JPH11172454A - 金属膜の形成方法 - Google Patents
金属膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH11172454A JPH11172454A JP34342997A JP34342997A JPH11172454A JP H11172454 A JPH11172454 A JP H11172454A JP 34342997 A JP34342997 A JP 34342997A JP 34342997 A JP34342997 A JP 34342997A JP H11172454 A JPH11172454 A JP H11172454A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- contg
- film
- metal film
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空装置のような大がかりな装置を使用せ
ず、簡単な装置で、基材の種類を問わず、良好な膜質の
金属膜を形成する方法を提供する。 【解決手段】 ガラス、セラミックス、金属、耐熱性プ
ラスチックスまたはこれら材料の複合体の基材表面に金
属膜を形成させる方法において、少なくとも１種類の金
属を含む有機化合物の分散体と前記基材とを接触させ、
これを乾燥・焼成し、前記有機化合物を熱分解させるこ
とにより該金属からなる金属膜を前記基材表面に形成さ
せることを特徴とする金属膜の形成方法。
ず、簡単な装置で、基材の種類を問わず、良好な膜質の
金属膜を形成する方法を提供する。 【解決手段】 ガラス、セラミックス、金属、耐熱性プ
ラスチックスまたはこれら材料の複合体の基材表面に金
属膜を形成させる方法において、少なくとも１種類の金
属を含む有機化合物の分散体と前記基材とを接触させ、
これを乾燥・焼成し、前記有機化合物を熱分解させるこ
とにより該金属からなる金属膜を前記基材表面に形成さ
せることを特徴とする金属膜の形成方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はガラス、セラミッ
クス、金属、耐熱性プラスチックスまたはこれら材料の
複合体の基材表面に金属膜を形成させる新規な方法であ
り、本発明の方法で形成された金属膜（または金属薄
膜）は従来技術で作製した金属膜部品または材料と同じ
ように利用することができる。
クス、金属、耐熱性プラスチックスまたはこれら材料の
複合体の基材表面に金属膜を形成させる新規な方法であ
り、本発明の方法で形成された金属膜（または金属薄
膜）は従来技術で作製した金属膜部品または材料と同じ
ように利用することができる。
【０００２】
【従来の技術】金属膜または金属薄膜を形成させる方法
としては、溶融めっき、真空めっき、電解めっ
き、無電解めっきの４種類に大別することができる。
としては、溶融めっき、真空めっき、電解めっ
き、無電解めっきの４種類に大別することができる。
【０００３】溶融めっきは金属材料からなる基材を溶融
金属に浸漬し、溶融金属を基材表面にめっきする方法で
ある。真空めっきは真空蒸着、スパッタリング、イオン
プレーティングなどのように真空中で生成させた金属蒸
気または金属イオンを基材（ターゲット）に衝突させて
金属薄膜を成膜させる方法である。電解めっきは金属イ
オンを含む水溶液中に配置した陽極と陰極間に電流を流
し、該金属イオンを電気的に還元し、陰極表面に金属を
析出させる方法である。無電解めっきは電流を流すこと
なくめっきする方法で、この方法には貴金属塩水溶液中
に卑金属材料からなる基材を浸漬し、卑金属基材表面に
貴金属を析出させる置換めっきと、ニッケルイオン、コ
バルトイオンや銅イオンなどを含む水溶液に次亜リン酸
ナトリウムまたはホウ水素化ナトリウムを加え、加温す
ることにより前記金属イオンを還元して基材表面に析出
させる化学めっきがある。
金属に浸漬し、溶融金属を基材表面にめっきする方法で
ある。真空めっきは真空蒸着、スパッタリング、イオン
プレーティングなどのように真空中で生成させた金属蒸
気または金属イオンを基材（ターゲット）に衝突させて
金属薄膜を成膜させる方法である。電解めっきは金属イ
オンを含む水溶液中に配置した陽極と陰極間に電流を流
し、該金属イオンを電気的に還元し、陰極表面に金属を
析出させる方法である。無電解めっきは電流を流すこと
なくめっきする方法で、この方法には貴金属塩水溶液中
に卑金属材料からなる基材を浸漬し、卑金属基材表面に
貴金属を析出させる置換めっきと、ニッケルイオン、コ
