JPH11163229A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacture thereof

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JPH11163229A
JPH11163229A JP32426697A JP32426697A JPH11163229A JP H11163229 A JPH11163229 A JP H11163229A JP 32426697 A JP32426697 A JP 32426697A JP 32426697 A JP32426697 A JP 32426697A JP H11163229 A JPH11163229 A JP H11163229A
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JP
Japan
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insulating sheet
sealing
semiconductor device
resin
semiconductor chip
Prior art date
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Application number
JP32426697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Takebe
堅一 建部
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP32426697A priority Critical patent/JPH11163229A/en
Publication of JPH11163229A publication Critical patent/JPH11163229A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a semiconductor device in heat dissipating properties and to protect a sealing body against warpages. SOLUTION: A semiconductor device consists of a tab 2a which supports a semiconductor chip 1, an inner lead 2b where a bump mount 2c mounted with a bump 3 extending toward the periphery of the tab 2a is provided, an outer thin insulating sheet 4 which is bonded to the underside 2d of the inner lead 2b to support the inner leads 2b and to insulate an adjacent bump 3, a heat sink 6 which is bonded to an inner thin insulating sheet 5 and equipped with an exposed part 61, a bonding wire 7 which electrically connects the semiconductor chip 1 to the inner leads 2b, and a encapsulating body 8 which encapsulates the semiconductor chip 1 and the bonding wires 7 with resin. The inner leads 2b are insulated from the heat sink 6 by an inner thin insulating sheet 5, and heat is transferred from the inner leads 5 to the heat sink 6 through the insulating sheet 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
その製造技術に関し、特に、外部端子にバンプが設けら
れかつリードフレームを用いて製造する半導体装置およ
びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a technique for manufacturing the same, and more particularly to a semiconductor device having external terminals provided with bumps and manufactured using a lead frame and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The technology described below studies the present invention,
Upon completion, they were examined by the inventor, and the outline is as follows.

【0003】エレクトロニクス分野においては、電子機
器やそれを含む装置全体の小形化、あるいは高性能化が
要求され、これに対応するために半導体装置の高速化や
高集積化が図られている。
In the field of electronics, there is a demand for downsizing or higher performance of electronic devices and the entire device including the same, and in order to cope with such demands, higher speed and higher integration of semiconductor devices are being attempted.

【0004】その結果、半導体装置の多ピン化や微細ピ
ッチ化が急進展し、機能当たりの寸法も大幅に縮小され
つつある。
As a result, the number of pins and the fine pitch of semiconductor devices have been rapidly advanced, and dimensions per function have been greatly reduced.

【0005】前記要求に対応するパッケージ技術の一例
として、外部端子にバンプを用いたBGA(Ball Grid
Array)と称される半導体装置が注目を浴びている。
[0005] As an example of a package technology corresponding to the above demand, a BGA (Ball Grid) using bumps for external terminals has been proposed.
Semiconductor devices called Arrays are drawing attention.

【0006】なお、BGAには、TAB(Tape Automat
ed Bonding)を用いたものや、リードフレーム(LF)
を用いたもの(以降、LF−BGAと呼ぶ)など種々の
構造のものが考案・開発されている。
The BGA includes TAB (Tape Automat).
ed Bonding) or lead frame (LF)
(Hereinafter referred to as LF-BGA) have been devised and developed.

【0007】その中で、リードフレームを用いて製造す
るLF−BGAの場合、インナリードの下面(バンプ搭
載側の面)には、外側薄膜絶縁シートが配置され、かつ
上面(チップ搭載側の面)には、樹脂封止によって形成
された封止本体部が配置された構造となる。
Among them, in the case of an LF-BGA manufactured using a lead frame, an outer thin-film insulating sheet is disposed on the lower surface of the inner lead (the surface on the bump mounting side) and the upper surface (the surface on the chip mounting side). ) Has a structure in which a sealing main body formed by resin sealing is arranged.

【0008】ここで、BGAについては、例えば、日経
BP社、1993年5月31日発行、香山晋、成瀬邦彦
(監)、「実践講座VLSIパッケージング技術
(下)」、173〜178頁に記載されている。
The BGA is described in, for example, Nikkei BP, issued May 31, 1993, Susumu Kayama and Kunihiko Naruse (monitoring), “Practical Course VLSI Packaging Technology (Lower)”, pp. 173 to 178. Are listed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のLF−BGAは、インナリードの下面に外側薄膜絶
縁シート、さらに、上面には封止樹脂からなる封止本体
部がそれぞれ配置されているため、放熱性(熱伝導性)
が悪く、高消費電力の半導体チップを搭載できないこと
が問題となる。
However, in the LF-BGA of the above-described technique, an outer thin film insulating sheet is provided on the lower surface of the inner lead, and a sealing body portion made of a sealing resin is provided on the upper surface. Therefore, heat dissipation (thermal conductivity)
The problem is that semiconductor chips with high power consumption cannot be mounted.

【0010】さらに、金属のインナリードと封止樹脂の
封止本体部とでは熱膨張係数が大幅に異なるため、パッ
ケージ本体部すなわち封止本体部に反りが形成されるこ
とが問題とされる。
Further, since the coefficient of thermal expansion is significantly different between the metal inner lead and the sealing body of the sealing resin, there is a problem that the package body, that is, the sealing body, is warped.

【0011】本発明の目的は、放熱性の向上を図るとと
もに、封止本体部の反りを防止する半導体装置およびそ
の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device for improving heat dissipation and preventing warpage of a sealing body, and a method of manufacturing the same.

