透過の閉鎖が形成される。したがって、図5の記載で
説明される組込まれた循環装置60を有するモジュール
10が、感光材料を処理することのできる単独に立つ光
不透過モジュール、すなわちモノバスとなる。2つ又は
それ以上のモジュール10が組合された時多段連続処理
ユニットが形成される。1つ又は複数のモジュール10
の組合せは図6の記載においてさらに十分に説明され
る。
【0016】図2は図1のモジュール10の一部切欠断
面図である。輸送ローラ組立体12,13及び15と、
ノズル17a,17b及び17cと裏板9とは、処理通
路25、容器11、循環装置60(図5)及び間隙49
a,49b,49c及び49dに含まれている処理溶液
の量を最小にするように設計されている。モジュール1
0の入口において、上向き通路100は処理通路25へ
の入口を形成する。モジュール10の出口で、上向き通
路101は処理通路25への出口を形成する。組立体1
2は組立体13と同じである。組立体12は頂部ローラ
30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ロー
ラ31に保持する引張りスプリング(図示しない)と、
軸受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。
狭い処理通路25の一部分が通路部分24によって形成
される。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラとす
ることができまたローラ30と31はブラケット26に
連結される。組立体15はローラ32及び33と同じよ
うに作動する追加の2つのローラ130と131を有す
る点を除き、組立体13と同じである。組立体15は、
頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリン
グ(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ
131と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含
んでいる。狭い処理通路25の一部分が部分24の内部
にある。通路部分24は処理通路25の一部分を形成す
る。ローラ32,33,130及び131はブラケット
26に連結されている。
面図である。輸送ローラ組立体12,13及び15と、
ノズル17a,17b及び17cと裏板9とは、処理通
路25、容器11、循環装置60(図5)及び間隙49
a,49b,49c及び49dに含まれている処理溶液
の量を最小にするように設計されている。モジュール1
0の入口において、上向き通路100は処理通路25へ
の入口を形成する。モジュール10の出口で、上向き通
路101は処理通路25への出口を形成する。組立体1
2は組立体13と同じである。組立体12は頂部ローラ
30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ロー
ラ31に保持する引張りスプリング(図示しない)と、
軸受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。
狭い処理通路25の一部分が通路部分24によって形成
される。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラとす
ることができまたローラ30と31はブラケット26に
連結される。組立体15はローラ32及び33と同じよ
うに作動する追加の2つのローラ130と131を有す
る点を除き、組立体13と同じである。組立体15は、
頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリン
グ(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ
131と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含
んでいる。狭い処理通路25の一部分が部分24の内部
にある。通路部分24は処理通路25の一部分を形成す
る。ローラ32,33,130及び131はブラケット
26に連結されている。
【0017】裏板9とスロットノズル17a,17b及
び17cは容器11に取付けられる。図2に示される実
施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョン
を有している時に用いられる。材料21のこのエマルジ
ョン側はスロットノズル17a,17b及び17cに対
面する。材料21はローラ30と31の間で通路25に
入り裏板9とノズル17aとを通って移動する。それか
ら材料21はローラ22と23の間を移動しそして裏板
9とノズル17b及び17cを通って移動する。この時
材料21はローラ32と33との間を移動しそして処理
通路25に出る。
び17cは容器11に取付けられる。図2に示される実
施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョン
を有している時に用いられる。材料21のこのエマルジ
ョン側はスロットノズル17a,17b及び17cに対
面する。材料21はローラ30と31の間で通路25に
入り裏板9とノズル17aとを通って移動する。それか
ら材料21はローラ22と23の間を移動しそして裏板
9とノズル17b及び17cを通って移動する。この時
材料21はローラ32と33との間を移動しそして処理
通路25に出る。
【0018】導管48aがポート44aを介して間隙4
9aを循環装置60に、図5の記載においてさらに詳細
に説明されるポート44(図5)を介して連結し、導管
48bがポート45aを介し間隙49bを循環装置60
に、ポート45(図5)を介して連結する。導管48c
がポート46aを介して間隙49cを循環装置60にポ
ート46(図5)を介して連結し、導管48dがポート
47aを介して間隙49dを循環装置60に、ポート4
7(図5)を介して連結する。スロットノズル17aは
導管50aを介して循環装置60に、ポート44(図
5)を介して入口ポート41aに、連結され、スロット
ノズル17bは導管50bを介して循環装置60に、入
口ポート42(図5)を介して入口ポート42aに、連
結される。導管50cは入口ポート43aを介してノズ
ル17cを循環装置60にポート43(図5)を介して
連結する。センサ52が容器11に連結され、センサ5
2は処理溶液面の高さ235を導管51に対して保持す
るのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によ
って取除くことができる。
9aを循環装置60に、図5の記載においてさらに詳細
に説明されるポート44(図5)を介して連結し、導管
48bがポート45aを介し間隙49bを循環装置60
に、ポート45(図5)を介して連結する。導管48c
がポート46aを介して間隙49cを循環装置60にポ
ート46(図5)を介して連結し、導管48dがポート
47aを介して間隙49dを循環装置60に、ポート4
7(図5)を介して連結する。スロットノズル17aは
導管50aを介して循環装置60に、ポート44(図
5)を介して入口ポート41aに、連結され、スロット
ノズル17bは導管50bを介して循環装置60に、入
口ポート42(図5)を介して入口ポート42aに、連
結される。導管50cは入口ポート43aを介してノズ
ル17cを循環装置60にポート43(図5)を介して
連結する。センサ52が容器11に連結され、センサ5
2は処理溶液面の高さ235を導管51に対して保持す
るのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によ
って取除くことができる。
【0019】織成された表面200が、処理通路25に
対面する裏板9の表面と処理通路25に対面するスロッ
