JPH11167635A - 描画判定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 描画データに基づいて形成される画像の良否
を短時間でかつ低コストで判定することが可能な描画判
定装置を提供することである。 【解決手段】 外部より与えられる描画データに基づい
てレーザ照射器２からレーザビーム３０をテスト板１０
０に照射して主走査方向に走査させるとともに、テーブ
ル３をＹ軸方向に移動させる。ＣＣＤカメラ６はレーザ
ビーム３０の反射光３０ａを受光し、レーザビーム３０
の像を画像データとして取り込む。画像処理器１７はＣ
ＣＤカメラ６からの画像データを画像処理し、メモリ１
８に格納する。メモリ１８から読み出したストライプ領
域の画像データと描画データの対応部分との比較により
相違量が算出され、許容値を超える場合に不良部分と判
定される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被照射体上に光ビ
ームを走査して形成される画像の良否を判定する描画判
定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント基板やリードフレームのパター
ン形成用のマスクは、描画装置を用いてガラス乾板等の
感光材にレーザ光でパターンを描画し、露光処理されて
形成される。図７は従来の乾板描画動作のフローチャー
トである。表面に感光材が塗布されたガラス乾板は一般
的に高価である。このため、ガラス乾板に描画する前
に、フィルム材を用いて検査用の描画が行なわれる。

【０００３】すなわち、図７において、まず描画装置に
フィルム材を装着し、パターンの画像を形成するための
描画データに基づいてフィルム材に光ビームを照射して
画像を形成する（ステップＳ２０）。そして、フィルム
材を現像して画像を顕像化する（ステップＳ２１）。そ
の後、現像後のフィルム材に対し描画状態を検査する。
この場合には、検査機を用いてフィルム材上の画像領域
を走査するとともに検査員が目視で観察して描画状態を
検査する（ステップＳ２２）。

【０００４】フィルム材への描画状態が不良の場合には
（ステップＳ２３）、調整作業が行なわれる。たとえ
ば、描画の欠落箇所が発見された場合には、描画データ
を確認し、描画データを修正する。また、副走査方向に
おける主走査ライン間の間隔（副走査ピッチ）が不均一
な場合や一定幅の走査領域（ストライプ領域）間のつな
ぎ目部分に間隔不良が発見された場合には、描画装置の
テーブル駆動系や光ビームの走査系などの機械的あるい
は光学的調整が行なわれる（ステップＳ２４）。調整が
終了すると、再び他のフィルム材に対して描画を行な
い、現像後に観察および調整の各動作を繰り返して行な
う（ステップＳ２０〜Ｓ２２）。

【０００５】そして、フィルム材への描画状態が良好と
なった場合（ステップＳ２３）、その状態での描画デー
タに基づき、かつ調整後の描画装置を用いてガラス乾板
に描画を行なう（ステップＳ２５）。その後、描画され
たガラス乾板の検査を行なう（ステップＳ２６）。その
結果、良好であれば描画処理を終了し、不良が検出され
れば（ステップＳ２７）、再び調整作業を行なった後
（ステップＳ２５）、フィルム材およびガラス乾板への
描画処理を繰り返して行なう（ステップＳ２０〜Ｓ２
８）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
乾板描画処理では、描画装置を用いてガラス乾板に描画
を行なう前に、フィルム材を用いて検査用の描画処理が
繰り返し行なわれる。このため、描画データおよび描画
装置の調整を行なって、描画結果が良好となるまでに長
時間を要する。特に、フィルム材では描画後に現像処理
が必要となり、この露光処理に長時間を要する。

【０００７】また、検査のための描画に多くのフィルム
材を必要とし、さらにガラス乾板への描画後に不良が検
出された場合には、調整後に再びフィルム材およびガラ
ス乾板への描画を行なうため、フィルム材やガラス乾板
の消費量が大きくなり、コストが高くなる。

【０００８】さらに、調整作業では、検査員が目視によ
る描画の観察の結果に基づいて描画装置の調整を行なう
ため、調整の精度が検査員の技量に依存し、調整基準が
曖昧となる。

【０００９】本発明の目的は、描画データに基づいて形
成される画像の良否を短時間でかつ低コストで判定する
ことが可能な描画判定装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段および発明の効果】（１）
第１の発明 第１の発明に係る描画判定装置は、描画データに基づい
て被照射体上に光ビームを照射させて得られた画像の良
否を判定する描画判定装置であって、描画データに基づ
いて被照射体上に光ビームを点灯または消灯させながら
主走査方向に走査させる光ビーム走査手段と、光ビーム
走査手段と被照射体とを相対的に副走査方向に移動させ
る移動手段と、光ビーム走査手段により被照射体に走査
された光ビームを撮像して画像データとして取り込む撮
像手段と、撮像手段により取り込まれた画像データと描
画データとの相違部分における相違量を検出する検出手
段と、検出手段により検出された相違部分における相違
量が所定の許容値を超えるか否かを判定する判定手段
と、判定手段によって相違量が所定の許容値を超えると
判定された場合に、相違部分の情報を出力する出力手段
とを備えたものである。

【００１１】第１の発明に係る描画判定装置において
は、描画の元データである描画データに基づいて光ビー
ム走査手段が被照射体に光ビームを走査して画像を形成
し、その画像を撮像手段により撮像して画像データを得
ている。そして、検出手段によって画像データと元デー
タである描画データとの相違部分の相違量を検出し、そ
の相違量が所定の許容値を超えるか否かを判定手段が判
定することによって画像の良否を判定している。さら
に、相違量が所定の許容値を超えると判定された場合、
すなわち不良であると判定された場合、出力手段に不良
である相違部分に関する情報、たとえば位置や相違量、
相違内容などが出力される。これにより、感光材が不要
となり、それによって感光材が露光処理の省略されるこ
とにより、短時間でかつ低コストで描画状態の良否の判
定を行なうことができる。

【００１２】（２）第２の発明 第２の発明に係る描画判定装置は、第１の発明に係る描
画判定装置の構成において、撮像手段が、光ビーム走査
手段により被照射体に走査される光ビームを各主走査ご
とに画像データとして取り込み、検出手段が、各主走査
ごとに撮像手段により取り込まれた画像データと描画デ
ータの対応する部分との相違部分における相違量を検出
し、判定手段が、各主走査ごとに検出手段により検出さ
れた相違部分における相違量が所定の許容値を超えるか
否かを判定するものである。

【００１３】この場合、各主走査ごとに検出手段による
相違部分の検出および判定手段による相違量が許容値を
超えるか否かの判定が行なわれ、これによって描画デー
タに基づいて形成される画像の良否を主走査ごとに確認
することが可能となり、不良箇所に対して迅速に対応す
ることができる。

【００１４】（３）第３の発明 第３の発明に係る描画判定装置は、第１の発明に係る描
画判定装置の構成において、記憶手段をさらに備え、光
ビーム走査手段が、被照射体上において複数の短冊状の
領域の各々に順次光ビームを点灯または消灯させながら
主走査方向に走査させ、撮像手段が、隣接する各２つの
領域において順次走査される光ビームを撮像して取り込
んだ画像データを記憶手段に記憶させ、検出手段が、記
憶手段に記憶された各２つの領域に対応する画像データ
と描画データの対応する部分との相違部分における相違
量を検出し、判定手段が、各２つの領域において検出手
段により検出された相違部分における相違量が所定の許
容値を超えるか否かを判定するものである。

【００１５】この場合、分割描画処理において２つの短
冊状の領域ごとに検出手段による相違部分の検出および
判定手段による相違量が許容値を超えるか否かの判定が
行なわれ、これによって描画データに基づいて形成され
る画像の良否を短冊状の領域ごとに確認することが可能
となる。

【００１６】（４）第４の発明 第４の発明に係る描画判定装置は、第３の発明に係る描
画判定装置の構成において、検出手段が、記憶手段に記
憶された隣接する各２つの領域に対応する画像データと
描画データの対応する部分とを比較して各２つの領域間
のつなぎ目の間隔の相違量を検出し、判定手段が、検出
手段により検出されたつなぎ目の間隔の相違量が所定の
範囲内にあるか否かを判定するものである。

【００１７】この場合、隣接する２つの領域の画像デー
タを記憶手段に記憶し、記憶された画像データと描画デ
ータの比較によって隣接する２つの領域間のつなぎ目の
間隔の良否が判定される。これによって、分割描画処理
における領域間のつなぎ目の不良の有無を容易に検出す
ることができる。

【００１８】（５）第５の発明 第５の発明に係る描画判定装置は、第１の発明に係る描
画判定装置の構成において、記憶手段をさらに備え、撮
像手段が、被照射体上の全ての領域において走査される
光ビームを撮像して取り込んだ画像データを記憶手段に
記憶させ、検出手段が、記憶手段に記憶された全ての領
域の画像データと描画データとの相違部分における相違
量を検出し、判定手段が、全ての領域において検出手段
により検出された相違部分の相違量が所定の許容値を超
えるか否かを判定するものである。

【００１９】この場合、被照射体上に形成される画像の
全体の画像データが記憶手段に記憶され、記憶された画
像データに対して検出手段による相違部分の検出および
判定手段による相違量が許容値を超えるか否かの判定が
行なわれる。これによって描画データに基づいて形成さ
れる画像の良否を一括して確認することが可能となる。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
描画判定装置を備えた描画装置のブロック図であり、図
２は図１の描画装置の概略斜視図である。本実施例の描
画装置は分割露光方式の露光装置である。

【００２１】図１および図２において、描画装置は露光
ヘッド１、テーブル３、Ｘ軸駆動モータ４、Ｙ軸駆動モ
ータ５、ＣＣＤ（電荷結合素子）カメラ６およびモニタ
（図示せず）を有する。露光ヘッド１はレーザ照射器２
およびハーフミラー７を含む。露光ヘッド１は、テーブ
ル３の上方においてヘッドガイド２７によりＸ軸方向
（主走査方向）に移動可能に案内されている。さらに、
露光ヘッド１は、ボールねじ２８を介してＸ軸駆動モー
タ４に連結されており、Ｘ軸駆動モータ４によりＸ軸方
向に駆動される。この露光ヘッド１は、レーザ照射器２
からレーザビーム３０をＸ軸方向に所定の走査幅で走査
させつつテーブル３上に照射する。

【００２２】ハーフミラー７はレーザ照射器２とともに
Ｘ軸方向に駆動され、レーザ照射器２からテーブル３上
に照射されたレーザビームの反射光３０ａをＣＣＤカメ
ラ６に向けて反射する。

【００２３】テーブル３は、基台２５上に配置されたテ
ーブルガイド２６によってＹ軸方向（副走査方向）に移
動可能に案内されている。このテーブル３はＹ軸駆動モ
ータ５によりＹ軸方向に駆動される。

【００２４】ＣＣＤカメラ６はテーブル３の端部に取り
付けられ、テーブル３とともにＹ軸方向に移動するとと
もに、カメラガイド（図示せず）に沿ってＸ軸方向に移
動可能に案内されている。このＣＣＤカメラ６はＸ軸駆
動機構（図示せず）によって露光ヘッド１と同期してＸ
軸方向に駆動される。

【００２５】図１の描画装置は、さらにレーザ制御器１
１、描画制御器１２、インタフェース（Ｉ／Ｆ）１３、
Ｘ軸駆動モータ制御器１４、Ｙ軸駆動モータ制御器１
５、ＣＣＤインタフェース（Ｉ／Ｆ）１６、画像処理部
１７、メモリ１８およびＣＰＵ（中央演算処理装置）１
９を含む。

【００２６】レーザ制御器１１はレーザ照射器２による
レーザビーム３０のオンオフ（点灯／消灯）動作を制御
する。描画制御器１２は、外部の画像形成装置等から与
えられる描画データをリップ（ＲＩＰ：ラスタイメージ
プロセッサ）処理してドットパターンに変換するととも
に、レーザ照射器２による主走査方向へのレーザビーム
３０の走査を制御する。

【００２７】Ｘ軸駆動モータ制御器１４はＸ軸駆動モー
タ４を制御し、Ｙ軸駆動モータ制御器１５はＹ軸駆動モ
ータ５を制御する。ＣＣＤインタフェース１６はＣＣＤ
カメラ６からの画像データの入力を制御する。画像処理
器１７はＣＣＤカメラ６から取り込まれた画像データに
基づいて画像処理を行ない、各ドットの描画位置の算出
あるいは各ドット位置での描画の有無等を検出する。メ
モリ１８は、ＣＣＤカメラ６から取り込まれた画像デー
タや画像処理器１７により算出された各ドットの描画位
置等のデータおよび描画制御器１２により形成されたド
ットパターンの描画データを記憶する。ＣＰＵ１９は描
画装置の全体の制御を行なう。

【００２８】本実施例においては、露光ヘッド１、レー
ザ照射器２、レーザ制御器１１が本発明の光ビーム走査
手段に相当し、テーブル３およびＹ軸駆動モータ５が移
動手段に相当し、ＣＣＤカメラ６が撮像手段に相当し、
画像処理器１７およびＣＰＵ１９が検出手段に相当し、
ＣＰＵ１９が判定手段に相当し、モニタが出力手段に相
当し、後述するテスト板１００が被照射体に相当する。

【００２９】次に、図１の描画装置を用いた描画動作に
ついて説明する。この描画動作においては、最初に描画
状態の確認および調整動作が行なわれ、その後正規の描
画処理が行なわれる。以下では、最初の描画状態の確認
動作について説明する。

【００３０】図３は図１の描画装置における描画状態の
確認動作の模式図であり、図４は描画状態の確認動作の
フローチャートである。描画状態の確認は、外部から入
力される描画データに基づいて描画装置により検査用の
描画を行ない、描画された画像を画像データとして取り
込み、描画データと画像データとの比較によって描画状
態の良否を確認するものである。

【００３１】図３および図４において、描画状態の確認
動作は、最初のストライプ領域（短冊状の領域）ＳＴ１
から最終のストライプ領域ＳＴｎに向かって順次行なわ
れる。

【００３２】まず、最初のストライプ領域ＳＴ１の描画
を行なうために、レーザ照射器２がストライプ領域ＳＴ
１の描画開始原点にヘッドガイド２７に沿ってＸ軸方向
に移動される（ステップＳ１）。さらに、ＣＣＤカメラ
６がＸ軸方向に移動され、レーザ照射器２に対応する位
置に位置決めされる（ステップＳ２）。そして、テーブ
ル３がＹ軸方向に移動を開始する。テーブル３上にはレ
ーザビームに対する反射率が高い薄板状のテスト板１０
０あるいはフィルム材等が載置される。このテスト板１
００あるいはフィルム材は主にレーザビームをハーフミ
ラー７に向けて反射するために設けられており、テーブ
ル３の上面がレーザビーム３０を正常に反射しうる場合
にはテスト板１００等を載置しなくてもよい。なお、以
下の説明ではテスト板１００を用いるものとする（ステ
ップＳ３）。

【００３３】テーブル３が所定の主走査位置に移動する
と、描画制御器１２は外部の画像形成装置から与えられ
た描画データのリップ（ＲＩＰ）処理を行なってドット
パターンのデータに変換し、レーザ制御器１１がこのド
ットパターンのデータに基づいてレーザ照射器２をオン
オフ制御する。これにより、レーザ照射器２からレーザ
ビーム３０の主走査が開始される（ステップＳ４）。

【００３４】主走査が開始されると、図１に示すよう
に、テスト板１００の表面に照射されたレーザビーム３
０の反射光３０ａがハーフミラー７を介してＣＣＤカメ
ラ６に入射される。ＣＣＤカメラ６はレーザビーム３０
の反射光３０ａの像を多値の画像データに変換してメモ
リ１８に格納する。

【００３５】図５はレーザビーム反射光のＣＣＤカメラ
への入射状態を示す模式図である。反射光３０ａは各主
走査ラインから一定の広がり角で進行してＣＣＤカメラ
６に入射する。このため、ＣＣＤカメラ６上での各主走
査ラインの幅はＣＣＤカメラ６と各主走査ラインとのＹ
軸方向の距離に比例する。たとえば、ＣＣＤカメラ６に
近い主走査ラインＭＬｉのＣＣＤカメラ６への反射光３
０ａの幅ＬｉはＣＣＤカメラ６からより離れた主走査ラ
インＭＬｎのＣＣＤカメラ６への反射光３０ａの幅Ｌｎ
よりも小さくなる。そこで、後述する画像処理器１７に
おける画像処理時には、ＣＣＤカメラ６から取り込まれ
た画像データのＣＣＤカメラ６上における位置を各主走
査ラインとＣＣＤカメラ６とのＹ軸方向の距離に対して
比例演算を行なって補正する。

【００３６】なお、レーザビームの反射光３０ａの光路
中に反射光３０ａを各主走査ラインの幅に対応した平行
光に変換する光学系が設けられている場合には、上記の
比例演算は行なわれない（ステップＳ６）。

【００３７】画像処理器１７はメモリ１８に格納された
画像データを読み出し、多値の画像データを２値化す
る。これにより、主走査においてレーザビーム３０が点
灯されたドットと点灯されなかったドットとが認識され
る。この２値化された画像データはメモリ１８に記憶さ
れる（ステップＳ７）。

【００３８】次に、所望の領域の画像データの取り込み
が終了したか否かを判断する。ここでは、２つのストラ
イプ領域ＳＴ１，ＳＴ２の画像データを取り込むものと
する。最初のストライプ領域ＳＴ１の画像データの取り
込みが終了するまで、ステップＳ５からステップＳ７の
処理を繰り返し行ない、この処理が終了すると、次のス
トライプ領域ＳＴ２に対して上記のステップＳ１からス
テップＳ７の処理を繰り返し行なう。これにより、メモ
リ１８には２つのストライプ領域ＳＴ１，ＳＴ２の２値
化された画像データが記憶される（ステップＳ８，Ｓ
９）。

【００３９】一方、メモリ１８には、描画制御器１２に
おいて変換されたドットパターンの描画データ（以下、
理論データと称する）が記憶されている。そして、上記
のステップにおいてレーザビームが走査された２つのス
トライプ領域ＳＴ１，ＳＴ２における画像データと理論
データとが順次メモリ１８から読み出され（ステップＳ
１０）、画像データと理論データとが比較される。この
比較処理により、テーブル３上のテスト板１００に描画
された画像の良否が判定される。

【００４０】図６はテスト板への描画状態を示す模式図
である。図６に示すように、画像データと理論データと
の比較によって、相違部分が検出される。たとえば、２
つのストライプ領域ＳＴ１，ＳＴ２のつなぎ目の間隔ｄ
の相違量が検出される。また、Ｙ軸方向における主走査
ライン間の間隔（副走査ピッチ）Ｐ１，Ｐ２の相違量が
検出される。さらに、主走査ライン中の画像の欠落箇所
２０が検出される（ステップＳ１１）。

【００４１】上記各種の相違部分および相違量が検出さ
れると、その相違量が所定の許容値を超えるか否かが判
定される。たとえば、上記２つのストライプ領域ＳＴ
１，ＳＴ２のつなぎ目の間隔ｄが所定の範囲内にあるか
否か、また副走査ピッチＰ１，Ｐ２と理論データに基づ
く正規の副走査ピッチとの相違量が所定の範囲内にある
か否かが判定される（ステップＳ１２）。

【００４２】相違量が許容範囲を超える場合には、その
部分を不良部分と判定し、不良部分の位置、不良の内容
等の情報をモニタに表示し、警告を発する（ステップＳ
１３）。なお、これら不良に関する情報はメモリ１８等
の記憶手段に格納し、すべての描画処理の終了後に一括
して表示（ロギング処理）してもよい。

【００４３】その後、すべての領域における描画状態の
確認作業が終了したか否かが判定され（ステップＳ１
４）、未終了の場合には、上記のステップＳ１からステ
ップＳ１３の処理が繰り返し行なわれ、すべての領域で
の処理が終了すると、描画装置における描画状態の確認
作業が終了する。

【００４４】その後、モニタに表示された不良箇所の情
報に基づいて描画装置のテーブル３の駆動系や露光ヘッ
ド１のレーザビーム走査系等の機械的あるいは光学的調
整が行なわれる。そして、調整が終了すると、再び上述
した描画状態の確認動作が繰り返され、不良箇所が修正
される。

【００４５】このように、本発明による描画装置では、
感光材に描画し、その描画状態を検査することなく描画
状態の良否の判定を行なうことができる。このため、不
要な感光材の使用が省略され、描画状態の確認作業を低
コストで行なうことができる。また、感光材を使用した
場合でも感光材に描画された画像の検査を行なわないた
め、感光材の現像処理が不要となる。このため、現像に
要する時間が省略され、短時間で効率的に描画状態の確
認作業を行なうことができる。なお、感光材を使用する
場合、新品ではなく、露光済（感光済）の感光材を使用
しても良く、経済的である。

【００４６】さらに、描画状態の良否の判定が一定の許
容値に基づいて行なわれる。このため、良否の判定基準
が明確となり、それによって調整作業が明確化され、調
整作業が容易となる。

【００４７】なお、上記実施例において、描画データと
理論データとの比較および判定処理（ステップＳ１０〜
Ｓ１３）は、各主走査ごとに行なってもよい。この場合
には、画像データの取り込みに関連する処理（ステップ
Ｓ５〜Ｓ８）は各主走査ごとに行なわれる。このような
処理は、特に各主走査ラインにおける画像の欠落の有無
の判定に有効となる。

【００４８】また、描画のすべての領域における画像デ
ータをメモリ１８に取り込んだ後（図４におけるステッ
プＳ５〜Ｓ８）、画像データと理論データとの比較およ
び判定処理（ステップＳ１０〜Ｓ１３）を行なうように
構成してもよい。この場合には、２つのストライプ領域
間の間隔の不良、副走査ピッチの不均一、画像の欠落等
の不良の検出を行なうことができる。

【００４９】なお、上記実施例においては、分割描画方
式の描画装置について説明したが、分割描画を行なわな
い描画装置に本発明を適用することも可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における描画装置のブロック
図である。

【図２】図１の描画装置の概略斜視図である。

【図３】図１の描画装置における描画状態の確認動作の
模式図である。

【図４】描画状態の確認動作のフローチャートである。

【図５】レーザビームの反射光のＣＣＤカメラへの入射
状態を示す模式図である。

【図６】テスト板における描画状態を示す模式図であ
る。

【図７】従来の乾板描画動作のフローチャートである。

【符号の説明】

１ 露光ヘッド ２ レーザ照射器 ３ テーブル ６ ＣＣＤカメラ ７ ハーフミラー １１ レーザ制御器 １２ 描画制御器 １７ 画像処理器 １８ メモリ １９ ＣＰＵ ３０ レーザビーム ３０ａ レーザビームの反射光 １００ テスト板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 描画データに基づいて被照射体上に光ビ
   ームを照射させて得られた画像の良否を判定する描画判
   定装置であって、 前記描画データに基づいて前記被照射体上に光ビームを
   点灯または消灯させながら主走査方向に走査させる光ビ
   ーム走査手段と、 前記光ビーム走査手段と前記被照射体とを相対的に副走
   査方向に移動させる移動手段と、 前記光ビーム走査手段により前記被照射体に走査された
   光ビームを撮像して画像データとして取り込む撮像手段
   と、 前記撮像手段により取り込まれた前記画像データと前記
   描画データとの相違部分における相違量を検出する検出
   手段と、 前記検出手段により検出された前記相違部分における相
   違量が所定の許容値を超えるか否かを判定する判定手段
   と、 前記判定手段によって前記相違量が前記所定の許容値を
   超えると判定された場合に、前記相違部分の情報を出力
   する出力手段とを備えたことを特徴とする描画判定装
   置。
2. 【請求項２】 前記撮像手段は、前記光ビーム走査手段
   により前記被照射体に走査される光ビームを各主走査ご
   とに画像データとして取り込み、 前記検出手段は、各主走査ごとに前記撮像手段により取
   り込まれた前記画像データと前記描画データの対応する
   部分との相違部分における相違量を検出し、 前記判定手段は、各主走査ごとに前記検出手段により検
   出された前記相違部分における相違量が所定の許容値を
   超えるか否かを判定することを特徴とする請求項１記載
   の描画判定装置。
3. 【請求項３】 記憶手段をさらに備え、 前記光ビーム走査手段は、前記被照射体上において複数
   の短冊状の領域の各々に順次光ビームを点灯または消灯
   させながら主走査方向に走査させ、 前記撮像手段は、隣接する各２つの前記領域において順
   次走査される光ビームを撮像して取り込んだ画像データ
   を前記記憶手段に記憶させ、 前記検出手段は、前記記憶手段に記憶された各２つの領
   域に対応する画像データと前記描画データの対応する部
   分との相違部分における相違量を検出し、 前記判定手段は、各２つの領域において前記検出手段に
   より検出された前記相違部分における相違量が所定の許
   容値を越えるか否かを判定することを特徴とする請求項
   １記載の描画判定装置。
4. 【請求項４】 前記検出手段は、前記記憶手段に記憶さ
   れた前記隣接する各２つの領域に対応する画像データと
   前記描画データの対応する部分とを比較して前記各２つ
   の領域間のつなぎ目の間隔の相違量を検出し、 前記判定手段は、前記検出手段により検出された前記つ
   なぎ目の間隔の相違量が所定の範囲内にあるか否かを判
   定することを特徴とする請求項３記載の描画判定装置。
5. 【請求項５】 記憶手段をさらに備え、 前記撮像手段は、前記被照射体上の全ての領域において
   走査される光ビームを撮像して取り込んだ画像データを
   前記記憶手段に記憶させ、 前記検出手段は、前記記憶手段に記憶された前記全ての
   領域の画像データと前記描画データとの相違部分におけ
   る相違量を検出し、 前記判定手段は、前記全ての領域において前記検出手段
   により検出された前記相違部分の相違量が所定の許容値
   を超えるか否かを判定することを特徴とする請求項１記
   載の描画判定装置。