JPH11174689A - ポジ型感光性平版印刷版の処理方法 - Google Patents

ポジ型感光性平版印刷版の処理方法

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JPH11174689A
JPH11174689A JP33971397A JP33971397A JPH11174689A JP H11174689 A JPH11174689 A JP H11174689A JP 33971397 A JP33971397 A JP 33971397A JP 33971397 A JP33971397 A JP 33971397A JP H11174689 A JPH11174689 A JP H11174689A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 1つには現像処理時に残膜の発生がなく、2
つには印刷時に指紋汚れの発生がなく優れた印刷画像が
得られ、かつ3つには環境適合性及び取り扱い安全性が
改善されたポジ型感光性平版印刷版の処理方法の提供。 【解決手段】 粗面化及び陽極酸化処理が施され、大き
なうねりに小ピットが重畳された二重構造の粗面形状を
有し、かつ小ピットの平均開孔径d1(μm)が0.1
以上3μm以下で、小ピットの平均深さh(μm)と該
平均開孔径d1(μm)の比h/d1が0.2以下である
アルミニウム支持体上にポジ型感光性組成物の層を設け
たポジ型感光性平版印刷版を、珪酸塩を実質的に含まな
い現像液で現像することを特徴とするポジ型感光性平版
印刷版の処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はポジ型感光性平版印
刷版の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、広く使用されているポジ型感
光性平版印刷版(以下ポジ型PS版ともいう)はアルミ
ニウム支持体上にo−キノンジアジド化合物を感光物質
として含有するポジ型感光性組成物の層(以下感光層と
もいう)を設けて得られる。該感光層中に含有されるo
−キノンジアジド化合物は紫外線露光によりカルボン酸
に変化することが知られており、従って、これをアルカ
リ水溶液で現像すると該感光層の露光部のみが除去され
てアルミニウム支持体表面が露出する。もともとアルミ
ニウム支持体の表面は親水性なので、現像により感光層
が除去されてアルミニウム支持体の表面が露出された部
分(非画像部)は給水により水を保持して油性インキを
反発する。一方、現像により感光層が除去されなかった
領域(画像部)は、親油性であり、水を反発し、インキ
が付着するようになる。
【0003】上記ポジ型PS版の感光層には、上記o−
キノンジアジド化合物の結合剤として通常はクレゾール
ノボラック樹脂が用いられてきた。そのため、現像液と
しては、クレゾールノボラック樹脂を溶解可能な強アル
カリ性の珪酸塩を用いることが一般的であった。このよ
うな珪酸塩を含む現像液は、皮膚や粘膜へ付着した場合
の刺激性が強く、取り扱いには十分な注意を必要とし
た。更に、現像処理時にアルミニウム支持体のアルミニ
ウムが現像液に溶解、再析出して版面に付着して画像の
汚れを生じたり、自動現像機のスプレーパイプを詰らせ
る等の問題が生じ易く、珪酸塩を含まない現像液の使用
が望まれている。
【0004】また、アルミニウム支持体の粗面化方法の
一つとして従来電気化学的粗面化処理が主として用いら
れてきた。しかしながら、本発明者等の研究によれば上
記電気化学的粗面化処理のみでは、均一な粗面が得られ
ないことが解ってきた。例えば、塩酸を主として含む電
解液を用いて電気化学的粗面化処理を行った場合は、開
孔径が20μmを越えるような粗大ピットが形成され易
く、かつ3〜20μmのやや大きめのピットが全く形成
されず、かつピットが存在しない平坦な部分も残存し、
その結果不均一な粗面形状しか得られないという問題を
生ずる。また、硝酸を主として含む電解液を用いて電気
化学的粗面化処理を行った場合は、ピットの開孔径の分
布が1〜3μmに集中するため、その範囲では均一な粗
面形状が得られるが、1μm以下の小開孔径のピットや
3〜20μmのやや大きめのピットが生成されず、この
ような粗面形状のアルミニウム支持体をポジ型PS版の
支持体として使用すると、現像で残膜が発生し易く、ま
た、ポジ型PS版刷を処理する際、該ポジ型PS版の非
画線部に指紋が付着した場合、印刷時にこの指紋部にイ
ンキが付着して汚れとなり易いという問題を生ずる。
【0005】そこで、例えば特公平7−98429号公
報には、電解処理時間の途中に複数回の休止時間を設け
ることで粗大ピットの生成を抑制し、良好な粗面形状の
アルミニウム支持体を得る技術が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載の具体的処理方法では、上記電解処理時間の途
中の休止時間が数分に及び、かつ一回の電解処理に消費
する電気量が150C/dm2以上となっている。この
ような処理方法では十分均一な粗面形状が得られず、得
られたアルミニウム支持体をポジ型PS版の支持体とし
て使用した場合、やはり、現像処理時に残膜を生じ易
く、かつ、ポジ型PS版の処理中に非画線部に指紋が付
着した場合、印刷時にこの指紋部にインキが付着して汚
れが発生し易いという問題を生ずる。
【0007】本発明は上記実状に基づいて提案されたも
のであり、その目的とするところは1つには現像処理時
に残膜を生ずることがないポジ型PS版の処理方法を提
供することにある。2つには印刷時に指紋汚れを発生し
ないポジ型PS版の処理方法を提供することにある。3
つには環境適合性及び取り扱い安全性が改善されたポジ
型PS版の処理方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成により達成される。
【0009】1.粗面化処理及び陽極酸化処理が施さ
れ、大きなうねりに小ピットが重畳された二重構造の粗
面形状を有し、かつ小ピットの平均開孔径d1(μm)
が0.1以上3μm以下で、小ピットの平均深さh(μ
m)と該平均開孔径d1(μm)の比h/d1が0.2以
下であるアルミニウム支持体上にポジ型感光性組成物の
層を設けたポジ型感光性平版印刷版を、珪酸塩を実質的
に含まない現像液で現像することを特徴とするポジ型感
光性平版印刷版の処理方法。
【0010】2.前記アルミニウム支持体の大きなうね
りの平均開孔径d2(μm)が3μmを越え、20μm
以下であることを特徴とする前記1に記載のポジ型感光
性平版印刷版の処理方法。
【0011】3.アルミニウム支持体材料表面を順に a.アルカリで溶解処理を行い b.酸で中和し c.酸性電解液中で、途中に0.6〜5秒の休止時間を
設けかつ1回の処理での電気量が100C/dm2以下
になるよう電気化学的粗面化処理を行い d.アルカリで溶解処理を行い e.酸で中和し f.酸性溶液中で陽極酸化処理を行う ことによって製造されたアルミニウム支持体上にポジ型
感光性組成物の層を設けたポジ型感光性平版印刷版を、
珪酸塩を実質的に含まない現像液で現像することを特徴
とするポジ型感光性平版印刷版の処理方法。
【0012】4.前記陽極酸化処理を行ったアルミニウ
ム支持体をさらにアルカリ金属珪酸塩で処理することを
特徴とする前記1〜3の何れか1項に記載のポジ型感光
性平版印刷版の処理方法。
【0013】5.前記珪酸塩を実質的に含まない現像液
が糖類を含有することを特徴とする前記1〜4の何れか
1項に記載のポジ型感光性平版印刷版の処理方法。
【0014】以下、本発明を詳細に説明する。
【0015】〈支持体の構成〉本発明に用いられるアル
ミニウム支持体は、純アルミニウムを用いたアルミニウ
ム支持体材料又はアルミニウム合金を用いたアルミニウ
ム支持体材料から得られる。該アルミニウム合金を用い
たアルミニウム支持体材料には、例えば珪素、銅、マン
ガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウ
ムとの合金が用いられ、該アルミニウム支持体の表面は
大きなうねりに小ピットが重畳された二重構造の粗面形
状を有している。図1および図2は上記アルミニウム支
持体の一例を示す拡大断面図であり、図2は図1の一部
をさらに拡大したものである。1は小ピット、2は大き
なうねりを表し、d1(μm)は小ピット1の平均開孔
径、h(μm)は平均深さ、d2(μm)は大きなうね
り2の平均開孔径を表す。図中小ピットの平均開孔径d
1(μm)が0.1以上3μm以下で、該小ピットの平
均深さh(μm)と平均開孔径d1(μm)の比が0.
2以下であることを本発明の必須の要件としている。本
発明に用いられるアルミニウム支持体の表面を上記構成
の粗面形状とすることにより、該アルミニウム支持体上
に感光層を設けてポジ型PS版を形成し、露光処理及び
現像処理したとき、残膜や、指紋汚れを生ずることがな
く、良質の印刷画像が得られ、また、該アルミニウム支
持体の表面が上記構成の粗面形状を有していない場合は
上記効果が発揮されない。
【0016】また、上記アルミニウム支持体の表面の大
きなうねりの平均開孔径d2(μm)は3μmを越え、
20μm以下とするのが好ましく、該大きなうねりの平
均開孔径が上記範囲外の場合はやはり残膜や、指紋汚れ
を生じ易くなる。
【0017】〈支持体の処理〉アルミニウム支持体を得
るための上記アルミニウム支持体材料は、強固な汚れや
自然酸化皮膜を除去する等のため、苛性ソーダ等のアル
カリ水溶液を用いて溶解処理が行われ、溶解処理後の残
留アルカリ成分を中和するため、燐酸、硝酸、硫酸、塩
酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬して中和
処理が行われる。なお、必要により上記アルミニウム支
持材料表面の油脂、錆、ごみなどを除去するため、トリ
クレン、シンナー等による溶剤脱脂、ケロシン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いてエマルジョン脱脂処
理を行ってもよい。
【0018】上記アルカリ水溶液を用いた溶解処理及び
酸による中和処理の次には後記電気化学的粗面化処理が
行われるが、中和処理に使用する酸の種類および組成を
電気化学的粗面化処理に使用する酸のそれに合わせるこ
とが特に好ましい。
【0019】上記アルカリ水溶液を用いた溶解処理に先
だって、機械的粗面化処理が行われてもよい。機械的粗
面化処理の方法は特に限定されないが、ブラシ研磨、ホ
ーニング研磨が好ましい。ブラシ研磨では、例えば毛径
0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した円筒状ブラシを回
転し、接触面に研磨材を水に分散させたスラリーを供給
しながらアルミニウム支持体材料表面に押しつけて粗面
化処理を行う。ホーニング研磨では、研磨材を水に分散
させたスラリーをノズルより圧力をかけて射出し、アル
ミニウム支持体材料表面に斜めから衝突させて粗面化処
理を行う。さらに、予め粗面化処理されたシートをアル
ミニウム支持体材料表面に張り合わせ、圧力をかけて粗
面パターンを転写することにより機械的粗面化処理を行
うこともできる。
【0020】なお、上記機械的粗面化処理を行う場合
は、特に上記溶剤脱脂処理又はエマルジョン脱脂処理を
省略することができる。
【0021】上記(必要により脱脂処理)アルカリ溶解
処理及び酸による中和処理を行った後、アルミニウム支
持体材料の表面は酸性電解液中で交流電流を用いて電気
化学的粗面化処理が行われる。本発明では該酸性電解液
中での電気化学的粗面化処理の過程で0.6〜5秒の休
止時間を設け、かつ1回の電気化学的粗面化処理の電気
量を100C/dm2以下とすることを必須の要件とし
ている。上記のように電気化学的粗面化処理を複数回に
分けて行う場合は、上記休止時間が0.6秒未満で、か
つ1回の電気化学的粗面化処理の電気量が100C/d
2を越えると開孔径が20μmより大きい粗大ピット
の生成を抑制することができず、また、上記休止時間が
5秒を越えるとアルミニウム支持体の製造に時間がかか
り過ぎて生産性が悪くなる。
【0022】上記電気化学的粗面化処理の電解液として
は、塩酸、硝酸等が用いられるが、塩酸がより好まし
い。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン
類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚
酸等を加えることができるが、酢酸が特に好ましい。電
気化学的粗面化処理において印加される電圧は、1〜5
0Vが好ましく、5〜30Vが更に好ましい。電流密度
(ピーク値)は、10〜200A/dm2が好ましく、
20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量は、全
処理工程を合計して100〜2000C/dm2が好ま
しく、200〜1000C/dm2が更に好ましい。温
度は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好
ましい。
【0023】また、塩酸濃度は0.1〜5重量%が好ま
しく、電解に使用する電流波形は正弦波、矩形波、台形
波、鋸歯状波等、求める粗面化形状により適宜選択され
るが、特に正弦波が好ましい。電気化学的粗面化処理さ
れたアルミニウム支持体材料は、表面のスマット等を除
去したり、粗面のピット形状をコントロールする等のた
めに酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面のエッチ
ング処理が行われる。上記酸としては、例えば硫酸、過
硫酸、フッ酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、上記アル
カリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等が含まれる。これらの中でも、アルカリの水溶液
を用いるのが好ましく、該アルカリの0.05〜40%
水溶液を用い20〜90℃の液温において5秒〜5分処
理するのがよく、該アルカリの水溶液で表面をエッチン
グした後に、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或い
はそれらの混酸に浸漬して中和処理が行なわれる。
【0024】上記中和処理が行われたアルミニウム支持
体材料はさらに陽極酸化処理されて本発明のアルミニウ
ム支持体が得られる。ここで、中和に使用する酸の種類
を陽極酸化処理に使用する酸のそれに合わせることが特
に好ましい。
【0025】上記陽極酸化処理に用いられる電解液とし
ては多孔質酸化皮膜を形成するものであれば如何なる電
解液でもよいが、一般には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等、或るいは
これらの2種類以上を組み合わせた混酸が用いられる。
陽極酸化の処理条件は使用する電解液により種々変化す
るので一概に特定することはできないが、一般的には、
電解液の濃度が1〜80重量%、温度5〜70℃、電流
密度1〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲が適当である。好ましいのは硫酸法
で、通常直流電流で処理が行われるが、交流を用いるこ
ともできる。ここで、硫酸の濃度は10〜50重量%、
温度20〜50℃、電流密度1〜20A/dm2で10
秒〜5分間電解処理されるのが好ましく、また電解液中
にはアルミニウムイオンが含まれているのが好ましい。
【0026】上記陽極酸化処理して得られたアルミニウ
ム支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。封孔
処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソー
ダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸
アンモニウム塩処理等の公知の方法を用いて行うことが
できる。
【0027】上記陽極酸化処理あるいは陽極酸化処理に
引き続いて封孔処理して得られたアルミニウム支持体に
は親水性層を設けてもよい。親水性層の形成には、米国
特許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ金
属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書に記
載の親水性セルロース、特公平6−94234号公報、
特公平6−2436号公報に記載のアミノ酸及びその
塩、特公平5−32238号公報に記載の水酸基を有す
るアミン類及びその塩、特開昭62−19494号公報
に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に記
載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合物
等を用いることができる。
【0028】さらに、複数のポジ型PS版を重ねたとき
の感光層への擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭
50−151136号、特開昭57−63293号、特
開昭60−73538号、特開昭61−67863号、
特開平6−35174号等の各号公報に記載されてい
る、支持体裏面に保護層を設ける処理を行うことができ
る。
【0029】かくして本発明の請求項1でいう前記大き
なうねりに小さなピットが重畳された二重構造の粗面形
状を有するアルミニウム支持体は、上記0.6〜5秒間
の休止時間を設け、かつ1回の粗面化処理の電気量を1
00C/dm2以下とした電気化学的粗面化処理工程を
含む請求項3の処理方法を用いて処理することによって
初めて得られる。
【0030】〈ポジ型感光性組成物〉上記アルミニウム
支持体上にはポジ型感光性組成物が塗布加工されて本発
明のポジ型PS版が得られ、該ポジ型感光性組成物とし
は、従来より公知のものを用いることができるが、例え
ば特開平7−314937号公報等に記載のものが好ま
しく用いられる。
【0031】《感光性物質》上記ポジ型感光性組成物に
含有される感光性物質としてはo−ナフトキノンジアジ
ド化合物が好ましく、例えば、特公昭43−28403
号公報に記載されている1,2−ジアゾナフトキノンス
ルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂との
エステル、もしくは1,2−ジアゾナフトキノンスルホ
ン酸クロライドと2,3,4−トリヒドロキシベンゾフ
ェノンとのエステルが好ましい。その他の好適なo−ナ
フトキノンジアジド化合物としては、米国特許第3,0
46,120号及び同第3,188,210号明細書中
に記載されている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂との
エステルがある。その他の有用なo−ナフトキノンジア
ジド化合物としては、数多くの特許に報告され、知られ
ているものを用いることができる。例えば、特開昭47
−5303号、同昭48−63802号、同昭48−6
3803号、同昭48−96575号、同昭49−38
701号、同昭48−13354号、特公昭41−11
222号、同昭45−9610号、同昭49−1748
1号の各号公報、米国特許第2,797,213号、同
第3,454,400号、同第3,544,323号、
同第3,573,917号、同第3,674,495
号、同第3,785,825号、英国特許第1,22
7,602号、同第1,251,345号、同第1,2
67,005号、同第1,329,888号、同第1,
330,932号、ドイツ特許第854,890号等の
各号明細書中に記載されているものを挙げることができ
る。また、o−ナフトキノンジアジド化合物以外のポジ
型に作用する感光性物質としては、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物も本発明に使用
することができる。
【0032】さらに光分解により酸を発生する化合物
と、酸により解離するC−O−C基又はC−O−Si基
を有する化合物との混合物も感光性物質として本発明に
使用することができる。例えば光分解により酸を発生す
る化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物
との組合せ(特開昭48−89003号公報)、オルト
エステル又はアミドアセタール化合物との組合せ(特開
昭51−120714号公報)、主鎖にアセタール又は
ケタール基を有するポリマーとの組合せ(特開昭53−
133429号公報)、エノール型エーテル化合物との
組合せ(特開昭55−12995号公報)、N−アシル
イミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭55−12623
6号公報)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマー
との組合せ(特開昭56−17345号公報)、シリル
エステル化合物との組合せ、シリルエーテル化合物との
組合せ(特開昭60−37549号公報、特開昭60−
121446号公報)などが挙げられる。これらのポジ
型に作用する感光性物質は、組成物の全重量を基準とし
て、好ましくは5〜80重量%、より好ましくは10〜
50重量%の量で、感光性組成物中に含まれる。
【0033】《結合剤》o−キノンジアジド化合物は単
独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可溶な樹脂を
結合剤として共に使用することが好ましい。このような
アルカリ水に可溶性の樹脂としては、ノボラック樹脂が
あり、例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、又はm−
/p−,m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホルム
アルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂
などが挙げられる。
【0034】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適な結合剤として以下
(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体を挙げることが
できる。
【0035】(1)芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又
はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p
−ヒドロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレー
ト、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル
類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、又は2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、(3)アクリル酸、メタクリル酸、無
水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸、
(4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメ
チルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルア
クリレート、(5)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、グリ
シジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタ
クリレート等の(置換)アルキルメタクリレート、
(6)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類、(7)エチルビニルエーテ
ル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニ
ルエーテル等のビニルエーテル類、(8)ビニルアセテ
ート、ビチルクロロアセテート、ビニルブチレート、安
息香酸ビニル等のビニルエステル類、(9)スチレン、
α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレ
ン類、(10)メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等の
ビニルケトン類、(11)エチレン、プロピレン、イソ
ブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、
(12)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等、(13)N−(o−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ)ス
ルホニルフェニルメタクリルアミド、N−(1−(3−
アミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−
(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミド等の
メタクリルアミド類、及び上記と同様の置換基を有する
アクリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、1−(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類、及び上記と同様の
置換基を有するアクリル酸エステル類などの不飽和スル
ホンアミド、更に、特開平7−36184号公報に記載
された下記一般式(1)で示されるカルボン酸基を有す
るN−フェニルアクリルアミド又はメタクリルアミド、
および特開平7−261394号公報に記載された下記
一般式(2)で示される活性イミノ基を有する構造単位
を重合して得られる高分子化合物も用いることができ
る。
【0036】
【化1】
【0037】式(1)中、Aは、水素原子、ハロゲン原
子又はアルキル基を表し、Xは酸素原子、NH又はN−
5(ここでR5はアルキル基を表す)を表し、R1
2,R3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、−OR6、−OCO−R7、−NHCO−
8、−NHCONHR9、−OCONH−R10、−CO
OR11、−CONHR12、−COR13、−CONR14
15、−CN、もしくは−CHO基を表すか、又はR 1
2,R3及びR4は、そのうちの2個が結合して環を形
成してもよく、R6〜R15はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、又は置換アリール基を表す。但し、R
1,R2,R3及びR4の内の少なくとも1つは水素原子以
外の基を表す。また、R5としては、炭素数1〜6個の
アルキル基、より好ましくは1〜4個のアルキル基を挙
げることができる。
【0038】
【化2】
【0039】式(2)中、A′は水素原子、ハロゲン原
子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R16は炭素数
1〜6のアルキル基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の
アルコキシ基を表す。mは1〜5の整数を表す。さら
に、上記の種々のモノマーと共重合し得るモノマーを共
重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合によっ
て得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート等によって修飾したものも
含まれるがこれらに限られるものではない。さらに、上
記共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価
の値は0〜3meq/g、さらに好ましくは、0.5〜
2.5meq/gである。
【0040】上記共重合体の好ましい分子量は1〜10
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂を添加してもよい。このようなアルカ
リ可溶性の高分子化合物は、1種類あるいは2種類以上
組みあわせることができ、全組成物の80重量%以下の
添加量で用いられる。
【0041】《結合剤の代表的な合成例》次に本発明に
用いる感光性組成物に含有される結合剤の代表的な合成
例としては、例えば以下のものがある。N−(p−トル
エンスルホニル)メタクリルアミドの60.3g、アク
リロニトリルの10.0g及びエチルアクリレートの4
6.0gをジメチルホルムアミドの232.6gに溶解
し、窒素気流下、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチ
ルバレロニトリル)0.224gを重合開始剤として用
い、65℃で7時間攪拌した。反応液を放冷した後、水
5リットル中に再沈した。析出したポリマーを濾取し、
乾燥することで110.4g(収率95%、Mw52,
000)の結合剤を得た。
【0042】さらには、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
合物を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好
ましい。
【0043】《添加剤》さらに、本発明に用いる感光性
組成物中には、以下の添加剤を添加することができる。
例えば感度を高めるための環状酸無水物、露光後直ちに
可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料
やその他のフィラーなどを加えることができる。環状酸
無水物としては米国特許第4,115,128号明細書
に記載されているような無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を、組成
物の全重量を基準として、1〜15重量%含有させるこ
とによって感度を最大3倍程度に高めることができる。
露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては、露
光によって酸を放出する感光性物質と塩を形成し得る有
機染料の組合わせを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−
8128号公報に記載されているo−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合わせや特開昭53−36223号公報、特開昭54
−74728号公報、特開昭63−58440号公報、
欧州特許出願公開第0505903A明細書に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
わせをあげることができる。画像着色剤としては、前記
の塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができ
る。塩形成性有機染料を含む好適な染料としては、種々
の油溶性染料及び塩基染料を挙げることができる。具体
的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#1
30、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オ
イルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラ
ックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−5
05(以上、オリエント化学工業(株)社製)、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット(CI4
2600)、ローダミンB(CI45170B)、マラ
カイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー
(CI52015)などを挙げることができる。中でも
特開昭62−293247号公報に記載されている染料
は特に好ましい。
【0044】また、塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類(例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス)、フッ素系界面活性剤類(例えば特開昭62−17
0950号公報に記載のものが好ましい)、及びノニオ
ン系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好まし
い)、塗膜の柔軟性及び耐摩耗性を付与するための可塑
剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、
クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン
酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又
はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で特
にリン酸トリクレジルが好ましい)、画像部感脂性を向
上させるための感脂化剤(例えば、特開昭55−527
号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアル
コールによるハーフエステル化物、オクチルフェノール
ホルムアルデヒドノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチ
レンの50%脂肪酸エステル化物等)等が好ましく用い
られる。これらの添加剤の添加量はその使用目的によっ
て異なるが、一般に組成物中の全固形分に対して、0.
01〜30重量%である。
【0045】《溶媒》本発明に用いる感光性組成物を上
記の各成分を溶解し得る溶媒に溶かして支持体上に塗布
し、塗膜を乾燥することにより、感光層を形成すること
ができる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエ
ン、酢酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用することができる。そして、上記成分の
溶液中の濃度(固形分)は、2〜50重量%が好まし
い。また、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性
平版印刷版についていえば、一般的に固形分として0.
5〜3.0g/m2が好ましい。塗布量が少なくなるに
つれ感光性は大になるが、感光層の塗膜の物性、例えば
機械的強度、感脂性等が低下する。
【0046】本発明のポジ型PS版は前記アルミニウム
支持体上に上記ポジ型感光性組成物を塗布加工して得ら
れ、得られた該ポジ型PS版は、通常、真空焼枠中で、
透明ポジフイルムを通して、例えばメタルハライドラン
プ等により露光して焼き付けられた後、下記現像液を用
いて現像される。
【0047】〈現像液〉本発明のポジ型PS版の処理方
法に用いられる現像液はアルカリ水溶液であるが、珪酸
塩を実質的に含まない(現像液中の含有量が0.1重量
%以下)ことが必須の要件とされる。その理由は、前記
したように珪酸塩を含有する現像液を用いて現像すると
現像処理時にアルミニウム支持体のアルミニウムが現像
液に溶解、再析出して印刷版面に付着して画像の汚れを
生じたり、自動現像機のスプレーパイプを詰まらせる等
の障害を生ずるからである。そこで本発明の処理方法に
用いられる現像液の好ましいアルカリ剤としては、例え
ば第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3リ
ン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸
カリウム、第3リン酸アンモニウムなどのリン酸塩、炭
酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムなどの炭酸塩、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウ
ム、ホウ酸アンモニウムなどのホウ酸塩、及び水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ア
ンモニウムなどのアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
特に好ましいものとしては炭酸塩と炭酸水素塩の組み合
わせである。これらは単独又は混合して用いられる。ま
た別のアルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノ
ールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリ
ジンなどのような水溶性有機アミン化合物が挙げられ
る。これらのうち特にモノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン等が好ましく、無機
アルカリ金属塩などと組み合わせて使用してもよい。
【0048】これらのアルカリ剤の水溶液中の濃度は、
一般的には0.05〜10重量%の範囲から選ぶことが
できる。また必要に応じて、現像液中にアニオン界面活
性剤を加えてもよい。アニオン界面活性剤としては例え
ば、ラウリルアルコールスルフェートのナトリウム塩、
オクチルアルコールスルフェートのナトリウム塩、ラウ
リルアルコールスルフェートのアンモニウム塩、第2ナ
トリウムアルキルスルフェートなどの炭素数8〜22の
高級アルコール硫酸エステル塩類、例えばセチルアルコ
ール燐酸エステルのナトリウム塩などのような脂肪族ア
ルコール燐酸エステル塩類、例えばドデシルベンゼンス
ルホン酸のナトリウム塩、イソプロピルナフタレンスル
ホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸
のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン
酸塩類、例えばC1733CON(CH3)CH2CH2
3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩
類、例えばナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステ
ル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなど
の二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類などが含ま
れる。アニオン界面活性剤は、使用時の現像液の総重量
に対して0.1〜5重量%の範囲で含有させておくこと
が適当である。0.1重量%よりも少なくなるとその使
用効果が低くなり、5重量%よりも多くなると、画像部
の色素の溶出(色抜け)が過多になったり、画像の耐摩
耗性などの機械的、化学的強度が劣化するなどの弊害が
でてくる。
【0049】また、ベンジルアルコール等の水と混合し
うるような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機溶媒
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば1−フェニルエタノール、2−フェニルエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、4−メチルシクロヘキサノール及び3−メチルシ
クロヘキサノール等を挙げることができる。有機溶媒の
含有量は使用時の現像液の全重量に対して1〜5重量%
が好適である。その使用量は、アニオン界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、
アニオン界面活性剤の量を増加させることが好ましい。
これはアニオン界面活性剤の量が少ない状態で有機溶媒
の量を多く用いると、有機溶媒が溶解せず、従って良好
な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【0050】また、さらに必要に応じ、消泡剤、糖類及
び硬水軟化剤のような添加剤を現像液中に含有させるこ
ともできる。
【0051】消泡剤としては例えば、特開平2−244
143号公報記載の鉱物油、植物油、アルコール、界面
活性剤、シリコーン等が挙げられる。糖類としてはアル
カリ中でも安定な非還元糖が好ましく用いられる。かか
る非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持た
ず、還元性を示さない糖であり、還元基同士の結合した
トレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合し
た配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコー
ルに分類され、何れも本発明に好適に用いられる。トレ
ハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースが
あり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配
糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また、糖アル
コールとしてはD,L−アラビット、リビット、キシリ
ット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,
L−イジット、D,L−タリット、ズシリット、および
アロズルシットなどが挙げられる。
【0052】更に二糖類の水素添加で得られるマルチト
ールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元
水あめ)が好適に用いられる。
【0053】ここで、本発明の処理方法で用いる現像液
中に上記糖類(好ましくは非還元糖)を含有させること
は、多数枚のポジ型PS版の安定処理を可能とするため
特に好ましい。このことは、上記糖類が現像液に適度な
pH領域で緩衝作用を付与するためと推察される。
【0054】硬水軟化剤としては、例えばNa2
27、Na533、Na339、Na24P(NaO
3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリウ
ム)などのポリ燐酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ
酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレン
トリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム
塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジア
ミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニ
トリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;
1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他、2−ホ
スホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタントリカル
ボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2、
そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエ
タン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、その
カリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホ
ン酸類を挙げることができる。このような硬水軟化剤の
最適量は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じ
て変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.0
1〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量%
の範囲で含有させられる。
【0055】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが本発明の実施の態様がこれにより限定されるもので
はない。
【0056】[実施例1〜12、比較例1〜8] 〈支持体1A〜5A、7A及び支持体1B〜6Bの調
製〉厚さ0.24mmのJIS1050のアルミニウム
支持体材料を、50℃に保たれた1%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶
解処理を行い水洗した後、次に行う電気化学的粗面化処
理で使用する電解液と同組成の水溶液に10秒間浸漬
し、中和処理した後水洗した。
【0057】次いでこのアルミニウム支持体材料を、電
流密度50A/dm2、正弦波交流を用いて表1に示し
た条件(電解液組成、1回当たりの処理電気量、電解処
理回数、休止時間)で電気化学的粗面化処理を行った。
該電気化学的粗面化処理後は、50℃に保たれた1%水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、溶解量が2g/m
2になるようにアルカリ溶解処理し、さらに水洗した
後、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10秒間浸
漬して中和処理し、その後水洗した。
【0058】次いで、20%硫酸水溶液中で、直流を用
い、温度25℃、電流密度5A/dm2で陽極酸化皮膜
重量が2.0g/m2となるよう陽極酸化処理した後、
水洗、乾燥して7種類のアルミニウム支持体(支持体1
〜7)を得た。こうして得られたアルミニウム支持体表
面の、大きなうねりの平均開孔径d2(μm)、小ピッ
トの平均開孔径d1(μm)及び小ピットの平均深さh
(μm)と平均開孔径d1(μm)との比h/d1を後述
の方法により測定し、その結果を表1に示した。
【0059】その後、表2の珪酸ナトリウム処理の項に
示すように、場合に応じて70℃の2.5%珪酸ナトリ
ウム水溶液で1分間処理し、水洗乾燥して、上記支持体
1〜5、7のそれぞれを珪酸ナトリウム処理無し(支持
体1A〜5A、7A)、及び上記支持体1〜6のそれぞ
れを珪酸ナトリウム処理有り(支持体1B〜6B)の1
2種類のアルミニウム支持体を得た。
【0060】〈大きなうねりの平均開孔径d2(μ
m)、小ピットの平均開孔径d1(μm)及び小ピット
の平均深さh(μm)と平均開孔径d1(μm)との比
h/d1の測定〉いずれもアルミニウム支持体表面のS
EM写真を撮影して測定した。
【0061】大きなうねりの平均開孔径d2(μm)に
ついては、1000倍のSEM写真を用い、輪郭が明確
に判別できるうねり1個づつの長径と短径とを測定して
その平均をうねりの開孔径とし、該SEM写真中で測定
した大きなうねりの開孔径の和を、測定した大きなうね
り数で割って求めた。また、小ピットの平均開孔径d1
(μm)については5000倍のSEM写真を用い、大
きなうねりの場合と同様の手法で求めた。
【0062】小ピットの平均深さh(μm)と平均開孔
径d1(μm)との比h/d1は、断面の5000倍〜2
0000倍のSEM写真を用いて、断面がピットのほぼ
中央を分断しているピットを選んで測定した。
【0063】
【表1】
【0064】〈ポジ型PS版1A〜5A、7A及びポジ
型PS版1B〜6Bの調整〉次に上記12種類のアルミ
ニウム支持体に下記組成の感光性組成物塗布液をワイヤ
ーバーを用いて塗布し、100℃で1分間乾燥して12
種類のポジ型PS版を得た。乾燥後の塗布量は約1.8
g/m2であった。
【0065】 《ポジ型感光性組成物》 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドと2,3,4− トリヒドロキシベンゾフェノンとのエステル化反応物 0.5g フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量:2300)2.0g 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S− トリアジン 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド0.03g クリスタルバイオレット 0.01g オイルブルー#603(オリエント化学工業株式会社製) 0.015g エチレンジクロリド 18g 2−メトキシエチルアセテート 12g 上記のようにして得られた12種類のポジ型PS版を、
真空焼枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの
距離から3kWのメタルハライドランプを用いて50秒
間露光を行った後、表2に示すように上記12種類のポ
ジ型PS版と下記処方の6種類の現像液(現像液A、
B、C、D、E、F)との組み合わせでそれぞれ25℃
で30秒間現像処理して、実施例1〜12及び比較例1
〜8の20種類のオフセット印刷テストを行い、下記評
価方法により残膜と指紋汚れの評価を行い、その結果を
表2に示した。
【0066】 〈現像液A(pH約12.4)〉 還元水あめ(70%水溶液、「商品名アマミン500」、協和発酵工業 (株)社製) 11.3重量% 水酸化ナトリウム 0.40重量% ポリオキシエチレン(付加モル数25)ジグリセリルエーテル 0.03重量% 水 88.1重量% 〈現像液B(pH約12.8)〉 D−ソルビトール 5.1重量% 水酸化ナトリウム 1.0重量% エチレンジアミンのポリオキシエチレン付加物(エチレンオキシド付加 モル数30) 0.05重量% 水 93.8重量% 〈現像液C(pH約12.4)〉 D−サッカロース 4.8重量% 水酸化ナトリウム 0.34重量% 炭酸ナトリウム 0.70重量% ポリオキシエチレン(付加モル数25)ジグリセリルエーテル 0.05重量% 水 95.26重量% 〈現像液D(pH約12.7)〉 D−サッカロース 5.0重量% 水酸化ナトリウム 0.60重量% 炭酸ナトリウム 0.50重量% ポリオキシエチレン(付加モル数25)ジグリセリルエーテル 0.05重量% 水 93.8重量% 〈現像液E(pH約12.3)〉 〔SiO2〕/〔NaO〕モル比1.7でSiO2が1.4重量%の珪酸 ナトリウム水溶液 100重量部 エチレンジアミンのポリエチレン付加物(エチレンオキシド付加モル数30) 0.03重量部 〈現像液F(pH約12.7)〉 〔SiO2〕/〔NaO〕モル比1.3でSiO2が1.4重量%の珪酸 ナトリウム水溶液 100重量部 ポリオキシエチレン(付加モル数25)ジグリセリルエーテル 0.05重量部 〈残膜の評価方法〉現像後のポジ型PS版の非画線部の
紫外線反射強度をSpectrophotometer
U−3210(日立(株)社製)を用いて測定した。
即ち280nm及び500nmにおける測定値(ab
s)を求め、Δabs=[280nmにおける測定値]
−[500nmにおける測定値]を算出し、得られた値
(Δabs)を残膜の程度の指標とした。この値が小さ
いほど残膜が少ないことを示しており、0.05以下で
あれば問題ない。
【0067】〈指紋汚れの評価方法〉現像によって得ら
れたポジ型PS版の非画線部に指を押しつけて指紋を付
着させた後、インキ「ハイプラスM紅」(東洋インキ製
造(株)社製)、湿し水「エッチ液SG−51」(東京
インキ(株)社製)を用い、印刷機「DAIYA1F−
1」(三菱重工(株)社製)でコート紙に印刷を行い、
版上の指紋部に付いたインキがブランケットを通じて紙
に転写したことに起因する指紋跡を目視により、以下の
指標で評価した。
【0068】○:指紋跡なし、△:部分的に指紋跡が認
められる、×:指紋跡が完全な形で認められる。
【0069】
【表2】
【0070】表2から本発明のポジ型PS版の処理方法
では、該ポジ型PS版の現像処理時や印刷時に残膜や指
紋汚れの発生がなく、優れた印刷画像が得られるが、比
較のポジ型PS版の処理方法では現像処理時や印刷時に
上記残膜や指紋汚れの発生が著しく、実用性に乏しいこ
とが解る。
【0071】
【発明の効果】実施例により実証されたように、本発明
のポジ型PS版の処理方法によれば、1つには現像処理
時に残膜の発生がなく、2つには印刷時に指紋汚れの発
生がなく優れた印刷画像が得られ、かつ3つには環境適
合性及び取り扱い安全性が改善される等、優れた効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】アルミニウム支持体の拡大断面図である。
【図2】図1の1部をさらに拡大した拡大断面図であ
る。
【符号の説明】
1 小ピット 2 大きなうねり d1 小ピット1の平均開孔径 h 小ピット1の平均深さ d2 大きなうねり2の平均開孔径

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粗面化処理及び陽極酸化処理が施され、
    大きなうねりに小ピットが重畳された二重構造の粗面形
    状を有し、かつ小ピットの平均開孔径d1(μm)が
    0.1μm以上3μm以下で、小ピットの平均深さh
    (μm)と該平均開孔径d1(μm)の比h/d1が0.
    2以下であるアルミニウム支持体上にポジ型感光性組成
    物の層を設けたポジ型感光性平版印刷版を、珪酸塩を実
    質的に含まない現像液で現像することを特徴とするポジ
    型感光性平版印刷版の処理方法。
  2. 【請求項2】 前記アルミニウム支持体の大きなうねり
    の平均開孔径d2(μm)が3μmを越え、20μm以
    下であることを特徴とする請求項1に記載のポジ型感光
    性平版印刷版の処理方法。
  3. 【請求項3】 アルミニウム支持体材料表面を順に a.アルカリで溶解処理を行い b.酸で中和し c.酸性電解液中で、途中に0.6〜5秒の休止時間を
    設けかつ1回の処理での電気量が100C/dm2以下
    になるよう電気化学的粗面化処理を行い d.アルカリで溶解処理を行い e.酸で中和し f.酸性溶液中で陽極酸化処理を行う ことによって製造されたアルミニウム支持体上にポジ型
    感光性組成物の層を設けたポジ型感光性平版印刷版を、
    珪酸塩を実質的に含まない現像液で現像することを特徴
    とするポジ型感光性平版印刷版の処理方法。
  4. 【請求項4】 前記陽極酸化処理を行ったアルミニウム
    支持体をさらにアルカリ金属珪酸塩で処理することを特
    徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のポジ型感光
    性平版印刷版の処理方法。
  5. 【請求項5】 前記珪酸塩を実質的に含まない現像液
    が、糖類を含有することを特徴とする請求項1〜4の何
    れか1項に記載のポジ型感光性平版印刷版の処理方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7029820B2 (en) 2001-10-05 2006-04-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate
WO2011125913A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7029820B2 (en) 2001-10-05 2006-04-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate
WO2011125913A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
JP2011227499A (ja) * 2010-03-31 2011-11-10 Fujifilm Corp 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
CN102834779A (zh) * 2010-03-31 2012-12-19 富士胶片株式会社 用于处理平版印刷版原版的显影液,通过使用显影液制备平版印刷版的方法和印刷方法
US8846300B2 (en) 2010-03-31 2014-09-30 Fujifilm Corporation Developer for processing lithographic printing plate precursor, method for manufacturing lithographic printing plate by using the developer, and printing method

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