JPH11166665A - 真空弁及びその制御方法 - Google Patents
真空弁及びその制御方法Info
- Publication number
- JPH11166665A JPH11166665A JP33754997A JP33754997A JPH11166665A JP H11166665 A JPH11166665 A JP H11166665A JP 33754997 A JP33754997 A JP 33754997A JP 33754997 A JP33754997 A JP 33754997A JP H11166665 A JPH11166665 A JP H11166665A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- spring
- piston
- vacuum
- valve stem
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、オフバランスの変化を防止でき、
弁の開き際の流量特性がなだらかに変化する真空弁を提
供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、少なくとも、弁を開閉するた
めの弁軸と、操作空気圧により制御され、弁軸を制御す
るピストンと、弁座とにより構成される真空弁におい
て、前記ピストンと前記弁軸とは第１のスプリングを介
して設けられており、前記弁軸下部には第２のスプリン
グを介して傾斜板が設けられていることを特徴とする。
弁の開き際の流量特性がなだらかに変化する真空弁を提
供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、少なくとも、弁を開閉するた
めの弁軸と、操作空気圧により制御され、弁軸を制御す
るピストンと、弁座とにより構成される真空弁におい
て、前記ピストンと前記弁軸とは第１のスプリングを介
して設けられており、前記弁軸下部には第２のスプリン
グを介して傾斜板が設けられていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体製造装置内のチャンバ
ーの真空排気用途に適用する真空弁に関する。
ーの真空排気用途に適用する真空弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より利用されている一般的な半導体
製造装置の構成を図７に示す。
製造装置の構成を図７に示す。
【０００３】図７に示した通り、ロードロックチャンバ
ー（以下、ＬＬＣとする）にセットアップされたウエハ
ーはトランスファーチャンバー（以下、ＴＣとする）を
介してプロセスチャンバー（以下、ＰＣとする）に収納
され、ＣＶＤ、エッチング等のウエハー処理が実施され
る。前記処理完了後、ウエハーはＴＣを介してアンロー
ドチャンバー（以下、ＵＬＣとする）に移送される。そ
して、ここから半導体製造装置外に搬出される。
ー（以下、ＬＬＣとする）にセットアップされたウエハ
ーはトランスファーチャンバー（以下、ＴＣとする）を
介してプロセスチャンバー（以下、ＰＣとする）に収納
され、ＣＶＤ、エッチング等のウエハー処理が実施され
る。前記処理完了後、ウエハーはＴＣを介してアンロー
ドチャンバー（以下、ＵＬＣとする）に移送される。そ
して、ここから半導体製造装置外に搬出される。
【０００４】この一連の装置内のウエハーの移送は、瞬
間的なガスの高速流によるパーティクルの舞い上がりを
防止するために両チャンバー間の差圧を一定値以下に抑
さえた真空中で行われる。しかし、装置外は大気圧力な
のでＬＬＣ、ＵＬＣでは、大気圧力と真空との圧力制御
が不可欠である。
間的なガスの高速流によるパーティクルの舞い上がりを
防止するために両チャンバー間の差圧を一定値以下に抑
さえた真空中で行われる。しかし、装置外は大気圧力な
のでＬＬＣ、ＵＬＣでは、大気圧力と真空との圧力制御
が不可欠である。
【０００５】このＬＬＣ、ＵＬＣにおいてウエハーの授
受を行った後はチャンバーをＴＣと同一圧力まで真空排
気する。この時、急速排気を行うと、上述と同様にパー
ティクルが舞い上がり防止のため、ガス流動を極少とす
る様にゆっくりと真空排気しなければならない。そのた
めスロー排気が必要条件となる。
受を行った後はチャンバーをＴＣと同一圧力まで真空排
気する。この時、急速排気を行うと、上述と同様にパー
ティクルが舞い上がり防止のため、ガス流動を極少とす
る様にゆっくりと真空排気しなければならない。そのた
めスロー排気が必要条件となる。
【０００６】歴史的に上述の真空排気部分は、図８に示
