JPH11163392A - Semiconductor relay - Google Patents

Semiconductor relay

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JPH11163392A
JPH11163392A JP32916597A JP32916597A JPH11163392A JP H11163392 A JPH11163392 A JP H11163392A JP 32916597 A JP32916597 A JP 32916597A JP 32916597 A JP32916597 A JP 32916597A JP H11163392 A JPH11163392 A JP H11163392A
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JP
Japan
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light
resin
mosfets
mosfet
photovoltaic element
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Pending
Application number
JP32916597A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunari Kuzuhara
一功 葛原
Tomohiro Inoue
智広 井上
Yasushi Tanaka
恭史 田中
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor relay which can be made compact and thin and is capable of improving yield in mounting. SOLUTION: On one surface of a flat-shaped circuit substrate 1, where a wiring pattern is formed into a predetermined shape, an LED2 and a photoelectromotive element 3 is subjected to die bonding through Ag paste or the like, and wire bonding is performed so as to electrically connect wiring pattern by Au wire 4 or the like. LED2 and the photoelectromotive element 3 are covered with a transparent resin 5 through which light is able to transmit, and the transparent resin 5 is further covered with a light-shielding resin 6 which does not transmit light. Also, at the mounting surface side for the photoelectromotive element 3 of the circuit substrate 1, MOSFETs 7a, 7b are flip-chip mounted via a bump 8 and the MOSFETs 7a, 7b are encapsulated by the light-proof resin 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光結合によるアイ
ソレーションを用いた半導体リレーに関するものであ
り、特にフォトモスリレーに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor relay using isolation by optical coupling, and more particularly to a photomos relay.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、従来例に係るフォトモスリレー
の回路図である。リレー入力端子9a,9b間には、発
光素子としての発光ダイオード(LED:Light Emitting
Diode)3が接続られ、LED2には、フォトダイオード
アレイ10が光学的に結合されている。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a circuit diagram of a conventional photomos relay. A light emitting diode (LED: Light Emitting) as a light emitting element is provided between the relay input terminals 9a and 9b.
A photodiode array 3 is connected, and a photodiode array 10 is optically coupled to the LED 2.

【0003】フォトダイオードアレイ10のアノード
は、Nチャネル型のエンハンスメントモードの出力用のM
OSFET7a,7bのゲートに接続され、カソードは、抵
抗Rを介してMOSFET7a,7bのソースに接続されてい
る。
The anode of the photodiode array 10 has an M-channel output for an N-channel enhancement mode output.
The OSFETs 7a, 7b are connected to the gates, and the cathodes are connected via resistors R to the sources of the MOSFETs 7a, 7b.

【0004】また、出力用のMOSFET7a,7bのゲート
・ソース間には、Nチャネル型のデプレッションモード
の駆動用のMOSFET11のドレイン・ソース間が接続され
ている。この駆動用のMOSFET11のゲートは、フォトダ
イオードアレイ10のカソードに接続されている。
A drain-source of an N-channel depletion mode driving MOSFET 11 is connected between the gates and sources of the output MOSFETs 7a and 7b. The gate of the driving MOSFET 11 is connected to the cathode of the photodiode array 10.

【0005】そして、リレー出力端子12a,12bに
は、MOSFET7a,7bのドレインが各々接続され、MOSF
ET7a,7bのソースは、リレー出力端子12cに接続
されている。
The drains of MOSFETs 7a and 7b are connected to the relay output terminals 12a and 12b, respectively.
The sources of the ETs 7a and 7b are connected to the relay output terminal 12c.

【0006】以下、従来のフォトモスリレーの動作につ
いて、図3に基づき説明する。リレー入力端子9a,9
b間に入力電流が流れると、LED2が光信号を発生す
る。この光信号を受けてフォトダイオードアレイ10が
電流を発生する。この電流は常時オン状態にある駆動用
のMOSFET11を介して抵抗Rに流れ、抵抗Rで発生する
電圧が、駆動用のMOSFET11のスレッショルド電圧を越
えると、駆動用のMOSFET11がオフ状態なる。これによ
って、フォトダイオードアレイ10からの電流は、出力
用のMOSFET7a,7bのゲート・ソース間を充電し、そ
の充電電圧が出力用のMOSFET7a,7bのスレッショル
ド電圧を越えると、出力用のMOSFET7a,7bがオン状
態となり、リレー出力端子12a〜12c間が導通す
る。その後、駆動用のMOSFET11のドレイン・ソース間
を介して僅かな電流が抵抗Rに流れ、抵抗Rに生じるバ
イアス電圧によって駆動用のMOSFET11が高インピーダ
ンスに保持されるようになっている。
The operation of the conventional photomos relay will be described below with reference to FIG. Relay input terminals 9a, 9
When an input current flows between b, the LED 2 generates a light signal. Upon receiving this optical signal, the photodiode array 10 generates a current. This current flows to the resistor R via the driving MOSFET 11 which is always on, and when the voltage generated by the resistor R exceeds the threshold voltage of the driving MOSFET 11, the driving MOSFET 11 is turned off. As a result, the current from the photodiode array 10 charges the gates and sources of the output MOSFETs 7a and 7b. When the charged voltage exceeds the threshold voltage of the output MOSFETs 7a and 7b, the output MOSFETs 7a and 7b Is turned on, and the relay output terminals 12a to 12c conduct. Thereafter, a small current flows through the resistor R through the drain and source of the driving MOSFET 11, and the driving MOSFET 11 is held at a high impedance by the bias voltage generated at the resistor R.

【0007】次に、リレー入力端子9a,9b間の電流
が遮断されて、LED2から光信号がなくなると、フォト
ダイオードアレイ10からの電流がなくなる。このた
め、駆動用のMOSFET11のゲート・ソース間電圧が下が
り、駆動用のMOSFET11がオン状態となって、出力用の
MOSFET7a,7bのゲート・ソース間に蓄積されていた
電荷が駆動用のMOSFET11を通って急速に放電される。
これによって、出力用のMOSFET7a,7bはオフ状態と
なり、リレー出力端子12a〜12c間が遮断される。
Next, when the current between the relay input terminals 9a and 9b is cut off and there is no light signal from the LED 2, there is no current from the photodiode array 10. As a result, the gate-source voltage of the driving MOSFET 11 drops, and the driving MOSFET 11 is turned on, and the output MOSFET 11 is turned on.
The charges accumulated between the gates and sources of the MOSFETs 7a and 7b are rapidly discharged through the driving MOSFET 11.
As a result, the output MOSFETs 7a and 7b are turned off, and the relay output terminals 12a to 12c are shut off.

【0008】上述の回路では、出力用のMOSFET7a,7
bがオンされている定常状態においては、駆動用のMOSF
ET11を介して流れる電流が小さくても、抵抗Rの値を
上げることにより駆動用のMOSFET11をオフ状態に保持
するのに十分なバイアス電圧を得ることができる。
In the above circuit, the output MOSFETs 7a, 7
In the steady state where b is on, the driving MOSF
Even if the current flowing through the ET 11 is small, it is possible to obtain a bias voltage sufficient to hold the driving MOSFET 11 in the off state by increasing the value of the resistor R.

【0009】図4は、従来例に係るフォトモスリレーの
全体構成を示す概略断面図である。リードフレーム13
a上にMOSFET7a,7bと光起電力素子3とがAgペース
ト等でダイボンディングされ、ワイヤボンディングされ
ている。ここで、光起電力素子3とは、図3における、
フォトダイオードアレイ10,駆動用のMOSFET11及び
抵抗Rが1チップ化された素子のことである。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the entire structure of a conventional photomoss relay. Lead frame 13
The MOSFETs 7a and 7b and the photovoltaic element 3 are die-bonded on Ag, using Ag paste or the like, and wire-bonded. Here, the photovoltaic element 3 refers to
This is an element in which the photodiode array 10, the driving MOSFET 11, and the resistor R are integrated into one chip.

【0010】一方、リードフレーム13b上には、LED
2がAgペースト等でダイボンディングされ、ワイヤボン
ディングされて、リードフレーム13a,13bをLED
2と光起電力素子3とが対向するように配置されてい
る。
On the other hand, an LED is mounted on the lead frame 13b.
2 is die-bonded with Ag paste or the like, and wire-bonded, and the lead frames 13a and 13b are
2 and the photovoltaic element 3 are arranged to face each other.

【0011】そして、LED2と光起電力素子3間には、
光を透過する透光性樹脂5が充填され、全体を遮光性樹
脂から成るパッケージ14によりモールドされている。
この時、パッケージ14からは、リードフレーム13
a,13bの一端が突出する構成となっている。
Then, between the LED 2 and the photovoltaic element 3,
It is filled with a light-transmitting resin 5 that transmits light, and is entirely molded by a package 14 made of a light-shielding resin.
At this time, the lead frame 13 is removed from the package 14.
One end of each of a and 13b is configured to protrude.

【0012】ここで、MOSFET7a,7bを2チップ実装
すると、直流/交流用として両方使えるが、1チップに
すると、MOSFETのダイオード特性により直流用のみの使
用となる。
Here, if the MOSFETs 7a and 7b are mounted on two chips, both can be used for DC / AC, but if one chip is used, only DC is used due to the diode characteristics of the MOSFET.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な構成の半導体リレーにおいては、リードフレーム上に
各チップをダイボンディングし、ワイヤボンディングし
て、LEDと光起電力素子とを対向配置させるため、薄型
化、小型化の実現が難しいという問題があった。
However, in the semiconductor relay having the above-mentioned structure, each chip is die-bonded on a lead frame and wire-bonded, so that the LED and the photovoltaic element are arranged to face each other. However, there has been a problem that it is difficult to realize a reduction in thickness and size.

【0014】また、全体をパッケージ14によりモール
ドする際、モールドする樹脂の流れによりリードフレー
ム13a,13bが曲がることがあり、LED2と光起電
力素子3との対向距離を確保することが困難になり、実
装歩留りが悪くなるという問題があった。
Further, when the whole is molded by the package 14, the lead frames 13a and 13b may be bent due to the flow of the resin to be molded, and it becomes difficult to secure a facing distance between the LED 2 and the photovoltaic element 3. However, there is a problem that the mounting yield is deteriorated.

【0015】上述の問題を解決する方法として、特開平
4ー356974号公報に示すものがある。これは、基
材の同一面上に発光素子,光起電力素子及びMOS型トラ
ンジスタを配置し、ワイヤボンディングを行った後、発
光素子と光起電力素子とを透光性樹脂により封止した構
成である。
As a method for solving the above-mentioned problem, there is a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-356974. This is a structure in which a light emitting element, a photovoltaic element, and a MOS transistor are arranged on the same surface of a base material, and after performing wire bonding, the light emitting element and the photovoltaic element are sealed with a translucent resin. It is.

【0016】しかし、上述の構成においては、MOS型ト
ランジスタをワイヤボンディングする必要があるため、
基材にワイヤボンディングのためのパッドを形成する必
要があり、あまり小型化をすることができなかった。
However, in the above configuration, since it is necessary to wire-bond the MOS transistor,
It was necessary to form a pad for wire bonding on the base material, and it was not possible to reduce the size much.

【0017】本発明は、上記の点に鑑みて成されたもの
であり、その目的とするところは、小型化及び薄型化す
るとともに、実装歩留りを向上させることのできる半導
体リレーを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor relay which can be reduced in size and thickness and can improve a mounting yield. is there.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
配線パターンが形成された1枚の基板の同一面上に発光
素子及び光起電力素子が実装され、前記発光素子及び光
起電力素子が透光性樹脂により覆われ、該透光性樹脂が
遮光性樹脂により覆われ、MOSFETが前記基板にフリップ
チップ実装され、前記発光素子からの光が前記透光性樹
脂と前記遮光性樹脂との界面で反射して、前記光起電力
素子に受光されるようにしたことを特徴とするものであ
る。
According to the first aspect of the present invention,
A light emitting element and a photovoltaic element are mounted on the same surface of one substrate on which a wiring pattern is formed, and the light emitting element and the photovoltaic element are covered with a light transmitting resin, and the light transmitting resin is shielded from light. MOSFET is flip-chip mounted on the substrate, and light from the light emitting element is reflected at the interface between the light transmitting resin and the light shielding resin, and is received by the photovoltaic element. It is characterized by doing so.

【0019】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体リレーにおいて、前記MOSFETが、前記基板の、前記
光起電力素子実装面上および/または異なる面上にフリ
ップチップ実装されて成ることを特徴とするものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor relay according to the first aspect, the MOSFET is flip-chip mounted on the photovoltaic element mounting surface and / or a different surface of the substrate. It is characterized by the following.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づき説明する。なお、本実施形態に係るフォト
モスリレーの回路構成は、従来例として図3に示すフォ
トモスリレーの回路構成と同様である。また、本実施形
態においては、MOSFET7a,7b,11としてNチャネ
ル型を用いた場合について説明するが、Pチャネル型を
用いた場合にも適用できる。この場合、フォトダイオー
ドアレイ10の極性が逆向きとなるように接続される。
更に、従来例として図4に示すフォトモスリレーの各構
成箇所と同一箇所には同一符号を付して説明を省略す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The circuit configuration of the photo MOS relay according to the present embodiment is the same as the circuit configuration of the photo MOS relay shown in FIG. 3 as a conventional example. Further, in the present embodiment, a case where an N-channel type is used as the MOSFETs 7a, 7b, 11 will be described. In this case, the photodiodes 10 are connected so that the polarities of the photodiode arrays 10 are reversed.
Further, the same reference numerals are given to the same components as those of the photo MOS relay shown in FIG. 4 as a conventional example, and the description is omitted.

【0021】図1は、本発明の一実施形態に係るフォト
モスリレーの全体構成を示す概略断面図である。本実施
形態に係るフォトモスリレーは、所定形状にパターニン
グされた配線パターン(図示せず)が形成されて成る平
板状の回路基板1の一方の面に、LED2及び光起電力素
子3がAgペースト等によりダイボンディングされ、Auワ
イヤ4等により配線パターンと電気的に接続されるよう
にワイヤボンディングされている。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing the entire configuration of a photomos relay according to an embodiment of the present invention. In the photo MOS relay according to the present embodiment, an LED 2 and a photovoltaic element 3 are made of Ag paste on one surface of a flat circuit board 1 on which a wiring pattern (not shown) patterned in a predetermined shape is formed. And the like, and are wire-bonded by the Au wire 4 or the like so as to be electrically connected to the wiring pattern.

【0022】そして、LED2及び光起電力素子3は光を
透過する透光性樹脂5により覆われ、透光性樹脂5はさ
らに光を透過しない遮光性樹脂6により覆われている。
The LED 2 and the photovoltaic element 3 are covered with a light-transmitting resin 5 that transmits light, and the light-transmitting resin 5 is further covered with a light-shielding resin 6 that does not transmit light.

【0023】また、回路基板1の光起電力素子3実装面
側に、MOSFET7a,7bがバンプ8を介してフリップチ
ップ実装され、MOSFET7a,7bが遮光性樹脂6により
封止されている。
The MOSFETs 7 a and 7 b are flip-chip mounted on the photovoltaic element 3 side of the circuit board 1 via bumps 8, and the MOSFETs 7 a and 7 b are sealed with a light-shielding resin 6.

【0024】なお、本実施形態においては、回路基板1
にMOSFET7a,7bをフィリップチップ実装するため、
MOSFET7a,7bとして、例えばゲート,ソース,ドレ
イン電極がチップの同一平面上に存在するLDMOSFET(La
teral Double Diffused MOSFET)を用いるのが望ま
しい。
In this embodiment, the circuit board 1
In order to mount the MOSFETs 7a and 7b on the flip chip,
As the MOSFETs 7a and 7b, for example, an LDMOSFET (La MOSFET) having gate, source and drain electrodes existing on the same plane of the chip
teral Double Diffused MOSFET).

【0025】従って、本実施形態においては、1枚の回
路基板1上にLED2,光起電力素子3及びMOSFET7a,
7bを配置し、MOSFET7a,7bをフリップチップ実装
するようにしたので、回路基板1上にMOSFET7a,7b
のワイヤボンディングのためのパッドを形成する必要が
なく、フォトモスリレーを薄型化するとともに、小型化
することができる。
Therefore, in this embodiment, the LED 2, the photovoltaic element 3, the MOSFET 7a,
7b and the MOSFETs 7a and 7b are flip-chip mounted, so that the MOSFETs 7a and 7b are mounted on the circuit board 1.
Therefore, it is not necessary to form a pad for wire bonding, so that the photoMOS relay can be made thinner and smaller.

【0026】また、1枚の回路基板1上にLED2と光起
電力素子3とをダイボンディングしているので、封止に
よるリードフレーム曲がりがなく、実装歩留りを向上さ
せることができる。
Further, since the LED 2 and the photovoltaic element 3 are die-bonded on one circuit board 1, the lead frame does not bend due to sealing, and the mounting yield can be improved.

【0027】また、LED2と光起電力素子3とを透光性
樹脂5で覆い、透光性樹脂5を遮光性樹脂6で覆って、
透光性樹脂5と遮光性樹脂6との界面でLED2からの光
を反射させるようにしているので、LED2及び光起電力
素子3の位置合わせ精度が低くてもよい。
The LED 2 and the photovoltaic element 3 are covered with a light-transmitting resin 5, and the light-transmitting resin 5 is covered with a light-shielding resin 6.
Since the light from the LED 2 is reflected at the interface between the translucent resin 5 and the light-shielding resin 6, the alignment accuracy of the LED 2 and the photovoltaic element 3 may be low.

【0028】なお、本実施形態においては、2つのMOSF
ET7a,7bを回路基板1の光起電力実装面側にフリッ
プチップ実装するようにしたが、これに限定される必要
はなく、MOSFET7a,7bの内の1つを裏面にフリップ
チップ実装したり、図2に示すように、2つのMOSFET7
a,7bをフリップチップ実装してもよく、これにより
さらに小型化を図ることができる。
In this embodiment, two MOSFs are used.
The ETs 7a and 7b are flip-chip mounted on the photovoltaic mounting surface side of the circuit board 1. However, the present invention is not limited to this, and one of the MOSFETs 7a and 7b may be flip-chip mounted on the back surface. As shown in FIG.
a and 7b may be flip-chip mounted, thereby further reducing the size.

【0029】また、上述の実施形態において、LED2を
ダイボンディングして、ワイヤボンディングを行う場合
について説明したが、LED2として横向き実装用のワイ
ヤボンドレスタイプのLEDを用いるようにしてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where the LED 2 is die-bonded and the wire bonding is performed has been described. However, a wire bondless LED for horizontal mounting may be used as the LED 2.

【0030】また、上述の実施形態において、MOSFETを
2つ実装する場合について説明したが、これに限定され
る必要はなく、直流用に限定してMOSFETを1つだけ実装
するようにしてもよい。
In the above embodiment, the case where two MOSFETs are mounted has been described. However, the present invention is not limited to this, and only one MOSFET may be mounted only for DC. .

【0031】[0031]

【発明の効果】請求項1記載の発明は、配線パターンが
形成された1枚の基板の同一面上に発光素子及び光起電
力素子が実装され、発光素子及び光起電力素子が透光性
樹脂により覆われ、透光性樹脂が遮光性樹脂により覆わ
れ、MOSFETが基板にフリップチップ実装され、発光素子
からの光が透光性樹脂と遮光性樹脂との界面で反射し
て、光起電力素子に受光されるようにしたので、リード
フレーム曲がりがなく、MOSFETをワイヤボンディングす
るためのパッドを基板に形成する必要がなく、小型化及
び薄型化するとともに、実装歩留りを向上させることの
できる半導体リレーを提供することができた。
According to the first aspect of the present invention, a light emitting element and a photovoltaic element are mounted on the same surface of one substrate on which a wiring pattern is formed, and the light emitting element and the photovoltaic element are translucent. Covered with resin, the translucent resin is covered with the light-blocking resin, the MOSFET is flip-chip mounted on the substrate, and light from the light emitting element is reflected at the interface between the light-transmitting resin and the light-blocking resin. Since the light is received by the power element, there is no bending of the lead frame, and there is no need to form a pad for wire bonding the MOSFET on the substrate, so that the size and thickness can be reduced and the mounting yield can be improved. A semiconductor relay could be provided.

【0032】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体リレーにおいて、MOSFETが、基板の、光起電力素子
実装面上および/または異なる面上にフリップチップ実
装されて成るので、さらに小型化を図ることができる。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor relay of the first aspect, the MOSFET is flip-chip mounted on a photovoltaic element mounting surface and / or a different surface of the substrate, so that the size is further reduced. Can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係るフォトモスリレーの
全体構成を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an overall configuration of a photomos relay according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施形態に係るフォトモスリレー
の全体構成を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an overall configuration of a photo MOS relay according to another embodiment of the present invention.

【図3】従来例に係るフォトモスリレーの回路図であ
る。
FIG. 3 is a circuit diagram of a photo MOS relay according to a conventional example.

【図4】従来例に係るフォトモスリレーの全体構成を示
す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the entire configuration of a photomos relay according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 回路基板 2 LED 3 光起電力素子 4 Auワイヤ 5 透光性樹脂 6 遮光性樹脂 7a,7b MOSFET 8 バンプ 9a,9b リレー入力端子 10 フォトダイオードアレイ 11 MOSFET 12a〜12c リレー出力端子 13a,13b リードフレーム 14 パッケージ R 抵抗 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Circuit board 2 LED 3 Photovoltaic element 4 Au wire 5 Translucent resin 6 Light-shielding resin 7a, 7b MOSFET 8 Bump 9a, 9b Relay input terminal 10 Photodiode array 11 MOSFET 12a-12c Relay output terminal 13a, 13b Lead Frame 14 Package R Resistance

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配線パターンが形成された1枚の基板の
同一面上に発光素子及び光起電力素子が実装され、前記
発光素子及び光起電力素子が透光性樹脂により覆われ、
該透光性樹脂が遮光性樹脂により覆われ、MOSFETが前記
基板にフリップチップ実装され、前記発光素子からの光
が前記透光性樹脂と前記遮光性樹脂との界面で反射し
て、前記光起電力素子に受光されるようにしたことを特
徴とする半導体リレー。
1. A light emitting element and a photovoltaic element are mounted on the same surface of one substrate on which a wiring pattern is formed, and the light emitting element and the photovoltaic element are covered with a translucent resin.
The light-transmitting resin is covered with a light-shielding resin, a MOSFET is flip-chip mounted on the substrate, and light from the light-emitting element is reflected at an interface between the light-transmitting resin and the light-shielding resin, and A semiconductor relay characterized in that light is received by an electromotive element.
【請求項2】 前記MOSFETが、前記基板の、前記光起電
力素子実装面上および/または異なる面上にフリップチ
ップ実装されて成ることを特徴とする請求項1記載の半
導体リレー。
2. The semiconductor relay according to claim 1, wherein said MOSFET is flip-chip mounted on said photovoltaic element mounting surface and / or on a different surface of said substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005502205A (en) * 2001-08-31 2005-01-20 フェアチャイルド セミコンダクター コーポレイション Surface mountable optical coupling device package

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005502205A (en) * 2001-08-31 2005-01-20 フェアチャイルド セミコンダクター コーポレイション Surface mountable optical coupling device package

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