JPH1117102A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH1117102A
JPH1117102A JP9181764A JP18176497A JPH1117102A JP H1117102 A JPH1117102 A JP H1117102A JP 9181764 A JP9181764 A JP 9181764A JP 18176497 A JP18176497 A JP 18176497A JP H1117102 A JPH1117102 A JP H1117102A
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JP
Japan
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substrate
bare chip
memory
resin layer
module substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP9181764A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ikeda
孝市 池田
Takeshi Ikeda
毅 池田
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T I F KK
Original Assignee
T I F KK
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH1117102A publication Critical patent/JPH1117102A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device for enabling high density integration, by mounting bare chips on both surfaces of a substrate. SOLUTION: A recess 6 is formed in one surface 21 of a module substrate 2 and memory bare chips 1 are mounted in this recess 6. A resin is filled into the recess 6 so that a flat resin layer 7 is formed. Memory bare chips 1 are mounted in the form of COB by means of wire-bonding on the other surface 22 of the module substrate 2 by heating the flat surface of the resin layer 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の両面にベア
チップが実装された半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having bare chips mounted on both sides of a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハから切り出されたメモリ用
ベアチップやプロセッサ用ベアチップは、通常はパッケ
ージングされた状態でプリント基板等に実装される。と
ころが、パッケージの外形寸法は、各種のベアチップ自
体のサイズに比べてかなり大きいため、プリント基板等
に実装可能なメモリパッケージ等の数をあまり多くする
ことはできない。
2. Description of the Related Art A memory bare chip or a processor bare chip cut out of a semiconductor wafer is usually mounted on a printed circuit board or the like in a packaged state. However, since the external dimensions of the package are considerably larger than the size of various bare chips themselves, the number of memory packages and the like that can be mounted on a printed circuit board or the like cannot be increased so much.

【0003】一方最近は、ワイヤボンディングによるC
OB(Chip On Board )実装によって、ベアチップを直
接基板上に実装する技術が発達してきている。ワイヤボ
ンディングによるCOB実装を行うことによって、実
装面積の小型・軽量化、高密度配線やベアチップ実装
による高性能・高速化等が可能になる。
On the other hand, recently, C by wire bonding has been used.
A technology for directly mounting a bare chip on a substrate has been developed by OB (Chip On Board) mounting. By performing COB mounting by wire bonding, the mounting area can be reduced in size and weight, and high-performance wiring and high performance and speed can be achieved by bare chip mounting.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ワイヤボン
ディングによってCOB実装を行う場合には、ボンディ
ングワイヤをパッドに付きやすくするため、基板の一方
の面であってチップ実装面と反対側の面に広範囲にわた
ってヒータ等の熱源を接触させて加熱し、基板に形成さ
れたパッド(基板用パッド)やベアチップに形成された
パッド(チップ用パッド)を均一な一定温度に設定する
必要がある。ところが、既に基板の一方の面にベアチッ
プが実装されている場合には、この一方の面の全体にヒ
ータ等の熱源を接触させることができないため、ベアチ
ップが既に実装されている面と反対側の面にワイヤボン
ディングによるCOB実装を行うことは難しく、ワイヤ
ボンディングを用いてベアチップを両面実装することに
より高密度実装を行うことができない。
In the case where COB mounting is performed by wire bonding, a wide area is provided on one surface of the substrate and the surface opposite to the chip mounting surface in order to easily attach bonding wires to pads. It is necessary to set the temperature of the pad formed on the substrate (substrate pad) and the pad formed on the bare chip (chip pad) to a uniform constant temperature by heating by contacting a heat source such as a heater over the substrate. However, when a bare chip is already mounted on one surface of the substrate, a heat source such as a heater cannot be brought into contact with the whole of the one surface. It is difficult to perform COB mounting by wire bonding on a surface, and high-density mounting cannot be performed by mounting both sides of a bare chip using wire bonding.

【0005】本発明は、このような点に鑑みて創作され
たものであり、その目的は、基板の両面にベアチップを
実装することにより、高密度実装を可能にする半導体装
置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device which enables high-density mounting by mounting bare chips on both sides of a substrate. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明の半導体装置は、基板の一方の面に実装
されたベアチップを表面が平坦な樹脂層で覆っている。
このため、基板の他方の面にベアチップをワイヤボンデ
ィングによって実装する際に、上述した樹脂層の平坦な
表面にヒータ等の熱源を隙間なく接触させて、基板の他
方の面に形成された基板用パッドやこの他方の面上のベ
アチップに形成されたチップ用パッドを均一な一定温度
に設定することができる。したがって、基板の他方の面
へのベアチップのワイヤボンディングによる実装が可能
となり、基板の両面にベアチップを実装することによる
高密度実装を実現することができる。上述した樹脂層
は、基板の一方の面に凹部を形成してその内部に樹脂を
充填することにより、あるいは基板の一方の面に凸部を
形成してこの凸部によって囲まれた内部に樹脂を充填す
ることにより、容易に形成することができる。
In order to solve the above-mentioned problems, in a semiconductor device according to the present invention, a bare chip mounted on one surface of a substrate is covered with a resin layer having a flat surface.
Therefore, when a bare chip is mounted on the other surface of the substrate by wire bonding, a heat source such as a heater is brought into contact with the flat surface of the above-described resin layer without any gap, and the substrate is formed on the other surface of the substrate. The pad and the chip pad formed on the bare chip on the other surface can be set to a uniform and uniform temperature. Accordingly, the bare chip can be mounted on the other surface of the substrate by wire bonding, and high-density mounting can be realized by mounting the bare chip on both surfaces of the substrate. The resin layer described above is formed by forming a concave portion on one surface of the substrate and filling the inside with a resin, or forming a convex portion on one surface of the substrate and forming a concave portion on the inside surrounded by the convex portion. Can be easily formed.

【0007】特に、基板の一方の面のベアチップの実装
領域が基板の他方の面のベアチップの実装領域と重なる
ように基板の両面にベアチップが実装される場合、基板
の一方の面にベアチップが実装されることによって生じ
る凹凸のため、基板の他方の面にワイヤボンディングに
よってベアチップをCOB実装することは難しいが、上
述した樹脂層を形成してその表面を加熱することにより
均一な温度設定が可能となり、基板の両面にベアチップ
を実装することができる。また、基板の一方の面の樹脂
層が形成された領域が、基板の他方の面のベアチップの
実装領域の全体を含むようにすることで、この樹脂層の
表面を加熱することによるこのベアチップの実装領域全
体の均一な加熱が可能となる。
In particular, when bare chips are mounted on both sides of the substrate such that the bare chip mounting area on one side of the substrate overlaps the bare chip mounting area on the other side of the substrate, the bare chip is mounted on one side of the substrate. It is difficult to COB mount a bare chip on the other surface of the substrate by wire bonding due to the unevenness caused by the process, but it is possible to set a uniform temperature by forming the above resin layer and heating the surface. Alternatively, bare chips can be mounted on both sides of the substrate. Further, by making the region on one side of the substrate where the resin layer is formed encompass the entire mounting region of the bare chip on the other side of the substrate, the bare chip is heated by heating the surface of the resin layer. This enables uniform heating of the entire mounting area.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した一実施形
態の半導体装置であるメモリモジュールについて、図面
を参照しながら具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a memory module which is a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

【0009】図1は、一実施形態の半導体装置であるメ
モリモジュール10の一方の面の概略を示す図である。
同図に示すように、半導体ウエハから個別に切り出され
た4個のメモリ用ベアチップ1がモジュール基板2の一
方の面21にワイヤボンディングによって実装されてい
る。メモリ用ベアチップ1は、例えば、4M×4ビット
の容量を有するDRAMであり、いずれのメモリ用ベア
チップ1も長方形形状をしており、その長辺に沿って中
央に一列にチップ用パッド3が形成されている。
FIG. 1 is a diagram schematically showing one surface of a memory module 10 which is a semiconductor device according to one embodiment.
As shown in the figure, four memory bare chips 1 individually cut out from a semiconductor wafer are mounted on one surface 21 of a module substrate 2 by wire bonding. The memory bare chip 1 is, for example, a DRAM having a capacity of 4M × 4 bits. Each of the memory bare chips 1 has a rectangular shape, and chip pads 3 are formed in a line in the center along the long side. Have been.

【0010】モジュール基板2は、SO−DIMM(Sm
all Outline Dual Inline Memory Module )基板等に実
装可能な外形寸法を有しており、モジュール基板2の一
方の面21には、2つの凹部6が形成されている。凹部
6は、メモリ用ベアチップ1の厚さより大きい深さを有
しており、凹部6の底面には、複数の基板用パッド4が
ほぼ一列に形成されている。また、複数の基板用パッド
4を挟んで両側に1個ずつメモリ用ベアチップ1が実装
され、複数の基板用パッド4の並ぶ方向と複数のチップ
用パッド3の並ぶ方向はほぼ平行になっている。
The module substrate 2 is made of SO-DIMM (Sm
all Outline Dual Inline Memory Module) It has external dimensions that can be mounted on a substrate or the like, and two concave portions 6 are formed on one surface 21 of the module substrate 2. The concave portion 6 has a depth larger than the thickness of the memory bare chip 1, and a plurality of substrate pads 4 are formed on the bottom surface of the concave portion 6 substantially in a line. Further, the memory bare chips 1 are mounted one by one on both sides with the plurality of substrate pads 4 interposed therebetween, and the direction in which the plurality of substrate pads 4 are arranged is substantially parallel to the direction in which the plurality of chip pads 3 are arranged. .

【0011】各凹部6の底面に固定されたメモリ用ベア
チップ1のチップ用パッド3とモジュール基板2の基板
用パッド4は、ボンディングワイヤ5によって互いに接
続されている。基板用パッド4には、ボンディングワイ
ヤ5が2本接続されたものと1本接続されたものがあ
る。メモリ用ベアチップ1のアドレス端子など、複数の
メモリ用ベアチップ1に共通に接続される端子について
は、基板用パッド4に複数のボンディングワイヤ5を接
続することで、基板用パッド4の共有化を図っている。
The chip pads 3 of the memory bare chip 1 and the substrate pads 4 of the module substrate 2 fixed to the bottom of each recess 6 are connected to each other by bonding wires 5. The substrate pads 4 include one in which two bonding wires 5 are connected and one in which one bonding wire 5 is connected. For terminals commonly connected to a plurality of memory bare chips 1, such as address terminals of the memory bare chip 1, a plurality of bonding wires 5 are connected to the board pads 4 to share the board pads 4. ing.

【0012】図2は、図1のI−I線断面図である。同
図に示すように、モジュール基板2の一方の面21に形
成された凹部6による空間を樹脂で充填することによっ
て、表面が平坦な樹脂層7が形成されている。上述した
ように凹部6は、メモリ用ベアチップ1の厚さより大き
い深さを有しているため、ボンディングワイヤ5が樹脂
層7の表面に突出することはない。したがって、樹脂層
7の表面は平坦になる。
FIG. 2 is a sectional view taken along line II of FIG. As shown in the figure, a resin layer 7 having a flat surface is formed by filling the space defined by the concave portion 6 formed on one surface 21 of the module substrate 2 with a resin. As described above, since the recess 6 has a depth larger than the thickness of the memory bare chip 1, the bonding wire 5 does not protrude from the surface of the resin layer 7. Therefore, the surface of the resin layer 7 becomes flat.

【0013】図3は、メモリモジュール10の他方の面
(図1に示す面と反対側の面)を示す図である。同図に
示すように、4個のメモリ用ベアチップ1がモジュール
基板2の他方の面22にワイヤボンディングによってC
OB実装されている。上述したように、モジュール基板
2の一方の面21に形成された樹脂層7の表面が平坦に
なっているため、この樹脂層7等にヒータ(図示せず)
を隙間なく接触させて加熱することができ、モジュール
基板2を所定温度まで加熱し、モジュール基板2の他方
の面22の基板用パッド4や他方の面22に固定された
メモリ用ベアチップ1のチップ用パッド3を均一な一定
温度に設定することができる。このため、ワイヤボンデ
ィングによるCOB実装によって、モジュール基板2の
他方の面22へのメモリ用ベアチップ1の実装が可能に
なる。
FIG. 3 is a diagram showing the other surface of the memory module 10 (the surface opposite to the surface shown in FIG. 1). As shown in the figure, four memory bare chips 1 are bonded to the other surface 22 of the module substrate 2 by wire bonding.
OB implemented. As described above, since the surface of the resin layer 7 formed on one surface 21 of the module substrate 2 is flat, a heater (not shown) is provided on the resin layer 7 and the like.
Can be heated by contacting the module substrate 2 without any gap, and the module substrate 2 is heated to a predetermined temperature, and the chip of the memory bare chip 1 fixed to the substrate pad 4 on the other surface 22 or the other surface 22 of the module substrate 2 Pad 3 can be set to a uniform constant temperature. Therefore, the memory bare chip 1 can be mounted on the other surface 22 of the module substrate 2 by COB mounting by wire bonding.

【0014】このように、モジュール基板2の一方の面
21に形成された凹部6の底面にメモリ用ベアチップ1
を実装し、さらに、凹部6による空間に樹脂を充填し、
表面が平坦な樹脂層7を形成することによって、この樹
脂層7等にヒータを隙間なく接触させることができる。
このため、モジュール基板2の他方の面22の基板用パ
ッド4や他方の面22に固定されたメモリ用ベアチップ
1のチップ用パッド3を均一な一定温度に設定すること
ができ、ワイヤボンディングによるCOB実装により、
他方の面22にメモリ用ベアチップ1を実装することが
できる。したがって、モジュール基板2の両面にメモリ
用ベアチップ1を実装させることができ、実装面積が半
分になることによる高密度実装が可能となる。また、モ
ジュール基板2の一方の面21を掘り下げることによっ
て凹部6を形成し、この凹部6の底面にメモリ用ベアチ
ップ1を実装しているため、メモリモジュール10の厚
さは、モジュール基板2の片面にのみメモリ用ベアチッ
プ1がワイヤボンディングによってCOB実装された場
合と変わりがなく、小型化の要求にも応じることができ
る。
As described above, the memory bare chip 1 is provided on the bottom surface of the concave portion 6 formed on the one surface 21 of the module substrate 2.
Is mounted, and further, resin is filled in a space defined by the concave portion 6,
By forming the resin layer 7 having a flat surface, a heater can be brought into contact with the resin layer 7 and the like without gaps.
Therefore, the substrate pads 4 on the other surface 22 of the module substrate 2 and the chip pads 3 of the memory bare chip 1 fixed to the other surface 22 can be set to a uniform and constant temperature, and the COB by wire bonding can be set. Depending on the implementation,
The memory bare chip 1 can be mounted on the other surface 22. Therefore, the memory bare chip 1 can be mounted on both sides of the module substrate 2, and high-density mounting can be realized by halving the mounting area. In addition, the concave portion 6 is formed by digging down one surface 21 of the module substrate 2, and the memory bare chip 1 is mounted on the bottom surface of the concave portion 6. This is the same as the case where the memory bare chip 1 is COB mounted by wire bonding, and can meet the demand for miniaturization.

【0015】特に、モジュール基板2の一方の面21に
おけるメモリ用ベアチップ1が実装される領域と他方の
面22におけるメモリ用ベアチップ1が実装される領域
が一部でも重なっているような場合は、モジュール基板
2の一方の面21にメモリ用ベアチップ1を実装したこ
とによる凹凸が生じるが、本実施形態のメモリモジュー
ル10においてはこの凹凸部分を樹脂層7で覆ってその
表面を平坦にしているため、モジュール基板2の他方の
面22にメモリ用ベアチップ1をワイヤボンディングに
よってCOB実装することができる。
In particular, when the area on one surface 21 of the module substrate 2 on which the memory bare chip 1 is mounted and the area on the other surface 22 on which the memory bare chip 1 is mounted partially overlap, Although the unevenness due to the mounting of the memory bare chip 1 on one surface 21 of the module substrate 2 occurs, in the memory module 10 of the present embodiment, the unevenness is covered with the resin layer 7 and the surface is flattened. The memory bare chip 1 can be COB-mounted on the other surface 22 of the module substrate 2 by wire bonding.

【0016】また、モジュール基板2の他方の面22上
のメモリ用ベアチップ1の実装領域の全体をモジュール
基板2の一方の面21上の樹脂層7の形成領域に含ませ
ることにより、樹脂層7の平坦な表面にヒータを接触さ
せて、他方の面22上の基板用パッド4等を均一な温度
に加熱することができる。
Further, by including the entire mounting area of the memory bare chip 1 on the other surface 22 of the module substrate 2 in the region where the resin layer 7 is formed on one surface 21 of the module substrate 2, the resin layer 7 is formed. By contacting the heater with the flat surface of the substrate, the substrate pads 4 on the other surface 22 can be heated to a uniform temperature.

【0017】次に、モジュール基板2の両面にメモリ用
ベアチップ1を実装する工程について説明する。
Next, a process of mounting the memory bare chip 1 on both sides of the module substrate 2 will be described.

【0018】図4〜図6のそれぞれは、モジュール基板
2の両面にメモリ用ベアチップ1を実装する工程を示す
図である。
FIGS. 4 to 6 are views showing a process of mounting the memory bare chip 1 on both sides of the module substrate 2. FIG.

【0019】まず、図4に示すように、モジュール基板
2の一方の面21に凹部6を形成し、この凹部6の底面
にメモリ用ベアチップ1を接着剤等によって固定し、ボ
ンディングワイヤ5をメモリ用ベアチップ1のチップ用
パッド3とモジュール基板2の基板用パッド4とに接続
してワイヤボンディングによる実装を行う。さらに、凹
部6による空間に樹脂を充填し、表面が平坦な樹脂層7
を形成する。モジュール基板2の一方の面21へのメモ
リ用ベアチップ1の実装が完了した後、モジュール基板
2の他方の面22にメモリ用ベアチップ1を接着剤等に
よって固定する。
First, as shown in FIG. 4, a concave portion 6 is formed on one surface 21 of the module substrate 2, and the memory bare chip 1 is fixed to the bottom surface of the concave portion 6 with an adhesive or the like, and the bonding wire 5 is connected to the memory wire. The semiconductor device is connected to the chip pads 3 of the bare chip 1 and the substrate pads 4 of the module substrate 2 and mounted by wire bonding. Further, the space defined by the recesses 6 is filled with resin, and a resin layer 7 having a flat surface is formed.
To form After the mounting of the memory bare chip 1 on one surface 21 of the module substrate 2 is completed, the memory bare chip 1 is fixed to the other surface 22 of the module substrate 2 with an adhesive or the like.

【0020】次に、図5に示すように、モジュール基板
2をヒータ30の上面に搬送し、加熱を行う。搬送は、
モジュール基板2の一方の面21がヒータ30との接触
面となるようにモジュール基板2の一方の面21を下に
向けて行う。ヒータ30が樹脂層7等に隙間なく接触す
ることによって、モジュール基板2を均一に加熱するこ
とが可能となる。
Next, as shown in FIG. 5, the module substrate 2 is transported to the upper surface of the heater 30 and heated. Transport is
The operation is performed with the one surface 21 of the module substrate 2 facing downward so that the one surface 21 of the module substrate 2 is in contact with the heater 30. When the heater 30 contacts the resin layer 7 and the like without any gap, the module substrate 2 can be heated uniformly.

【0021】このように均一な加熱を行うことによっ
て、モジュール基板2の他方の面22に形成された基板
用パッド4や他方の面22に固定されたメモリ用ベアチ
ップ1のチップ用パッド3が均一な一定温度に設定され
た後、図6に示すように、ボンディングワイヤ5をチッ
プ用パッド3と基板用パッド4とに接続してワイヤボン
ディングによるCOB実装を行う。
By performing such uniform heating, the substrate pads 4 formed on the other surface 22 of the module substrate 2 and the chip pads 3 of the memory bare chip 1 fixed to the other surface 22 are uniformly formed. After the temperature is set to a certain constant value, as shown in FIG. 6, the bonding wire 5 is connected to the chip pad 3 and the substrate pad 4, and COB mounting by wire bonding is performed.

【0022】次に、両面にメモリ用ベアチップ1が実装
されたメモリモジュールの変形例について説明する。図
7は、メモリモジュール10aの一方の面21の概略を
示す図であり、図8は、図7に示すメモリモジュール1
0aの横断面(図2に対応する断面)を示す図である。
これらの図に示すように、モジュール基板2aの一方の
面21には、4個のメモリ用ベアチップ1がワイヤボン
ディングによって実装され、ほぼ全面に樹脂層7aが形
成されている。また、モジュール基板2aの外周近傍に
は、メモリ用ベアチップ1の厚さより大きい高さを有す
る凸部としての封止枠8が取り付けられており、この封
止枠8の内部に樹脂を流し込むことによって、樹脂層7
aの表面位置を封止枠8の高さに合わせることができ
る。封止枠8の高さをメモリ用ベアチップ1の厚さより
大きくすることによって、ボンディングワイヤ5が樹脂
層7aの表面に突出することなく、樹脂層7aの表面を
平坦にすることができる。また、樹脂層7aの表面積が
大きいと表面を平坦にすることが容易ではないため、モ
ジュール基板2aの中央部に短辺に平行に封止枠8と等
しい高さを有する凸部としてのリブ9を形成し、2つに
分割して樹脂層7aを形成することにより、樹脂層7a
の表面積を小さくしている。また、モジュール基板2a
の他方の面22には、4個のメモリ用ベアチップ1がワ
イヤボンディングによってCOB実装されている。
Next, a modified example of the memory module having the memory bare chips 1 mounted on both sides will be described. FIG. 7 is a diagram schematically showing one surface 21 of the memory module 10a, and FIG. 8 is a diagram showing the memory module 1 shown in FIG.
FIG. 3 is a diagram showing a cross section of Oa (a cross section corresponding to FIG. 2).
As shown in these figures, four memory bare chips 1 are mounted on one surface 21 of the module substrate 2a by wire bonding, and a resin layer 7a is formed on almost the entire surface. A sealing frame 8 as a projection having a height greater than the thickness of the memory bare chip 1 is attached to the vicinity of the outer periphery of the module substrate 2a. , Resin layer 7
The surface position a can be adjusted to the height of the sealing frame 8. By making the height of the sealing frame 8 larger than the thickness of the memory bare chip 1, the surface of the resin layer 7a can be flattened without the bonding wires 5 protruding from the surface of the resin layer 7a. If the surface area of the resin layer 7a is large, it is not easy to flatten the surface. Therefore, a rib 9 as a protrusion having a height equal to the height of the sealing frame 8 is provided in the center of the module substrate 2a in parallel with the short side. Is formed and the resin layer 7a is divided into two to form the resin layer 7a.
Has a small surface area. Also, the module substrate 2a
On the other surface 22, four memory bare chips 1 are COB-mounted by wire bonding.

【0023】このように、封止枠8を用いて表面が平坦
な樹脂層7aを形成することによって、モジュール基板
2aの他方の面22にメモリ用ベアチップ1を実装させ
る際、樹脂層7a等をヒータに隙間なく接触させて、モ
ジュール基板2aを加熱し、他方の面22の基板用パッ
ド4や他方の面22に固定されたメモリ用ベアチップ1
のチップ用パッド3を均一な一定温度に設定することが
できるため、他方の面22にメモリ用ベアチップ1をワ
イヤボンディングによってCOB実装することが可能と
なる。このため、モジュール基板2aの両面にメモリ用
ベアチップ1を実装することができ、実装面積が半分に
なることによる高密度実装が可能となる。
As described above, by forming the resin layer 7a having a flat surface using the sealing frame 8, when the memory bare chip 1 is mounted on the other surface 22 of the module substrate 2a, the resin layer 7a and the like are removed. The module substrate 2a is heated by bringing the module substrate 2a into contact with the heater without any gap, and the memory bare chip 1 fixed to the substrate pad 4 on the other surface 22 or the other surface 22
Can be set to a uniform constant temperature, so that the memory bare chip 1 can be COB-mounted on the other surface 22 by wire bonding. For this reason, the bare chip for memory 1 can be mounted on both sides of the module substrate 2a, and high-density mounting is possible by halving the mounting area.

【0024】本発明は上記実施形態に限定されるもので
はなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能
である。上述した実施形態では、モジュール基板2の一
方の面21に凹部6を形成し、あるいはモジュール基板
2aの一方の面21に封止枠8を形成し、これらの内部
に樹脂を充填することにより樹脂層7を形成するように
したが、この樹脂層7は他の方法によって形成すること
もできる。例えば、図9に示すメモリモジュール10b
においては、トランスファモールド法による射出成形に
よって樹脂層7bを形成している。トランスファモール
ド法では金型の内部に樹脂を射出することによって樹脂
層7bを形成するため、樹脂層7bの表面を平坦にする
ことが容易にできる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention. In the embodiment described above, the concave portion 6 is formed on one surface 21 of the module substrate 2, or the sealing frame 8 is formed on one surface 21 of the module substrate 2 a, and the resin is filled in the inside thereof. Although the layer 7 is formed, the resin layer 7 can be formed by another method. For example, the memory module 10b shown in FIG.
In, the resin layer 7b is formed by injection molding using a transfer molding method. In the transfer molding method, the resin layer 7b is formed by injecting a resin into a mold, so that the surface of the resin layer 7b can be easily flattened.

【0025】上述した実施形態では、モジュール基板2
の一方の面であって、樹脂層7が形成された面には、ワ
イヤボンディングによってメモリ用ベアチップ1が実装
されているが、他の実装方式、例えば、フリップチップ
実装を用いてもよい。
In the above embodiment, the module substrate 2
The memory bare chip 1 is mounted by wire bonding on one of the surfaces on which the resin layer 7 is formed, but another mounting method, for example, flip chip mounting may be used.

【0026】上述した実施形態では、モジュール基板2
上に4個のメモリ用ベアチップ1を実装する例を説明し
たが、モジュール基板2に実装されるメモリ用ベアチッ
プ1の数は4個に限定されない。ただし、通常のコンピ
ュータ機器は、メモリ容量を4の倍数で設定することが
多いため、モジュール基板2に実装するメモリ用ベアチ
ップ1の数は偶数個が望ましい。
In the embodiment described above, the module substrate 2
Although an example in which four memory bare chips 1 are mounted has been described above, the number of memory bare chips 1 mounted on the module substrate 2 is not limited to four. However, in ordinary computer equipment, the memory capacity is often set to a multiple of 4, and therefore, the number of memory bare chips 1 mounted on the module substrate 2 is preferably an even number.

【0027】上述した実施形態では、図1に示すように
基板用パッド4は2個のメモリ用ベアチップ1に挟まれ
るように形成されているが、基板用パッド4の形成位置
はメモリ用ベアチップ1の外側でもよい。また、上述し
た実施形態では、モジュール基板2にメモリ用ベアチッ
プ1としてDRAMを実装する例を説明したが、SRA
MやフラッシュROM等の他の種類のメモリ用ベアチッ
プ1や、メモリ以外のベアチップを実装することも可能
である。
In the above-described embodiment, the substrate pads 4 are formed so as to be sandwiched between the two memory bare chips 1 as shown in FIG. Outside. In the above-described embodiment, an example in which a DRAM is mounted as the memory bare chip 1 on the module substrate 2 has been described.
It is also possible to mount another type of memory bare chip 1 such as M or flash ROM, or a bare chip other than a memory.

【0028】上述した実施形態では、メモリ用ベアチッ
プ1をモジュール基板2に実装する例を説明したが、メ
モリ用ベアチップ1は、パッケージ基板に実装したり、
SO−DIMM基板等のメモリ基板あるいはマザーボー
ドやドーターボード等に直接実装してもよい。また、上
述した実施形態では、COB実装によってメモリ用ベア
チップ1をモジュール基板2に実装する例を説明した
が、ガラス基板上にメモリ用ベアチップ1を実装するい
わゆるCOG(Chip On Glass )実装を行ってもよく、
モジュール基板2の材質は適宜変更することができる。
In the above-described embodiment, the example in which the memory bare chip 1 is mounted on the module substrate 2 has been described. However, the memory bare chip 1 may be mounted on a package substrate,
It may be directly mounted on a memory board such as an SO-DIMM board or a motherboard or a daughter board. Further, in the above-described embodiment, an example in which the memory bare chip 1 is mounted on the module substrate 2 by COB mounting has been described. However, so-called COG (Chip On Glass) mounting in which the memory bare chip 1 is mounted on a glass substrate is performed. Well,
The material of the module substrate 2 can be appropriately changed.

【0029】[0029]

【発明の効果】上述したように、本発明の半導体装置
は、基板の一方の面にベアチップが実装され、そのベア
チップは表面が平坦な樹脂層で覆われている。このた
め、基板の他方の面にワイヤボンディングによってベア
チップをCOB実装する際、樹脂層等にヒータ等の熱源
を隙間なく接触させることができ、基板を所定温度まで
加熱し、チップ用パッドや基板用パッドを均一な一定温
度に設定することが可能となる。したがって、基板の両
面にベアチップを実装することができ、実装面積を半分
にすることによる高密度実装が可能となる。
As described above, in the semiconductor device of the present invention, a bare chip is mounted on one surface of a substrate, and the bare chip is covered with a flat resin layer. Therefore, when the bare chip is COB-mounted on the other surface of the substrate by wire bonding, a heat source such as a heater can be brought into contact with the resin layer or the like without any gap, and the substrate is heated to a predetermined temperature, and the chip pad or the substrate The pad can be set to a uniform constant temperature. Therefore, bare chips can be mounted on both sides of the substrate, and high-density mounting can be achieved by halving the mounting area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】凹部が形成されたメモリモジュールの一方の面
の概略を示す図である。
FIG. 1 is a view schematically showing one surface of a memory module in which a concave portion is formed.

【図2】図1のI−I線断面を示す図である。FIG. 2 is a view showing a cross section taken along line II of FIG. 1;

【図3】図1に示すメモリモジュールの反対側の面の概
略を示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing an opposite surface of the memory module shown in FIG. 1;

【図4】モジュール基板の一方の面にメモリ用ベアチッ
プを実装した後、他方の面にメモリ用ベアチップを固定
する工程を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a process of mounting a memory bare chip on one surface of a module substrate and then fixing the memory bare chip on the other surface.

【図5】モジュール基板の一方の面をヒータに接触させ
て加熱する工程を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a step of heating by bringing one surface of the module substrate into contact with a heater.

【図6】モジュール基板の他方の面にメモリ用ベアチッ
プをワイヤボンディングによってCOB実装する工程を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a process of COB mounting a memory bare chip on the other surface of the module substrate by wire bonding.

【図7】凸部が形成されたメモリモジュールの一方の面
の概略を示す図である。
FIG. 7 is a diagram schematically illustrating one surface of a memory module in which a protrusion is formed.

【図8】図7に示すメモリモジュールの横断面を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing a cross section of the memory module shown in FIG. 7;

【図9】一方の面にトランスファモールド法により樹脂
層が形成されたメモリモジュールの概略を示す図であ
る。
FIG. 9 is a view schematically showing a memory module having a resin layer formed on one surface by a transfer molding method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリ用ベアチップ 2 モジュール基板 3 チップ用パッド 4 基板用パッド 5 ボンディングワイヤ 6 凹部 7 樹脂層 8 封止枠 9 リブ 10 メモリモジュール REFERENCE SIGNS LIST 1 bare chip for memory 2 module substrate 3 pad for chip 4 pad for substrate 5 bonding wire 6 recess 7 resin layer 8 sealing frame 9 rib 10 memory module

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハから切り出されたベアチッ
プが基板の両面に実装された半導体装置であって、 前記基板の一方の面に実装された前記ベアチップを、表
面が平坦な樹脂層で覆うとともに、前記基板の他方の面
に前記ベアチップをワイヤボンディングによって実装す
ることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device in which bare chips cut out from a semiconductor wafer are mounted on both surfaces of a substrate, wherein the bare chips mounted on one surface of the substrate are covered with a resin layer having a flat surface. A semiconductor device, wherein the bare chip is mounted on the other surface of the substrate by wire bonding.
【請求項2】 請求項1において、 前記基板は、前記樹脂層が形成される側の一方の面であ
って、前記ベアチップが形成される位置に凹部を有して
おり、前記凹部の底面に前記ベアチップを実装すること
を特徴とする半導体装置。
2. The substrate according to claim 1, wherein the substrate has a concave portion at one surface on which the resin layer is formed, at a position where the bare chip is formed, and a bottom surface of the concave portion. A semiconductor device on which the bare chip is mounted.
【請求項3】 請求項1において、 前記基板は、前記樹脂層が形成される側の一方の面に凸
部が形成されており、前記凸部の上面と前記樹脂層の表
面がほぼ同一面上にあることを特徴とする半導体装置。
3. The substrate according to claim 1, wherein the substrate has a convex portion on one surface on which the resin layer is formed, and an upper surface of the convex portion and a surface of the resin layer are substantially flush with each other. A semiconductor device, which is located above.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかにおいて、 前記基板の一方の面における前記ベアチップの実装領域
の少なくとも一部が、前記基板の他方の面における前記
ベアチップの実装領域に重なっていることを特徴とする
半導体装置。
4. The substrate according to claim 1, wherein at least a part of the bare chip mounting area on one surface of the substrate overlaps with the bare chip mounting area on the other surface of the substrate. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項1〜3のいずれかにおいて、 前記基板の一方の面における前記樹脂層が形成された領
域が、前記基板の他方の面における前記ベアチップの実
装領域全体を含んでいることを特徴とする半導体装置。
5. The substrate according to claim 1, wherein the region on one surface of the substrate on which the resin layer is formed includes the entire mounting region of the bare chip on the other surface of the substrate. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318076A (en) * 2006-05-25 2007-12-06 Samsung Electro Mech Co Ltd Sip module

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JP2007318076A (en) * 2006-05-25 2007-12-06 Samsung Electro Mech Co Ltd Sip module

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