すフローで実施されてきた。即ち、先ずサイズの小さな
子弁を先に開き、小流量排気を実施する。その後、ガス
密度が十分低下しパーティクルの舞い上がりの危険性の
無い真空度に達してから主弁を開き、排気コンダクタン
スを上げＴＣと同一圧力まで真空排気する方式である。
すフローで実施されてきた。即ち、先ずサイズの小さな
子弁を先に開き、小流量排気を実施する。その後、ガス
密度が十分低下しパーティクルの舞い上がりの危険性の
無い真空度に達してから主弁を開き、排気コンダクタン
スを上げＴＣと同一圧力まで真空排気する方式である。
【０００７】また、半導体製造装置の小型化のため、一
部の装置では図７に示すような子弁内蔵型の真空弁が採
用されてきた。
部の装置では図７に示すような子弁内蔵型の真空弁が採
用されてきた。
【０００８】ここで、子弁を利用したスロー排気につい
て詳述する。従来技術におけるスロー排気は、オリフィ
スを２段階に制御する方式であった。
て詳述する。従来技術におけるスロー排気は、オリフィ
スを２段階に制御する方式であった。
【０００９】この方式の制御によるチャンバー内圧力の
推移を図１０に示す。図１０の排気開始時の傾きは、上
述した通りパーティクル舞い上がり防止に直接影響する
要素である。このため、子弁のオリフィスのサイズが大
きければ、排気直後のパーティクル舞い上がり防止効果
が薄れるし、小さすぎれば真空排気時間がプロセスタイ
ムの増大となってしまう。
推移を図１０に示す。図１０の排気開始時の傾きは、上
述した通りパーティクル舞い上がり防止に直接影響する
要素である。このため、子弁のオリフィスのサイズが大
きければ、排気直後のパーティクル舞い上がり防止効果
が薄れるし、小さすぎれば真空排気時間がプロセスタイ
ムの増大となってしまう。
【００１０】従って、オリフィス２段階制御方式による
スロー排気では性能的限界があり、チャンバー内ガス密
度に排気速度が反比例するような理想的な排気特性、即
ち図１０に示すような通続的に真空度が変化する真空排
気特性を有するスロー排気が要求される。
スロー排気では性能的限界があり、チャンバー内ガス密
度に排気速度が反比例するような理想的な排気特性、即
ち図１０に示すような通続的に真空度が変化する真空排
気特性を有するスロー排気が要求される。
【００１１】図１０に示す理想的排気特性を得るために
は、排気弁のオリフィスが連続的に変化する必要があ
る。そのため従来より図１１に示す様な真空弁が用いら
れており、この真空弁は、弁の操作空気圧を徐々に変化
させながら排気制御することによって弁開面積が連続的
に変化し、図１０の様な真空排気特性を得ることができ
る。
は、排気弁のオリフィスが連続的に変化する必要があ
る。そのため従来より図１１に示す様な真空弁が用いら
れており、この真空弁は、弁の操作空気圧を徐々に変化
させながら排気制御することによって弁開面積が連続的
に変化し、図１０の様な真空排気特性を得ることができ
る。
【００１２】しかしながら、上述の真空排気弁には以下
のような問題点がある。
のような問題点がある。
【００１３】まず、弁の操作空気圧制御をする場合の基
本となる真空排気弁の弁開度に対する操作空気圧力の特
性を図１２に示す。
本となる真空排気弁の弁開度に対する操作空気圧力の特
性を図１２に示す。
【００１４】本制御においては、制御開始後即座に図１
２に示したＡ点まで操作空気圧力を与え、さらにＢ点付
近までゆっくりと変化させる必要がある。Ｂ点付近以降
は、要求されるチャンバー真空度に応じて徐徐に操作空
気圧力の変化を早めていげばよい。本制御方式では、Ｂ
点以降につきチャンバーに設置されている圧力センサー
によってフィードバック制御され容易に制御可能であ
る。しかしながら、Ａ〜Ｂ点までは圧力センサーの検出
限界以下のためフィードバックが無く真空排気弁の開き
際の特性に依存していた。
２に示したＡ点まで操作空気圧力を与え、さらにＢ点付
近までゆっくりと変化させる必要がある。Ｂ点付近以降
は、要求されるチャンバー真空度に応じて徐徐に操作空
気圧力の変化を早めていげばよい。本制御方式では、Ｂ
点以降につきチャンバーに設置されている圧力センサー
によってフィードバック制御され容易に制御可能であ
る。しかしながら、Ａ〜Ｂ点までは圧力センサーの検出
限界以下のためフィードバックが無く真空排気弁の開き
際の特性に依存していた。
【００１５】そのため、スロー排気制御をする場合、上
記図１１の真空排気弁は、長時間放置後、弁のオフバラ
ンス（弁開時の操作空気圧力）が変化し、操作空気庄変
化に対する弁開度変化が大きいため、弁の開き際の立ち
上がりが急峻であるという問題点がおこり、そのため、