【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0014】すなわち、本発明による半導体装置は、半
導体チップを支持する薄板状のタブと、前記タブの周囲
外方に延在しかつバンプを搭載するバンプ搭載部が設け
られた複数の薄板状のインナリードと、前記インナリー
ドのバンプ搭載側の面に接合して複数の前記インナリー
ドを支持しかつ隣接する前記バンプを絶縁させる外側薄
膜絶縁シートと、前記インナリードのチップ搭載側の面
に接合する内側薄膜絶縁シートと、前記内側薄膜絶縁シ
ートに接合して設けられかつ外方に露出する露出部を備
えた放熱部材と、前記半導体チップと前記インナリード
とを電気的に接続する導通部材と、前記半導体チップと
前記導通部材とを樹脂封止して形成した封止本体部とを
有し、前記内側薄膜絶縁シートによって前記インナリー
ドと前記放熱部材との間の絶縁および伝熱が行われるも
のである。
That is, a semiconductor device according to the present invention comprises a plurality of thin tabs provided with a thin tab supporting a semiconductor chip and a bump mounting portion extending outwardly around the tab and mounting a bump. An inner lead, an outer thin-film insulating sheet joined to a surface of the inner lead on a bump mounting side to support a plurality of the inner leads and insulate adjacent bumps, and joined to a surface of the inner lead on a chip mounting side; An inner thin film insulating sheet to be provided, a heat dissipating member provided with an exposed portion that is provided to be joined to the inner thin film insulating sheet and that is exposed to the outside, and a conductive member that electrically connects the semiconductor chip and the inner lead. A sealing body formed by resin-sealing the semiconductor chip and the conductive member, wherein the inner lead and the heat radiating member are formed by the inner thin film insulating sheet. In which the insulating and heat transfer between the takes place.

【0015】これにより、半導体チップから発した熱を
タブ、封止樹脂、外側薄膜絶縁シート、インナリード、
内側薄膜絶縁シートおよび放熱部材を介して外部に放つ
ことができる。
Thus, heat generated from the semiconductor chip is transferred to the tab, the sealing resin, the outer thin-film insulating sheet, the inner lead,
It can be released to the outside via the inner thin film insulating sheet and the heat radiating member.

【0016】その結果、LF−BGAの封止本体部にお
ける放熱性の向上を図ることができる。
As a result, it is possible to improve the heat radiation of the sealing body of the LF-BGA.

【0017】したがって、封止本体部内の熱抵抗を低く
することができ、これにより、低熱抵抗化を図ることが
できる。
Accordingly, the thermal resistance in the sealing main body can be reduced, and the thermal resistance can be reduced.

【0018】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
半導体チップを支持するタブとこれの周囲外方に延在す
る複数のインナリードとを有しかつ前記インナリードの
バンプ搭載側の面に外側薄膜絶縁シートを接合させると
ともに、チップ搭載側の面に内側薄膜絶縁シートを接合
させたリードフレームを準備する工程と、前記タブに前
記半導体チップを搭載する工程と、前記半導体チップと
前記インナリードとを導通部材によって電気的に接続す
る工程と、露出部を備えた放熱部材を前記内側薄膜絶縁
シートに取り付ける工程と、前記半導体チップと前記導
通部材とを樹脂封止して封止本体部を形成する工程と、
前記リードフレームから前記封止本体部を分離する工程
と、前記封止本体部の前記インナリードのバンプ搭載部
に前記バンプを形成する工程とを有するものである。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
A tab supporting the semiconductor chip and a plurality of inner leads extending outwardly around the tab, and bonding an outer thin-film insulating sheet to a surface on the bump mounting side of the inner lead; A step of preparing a lead frame to which the inner thin film insulating sheet is bonded; a step of mounting the semiconductor chip on the tab; a step of electrically connecting the semiconductor chip and the inner lead by a conductive member; Attaching a heat radiating member provided with the inner thin film insulating sheet, and forming a sealing body by resin sealing the semiconductor chip and the conductive member;
A step of separating the sealing main body from the lead frame; and a step of forming the bump on a bump mounting portion of the inner lead of the sealing main body.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0020】図1は本発明による半導体装置(LF−B
GA)の構造の実施の形態の一例を示す断面図、図2は
図1に示す半導体装置に用いられるリードフレームの構
造の一例を示す拡大部分平面図、図3は図1に示す半導
体装置に用いられる放熱部材の構造と封止樹脂の注入方
向の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 shows a semiconductor device (LF-B) according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the embodiment of the structure of FIG. 1, FIG. 2 is an enlarged partial plan view showing an example of the structure of a lead frame used in the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. It is a perspective view which shows an example of the structure of the heat radiation member used, and the injection | pouring direction of a sealing resin.

【0021】本実施の形態の半導体装置は、外部端子と
してバンプ3が設けられたものであるとともに、図2に
示すリードフレーム2を用いて製造したLF−BGAで
あり、主に、民生用途向けの半導体装置として使用され
るものであるが、その用途は特に限定されるものではな
い。
The semiconductor device according to the present embodiment is provided with bumps 3 as external terminals and is an LF-BGA manufactured using the lead frame 2 shown in FIG. , But its use is not particularly limited.

【0022】前記LF−BGAの構成は、半導体集積回
路が形成された半導体チップ1を支持する薄板状のタブ
2aと、タブ2aの周囲外方に延在しかつバンプ3を搭
載するバンプ搭載部2cが設けられた複数の薄板状のイ
ンナリード2bと、インナリード2bの下面2d(バン
プ搭載側の面)に接合して複数のインナリード2bを支
持しかつ隣接するバンプ3を絶縁させる外側薄膜絶縁シ
ート4と、インナリード2bの上面2e(チップ搭載側
の面)に接合する内側薄膜絶縁シート5と、内側薄膜絶
縁シート5に接合して設けられかつ外方に露出する露出
部6aを備えた放熱板6(放熱部材)と、半導体チップ
1の接続端子1aとこれに対応したインナリード2bと
を電気的に接続するボンディングワイヤ7(導通部材)
と、半導体チップ1とボンディングワイヤ7とを樹脂封
止して形成した封止本体部8とからなり、内側薄膜絶縁
シート5によってインナリード2bと放熱板6との間の
絶縁および伝熱を行うものである。
The LF-BGA is composed of a thin tab 2a for supporting a semiconductor chip 1 on which a semiconductor integrated circuit is formed, and a bump mounting portion extending outside the periphery of the tab 2a and mounting the bump 3. A plurality of thin inner leads 2b provided with the inner leads 2c and an outer thin film joined to the lower surface 2d (the surface on the bump mounting side) of the inner leads 2b to support the plurality of inner leads 2b and insulate the adjacent bumps 3 An insulating sheet 4, an inner thin-film insulating sheet 5 joined to the upper surface 2e (the surface on the chip mounting side) of the inner lead 2b, and an exposed portion 6a provided to be joined to the inner thin-film insulating sheet 5 and exposed to the outside. Bonding wire 7 (conductive member) for electrically connecting the heat radiating plate 6 (heat radiating member) to the connection terminal 1a of the semiconductor chip 1 and the corresponding inner lead 2b.
And a sealing body 8 formed by resin-sealing the semiconductor chip 1 and the bonding wires 7. The inner thin-film insulating sheet 5 performs insulation and heat transfer between the inner lead 2 b and the heat sink 6. Things.

【0023】前記LF−BGAに設けられる放熱板6
(図3参照)は、例えば、アルミニウムや銅などの熱伝
導率が高く、かつ、固体として剛性の大きな材料(ここ
では、後述する内側薄膜絶縁シート5や外側薄膜絶縁シ
ート4に用いられるポリイミドフィルムなどより高い熱
伝導率の材料のこと)によって形成され、樹脂封止の際
の封止樹脂9の流路となる切り欠き6b(流路口)がそ
の4辺の各辺に設けられている。
Heat sink 6 provided on the LF-BGA
(See FIG. 3) is, for example, a material having high thermal conductivity such as aluminum or copper and having high rigidity as a solid (here, a polyimide film used for an inner thin-film insulating sheet 5 and an outer thin-film insulating sheet 4 described later). And a notch 6b (flow path opening) serving as a flow path of the sealing resin 9 at the time of resin sealing is provided on each of the four sides.

【0024】さらに、本実施の形態のLF−BGAにお
ける放熱板6は、枠状に形成されている。
Further, the radiator plate 6 in the LF-BGA of the present embodiment is formed in a frame shape.

【0025】すなわち、図3に示すように、放熱板6は
四角形の枠状を成し、その各辺に封止樹脂9の樹脂封止
時の流路となる切り欠き6bが設けられている。
That is, as shown in FIG. 3, the heat radiating plate 6 has a rectangular frame shape, and a cutout 6b serving as a flow path at the time of resin sealing of the sealing resin 9 is provided on each side thereof. .

【0026】これにより、この切り欠き6bを流路とし
てトランスファーモールドによって樹脂封止を行うこと
ができる。
Thus, resin sealing can be performed by transfer molding using the notch 6b as a flow path.

【0027】なお、切り欠き6bの設置箇所、設置数お
よび形状については、本実施の形態のものに限定される
ことはなく、種々変更可能であることは言うまでもな
い。
The location, number and shape of the cutouts 6b are not limited to those in the present embodiment, and can be variously changed.

【0028】また、本実施の形態のLF−BGAにおい
ては、放熱板6は、インナリード2bに貼付された内側
薄膜絶縁シート5に取り付けられている。
In the LF-BGA of the present embodiment, the heat radiating plate 6 is attached to the inner thin film insulating sheet 5 attached to the inner lead 2b.

【0029】これは、内側薄膜絶縁シート5がその表裏
両面に接着層を有しており、放熱板6がこの接着層に取
り付けられている。
The inner thin-film insulating sheet 5 has an adhesive layer on both front and back surfaces, and a heat sink 6 is attached to this adhesive layer.

【0030】ここで、本実施の形態のLF−BGAに用
いるリードフレーム2(図2参照)の構造について説明
する。
Here, the structure of the lead frame 2 (see FIG. 2) used for the LF-BGA of the present embodiment will be described.

【0031】なお、図2に示すリードフレーム2は、L
F−BGAの1個分の領域だけを拡大して示したもので
あり、実際のリードフレーム2は、図2に示した領域を
複数個分有する多連のフレーム状のものである。
The lead frame 2 shown in FIG.
This is an enlarged view of only one F-BGA area, and an actual lead frame 2 is a multiple frame having a plurality of areas shown in FIG.

【0032】また、リードフレーム2は、半導体チップ
1を搭載して支持するタブ2aと、このタブ2aを4方
向から支持するタブ吊りリード2fと、バンプ3を搭載
するバンプ搭載部2cが設けられた複数のインナリード
2bと、インナリード2bやタブ吊りリード2fを支持
する枠部2gとからなる金属の薄板部材であり、例え
ば、鉄とニッケルの合金、または、銅などによって形成
されている。
The lead frame 2 is provided with a tab 2a for mounting and supporting the semiconductor chip 1, a tab suspension lead 2f for supporting the tab 2a from four directions, and a bump mounting portion 2c for mounting the bump 3. And a frame member 2g supporting the inner leads 2b and the tab suspension leads 2f, and is made of, for example, an alloy of iron and nickel, copper, or the like.

【0033】さらに、このリードフレーム2において
は、インナリード2bの下面2d(バンプ搭載側の面)
に外側薄膜絶縁シート4が接合され、かつ、インナリー
ド2bの上面2e(チップ搭載側の面)に内側薄膜絶縁
シート5が接合されている。
Further, in the lead frame 2, the lower surface 2d of the inner lead 2b (the surface on the bump mounting side)
The outer thin film insulating sheet 4 is joined to the inner lead 2b, and the inner thin film insulating sheet 5 is joined to the upper surface 2e (the surface on the chip mounting side) of the inner lead 2b.

【0034】なお、外側薄膜絶縁シート4は、インナリ
ード2bの領域とタブ2aの領域とを合わせたLF−B
GA1個分の領域に応じた大きさのものであり、インナ
リード2bのバンプ搭載部2cに応じて、バンプ3を配
置させるための複数の貫通孔4a(図1参照)が設けら
れている。
The outer thin-film insulating sheet 4 is made of LF-B having the area of the inner lead 2b and the area of the tab 2a.
It has a size corresponding to the area of one GA, and a plurality of through holes 4a (see FIG. 1) for disposing the bumps 3 are provided according to the bump mounting portions 2c of the inner leads 2b.

【0035】なお、各々のインナリード2bとタブ吊り
リード2fとに設けられたバンプ搭載部2cは、その全
体が格子状に配列されており、これにより、外側薄膜絶
縁シート4に設けられた複数の貫通孔4aもバンプ搭載
部2cに対応して格子状に配列されている。
The bump mounting portions 2c provided on each of the inner leads 2b and the tab suspension leads 2f are entirely arranged in a lattice pattern, whereby a plurality of bump mounting portions 2c provided on the outer thin film insulating sheet 4 are provided. Are also arranged in a lattice pattern corresponding to the bump mounting portions 2c.

