JPH11183882A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH11183882A JPH11183882A JP9363925A JP36392597A JPH11183882A JP H11183882 A JPH11183882 A JP H11183882A JP 9363925 A JP9363925 A JP 9363925A JP 36392597 A JP36392597 A JP 36392597A JP H11183882 A JPH11183882 A JP H11183882A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1334—Constructional arrangements; Manufacturing methods based on polymer dispersed liquid crystals, e.g. microencapsulated liquid crystals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 部分的に異なる電圧−透過率特性などの特性
を有する液晶表示素子を簡便に製造する方法を提供する
こと。 【解決手段】 ２枚の基板間に光硬化樹脂と液晶の混合
物を注入する工程と前記注入された前記混合物を光硬化
させる露光工程を含む液晶表示素子の製造方法におい
て、前記露光工程は少なくとも２つのパターン領域を相
異なる光硬化条件で露光する工程を含むことを特徴とす
る。
を有する液晶表示素子を簡便に製造する方法を提供する
こと。 【解決手段】 ２枚の基板間に光硬化樹脂と液晶の混合
物を注入する工程と前記注入された前記混合物を光硬化
させる露光工程を含む液晶表示素子の製造方法におい
て、前記露光工程は少なくとも２つのパターン領域を相
異なる光硬化条件で露光する工程を含むことを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子分散型の液
晶表示素子の製造方法に関するものである。
晶表示素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１１乃至図１３を参照して、高分子分
散型の液晶表示素子を製造する従来の方法を説明する。
従来の方法は一般的に次に示す工程からなる。
散型の液晶表示素子を製造する従来の方法を説明する。
従来の方法は一般的に次に示す工程からなる。
【０００３】工程１：２枚のガラス基板４Ａ、４Ｂにそ
れぞれ透明電極６（図１３参照）をパターニングする。
れぞれ透明電極６（図１３参照）をパターニングする。
【０００４】工程２：これらのガラス基板４Ａ、４Ｂを
それぞれの透明電極が対向するように向き合わせて、図
１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、液晶の注入
口となる開口部Ｄ１Ａを除いて相対向するガラス基板の
周縁の部分を封止材３で封止する。
それぞれの透明電極が対向するように向き合わせて、図
１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、液晶の注入
口となる開口部Ｄ１Ａを除いて相対向するガラス基板の
周縁の部分を封止材３で封止する。
【０００５】工程３：真空に引くことができる容器２０
（減圧容器）に、工程２で作成した素子（デバイス）Ｄ
１と混合物５（液晶＋光硬化樹脂）を入れ、図１２
（ａ）に示す状態Ａのようにした状態で減圧する。
（減圧容器）に、工程２で作成した素子（デバイス）Ｄ
１と混合物５（液晶＋光硬化樹脂）を入れ、図１２
（ａ）に示す状態Ａのようにした状態で減圧する。
【０００６】工程４：充分減圧された状態で図１２
（ｂ）に示す状態Ｂのように素子Ｄ１を混合物５に浸
す。
（ｂ）に示す状態Ｂのように素子Ｄ１を混合物５に浸
す。
【０００７】工程５：素子Ｄ１の開口部Ｄ１Ａが混合物
５に完全に塞がれた状態で、減圧容器２０の内部の圧力
を大気圧に戻す。このとき、素子Ｄ１の内部は減圧され
ているので、大気圧により混合物５が素子Ｄ１の内部に
入り込んでいくこととなる。
５に完全に塞がれた状態で、減圧容器２０の内部の圧力
を大気圧に戻す。このとき、素子Ｄ１の内部は減圧され
ているので、大気圧により混合物５が素子Ｄ１の内部に
入り込んでいくこととなる。
【０００８】工程６：減圧容器２０から素子Ｄ１を取り
出し、混合物５を注入した開口部Ｄ１Ａを封止材で完全
に封止する。
出し、混合物５を注入した開口部Ｄ１Ａを封止材で完全
に封止する。
【０００９】工程７：図１３に示すように、光源２１か
ら素子Ｄ１に光２２を照射して混合物５の光硬化樹脂を
硬化させる（露光工程）。
ら素子Ｄ１に光２２を照射して混合物５の光硬化樹脂を
硬化させる（露光工程）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の製造方法では液晶の表示特性が全面的に均一
となって、例えば温度によって表示特性を部分的に相異
させるような液晶表示素子を製造することができないの
で、液晶の表示機能を拡大化させることができず問題で
ある。
うな従来の製造方法では液晶の表示特性が全面的に均一
となって、例えば温度によって表示特性を部分的に相異
させるような液晶表示素子を製造することができないの
で、液晶の表示機能を拡大化させることができず問題で
ある。
【００１１】本発明は上記問題にかんがみてなされたも
のであり、部分的に電圧−透過率特性などの特性を異な
らせる液晶表示素子を簡便に製造することができる液晶
表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
のであり、部分的に電圧−透過率特性などの特性を異な
らせる液晶表示素子を簡便に製造することができる液晶
表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【問題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明によれば、２枚の基板間に光硬化樹
脂と液晶の混合物を注入する工程と前記注入された前記
混合物を光硬化させる露光工程を含む液晶表示素子の製
造方法において、前記露光工程は少なくとも２つのパタ
ーン領域を相異なる光硬化条件で露光する工程を含むこ
とを特徴とする。
に、請求項１の発明によれば、２枚の基板間に光硬化樹
脂と液晶の混合物を注入する工程と前記注入された前記
混合物を光硬化させる露光工程を含む液晶表示素子の製
造方法において、前記露光工程は少なくとも２つのパタ
ーン領域を相異なる光硬化条件で露光する工程を含むこ
とを特徴とする。
【００１３】請求項２の発明によれば、前記硬化条件
は、温度、光強度、光照射時間および分光分布の少なく
ともいずれか一つを含むことを特徴とする。
は、温度、光強度、光照射時間および分光分布の少なく
ともいずれか一つを含むことを特徴とする。
【００１４】請求項３の発明によれば、前記光硬化樹脂
は紫外硬化樹脂であることを特徴とする。
は紫外硬化樹脂であることを特徴とする。
【００１５】請求項４の発明によれば、前記露光工程に
おいて、温度制御装置により前記混合物の温度分布を前
記パターン領域ごとに異なるようにすることを特徴とす
る。
おいて、温度制御装置により前記混合物の温度分布を前
記パターン領域ごとに異なるようにすることを特徴とす
る。
【００１６】請求項５の発明によれば、前記温度制御装
置は光照射により前記パターン領域ごとに前記温度分布
を制御することを特徴とする。
置は光照射により前記パターン領域ごとに前記温度分布
を制御することを特徴とする。
【００１７】請求項６の発明によれば、前記露光工程に
おいて、光走査光学系を用いて前記パターン領域ごとに
異なる硬化条件で露光することを特徴とする。
おいて、光走査光学系を用いて前記パターン領域ごとに
異なる硬化条件で露光することを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示素子
の製造方法について、その実施の形態を図面を参照しな
がら説明する。
の製造方法について、その実施の形態を図面を参照しな
がら説明する。
【００１９】（第１実施形態）図１に示すような３つの
異なる特性のパターン領域２Ａ（アルファベット「Ｆ」
の部分）、２Ｂ（数字「５」の部分）、２Ｃ（「Ｆ」、
「５」以外の部分）を持った高分子分散型液晶表示素子
１を例に、その製造方法を説明する。ここで述べている
特性とは電圧−透過率特性であり、これは、液晶素子の
所定の電極に電圧Ｖをかけたときの透過率Ｔの関係を示
す。
異なる特性のパターン領域２Ａ（アルファベット「Ｆ」
の部分）、２Ｂ（数字「５」の部分）、２Ｃ（「Ｆ」、
「５」以外の部分）を持った高分子分散型液晶表示素子
１を例に、その製造方法を説明する。ここで述べている
特性とは電圧−透過率特性であり、これは、液晶素子の
所定の電極に電圧Ｖをかけたときの透過率Ｔの関係を示
す。
【００２０】この方法における工程１乃至工程６は、前
述した従来の方法と同様である。
述した従来の方法と同様である。
【００２１】工程１：２枚のガラス基板４Ａ、４Ｂにそ
れぞれ透明電極６（後述する図２、図６参照）をパター
ニングする。
れぞれ透明電極６（後述する図２、図６参照）をパター
ニングする。
【００２２】工程２：これらのガラス基板４Ａ、４Ｂを
それぞれの透明電極が対向するように向き合わせて、図
１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、液晶の注入
口となる開口部Ｄ１Ａを除いて相対向するガラス基板の
周縁の部分を封止材３で封止する。
それぞれの透明電極が対向するように向き合わせて、図
１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、液晶の注入
口となる開口部Ｄ１Ａを除いて相対向するガラス基板の
周縁の部分を封止材３で封止する。
【００２３】工程３：真空に引くことができる容器２０
（減圧容器）に、工程２で作成した素子（デバイス）Ｄ
１と混合物５（液晶＋光硬化樹脂）を入れ、図１２
（ａ）に示す状態Ａのようにした状態で減圧する。
（減圧容器）に、工程２で作成した素子（デバイス）Ｄ
１と混合物５（液晶＋光硬化樹脂）を入れ、図１２
（ａ）に示す状態Ａのようにした状態で減圧する。
【００２４】工程４：充分減圧された状態で図１２
（ｂ）に示す状態Ｂのように素子Ｄ１を混合物５に浸
す。
（ｂ）に示す状態Ｂのように素子Ｄ１を混合物５に浸
す。
【００２５】工程５：素子Ｄ１の開口部Ｄ１Ａが混合物
５に完全に塞がれた状態で、減圧容器２０の内部の圧力
を大気圧に戻す。このとき、素子Ｄ１の内部は減圧され
ているので、大気圧により混合物５が素子Ｄ１の内部に
入り込んでいく。
５に完全に塞がれた状態で、減圧容器２０の内部の圧力
を大気圧に戻す。このとき、素子Ｄ１の内部は減圧され
ているので、大気圧により混合物５が素子Ｄ１の内部に
入り込んでいく。
【００２６】工程６：減圧容器２０から素子Ｄ１を取り
出し、混合物５を注入した開口部Ｄ１Ａを封止材で完全
に封止する。
出し、混合物５を注入した開口部Ｄ１Ａを封止材で完全
に封止する。
【００２７】しかしながら、次の露光工程は従来の方法
とは異なり、以下のようになる。
とは異なり、以下のようになる。
【００２８】工程７−１：図２に示すように、硬化光源
２１から素子Ｄ１に硬化光２２を照射して混合物５の光
硬化樹脂を硬化させる。このとき、素子Ｄ１と硬化光源
２１の間にマスク７を挿入した状態で光硬化させる。マ
スク７として、ここでは図３に示すようなパターニング
されたマスクＭ１が用いられる。マスクＭ１はパターン
領域２Ａと同じパターン（アルファベット「Ｆ」）を白
抜きしたものであって、黒い部分Ｍ１Ｂが硬化光源２１
から硬化光２２を遮光し、白い部分Ｍ１Ｗが硬化光源２
１からの硬化光２２を透過するような構造になってい
る。この工程７−１での光硬化の条件（温度、照射強
度、照射時間、照射光の波長など）を条件Ｃ１とする。
なお、光硬化樹脂を硬化させるために用いられる硬化光
としては紫外線（ＵＶ光）が一般的である。
２１から素子Ｄ１に硬化光２２を照射して混合物５の光
硬化樹脂を硬化させる。このとき、素子Ｄ１と硬化光源
２１の間にマスク７を挿入した状態で光硬化させる。マ
スク７として、ここでは図３に示すようなパターニング
されたマスクＭ１が用いられる。マスクＭ１はパターン
領域２Ａと同じパターン（アルファベット「Ｆ」）を白
抜きしたものであって、黒い部分Ｍ１Ｂが硬化光源２１
から硬化光２２を遮光し、白い部分Ｍ１Ｗが硬化光源２
１からの硬化光２２を透過するような構造になってい
る。この工程７−１での光硬化の条件（温度、照射強
度、照射時間、照射光の波長など）を条件Ｃ１とする。
なお、光硬化樹脂を硬化させるために用いられる硬化光
としては紫外線（ＵＶ光）が一般的である。
【００２９】工程７−２：次に、図４に示すようなパタ
ーニングされたマスクＭ２を図２のマスク７の所に置い
て、工程７−１とは異なる光硬化の条件Ｃ２で硬化させ
る。マスクＭ２はパターン領域２Ｂに対応するもので、
数字「５」を白ぬきにしたものである。
ーニングされたマスクＭ２を図２のマスク７の所に置い
て、工程７−１とは異なる光硬化の条件Ｃ２で硬化させ
る。マスクＭ２はパターン領域２Ｂに対応するもので、
数字「５」を白ぬきにしたものである。
【００３０】工程７−３：次に、図５に示すようなパタ
ーニングされたマスクＭ３を図２のマスク７の所に置い
て、光硬化の条件Ｃ３で硬化させる。マスクＭ３はパタ
ーン領域２Ｃに対応するもので、「Ｆ」、「５」以外の
部分が硬化光２２を透過する。
ーニングされたマスクＭ３を図２のマスク７の所に置い
て、光硬化の条件Ｃ３で硬化させる。マスクＭ３はパタ
ーン領域２Ｃに対応するもので、「Ｆ」、「５」以外の
部分が硬化光２２を透過する。
【００３１】このように、パターン領域２Ａ，２Ｂ，２
Ｃは、それぞれ異なる光硬化の条件で露光されるから、
それぞれのパターン領域で表示特性が異なる液晶表示素
子を製造することができる。
Ｃは、それぞれ異なる光硬化の条件で露光されるから、
それぞれのパターン領域で表示特性が異なる液晶表示素
子を製造することができる。
【００３２】図６は、本実施形態に係る製造工程で作成
した液晶表示素子１のガラス基板４Ａ、４Ｂに施した透
明電極のパターンの例を示す。ガラス基板４Ａについて
はその第１面（表面）に透明電極Ｄ１，Ｄ２を、ガラス
基板４Ｂについてはその第２面（裏面）に透明電極Ｄ
３，Ｄ４を施す。
した液晶表示素子１のガラス基板４Ａ、４Ｂに施した透
明電極のパターンの例を示す。ガラス基板４Ａについて
はその第１面（表面）に透明電極Ｄ１，Ｄ２を、ガラス
基板４Ｂについてはその第２面（裏面）に透明電極Ｄ
３，Ｄ４を施す。
【００３３】図７は、本実施の形態に係る製造工程で製
造した液晶表示素子１の領域２Ａの部分の特性（Ｔ
Ａ）、領域２Ｂの部分の特性（ＴＢ）及び領域２Ｃの部
分の特性（ＴＣ）を示す。
造した液晶表示素子１の領域２Ａの部分の特性（Ｔ
Ａ）、領域２Ｂの部分の特性（ＴＢ）及び領域２Ｃの部
分の特性（ＴＣ）を示す。
【００３４】本実施形態に係る液晶表示素子１の電極Ｄ
１、Ｄ３に電圧Ｖ１を、電極Ｄ２、Ｄ４に電圧Ｖ２を印
可すると、図７に示す特性曲線に従い、領域２Ａ、２Ｂ
の各領域の透過率はそれぞれ電圧Ｖ１、Ｖ２に応じて変
化し、２Ａ、２Ｂの領域を消灯、点灯することができ
る。更に、領域２Ｃは電圧によらずほぼ透過率が１に近
いので、領域２Ａ、２Ｂの領域のみを消灯、点灯でき
る。
１、Ｄ３に電圧Ｖ１を、電極Ｄ２、Ｄ４に電圧Ｖ２を印
可すると、図７に示す特性曲線に従い、領域２Ａ、２Ｂ
の各領域の透過率はそれぞれ電圧Ｖ１、Ｖ２に応じて変
化し、２Ａ、２Ｂの領域を消灯、点灯することができ
る。更に、領域２Ｃは電圧によらずほぼ透過率が１に近
いので、領域２Ａ、２Ｂの領域のみを消灯、点灯でき
る。
【００３５】第１実施形態の変形例として、マスクと液
晶表示素子の間に光学系を配置してマスク像を液晶表示
素子に投影するような構造にしてもよい。またこの光学
系を拡大光学系にすることによりマスクを小型化するこ
ともできる。
晶表示素子の間に光学系を配置してマスク像を液晶表示
素子に投影するような構造にしてもよい。またこの光学
系を拡大光学系にすることによりマスクを小型化するこ
ともできる。
【００３６】（第２実施形態）第２実施形態では、第１
実施形態における露光工程を、図８に示すように、パタ
ーン領域ごとに温度分布を制御できる温度制御装置２３
を用いて行う。この場合、温度以外の光硬化の条件が同
一の場合、例えば、光の照射強度、照射時間、波長分布
の条件が同一の場合は、同一のマスクを用いることがで
き、温度制御装置２３で、パターン領域ごとに温度分布
を制御しながら一度に光硬化させることができる。即
ち、この第２実施形態では、第１実施形態に比べ、複数
のパターン領域を光硬化するための工程を少なくするこ
とができる。
実施形態における露光工程を、図８に示すように、パタ
ーン領域ごとに温度分布を制御できる温度制御装置２３
を用いて行う。この場合、温度以外の光硬化の条件が同
一の場合、例えば、光の照射強度、照射時間、波長分布
の条件が同一の場合は、同一のマスクを用いることがで
き、温度制御装置２３で、パターン領域ごとに温度分布
を制御しながら一度に光硬化させることができる。即
ち、この第２実施形態では、第１実施形態に比べ、複数
のパターン領域を光硬化するための工程を少なくするこ
とができる。
【００３７】（第３実施形態）第３実施形態は、第２実
施形態における温度制御装置２３を熱光源２４に置き換
えたものである。本実施の形態では、第２実施の形態に
おける露光工程を、図９に示すように、光硬化のための
光源２１と温度分布を制御するための熱光源２４とを用
いて行う。この場合、熱光源２４からの熱線２５を、硬
化光源２１による硬化光２２と同時に照射することによ
り、温度分布を制御することができる。なお、硬化光源
２１の硬化光としては紫外線（ＵＶ光）が一般的であ
り、また、熱光源２４の熱線２５としては、波長が５５
０ｎｍよりも長波長の光が用いられる。後者として、熱
効率のよい赤外線（ＩＲ光）であることが好ましい。
施形態における温度制御装置２３を熱光源２４に置き換
えたものである。本実施の形態では、第２実施の形態に
おける露光工程を、図９に示すように、光硬化のための
光源２１と温度分布を制御するための熱光源２４とを用
いて行う。この場合、熱光源２４からの熱線２５を、硬
化光源２１による硬化光２２と同時に照射することによ
り、温度分布を制御することができる。なお、硬化光源
２１の硬化光としては紫外線（ＵＶ光）が一般的であ
り、また、熱光源２４の熱線２５としては、波長が５５
０ｎｍよりも長波長の光が用いられる。後者として、熱
効率のよい赤外線（ＩＲ光）であることが好ましい。
【００３８】（第４実施形態）図１０は第４実施形態を
説明する図である。第４実施形態では、第１乃至第３実
施形態で用いたマスクを用いることなく、ポリゴンミラ
ー等の光走査光学系２６を用いて部分的に光硬化条件を
変えるようにしたものである。
説明する図である。第４実施形態では、第１乃至第３実
施形態で用いたマスクを用いることなく、ポリゴンミラ
ー等の光走査光学系２６を用いて部分的に光硬化条件を
変えるようにしたものである。
【００３９】図示において、熱光源２４からの熱線２５
は熱線反射ミラー２７によって反射され、反射された熱
線は、硬化光源２１からの硬化光２２と合成される。合
成された光は、光走査光学系２６によって振られ、未硬
化の混合物５を走査しながら照射する。この走査の際
に、パターン領域ごとに、熱光源２４からの熱線の照射
量を変える。熱線の照射量は、熱線の照射強度、照射時
間等を変更することにより変えることができる。こうし
てパターン領域ごとに、温度分布を制御することができ
る。
は熱線反射ミラー２７によって反射され、反射された熱
線は、硬化光源２１からの硬化光２２と合成される。合
成された光は、光走査光学系２６によって振られ、未硬
化の混合物５を走査しながら照射する。この走査の際
に、パターン領域ごとに、熱光源２４からの熱線の照射
量を変える。熱線の照射量は、熱線の照射強度、照射時
間等を変更することにより変えることができる。こうし
てパターン領域ごとに、温度分布を制御することができ
る。
【００４０】なお、光硬化の条件を部分的に変えるため
に、温度を一定にし、硬化光２２の照射強度、照射時間
等を変更する場合は、熱光源２４は不要である。
に、温度を一定にし、硬化光２２の照射強度、照射時間
等を変更する場合は、熱光源２４は不要である。
【００４１】本件発明に係る実施形態では、熱線光源２
４の熱線は赤外線であるとは限らない。使用する光硬化
接着剤の硬化波長以外で物質の温度を変化できるもので
あればかまわない。ただし，熱光源２４の熱線の波長は
光硬化接着剤を硬化させる波長を含まないように設定す
る必要がある。
４の熱線は赤外線であるとは限らない。使用する光硬化
接着剤の硬化波長以外で物質の温度を変化できるもので
あればかまわない。ただし，熱光源２４の熱線の波長は
光硬化接着剤を硬化させる波長を含まないように設定す
る必要がある。
【００４２】硬化光源２１には微細な領域を硬化するた
めに紫外線レーザ（エキシマレーザ、半導体レーザ）を
用いるとよい。また熱光源２４には半導体レーザを用い
れば硬化装置を小型化できる。
めに紫外線レーザ（エキシマレーザ、半導体レーザ）を
用いるとよい。また熱光源２４には半導体レーザを用い
れば硬化装置を小型化できる。
【００４３】
【発明の効果】本発明に係る液晶表示素子の製造方法に
よれば、液晶を含む未硬化の混合物に光を照射して該混
合物を光硬化する際に、光照射時の温度、光強度、照射
時間等の条件を、前記混合物のパターン領域ごとに変え
ることにより、液晶の特性（電圧−透過率特性）がパタ
ーン領域ごとに異なる液晶表示素子を製造することがで
きる。
よれば、液晶を含む未硬化の混合物に光を照射して該混
合物を光硬化する際に、光照射時の温度、光強度、照射
時間等の条件を、前記混合物のパターン領域ごとに変え
ることにより、液晶の特性（電圧−透過率特性）がパタ
ーン領域ごとに異なる液晶表示素子を製造することがで
きる。
【００４４】また、本発明に係る液晶表示素子の製造方
法によれば、露光工程を、異なる光硬化条件でパターン
領域ごとに光硬化するようにしたので、従来の製造方法
では製造できなかった、パターン領域ごとに異なる特性
を持つ液晶表示素子を、従来の製造方法と同様に、簡単
に、製造することができる。
法によれば、露光工程を、異なる光硬化条件でパターン
領域ごとに光硬化するようにしたので、従来の製造方法
では製造できなかった、パターン領域ごとに異なる特性
を持つ液晶表示素子を、従来の製造方法と同様に、簡単
に、製造することができる。
【００４５】さらに、前述の電圧−透過率特性は温度に
も依存しているので、本発明による製造方法によれば、
温度による表示特性がパターン領域ごとに異なるような
液晶表示素子を簡単に製造することができる。
も依存しているので、本発明による製造方法によれば、
温度による表示特性がパターン領域ごとに異なるような
液晶表示素子を簡単に製造することができる。
【図１】本発明の製造方法で作られた液晶表示素子の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図２】第１実施形態の高分子分散型液晶の光硬化方法
を説明する図である。
を説明する図である。
【図３】第１実施形態の高分子分散型液晶の光硬化時に
用いるマスクを示す図である。
用いるマスクを示す図である。
【図４】第１実施形態の高分子分散型液晶の光硬化時に
用いるマスクを示す図である。
用いるマスクを示す図である。
【図５】第１実施形態の高分子分散型液晶の光硬化時に
用いるマスクを示す図である。
用いるマスクを示す図である。
【図６】第１実施形態における高分子分散型液晶の透明
電極のパターンを示す図であって、図６（ａ）は一方の
ガラス基板に施した透明電極のパターンを、図６（ｂ）
は他方のガラス基板に施した透明電極のパターンを示
す。
電極のパターンを示す図であって、図６（ａ）は一方の
ガラス基板に施した透明電極のパターンを、図６（ｂ）
は他方のガラス基板に施した透明電極のパターンを示
す。
【図７】第１実施形態における各パターン領域の特性
（電圧−透過率特性）を示す図である。
（電圧−透過率特性）を示す図である。
【図８】第２実施形態における露光（硬化）工程を説明
する図である。
する図である。
【図９】第３実施形態における露光（硬化）工程を説明
する図である。
する図である。
【図１０】第４実施形態における露光（硬化）工程を説
明する図である。
明する図である。
【図１１】従来の高分子分散型液晶の製造方法を説明す
る図であって、図１１（ａ）は上から見た図、図１１
（ｂ）は横から見た図である。
る図であって、図１１（ａ）は上から見た図、図１１
（ｂ）は横から見た図である。
【図１２】（ａ），（ｂ）は従来の高分子分散型液晶の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
【図１３】（ａ），（ｂ）は従来の高分子分散型液晶の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
１ 液晶表示素子 ３ 封止材 ４Ａ、４Ｂ ガラス基板 ５ 混合物（液晶＋光硬化樹脂） ６ 透明電極 ７ マスク ２０ 減圧装置 ２１ 光硬化光源 ２２ 硬化光 ２３ 温度制御装置 ２４ 熱光源 ２５ 熱線 ２６ 光走査光学系 ２７ 熱線反射ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上田 武彦 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (6)
- 【請求項１】 ２枚の基板間に光硬化樹脂と液晶の混合
物を注入する工程と前記注入された前記混合物を光硬化
させる露光工程を含む液晶表示素子の製造方法におい
て、 前記露光工程は少なくとも２つのパターン領域を相異な
る光硬化条件で露光する工程を含むことを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 前記光硬化条件は、温度、光強度、光照
射時間および分光分布の少なくともいずれか一つを含む
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項３】 前記光硬化樹脂は紫外硬化樹脂であるこ
とを特徴とする請求項１記載の液晶素子の製造方法。 - 【請求項４】 前記露光工程において、温度制御装置に
より前記混合物の温度分布を前記パターン領域ごとに異
なるようにすることを特徴とする請求項１記載の液晶素
子の製造方法。 - 【請求項５】 前記温度制御装置は光照射により前記パ
ターン領域ごとに前記温度分布を制御することを特徴と
する請求項４記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項６】 前記露光工程において、光走査光学系を
用いて前記パターン領域ごとに異なる硬化条件で露光す
ることを特徴とする請求項１記載の液晶素子の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9363925A JPH11183882A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 液晶表示素子の製造方法 |
| US09/215,153 US6051444A (en) | 1997-12-18 | 1998-12-18 | Method of manufacture of liquid crystal display device having characteristics which differ locally |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9363925A JPH11183882A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183882A true JPH11183882A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18480536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9363925A Withdrawn JPH11183882A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6051444A (ja) |
| JP (1) | JPH11183882A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7811365B2 (en) * | 2006-10-16 | 2010-10-12 | Millipore Corporation | Wireless receptor for communications within housings |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5250932A (en) * | 1988-04-13 | 1993-10-05 | Ube Industries, Ltd. | Liquid crystal display device |
| US5070326A (en) * | 1988-04-13 | 1991-12-03 | Ube Industries Ltd. | Liquid crystal display device |
| US5119218A (en) * | 1988-09-28 | 1992-06-02 | Ube Industries, Ltd. | Liquid crystal display device having varistor elements |
| US5128785A (en) * | 1989-08-08 | 1992-07-07 | Ube Industries, Ltd. | Liquid crystal display device substantially free from cross-talk having varistor layers coupled to signal lines and picture electrodes |
| JP2712046B2 (ja) * | 1989-10-18 | 1998-02-10 | 宇部興産株式会社 | 液晶表示装置 |
| WO1993024240A1 (en) * | 1992-06-01 | 1993-12-09 | Advanced Technology Incubator, Inc. | Light influencing element for high resolution optical systems and method of making same |
| JPH07230104A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-08-29 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示素子及びその製造方法 |
| US5550663A (en) * | 1994-05-24 | 1996-08-27 | Omron Corporation | Method of manufacturing optical low-pass filter |
| US5937272A (en) * | 1997-06-06 | 1999-08-10 | Eastman Kodak Company | Patterned organic layers in a full-color organic electroluminescent display array on a thin film transistor array substrate |
-
1997
- 1997-12-18 JP JP9363925A patent/JPH11183882A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-12-18 US US09/215,153 patent/US6051444A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6051444A (en) | 2000-04-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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