図１２のＡ〜Ｂ点の制御が困難となっていた。
記図１１の真空排気弁は、長時間放置後、弁のオフバラ
ンス（弁開時の操作空気圧力）が変化し、操作空気庄変
化に対する弁開度変化が大きいため、弁の開き際の立ち
上がりが急峻であるという問題点がおこり、そのため、
図１２のＡ〜Ｂ点の制御が困難となっていた。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オフバラン
スの変化を防止でき、弁の開き際の流量特性がなだらか
に変化する真空弁を提供することを目的とする。
スの変化を防止でき、弁の開き際の流量特性がなだらか
に変化する真空弁を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明の真空弁は、少な
くとも、弁を開閉するための弁軸と、操作空気圧により
制御され、弁軸を制御するピストンと、弁座とにより構
成される真空弁において、前記ピストンと前記弁軸とは
第１のスプリングを介して設けられており、前記弁軸下
部には第２のスプリングを介して傾斜板が設けられてい
ることを特徴とする。
くとも、弁を開閉するための弁軸と、操作空気圧により
制御され、弁軸を制御するピストンと、弁座とにより構
成される真空弁において、前記ピストンと前記弁軸とは
第１のスプリングを介して設けられており、前記弁軸下
部には第２のスプリングを介して傾斜板が設けられてい
ることを特徴とする。
【００１８】また、本発明の真空弁の制御方法は、少な
くとも、操作空気圧により制御されるピストンと、弁の
開閉をための弁軸と弁座とにより構成される真空弁にお
いて、前記弁軸は、前記ピストンの始動に対し遅延して
始動し、前記弁の開閉の始動は、制御された弁座リーク
により、かつ前記弁軸の始動に対して遅延することを特
徴とする。
くとも、操作空気圧により制御されるピストンと、弁の
開閉をための弁軸と弁座とにより構成される真空弁にお
いて、前記弁軸は、前記ピストンの始動に対し遅延して
始動し、前記弁の開閉の始動は、制御された弁座リーク
により、かつ前記弁軸の始動に対して遅延することを特
徴とする。
【００１９】
【実施例】図１に本発明の真空排気弁の実施例を示す。
【００２０】本実施例では、図１に示す通りベローズシ
ール型の真空排気弁を用い、ノーマリークローズ型とし
た。同図は弁が全閉の状態である。
ール型の真空排気弁を用い、ノーマリークローズ型とし
た。同図は弁が全閉の状態である。
【００２１】まず、上部より構成を説明すると、図１に
示されたとおり、弁軸１とピストン２とは上部スプリン
グ３及びスプリング押さえ４を介して構成されており、
ピストン２とシリンダ５はＯ−リング６によりシールさ
れている。
示されたとおり、弁軸１とピストン２とは上部スプリン
グ３及びスプリング押さえ４を介して構成されており、
ピストン２とシリンダ５はＯ−リング６によりシールさ
れている。
【００２２】この構成とすることによりオフバランス変
化を防止することができる。
化を防止することができる。
【００２３】詳述すると、オフバランス変化の原因は、
摺動部の静摩擦の時間的変化であり、そのほとんどがピ
ストン２外周部のシールを司るゴム製のＯ−リング６が
占めている。このことは、図４を参照すると明らかで、
Ｏ−リング６は時間とともにシリンダ２内壁の微細な凹
凸に食い込んでいく。そのため初動時には通常の摺動抵
抗の他に、ピストンとＯ−リング６との引き剥がし力も
必要となる。これが、真空排気弁のオフバランス変化の
原因である。
摺動部の静摩擦の時間的変化であり、そのほとんどがピ
ストン２外周部のシールを司るゴム製のＯ−リング６が
占めている。このことは、図４を参照すると明らかで、
Ｏ−リング６は時間とともにシリンダ２内壁の微細な凹
凸に食い込んでいく。そのため初動時には通常の摺動抵
抗の他に、ピストンとＯ−リング６との引き剥がし力も
必要となる。これが、真空排気弁のオフバランス変化の
原因である。
【００２４】この点を解決するために、ピストン２に空
走距離を持たせ、予めシリンダ５内壁の凹凸からＯ−リ
ング６を引きはがし、その後弁軸を動作させる構造とし
た。
走距離を持たせ、予めシリンダ５内壁の凹凸からＯ−リ
ング６を引きはがし、その後弁軸を動作させる構造とし
た。
【００２５】なお、このピストン２の空走距離の範囲は
αとなる。
αとなる。
【００２６】本実施例では、これにより、ピストンの始
動と同時に弁軸が始動せず、遅れて弁軸が始動するよう
になった。
動と同時に弁軸が始動せず、遅れて弁軸が始動するよう
になった。
【００２７】次に、弁シート付近を詳述する。
【００２８】従来例の図１１の真空排気弁は、弁シート
２１と弁軸２０が直結しているため弁軸２０の動作と弁
シート２１の開口面積とが比例するという弁開き際の特
性があるが、図１の本実施例では、その特性を改善する
ため、弁シート７と弁軸１とを切り離した構成となって
おり、内部に下部スプリング８を設けることによって弁
軸１についても空走距離を持たせた構成としている。な
お、この空走距離の範囲はβとして示されている。この
弁軸１の空走距離を移動する間、弁軸１は、その下部に
設けられている下部スプリング８によって弁シート７は
弁本体９に押しつけられたままとなる。
２１と弁軸２０が直結しているため弁軸２０の動作と弁
シート２１の開口面積とが比例するという弁開き際の特
性があるが、図１の本実施例では、その特性を改善する
ため、弁シート７と弁軸１とを切り離した構成となって
おり、内部に下部スプリング８を設けることによって弁
軸１についても空走距離を持たせた構成としている。な
お、この空走距離の範囲はβとして示されている。この
弁軸１の空走距離を移動する間、弁軸１は、その下部に
設けられている下部スプリング８によって弁シート７は
弁本体９に押しつけられたままとなる。
【００２９】さらに本実施例では、下部スプリング８の
下に座が傾斜したスプリングベース１０を設けることに
より弁軸１が空走距離βを移動する間に制御された弁座
リークが発生する構造とした。この構造とすることによ
り、図５のような弁開き際の特性を変えることができ、
精度の良いスロー排気が可能となった。
下に座が傾斜したスプリングベース１０を設けることに
より弁軸１が空走距離βを移動する間に制御された弁座
リークが発生する構造とした。この構造とすることによ
り、図５のような弁開き際の特性を変えることができ、
精度の良いスロー排気が可能となった。
【００３０】尚、上記座が傾斜したスプリングベース１
０の代わりに、図６のようなＶ字断面の穴開きパッキン
を弁シートとして用いても同様な効果が得られた。
０の代わりに、図６のようなＶ字断面の穴開きパッキン
を弁シートとして用いても同様な効果が得られた。
【００３１】次に、図１の構造図を用いて本発明の弁の
動作を説明する。
動作を説明する。
【００３２】１）初期静止状態（弁閉止状態） 本実施例の図１の弁は、常時閉（Normally Closed）型
を採用したため、操作空気圧の無い状態では，同図のよ
うに弁は閉止状態である。
を採用したため、操作空気圧の無い状態では，同図のよ
うに弁は閉止状態である。
【００３３】２）ピストン２の空走距離間の移動（弁閉
止状態） 次に、操作空気圧口１１より空気が導入されると、上部
スプリング３によって下方に押し下げられていたピスト
ン２は操作空気圧にて上方に押し上げられる。この状態
はピストン２は空走距離間を移動しており、弁は閉止状
態である。なお、前記空走距離の範囲は図１に示された
αである。詳細は、図２に示すとおりである。
止状態） 次に、操作空気圧口１１より空気が導入されると、上部
スプリング３によって下方に押し下げられていたピスト
ン２は操作空気圧にて上方に押し上げられる。この状態
はピストン２は空走距離間を移動しており、弁は閉止状
態である。なお、前記空走距離の範囲は図１に示された
αである。詳細は、図２に示すとおりである。
【００３４】なお、この時、長時間静止状態にあった場
合でもＯ−リング６のゴム材はシリンダ５の壁の微小な
凹凸より引き剥がされることになり、弁シート７はベロ
ーズ内部のスプリング１２によって弁本体９に押し付け
られて弁閉止状態をキープする。
合でもＯ−リング６のゴム材はシリンダ５の壁の微小な
凹凸より引き剥がされることになり、弁シート７はベロ
ーズ内部のスプリング１２によって弁本体９に押し付け
られて弁閉止状態をキープする。
【００３５】３）弁軸の移動／空走距離β間の移動（弁
座リーク領域） 次に、操作空気圧をさらに高めていき、ピストン２によ
って発生する駆動力がベローズ内部に設置されているス
プリング１２の弾性力に打ち勝った時、弁軸１が持ち上
げられる。この状態で弁シート７は、弁シー卜７内の下
部スプリング８の弾性力によって、まだ弁本体９に押し
つけられている。詳細は、図２に示すとおりである。し
かし、弁シート７内の下部スプリング８はその座面の傾
いている（傾斜角度＝θ）スプリングベース１０ために
弁本体９への押しつけ力が不均一化し、一方向から弁座
リークし始める。このとき、弁座のリークの程度は傾斜
角度θによるため、この傾斜角度θで所望の弁座リーク
量を制御する。
座リーク領域） 次に、操作空気圧をさらに高めていき、ピストン２によ
って発生する駆動力がベローズ内部に設置されているス
