JPH11158685A - Mask plate for partial plating - Google Patents

Mask plate for partial plating

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JPH11158685A
JPH11158685A JP34377397A JP34377397A JPH11158685A JP H11158685 A JPH11158685 A JP H11158685A JP 34377397 A JP34377397 A JP 34377397A JP 34377397 A JP34377397 A JP 34377397A JP H11158685 A JPH11158685 A JP H11158685A
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JP
Japan
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mask plate
plating
lead frame
plate
support bar
Prior art date
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Application number
JP34377397A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ishikawa
公一 石川
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Mitsui High Tec Inc
Original Assignee
Mitsui High Tec Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask plate for partial plating capable of well applying partial plating to a lead frame without lodging in of the support bars of the lead frame into the elastic member of the mask plate even when the lead frame is pressurized by the mask plate and a back plate at the time of partial plating. SOLUTION: The mask plate 11 has apertures 10 corresponding to the plating areas 8 of the lead frame 1a. The mask plate 9 for partial plating is constituted by mounting the elastic member 12 likewise having the apertures 10 corresponding to the plating areas 8 at the surface of the lead frame 1a for contact with an object to be plated. The points of the mask plate 9 corresponding to the support bars 4 of the mask plate 11 are provided with projecting parts 17 having nearly the same width as the width of the support bars 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置用リード
フレームに部分メッキを施す部分メッキ用マスク板に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a partial plating mask plate for partially plating a lead frame for a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置用リードフレームには、通常
電気特性向上などの目的から金や銀などの貴金属メッキ
が施される。しかしこのような貴金属材料は高価である
ことから、近年では不必要な部分をマスキングし、真に
必要な部分にのみメッキ処理を行うのが一般的である。
2. Description of the Related Art A lead frame for a semiconductor device is usually plated with a noble metal such as gold or silver for the purpose of improving electrical characteristics. However, since such a noble metal material is expensive, it is common in recent years to mask an unnecessary portion and perform a plating process only on a truly necessary portion.

【0003】図7は半導体装置用リードフレームを示す
図である。ここで示すリードフレーム1は、互いに離間
し長手方向に沿って伸びる一対の枠2と、互いに対向す
る辺を有する長方形状の半導体素子を搭載するためのパ
ッド3と、パッド3の枠2とほぼ平行に配置された互い
に対向する辺から伸長し、枠2とほぼ直交して繋がるパ
ッド3を支持する一対のサポートバー4と、パッド3の
周囲に配置され放射状に伸長するインナーリード5と、
インナーリード5を連結するタイバー6と、インナーリ
ード5それぞれに連接されるアウターリード7とから構
成されている。このうち通常は半導体素子を搭載するパ
ッド3及びワイヤーボンディングを行うインナーリード
5の先端部の斜線部で示すメッキエリア8に対応する箇
所にのみ金や銀などの貴金属からなるメッキが施され
る。なお、通常製造過程においては、リードフレーム1
は複数連結された短尺状の状態で形成され、各処理が施
される。
FIG. 7 is a view showing a lead frame for a semiconductor device. The lead frame 1 shown here comprises a pair of frames 2 which are separated from each other and extend along the longitudinal direction, a pad 3 for mounting a rectangular semiconductor element having sides facing each other, and a frame 2 of the pads 3. A pair of support bars 4 that extend from opposite sides arranged in parallel and support pads 3 that are connected to the frame 2 at substantially right angles, and inner leads 5 that are arranged around the pads 3 and extend radially;
The tie bar 6 connects the inner leads 5 and the outer leads 7 connected to the respective inner leads 5. Normally, plating made of a noble metal such as gold or silver is applied only to a portion corresponding to a plating area 8 indicated by a hatched portion at the tip of the pad 3 on which the semiconductor element is mounted and the inner lead 5 for wire bonding. In the normal manufacturing process, the lead frame 1
Are formed in a short state in which a plurality of pieces are connected, and each processing is performed.

【0004】図4にこのような部分メッキにおいて、被
メッキ物のマスキングに使用するマスク板及びメッキ装
置を示す。ここで示すマスク板は短尺状に形成されたリ
ードフレーム1aにメッキ処理を施すためのもので、す
なわちマスク板9は、リードフレーム1aのメッキエリ
ア8に対応する複数個の開口部10を設けたガラスエポ
キシ樹脂などの耐熱性及び耐薬品性を有する硬質材から
なるマスクプレート11と、このマスクプレート11の
被メッキ物当接面に装着された、やはり被メッキ物であ
るリードフレーム1aのメッキエリア8に対応する複数
個の開口部10を設けたシリコンゴムなどからなる弾性
部材12とから構成されている。なお、このような弾性
部材12は、一般に金型を使用したモールド法などによ
り、マスクプレート11の片面に形成されている。
FIG. 4 shows a mask plate and a plating apparatus used for masking an object to be plated in such partial plating. The mask plate shown here is for plating a short lead frame 1a, that is, the mask plate 9 has a plurality of openings 10 corresponding to the plating area 8 of the lead frame 1a. A mask plate 11 made of a heat-resistant and chemical-resistant hard material such as a glass epoxy resin, and a plating area of a lead frame 1 a, which is also an object to be plated, which is mounted on the surface of the mask plate 11 that contacts the object to be plated. And an elastic member 12 made of silicon rubber or the like provided with a plurality of openings 10 corresponding to 8. Note that such an elastic member 12 is generally formed on one surface of the mask plate 11 by a molding method using a mold or the like.