バルトイオンや銅イオンなどを含む水溶液に次亜リン酸
ナトリウムまたはホウ水素化ナトリウムを加え、加温す
ることにより前記金属イオンを還元して基材表面に析出
させる化学めっきがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、真空め
っきのような大がかりな装置を用いることなく、ガラ
ス、セラミックス、金属、耐熱性プラスチックスまたは
これら材料の複合体からなる基材の表面に良好な膜質の
金属膜を形成させる新たな方法の開発を検討した。しか
しながら、従来の方法である溶融めっきでは基材が金属
に限定される。また、形成された金属膜の膜厚の均一性
も悪いという欠点もある。真空めっきは膜質および膜厚
の均一性の良好な金属膜を得ることができるという長所
がある。しかしその反面、閉空間で行われるから大きな
基材上に金属膜を成膜させるには大がかりな装置を用い
る必要があり、多大の投資が必要となるとともに高真空
の維持管理がますます困難となる。即ち、この方法では
製品のコスト低減が難しい。電解めっきは膜質および膜
厚の均一性の良好な金属膜が得られるが、めっきできる
のは陰極の金属部に限られるという欠点がある。無電解
めっきには前記のごとく置換めっきと化学めっきがある
が、前者では基材が卑金属に限られるし、後者では金属
膜材質中に還元剤中の成分であるリンやホウ素が混入
し、膜材質が悪化するという問題がある。また、ガラス
などの基材には金属膜が析出しないという欠点がある。
っきのような大がかりな装置を用いることなく、ガラ
ス、セラミックス、金属、耐熱性プラスチックスまたは
これら材料の複合体からなる基材の表面に良好な膜質の
金属膜を形成させる新たな方法の開発を検討した。しか
しながら、従来の方法である溶融めっきでは基材が金属
に限定される。また、形成された金属膜の膜厚の均一性
も悪いという欠点もある。真空めっきは膜質および膜厚
の均一性の良好な金属膜を得ることができるという長所
がある。しかしその反面、閉空間で行われるから大きな
基材上に金属膜を成膜させるには大がかりな装置を用い
る必要があり、多大の投資が必要となるとともに高真空
の維持管理がますます困難となる。即ち、この方法では
製品のコスト低減が難しい。電解めっきは膜質および膜
厚の均一性の良好な金属膜が得られるが、めっきできる
のは陰極の金属部に限られるという欠点がある。無電解
めっきには前記のごとく置換めっきと化学めっきがある
が、前者では基材が卑金属に限られるし、後者では金属
膜材質中に還元剤中の成分であるリンやホウ素が混入
し、膜材質が悪化するという問題がある。また、ガラス
などの基材には金属膜が析出しないという欠点がある。
【０００５】本発明は前記欠点または問題点のない新規
な金属膜の形成方法を提供する。
な金属膜の形成方法を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（１）ガラス、セラミックス、金属、耐熱性プラスチッ
クスまたはこれら材料の複合体の基材表面に金属膜を形
成させる方法において、少なくとも１種類の金属を含む
有機化合物の分散体と前記基材とを接触させ、これを乾
燥・焼成し、前記有機化合物を熱分解させることにより
該金属からなる金属膜を前記基材表面に形成させること
を特徴とする金属膜の形成方法に関する。
（１）ガラス、セラミックス、金属、耐熱性プラスチッ
クスまたはこれら材料の複合体の基材表面に金属膜を形
成させる方法において、少なくとも１種類の金属を含む
有機化合物の分散体と前記基材とを接触させ、これを乾
燥・焼成し、前記有機化合物を熱分解させることにより
該金属からなる金属膜を前記基材表面に形成させること
を特徴とする金属膜の形成方法に関する。
【０００７】さらに本発明は、（２）金属を含む有機化
合物がカルボン酸の金属塩であることを特徴とする前記
（１）項記載の金属膜の形成方法に関する。
合物がカルボン酸の金属塩であることを特徴とする前記
（１）項記載の金属膜の形成方法に関する。
【０００８】さらに本発明は、（３）カルボン酸の金属
塩が脂肪酸の金属塩であることを特徴とする前記（２）
項記載の金属膜の形成方法に関する。
塩が脂肪酸の金属塩であることを特徴とする前記（２）
項記載の金属膜の形成方法に関する。
【０００９】さらに本発明は、（４）脂肪酸の金属塩が
炭素数１２以上の高級脂肪酸の金属塩であることを特徴
とする前記（３）項記載の金属膜の形成方法に関する。
炭素数１２以上の高級脂肪酸の金属塩であることを特徴
とする前記（３）項記載の金属膜の形成方法に関する。
【００１０】さらに本発明は、（５）前記（１）〜
（４）項のいずれかに記載の金属を含む有機化合物の金
属成分が水素よりイオン化傾向の小さい金属からなるこ
とを特徴とする金属膜の形成方法に関する。
（４）項のいずれかに記載の金属を含む有機化合物の金
属成分が水素よりイオン化傾向の小さい金属からなるこ
とを特徴とする金属膜の形成方法に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明は、ガラス、セラミック
ス、金属、耐熱性プラスチックスまたはこれら材料の複
合体の基材表面に金属膜を形成させる方法において、特
定の金属を含む有機化合物の分散体（または懸濁液）と
前記基材とを接触させ、これを乾燥・焼成し、該金属を
含む有機化合物を熱分解させることにより、該金属から
なる金属膜を前記基材表面に形成させるようにした。こ
こで特定の金属を含む有機化合物は１種類の金属を含む
有機化合物単独でもよいし、それらの混合物でもよい。
また複数の金属を含む有機化合物単独でもよく、それら
の混合物でもよい。たとえば単一の金属塩でも良いし、
単一金属塩の混合物であっても良い。また、複数の金属
を含む複合塩であっても良い。単一の金属塩の場合は純
金属膜の形成に、混合物または複合塩の場合は合金の金
属膜の形成に好適に用いることができる。
ス、金属、耐熱性プラスチックスまたはこれら材料の複
合体の基材表面に金属膜を形成させる方法において、特
定の金属を含む有機化合物の分散体（または懸濁液）と
前記基材とを接触させ、これを乾燥・焼成し、該金属を
含む有機化合物を熱分解させることにより、該金属から
なる金属膜を前記基材表面に形成させるようにした。こ
こで特定の金属を含む有機化合物は１種類の金属を含む
有機化合物単独でもよいし、それらの混合物でもよい。
また複数の金属を含む有機化合物単独でもよく、それら
の混合物でもよい。たとえば単一の金属塩でも良いし、
単一金属塩の混合物であっても良い。また、複数の金属
を含む複合塩であっても良い。単一の金属塩の場合は純
金属膜の形成に、混合物または複合塩の場合は合金の金
属膜の形成に好適に用いることができる。
【００１２】本発明では、焼成することにより熱分解し
て金属を生成するものであればどのような金属を含む有
機化合物でも利用可能であるが、好ましい金属を含む有
機化合物としては銅や銀などのような水素よりもイオン
化傾向の小さい金属のカルボン酸塩、とくに脂肪酸塩で
あり、具体的には酢酸塩をあげることができる。該脂肪
酸塩がステアリン酸塩やベヘン酸塩などの炭素数が１２
以上の高級脂肪酸の塩であればさらに好ましい。
て金属を生成するものであればどのような金属を含む有
機化合物でも利用可能であるが、好ましい金属を含む有
機化合物としては銅や銀などのような水素よりもイオン
化傾向の小さい金属のカルボン酸塩、とくに脂肪酸塩で
あり、具体的には酢酸塩をあげることができる。該脂肪
酸塩がステアリン酸塩やベヘン酸塩などの炭素数が１２
以上の高級脂肪酸の塩であればさらに好ましい。
【００１３】前記分散体は分散質である金属を含む有機
化合物の粉体と分散媒（または溶媒）とをペイントシェ
ーカ、アトライタやビーズミルなどの分散機を用いて分
散させることにより調製することができる。分散体の平
均粒径は数＋μｍ程度以下とすることが好ましいが、数
μｍ以下であればさらに好ましい。前記分散媒（または
溶媒）としては、蒸発しやすいものが好ましく、たとえ
ばトルエン、エチルメチルケトン、イソプロパノール、
エタノール、メタノール、カルビトールアセテートなど
の有機溶媒、水などがあげられ、これらは単独または２
種以上混合して使用できる。たとえば水とアルコールな
どとの混合物（すなわち水性溶媒）も使用できる。分散
媒（または溶媒）としてピリジン、クロロホルム、ベン
ゼン、テレピン油などを用い、前記金属を含む有機化合
物を分子レベルの大きさに分散した分子分散体（即ち溶
液）であっても構わない。本発明にいう分散体は、この
ような分子分散体（即ち溶液）を含む概念である。ま
た、塗布時の分散体の粘度を調整するためにエチルセル
ロースやカルボキシメチルセルロースなどの増粘剤を少
量添加することも可能である。
化合物の粉体と分散媒（または溶媒）とをペイントシェ
ーカ、アトライタやビーズミルなどの分散機を用いて分
散させることにより調製することができる。分散体の平
均粒径は数＋μｍ程度以下とすることが好ましいが、数
μｍ以下であればさらに好ましい。前記分散媒（または
溶媒）としては、蒸発しやすいものが好ましく、たとえ
ばトルエン、エチルメチルケトン、イソプロパノール、
エタノール、メタノール、カルビトールアセテートなど
の有機溶媒、水などがあげられ、これらは単独または２