トノズル17a,17b及び17cの表面とに取付けら
れている。
対面する裏板9の表面と処理通路25に対面するスロッ
トノズル17a,17b及び17cの表面とに取付けら
れている。
【0020】図3は図2のモジュール10の他の実施態
様の一部切欠図で材料21が一方の表面上にエマルジョ
ンを有し、ノズル17d,17e及び17fが容器11
の頂上部分上にある。組立体12,13及び15とノズ
ル17d,17e及び17fと裏板9とは処理通路25
と間隙49e,49f,49g及び49hに含まれてい
る処理溶液の量を最小にするように設計されている。モ
ジュール10の入口に、上向き通路100は処理通路2
5への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向
き通路101は処理通路25への出口を形成する。組立
体12は組立体13と同じである。組立体12は、頂部
ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底
部ローラ31に対して圧縮状態に保持する引張りスプリ
ング(図示しない)と、軸受ブラケット26と、通路部
分24とを含んでいる。狭い処理通路25の一部が部分
24の内部にある。通路部分24は処理通路25の一部
を形成する。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、ローラ30と31はブラケット26
に連結される。組立体15はローラ32及び33と同じ
ように作動する追加の2つのローラ130と131を有
する点を除き、組立体13と同じである。組立体15
は、頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプ
リング(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ロ
ーラ131と、軸受ブラケット26と、通路部分24と
を含んでいる。狭い処理通路25の一部が部分24の内
部にある。通路部分24は処理通路25の一部を形成す
る。ローラ32,33,130及び131は駆動又は被
駆動ローラとすることができ、ローラ32,33,13
0及び131はブラケット26に連結される。したがっ
て、実質的に連続した処理通路が得られることがわか
る。
様の一部切欠図で材料21が一方の表面上にエマルジョ
ンを有し、ノズル17d,17e及び17fが容器11
の頂上部分上にある。組立体12,13及び15とノズ
ル17d,17e及び17fと裏板9とは処理通路25
と間隙49e,49f,49g及び49hに含まれてい
る処理溶液の量を最小にするように設計されている。モ
ジュール10の入口に、上向き通路100は処理通路2
5への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向
き通路101は処理通路25への出口を形成する。組立
体12は組立体13と同じである。組立体12は、頂部
ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底
部ローラ31に対して圧縮状態に保持する引張りスプリ
ング(図示しない)と、軸受ブラケット26と、通路部
分24とを含んでいる。狭い処理通路25の一部が部分
24の内部にある。通路部分24は処理通路25の一部
を形成する。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、ローラ30と31はブラケット26
に連結される。組立体15はローラ32及び33と同じ
ように作動する追加の2つのローラ130と131を有
する点を除き、組立体13と同じである。組立体15
は、頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプ
リング(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ロ
ーラ131と、軸受ブラケット26と、通路部分24と
を含んでいる。狭い処理通路25の一部が部分24の内
部にある。通路部分24は処理通路25の一部を形成す
る。ローラ32,33,130及び131は駆動又は被
駆動ローラとすることができ、ローラ32,33,13
0及び131はブラケット26に連結される。したがっ
て、実質的に連続した処理通路が得られることがわか
る。
【0021】裏板9とスロットノズル17d,17e及
び17fとは容器11に取付けられる。図3に示される
実施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョ
ンを有している時に用いられる。材料21のエマルジョ
ン側はスロットノズル17d,17e及び17fに対面
する。材料21はローラ30と31の間で通路25に入
り裏板9とノズル17dを通って移動する。それから材
料21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノズル
17e及び17fとを通って移動する。この時材料21
はローラ32と33の間を移動しまたローラ130と1
31の間を移動し処理通路25を出る。
び17fとは容器11に取付けられる。図3に示される
実施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョ
ンを有している時に用いられる。材料21のエマルジョ
ン側はスロットノズル17d,17e及び17fに対面
する。材料21はローラ30と31の間で通路25に入
り裏板9とノズル17dを通って移動する。それから材
料21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノズル
17e及び17fとを通って移動する。この時材料21
はローラ32と33の間を移動しまたローラ130と1
31の間を移動し処理通路25を出る。
【0022】導管48eはポート44bを介して間隙4
9eを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
しまた導管48fはポート45bを介して間隙49fを
循環装置にポート45(図5)を介して連結する。導管
48gはポート46bを介して間隙49gを循環装置6
0にポート46(図5)を介して連結しまた導管48h
はポート47bを介して間隙49hを循環装置60にポ
ート47(図5)を介して連結する。スロットノズル1
7dは導管50dを介して循環装置60に、ポート41
(図5)を介して入口ポート41bに連結され、スロッ
トノズル17eは導管50eを介して循環装置60に、
ポート42(図5)を介して入口ポート42bに連結さ
れる。導管50fは入口ポート43bを介してノズル1
7fを循環装置60にポート43(図5)を介して連結
する。センサ52が容器11に連結され、センサ52は
処理溶液の液面高さを導管51に対して保持するのに用
いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によって取除
くことができる。
9eを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
しまた導管48fはポート45bを介して間隙49fを
循環装置にポート45(図5)を介して連結する。導管
48gはポート46bを介して間隙49gを循環装置6
0にポート46(図5)を介して連結しまた導管48h
はポート47bを介して間隙49hを循環装置60にポ
ート47(図5)を介して連結する。スロットノズル1
7dは導管50dを介して循環装置60に、ポート41
(図5)を介して入口ポート41bに連結され、スロッ
トノズル17eは導管50eを介して循環装置60に、
ポート42(図5)を介して入口ポート42bに連結さ
れる。導管50fは入口ポート43bを介してノズル1
7fを循環装置60にポート43(図5)を介して連結
する。センサ52が容器11に連結され、センサ52は
処理溶液の液面高さを導管51に対して保持するのに用
いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によって取除
くことができる。
【0023】織成された表面200が処理通路25に対
面する裏板9の表面と処理通路25に対面するスロット
ノズル17d,17e及び17fの表面とに取付けられ
る。
面する裏板9の表面と処理通路25に対面するスロット
ノズル17d,17e及び17fの表面とに取付けられ
る。
【0024】図4は図2のモジュール10の他の実施態
様の一部切欠図で材料21が両方の表面にエマルジョン
を有し、ノズル17g,17h及び17iが材料21の
一方のエマルジョン面に対面する容器11の頂上部分に
あり、ノズル17j,17k及び17Lが材料21の他
方のエマルジョン面に対面する容器11の底部分にあ
る。組立体12,13及び15とノズル17g,17
h,17i,17j,17k及び17Lは処理通路25
と間隙49i,49j,49k及び49Lとに含まれる
処理溶液の量を最小にするように設計されている。モジ
ュール10の入口に、上向き通路100が処理通路25
への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向き
通路101は処理通路25への出口を形成する。組立体
12は、頂部ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ロ
ーラ30を底部ローラ31に対し圧縮状態に保持する引
張りスプリング(図示しない)と、軸受ブラケット26
と、通路部分24とを含んでいる。狭い処理通路25の
一部が部分24の内部にある。通路部分24は処理通路
25の一部を形成する。ローラ30,31,130及び
131は駆動又は被駆動ローラとすることができ、ロー
ラ30,31,130及び131はブラケット26に連
結される。組立体15は、ローラ32及び33と同じよ
うに作動する追加の2つのローラ130と131を有す
る点を除き、組立体13と同様である。組立体15は、
頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリン
グ(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ
131と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含
んでいる。狭い処理通路25の一部分が部分24の内部
にある。通路部分24は処理通路25の一部を形成す
る。ローラ32,33,130及び131は駆動又は被
駆動ローラとすることができ、ローラ32,33,13
0及び131はブラケット26に連結される。
様の一部切欠図で材料21が両方の表面にエマルジョン
を有し、ノズル17g,17h及び17iが材料21の
一方のエマルジョン面に対面する容器11の頂上部分に
あり、ノズル17j,17k及び17Lが材料21の他
方のエマルジョン面に対面する容器11の底部分にあ
る。組立体12,13及び15とノズル17g,17
h,17i,17j,17k及び17Lは処理通路25
と間隙49i,49j,49k及び49Lとに含まれる
処理溶液の量を最小にするように設計されている。モジ
ュール10の入口に、上向き通路100が処理通路25
への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向き
通路101は処理通路25への出口を形成する。組立体
12は、頂部ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ロ
ーラ30を底部ローラ31に対し圧縮状態に保持する引
張りスプリング(図示しない)と、軸受ブラケット26
と、通路部分24とを含んでいる。狭い処理通路25の
一部が部分24の内部にある。通路部分24は処理通路
25の一部を形成する。ローラ30,31,130及び
131は駆動又は被駆動ローラとすることができ、ロー
ラ30,31,130及び131はブラケット26に連
結される。組立体15は、ローラ32及び33と同じよ
うに作動する追加の2つのローラ130と131を有す
る点を除き、組立体13と同様である。組立体15は、
頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリン
グ(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ
131と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含
んでいる。狭い処理通路25の一部分が部分24の内部
にある。通路部分24は処理通路25の一部を形成す
る。ローラ32,33,130及び131は駆動又は被
駆動ローラとすることができ、ローラ32,33,13
0及び131はブラケット26に連結される。
【0025】スロットノズル17g,17h及び17i
は容器11の上方部分に取付けられる。スロットノズル
17j,17k及び17Lは容器11の下方部分に取付
けられる。図4に示される実施態様は感光材料21がそ
の2つの表面の両方にエマルジョンを有している時に用
いられる。材料21の一方のエマルジョン側はスロット
ノズル17g,17h及び17iに対面しまた材料21
の他方のエマルジョン側はスロットノズル17j,17
k及び17Lに対面する。材料21はローラ30と31
の間で通路25に入りノズル17gと17jを通って移
動する。それから材料21はローラ22と23の間を移
動しノズル17h,17k,17i及び17Lを通って
移動する。この時、材料21はローラ32と33の間を
移動しまたローラ130と131の間を移動し処理通路
25を出る。
は容器11の上方部分に取付けられる。スロットノズル
17j,17k及び17Lは容器11の下方部分に取付
けられる。図4に示される実施態様は感光材料21がそ
の2つの表面の両方にエマルジョンを有している時に用
いられる。材料21の一方のエマルジョン側はスロット
ノズル17g,17h及び17iに対面しまた材料21
の他方のエマルジョン側はスロットノズル17j,17
k及び17Lに対面する。材料21はローラ30と31
の間で通路25に入りノズル17gと17jを通って移
動する。それから材料21はローラ22と23の間を移
動しノズル17h,17k,17i及び17Lを通って
移動する。この時、材料21はローラ32と33の間を
移動しまたローラ130と131の間を移動し処理通路
25を出る。
【0026】導管48iはポート44cを介して間隙4
9iを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを循
環装置60にポート45(図5)を介して連結する。導
管48kはポート46cを介して間隙49Lを循環装置
60にポート46を介して連結し、導管48Lはポート
47cを介して間隙49jを循環装置60にポート47
(図5)を介して連結する。スロットノズル17gは循
環装置60に導管50gとポート41(図5)を介して
連結される。スロットノズル17hは導管50hを介し
て循環装置60に、ポート42(図5)を介して入口ポ
ート62に連結される。導管50iは入口ポート63を
介してノズル17iを循環装置60にポート43(図
5)を介して連結する。スロットノズル17jは導管5
0jを介して循環装置60に、ポート41(図5)を介
して入口ポート41cに連結され、スロットノズル17
kは導管50kを介して循環装置60に、ポート42
(図5)を介して入口ポート42cに連結される。スロ
ットノズル17Lは導管50Lを介して循環装置60
に、ポート47(図5)を介して入口ポート47cに連
結される。センサ52が容器11に連結され、センサ5
2は処理溶液の液面高さを導管51に対して保持するの