【0036】また、内側薄膜絶縁シート5は、枠状の放
熱板6の形状に合わせて枠状に形成されている。
The inner thin-film insulating sheet 5 is formed in a frame shape according to the shape of the frame-shaped heat radiating plate 6.

【0037】これにより、所望の大きさの外側薄膜絶縁
シート4と内側薄膜絶縁シート5とが、それぞれLF−
BGAの1個分毎にリードフレーム2に貼付されてい
る。
As a result, the outer thin-film insulating sheet 4 and the inner thin-film insulating sheet 5 having the desired sizes are respectively formed by LF-
Each BGA is attached to the lead frame 2.

【0038】なお、外側薄膜絶縁シート4および内側薄
膜絶縁シート5は、例えば、厚さ100μm以下、好ま
しくは、50〜75μm程度のものであり、基材がポリ
イミドフィルムなどの絶縁材によって形成されている。
The outer thin-film insulating sheet 4 and the inner thin-film insulating sheet 5 have a thickness of, for example, 100 μm or less, preferably about 50 to 75 μm, and the base material is formed of an insulating material such as a polyimide film. I have.

【0039】さらに、外側薄膜絶縁シート4および内側
薄膜絶縁シート5は、前記基材の表裏両面に接着層を有
している。ただし、接着層は必ずしも表裏両面に形成さ
れている必要はなく、何れか一方の面に形成されていて
もよく、また、表裏両面とも形成されていなくてもよ
い。
Further, the outer thin film insulating sheet 4 and the inner thin film insulating sheet 5 have an adhesive layer on both front and back surfaces of the base material. However, the adhesive layer does not necessarily need to be formed on both the front and back surfaces, and may be formed on any one of the surfaces, and may not be formed on both the front and back surfaces.

【0040】なお、前記接着層には、例えば、熱硬化性
のものと熱可塑性のものとがあるが、本実施の形態にお
いては、熱硬化性の接着層が形成されている場合につい
て説明する。
The adhesive layer includes, for example, a thermosetting adhesive and a thermoplastic adhesive. In the present embodiment, the case where the thermosetting adhesive layer is formed will be described. .

【0041】また、封止樹脂9は、例えば、熱硬化性の
エポキシ樹脂などであり、さらに、ボンディングワイヤ
7は、金などからなる細線である。
The sealing resin 9 is, for example, a thermosetting epoxy resin, and the bonding wire 7 is a thin wire made of gold or the like.

【0042】さらに、半導体チップ1は、銀ペースト1
0によってタブ2aに固着されている。
Further, the semiconductor chip 1 is made of silver paste 1
0 is fixed to the tab 2a.

【0043】また、バンプ3は、はんだによって形成さ
れるボール状の外部端子であり、封止本体部8の裏面に
おいて格子状に配列されている。
The bumps 3 are ball-shaped external terminals formed of solder, and are arranged in a lattice pattern on the back surface of the sealing body 8.

【0044】本実施の形態による半導体装置(LF−B
GA)の製造方法について説明する。
The semiconductor device according to the present embodiment (LF-B
GA) will be described.

【0045】なお、前記半導体装置の製造方法は、図2
に示すリードフレーム2を用いたLF−BGA(図1参
照)の製造方法である。
The method for manufacturing the semiconductor device is described in FIG.
5 is a method for manufacturing an LF-BGA (see FIG. 1) using the lead frame 2 shown in FIG.

【0046】まず、図2に示すリードフレーム2を準備
する。
First, the lead frame 2 shown in FIG. 2 is prepared.

【0047】すなわち、半導体チップ1を支持するタブ
2aとこれの周囲外方に延在する複数のインナリード2
bとを有し、かつインナリード2bの下面2d(バンプ
搭載側の面)の所定箇所(インナリード2bのバンプ搭
載部2cとこれに対応した外側薄膜絶縁シート4の貫通
孔4aとの位置を合わせた箇所)に外側薄膜絶縁シート
4を接合させるとともに、上面2e(チップ搭載側の
面)の所定箇所(放熱板6を取り付ける箇所)に枠状の
内側薄膜絶縁シート5を接合させたリードフレーム2を
準備する。
That is, a tab 2a for supporting the semiconductor chip 1 and a plurality of inner leads 2 extending around the tab 2a.
b, and the position of the lower surface 2d (the surface on the bump mounting side) of the inner lead 2b (the position of the bump mounting portion 2c of the inner lead 2b and the corresponding through hole 4a of the outer thin film insulating sheet 4). A lead frame in which the outer thin-film insulating sheet 4 is joined to the jointed portion), and the frame-shaped inner thin-film insulating sheet 5 is joined to a predetermined portion (where the heat radiating plate 6 is attached) on the upper surface 2e (the surface on the chip mounting side). Prepare 2

【0048】続いて、リードフレーム2のタブ2aにダ
イボンド材である銀ペースト10を塗布し、そこに半導
体チップ1を載置してダイボンドを行う。
Subsequently, a silver paste 10 as a die bonding material is applied to the tab 2a of the lead frame 2, and the semiconductor chip 1 is mounted thereon to perform die bonding.

【0049】これにより、タブ2aに半導体チップ1を
搭載する。
Thus, the semiconductor chip 1 is mounted on the tab 2a.

【0050】さらに、半導体チップ1の接続端子1aと
これに対応したインナリード2bとをボンディングワイ
ヤ7(導通部材)によって電気的に接続するワイヤボン
ディングを行う。
Further, wire bonding for electrically connecting the connection terminals 1a of the semiconductor chip 1 and the corresponding inner leads 2b with bonding wires 7 (conductive members) is performed.

【0051】その後、露出部6aを備えた枠状の放熱板
6(放熱部材)を内側薄膜絶縁シート5に取り付ける。
Thereafter, a frame-shaped heat radiating plate 6 (heat radiating member) having an exposed portion 6a is attached to the inner thin-film insulating sheet 5.

【0052】その際、枠状の内側薄膜絶縁シート5の熱
硬化性の接着層が柔らかくなる程度に予備加熱し、内側
薄膜絶縁シート5の枠形状に合わせて枠状の放熱板6を
位置決めして仮固定する。
At this time, preheating is performed to such an extent that the thermosetting adhesive layer of the frame-shaped inner thin-film insulating sheet 5 becomes soft, and the frame-shaped radiating plate 6 is positioned according to the frame shape of the inner thin-film insulating sheet 5. And temporarily fix it.