プリング１２の弾性力に打ち勝った時、弁軸１が持ち上
げられる。この状態で弁シート７は、弁シー卜７内の下
部スプリング８の弾性力によって、まだ弁本体９に押し
つけられている。詳細は、図２に示すとおりである。し
かし、弁シート７内の下部スプリング８はその座面の傾
いている（傾斜角度＝θ）スプリングベース１０ために
弁本体９への押しつけ力が不均一化し、一方向から弁座
リークし始める。このとき、弁座のリークの程度は傾斜
角度θによるため、この傾斜角度θで所望の弁座リーク
量を制御する。
【００３６】４）弁リニア動力開始 さらに操作空気圧を上げていくと、弁本体９に押し付け
られていた側の弁シート７も空走距離β間を過ぎ、弁は
操作空気圧に対してリニアに開き始める。
られていた側の弁シート７も空走距離β間を過ぎ、弁は
操作空気圧に対してリニアに開き始める。
【００３７】即ち、静摩擦係数は、一般に動摩擦係数よ
り大きいため、初動に少し大きめの力を要するが、動き
始めると摩擦力は小さくなる。そのため、この段階にな
ると、微妙なコントロールを要する場合、動摩擦の状態
だけをコントロール範囲に使用すればよい。なお、ピス
トンを常に回転させておいても同様の効果が得られる。
り大きいため、初動に少し大きめの力を要するが、動き
始めると摩擦力は小さくなる。そのため、この段階にな
ると、微妙なコントロールを要する場合、動摩擦の状態
だけをコントロール範囲に使用すればよい。なお、ピス
トンを常に回転させておいても同様の効果が得られる。
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、従来困難であった真空
排気弁のオフバランス変化を極少化でき、真空排気弁の
開き際の流量特性をなだらかに変化するようにできる。
排気弁のオフバランス変化を極少化でき、真空排気弁の
開き際の流量特性をなだらかに変化するようにできる。
【００３９】さらに、本発明によれば、真空弁の操作空
気圧制御による連続的開口面積変化を安価に達成でき
る。また、チャンバー内のガス密度変化に対応する真空
排気が可能となった。
気圧制御による連続的開口面積変化を安価に達成でき
る。また、チャンバー内のガス密度変化に対応する真空
排気が可能となった。
【００４０】さらに、本発明によれば、弁軸の空走距離
範囲内と弁全開の２段階に操作空気を与えることができ
るため、従来の２段動作弁の機能を安価に達成できる。
範囲内と弁全開の２段階に操作空気を与えることができ
るため、従来の２段動作弁の機能を安価に達成できる。
【図１】本発明の真空弁の断面図である。
【図２】本発明の上部スプリング付近の拡大断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の下部スプリング付近の拡大断面図であ
る。
る。
【図４】動作中のＯ−リングとシリンダ壁との関係図で
ある。
ある。
【図５】本実施例に係る弁開き際の特性を示すグラフで
ある。
ある。
【図６】他の実施例の弁構造の断面図である。
【図７】一般的な半導体製造装置の構成図である。
【図８】ロードロックチャンバーの真空排気系の構成図
である。
である。
【図９】２段動作型真空排気弁の一例の断面図である。
【図１０】従来と理想との真空排気特性を示す図であ
る。
る。
【図１１】従来の空気圧作動式真空排気弁の断面図であ
る。
る。
１ 弁軸、 ２ ピストン、 ３ 上部スプリング、 ４ スプリング押さえ、 ５ シリンダ、 ６ Ｏ−リング、 ７ 弁シート７、 ８ 下部スプリング、 ９ 弁本体、 １０ スプリングベース。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年１２月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の真空弁の断面図である。
【図２】本発明の上部スプリング付近の拡大断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の下部スプリング付近の拡大断面図であ
る。
る。
【図４】動作中のＯ−リングとシリンダ壁との関係図で
ある。
ある。
【図５】本実施例に係る弁開き際の特性を示すグラフで
ある。
ある。
【図６】他の実施例の弁構造の断面図である。
【図７】一般的な半導体製造装置の構成図である。
【図８】ロードロックチャンバーの真空排気系の構成図
である。
である。
【図９】２段動作型真空排気弁の一例の断面図である。
【図１０】従来と理想との真空排気特性を示す図であ
る。
る。
【図１１】従来の空気圧作動式真空排気弁の断面図であ
る。
る。
【図１２】真空排気弁の弁開度に対する操作空気圧力の
特性を示すグラフである。
特性を示すグラフである。
【符号の説明】 １ 弁軸、 ２ ピストン、 ３ 上部スプリング、 ４ スプリング押さえ、 ５ シリンダ、 ６ Ｏ−リング、 ７ 弁シート７、 ８ 下部スプリング、 ９ 弁本体、 １０ スプリングベース。
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも、弁を開閉するための弁軸
と、操作空気圧により制御され、弁軸を制御するピスト
ンと、弁座とにより構成される真空弁において、 前記ピストンと前記弁軸とは第１のスプリングを介して
設けられており、 前記弁軸下部には第２のスプリングを介して傾斜板が設
けられていることを特徴とする真空弁。 - 【請求項２】 少なくとも、操作空気圧により制御され
るピストンと、弁の開閉をための弁軸と弁座とにより構
成される真空弁において、 前記弁軸は、前記ピストンの始動に対し遅延して始動
し、 前記弁の開閉の始動は、制御された弁座リークにより、
かつ前記弁軸の始動に対して遅延することを特徴とする
真空弁の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33754997A JPH11166665A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 真空弁及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33754997A JPH11166665A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 真空弁及びその制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11166665A true JPH11166665A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18309702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33754997A Pending JPH11166665A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 真空弁及びその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11166665A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007042929A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | ロードロック装置とその方法及び半導体製造装置 |
| CN104369896A (zh) * | 2014-11-12 | 2015-02-25 | 山西江淮重工有限责任公司 | 密封包装箱抽真空及充氮气装置 |
| CN108194443A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-06-22 | 中铁隧道局集团有限公司 | 一种用于盾构机的速度集成装置 |
| CN114110186A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-03-01 | 美洲豹(浙江)航空装备有限公司 | 一种真空阀 |
| KR20220054217A (ko) * | 2020-10-23 | 2022-05-02 | 주식회사 에스알티 | 앵글밸브 |
-
1997
- 1997-12-08 JP JP33754997A patent/JPH11166665A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007042929A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | ロードロック装置とその方法及び半導体製造装置 |
| CN104369896A (zh) * | 2014-11-12 | 2015-02-25 | 山西江淮重工有限责任公司 | 密封包装箱抽真空及充氮气装置 |
| CN108194443A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-06-22 | 中铁隧道局集团有限公司 | 一种用于盾构机的速度集成装置 |
| CN108194443B (zh) * | 2018-03-13 | 2019-07-09 | 中铁隧道局集团有限公司 | 一种用于盾构机的速度集成装置 |
| KR20220054217A (ko) * | 2020-10-23 | 2022-05-02 | 주식회사 에스알티 | 앵글밸브 |
| CN114110186A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-03-01 | 美洲豹(浙江)航空装备有限公司 | 一种真空阀 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8807914B2 (en) | Seal device and method for operating the same and substrate processing apparatus comprising a vacuum chamber | |
| CA1322740C (en) | Controlled by-pass for a booster pump | |
| US6478923B1 (en) | Vacuum operation apparatus | |
| JP6368882B1 (ja) | ゲートバルブの制御方法 | |
| JPH11166665A (ja) | 真空弁及びその制御方法 | |
| JP2009252953A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH11182699A (ja) | ゲートバルブ | |
| US6711956B2 (en) | Method and apparatus for regulating exhaust pressure in evacuation system of semiconductor process chamber | |
| JPH06288493A (ja) | 真空バルブ | |
| JP3239166B2 (ja) | 流量制御弁 | |
| JP2003068713A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH05237361A (ja) | 真空用バルブ | |
| JP3154144B2 (ja) | チャンバー内の圧力変化方法及び圧力変化されるチャンバーを備えた装置 | |
| JPH068380Y2 (ja) | 真空ポンプ用バルブ | |
| JPH05205686A (ja) | 差動排気抵抗装置 | |
| JP2000133691A (ja) | 真空搬送装置 | |
| JP4816215B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2002025911A (ja) | 熱処理装置及びそのシール方法 | |
| KR20050103320A (ko) | 공정 챔버 | |
| JPH0642330Y2 (ja) | 駆動装置 | |
| JPH06314678A (ja) | 密閉式洗浄装置 | |
| JPH0551742A (ja) | 薄膜製造装置 | |
| JPH05248353A (ja) | 比例弁及びその作動方法 | |
| JP2000285843A (ja) | 真空予備室のベント方法および基板処理装置 | |
| JPH0992589A (ja) | 真空装置及び真空排気方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041119 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20041119 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050314 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070711 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070725 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070925 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071005 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080130 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |