JPH11179144A - スプレー式脱硫装置 - Google Patents
スプレー式脱硫装置Info
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- JPH11179144A JPH11179144A JP9353442A JP35344297A JPH11179144A JP H11179144 A JPH11179144 A JP H11179144A JP 9353442 A JP9353442 A JP 9353442A JP 35344297 A JP35344297 A JP 35344297A JP H11179144 A JPH11179144 A JP H11179144A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スプレー式脱硫装置で噴射される吸収液の噴
射流希薄部を均一化する。 【解決手段】 横方向に複数列高さ方向に複数段所要間
隔で配置した供給配管１５の夫々に、供給配管１５の長
手方向に沿って所要間隔で複数のスプレーノズル１６が
備えられ、各スプレーノズル１６から排ガスに向けて吸
収液１１を拡散噴射することにより噴射拡散流と排ガス
とを接触させて排ガスの脱硫を行うようにしているスプ
レー式脱硫装置であって、各スプレーノズル１６からの
噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向けて吸
収液１１を噴射するようにした補助スプレーノズル２０
を供給配管１５に設ける。
射流希薄部を均一化する。 【解決手段】 横方向に複数列高さ方向に複数段所要間
隔で配置した供給配管１５の夫々に、供給配管１５の長
手方向に沿って所要間隔で複数のスプレーノズル１６が
備えられ、各スプレーノズル１６から排ガスに向けて吸
収液１１を拡散噴射することにより噴射拡散流と排ガス
とを接触させて排ガスの脱硫を行うようにしているスプ
レー式脱硫装置であって、各スプレーノズル１６からの
噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向けて吸
収液１１を噴射するようにした補助スプレーノズル２０
を供給配管１５に設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中のダスト
や硫黄酸化物等を除去するスプレー式脱硫装置に関する
ものである。
や硫黄酸化物等を除去するスプレー式脱硫装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、石炭焚ボイラの排ガス２中のダ
ストとＳＯｘ（硫黄酸化物）とを除去する排ガス処理装
置を例示した概略フロー図であり、石炭焚ボイラ１の排
ガス２は、空気予熱器３において燃焼用の空気４による
熱回収によって温度が下げられた後、脱硫後の再加熱に
要するエネルギーを節約するための回転再熱式のガスガ
スヒータ５に導かれて熱回収され、続いて、単一の流路
に電極６ａを設けた方式の電気集塵装置６によりダスト
を除去されて、スプレー式脱硫装置７に導かれている。
ストとＳＯｘ（硫黄酸化物）とを除去する排ガス処理装
置を例示した概略フロー図であり、石炭焚ボイラ１の排
ガス２は、空気予熱器３において燃焼用の空気４による
熱回収によって温度が下げられた後、脱硫後の再加熱に
要するエネルギーを節約するための回転再熱式のガスガ
スヒータ５に導かれて熱回収され、続いて、単一の流路
に電極６ａを設けた方式の電気集塵装置６によりダスト
を除去されて、スプレー式脱硫装置７に導かれている。
【０００３】スプレー式脱硫装置７に導かれた排ガス２
は、前記電気集塵装置６において生じた飛散ダストの除
去が行われると共にＳＯｘの吸収が行われ、続いてミス
トエリミネータ８によりミストが分離された後、ガスガ
スヒータ再加熱部９により排ガス２の再加熱が行われて
煙突１０から大気中に排出されるようにしている。
は、前記電気集塵装置６において生じた飛散ダストの除
去が行われると共にＳＯｘの吸収が行われ、続いてミス
トエリミネータ８によりミストが分離された後、ガスガ
スヒータ再加熱部９により排ガス２の再加熱が行われて
煙突１０から大気中に排出されるようにしている。
【０００４】ここで前記スプレー式脱硫装置７は、その
一例を図６に示すように、炭酸カルシウム（ＣａＣ
Ｏ3）を含んだ吸収液１１を、ポンプ１２を備えた循環
配管１３により脱硫装置本体１４下部から取り出して該
脱硫装置本体１４の上部に備えた横方向に複数列且つ高
さ方向に複数段（図６では４段）の供給配管１５に導
き、各供給配管１５に供給配管１５の長手方向に沿って
所定の設置間隔で備えたスプレーノズル１６から下方に
拡散噴射して、吸収液１１の噴射拡散流である液滴表面
とガス入口１７から導入されて上昇してくる排ガス２と
を接触させて排ガス２中のＳＯｘの除去とダストの除去
の処理を行い、処理後の排ガス２を上部のガス出口１８
から図５のミストエリミネータ８に導くようにしてい
る。
一例を図６に示すように、炭酸カルシウム（ＣａＣ
Ｏ3）を含んだ吸収液１１を、ポンプ１２を備えた循環
配管１３により脱硫装置本体１４下部から取り出して該
脱硫装置本体１４の上部に備えた横方向に複数列且つ高
さ方向に複数段（図６では４段）の供給配管１５に導
き、各供給配管１５に供給配管１５の長手方向に沿って
所定の設置間隔で備えたスプレーノズル１６から下方に
拡散噴射して、吸収液１１の噴射拡散流である液滴表面
とガス入口１７から導入されて上昇してくる排ガス２と
を接触させて排ガス２中のＳＯｘの除去とダストの除去
の処理を行い、処理後の排ガス２を上部のガス出口１８
から図５のミストエリミネータ８に導くようにしてい
る。
【０００５】スプレーノズル１６は、図７に示すように
噴射口１６ａから例えば略６０度程度の噴射角度で吸収
液１１を噴射するようにしてあり、噴射口１６ａから噴
射される噴射拡散流の液滴は、噴射直後は直線的に射出
される高速噴射域Ａとなっているが、高速噴射域Ａ以降
は飛散しながら自由に落下する自由落下域Ｂに移行する
ようになり、噴射拡散流の高速噴射域Ａの底面を円形の
スプレー有効範囲Ｌとしている。
噴射口１６ａから例えば略６０度程度の噴射角度で吸収
液１１を噴射するようにしてあり、噴射口１６ａから噴
射される噴射拡散流の液滴は、噴射直後は直線的に射出
される高速噴射域Ａとなっているが、高速噴射域Ａ以降
は飛散しながら自由に落下する自由落下域Ｂに移行する
ようになり、噴射拡散流の高速噴射域Ａの底面を円形の
スプレー有効範囲Ｌとしている。
【０００６】このとき、スプレーノズル１６から噴出し
て分散される吸収液１１の液滴は、図７に噴射拡散流の
半断面を示すごとく、円形のスプレー有効範囲Ｌの中心
部側では細粒化した液滴が多数存在する濃密部Ｐ1とな
っているのに対し、スプレー有効範囲Ｌの周囲部ではス
プレーノズル１６から高速噴射の際に慣性力によって広
がって落下する比較的粒子が粗く液滴数が少ない粗粒部
Ｐ2となっている。
て分散される吸収液１１の液滴は、図７に噴射拡散流の
半断面を示すごとく、円形のスプレー有効範囲Ｌの中心
部側では細粒化した液滴が多数存在する濃密部Ｐ1とな
っているのに対し、スプレー有効範囲Ｌの周囲部ではス
プレーノズル１６から高速噴射の際に慣性力によって広
がって落下する比較的粒子が粗く液滴数が少ない粗粒部
Ｐ2となっている。
【０００７】一方、スプレー式脱硫装置７に備えている
供給配管１５は、図８、図９に示すごとく、吸収液１１
の液滴が希薄であるスプレー有効範囲Ｌの周囲部の多く
を、隣接する他のスプレー有効範囲Ｌの周囲部と相互に
交わせるよう、相互の間隔が設定されていると共に、ス
プレーノズル１６の間隔も供給配管１５の長手方向に千
鳥状に重なるように設定している。
供給配管１５は、図８、図９に示すごとく、吸収液１１
の液滴が希薄であるスプレー有効範囲Ｌの周囲部の多く
を、隣接する他のスプレー有効範囲Ｌの周囲部と相互に
交わせるよう、相互の間隔が設定されていると共に、ス
プレーノズル１６の間隔も供給配管１５の長手方向に千
鳥状に重なるように設定している。
【０００８】脱硫装置本体１４内では、平面に均一に吸
収液１１を噴射してやる必要があり、このためにスプレ
ー有効範囲Ｌの周囲部の粗粒部Ｐ2が隣接する他のスプ
レー有効範囲Ｌの周囲部の粗粒部Ｐ2と相互に隙間なく
重なるようにスプレーノズル１６を密に配置した場合に
は、スプレー有効範囲Ｌの周囲部における粗粒部Ｐ2の
粗い液滴が互に衝突して細粒化するようになる。
収液１１を噴射してやる必要があり、このためにスプレ
ー有効範囲Ｌの周囲部の粗粒部Ｐ2が隣接する他のスプ
レー有効範囲Ｌの周囲部の粗粒部Ｐ2と相互に隙間なく
重なるようにスプレーノズル１６を密に配置した場合に
は、スプレー有効範囲Ｌの周囲部における粗粒部Ｐ2の
粗い液滴が互に衝突して細粒化するようになる。
【０００９】このとき、上記したように円形のスプレー
有効範囲Ｌを隙間なく重ねると、大きく重なっている部
分は液滴の密度が濃密になっているが、重なりの少ない
部分は液滴の密度が希薄となっており、このように液滴
の密度に差があると、吸収液１１による排ガス２の処理
効率が低下してしまうという問題がある。
有効範囲Ｌを隙間なく重ねると、大きく重なっている部
分は液滴の密度が濃密になっているが、重なりの少ない
部分は液滴の密度が希薄となっており、このように液滴
の密度に差があると、吸収液１１による排ガス２の処理
効率が低下してしまうという問題がある。
【００１０】このため、一般的には、図９に示すごと
く、スプレーノズル１６の配置は、スプレー有効範囲Ｌ
の相互の間に略三角形の空間部が生じる配置としてお
り、この空間部は噴射流希薄部Ｍとなっている。
く、スプレーノズル１６の配置は、スプレー有効範囲Ｌ
の相互の間に略三角形の空間部が生じる配置としてお
り、この空間部は噴射流希薄部Ｍとなっている。
【００１１】このとき、スプレー有効範囲Ｌの相互の間
にできる空間部による噴射流希薄部Ｍは、図７のように
自由落下域Ｂの液滴によって粒子数がある程度はカバー
されるようになる。
にできる空間部による噴射流希薄部Ｍは、図７のように
自由落下域Ｂの液滴によって粒子数がある程度はカバー
されるようになる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図８、
図９に示すようにスプレー有効範囲Ｌの相互の間にでき
る空間部は、自由落下域の液滴によってカバーされて
も、他のスプレー有効範囲Ｌの液滴と交わることがない
ため、液滴の粒子が粗く液滴数が少ない噴射流希薄部Ｍ
のままであり、よって脱硫装置本体１４内に噴射される
液滴の不均一が生じる。排ガス２の脱硫は吸収液１１の
液滴の表面で起こることから、前記したように液滴の分
散が不均一であると排ガス２との接触が不十分になり、
排ガス２の処理効率が低下するという問題が生じてい
た。又、空間部による噴射流希薄部Ｍは、壁面１４ａと
スプレー有効範囲Ｌとの間にも生じ、同様な問題があっ
た。
図９に示すようにスプレー有効範囲Ｌの相互の間にでき
る空間部は、自由落下域の液滴によってカバーされて
も、他のスプレー有効範囲Ｌの液滴と交わることがない
ため、液滴の粒子が粗く液滴数が少ない噴射流希薄部Ｍ
のままであり、よって脱硫装置本体１４内に噴射される
液滴の不均一が生じる。排ガス２の脱硫は吸収液１１の
液滴の表面で起こることから、前記したように液滴の分
散が不均一であると排ガス２との接触が不十分になり、
排ガス２の処理効率が低下するという問題が生じてい
た。又、空間部による噴射流希薄部Ｍは、壁面１４ａと
スプレー有効範囲Ｌとの間にも生じ、同様な問題があっ
た。
【００１３】本発明は、斯かる実情に鑑みてなしたもの
で、スプレー有効範囲の相互の間にできる空間部の液滴
を細粒化すると共に、吸収液の液滴の分布を均一化し
て、排ガスとの接触性を向上し、排ガスの処理効率を向
上させることができるスプレー式脱硫装置を提供するこ
とを目的としている。
で、スプレー有効範囲の相互の間にできる空間部の液滴
を細粒化すると共に、吸収液の液滴の分布を均一化し
て、排ガスとの接触性を向上し、排ガスの処理効率を向
上させることができるスプレー式脱硫装置を提供するこ
とを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本願発明は、横方向に複
数列高さ方向に複数段所要間隔で配置した供給配管の夫
々に、供給配管の長手方向に沿って所要間隔で複数のス
プレーノズルが備えられ、該各スプレーノズルから排ガ
スに向けて吸収液を拡散噴射することにより噴射拡散流
と排ガスとを接触させて排ガスの脱硫を行うようにして
いるスプレー式脱硫装置であって、各スプレーノズルか
らの噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向け
て吸収液を噴射するようにした補助スプレーノズルを前
記供給配管に設けたものである。
数列高さ方向に複数段所要間隔で配置した供給配管の夫
々に、供給配管の長手方向に沿って所要間隔で複数のス
プレーノズルが備えられ、該各スプレーノズルから排ガ
スに向けて吸収液を拡散噴射することにより噴射拡散流
と排ガスとを接触させて排ガスの脱硫を行うようにして
いるスプレー式脱硫装置であって、各スプレーノズルか
らの噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向け
て吸収液を噴射するようにした補助スプレーノズルを前
記供給配管に設けたものである。
【００１５】本発明では、スプレーノズルからの噴射拡
散流によって形成される噴射流希薄部に向けて補助スプ
レーノズルから吸収液を噴射するので、噴射流希薄部に
落下してくる粒子が粗い液滴に、補助スプレーノズルか
らの吸収液の液滴が衝突して細粒化することにより、吸
収液の液滴を排ガス中に均一に分散することができ、結
果として、全体的に細粒化されて均一となった液滴と排
ガスとの接触性が向上して、排ガスの処理効率が向上さ
れるようになる。
散流によって形成される噴射流希薄部に向けて補助スプ
レーノズルから吸収液を噴射するので、噴射流希薄部に
落下してくる粒子が粗い液滴に、補助スプレーノズルか
らの吸収液の液滴が衝突して細粒化することにより、吸
収液の液滴を排ガス中に均一に分散することができ、結
果として、全体的に細粒化されて均一となった液滴と排
ガスとの接触性が向上して、排ガスの処理効率が向上さ
れるようになる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。
例と共に説明する。
【００１７】図１〜図４は、本発明を実施するスプレー
式脱硫装置の形態例を示したものであって、図８、図９
に示したスプレー式脱硫装置７の供給配管１５に、噴射
流希薄部Ｍをカバーするための補助スプレーノズル２０
を備えるものである。なお、図１〜図４中、図５〜図９
と同一の符号を付した部分は同一物を表わしている。
式脱硫装置の形態例を示したものであって、図８、図９
に示したスプレー式脱硫装置７の供給配管１５に、噴射
流希薄部Ｍをカバーするための補助スプレーノズル２０
を備えるものである。なお、図１〜図４中、図５〜図９
と同一の符号を付した部分は同一物を表わしている。
【００１８】補助スプレーノズル２０は、図１〜図３に
示すごとく、同一供給配管１５において隣接するスプレ
ーノズル１６同士との間の位置から、横方向に並列に隣
接している他の供給配管１５の方向に向って、スプレー
ノズル１６の噴射により下部に生じる空間部による噴射
流希薄部Ｍの上部位置まで延在する横方延在部２０ａ
と、横方延在部２０ａの先端部から更に空間部による噴
射流希薄部Ｍ近傍まで下方に延在する下方延在部２０ｂ
とからなる形状を有しており、下方延在部２０ｂの先端
部にはスプレーノズル１６の噴射口１６ａよりも小さい
噴射口２１が備えられている。このとき、補助スプレー
ノズル２０から噴射される補助スプレー有効範囲Ｓは、
前記噴射流希薄部Ｍをカバーできる小さい範囲で良い。
示すごとく、同一供給配管１５において隣接するスプレ
ーノズル１６同士との間の位置から、横方向に並列に隣
接している他の供給配管１５の方向に向って、スプレー
ノズル１６の噴射により下部に生じる空間部による噴射
流希薄部Ｍの上部位置まで延在する横方延在部２０ａ
と、横方延在部２０ａの先端部から更に空間部による噴
射流希薄部Ｍ近傍まで下方に延在する下方延在部２０ｂ
とからなる形状を有しており、下方延在部２０ｂの先端
部にはスプレーノズル１６の噴射口１６ａよりも小さい
噴射口２１が備えられている。このとき、補助スプレー
ノズル２０から噴射される補助スプレー有効範囲Ｓは、
前記噴射流希薄部Ｍをカバーできる小さい範囲で良い。
【００１９】又、補助スプレーノズル２０は、前記下方
延在部２０ｂを有する補助スプレーノズル２０とは別
に、図１、図２、図４に示すごとく、同一供給配管１５
において隣接するスプレーノズル１６同士との間の位置
から、横方向に並列に隣接している他の供給配管１５の
方向に向って、上部に位置する供給配管１５のスプレー
ノズル１６から噴射されて生じる空間部による噴射流希
薄部Ｍの下部まで延在する横方延在部２０ａと、横方延
在部２０ａの先端部から更に空間部による噴射流希薄部
Ｍ近傍まで上方に延在する上方延在部２０ｃとからなる
形状を有していても良く、上方延在部２０ｃの先端部に
は、上記の下方延在部２０ｂを有する補助スプレーノズ
ル２０と同様にスプレーノズル１６の噴射口１６ａより
も小さい噴射口２１が備えられている。
延在部２０ｂを有する補助スプレーノズル２０とは別
に、図１、図２、図４に示すごとく、同一供給配管１５
において隣接するスプレーノズル１６同士との間の位置
から、横方向に並列に隣接している他の供給配管１５の
方向に向って、上部に位置する供給配管１５のスプレー
ノズル１６から噴射されて生じる空間部による噴射流希
薄部Ｍの下部まで延在する横方延在部２０ａと、横方延
在部２０ａの先端部から更に空間部による噴射流希薄部
Ｍ近傍まで上方に延在する上方延在部２０ｃとからなる
形状を有していても良く、上方延在部２０ｃの先端部に
は、上記の下方延在部２０ｂを有する補助スプレーノズ
ル２０と同様にスプレーノズル１６の噴射口１６ａより
も小さい噴射口２１が備えられている。
【００２０】スプレー式脱硫装置７内において横方向に
複数列、高さ方向に複数段所要の間隔で配置されている
供給配管１５のうち最上段の供給配管１５には、図１に
示すごとく、全て下方延在部２０ｂを有する補助スプレ
ーノズル２０が備えられており、上方から二段目から以
下の供給配管１５には、図１、図２に示すごとく、供給
配管１５の長手方向に沿って、下方延在部２０ｂを有す
る補助スプレーノズル２０と上方延在部２０ｃを有する
補助スプレーノズル２０とが交互に備えられている。
複数列、高さ方向に複数段所要の間隔で配置されている
供給配管１５のうち最上段の供給配管１５には、図１に
示すごとく、全て下方延在部２０ｂを有する補助スプレ
ーノズル２０が備えられており、上方から二段目から以
下の供給配管１５には、図１、図２に示すごとく、供給
配管１５の長手方向に沿って、下方延在部２０ｂを有す
る補助スプレーノズル２０と上方延在部２０ｃを有する
補助スプレーノズル２０とが交互に備えられている。
【００２１】又、図２に示すごとく壁面１４ａに沿って
できる空間部による噴射流希薄部Ｍには、下方延在部２
０ｂを有する補助スプレーノズル２０及び上方延在部２
０ｃを有する補助スプレーノズル２０が設けられてお
り、補助スプレーノズル２０を供給配管１５より延在す
る際に壁面１４ａが障害になる場合には、補助スプレー
ノズル２０を曲折させて（図２では横方延在部２０ａを
曲折させている）設けられている。
できる空間部による噴射流希薄部Ｍには、下方延在部２
０ｂを有する補助スプレーノズル２０及び上方延在部２
０ｃを有する補助スプレーノズル２０が設けられてお
り、補助スプレーノズル２０を供給配管１５より延在す
る際に壁面１４ａが障害になる場合には、補助スプレー
ノズル２０を曲折させて（図２では横方延在部２０ａを
曲折させている）設けられている。
【００２２】なお、二段目以下の供給配管１５に設けら
れる下方延在部２０ｂを有する補助スプレーノズル２０
と上方延在部２０ｃを有する補助スプレーノズル２０の
配列は任意であり、どちらか一方の補助スプレーノズル
２０のみでもよい。
れる下方延在部２０ｂを有する補助スプレーノズル２０
と上方延在部２０ｃを有する補助スプレーノズル２０の
配列は任意であり、どちらか一方の補助スプレーノズル
２０のみでもよい。
【００２３】以下、本発明の実施の形態例の作用を説明
する。
する。
【００２４】スプレーノズル１６からの噴射拡散流によ
って、スプレー有効範囲Ｌの相互間にできる空間部によ
る噴射流希薄部Ｍが形成される間隔で、供給配管１５及
びスプレーノズル１６が配置された状態において、補助
スプレーノズル２０から噴射流希薄部Ｍに向けて補助ス
プレー有効範囲Ｓの吸収液１１を噴射すると、前記噴射
流希薄部Ｍにおける粒子が粗い液滴は、補助スプレーノ
ズル２０から噴出された液滴と衝突して細粒化し、これ
により噴射流希薄部Ｍの液滴の密度がスプレー有効範囲
Ｌの中心部の液滴の密度と略等しくなって吸収液１１の
液滴の分布が均一化する。
って、スプレー有効範囲Ｌの相互間にできる空間部によ
る噴射流希薄部Ｍが形成される間隔で、供給配管１５及
びスプレーノズル１６が配置された状態において、補助
スプレーノズル２０から噴射流希薄部Ｍに向けて補助ス
プレー有効範囲Ｓの吸収液１１を噴射すると、前記噴射
流希薄部Ｍにおける粒子が粗い液滴は、補助スプレーノ
ズル２０から噴出された液滴と衝突して細粒化し、これ
により噴射流希薄部Ｍの液滴の密度がスプレー有効範囲
Ｌの中心部の液滴の密度と略等しくなって吸収液１１の
液滴の分布が均一化する。
【００２５】又、壁面１４ａに沿ってできた空間部によ
る噴射流希薄部Ｍには、壁面１４ａに隣接する補助スプ
レーノズル２０から補助スプレー有効範囲Ｓの吸収液１
１が噴射されるため、上記と同様に、噴射流希薄部Ｍの
液滴の密度が高められて、スプレー有効範囲Ｌの中心部
の液滴の密度と略等しくなる。
る噴射流希薄部Ｍには、壁面１４ａに隣接する補助スプ
レーノズル２０から補助スプレー有効範囲Ｓの吸収液１
１が噴射されるため、上記と同様に、噴射流希薄部Ｍの
液滴の密度が高められて、スプレー有効範囲Ｌの中心部
の液滴の密度と略等しくなる。
【００２６】このため、全体的に細粒化されて均一とな
った液滴に排ガス２を接触させて排ガス２の処理を行う
ことができるので、液滴と排ガス２との接触性が向上し
て、排ガス２の処理効率が向上されるようになる。
った液滴に排ガス２を接触させて排ガス２の処理を行う
ことができるので、液滴と排ガス２との接触性が向上し
て、排ガス２の処理効率が向上されるようになる。
【００２７】なお、本発明は、上述の形態例のみに限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内
において種々変更を加え得ることは勿論である。
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内
において種々変更を加え得ることは勿論である。
【００２８】
【発明の効果】本発明のスプレー式脱硫装置によれば、
スプレーノズルからの噴射拡散流によって形成される噴
射流希薄部に向けて補助スプレーノズルから吸収液を噴
射するので、噴射流希薄部に落下してくる粒子が粗い液
滴に、補助スプレーノズルからの吸収液の液滴が衝突し
て細粒化することにより、吸収液の液滴を排ガス中に均
一に分散することができ、結果として、全体的に細粒化
されて均一となった液滴と排ガスとの接触性が向上し
て、排ガスの処理効率が向上されるようになるという優
れた効果を奏し得る。
スプレーノズルからの噴射拡散流によって形成される噴
射流希薄部に向けて補助スプレーノズルから吸収液を噴
射するので、噴射流希薄部に落下してくる粒子が粗い液
滴に、補助スプレーノズルからの吸収液の液滴が衝突し
て細粒化することにより、吸収液の液滴を排ガス中に均
一に分散することができ、結果として、全体的に細粒化
されて均一となった液滴と排ガスとの接触性が向上し
て、排ガスの処理効率が向上されるようになるという優
れた効果を奏し得る。
【図１】本発明のスプレー式脱硫装置の実施の形態の一
例を示す切断正面図である。
例を示す切断正面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ方向の矢視図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ方向の矢視図である。
【図４】図１のＩＶ−ＩＶ方向の矢視図である。
【図５】石炭焚ボイラの排煙ガス処理装置を例示した概
略フロー図である。
略フロー図である。
【図６】従来のスプレー式脱硫装置の切断正面図であ
る。
る。
【図７】スプレーノズルから噴射される吸収液の噴射拡
散流を示す断面図である。
散流を示す断面図である。
【図８】従来のスプレー式脱硫装置の一例を示す切断正
面図である。
面図である。
【図９】図８のＩＸ−ＩＸ方向の矢視図である。
１ 石炭焚ボイラ ２ 排ガス ７ スプレー式脱硫装置 １１ 吸収液 １５ 供給配管 １６ スプレーノズル ２０ 補助スプレーノズル Ｍ 噴射流希薄部
Claims (1)
- 【請求項１】 横方向に複数列高さ方向に複数段所要間
隔で配置した供給配管の夫々に、供給配管の長手方向に
沿って所要間隔で複数のスプレーノズルが備えられ、該
各スプレーノズルから排ガスに向けて吸収液を拡散噴射
することにより噴射拡散流と排ガスとを接触させて排ガ
スの脱硫を行うようにしているスプレー式脱硫装置であ
って、各スプレーノズルからの噴射拡散流によって形成
される噴射流希薄部に向けて吸収液を噴射するようにし
た補助スプレーノズルを前記供給配管に設けたことを特
徴とするスプレー式脱硫装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9353442A JPH11179144A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | スプレー式脱硫装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9353442A JPH11179144A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | スプレー式脱硫装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11179144A true JPH11179144A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18430881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9353442A Pending JPH11179144A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | スプレー式脱硫装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11179144A (ja) |
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-
1997
- 1997-12-22 JP JP9353442A patent/JPH11179144A/ja active Pending
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