【0053】その後、内側薄膜絶縁シート5を含むリー
ドフレーム2を所定の温度に加熱して、内側薄膜絶縁シ
ート5の熱硬化性の接着層を硬化させ、これにより、放
熱板6を内側薄膜絶縁シート5に取り付ける。
Thereafter, the lead frame 2 including the inner thin-film insulating sheet 5 is heated to a predetermined temperature to cure the thermosetting adhesive layer of the inner thin-film insulating sheet 5, whereby the heat radiating plate 6 is moved to the inner thin-film insulating sheet. Attach to sheet 5.

【0054】続いて、半導体チップ1とボンディングワ
イヤ7とを樹脂封止してパッケージ本体である封止本体
部8を形成する。
Subsequently, the semiconductor chip 1 and the bonding wires 7 are resin-sealed to form a sealing body 8 as a package body.

【0055】その際、放熱板6の切り欠き6b(流路
口)に封止樹脂9を通してトランスファーモールドによ
り樹脂封止する。
At this time, the sealing resin 9 is passed through the notch 6b (flow path opening) of the heat sink 6 and resin-sealed by transfer molding.

【0056】つまり、図3に示すように、放熱板6に設
けられた切り欠き6bを封止樹脂9の流路として用い、
この切り欠き6bを通して矢印方向から封止樹脂9を注
入してトランスファーモールドによって樹脂封止を行
う。
That is, as shown in FIG. 3, the notch 6 b provided in the heat sink 6 is used as a flow path of the sealing resin 9.
The sealing resin 9 is injected from the direction of the arrow through the notch 6b, and the resin is sealed by transfer molding.

【0057】なお、本実施の形態のLF−BGAの放熱
板6は、枠状に形成されているため、樹脂封止の際の封
止樹脂9の流れをさらに滑らかにできる。
Since the radiator plate 6 of the LF-BGA of this embodiment is formed in a frame shape, the flow of the sealing resin 9 at the time of resin sealing can be further smoothed.

【0058】また、本実施の形態では、トランスファー
モールドによって樹脂封止を行う際に、放熱板6の露出
部6aが露出するように樹脂封止を行う。
In this embodiment, when resin sealing is performed by transfer molding, resin sealing is performed so that the exposed portion 6a of the heat sink 6 is exposed.

【0059】すなわち、放熱板6の表面(露出部6a)
に封止樹脂9が回り込まないように樹脂封止を行うこと
により、露出部6aを露出させて封止本体部8を形成で
きる。
That is, the surface (exposed portion 6a) of the heat sink 6
By performing resin sealing so that the sealing resin 9 does not flow around, the exposed portion 6a can be exposed to form the sealing body portion 8.

【0060】その後、リードフレーム2からパッケージ
本体すなわち封止本体部8を分離する。
Thereafter, the package body, that is, the sealing body 8 is separated from the lead frame 2.

【0061】つまり、封止本体部8の外方周囲の所定箇
所において枠部2gを切断し、これにより、リードフレ
ーム2から封止本体部8を分離する。
That is, the frame portion 2g is cut at a predetermined location on the outer periphery of the sealing main body portion 8, thereby separating the sealing main body portion 8 from the lead frame 2.

【0062】続いて、封止本体部8の裏面に露出した外
側薄膜絶縁シート4において、格子状に配置されかつイ
ンナリード2bのバンプ搭載部2cが露出した貫通孔4
aにはんだボールを供給する。
Subsequently, in the outer thin film insulating sheet 4 exposed on the back surface of the sealing body 8, the through holes 4 arranged in a lattice and exposing the bump mounting portions 2c of the inner leads 2b are exposed.
Supply solder balls to a.

【0063】その後、封止本体部8のインナリード2b
のバンプ搭載部2cにバンプ3を形成する。
Thereafter, the inner leads 2b of the sealing body 8 are
The bump 3 is formed on the bump mounting portion 2c.

【0064】すなわち、図示しないリフロー炉に封止本
体部8を通して、前記はんだボールを溶融し、これによ
り、バンプ搭載部2cにバンプ3を形成する。
That is, the solder balls are melted through the sealing main body portion 8 in a reflow furnace (not shown), thereby forming the bumps 3 on the bump mounting portion 2c.

【0065】その結果、図2に示すリードフレーム2を
用いたLF−BGA(半導体装置)を製造することがで
きる。
As a result, an LF-BGA (semiconductor device) using the lead frame 2 shown in FIG. 2 can be manufactured.

【0066】本実施の形態の半導体装置およびその製造
方法によれば、以下のような作用効果が得られる。
According to the semiconductor device of this embodiment and the method of manufacturing the same, the following operation and effect can be obtained.

【0067】すなわち、インナリード2bの上面2eに
内側薄膜絶縁シート5を介して放熱板6が接合され、封
止本体部8がこの内側薄膜絶縁シート5より熱伝導率の
高い放熱板6を有することにより、半導体チップ1から
発した熱をタブ2a、封止樹脂9、外側薄膜絶縁シート
4、インナリード2b、内側薄膜絶縁シート5および放
熱板6を介して外部に放つことができる。
That is, the heat radiating plate 6 is joined to the upper surface 2 e of the inner lead 2 b via the inner thin film insulating sheet 5, and the sealing body 8 has the heat radiating plate 6 having higher thermal conductivity than the inner thin film insulating sheet 5. Thereby, heat generated from the semiconductor chip 1 can be released to the outside via the tab 2a, the sealing resin 9, the outer thin film insulating sheet 4, the inner lead 2b, the inner thin film insulating sheet 5, and the heat radiating plate 6.

【0068】これにより、封止本体部8内の熱抵抗を低
くすることができ、したがって、低熱抵抗化を図ること
ができる。
As a result, the thermal resistance in the sealing body 8 can be reduced, and therefore the thermal resistance can be reduced.

【0069】その結果、LF−BGAの封止本体部8に
おける放熱性の向上を図ることができる。
As a result, it is possible to improve the heat radiation of the sealing body 8 of the LF-BGA.

【0070】また、封止本体部8が放熱板6を有するこ
とにより、封止本体部8の剛性を大きくすることができ
る。
The rigidity of the sealing body 8 can be increased by providing the sealing body 8 with the heat radiating plate 6.

【0071】これにより、この放熱板6が有する剛性に
よって封止本体部8が反ることを防止できる。
Thus, it is possible to prevent the sealing body 8 from warping due to the rigidity of the heat radiating plate 6.

【0072】その結果、LF−BGAにおいて外部端子
としてバンプ3を形成した際のこのバンプ3、すなわ
ち、はんだボール面の平坦度を向上できる。
As a result, when the bump 3 is formed as an external terminal in the LF-BGA, the flatness of the bump 3, that is, the solder ball surface can be improved.

【0073】さらに、LF−BGAにおける放熱性を向
上でき、かつ封止本体部8の反りを防止できるため、高
消費電力の半導体チップ1を搭載することができる。
Furthermore, since the heat dissipation of the LF-BGA can be improved and the sealing body 8 can be prevented from warping, the semiconductor chip 1 with high power consumption can be mounted.

【0074】その結果、高消費電力のLF−BGAを実
現できる。
As a result, a LF-BGA with high power consumption can be realized.

【0075】また、放熱板6に、樹脂封止の際の封止樹
脂9の流路となる切り欠き6b(流路口)が設けられて
いることにより、樹脂封止時の封止樹脂9の流路を確保
できるため、LF−BGAをトランスファーモールドに
よって製造できる。
Further, the notch 6b (flow path opening) serving as a flow path of the sealing resin 9 at the time of resin sealing is provided on the heat sink 6, so that the sealing resin 9 at the time of resin sealing is formed. Since a flow path can be secured, LF-BGA can be manufactured by transfer molding.

【0076】なお、放熱板6が枠状に形成されているこ
とにより、樹脂封止時の封止樹脂9の流れをより滑らか
にすることができ、その結果、LF−BGAにおける封
止性をさらに向上できる。
Since the heat radiating plate 6 is formed in a frame shape, the flow of the sealing resin 9 at the time of resin sealing can be made smoother, and as a result, the sealing property in the LF-BGA can be improved. It can be further improved.

【0077】また、放熱板6が、外方に露出する露出部
6aを有することにより、LF−BGAにおける放熱性
をさらに向上できる。
Further, since the heat radiating plate 6 has the exposed portion 6a exposed to the outside, the heat radiating property of the LF-BGA can be further improved.

【0078】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the embodiments of the present invention, and does not depart from the gist of the invention. It is needless to say that various changes can be made.

【0079】例えば、前記実施の形態においては、外側
薄膜絶縁シート4および内側薄膜絶縁シート5の基材が
ポリイミドフィルムの場合について説明したが、前記薄
膜絶縁シートは、ポリイミドフィルムに限定されるもの
ではなく、絶縁性の薄膜シート部材であれば、エポキシ
系の樹脂などによって形成された薄膜シート部材であっ
てもよい。
For example, in the above embodiment, the case where the base material of the outer thin film insulating sheet 4 and the inner thin film insulating sheet 5 is a polyimide film has been described, but the thin film insulating sheet is not limited to a polyimide film. Instead, a thin film sheet member formed of an epoxy resin or the like may be used as long as it is an insulating thin film sheet member.

【0080】さらに、放熱板6についても、その材料
は、銅やアルミニウムに限定されるものではなく、熱伝
導率が比較的高く、かつ、固体として剛性の大きな材料
であれば、他の金属材料などであってもよい。
Further, the material of the heat radiating plate 6 is not limited to copper or aluminum, and any other metal material having a relatively high thermal conductivity and a high rigidity as a solid can be used. And so on.

【0081】また、前記実施の形態においては、放熱板
6が枠状の場合を説明したが、放熱板6の形状は、枠状
に限定されるものではなく、例えば、図4および図5に
示す他の実施の形態のように屋根付き形状であってもよ
い。
Further, in the above-described embodiment, the case where the heat radiating plate 6 has a frame shape has been described. However, the shape of the heat radiating plate 6 is not limited to the frame shape. It may have a covered shape as in the other embodiments shown.

【0082】すなわち、放熱板6を屋根付き形状とする
ことにより、露出部6aの面積を大きくすることがで
き、半導体装置(LF−BGA)の放熱性をさらに向上
できる。
That is, by forming the heat radiating plate 6 with a roof, the area of the exposed portion 6a can be increased, and the heat radiation of the semiconductor device (LF-BGA) can be further improved.

【0083】なお、放熱板6を屋根付き形状にする際に
も、図5に示すように、切り欠き6b(流路口)を設け
ることが好ましく、この切り欠き6bを通して矢印方向
から封止樹脂9(図4参照)を注入することにより、樹
脂封止の際の封止樹脂9の流れを滑らかにすることがで
きる。
When the heat radiating plate 6 is formed with a roof, a notch 6b (flow path opening) is preferably provided as shown in FIG. 5, and the sealing resin 9 is inserted through the notch 6b from the direction of the arrow. By injecting (see FIG. 4), the flow of the sealing resin 9 at the time of resin sealing can be made smooth.

【0084】また、前記実施の形態においては、放熱板
6を内側薄膜絶縁シート5に取り付ける際に、内側薄膜
絶縁シート5に設けられた接着層を用いて放熱板6を接
着させる場合を説明したが、内側薄膜絶縁シート5に接
着層が設けられていない場合には、例えば、エポキシ系
の接着剤などを用いて放熱板6を内側薄膜絶縁シート5
に接着させてもよい。
In the above-described embodiment, the case where the heat radiating plate 6 is adhered to the inner thin film insulating sheet 5 by using the adhesive layer provided on the inner thin film insulating sheet 5 when attaching the heat radiating plate 6 to the inner thin film insulating sheet 5 has been described. However, when the adhesive layer is not provided on the inner thin-film insulating sheet 5, the radiator plate 6 is attached to the inner thin-film insulating sheet 5 by using, for example, an epoxy-based adhesive.
May be adhered to.

【0085】さらに、内側薄膜絶縁シート5に接着層が
設けられていない場合の放熱板6の他の固定方法とし
て、樹脂封止と同時に放熱板6を固定する方法を用いて
もよい。
Further, as another fixing method of the heat radiating plate 6 when the inner thin film insulating sheet 5 is not provided with an adhesive layer, a method of fixing the heat radiating plate 6 simultaneously with resin sealing may be used.

【0086】すなわち、樹脂封止を行う際に、放熱板6
(放熱部材)を内側薄膜絶縁シート5に接触させて配置
し、この状態で半導体チップ1とボンディングワイヤ7
(導通部材)とを樹脂封止して封止本体部8を形成する
ものであり、樹脂封止時の成形金型のキャビティ内に放
熱板6を配置し、樹脂封止と同時に封止樹脂9によって
放熱板6を固定するものである。
That is, when performing resin sealing, the heat sink 6
(A heat dissipation member) is arranged in contact with the inner thin film insulating sheet 5, and in this state, the semiconductor chip 1 and the bonding wires 7
(Conductive member) is sealed with a resin to form a sealing body portion 8. A heat radiating plate 6 is arranged in a cavity of a molding die at the time of resin sealing, and the sealing resin is sealed simultaneously with the resin sealing. 9, the heat radiating plate 6 is fixed.

【0087】[0087]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0088】(1).インナリードの上面に内側薄膜絶
縁シートを介して放熱部材が接合され、封止本体部がこ
の内側薄膜絶縁シートより熱伝導率の高い放熱部材を有
することにより、封止本体部内の熱抵抗を低くすること
ができ、これにより、低熱抵抗化を図ることができる。
その結果、LF−BGAの封止本体部における放熱性の
向上を図ることができる。
(1). A heat radiating member is joined to the upper surface of the inner lead via an inner thin film insulating sheet, and the sealing body has a heat radiating member having a higher thermal conductivity than the inner thin film insulating sheet, thereby lowering the thermal resistance in the sealing body. Therefore, a low thermal resistance can be achieved.
As a result, it is possible to improve the heat dissipation of the sealing body of the LF-BGA.

【0089】(2).封止本体部が放熱部材を有するこ
とにより、封止本体部の剛性を大きくすることができ
る。これにより、この放熱部材が有する剛性によって封
止本体部が反ることを防止でき、その結果、LF−BG
Aにおいてバンプを形成した際のこのバンプ、すなわ
ち、はんだボール面の平坦度を向上できる。
(2). Since the sealing body has the heat radiation member, the rigidity of the sealing body can be increased. Thereby, it is possible to prevent the sealing body from warping due to the rigidity of the heat radiating member. As a result, LF-BG
The flatness of the bump, that is, the solder ball surface when the bump is formed in A can be improved.

【0090】(3).LF−BGAにおける放熱性を向
上でき、かつ封止本体部の反りを防止できるため、高消
費電力の半導体チップを搭載することができる。その結
果、高消費電力のLF−BGAを実現できる。
(3). Since the heat dissipation of the LF-BGA can be improved and the warpage of the sealing body can be prevented, a semiconductor chip with high power consumption can be mounted. As a result, LF-BGA with high power consumption can be realized.

【0091】(4).放熱部材に、樹脂封止の際の封止
樹脂の流路となる流路口が設けられていることにより、
樹脂封止時の封止樹脂の流路を確保できるため、LF−
BGAをトランスファーモールドによって製造できる。
(4). By providing the heat dissipation member with a flow path port that becomes a flow path of the sealing resin at the time of resin sealing,
Since the flow path of the sealing resin at the time of resin sealing can be secured, LF-
BGA can be manufactured by transfer molding.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による半導体装置(LF−BGA)の構
造の実施の形態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a structure of a semiconductor device (LF-BGA) according to the present invention.

【図2】図1に示す半導体装置に用いられるリードフレ
ームの構造の一例を示す拡大部分平面図である。
FIG. 2 is an enlarged partial plan view showing an example of a structure of a lead frame used in the semiconductor device shown in FIG.

【図3】図1に示す半導体装置に用いられる放熱部材の
構造と封止樹脂の注入方向の一例を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a structure of a heat radiation member used in the semiconductor device shown in FIG. 1 and an injection direction of a sealing resin.

【図4】本発明の他の実施の形態である半導体装置(L
F−BGA)の構造を示す断面図である。
FIG. 4 shows a semiconductor device (L) according to another embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of (F-BGA).

【図5】図4に示す半導体装置に用いられる放熱部材の
構造と封止樹脂の注入方向との一例を示す斜視図であ
る。
5 is a perspective view showing an example of a structure of a heat radiation member used in the semiconductor device shown in FIG. 4 and an injection direction of a sealing resin.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 1a 接続端子 2 リードフレーム 2a タブ 2b インナリード 2c バンプ搭載部 2d 下面(バンプ搭載側の面) 2e 上面(チップ搭載側の面) 2f タブ吊りリード 2g 枠部 3 バンプ 4 外側薄膜絶縁シート 4a 貫通孔 5 内側薄膜絶縁シート 6 放熱板(放熱部材) 6a 露出部 6b 切り欠き(流路口) 7 ボンディングワイヤ(導通部材) 8 封止本体部 9 封止樹脂 10 銀ペースト Reference Signs List 1 semiconductor chip 1a connection terminal 2 lead frame 2a tab 2b inner lead 2c bump mounting portion 2d lower surface (bump mounting side surface) 2e upper surface (chip mounting side surface) 2f tab suspension lead 2g frame portion 3 bump 4 outer thin film insulating sheet Reference Signs List 4a Through hole 5 Inner thin film insulating sheet 6 Heat radiating plate (heat radiating member) 6a Exposed portion 6b Notch (flow path port) 7 Bonding wire (conductive member) 8 Sealing body 9 Sealing resin 10 Silver paste

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部端子としてバンプが設けられた半導
体装置であって、 半導体チップを支持する薄板状のタブと、 前記タブの周囲外方に延在し、かつ前記バンプを搭載す
るバンプ搭載部が設けられた複数の薄板状のインナリー
ドと、 前記インナリードのバンプ搭載側の面に接合して複数の
前記インナリードを支持し、かつ隣接する前記バンプを
絶縁させる外側薄膜絶縁シートと、 前記インナリードのチップ搭載側の面に接合する内側薄
膜絶縁シートと、 前記内側薄膜絶縁シートに接合して設けられ、かつ外方
に露出する露出部を備えた放熱部材と、 前記半導体チップと前記インナリードとを電気的に接続
する導通部材と、 前記半導体チップと前記導通部材とを樹脂封止して形成
した封止本体部とを有し、 前記内側薄膜絶縁シートによって前記インナリードと前
記放熱部材との間の絶縁および伝熱が行われることを特
徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device provided with a bump as an external terminal, comprising: a thin tab supporting a semiconductor chip; and a bump mounting portion extending outwardly around the tab and mounting the bump. A plurality of thin inner leads provided with; an outer thin-film insulating sheet joined to a surface of the inner lead on the bump mounting side to support the plurality of inner leads and insulate adjacent bumps; An inner thin-film insulating sheet joined to the chip mounting surface of the inner lead; a heat dissipating member provided to be joined to the inner thin-film insulating sheet and having an exposed portion exposed to the outside; the semiconductor chip and the inner A conductive member for electrically connecting the lead; and a sealing body formed by resin-sealing the semiconductor chip and the conductive member. The semiconductor device, wherein an insulating and heat transfer between the heat radiating member and the inner leads is carried out.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置であって、前
記放熱部材に、樹脂封止の際の封止樹脂の流路となる流
路口が設けられていることを特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiating member is provided with a flow path opening serving as a flow path of a sealing resin at the time of resin sealing.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置であ
って、前記放熱部材が枠状に形成されていることを特徴
とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein said heat radiating member is formed in a frame shape.
【請求項4】 外部端子としてバンプを用いた半導体装
置の製造方法であって、 半導体チップを支持するタブとこれの周囲外方に延在す
る複数のインナリードとを有し、かつ前記インナリード
のバンプ搭載側の面に外側薄膜絶縁シートを接合させる
とともに、チップ搭載側の面に内側薄膜絶縁シートを接
合させたリードフレームを準備する工程と、 前記タブに前記半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップと前記インナリードとを導通部材によ
って電気的に接続する工程と、 露出部を備えた放熱部材を前記内側薄膜絶縁シートに取
り付ける工程と、 前記半導体チップと前記導通部材とを樹脂封止して封止
本体部を形成する工程と、 前記リードフレームから前記封止本体部を分離する工程
と、 前記封止本体部の前記インナリードのバンプ搭載部に前
記バンプを形成する工程とを有することを特徴とする半
導体装置の製造方法。
4. A method of manufacturing a semiconductor device using bumps as external terminals, comprising: a tab for supporting a semiconductor chip; and a plurality of inner leads extending outwardly around the tab. Bonding the outer thin film insulating sheet to the surface on the bump mounting side, and preparing a lead frame in which the inner thin film insulating sheet is bonded to the chip mounting side surface, and mounting the semiconductor chip on the tab, A step of electrically connecting the semiconductor chip and the inner lead by a conductive member; a step of attaching a heat radiating member having an exposed portion to the inner thin film insulating sheet; and a resin sealing of the semiconductor chip and the conductive member Forming the sealing body portion by separating the sealing body portion from the lead frame; and forming the sealing body portion from the lead frame. The method of manufacturing a semiconductor device characterized by a step of forming the bumps on the lamp mounting unit.
【請求項5】 外部端子としてバンプを用いた半導体装
置の製造方法であって、 半導体チップを支持するタブとこれの周囲外方に延在す
る複数のインナリードとを有し、かつ前記インナリード
のバンプ搭載側の面に外側薄膜絶縁シートを接合させる
とともに、チップ搭載側の面に内側薄膜絶縁シートを接
合させたリードフレームを準備する工程と、 前記タブに前記半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップと前記インナリードとを導通部材によ
って電気的に接続する工程と、 露出部を備えた放熱部材を前記内側薄膜絶縁シートに接
触させて配置し、この状態で前記半導体チップと前記導
通部材とを樹脂封止して封止本体部を形成する工程と、 前記リードフレームから前記封止本体部を分離する工程
と、 前記封止本体部の前記インナリードのバンプ搭載部に前
記バンプを形成する工程とを有することを特徴とする半
導体装置の製造方法。
5. A method of manufacturing a semiconductor device using a bump as an external terminal, comprising: a tab for supporting a semiconductor chip; and a plurality of inner leads extending outwardly around the tab. Bonding the outer thin film insulating sheet to the surface on the bump mounting side, and preparing a lead frame in which the inner thin film insulating sheet is bonded to the chip mounting side surface, and mounting the semiconductor chip on the tab, Electrically connecting the semiconductor chip and the inner lead with a conductive member; and disposing a heat radiating member having an exposed portion in contact with the inner thin film insulating sheet, and in this state, the semiconductor chip and the conductive member. Forming a sealing body by resin sealing the resin body; separating the sealing body from the lead frame; and forming the inner part of the sealing body. Forming the bump on the bump mounting portion of the lead.
【請求項6】 請求項4または5記載の半導体装置の製
造方法であって、前記樹脂封止を行う際に、前記放熱部
材に設けられた流路口に封止樹脂を通してトランスファ
ーモールドにより樹脂封止することを特徴とする半導体
装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein, when the resin sealing is performed, the sealing resin is passed through a flow path opening provided in the heat dissipation member, and the resin is sealed by transfer molding. A method of manufacturing a semiconductor device.
【請求項7】 請求項4,5または6記載の半導体装置
の製造方法であって、前記樹脂封止を行う際に、前記放
熱部材の前記露出部が露出するように樹脂封止すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein the resin sealing is performed such that the exposed portion of the heat dissipation member is exposed when the resin sealing is performed. A method for manufacturing a semiconductor device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6774478B2 (en) 2002-01-04 2004-08-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Stacked semiconductor package
JP2007537589A (en) * 2004-05-11 2007-12-20 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Notched heat slug for integrated circuit device packages
JP2019054226A (en) * 2017-09-15 2019-04-04 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Fan-out semiconductor package

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6774478B2 (en) 2002-01-04 2004-08-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Stacked semiconductor package
JP2007537589A (en) * 2004-05-11 2007-12-20 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Notched heat slug for integrated circuit device packages
US8222731B2 (en) 2004-05-11 2012-07-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Cut-out heat slug for integrated circuit device packaging
JP2019054226A (en) * 2017-09-15 2019-04-04 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Fan-out semiconductor package

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