種以上混合して使用できる。たとえば水とアルコールな
どとの混合物（すなわち水性溶媒）も使用できる。分散
媒（または溶媒）としてピリジン、クロロホルム、ベン
ゼン、テレピン油などを用い、前記金属を含む有機化合
物を分子レベルの大きさに分散した分子分散体（即ち溶
液）であっても構わない。本発明にいう分散体は、この
ような分子分散体（即ち溶液）を含む概念である。ま
た、塗布時の分散体の粘度を調整するためにエチルセル
ロースやカルボキシメチルセルロースなどの増粘剤を少
量添加することも可能である。
【００１４】金属を含む有機化合物の分散体と前記基材
とを接触させる方法としては、膜厚の均一性が必要の無
い場合には、基材を分散体にどぶ漬けするかまたは刷毛
塗りしても良い。しかし、膜厚の均一性が必要な場合に
は、アプリケータ、バーコータ、スプレー、スピンコー
タ、スクリーン印刷などを用いることが好ましい。
とを接触させる方法としては、膜厚の均一性が必要の無
い場合には、基材を分散体にどぶ漬けするかまたは刷毛
塗りしても良い。しかし、膜厚の均一性が必要な場合に
は、アプリケータ、バーコータ、スプレー、スピンコー
タ、スクリーン印刷などを用いることが好ましい。
【００１５】なお、本発明は前記塗布方法にのみ限定さ
れるものではなく、塗布厚さが均一または比較的均一な
塗布方法であればその他の方法も適用が可能である。
れるものではなく、塗布厚さが均一または比較的均一な
塗布方法であればその他の方法も適用が可能である。
【００１６】前記分散体を塗布した基材は分散媒を蒸発
させるための乾燥と、金属を含む有機化合物を熱分解
し、該金属膜を生成させるための焼成が必要である。焼
成はコストの観点から空気中で行うことが好ましい。し
かし、鉛、錫またはニッケルなどのような水素よりイオ
ン化傾向の大きい金属を含む有機化合物では焼成中に生
成した金属が比較的酸化し易いことから、これら金属を
含む有機化合物においては空気よりも酸素分圧を低くす
るか、または一酸化炭素や水素を付加した還元性のガス
気流中で焼成することが好ましい。
させるための乾燥と、金属を含む有機化合物を熱分解
し、該金属膜を生成させるための焼成が必要である。焼
成はコストの観点から空気中で行うことが好ましい。し
かし、鉛、錫またはニッケルなどのような水素よりイオ
ン化傾向の大きい金属を含む有機化合物では焼成中に生
成した金属が比較的酸化し易いことから、これら金属を
含む有機化合物においては空気よりも酸素分圧を低くす
るか、または一酸化炭素や水素を付加した還元性のガス
気流中で焼成することが好ましい。
【００１７】分散質として脂肪酸などの特定の金属塩を
選び、これを分散媒に分散させて分散体としても、これ
を塗布装置で塗布した後分散体を乾燥し、該金属塩の熱
分解温度以上で焼成することにより金属膜の形成ができ
る。焼成は金属を含む有機化合物の熱分解温度と同等
か、または少し低めの温度で行うことにより有機物の分
解がマイルドとなり、生成する金属膜もピンホールのな
い良好な膜質が得られる。
選び、これを分散媒に分散させて分散体としても、これ
を塗布装置で塗布した後分散体を乾燥し、該金属塩の熱
分解温度以上で焼成することにより金属膜の形成ができ
る。焼成は金属を含む有機化合物の熱分解温度と同等
か、または少し低めの温度で行うことにより有機物の分
解がマイルドとなり、生成する金属膜もピンホールのな
い良好な膜質が得られる。
【００１８】本発明では数ｎｍの薄膜から数十μｍの厚
膜の金属膜であっても、分散体中の金属を含む有機化合
物濃度を調整するか、または分散体の塗布厚さを変える
ことにより、容易に所望の膜厚の金属膜を得ることがで
きる。
膜の金属膜であっても、分散体中の金属を含む有機化合
物濃度を調整するか、または分散体の塗布厚さを変える
ことにより、容易に所望の膜厚の金属膜を得ることがで
きる。
【００１９】
【実施例】つぎに実施例をあげて本発明を説明する。
【００２０】実施例１ ５００ｍｌのポリ容器にベヘン酸銀（市販試薬）７ｇと
分散媒として蒸留水１９３ｇを投入した。さらに分散の
効率化のため直径が３ｍｍのガラスビーズ１００ｇを加
えてからペイントシェーカで３０分間予備分散させた。
これを開口が１ｍｍのステンレス金網で濾過してガラス
ビーズを除去し、瀘液を直径が０．５ｍｍのジルコニア
ビーズの入った小型のビーズミルを５パス（５回通過）
させ、ベヘン酸銀の分散体を得た。
分散媒として蒸留水１９３ｇを投入した。さらに分散の
効率化のため直径が３ｍｍのガラスビーズ１００ｇを加
えてからペイントシェーカで３０分間予備分散させた。
これを開口が１ｍｍのステンレス金網で濾過してガラス
ビーズを除去し、瀘液を直径が０．５ｍｍのジルコニア
ビーズの入った小型のビーズミルを５パス（５回通過）
させ、ベヘン酸銀の分散体を得た。
【００２１】一方、事前に用意しておいたアルカリ洗浄
済のガラス基板（５２ｍｍ×７７ｍｍ、厚さ１ｍｍ）
に、開口を１２０μｍに設定したマイクロメータ付きア
プリケータで前記分散体を塗布した。
済のガラス基板（５２ｍｍ×７７ｍｍ、厚さ１ｍｍ）
に、開口を１２０μｍに設定したマイクロメータ付きア
プリケータで前記分散体を塗布した。
【００２２】この塗布物をヘアードライヤで十分乾燥さ
せた後電気炉に入れ、１０℃／分の昇温速度で室温から
４００℃まで昇温し、その後電源を切って徐冷した。こ
のようにして作製した金属膜付きガラス基板を、以下単
にサンプルと呼ぶ。
せた後電気炉に入れ、１０℃／分の昇温速度で室温から
４００℃まで昇温し、その後電源を切って徐冷した。こ
のようにして作製した金属膜付きガラス基板を、以下単
にサンプルと呼ぶ。
【００２３】このサンプルを観察したところ光を透過せ
ず、その反射光は銀白色を呈していた。また、このサン
プルを希硝酸を入れたビーカーに垂直に立てかけて、金
属膜の一部を希硝酸に浸漬させ完全に溶解除去した。そ
の境界の段差部分を３次元表面粗さ計（松下インターテ
クノ（株）製）で測定したところ、金属膜厚は７６ｎｍ
であることが分かった。
ず、その反射光は銀白色を呈していた。また、このサン
プルを希硝酸を入れたビーカーに垂直に立てかけて、金
属膜の一部を希硝酸に浸漬させ完全に溶解除去した。そ
の境界の段差部分を３次元表面粗さ計（松下インターテ
クノ（株）製）で測定したところ、金属膜厚は７６ｎｍ
であることが分かった。
【００２４】実施例２ ベヘン酸銀４ｇ、分散媒としてトルエン１９６ｇの処方
で、アプリケータの開口部を２２μｍとした以外は実施
例１と同様にして金属膜を形成させ、実施例１と同様の
方法で膜厚を測定したところ１０ｎｍであった。このサ
ンプルは光を良く透過し、その透過光は黒紫色を帯びて
いた。反射光は紫がかった銀白色を呈していた。
で、アプリケータの開口部を２２μｍとした以外は実施
例１と同様にして金属膜を形成させ、実施例１と同様の
方法で膜厚を測定したところ１０ｎｍであった。このサ
ンプルは光を良く透過し、その透過光は黒紫色を帯びて
いた。反射光は紫がかった銀白色を呈していた。
【００２５】実施例３ ベヘン酸銀３０．０ｇ、分散媒としてイソプロパノール
８５．０ｇとトルエン８５．０ｇの処方で、アプリケー
タの開口部を２．０ｍｍとした以外は実施例１と同様に
して金属膜を形成させ、実施例１と同様の方法で形成し
たサンプルの膜厚を測定したところ６．０μｍであっ
た。このサンプルは光を全く透過せず、反射光は金属光
沢のある銀白色を呈していた。
８５．０ｇとトルエン８５．０ｇの処方で、アプリケー
タの開口部を２．０ｍｍとした以外は実施例１と同様に
して金属膜を形成させ、実施例１と同様の方法で形成し
たサンプルの膜厚を測定したところ６．０μｍであっ
た。このサンプルは光を全く透過せず、反射光は金属光
沢のある銀白色を呈していた。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば数ｎｍの薄膜でも数十μ
ｍの厚膜であっても、また基板が大きくても小さくて
も、簡単な装置で良好な金属膜を容易に形成することが
できる。従って、真空装置を用いて作製した金属膜と比
べてコスト低減が可能である。特に大型基板に金属膜を
形成する場合はその低減効果は極めて大きい。
ｍの厚膜であっても、また基板が大きくても小さくて
も、簡単な装置で良好な金属膜を容易に形成することが
できる。従って、真空装置を用いて作製した金属膜と比
べてコスト低減が可能である。特に大型基板に金属膜を
形成する場合はその低減効果は極めて大きい。
【００２７】また、本発明によって形成した金属膜は電
気材料・電気部品、光学材料・光学部品や装飾品など、
従来技術で作製した金属膜または金属薄膜と同様に幅広
い分野で利用することができる。
気材料・電気部品、光学材料・光学部品や装飾品など、
従来技術で作製した金属膜または金属薄膜と同様に幅広
い分野で利用することができる。
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス、セラミックス、金属、耐熱性プ
ラスチックスまたはこれら材料の複合体の基材表面に金
属膜を形成させる方法において、少なくとも１種類の金
属を含む有機化合物の分散体と前記基材とを接触させ、
これを乾燥・焼成し、前記有機化合物を熱分解させるこ
とにより該金属からなる金属膜を前記基材表面に形成さ
せることを特徴とする金属膜の形成方法。 - 【請求項２】 金属を含む有機化合物がカルボン酸の金
属塩であることを特徴とする請求項１記載の金属膜の形
成方法。 - 【請求項３】 カルボン酸の金属塩が脂肪酸の金属塩で
あることを特徴とする請求項２記載の金属膜の形成方
法。 - 【請求項４】 脂肪酸の金属塩が炭素数１２以上の高級
脂肪酸の金属塩であることを特徴とする請求項３記載の
金属膜の形成方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の金属を
含む有機化合物の金属成分が水素よりイオン化傾向の小
さい金属からなることを特徴とする金属膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34342997A JPH11172454A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | 金属膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34342997A JPH11172454A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | 金属膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11172454A true JPH11172454A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18361455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34342997A Pending JPH11172454A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | 金属膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11172454A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007004437A1 (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Osaka Industrial Promotion Organization | β－ケトカルボン酸銀、それを含む金属銀の形成材料、およびその用途 |
-
1997
- 1997-12-12 JP JP34342997A patent/JPH11172454A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007004437A1 (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Osaka Industrial Promotion Organization | β－ケトカルボン酸銀、それを含む金属銀の形成材料、およびその用途 |
| JP2009221222A (ja) * | 2005-07-04 | 2009-10-01 | Osaka Industrial Promotion Organization | 金属銀の形成材料、金属銀の製造方法および金属銀 |
| US7683195B2 (en) | 2005-07-04 | 2010-03-23 | Osaka Industrial Promotional Organization | Silver β-ketocarboxylate, material comprising the same for forming silver metal, and use thereof |
| JP2012237071A (ja) * | 2005-07-04 | 2012-12-06 | Toppan Forms Co Ltd | 加熱処理物 |
| JP2016145426A (ja) * | 2005-07-04 | 2016-08-12 | トッパン・フォームズ株式会社 | 加熱処理物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4622069A (en) | Catalyst composition for forming electroless plating on ceramics | |
| US6897603B2 (en) | Catalyst for carbon nanotube growth | |
| US5980998A (en) | Deposition of substances on a surface | |
| US6548122B1 (en) | Method of producing and depositing a metal film | |
| CN102202820B (zh) | 金属薄片的制造方法 | |
| US8349467B2 (en) | Metal nanowires, method for producing the same, and aqueous dispersion thereof | |
| US7258899B1 (en) | Process for preparing metal coatings from liquid solutions utilizing cold plasma | |
| Charbonnier et al. | Ni direct electroless metallization of polymers by a new palladium-free process | |
| US3470019A (en) | Platinum coating composition,process and platinum-coated materials | |
| US20060284538A1 (en) | Carbon single-walled nanotubes as electrodes for electrochromic glasses | |
| US5110384A (en) | Process for making electrically conductive patterns | |
| CA2205052C (en) | Method of producing reactive element modified-aluminide diffusion coatings | |
| KR20040007643A (ko) | 패턴화 방법 | |
| EP0280918A2 (en) | Process for metal plating of substrates | |
| WO2018104802A1 (en) | A process for producing graphene, a graphene and a substrate thereof | |
| JPH11172454A (ja) | 金属膜の形成方法 | |
| DE69619428T2 (de) | Oberflächenbehandlungsmittel für Beschichtung und derart beschichteter Gegenstand | |
| US6306747B1 (en) | Conductive metal oxide based layer | |
| JP3016795B2 (ja) | 銀皮膜の固着性析出方法、銀皮膜及びこれから構成される導電性、反射性または装飾的皮膜 | |
| JP2001030200A (ja) | フィルムおよびこれを用いた積層体の製造方法 | |
| US5296259A (en) | Process for making electrically conductive patterns | |
| Bharath et al. | Deposition of SrCO3 thin film consisting of self-assembled bundles of nanostructures by a plasma-enhanced liquid injection chemical vapour deposition technique | |
| JPH06136548A (ja) | 複合粉末の製造方法 | |
| JPH03271375A (ja) | 無電解めっき方法及び無電解めっき用前処理剤 | |
| JPS6241314B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041209 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060615 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060620 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20061017 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |