JPH11163116A - Sealed container - Google Patents
Sealed containerInfo
- Publication number
- JPH11163116A JPH11163116A JP9328926A JP32892697A JPH11163116A JP H11163116 A JPH11163116 A JP H11163116A JP 9328926 A JP9328926 A JP 9328926A JP 32892697 A JP32892697 A JP 32892697A JP H11163116 A JPH11163116 A JP H11163116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cover case
- sealed container
- retainer
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 27
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 67
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 4
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000011532 electronic conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ
(以下、ウェーハと略称する)等を収納、移送、又は搬
送する密封容器に関し、より詳しくは、ウェーハの保管
・輸送に使用されるとともに、ウェーハ加工用の標準化
された機械的インターフェイス(SMIF)装置に直接接続が
可能な密封容器に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealed container for storing, transferring, or transporting a semiconductor wafer (hereinafter abbreviated as "wafer"), and more particularly to a sealed container for storing and transporting a wafer. The present invention relates to a sealed container that can be directly connected to a standardized mechanical interface (SMIF) device for processing.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の輸送容器は、図11に示すよう
に、有底筒形の外箱35、機密保持用のパッキン36、
ウェーハ整列用の収納カセット37、ウェーハ用の押さ
え板38、及び上蓋39を備えている。そして、複数の
ウェーハを収納し、半導体メーカからICメーカに各種
の輸送機関により適宜輸送される。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 11, a conventional transport container has a bottomed cylindrical outer box 35, a security packing 36,
A storage cassette 37 for aligning wafers, a holding plate 38 for wafers, and an upper lid 39 are provided. Then, a plurality of wafers are stored and transported from a semiconductor maker to an IC maker by various transport means as appropriate.
【0003】ところで、ウェーハの加工が行われる各種
工程間の移送や貯留に際しては、輸送容器から図12に
示す保管容器にウェーハを一旦移し替えて使用する方法
が採用されている。この保管容器は、同図に示すよう
に、ボックスドア40、ウェーハ間隔規制溝を一対有す
る工程間移送用のカセット41、及びこのカセット41
を嵌合被覆する逆コップ形のケース42等を備えてい
る。そして、米国特許4,532,970号や4,53
4,389号に開示されているように、標準機械的イン
ターフェイス装置を有するウェーハ加工装置に接続して
使用される。[0003] When transferring or storing wafers between various processes in which wafer processing is performed, a method of temporarily transferring wafers from a transport container to a storage container shown in FIG. 12 and using the same is adopted. As shown in the figure, the storage container includes a box door 40, a cassette 41 for transferring between processes having a pair of wafer spacing regulating grooves,
Is provided with an inverted cup-shaped case 42 for fitting and covering. And U.S. Pat. Nos. 4,532,970 and 4,53
As disclosed in US Pat. No. 4,389,389, it is used in connection with a wafer processing apparatus having a standard mechanical interface device.
【0004】上記構成の保管容器は、以下のようにして
ウェーハ加工装置に接続・使用される(なお、この点に
つき、特公平7−46694号の第1図や第2図参
照)。先ず、ウェーハ加工装置の天蓋におけるポートプ
レートの所定の位置に保管容器が搭載設置される。する
と、保管容器のボックスドア40と図示しないポートプ
レートとが係合し、保管容器のケース42とボックスド
ア40との接続が解除される。The storage container having the above-described structure is connected to and used in a wafer processing apparatus as described below (for this point, see FIG. 1 and FIG. 2 of Japanese Patent Publication No. 7-46694). First, a storage container is mounted on a predetermined position of a port plate in a canopy of a wafer processing apparatus. Then, the box door 40 of the storage container is engaged with the port plate (not shown), and the connection between the case 42 of the storage container and the box door 40 is released.
【0005】次いで、クリーン環境を損なうことのない
ようボックスドア40の外面に汚染された雰囲気をポー
トプレートとの間に補足してボックスドア40がポート
ドア(図示せず)と共に下降した後、ケース42に収納
されていたカセット41がウェーハ加工装置のクリーン
環境内における所定の位置にセットされる。こうしてウ
ェーハは、カセット41から例えば1枚毎に取り出され
(ローディング)、所定の加工が施される。Then, the box door 40 is lowered together with the port door (not shown) by supplementing the atmosphere contaminated on the outer surface of the box door 40 with the port plate so as not to impair the clean environment. The cassette 41 stored in 42 is set at a predetermined position in the clean environment of the wafer processing apparatus. In this way, the wafers are taken out from the cassette 41, for example, one by one (loading), and are subjected to predetermined processing.
【0006】ウェーハ加工装置の加工が終了すると、上
記作業とは逆の手順で保管容器の内部にカセット41が
収納(アンローディング)され、保管容器のケース42
にボックスドア40がラッチされる。そして、保管容器
は、ポートプレートとの接続が解除されてウェーハ加工
装置から取り出され、次工程に搬送される。こうした一
連の動作が繰り返されることで、ウェーハには各種の加
工が施される。[0006] When the processing of the wafer processing apparatus is completed, the cassette 41 is stored (unloaded) inside the storage container in a procedure reverse to the above operation, and the case 42 of the storage container is loaded.
The box door 40 is latched. Then, the storage container is disconnected from the port plate, taken out of the wafer processing apparatus, and transported to the next process. By repeating such a series of operations, various processes are performed on the wafer.
【0007】なお、保管容器を使用した先行技術文献と
しては、特表昭61−502994号、特表昭63−5
03259号、及び特表昭63−500691号があげ
られる。また、この種の先行技術文献に、特公平6−3
8443号及び特開平8−279546号公報等が該当
する。[0007] As prior art documents using a storage container, Japanese Patent Publication No. Sho 61-502994 and Japanese Patent Publication No. Sho 63-5
03259 and JP-T-63-500691. In addition, Japanese Patent Publication No. Hei 6-3
No. 8443, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-279546 and the like correspond.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従来の密封容器は、以
上のように輸送容器から収納カセット39を取り出して
保管容器のカセット41にウェーハを移し替える作業を
必要とするので、以下に示す問題があった。先ず、ウェ
ーハの移し替えや貯留に際しては、ウェーハの大口径化
(8″以上)に伴い、非常に大きなスペースが要求され
てきている。これに対し、ウェーハに形成される回路が
益々微細化してきているので、クリーン度は例えば粒径
0.04μm以下のパーティクル汚染が発生しないよう
制御する等次第に要求が厳しくなり、これに対応する必
要性に迫られている。The conventional sealed container requires the operation of taking out the storage cassette 39 from the transport container and transferring the wafer to the cassette 41 of the storage container as described above. there were. First, when a wafer is transferred or stored, a very large space is required as the diameter of the wafer is increased (8 ″ or more). On the other hand, circuits formed on the wafer are becoming finer and finer. Therefore, the degree of cleanliness is gradually becoming more demanding, for example, by controlling the generation of particle contamination having a particle diameter of 0.04 μm or less.
【0009】ところが、従来のクリーンルーム空間に関
しては、クリーンルームの内部に収納される輸送容器や
この輸送容器を開閉するロボット等の設備から発生する
汚染物、及びウェーハの移し替え作業時に発生する摩擦
等による汚染問題がある。したがって、広い空間をクリ
ーン環境に維持するのは非常に困難であり、高度な技術
を必要とする。さらに、技術の高度化に伴い、設備が非
常に高額になるという問題もある。そこで、上記に鑑
み、近年、汚染発生源や汚染発生作業をクリーン環境か
ら可能な限り排除してウェーハの各加工工程を工場全体
のクリーン度より高めた密閉空間とし、工程間のウェー
ハの移送についても密閉容器をそのまま使用し、密閉空
間内部のクリーン度を維持しようとする動きが出て来て
いる。However, in the conventional clean room space, there are contaminants generated from a transport container housed in the clean room and equipment such as a robot for opening and closing the transport container, and friction generated during a wafer transfer operation. There is a pollution problem. Therefore, it is very difficult to maintain a large space in a clean environment and requires advanced technology. Furthermore, there is a problem that equipment becomes very expensive with the advancement of technology. In view of the above, in recent years, contamination sources and contamination generation work have been eliminated as much as possible from the clean environment, and each processing step of the wafer has been made a closed space that is higher than the cleanliness of the entire factory, and the transfer of wafers between processes has been considered. There has been a movement to use a closed container as it is and to maintain the cleanness inside the closed space.
【0010】特に、ウェーハのサイズが8″から12″
以上、特には16″以上になると、ウェーハの面積が約
2〜3倍となり、ウェーハの収納容器の重量も2〜3倍
以上になる。従来の工程間移送用のカセット41は、耐
薬品性や耐摩耗性を有するPFA等のフッ素樹脂を材料
として成形され、フッ素樹脂の比重が大きい。したがっ
て、容器の大型化に伴う重量増加は、設備の負担を大き
くし、より一層の半導体加工設備の大型化・高剛性化を
招いてコスト増になるという問題がある。In particular, the size of the wafer is between 8 "and 12"
As described above, especially when the size is 16 ″ or more, the area of the wafer becomes about 2 to 3 times, and the weight of the wafer storage container also becomes 2 to 3 times or more. Since the specific gravity of the fluororesin is large due to the fact that the specific gravity of the fluororesin is large, the load on the equipment increases, and the load on the semiconductor processing equipment increases. There is a problem that the cost increases due to an increase in size and rigidity.
【0011】また、ウェーハ加工装置にウェーハを供給
する場合、保管容器は、先ず、ウェーハ加工装置のポー
トプレート上に位置決めされ、接続配置される。そし
て、ケース42に収納されていたカセット41がボック
スドア40と一体化したポートプレートと共にウェーハ
加工装置のエレベータ機構により、ウェーハ加工装置の
内部下方に下降してウェーハ取り出し用のプラットホー
ムにセットされる。When a wafer is supplied to a wafer processing apparatus, the storage container is first positioned and connected to a port plate of the wafer processing apparatus. Then, the cassette 41 housed in the case 42 is lowered by the elevator mechanism of the wafer processing apparatus together with the port plate integrated with the box door 40 to a position below the inside of the wafer processing apparatus to be set on a platform for taking out the wafer.
【0012】ところが、こうした動作の中でウェーハ
は、保管容器の押圧部材が取り除かれた状態にあるの
で、移動時の振動により、カセット41の溝内で前後に
ずれてしまうという問題がある。また、従来例では、カ
セット41毎に装置に位置決めされているが、収納カセ
ット39のように、形状が部分的に厚肉の大型成形品
は、変形やそり等の寸法ばらつきが発生しやすいので、
その影響でカセット41を正しく位置決めすることがで
きないという問題がある。However, during such an operation, since the wafer is in a state where the pressing member of the storage container is removed, there is a problem that the wafer is shifted back and forth in the groove of the cassette 41 due to vibration during movement. Further, in the conventional example, the cassette 41 is positioned in the apparatus for each cassette 41. However, a large molded product having a partially thick wall, such as the storage cassette 39, is likely to have dimensional variations such as deformation and warpage. ,
As a result, there is a problem that the cassette 41 cannot be correctly positioned.
【0013】また、加工装置にある幾つかのステージに
カセット41を移し替えるために寸法誤差が累積され、
ウェーハ取り出しロボットのアタッチメントがカセット
41を擦ったり、あるいはカセットにウェーハが擦ら
れ、この結果、汚染を招くという問題があった。さら
に、ひどい場合、カセット41から取り出されたウェー
ハを加工装置にセットする際、ウェーハの位置ずれのた
めに加工装置の治具等にウェーハが接触し、破損を招く
という問題があった。Further, dimensional errors are accumulated in order to transfer the cassette 41 to several stages in the processing apparatus,
There is a problem that the attachment of the wafer take-out robot rubs the cassette 41 or the wafer rubs against the cassette, thereby causing contamination. Further, in the worst case, when the wafer taken out of the cassette 41 is set in the processing apparatus, there is a problem that the wafer comes into contact with a jig or the like of the processing apparatus due to a positional shift of the wafer, thereby causing breakage.
【0014】本発明は、上記従来の問題に鑑みなされた
もので、加工装置の精密基板受け渡し位置で正確に位置
決めすることができるとともに、軽量化が可能な密封容
器を提供することを目的としている。また、精密基板が
容器から飛び出すのを有効に防止し、精密基板を正確に
取り出し、加工し、あるいは収納することを目的として
いる。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to provide a sealed container which can be accurately positioned at a precise substrate transfer position of a processing apparatus and can be reduced in weight. . It is another object of the present invention to effectively prevent the precision substrate from jumping out of the container and accurately take out, process, or store the precision substrate.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、カバーケースに精密
基板を収納し、該カバーケースの開口一端面をボックス
ドアで被覆するものであって、上記カバーケースを合成
樹脂製としてその底部にコンベヤプレートを、該カバー
ケースの内部両側には精密基板支持用のカラムをそれぞ
れ取り付け、該コンベヤプレートに位置決め用のカップ
リングを所定の間隔をおいて複数設け、上記カラムは、
上記精密基板を支持溝でほぼ水平状態に支持する側壁部
材と、この側壁部材の下部に設けられたボトムプレート
とを含み、このボトムプレートを上記カップリングに密
封部材を介して固定したことを特徴としている。なお、
上記カバーケースの内部他端面と上記ボックスドアの内
面とに上記精密基板保持用のリテーナをそれぞれ取り付
け、この一対のリテーナにおける一のリテーナの圧縮強
度を他のリテーナの圧縮強度よりも小さくすることが好
ましい。According to the first aspect of the present invention, in order to achieve the above object, a precision board is stored in a cover case, and one end face of the opening of the cover case is covered with a box door. The cover case is made of synthetic resin, a conveyor plate is attached to the bottom of the cover case, and columns for supporting precision substrates are attached to both inner sides of the cover case, and a coupling for positioning is attached to the conveyor plate at a predetermined interval. And a plurality of columns are provided.
A side wall member for supporting the precision substrate in a substantially horizontal state with a support groove, and a bottom plate provided below the side wall member, wherein the bottom plate is fixed to the coupling via a sealing member. And In addition,
The precision substrate holding retainers may be respectively attached to the other inner end surface of the cover case and the inner surface of the box door, and the compressive strength of one of the pair of retainers may be smaller than the compressive strength of the other retainer. preferable.
【0016】ここで、特許請求の範囲の「精密基板」に
は、少なくとも電気、電子、又は半導体等の製造分野で
使用される単数複数の液晶セル、石英ガラス、半導体ウ
ェーハ(シリコンウェーハ等)、又はマスク基板等が含
まれる。また、「カラム」は、精密基板を汚染すること
がなく、しかも、成形性や耐摩耗性に優れ、十分な強度
を有する合成樹脂、例えばポリカーボネイト樹脂、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート
樹脂、及び又はポリブチレンテレフタレート樹脂、ある
いはこれらの組み合わせ体(ブレンドや積層体を含む)
等を用いて成形されることが好ましい。このカラムの側
壁部材は、可能な限り、均一な肉厚になるよう構成され
ることが好ましい。また、「カップリング」は、コンベ
ヤプレートに取り付けられる構造でも良いし、一体構造
でも良い。また、ボトムプレートの固定は、着脱自在の
有無を特に問うものではない。Here, the "precision substrate" in the claims includes at least one or more liquid crystal cells, quartz glass, semiconductor wafers (such as silicon wafers) used in the field of manufacturing electric, electronic, or semiconductor products. Alternatively, a mask substrate or the like is included. In addition, the `` column '' does not contaminate the precision substrate, and is excellent in moldability and abrasion resistance, and has a synthetic resin having sufficient strength, for example, a polycarbonate resin, a polyetheretherketone, a polyethylene terephthalate resin, and / or Polybutylene terephthalate resin or their combination (including blends and laminates)
It is preferable to mold using such as. It is preferable that the side wall member of the column is configured so as to have a uniform thickness as much as possible. Further, the "coupling" may be a structure attached to the conveyor plate, or may be an integrated structure. Further, whether the bottom plate is fixed or not is not particularly limited.
【0017】また、「リテーナ」は、精密基板を汚染す
ることのないよう弾性を有する合成樹脂で、特には帯電
防止処理がなされた合成樹脂や導電性を有する合成樹脂
を用いて成形されることが好ましい。また、リテーナは
着脱自在な構成が望ましい。一対のリテーナは、取り出
し時の位置ずれを防止し、輸送中等の振動の影響を減少
させるため、カバーケースの内部他端面のリテーナの圧
縮強度がボックスドア側のリテーナの圧縮強度よりも大
きく設定されることが望ましい。この圧縮強度の相違
は、使用する材質の物性値を異ならせたり、あるいは同
じ合成樹脂を使用して補強材や肉厚に差を付けること等
により達成される。圧縮強度は、20%以上の差が好ま
しく、50%以上の差がより好ましい。The "retainer" is a synthetic resin having elasticity so as not to contaminate the precision substrate. In particular, the retainer is formed using a synthetic resin subjected to antistatic treatment or a synthetic resin having conductivity. Is preferred. Further, it is desirable that the retainer be detachable. The pair of retainers have a compression strength set to be greater than the compression strength of the retainer on the box door side in order to prevent displacement during removal and reduce the effects of vibration during transportation, etc. Is desirable. This difference in compressive strength can be achieved by making the physical properties of the materials used different, or by using the same synthetic resin to make a difference in the reinforcing material and the wall thickness. The difference in the compressive strength is preferably at least 20%, more preferably at least 50%.
【0018】請求項1記載の本発明によれば、合成樹脂
を使用してカバーケースが成形され、従来のウェーハ間
隔規制溝を一対有するものに替えてカップリングとした
ので、軽量化が期待できる。また、カセットレスとする
ので、軽量化が期待できる。また、各カラムのボトムプ
レートがカップリングの裏側に固定されてこれらが位置
精度の観点から一体化し、この状態で加工設備にカバー
ケースの開口一端面が直接接続されるので、所定の位置
で精密基板を高精度にローティング・アンローティング
することができる。According to the first aspect of the present invention, since the cover case is formed by using a synthetic resin and the coupling is replaced with a conventional one having a pair of wafer spacing regulating grooves, a reduction in weight can be expected. . In addition, since the cassette is not used, weight reduction can be expected. In addition, the bottom plate of each column is fixed to the back side of the coupling, and these are integrated from the viewpoint of positional accuracy. In this state, one end face of the cover case opening is directly connected to the processing equipment, The substrate can be loaded and unloaded with high precision.
【0019】また、本来、位置精度上重要な側壁部材
(支持溝)とキネマカップリング等のカップリング間に
おいて、カバーケースに側壁部材を固定し、このカバー
ケースをコンベアプレート上に固定し、さらにコンベア
プレートをカップリングに固定する場合には、複数の組
み合わせにより位置決めされることなく、直接的に位置
決めすることができるという利点を有する。また、密封
部材が外部からカバーケースの内部に対する塵芥等の侵
入を防止する。Further, between the side wall member (support groove) which is originally important for positional accuracy and a coupling such as a kinematic coupling, the side wall member is fixed to the cover case, and the cover case is fixed on the conveyor plate. When the conveyor plate is fixed to the coupling, there is an advantage that the positioning can be performed directly without being positioned by a plurality of combinations. Further, the sealing member prevents dust and the like from entering the inside of the cover case from the outside.
【0020】また、請求項2記載の発明によれば、圧縮
強度の相異により、ボックスドア方向に精密基板が付勢
され、輸送時の振動等を減少させることができる。ま
た、ボックスドア側のリテーナの圧縮強度よりもカバー
ケース側のリテーナの圧縮強度の方が大きい場合、ボッ
クスドアが外される毎に、精密基板に反発力等が作用せ
ず、支持溝から精密基板が飛び出して位置ずれしたり、
取り出しミスが生じるのを防止できる。Further, according to the second aspect of the present invention, the precision board is urged in the direction of the box door due to the difference in the compressive strength, so that the vibration and the like during transportation can be reduced. When the compressive strength of the retainer on the cover case side is higher than the compressive strength of the retainer on the box door side, every time the box door is removed, no repulsive force acts on the precision board and the precision The board pops out of position,
It is possible to prevent the occurrence of an ejection error.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態をウェーハを例にして説明する。本実施形態にお
ける密封容器は、図1に示すように、カバーケース1の
底部にコンベヤプレート16を、カバーケース1の内部
両側には相対向するカラム20をそれぞれ配設し、コン
ベヤプレート16にポートプレート位置決め用のキネマ
チックカップリング17・17Aを所定の間隔をおいて
複数(本実施形態では合計3個)配設するとともに、カ
ラム20のボトムプレート23をキネマチックカップリ
ング17・17Aに固定し、しかも、ボックスドア7の
内面とカバーケース1の内部とに相対向するフロントリ
テーナ30とリヤリテーナ33とをそれぞれセットして
いる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, taking a wafer as an example. As shown in FIG. 1, the sealed container according to the present embodiment has a conveyor plate 16 provided at the bottom of the cover case 1, and opposed columns 20 provided on both inner sides of the cover case 1. A plurality (three in this embodiment) of kinematic couplings 17 / 17A for plate positioning are arranged at predetermined intervals, and the bottom plate 23 of the column 20 is fixed to the kinematic couplings 17 / 17A. In addition, a front retainer 30 and a rear retainer 33 facing each other are set on the inner surface of the box door 7 and the inside of the cover case 1, respectively.
【0022】カバーケース1は、図1や図8に示すよう
に、軽量性・成形性に優れ、帯電防止処理され、好まし
くは透視可能なポリカーボネート樹脂等を用いて正面が
開口したフロントオープンボックス構造に一体成形さ
れ、その天井の中央部に把持ハンドル2が締結具を介し
て螺着されており、この把持ハンドル2が天井搬送機に
把持される。このカバーケース1の底面には円筒形を呈
した複数の取付ボス3が所定の間隔をおいて突出成形さ
れている。As shown in FIGS. 1 and 8, the cover case 1 has a light-weight and excellent moldability, is subjected to an antistatic treatment, and is preferably a front open box structure having an open front using a transparent polycarbonate resin or the like. A grip handle 2 is screwed to the center of the ceiling via a fastener, and the grip handle 2 is gripped by the ceiling conveyor. A plurality of cylindrical mounting bosses 3 are formed on the bottom surface of the cover case 1 at a predetermined interval.
【0023】カバーケース1の開口正面は、その周縁部
が外方向に折曲膨出成形されてリム部4を形成し、この
リム部4の内部段差面がシール面5を形成している。ま
た、リム部4の内周面の上下には複数の係止凹部6が所
定の間隔をおいてそれぞれ複数(本実施形態では合計4
個)凹み成形されている。このように構成されたリム部
4は、ボックスドア7に着脱自在に嵌合被覆される。The front side of the opening of the cover case 1 is formed by forming a rim portion 4 by bending the outer peripheral portion outward and forming a rim portion 4, and a step surface inside the rim portion 4 forms a sealing surface 5. In addition, a plurality of locking recesses 6 are provided at predetermined intervals above and below the inner peripheral surface of the rim portion 4 (a total of 4 in the present embodiment).
Dents). The rim portion 4 configured as described above is detachably fitted and covered with the box door 7.
【0024】ボックスドア7は、外面プレート8と内面
プレート9とを対向状態に備え、これらのプレート8・
9間の隙間には図8に示すように、ラッチ機構10が内
蔵されている。このラッチ機構10は、外面プレート8
にアクセス可能に露出して並設された回転可能な複数の
ディスク11と、各ディスク11に連結ピン12を介し
連結された複数(本実施形態では合計4枚)のラッチプ
レート13とを備え、各ラッチプレート13の先端部か
らスライド爪14が突出しており、このスライド爪14
がリム部4の係止凹部6に対して嵌脱するよう機能す
る。また、内面プレート9には図1に示すように、熱可
塑性エラストマからなる枠形のガスケット15が着脱自
在に嵌合され、このガスケット15がボックスドア7の
嵌合被覆時にリム部4のシール面5に圧接してシールす
る。The box door 7 has an outer plate 8 and an inner plate 9 facing each other.
As shown in FIG. 8, a latch mechanism 10 is built in the gap between the holes 9. The latch mechanism 10 includes an outer plate 8
A plurality of rotatable disks 11 arranged side by side so as to be accessible to the user, and a plurality of (four in the present embodiment) latch plates 13 connected to the respective disks 11 via connection pins 12; A slide claw 14 protrudes from the tip of each latch plate 13.
Functions so as to be fitted into and removed from the locking concave portion 6 of the rim portion 4. As shown in FIG. 1, a frame-shaped gasket 15 made of a thermoplastic elastomer is detachably fitted to the inner surface plate 9, and this gasket 15 is used to seal the rim portion 4 when the box door 7 is fitted and covered. 5 and sealed.
【0025】コンベヤプレート16は、図1、図4、及
び図8に示すように、その後部両側(図4の上方)が湾
曲した板形に成形され、カバーケース1の底面における
複数の取付ボス3に締結具を介して螺着されている。ま
た、各キネマチックカップリング17・17Aは、SE
MI規格に基づき定められる。本実施形態においては、
断面ほぼV字形に成形され、コンベヤプレート16の前
部寄りの左右両側部と中心線上の後部中央とに締結具を
介しそれぞれ螺着されている。各キネマチックカップリ
ング17・17Aには、図3に示すように、凹み穴18
が成形され、この凹み穴18には螺子孔19が開け設け
られている。As shown in FIGS. 1, 4, and 8, the conveyor plate 16 is formed into a plate shape having curved rear sides (upper side in FIG. 4), and a plurality of mounting bosses on the bottom surface of the cover case 1. 3 is screwed through a fastener. Each kinematic coupling 17 ・ 17A is SE
It is determined based on the MI standard. In the present embodiment,
It is formed into a substantially V-shaped cross section, and is screwed to both left and right sides near the front of the conveyor plate 16 and the center of the rear on the center line via fasteners. Each of the kinematic couplings 17 and 17A has a recess 18 as shown in FIG.
Is formed, and a screw hole 19 is formed in the concave hole 18.
【0026】各カラム20は、図2等に示すように、ウ
ェーハWを水平状態に支持する側壁部材21を備え、こ
の側壁部材21の上部にトッププレート22が、側壁部
材21の下部にはボトムプレート23がそれぞれ設けら
れている。側壁部材21の壁面には断面V字形を呈した
複数の支持溝24(例えば25本)が上下方向に並べて
成形され、この複数の支持溝24にウェーハWの周縁部
がそれぞれ支持される。また、トッププレート22は、
少々半円弧形に湾曲されるとともに、断面ほぼ逆ハット
形に形成され、中央の凹み部に側壁部材21の最上部の
凸部に嵌合する複数の取付孔25が、両自由端部にはカ
バーケース取り付け用の貫通孔26がそれぞれ開け設け
られており、各貫通孔26とカバーケース1の天井内面
の突起(図示せず)とが相互に嵌合される。なお、側壁
部材21とトッププレート22とは、一体成形された一
体物ならばさらに良い。As shown in FIG. 2 and the like, each column 20 has a side wall member 21 for supporting the wafer W in a horizontal state, and a top plate 22 is provided above the side wall member 21 and a bottom plate is provided below the side wall member 21. Plates 23 are provided, respectively. A plurality of support grooves 24 (for example, 25) having a V-shaped cross section are formed on the wall surface of the side wall member 21 so as to be arranged in the vertical direction, and the peripheral edges of the wafer W are respectively supported by the plurality of support grooves 24. In addition, the top plate 22
A plurality of mounting holes 25 which are slightly semi-circular in arc shape, are formed in a substantially inverted hat shape in cross section, and are fitted in the central concave portion with the uppermost convex portion of the side wall member 21 are provided at both free ends. Are provided with through holes 26 for mounting a cover case, respectively, and the through holes 26 and projections (not shown) on the inner surface of the ceiling of the cover case 1 are fitted to each other. It is more preferable that the side wall member 21 and the top plate 22 are integrally formed as a single body.
【0027】ボトムプレート23は、ほぼ半円弧形に湾
曲形成され、両自由端部がそれぞれ円形に成形されてお
り、側壁部材21の最下部に一体成形されている。この
ボトムプレート23の両自由端部からは円筒形ボス27
・27Aがそれぞれ図2の下方に突出し、各円筒形ボス
27・27Aの内周面には雌ねじが螺刻されてビス28
と螺嵌するよう作用する。このように構成されたボトム
プレート23は、その前部側の円筒形ボス27がコンベ
ヤプレート16の前部側方におけるキネマチックカップ
リング17の螺子孔19直上に、後部側の円筒形ボス2
7Aが後部側のキネマチックカップリング17Aの螺子
孔19直上にそれぞれビス28を介し着脱自在に螺嵌固
定される。一対のボトムプレート23の後部側の円筒形
ボス27Aは、図4に示すように、後部側のキネマチッ
クカップリング17Aの中心線上の前後方向に並んで配
置され、干渉を招かないようになっている。The bottom plate 23 is formed in a substantially semicircular arc shape, has both free ends formed in a circular shape, and is formed integrally with the lowermost portion of the side wall member 21. From both free ends of the bottom plate 23, a cylindrical boss 27 is formed.
27A protrudes downward in FIG. 2, and a female screw is screwed into the inner peripheral surface of each cylindrical boss 27.
And acts to fit. In the bottom plate 23 thus configured, the cylindrical boss 27 on the front side is positioned directly above the screw hole 19 of the kinematic coupling 17 on the front side of the conveyor plate 16 and the cylindrical boss 2 on the rear side.
7A is detachably screwed and fixed via screws 28 directly above the screw holes 19 of the kinematic coupling 17A on the rear side. As shown in FIG. 4, the rear cylindrical bosses 27A of the pair of bottom plates 23 are arranged side by side in the front-rear direction on the center line of the rear kinematic coupling 17A so as not to cause interference. I have.
【0028】なお、この固定に際し、カバーケース1の
底部の貫通孔と各円筒形ボス27・27Aとの間には図
3等に示すように、リング形を呈したシール用のパッキ
ン29が複数介在嵌入される。また、カラム20の位置
とボトムプレート23で選択された位置とが合致するよ
う、トッププレート22には微調整可能な図示しない幅
が設けられている。At the time of this fixing, a plurality of ring-shaped sealing gaskets 29 are provided between the through-holes at the bottom of the cover case 1 and the cylindrical bosses 27 and 27A as shown in FIG. It is interposed and inserted. The top plate 22 is provided with a finely adjustable width (not shown) so that the position of the column 20 matches the position selected by the bottom plate 23.
【0029】フロントリテーナ30は、図5等に示すよ
うに、23℃での圧縮クリーブ量が1%のポリエステル
系エラストマを成形材料として基本的には板形に成形さ
れ、内面プレート9に着脱自在に装着固定されている。
このフロントリテーナ30の中央部にはウェーハWの周
縁部を保持する断面V字形を呈した保持溝31が上下に
並べて複数(例えば25本)形成され、フロントリテー
ナ30の両側部には内面プレート取り付け用の凹部32
がそれぞれ一体成形されている。なお、保持溝31は、
ばね性を有し、支持溝24と同一ピッチに形成されてい
る。さらに、リヤリテーナ33は、23℃での圧縮クリ
ーブ量が0.5%のポリエステル系エラストマを成形材
料としてフロントリテーナ30と同様の構造に成形さ
れ、カバーケース1の内部背面に着脱自在に装着固定さ
れている。As shown in FIG. 5 and the like, the front retainer 30 is basically formed in a plate shape using a polyester elastomer having a compression cleave amount of 1% at 23 ° C. as a molding material, and is detachably attached to the inner plate 9. It is fixedly attached to.
A plurality of (for example, 25) holding grooves 31 each having a V-shaped cross section for holding a peripheral portion of the wafer W are vertically arranged at a central portion of the front retainer 30, and inner plates are attached to both sides of the front retainer 30. Recess 32 for
Are integrally formed. The holding groove 31 is
It has spring properties and is formed at the same pitch as the support grooves 24. Further, the rear retainer 33 is formed into a structure similar to that of the front retainer 30 using a polyester-based elastomer having a compression cleave amount of 0.5% at 23 ° C. as a molding material, and is removably mounted and fixed to the inner rear surface of the cover case 1. ing.
【0030】上記構成において、ウェーハWを収納する
には、先ず、カバーケース1の内部にスライスされたウ
ェーハWが一対のカラム20を介し上下方向に積層状態
で整列収納され、リム部4にボックスドア7がガスケッ
ト15を介し嵌合被覆され、その後、手動操作又はロボ
ットの自動操作に基づき、ラッチ機構10の各ディスク
11が施錠方向に回転する。すると、ディスク11の回
転に伴い、複数のラッチプレート13が上下方向にそれ
ぞれ進出し、リム部4の複数の係止凹部6にスライド爪
14がそれぞれ嵌入され、ボックスドア7が強固に施錠
される。In the above configuration, in order to store the wafers W, first, the sliced wafers W are arranged and stored in a vertically stacked state through the pair of columns 20 inside the cover case 1 and The door 7 is fitted and covered via the gasket 15, and thereafter, each disk 11 of the latch mechanism 10 rotates in the locking direction based on manual operation or automatic operation of a robot. Then, with the rotation of the disk 11, the plurality of latch plates 13 respectively advance in the vertical direction, the slide claws 14 are respectively fitted into the plurality of locking recesses 6 of the rim portion 4, and the box door 7 is securely locked. .
【0031】こうしてウェーハWの収納作業が終了した
ら、密封容器は、半導体メーカからICメーカに輸送さ
れる。この際、フロントリテーナ30とリヤリテーナ3
3とは、ウェーハWの前後部の周縁部を保持し、ウェー
ハWに対する振動の悪影響を防ぐとともに、ウェーハW
の破損をきわめて有効に防止する。After the work of storing the wafer W is completed, the sealed container is transported from the semiconductor maker to the IC maker. At this time, the front retainer 30 and the rear retainer 3
3 means that the peripheral edge of the front and rear portions of the wafer W is held, the adverse effect of vibration on the wafer W is prevented, and the wafer W
Very effectively prevents breakage.
【0032】これに対して、ウェーハ加工装置にウェー
ハWを供給する場合、ウェーハ加工装置に密封容器のリ
ム部4が直接接続され、手動操作又はロボットの自動操
作に基づき、ラッチ機構10の各ディスク11が解錠方
向に回転する。すると、ディスク11の回転に伴い、複
数のラッチプレート13が上下方向にそれぞれ後退し、
リム部4の複数の係止凹部6からスライド爪14がそれ
ぞれ外れ、ボックスドア7が解錠される。こうしてリム
部4からボックスドア7が取り外されたら、カラム20
の支持溝24からウェーハWが直接ローティングされ
る。なお、密封容器は、ウェーハ加工装置間のウェーハ
の移動の際にも使用される。On the other hand, when the wafer W is supplied to the wafer processing apparatus, the rim portion 4 of the sealed container is directly connected to the wafer processing apparatus, and each disk of the latch mechanism 10 is manually or automatically operated by a robot. 11 rotates in the unlocking direction. Then, with the rotation of the disk 11, the plurality of latch plates 13 retreat in the vertical direction, respectively,
The slide claws 14 are respectively disengaged from the plurality of locking recesses 6 of the rim portion 4, and the box door 7 is unlocked. When the box door 7 is removed from the rim portion 4 in this manner, the column 20
The wafer W is directly loaded from the support groove 24. Note that the sealed container is also used when moving a wafer between wafer processing apparatuses.
【0033】上記構成によれば、ポリカーボネート樹脂
を用いてカバーケース1が一体成形されるので、軽量化
や成形性を著しく向上させることができる。また、各カ
ラム20がカバーケース1に着脱自在に取り付けられ、
しかも、ボトムプレート23の円筒形ボス27・27A
がキネマチックカップリング17・17Aにそれぞれ直
接固定されるので、位置決めの際に誤差が累積されるこ
とがない。したがって、所定の位置で高精度にウェーハ
Wがローティング・アンローティングされる。また、フ
ロントリテーナ30の圧縮強度よりもリヤリテーナ33
の圧縮強度の方が大きいので、ボックスドア7が開放さ
れてフロントリテーナ30が取り外される毎に、ウェー
ハWに反発力が作用することがなく、この結果、支持溝
24からウェーハWが飛び出して位置ずれが生じたり、
ウェーハWが損傷するのを有効に防止することが可能に
なる。According to the above configuration, since the cover case 1 is integrally formed using the polycarbonate resin, the weight can be reduced and the moldability can be significantly improved. Also, each column 20 is detachably attached to the cover case 1,
Moreover, the cylindrical bosses 27 and 27A of the bottom plate 23
Are directly fixed to the kinematic couplings 17 and 17A, respectively, so that errors are not accumulated during positioning. Therefore, the wafer W is loaded and unloaded at a predetermined position with high precision. In addition, the rear retainer 33 is less than the compressive strength of the front retainer 30.
Is higher, the repulsive force does not act on the wafer W every time the box door 7 is opened and the front retainer 30 is removed. Shift,
It is possible to effectively prevent the wafer W from being damaged.
【0034】また、圧縮強度の相異により、ボックスド
ア7方向にウェーハWが絶えず弾圧付勢されるので、輸
送中の共振による悪影響を大幅に抑制することができ
る。したがって、激しい振動に伴うパーティクルの発生
を有効に防止することができるとともに、ウェーハWの
損傷を未然に防止することが可能になる。また、従来の
カセットの代わりに別部品である一対のカラム20を使
用し、各カラム20を成形性に優れた樹脂を用いて形状
の簡素な小形に構成するので、そり等に伴う寸法ばらつ
きの発生を防止することができる。また、構造の簡易化
が期待でき、設備のコスト削減にも大きく寄与すること
ができる。Further, since the wafer W is constantly urged in the direction of the box door 7 due to the difference in the compressive strength, the adverse effect due to the resonance during transportation can be greatly suppressed. Therefore, it is possible to effectively prevent the generation of particles due to severe vibration, and to prevent the wafer W from being damaged. In addition, since a pair of columns 20 which are separate parts are used instead of the conventional cassette, and each column 20 is formed into a simple and small shape using a resin having excellent moldability, dimensional variations due to warpage and the like are reduced. Generation can be prevented. Further, simplification of the structure can be expected, which can greatly contribute to cost reduction of equipment.
【0035】さらに、カバーケース1、フロントリテー
ナ30、及びリヤリテーナ33等に帯電防止処理や導電
性を付与したので、静電気に伴う塵芥の付着を防止で
き、ウェーハWの汚染を防止し、生産歩留まりを大幅に
向上させることができる。さらにまた、コンベヤプレー
ト16、小型のカラム20、フロントリテーナ30、及
びリヤリテーナ33が交換可能なので、部品の汚染や摩
耗等が懸念される場合には対象となる部品を交換・洗浄
すれば良く、洗浄によりカバーケース1を何度でも使用
することが可能になる。Further, since the cover case 1, the front retainer 30, the rear retainer 33, and the like are provided with antistatic treatment and conductivity, dust attached due to static electricity can be prevented, the contamination of the wafer W can be prevented, and the production yield can be reduced. It can be greatly improved. Furthermore, since the conveyor plate 16, the small column 20, the front retainer 30, and the rear retainer 33 are replaceable, if there is a concern about contamination or wear of the parts, the target parts may be replaced and cleaned. Thereby, the cover case 1 can be used any number of times.
【0036】なお、上記実施形態ではカバーケース1の
リム部4における内周面の上下に係止凹部6をそれぞれ
複数成形したものを示したが、なんらこれに限定される
ものではなく、リム部4における内周面の左右両側に係
止凹部6をそれぞれ複数成形することもできる。また、
これに対応させてラッチ機構10を変更して構成するこ
ともできる。また、カラム20を適宜増加させることも
できる。また、ボトムプレート23と複数のキネマチッ
クカップリング17・17Aとを一体成形することも可
能である。In the above embodiment, a plurality of locking recesses 6 are formed above and below the inner peripheral surface of the rim 4 of the cover case 1, but the present invention is not limited to this. A plurality of locking recesses 6 may be formed on both left and right sides of the inner peripheral surface in FIG. Also,
The latch mechanism 10 can be modified to correspond to this. Further, the number of columns 20 can be appropriately increased. Further, the bottom plate 23 and the plurality of kinematic couplings 17 and 17A can be integrally formed.
【0037】また、本発明に適用可能なものであれば、
円筒形等の各種のパッキン29を単数複数使用すること
が可能である。また、フロントリテーナ30とリヤリテ
ーナ33とを同一の構造としたが、図7に示すように、
リヤリテーナ33に金属部品からなる補強材34を縦に
インサートして補強するようにしても良い。さらに、上
記実施形態ではフロントリテーナ30の圧縮強度とリヤ
リテーナ33の圧縮強度とを上記のようにして異ならせ
たが、同一の成形材料を使用してガラス繊維等の充填剤
により圧縮強度に差をつけても良い。さらにまた、カバ
ーケース1、コンベヤプレート16、キネマチックカッ
プリング17・17A、ボトムプレート23、ビス2
8、及び複数のパッキン29の構成を図9や図10に示
すような構成等に適宜変更することもできる。Further, if applicable to the present invention,
It is possible to use one or more of various packings 29 such as cylindrical. Further, the front retainer 30 and the rear retainer 33 have the same structure, but as shown in FIG.
A reinforcing member 34 made of a metal component may be vertically inserted into the rear retainer 33 to reinforce it. Further, in the above-described embodiment, the compressive strength of the front retainer 30 and the compressive strength of the rear retainer 33 are made different as described above, but the difference in the compressive strength is caused by a filler such as glass fiber using the same molding material. You can put it on. Furthermore, cover case 1, conveyor plate 16, kinematic coupling 17, 17A, bottom plate 23, screw 2
8 and the configuration of the plurality of packings 29 can be appropriately changed to a configuration as shown in FIGS. 9 and 10 or the like.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上のように請求項1記載の発明によれ
ば、加工装置の精密基板受け渡し位置でカセットレスの
容器を正確に位置決めでき、しかも、軽量化を図ること
ができるという効果がある。さらに、請求項2記載の発
明によれば、容器から精密基板が飛び出すのを有効に防
止し、精密基板を正確に取り出し、加工し、あるいは収
納することが可能になる。As described above, according to the first aspect of the present invention, the cassette-less container can be accurately positioned at the precise substrate transfer position of the processing apparatus, and the weight can be reduced. . Further, according to the second aspect of the present invention, it is possible to effectively prevent the precision substrate from jumping out of the container, and to accurately take out, process, or store the precision substrate.
【図1】本発明に係る密封容器の実施形態を示す断面側
面図である。FIG. 1 is a sectional side view showing an embodiment of a sealed container according to the present invention.
【図2】本発明に係る密封容器の実施形態におけるカラ
ムを示す分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view showing a column in the embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図3】本発明に係る密封容器の実施形態におけるカラ
ムの固定状態を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a fixed state of a column in the embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図4】本発明に係る密封容器の実施形態におけるコン
ベヤプレートを示す底面図である。FIG. 4 is a bottom view showing a conveyor plate in the embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図5】本発明に係る密封容器の実施形態におけるリテ
ーナを示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a retainer in the embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図6】図5のリテーナの保持溝を示す部分断面図であ
る。FIG. 6 is a partial sectional view showing a holding groove of the retainer of FIG. 5;
【図7】リテーナの他の実施形態を示す断面説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory sectional view showing another embodiment of the retainer.
【図8】本発明に係る密封容器の実施形態を示す全体斜
視図である。FIG. 8 is an overall perspective view showing an embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図9】本発明に係る密封容器の他の実施形態を示す断
面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図10】本発明に係る密封容器の他の実施形態を示す
断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing another embodiment of the sealed container according to the present invention.
【図11】従来の輸送容器を示す分解斜視図である。FIG. 11 is an exploded perspective view showing a conventional transport container.
【図12】従来の保管容器を示す分解斜視図である。FIG. 12 is an exploded perspective view showing a conventional storage container.
1 カバーケース 7 ボックスドア 15 ガスケット 16 コンベヤプレート 17 キネマチックカップリング(カップリング) 17A キネマチックカップリング(カップリング) 20 カラム 21 側壁部材 23 ボトムプレート 24 支持溝 27 円筒形ボス 27A 円筒形ボス 28 ビス 29 パッキン(密封部材) 30 フロントリテーナ(リテーナ) 31 保持溝 33 リヤリテーナ(リテーナ) W ウェーハ(精密基板) 1 Cover Case 7 Box Door 15 Gasket 16 Conveyor Plate 17 Kinematic Coupling (Coupling) 17A Kinematic Coupling (Coupling) 20 Column 21 Sidewall Member 23 Bottom Plate 24 Support Groove 27 Cylindrical Boss 27A Cylindrical Boss 28 Screw 29 packing (sealing member) 30 front retainer (retainer) 31 holding groove 33 rear retainer (retainer) W wafer (precision substrate)
Claims (2)
バーケースの開口一端面をボックスドアで被覆する密封
容器であって、 上記カバーケースを合成樹脂製としてその底部にコンベ
ヤプレートを、該カバーケースの内部両側には精密基板
支持用のカラムをそれぞれ取り付け、該コンベヤプレー
トに位置決め用のカップリングを所定の間隔をおいて複
数設け、上記カラムは、上記精密基板を支持溝でほぼ水
平状態に支持する側壁部材と、この側壁部材の下部に設
けられたボトムプレートとを含み、このボトムプレート
を上記カップリングに密封部材を介して固定したことを
特徴とする密封容器。1. A sealed container for accommodating a precision substrate in a cover case and covering one end surface of an opening of the cover case with a box door, wherein the cover case is made of synthetic resin, and a conveyor plate is provided at the bottom of the cover case. Columns for supporting a precision substrate are attached to both sides of the inside of the case, and a plurality of couplings for positioning are provided on the conveyor plate at predetermined intervals, and the column makes the precision substrate in a substantially horizontal state with a support groove. A sealed container comprising a supporting side wall member and a bottom plate provided below the side wall member, wherein the bottom plate is fixed to the coupling via a sealing member.
ックスドアの内面とに上記精密基板保持用のリテーナを
それぞれ取り付け、この一対のリテーナにおける一のリ
テーナの圧縮強度を他のリテーナの圧縮強度よりも小さ
くした請求項1記載の密封容器。2. The retainer for holding the precision substrate is attached to the other inner end surface of the cover case and the inner surface of the box door, respectively, and the compressive strength of one of the pair of retainers is made smaller than the compressive strength of the other retainer. 2. The sealed container according to claim 1, wherein the size is also reduced.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32892697A JP3938233B2 (en) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | Sealed container |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32892697A JP3938233B2 (en) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | Sealed container |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11163116A true JPH11163116A (en) | 1999-06-18 |
JP3938233B2 JP3938233B2 (en) | 2007-06-27 |
Family
ID=18215646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32892697A Expired - Fee Related JP3938233B2 (en) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | Sealed container |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3938233B2 (en) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005203768A (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Miraial Kk | Lid for thin plate support container and method for mounting same |
JP2007511098A (en) * | 2003-11-07 | 2007-04-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | Front opening substrate container having bottom plate |
US7316315B2 (en) | 2002-12-02 | 2008-01-08 | Miraial Co., Ltd. | Thin plate storage container and lid having at least one thin plate supporting member |
JP2008034879A (en) * | 2007-10-15 | 2008-02-14 | Miraial Kk | Thin-plate supporting container |
KR100846399B1 (en) * | 2000-12-13 | 2008-07-16 | 엔티그리스 케이먼 리미티드 | System for preventing improper insertion of foup door into foup |
JP2009543374A (en) * | 2006-07-07 | 2009-12-03 | インテグリス・インコーポレーテッド | Wafer cassette |
JP2010040612A (en) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Sumco Corp | Wafer transfer container |
WO2009135144A3 (en) * | 2008-05-01 | 2010-02-18 | Blueshift Technologies, Inc. | Substrate container sealing via movable magnets |
KR100989781B1 (en) | 2002-12-27 | 2010-10-25 | 미라이얼 가부시키가이샤 | Thin plate supporting container |
KR101101075B1 (en) * | 2003-12-18 | 2011-12-30 | 미라이얼 가부시키가이샤 | Lid unit for thin-plate supporting container |
US8424703B2 (en) | 2008-05-01 | 2013-04-23 | Brooks Automation, Inc. | Substrate container sealing via movable magnets |
US10586722B2 (en) | 2007-05-30 | 2020-03-10 | Brooks Automation, Inc. | Vacuum substrate storage |
-
1997
- 1997-11-28 JP JP32892697A patent/JP3938233B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100846399B1 (en) * | 2000-12-13 | 2008-07-16 | 엔티그리스 케이먼 리미티드 | System for preventing improper insertion of foup door into foup |
US7316315B2 (en) | 2002-12-02 | 2008-01-08 | Miraial Co., Ltd. | Thin plate storage container and lid having at least one thin plate supporting member |
KR100989781B1 (en) | 2002-12-27 | 2010-10-25 | 미라이얼 가부시키가이샤 | Thin plate supporting container |
JP2007511098A (en) * | 2003-11-07 | 2007-04-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | Front opening substrate container having bottom plate |
JP4848285B2 (en) * | 2003-11-07 | 2011-12-28 | インテグリス・インコーポレーテッド | Front opening substrate container having bottom plate |
JP4764001B2 (en) * | 2003-12-18 | 2011-08-31 | ミライアル株式会社 | Thin plate support container lid |
KR101101075B1 (en) * | 2003-12-18 | 2011-12-30 | 미라이얼 가부시키가이샤 | Lid unit for thin-plate supporting container |
JP2005203768A (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Miraial Kk | Lid for thin plate support container and method for mounting same |
JP2009543374A (en) * | 2006-07-07 | 2009-12-03 | インテグリス・インコーポレーテッド | Wafer cassette |
US10586722B2 (en) | 2007-05-30 | 2020-03-10 | Brooks Automation, Inc. | Vacuum substrate storage |
JP4616319B2 (en) * | 2007-10-15 | 2011-01-19 | ミライアル株式会社 | Thin plate support container |
JP2008034879A (en) * | 2007-10-15 | 2008-02-14 | Miraial Kk | Thin-plate supporting container |
WO2009135144A3 (en) * | 2008-05-01 | 2010-02-18 | Blueshift Technologies, Inc. | Substrate container sealing via movable magnets |
US8424703B2 (en) | 2008-05-01 | 2013-04-23 | Brooks Automation, Inc. | Substrate container sealing via movable magnets |
JP2010040612A (en) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Sumco Corp | Wafer transfer container |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3938233B2 (en) | 2007-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3370279B2 (en) | Precision substrate storage container | |
JP4324586B2 (en) | Wafer transfer module | |
KR100779828B1 (en) | Receiving container body for object to be processed | |
TWI322478B (en) | Substrate storage container and method for manufacturing the same | |
JP5269077B2 (en) | Support and substrate storage container | |
JP4233392B2 (en) | Substrate storage container | |
TWI469901B (en) | Wafer container and method of manufacture | |
JP3556519B2 (en) | Substrate storage container identification structure and substrate storage container identification method | |
US7823730B2 (en) | Substrate storage container | |
US5713711A (en) | Multiple interface door for wafer storage and handling container | |
JPH11163116A (en) | Sealed container | |
JP2007220823A (en) | Thin plate container | |
WO2005112107A1 (en) | Substrate storage container and method of positioning the container | |
US8365919B2 (en) | Substrate storage container | |
JP4090115B2 (en) | Substrate storage container | |
JPH088332A (en) | Wafer basket in wafer container | |
JP2010192801A (en) | Substrate storing container | |
JP4159946B2 (en) | Substrate storage container | |
JP4372313B2 (en) | Substrate storage container | |
JP2007142192A (en) | Thin-plate body storage container | |
JP2010016140A (en) | Substrate storing container | |
JP2009170726A (en) | Load port and method for adjusting cassette position | |
JP2004304122A (en) | Precision board storing vessel | |
CN113396113B (en) | Substrate storage container | |
JP2010182948A (en) | Substrate storage container |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040213 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070320 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070320 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 6 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160406 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |