JPH11179144A - スプレー式脱硫装置 - Google Patents

スプレー式脱硫装置

Info

Publication number
JPH11179144A
JPH11179144A JP9353442A JP35344297A JPH11179144A JP H11179144 A JPH11179144 A JP H11179144A JP 9353442 A JP9353442 A JP 9353442A JP 35344297 A JP35344297 A JP 35344297A JP H11179144 A JPH11179144 A JP H11179144A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spray
droplets
exhaust gas
spray nozzle
desulfurization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9353442A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihisa Fujino
Masahiro Torii
善久 藤野
政宏 鳥居
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd
石川島播磨重工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd, 石川島播磨重工業株式会社 filed Critical Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd
Priority to JP9353442A priority Critical patent/JPH11179144A/ja
Publication of JPH11179144A publication Critical patent/JPH11179144A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スプレー式脱硫装置で噴射される吸収液の噴
射流希薄部を均一化する。 【解決手段】 横方向に複数列高さ方向に複数段所要間
隔で配置した供給配管15の夫々に、供給配管15の長
手方向に沿って所要間隔で複数のスプレーノズル16が
備えられ、各スプレーノズル16から排ガスに向けて吸
収液11を拡散噴射することにより噴射拡散流と排ガス
とを接触させて排ガスの脱硫を行うようにしているスプ
レー式脱硫装置であって、各スプレーノズル16からの
噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向けて吸
収液11を噴射するようにした補助スプレーノズル20
を供給配管15に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中のダスト
や硫黄酸化物等を除去するスプレー式脱硫装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】図5は、石炭焚ボイラの排ガス2中のダ
ストとSOx(硫黄酸化物)とを除去する排ガス処理装
置を例示した概略フロー図であり、石炭焚ボイラ1の排
ガス2は、空気予熱器3において燃焼用の空気4による
熱回収によって温度が下げられた後、脱硫後の再加熱に
要するエネルギーを節約するための回転再熱式のガスガ
スヒータ5に導かれて熱回収され、続いて、単一の流路
に電極6aを設けた方式の電気集塵装置6によりダスト
を除去されて、スプレー式脱硫装置7に導かれている。
【0003】スプレー式脱硫装置7に導かれた排ガス2
は、前記電気集塵装置6において生じた飛散ダストの除
去が行われると共にSOxの吸収が行われ、続いてミス
トエリミネータ8によりミストが分離された後、ガスガ
スヒータ再加熱部9により排ガス2の再加熱が行われて
煙突10から大気中に排出されるようにしている。
【0004】ここで前記スプレー式脱硫装置7は、その
一例を図6に示すように、炭酸カルシウム(CaC
3)を含んだ吸収液11を、ポンプ12を備えた循環
配管13により脱硫装置本体14下部から取り出して該
脱硫装置本体14の上部に備えた横方向に複数列且つ高
さ方向に複数段(図6では4段)の供給配管15に導
き、各供給配管15に供給配管15の長手方向に沿って
所定の設置間隔で備えたスプレーノズル16から下方に
拡散噴射して、吸収液11の噴射拡散流である液滴表面
とガス入口17から導入されて上昇してくる排ガス2と
を接触させて排ガス2中のSOxの除去とダストの除去
の処理を行い、処理後の排ガス2を上部のガス出口18
から図5のミストエリミネータ8に導くようにしてい
る。
【0005】スプレーノズル16は、図7に示すように
噴射口16aから例えば略60度程度の噴射角度で吸収
液11を噴射するようにしてあり、噴射口16aから噴
射される噴射拡散流の液滴は、噴射直後は直線的に射出
される高速噴射域Aとなっているが、高速噴射域A以降
は飛散しながら自由に落下する自由落下域Bに移行する
ようになり、噴射拡散流の高速噴射域Aの底面を円形の
スプレー有効範囲Lとしている。
【0006】このとき、スプレーノズル16から噴出し
て分散される吸収液11の液滴は、図7に噴射拡散流の
半断面を示すごとく、円形のスプレー有効範囲Lの中心
部側では細粒化した液滴が多数存在する濃密部P1とな
っているのに対し、スプレー有効範囲Lの周囲部ではス
プレーノズル16から高速噴射の際に慣性力によって広
がって落下する比較的粒子が粗く液滴数が少ない粗粒部
2となっている。
【0007】一方、スプレー式脱硫装置7に備えている
供給配管15は、図8、図9に示すごとく、吸収液11
の液滴が希薄であるスプレー有効範囲Lの周囲部の多く
を、隣接する他のスプレー有効範囲Lの周囲部と相互に
交わせるよう、相互の間隔が設定されていると共に、ス
プレーノズル16の間隔も供給配管15の長手方向に千
鳥状に重なるように設定している。
【0008】脱硫装置本体14内では、平面に均一に吸
収液11を噴射してやる必要があり、このためにスプレ
ー有効範囲Lの周囲部の粗粒部P2が隣接する他のスプ
レー有効範囲Lの周囲部の粗粒部P2と相互に隙間なく
重なるようにスプレーノズル16を密に配置した場合に
は、スプレー有効範囲Lの周囲部における粗粒部P2
粗い液滴が互に衝突して細粒化するようになる。
【0009】このとき、上記したように円形のスプレー
有効範囲Lを隙間なく重ねると、大きく重なっている部
分は液滴の密度が濃密になっているが、重なりの少ない
部分は液滴の密度が希薄となっており、このように液滴
の密度に差があると、吸収液11による排ガス2の処理
効率が低下してしまうという問題がある。
【0010】このため、一般的には、図9に示すごと
く、スプレーノズル16の配置は、スプレー有効範囲L
の相互の間に略三角形の空間部が生じる配置としてお
り、この空間部は噴射流希薄部Mとなっている。
【0011】このとき、スプレー有効範囲Lの相互の間
にできる空間部による噴射流希薄部Mは、図7のように
自由落下域Bの液滴によって粒子数がある程度はカバー
されるようになる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8、
図9に示すようにスプレー有効範囲Lの相互の間にでき
る空間部は、自由落下域の液滴によってカバーされて
も、他のスプレー有効範囲Lの液滴と交わることがない
ため、液滴の粒子が粗く液滴数が少ない噴射流希薄部M
のままであり、よって脱硫装置本体14内に噴射される
液滴の不均一が生じる。排ガス2の脱硫は吸収液11の
液滴の表面で起こることから、前記したように液滴の分
散が不均一であると排ガス2との接触が不十分になり、
排ガス2の処理効率が低下するという問題が生じてい
た。又、空間部による噴射流希薄部Mは、壁面14aと
スプレー有効範囲Lとの間にも生じ、同様な問題があっ
た。
【0013】本発明は、斯かる実情に鑑みてなしたもの
で、スプレー有効範囲の相互の間にできる空間部の液滴
を細粒化すると共に、吸収液の液滴の分布を均一化し
て、排ガスとの接触性を向上し、排ガスの処理効率を向
上させることができるスプレー式脱硫装置を提供するこ
とを目的としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願発明は、横方向に複
数列高さ方向に複数段所要間隔で配置した供給配管の夫
々に、供給配管の長手方向に沿って所要間隔で複数のス
プレーノズルが備えられ、該各スプレーノズルから排ガ
スに向けて吸収液を拡散噴射することにより噴射拡散流
と排ガスとを接触させて排ガスの脱硫を行うようにして
いるスプレー式脱硫装置であって、各スプレーノズルか
らの噴射拡散流によって形成される噴射流希薄部に向け
て吸収液を噴射するようにした補助スプレーノズルを前
記供給配管に設けたものである。
【0015】本発明では、スプレーノズルからの噴射拡
散流によって形成される噴射流希薄部に向けて補助スプ
レーノズルから吸収液を噴射するので、噴射流希薄部に
落下してくる粒子が粗い液滴に、補助スプレーノズルか
らの吸収液の液滴が衝突して細粒化することにより、吸
収液の液滴を排ガス中に均一に分散することができ、結
果として、全体的に細粒化されて均一となった液滴と排
ガスとの接触性が向上して、排ガスの処理効率が向上さ
れるようになる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。
【0017】図1〜図4は、本発明を実施するスプレー
式脱硫装置の形態例を示したものであって、図8、図9
に示したスプレー式脱硫装置7の供給配管15に、噴射
流希薄部Mをカバーするための補助スプレーノズル20
を備えるものである。なお、図1〜図4中、図5〜図9
と同一の符号を付した部分は同一物を表わしている。
【0018】補助スプレーノズル20は、図1〜図3に
示すごとく、同一供給配管15において隣接するスプレ
ーノズル16同士との間の位置から、横方向に並列に隣
接している他の供給配管15の方向に向って、スプレー
ノズル16の噴射により下部に生じる空間部による噴射
流希薄部Mの上部位置まで延在する横方延在部20a
と、横方延在部20aの先端部から更に空間部による噴
射流希薄部M近傍まで下方に延在する下方延在部20b
とからなる形状を有しており、下方延在部20bの先端
部にはスプレーノズル16の噴射口16aよりも小さい
噴射口21が備えられている。このとき、補助スプレー
ノズル20から噴射される補助スプレー有効範囲Sは、
前記噴射流希薄部Mをカバーできる小さい範囲で良い。
【0019】又、補助スプレーノズル20は、前記下方
延在部20bを有する補助スプレーノズル20とは別
に、図1、図2、図4に示すごとく、同一供給配管15
において隣接するスプレーノズル16同士との間の位置
から、横方向に並列に隣接している他の供給配管15の
方向に向って、上部に位置する供給配管15のスプレー
ノズル16から噴射されて生じる空間部による噴射流希
薄部Mの下部まで延在する横方延在部20aと、横方延
在部20aの先端部から更に空間部による噴射流希薄部
M近傍まで上方に延在する上方延在部20cとからなる
形状を有していても良く、上方延在部20cの先端部に
は、上記の下方延在部20bを有する補助スプレーノズ
ル20と同様にスプレーノズル16の噴射口16aより
も小さい噴射口21が備えられている。
【0020】スプレー式脱硫装置7内において横方向に
複数列、高さ方向に複数段所要の間隔で配置されている
供給配管15のうち最上段の供給配管15には、図1に
示すごとく、全て下方延在部20bを有する補助スプレ
ーノズル20が備えられており、上方から二段目から以
下の供給配管15には、図1、図2に示すごとく、供給
配管15の長手方向に沿って、下方延在部20bを有す
る補助スプレーノズル20と上方延在部20cを有する
補助スプレーノズル20とが交互に備えられている。
【0021】又、図2に示すごとく壁面14aに沿って
できる空間部による噴射流希薄部Mには、下方延在部2
0bを有する補助スプレーノズル20及び上方延在部2
0cを有する補助スプレーノズル20が設けられてお
り、補助スプレーノズル20を供給配管15より延在す
る際に壁面14aが障害になる場合には、補助スプレー
ノズル20を曲折させて(図2では横方延在部20aを
曲折させている)設けられている。
【0022】なお、二段目以下の供給配管15に設けら
れる下方延在部20bを有する補助スプレーノズル20
と上方延在部20cを有する補助スプレーノズル20の
配列は任意であり、どちらか一方の補助スプレーノズル
20のみでもよい。
【0023】以下、本発明の実施の形態例の作用を説明
する。
【0024】スプレーノズル16からの噴射拡散流によ
って、スプレー有効範囲Lの相互間にできる空間部によ
る噴射流希薄部Mが形成される間隔で、供給配管15及
びスプレーノズル16が配置された状態において、補助
スプレーノズル20から噴射流希薄部Mに向けて補助ス
プレー有効範囲Sの吸収液11を噴射すると、前記噴射
流希薄部Mにおける粒子が粗い液滴は、補助スプレーノ
ズル20から噴出された液滴と衝突して細粒化し、これ
により噴射流希薄部Mの液滴の密度がスプレー有効範囲
Lの中心部の液滴の密度と略等しくなって吸収液11の
液滴の分布が均一化する。
【0025】又、壁面14aに沿ってできた空間部によ
る噴射流希薄部Mには、壁面14aに隣接する補助スプ
レーノズル20から補助スプレー有効範囲Sの吸収液1
1が噴射されるため、上記と同様に、噴射流希薄部Mの
液滴の密度が高められて、スプレー有効範囲Lの中心部
の液滴の密度と略等しくなる。
【0026】このため、全体的に細粒化されて均一とな
った液滴に排ガス2を接触させて排ガス2の処理を行う
ことができるので、液滴と排ガス2との接触性が向上し
て、排ガス2の処理効率が向上されるようになる。
【0027】なお、本発明は、上述の形態例のみに限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内
において種々変更を加え得ることは勿論である。
【0028】
【発明の効果】本発明のスプレー式脱硫装置によれば、
スプレーノズルからの噴射拡散流によって形成される噴
射流希薄部に向けて補助スプレーノズルから吸収液を噴
射するので、噴射流希薄部に落下してくる粒子が粗い液
滴に、補助スプレーノズルからの吸収液の液滴が衝突し
て細粒化することにより、吸収液の液滴を排ガス中に均
一に分散することができ、結果として、全体的に細粒化
されて均一となった液滴と排ガスとの接触性が向上し
て、排ガスの処理効率が向上されるようになるという優
れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスプレー式脱硫装置の実施の形態の一
例を示す切断正面図である。
【図2】図1のII−II方向の矢視図である。
【図3】図1のIII−III方向の矢視図である。
【図4】図1のIV−IV方向の矢視図である。
【図5】石炭焚ボイラの排煙ガス処理装置を例示した概
略フロー図である。
【図6】従来のスプレー式脱硫装置の切断正面図であ
る。
【図7】スプレーノズルから噴射される吸収液の噴射拡
散流を示す断面図である。
【図8】従来のスプレー式脱硫装置の一例を示す切断正
面図である。
【図9】図8のIX−IX方向の矢視図である。
【符号の説明】
1 石炭焚ボイラ 2 排ガス 7 スプレー式脱硫装置 11 吸収液 15 供給配管 16 スプレーノズル 20 補助スプレーノズル M 噴射流希薄部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 横方向に複数列高さ方向に複数段所要間
    隔で配置した供給配管の夫々に、供給配管の長手方向に
    沿って所要間隔で複数のスプレーノズルが備えられ、該
    各スプレーノズルから排ガスに向けて吸収液を拡散噴射
    することにより噴射拡散流と排ガスとを接触させて排ガ
    スの脱硫を行うようにしているスプレー式脱硫装置であ
    って、各スプレーノズルからの噴射拡散流によって形成
    される噴射流希薄部に向けて吸収液を噴射するようにし
    た補助スプレーノズルを前記供給配管に設けたことを特
    徴とするスプレー式脱硫装置。
JP9353442A 1997-12-22 1997-12-22 スプレー式脱硫装置 Pending JPH11179144A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9353442A JPH11179144A (ja) 1997-12-22 1997-12-22 スプレー式脱硫装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9353442A JPH11179144A (ja) 1997-12-22 1997-12-22 スプレー式脱硫装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11179144A true JPH11179144A (ja) 1999-07-06

Family

ID=18430881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9353442A Pending JPH11179144A (ja) 1997-12-22 1997-12-22 スプレー式脱硫装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11179144A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10323355A1 (de) * 2003-05-21 2004-12-09 Kretzschmar, Axel, Dr.Rer.Nat.Habil. Verfahren, Anordnung und Vorrichtung zur Reinigung strömender Gase
DE112007000786T5 (de) 2006-04-04 2009-02-12 Babcock-Hitachi K.K. Rauchgas-Nassentschwefler
JP2013000631A (ja) * 2011-06-14 2013-01-07 Babcock Hitachi Kk 湿式排煙脱硫装置と方法
KR20140010902A (ko) * 2012-07-17 2014-01-27 안드리츠 에너지 앤드 인바이런먼트 게엠베하 가스 내의 개별 성분을 흡수하기 위한 플랜트 및 방법
TWI507240B (zh) * 2010-05-13 2015-11-11 Kubota Kasui Corp Use a three-way spray nozzle for wet flue gas desulfurization
CN108771932A (zh) * 2018-06-28 2018-11-09 佛山市高明区杨和金属材料专业镇技术创新中心 一种家用除粉尘装置
WO2020202633A1 (ja) * 2019-04-02 2020-10-08 三菱日立パワーシステムズ株式会社 海水脱硫装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10323355A1 (de) * 2003-05-21 2004-12-09 Kretzschmar, Axel, Dr.Rer.Nat.Habil. Verfahren, Anordnung und Vorrichtung zur Reinigung strömender Gase
DE112007000786T5 (de) 2006-04-04 2009-02-12 Babcock-Hitachi K.K. Rauchgas-Nassentschwefler
US8092582B2 (en) 2006-04-04 2012-01-10 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha Wet-type exhaust gas desulfurizer
TWI507240B (zh) * 2010-05-13 2015-11-11 Kubota Kasui Corp Use a three-way spray nozzle for wet flue gas desulfurization
JP2013000631A (ja) * 2011-06-14 2013-01-07 Babcock Hitachi Kk 湿式排煙脱硫装置と方法
KR20140010902A (ko) * 2012-07-17 2014-01-27 안드리츠 에너지 앤드 인바이런먼트 게엠베하 가스 내의 개별 성분을 흡수하기 위한 플랜트 및 방법
CN108771932A (zh) * 2018-06-28 2018-11-09 佛山市高明区杨和金属材料专业镇技术创新中心 一种家用除粉尘装置
WO2020202633A1 (ja) * 2019-04-02 2020-10-08 三菱日立パワーシステムズ株式会社 海水脱硫装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106659971B (zh) 用于从排气中除去污染物的方法和装置
KR100983403B1 (ko) 방전장치 및 공기정화장치
US7534400B2 (en) Wet scrubbing apparatus for controlling NOx emission
KR20150123263A (ko) 해상 배기가스 스크러버
US3933450A (en) Purifier for the physical-chemical treatment of combustion gases and other gases containing polluting or noxious constituents
US8052950B2 (en) Multi-compartment overfire air and N-agent injection method for nitrogen oxide reduction in flue gas
KR100445884B1 (ko) 가스워셔의 미스트 회수장치
US4469493A (en) Method and apparatus for the purification of gases which contain solid and gaseous impurities
CN104289089B (zh) 湿式洗涤器喷嘴系统及用于清洁过程气体的使用方法
US2259626A (en) Means for and method of eliminating splash in wash type spray booths
US4074983A (en) Wet electrostatic precipitators
US5403568A (en) Horizontal wet scrubbing apparatus and method for removing sulfur dioxide from a gaseous stream
US7731913B2 (en) Carbon dioxide flue gas sequestering mechanism
EP2265357B1 (en) Systems and methods for removing gaseous pollutants from a gas stream
KR101527175B1 (ko) 미세 액적 분사장치를 이용한 폐가스 처리 장치
US6988454B2 (en) Method and apparatus for adding reducing agent to secondary overfire air stream
US20070081936A1 (en) Method of removing sulfur trioxide from a flue gas stream
AU2014369342A1 (en) Methods for removing contaminants from exhaust gases
JP2005500501A (ja) 高温排ガスの冷却方法及び装置並びに燃焼処理装置
US20100068111A1 (en) Joining the mixing and variable gas atomizing of reactive chemicals in flue gas cleaning systems for removal of sulfur oxides, nitrogen oxides and mercury
CN101601965B (zh) Scr法烟气脱硝的喷氨格栅装置,及scr法烟气脱硝工艺
US8083156B2 (en) Dispersion lance and shield for dispersing a treating agent into a fluid stream
EP0024551A2 (en) Process and apparatus for removing sulfur dioxide from industrial waste gas
CZ196896A3 (en) Apparatus for wet purification of combustion products
CN100518888C (zh) 减少燃烧过程中的污染物废气的方法