に用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51により取
除かれる。材料21は上向き通路入口100に入り、そ
れからローラ30と31の間で通路25の通路部分24
を通過しノズル17gと17jを通って移動する。つい
で材料21はローラ22と23の間を移動しノズル17
h,17k,17L及び17iを通って移動する。この
時材料21はローラ32と33の間を移動し処理通路2
5を出るようになる。
9iを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを循
環装置60にポート45(図5)を介して連結する。導
管48kはポート46cを介して間隙49Lを循環装置
60にポート46を介して連結し、導管48Lはポート
47cを介して間隙49jを循環装置60にポート47
(図5)を介して連結する。スロットノズル17gは循
環装置60に導管50gとポート41(図5)を介して
連結される。スロットノズル17hは導管50hを介し
て循環装置60に、ポート42(図5)を介して入口ポ
ート62に連結される。導管50iは入口ポート63を
介してノズル17iを循環装置60にポート43(図
5)を介して連結する。スロットノズル17jは導管5
0jを介して循環装置60に、ポート41(図5)を介
して入口ポート41cに連結され、スロットノズル17
kは導管50kを介して循環装置60に、ポート42
(図5)を介して入口ポート42cに連結される。スロ
ットノズル17Lは導管50Lを介して循環装置60
に、ポート47(図5)を介して入口ポート47cに連
結される。センサ52が容器11に連結され、センサ5
2は処理溶液の液面高さを導管51に対して保持するの
に用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51により取
除かれる。材料21は上向き通路入口100に入り、そ
れからローラ30と31の間で通路25の通路部分24
を通過しノズル17gと17jを通って移動する。つい
で材料21はローラ22と23の間を移動しノズル17
h,17k,17L及び17iを通って移動する。この
時材料21はローラ32と33の間を移動し処理通路2
5を出るようになる。
【0027】導管48iはポート44cを介して間隙4
9iを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを循
環装置60にポート45(図5)を介して連結する。導
管48kはポート46cを介して間隙49Lを循環装置
60にポート46(図5)を介して連結し、導管48L
はポート43cを介して間隙49jを循環装置60にポ
ート43(図5)を介して連結する。センサ52が容器
11に連結され、センサ52は処理溶液の液面高さを導
管51に対し保持するのに用いられる。余分の処理溶液
は溢流導管51により取除かれる。
9iを循環装置60にポート44(図5)を介して連結
し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを循
環装置60にポート45(図5)を介して連結する。導
管48kはポート46cを介して間隙49Lを循環装置
60にポート46(図5)を介して連結し、導管48L
はポート43cを介して間隙49jを循環装置60にポ
ート43(図5)を介して連結する。センサ52が容器
11に連結され、センサ52は処理溶液の液面高さを導
管51に対し保持するのに用いられる。余分の処理溶液
は溢流導管51により取除かれる。
【0028】織成された表面200が処理通路25に対
面するスロットノズル17g,17h,17i,17
j,17k及び17Lの表面に取付けられる。
面するスロットノズル17g,17h,17i,17
j,17k及び17Lの表面に取付けられる。
【0029】図5は本発明の装置の処理溶液循環装置6
0の概略図である。モジュール10は通路25の容量を
最小にするように設計されている。モジュール10のポ
ート44,45,46及び47は導管85を介して循環
ポンプ80に連結される。循環ポンプ80は導管63を
介してマニホルド64に連結されマニホルド64は導管
66を介してろ過器65に連結される。ろ過器65は熱
交換器86に連結され熱交換器86は導管4を介して通
路25に連結される。熱交換器86はまたワイヤ68を
介して制御論理回路67に連結される。制御論理回路6
7はワイヤ70を介して熱交換器86に連結されセンサ
52はワイヤ71を介して制御論理回路67に連結され
る。計量ポンプ72,73及び74がそれぞれ導管7
5,76及び77を介してマニホルド64に連結され
る。したがって、処理溶液が出口通路から入口ポートに
貯蔵器を使用しないで直接ポンプで送られる。
0の概略図である。モジュール10は通路25の容量を
最小にするように設計されている。モジュール10のポ
ート44,45,46及び47は導管85を介して循環
ポンプ80に連結される。循環ポンプ80は導管63を
介してマニホルド64に連結されマニホルド64は導管
66を介してろ過器65に連結される。ろ過器65は熱
交換器86に連結され熱交換器86は導管4を介して通
路25に連結される。熱交換器86はまたワイヤ68を
介して制御論理回路67に連結される。制御論理回路6
7はワイヤ70を介して熱交換器86に連結されセンサ
52はワイヤ71を介して制御論理回路67に連結され
る。計量ポンプ72,73及び74がそれぞれ導管7
5,76及び77を介してマニホルド64に連結され
る。したがって、処理溶液が出口通路から入口ポートに
貯蔵器を使用しないで直接ポンプで送られる。
【0030】写真溶液を含む写真処理薬品が計量ポンプ
72,73及び74の中に置かれる。ポンプ72,73
及び74は、材料21(図1)が通路25に入っている
ことを感光材料センサ210が検知し、センサ210が
信号をライン211と制御論理回路67とを介してポン
プ72,73及び74に伝達した時、正しい量の化学薬
品をマニホルド64の中に置くのに用いられる。マニホ
ルド64は写真処理溶液を導管66の中に導入する。
72,73及び74の中に置かれる。ポンプ72,73
及び74は、材料21(図1)が通路25に入っている
ことを感光材料センサ210が検知し、センサ210が
信号をライン211と制御論理回路67とを介してポン
プ72,73及び74に伝達した時、正しい量の化学薬
品をマニホルド64の中に置くのに用いられる。マニホ
ルド64は写真処理溶液を導管66の中に導入する。
【0031】写真処理溶液は導管66を介してろ過器6
5に流入する。ろ過器65は写真処理溶液に含有される
ことのある汚染物質とごみを取除く。写真処理溶液がろ
過された後、溶液は熱交換器86に入る。
5に流入する。ろ過器65は写真処理溶液に含有される
ことのある汚染物質とごみを取除く。写真処理溶液がろ
過された後、溶液は熱交換器86に入る。
【0032】センサ52は溶液の液面高さを検知しまた
センサ8は溶液の温度を検知し、そしてそれぞれ溶液面
高さと溶液の温度とをワイヤ71と7を介して制御論理
回路67に伝達する。例えば、制御論理回路67は1オ
メガドライブ、スタンフォード、コネチカット0690
7のオメガエンジニアリング会社によって製造されたシ
リーズCN310ソリッドステート温度制御装置であ
る。論理回路67はセンサ8によって検知された溶液温
度と熱交換器86がワイヤ70を介して論理回路67に
伝達した温度とを比較する。論理回路67は熱交換器8
6に情報を送り溶液に熱を加え又は溶液から熱を取去る
ようにする。こうして、論理回路67と熱交換器86は
溶液の温度を変更し溶液の温度を所望の高さに維持す
る。
センサ8は溶液の温度を検知し、そしてそれぞれ溶液面
高さと溶液の温度とをワイヤ71と7を介して制御論理
回路67に伝達する。例えば、制御論理回路67は1オ
メガドライブ、スタンフォード、コネチカット0690
7のオメガエンジニアリング会社によって製造されたシ
リーズCN310ソリッドステート温度制御装置であ
る。論理回路67はセンサ8によって検知された溶液温
度と熱交換器86がワイヤ70を介して論理回路67に
伝達した温度とを比較する。論理回路67は熱交換器8
6に情報を送り溶液に熱を加え又は溶液から熱を取去る
ようにする。こうして、論理回路67と熱交換器86は
溶液の温度を変更し溶液の温度を所望の高さに維持す
る。
【0033】センサ52は通路25の中の溶液面高さを
検知し検知した溶液面高さをワイヤ71を介して制御論
理回路67に伝達する。論理回路67はワイヤ83を介
してポンプ72,73及び74に情報を送り溶液面高さ
が低かったならば追加溶液を加えるようにする。溶液面
高さが所望の設定点になると、制御論理回路67はポン
プ72,73及び74に情報を送り追加溶液を加えるの
を停止する。
検知し検知した溶液面高さをワイヤ71を介して制御論
理回路67に伝達する。論理回路67はワイヤ83を介
してポンプ72,73及び74に情報を送り溶液面高さ
が低かったならば追加溶液を加えるようにする。溶液面
高さが所望の設定点になると、制御論理回路67はポン
プ72,73及び74に情報を送り追加溶液を加えるの
を停止する。
【0034】余分の溶液は全て、ポンプでモジュール1
0から排出されるか又は導管81を介し液面排出溢流口
84を通って容器82の中に取除かれる。
0から排出されるか又は導管81を介し液面排出溢流口
84を通って容器82の中に取除かれる。
【0035】この時溶液はポート41,42及び43を
介してモジュール10に入る。モジュール10が溶液を
多く収容しすぎている時は、この余分の溶液は溢流導管
51、排出溢流口84及び導管81によって取除かれ貯
蔵器82の中に流入する。貯蔵器82の溶液面高さはセ
ンサ212により監視される。センサ212はライン2
13を介して制御論理回路67に連結される。センサ2
12が貯蔵器82の中に溶液が存在するのを検知した
時、信号がライン213を介して論理回路67に伝達さ
れ、論理回路67はポンプ214を作動する。その後ポ
ンプ214は溶液をマニホルド64に送る。センサ21
2が溶液の存在を検知しなかった時は、ポンプ214は
ライン213と論理回路67を介して伝達された信号に
よって不作動とされる。貯蔵器82の中の溶液が溢流口
215に到達すると、溶液は導管216を通って貯蔵器
217に伝達される。残りの溶液は通路25を通って循
環しポート44,45,46及び47に到達する。その
後溶液はポート44,45,46及び47から導管ライ
ン85へまた循環ポンプ80へと通過する。本発明の装
置に含まれる写真溶液は感光材料にさらされた時、写真
処理溶液が少量であるため、従来の装置よりもさらに迅
速に劣化状態に到達する。
介してモジュール10に入る。モジュール10が溶液を
多く収容しすぎている時は、この余分の溶液は溢流導管
51、排出溢流口84及び導管81によって取除かれ貯
蔵器82の中に流入する。貯蔵器82の溶液面高さはセ
ンサ212により監視される。センサ212はライン2
13を介して制御論理回路67に連結される。センサ2
12が貯蔵器82の中に溶液が存在するのを検知した
時、信号がライン213を介して論理回路67に伝達さ
れ、論理回路67はポンプ214を作動する。その後ポ
ンプ214は溶液をマニホルド64に送る。センサ21
2が溶液の存在を検知しなかった時は、ポンプ214は
ライン213と論理回路67を介して伝達された信号に
よって不作動とされる。貯蔵器82の中の溶液が溢流口
215に到達すると、溶液は導管216を通って貯蔵器
217に伝達される。残りの溶液は通路25を通って循
環しポート44,45,46及び47に到達する。その
後溶液はポート44,45,46及び47から導管ライ
ン85へまた循環ポンプ80へと通過する。本発明の装
置に含まれる写真溶液は感光材料にさらされた時、写真
処理溶液が少量であるため、従来の装置よりもさらに迅
速に劣化状態に到達する。
【0036】図6は光不透過の水平カバー20を有する
複数のモジュール10を結合し連続した写真処理装置を
形成したところを示す図である。モジュール10は同じ
又は類似の処理溶液を含み、処理装置の生産性を向上し
又は異なる処理溶液を収容することにより異なる処理作
用をするようになっている。任意の数のモジュール10
を相互に連結することができるが、3つのモジュールだ
けが図示の目的で示されている。モジュール10の各々
からの駆動装置16が任意の公知の手段、すなわち、継
手、キー溝、ベルト、チェーン、スパナー等により駆動
装置接近孔61を介して相互に連結される。感光材料2
1(図示しない)は上向き入口通路100を介して左側
の最初のモジュール10に入り、光不透過の相互連結渡
し部220を介してモジュール10から次のモジュール
10へと走行し上向き出口通路101を介して最後のモ
ジュール10を出る。これらモジュール10は任意の公
知の機械的締結手段、すなわちねじ、スナップ、リベッ
ト等によって相互に対し物理的に連結される。当業者に
とって、感光材料21(図示しない)が右側のモジュー
ル10から左側のモジュール10に走行しまたモジュー
ル10の中の化学薬品に依存することが明らかである。
複数のモジュール10を結合し連続した写真処理装置を
形成したところを示す図である。モジュール10は同じ
又は類似の処理溶液を含み、処理装置の生産性を向上し
又は異なる処理溶液を収容することにより異なる処理作
用をするようになっている。任意の数のモジュール10
を相互に連結することができるが、3つのモジュールだ
けが図示の目的で示されている。モジュール10の各々
からの駆動装置16が任意の公知の手段、すなわち、継
手、キー溝、ベルト、チェーン、スパナー等により駆動
装置接近孔61を介して相互に連結される。感光材料2
1(図示しない)は上向き入口通路100を介して左側
の最初のモジュール10に入り、光不透過の相互連結渡
し部220を介してモジュール10から次のモジュール
10へと走行し上向き出口通路101を介して最後のモ
ジュール10を出る。これらモジュール10は任意の公
知の機械的締結手段、すなわちねじ、スナップ、リベッ
ト等によって相互に対し物理的に連結される。当業者に
とって、感光材料21(図示しない)が右側のモジュー
ル10から左側のモジュール10に走行しまたモジュー
ル10の中の化学薬品に依存することが明らかである。
【0037】図7は複数のモジュール10を単一の本体
102に一体化し1つより多い通路を含む連続した写真
処理装置を形成したところを示す図である。各モジュー
ル10は1つ又はそれ以上のローラ組立体とスロットノ
ズル17とを含み連続した写真処理装置を形成するよう
にすることができる。モジュール10は同じ又は類似の
処理溶液を収容し処理装置の生産性を向上し又は異なる
処理溶液を収容することにより異なる処理作用をするこ
とができる。任意の数のモジュールが相互に連結される
が、3つのモジュールだけが図示の目的で示されてい
る。モジュール10の各々からの駆動装置16(図1)
が、任意の公知の手段、すなわち駆動装置221と22
2によって駆動装置接近孔61を介し相互に連結され
る。モジュール10は任意の公知の機械的締結手段、す
なわちスナップ、リベット等により相互に物理的に連結
される。感光材料21(図示しない)は底部モジュール
10から中間モジュール10に光不透過相互連結渡し部
223を介して走行し、光不透過相互連結渡し部224
を介して中間モジュール10を通り頂部モジュール10
へと走行し、そして上向き出口通路101を介して最後
のモジュール10を出る。当業者にとって、感光材料2
1(図示しない)は頂部モジュール10から底部モジュ
ール10へと走行することができまたこれらモジュール
10に含まれる化学薬品に依存していることが明らかで
ある。
102に一体化し1つより多い通路を含む連続した写真
処理装置を形成したところを示す図である。各モジュー
ル10は1つ又はそれ以上のローラ組立体とスロットノ
ズル17とを含み連続した写真処理装置を形成するよう
にすることができる。モジュール10は同じ又は類似の
処理溶液を収容し処理装置の生産性を向上し又は異なる
処理溶液を収容することにより異なる処理作用をするこ
とができる。任意の数のモジュールが相互に連結される
が、3つのモジュールだけが図示の目的で示されてい
る。モジュール10の各々からの駆動装置16(図1)
が、任意の公知の手段、すなわち駆動装置221と22
2によって駆動装置接近孔61を介し相互に連結され
る。モジュール10は任意の公知の機械的締結手段、す
なわちスナップ、リベット等により相互に物理的に連結
される。感光材料21(図示しない)は底部モジュール
10から中間モジュール10に光不透過相互連結渡し部
223を介して走行し、光不透過相互連結渡し部224
を介して中間モジュール10を通り頂部モジュール10
へと走行し、そして上向き出口通路101を介して最後
のモジュール10を出る。当業者にとって、感光材料2
1(図示しない)は頂部モジュール10から底部モジュ
ール10へと走行することができまたこれらモジュール
10に含まれる化学薬品に依存していることが明らかで
ある。
【0038】図8は光不透過水平カバー20を有する複
数のモジュール10を結合し垂直に積重ね連続した写真
処理装置を形成したところを示す図である。モジュール
10は同じ又は類似の処理溶液を収容し処理装置の生産
性を向上し又は異なる処理溶液を収容することにより異
なる処理作用をするようにすることができる。任意の数
のモジュール10が相互に連結されるが、図示の目的で
3つのモジュールだけが示されている。2つのモジュー
ル10からの駆動装置16が任意の公知の手段、すなわ
ち、継手、キー溝、ベルト、チェーン、スパナー等によ
って駆動装置接近孔を介し相互に連結される。垂直駆動
装置221が任意の公知手段、例えば歯車、チェーン、
ベルト、可撓シャフト、継手等によって駆動装置16に
連結される。各材料21(図示しない)は右側のモジュ
ール10から左側のモジュール10へと走行することが
でき、そしてモジュール10の中の化学薬品に依存す
る。感光材料21(図示しない)は上向きの入口通路1
00を介してモジュール10に入り左側のモジュール1
0から右側のモジュール10に光不透過相互連結渡し部
220を介して走行し、それから右側の下側モジュール
10から頂部モジュール10へと光不透過渡し器223
を介して走行する。その後材料21は上向き出口通路1
01を介して出る。モジュール10は任意の公知の機械
的締結手段、すなわちねじ、スナップ、リベット等によ
り相互に物理的に連結される。当業者にとって、任意の
数のモジュール10が上記の方法で相互に連結されるこ
とは明らかである。
数のモジュール10を結合し垂直に積重ね連続した写真
処理装置を形成したところを示す図である。モジュール
10は同じ又は類似の処理溶液を収容し処理装置の生産
性を向上し又は異なる処理溶液を収容することにより異
なる処理作用をするようにすることができる。任意の数
のモジュール10が相互に連結されるが、図示の目的で
3つのモジュールだけが示されている。2つのモジュー
ル10からの駆動装置16が任意の公知の手段、すなわ
ち、継手、キー溝、ベルト、チェーン、スパナー等によ
って駆動装置接近孔を介し相互に連結される。垂直駆動
装置221が任意の公知手段、例えば歯車、チェーン、
ベルト、可撓シャフト、継手等によって駆動装置16に
連結される。各材料21(図示しない)は右側のモジュ
ール10から左側のモジュール10へと走行することが
でき、そしてモジュール10の中の化学薬品に依存す
る。感光材料21(図示しない)は上向きの入口通路1
00を介してモジュール10に入り左側のモジュール1
0から右側のモジュール10に光不透過相互連結渡し部
220を介して走行し、それから右側の下側モジュール
10から頂部モジュール10へと光不透過渡し器223
を介して走行する。その後材料21は上向き出口通路1
01を介して出る。モジュール10は任意の公知の機械
的締結手段、すなわちねじ、スナップ、リベット等によ
り相互に物理的に連結される。当業者にとって、任意の
数のモジュール10が上記の方法で相互に連結されるこ
とは明らかである。
【0039】本発明により構成された処理装置は処理溶
液を保持するため小さな容器を提供する。処理溶液の容
量を制限する一部として狭い処理通路25がもたらされ
る。写真印画紙のために用いられる処理装置にとって、
処理通路25は、処理される紙の厚さの約50倍に等し
いかそれより小さい厚さt、好ましくは紙の厚さの約1
0倍に等しいか10倍より小さい厚さtを有していなけ
ればならない。写真フィルムを処理する処理装置におい
て、処理通路25の厚さtは、感光フィルムの厚さの約
100倍に等しいかそれより小さい、好ましくは写真フ
ィルムの厚さの約18倍に等しいか18倍より小さくす
べきである。約0.008インチ(0.2mm)の厚さを
有する紙を処理する本発明の処理装置の一実施例は約
0.08インチ(2.03mm)の通路の厚さtを有し、
また約0.0055インチ(0.14mm)の厚さを有す
るフィルムを処理する処理装置は約0.10インチ
(2.54mm)の通路の厚さtを有している。
液を保持するため小さな容器を提供する。処理溶液の容
量を制限する一部として狭い処理通路25がもたらされ
る。写真印画紙のために用いられる処理装置にとって、
処理通路25は、処理される紙の厚さの約50倍に等し
いかそれより小さい厚さt、好ましくは紙の厚さの約1
0倍に等しいか10倍より小さい厚さtを有していなけ
ればならない。写真フィルムを処理する処理装置におい
て、処理通路25の厚さtは、感光フィルムの厚さの約
100倍に等しいかそれより小さい、好ましくは写真フ
ィルムの厚さの約18倍に等しいか18倍より小さくす
べきである。約0.008インチ(0.2mm)の厚さを
有する紙を処理する本発明の処理装置の一実施例は約
0.08インチ(2.03mm)の通路の厚さtを有し、
また約0.0055インチ(0.14mm)の厚さを有す
るフィルムを処理する処理装置は約0.10インチ
(2.54mm)の通路の厚さtを有している。
【0040】処理通路25と循環装置60の内部の処理
溶液の全容量は従来の処理装置に比べて比較的小さい。
特に、特定のモジュールのための処理装置全体の中の処
理溶液の全量は、処理通路25の全容量がこの装置の処
理溶液の全容量の少なくとも40パーセントであるよう
な量である。好ましくは処理通路25の容量は装置の中
の処理溶液の全容量の少なくとも約50パーセントであ
る。図示の特定の実施態様では処理通路25の容量は処
理溶液の全容量の約60パーセントである。
溶液の全容量は従来の処理装置に比べて比較的小さい。
特に、特定のモジュールのための処理装置全体の中の処
理溶液の全量は、処理通路25の全容量がこの装置の処
理溶液の全容量の少なくとも40パーセントであるよう
な量である。好ましくは処理通路25の容量は装置の中
の処理溶液の全容量の少なくとも約50パーセントであ
る。図示の特定の実施態様では処理通路25の容量は処
理溶液の全容量の約60パーセントである。
【0041】典型的には、この装置で利用できる処理溶
液の量は、処理装置の大きさにより変わり、すなわち、
処理装置が処理できる感光材料の量によって変わる。例
えば、典型的な従来の小現像所処理装置、感光材料の約
5平方フィート/分(0.515m2 /分)まで処理す
る処理装置(一般に約50インチ/分(1.27m/
分)より小さい輸送速度を有している)は本発明による
処理装置の約5リットルの処理溶液に比べて約17リッ
トルの処理溶液を有している。典型的な従来の小現像所
については、約5平方フィート/分(0.515m2 /
分)から約15平方フィート/分(1.545m2 /
分)の感光材料を処理する処理装置(一般に約50イン
チ/分から120インチ/分(1.27m/分から3.
05m/分)の輸送速度を有している)は、本発明によ
る処理装置の約10リットルの処理溶液に比べて約10
0リットルの処理溶液を有している。50平方フィート
/分(5.15m2 /分)の感光材料を処理する大きな
従来の現像所処理装置に関し(一般に約7から60フィ
ート/分(2.14から18.3m/分)の輸送速度を
有している)ては、典型的には本発明による大きな処理
装置の約15から100リットルの範囲の処理溶液に比
べて約150から300リットルの処理溶液を有してい
る。毎分15平方フィート(1.545m2 /分)の感
光材料を処理するよう構成された本発明の小型現像所処
理装置においては典型的の従来処理装置の約17リット
ルの処理溶液に比べて約7リットルの処理溶液を有して
いる。
液の量は、処理装置の大きさにより変わり、すなわち、
処理装置が処理できる感光材料の量によって変わる。例
えば、典型的な従来の小現像所処理装置、感光材料の約
5平方フィート/分(0.515m2 /分)まで処理す
る処理装置(一般に約50インチ/分(1.27m/
分)より小さい輸送速度を有している)は本発明による
処理装置の約5リットルの処理溶液に比べて約17リッ
トルの処理溶液を有している。典型的な従来の小現像所
については、約5平方フィート/分(0.515m2 /
分)から約15平方フィート/分(1.545m2 /
分)の感光材料を処理する処理装置(一般に約50イン
チ/分から120インチ/分(1.27m/分から3.
05m/分)の輸送速度を有している)は、本発明によ
る処理装置の約10リットルの処理溶液に比べて約10
0リットルの処理溶液を有している。50平方フィート
/分(5.15m2 /分)の感光材料を処理する大きな
従来の現像所処理装置に関し(一般に約7から60フィ
ート/分(2.14から18.3m/分)の輸送速度を
有している)ては、典型的には本発明による大きな処理
装置の約15から100リットルの範囲の処理溶液に比
べて約150から300リットルの処理溶液を有してい
る。毎分15平方フィート(1.545m2 /分)の感
光材料を処理するよう構成された本発明の小型現像所処
理装置においては典型的の従来処理装置の約17リット
ルの処理溶液に比べて約7リットルの処理溶液を有して
いる。
【0042】ある状態においては導管48a〜48d及
び/又は間隙49a〜49dに液溜めを設け処理溶液の
渦が生じないようにすることが適当である。この液溜め
の大きさ及び形状はもちろん、処理溶液が再循環される
速さと再循環装置の一部を形成する連結通路の大きさと
によって決まるものである。連結通路、例えば間隙49
a〜49dからの導管48a〜48dをできるだけ小さ
くし、しかも通路、例えば処理通路からポンプへの通路
が小さくなるほど渦が大きく生じるようにすることが望
まれる。例えば、毎分約3から4ガロン(11.4から
15.21)の循環速度を有する処理装置において、循
環ポンプへのトレイの出口で約4インチ(10.2cm)
の水頭圧力が渦を生じることなく保持できるような液溜
めを設けることが好ましい。この液溜めはトレイの出口
の近くの局限された領域に設けることを必要とするにす
ぎない。したがって、処理装置の必要とされる流量に対
し利用できる処理溶液の低い量の容量を平衡させるよう
試みることが重要である。
び/又は間隙49a〜49dに液溜めを設け処理溶液の
渦が生じないようにすることが適当である。この液溜め
の大きさ及び形状はもちろん、処理溶液が再循環される
速さと再循環装置の一部を形成する連結通路の大きさと
によって決まるものである。連結通路、例えば間隙49
a〜49dからの導管48a〜48dをできるだけ小さ
くし、しかも通路、例えば処理通路からポンプへの通路
が小さくなるほど渦が大きく生じるようにすることが望
まれる。例えば、毎分約3から4ガロン(11.4から
15.21)の循環速度を有する処理装置において、循
環ポンプへのトレイの出口で約4インチ(10.2cm)
の水頭圧力が渦を生じることなく保持できるような液溜
めを設けることが好ましい。この液溜めはトレイの出口
の近くの局限された領域に設けることを必要とするにす
ぎない。したがって、処理装置の必要とされる流量に対
し利用できる処理溶液の低い量の容量を平衡させるよう
試みることが重要である。
【0043】ノズルを通って処理通路に入る処理溶液の
効率的な流れを得るために、処理溶液を処理通路に分配
するノズル/開口が下記の関係の形状を有することが望
ましい。 1≦F/A≦40 ここでFは毎分ガロン(3.791)で表わすノズルを
通過する溶液の流量であり、Aは平方インチ(6.45
cm2 )で与えられたノズルの断面積である。すなわちF
を毎分リットルで表わすノズルを通過する溶液の流量、
Aを平方センチメートルで与えられたノズルの断面積と
したとき、 0.59≦F/A≦24 の関係のノズル/開口が望ましい。
効率的な流れを得るために、処理溶液を処理通路に分配
するノズル/開口が下記の関係の形状を有することが望
ましい。 1≦F/A≦40 ここでFは毎分ガロン(3.791)で表わすノズルを
通過する溶液の流量であり、Aは平方インチ(6.45
cm2 )で与えられたノズルの断面積である。すなわちF
を毎分リットルで表わすノズルを通過する溶液の流量、
Aを平方センチメートルで与えられたノズルの断面積と
したとき、 0.59≦F/A≦24 の関係のノズル/開口が望ましい。
【0044】上記の関係によるノズルを設けることは感
光材料に対する処理溶液の適当な放出を保証する。
光材料に対する処理溶液の適当な放出を保証する。
【0045】上記明細書は感光材料を処理するための新
規で改良された装置を記載している。上記の記載が、当
業者に対し本発明の原理がその精神を逸脱することなく
用いられる付加的な手段を表わしていることが理解され
る。したがって、本発明が特許請求の範囲によってのみ
限定されることを意図するものである。
規で改良された装置を記載している。上記の記載が、当
業者に対し本発明の原理がその精神を逸脱することなく
用いられる付加的な手段を表わしていることが理解され
る。したがって、本発明が特許請求の範囲によってのみ
限定されることを意図するものである。
【図1】モジュールの斜面図である。
【図2】材料が一方の表面にエマルジョンを有しノズル
が材料のエマルジョン面に対面する容器の底部分上にあ
る、モジュールの一部切欠図である。
が材料のエマルジョン面に対面する容器の底部分上にあ
る、モジュールの一部切欠図である。
【図3】材料が一方の表面にエマルジョンを有しノズル
が材料のエマルジョン面に対面する容器の頂上部分にあ
る、図2のモジュールの他の実施態様の一部切欠図であ
る。
が材料のエマルジョン面に対面する容器の頂上部分にあ
る、図2のモジュールの他の実施態様の一部切欠図であ
る。
【図4】材料が両方の表面にエマルジョンを有し一方の
ノズル群が材料の一方のエマルジョン面に対面する容器
の頂上部分にあり他方のノズル群が材料の他方のエマル
ジョン面に対面する容器の底部分にある、図2のモジュ
ールの他の実施態様の一部切欠図である。
ノズル群が材料の一方のエマルジョン面に対面する容器
の頂上部分にあり他方のノズル群が材料の他方のエマル
ジョン面に対面する容器の底部分にある、図2のモジュ
ールの他の実施態様の一部切欠図である。
【図5】本発明の装置の処理溶液循環装置の概略図であ
る。
る。
【図6】連続した写真処理装置を形成するための水平の
複数のモジュールを示す図である。
複数のモジュールを示す図である。
【図7】連続した写真処理装置を形成するため単一の本
体となるよう垂直に積重ねたモジュールを示す図であ
る。
体となるよう垂直に積重ねたモジュールを示す図であ
る。
【図8】連続した写真処理装置を形成するため単一の本
体となるよう水平に結合しかつ垂直に積重ねたモジュー
ルを示す図である。
体となるよう水平に結合しかつ垂直に積重ねたモジュー
ルを示す図である。
4…導管 8…センサ 9…裏板 10…処理モジュール 11…容器 12,13,15…輸送ローラ組立体 16…駆動装置 17a−1…ノズル 18…回転組立体 21…感光材料 22,23…ローラ 24…通路部分 25…処理通路 26…軸受ブラケット 28…相互噛合い歯車 30,31,32,33…ローラ 41,42,43,44,45,46,47…ポート 49a〜49d…間隙 50a〜50d…導管 51…溢流導管 52…センサ 60…循環装置 61…接近孔 62…引張りスプリング 63…導管 64…マニホルド 65…ろ過器 66…導管 67…制御論理回路 68,70,71…ワイヤ 72,73,74…計量ポンプ 75,76,77…導管 80…循環ポンプ 82…容器 84…排出溢流口 86…熱交換器 100…入口通路 101…出口通路 102…単一本体 130,131…ローラ 200…織成表面 210,212…センサ 211…ライン 214…ポンプ 215…溢流口 216…導管 217…貯蔵器 220,223,224…渡し部 235…溶液液面高さ
フロントページの続き (72)発明者 ジョン ハワード ローゼンバーグ アメリカ合衆国,ニューヨーク 14468, ヒルトン,モール ロード 128 (72)発明者 ラルフ レナード ピッチニーノ,ジュニ ア アメリカ合衆国,ニューヨーク 14543, ラッシュ,ファイブ ポインツ ロード 665
Claims (7)
- 【請求項1】 感光材料を処理する装置であって、 容器と前記容器の中に配置された少なくとも1つの処理
組立体と少なくとも1つの処理組立体に近接して配置さ
れた少なくとも1つの輸送組立体とからなる処理モジュ
ールを有し、前記少なくとも1つの処理組立体と少なく
とも1つの輸送組立体とが処理溶液が流れる実質的に連
続した通路を形成し、 前記少なくとも1つの処理組立体には前記処理溶液を前
記処理通路に直接供給する少なくとも1つのスロットノ
ズルが設けられ、 さらに、前記処理溶液を前記少なくとも1つのスロット
ノズルを通って前記処理通路に供給する少なくとも1つ
の供給導管と、 前記処理モジュールに設けられ前記処理モジュールから
前記処理溶液を放出する少なくとも1つの放出導管と、 前記処理溶液を前記供給導管と前記放出導管とを介し前
記処理モジュールを通って循環させる手段、 とを具備し、2つ又はそれ以上の処理モジュールが相互
に連結され感光材料が1つの処理モジュールから次の処
理モジュールへと輸送されるようにしていることを特徴
とする感光材料処理装置。 - 【請求項2】 前記処理通路は前記処理通路で処理され
る感光材料の厚さの100倍に等しいか100倍より小
さい厚さとなっている請求項1に記載の感光材料処理装
置。 - 【請求項3】 前記少なくとも1つのスロットノズルの
出口の流量(リットル/分)が、 0.59≦F/A≦24 ここでFはリットル/分で表わす処理溶液の流量を示
し、Aは平方センチメートルで表わす前記少なくとも1
つのスロットノズルの前記出口の全断面積、 によって規定されている請求項1又は2に記載の感光材
料処理装置。 - 【請求項4】 前記2つ又はそれ以上の処理モジュール
が垂直に積層され多段処理装置を形成している請求項1
から3のうちの1項に記載の感光材料処理装置。 - 【請求項5】 前記処理モジュールが水平に連結されま
た垂直に積層されて多段処理装置を形成している請求項
1から3のうちの1項に記載の感光材料処理装置。 - 【請求項6】 前記処理モジュールが水平に連結されま
た垂直に積層されて利用可能な空間に一致する多段処理
装置を形成している請求項1から3のうちの1項に記載
の感光材料処理装置。 - 【請求項7】 各処理モジュールは異なった処理溶液を
収容している請求項1から6のうちの1項に記載の感光
材料処理装置。
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