【0005】このようなマスク板9を利用した部分メッ
キ方法について説明すると、図4に示すように、まずマ
スク板9をトッププレート13上に装着する。なお、こ
のトッププレート13にもマスク板9に設けられた開口
部10に対応する複数の開口部10が設けられている。
そしてこのマスク板9の弾性部材12上にリードフレー
ム1aの被メッキ面側を当接させて載置し、またリード
フレーム1aのメッキされない面側には、メッキ液が裏
面に回り込まないようにバックプレート14の被メッキ
物当接面に装着されたバックプレートゴム15を当接さ
せて、リードフレーム1aをはさみ込む。
A partial plating method using such a mask plate 9 will be described. First, as shown in FIG. 4, the mask plate 9 is mounted on a top plate 13. The top plate 13 also has a plurality of openings 10 corresponding to the openings 10 provided in the mask plate 9.
Then, the plating surface of the lead frame 1a is placed on the elastic member 12 of the mask plate 9 with the plating surface in contact with the plating member. The back plate rubber 15 mounted on the plate 14 is brought into contact with the plate contacting surface, and the lead frame 1a is sandwiched.

【0006】この状態でバックプレート14を上方から
加圧し、マスク板9の弾性部材12及びバックプレート
14のバックプレートゴム15をそれぞれリードフレー
ム1aに密着させて、リードフレーム1aのメッキ不要
領域をマスキングする。なお、このときリードフレーム
1aのメッキ必要領域、すなわちリードフレーム1aの
パッド3及びインナーリード5の先端部のメッキエリア
8に対応する箇所はマスキングされず、図5に示すよう
に、マスク板9の開口部10内に突出せしめられてい
る。そしてマスク板9に設けられた複数個の開口部10
に対応したノズル(図示せず)から当該開口部10内に
メッキ液が噴出され、これにより当該開口部10内に突
出せしめられているリードフレーム1aのメッキエリア
8に対応する箇所に所望する厚さでメッキを施すのであ
る。
In this state, the back plate 14 is pressurized from above, and the elastic member 12 of the mask plate 9 and the back plate rubber 15 of the back plate 14 are respectively brought into close contact with the lead frame 1a to mask the plating-free area of the lead frame 1a. I do. At this time, the plating area of the lead frame 1a, that is, the area corresponding to the plating area 8 at the tip of the pad 3 and the inner lead 5 of the lead frame 1a is not masked, and as shown in FIG. It is projected into the opening 10. The plurality of openings 10 provided in the mask plate 9
A plating solution is spouted from the nozzle (not shown) corresponding to the opening 10 into the opening 10, whereby a desired thickness is formed at a position corresponding to the plating area 8 of the lead frame 1 a protruding into the opening 10. Then plating is applied.

【0007】ところでこのように部分メッキを施す場
合、メッキ不要領域を良好にマスキングするためには弾
性部材12とバックプレートゴム15とを十分な圧力を
かけて密着させる必要があるが、図5に示すように、マ
スク板9の開口部10に位置するリードフレーム1aの
メッキエリア8に対応する箇所においては、インナーリ
ード5(図5には図示せず)の一部はかろうじてマスク
板9にて支持されているけれども、パッド3については
下からの支えが何もなく、細く脆弱なサポートバー4に
よってリードフレーム1aの枠2に連結され支持されて
いるだけであり、このため前述したようにメッキ装置の
バックプレート14に十分な圧力を加えて部分メッキを
施す場合、パッド3はバックプレート14の表面に装着
されたバックプレートゴム15の弾性力を支えきれずに
下方(マスク板9側)に押し出されてしまう。このとき
パッド3を支えるサポートバー4もパッド3の下降に伴
って下方に変移し、その結果サポートバー4がマスク板
9の弾性部材12にめりこんでしまう。
When partial plating is performed as described above, the elastic member 12 and the back plate rubber 15 need to be brought into close contact with each other by applying a sufficient pressure in order to properly mask a region not requiring plating. As shown in the drawing, at a portion corresponding to the plating area 8 of the lead frame 1a located at the opening 10 of the mask plate 9, a part of the inner lead 5 (not shown in FIG. 5) is barely formed by the mask plate 9. Although supported, the pad 3 has no support from below, and is only connected to and supported by the frame 2 of the lead frame 1a by the thin and fragile support bar 4, so that the plating is performed as described above. When a partial pressure is applied to the back plate 14 of the apparatus by applying a sufficient pressure, the pad 3 is attached to the back plate mounted on the surface of the back plate 14. Thus extruded downward (mask plate 9 side) not completely support the elastic force of the rubber 15. At this time, the support bar 4 that supports the pad 3 also moves downward as the pad 3 moves down, and as a result, the support bar 4 sinks into the elastic member 12 of the mask plate 9.

【0008】このようにサポートバー4が弾性部材12
にめりこんだ状態で部分メッキを行うと、バックプレー
トゴム15とサポートバー4との間にすき間が生じて十
分にサポートバー4裏面のメッキ不要領域をマスキング
することができず、この結果、図6に示すようにサポー
トバー4裏面の周縁部にメッキ液16がもれてしまう、
いわゆる裏もれと呼ばれる現象が発生していた。
As described above, the support bar 4 is connected to the elastic member 12.
If the partial plating is performed in a state of being entrapped, a gap is generated between the back plate rubber 15 and the support bar 4, and it is not possible to sufficiently mask the plating unnecessary area on the back surface of the support bar 4, and as a result, As shown in FIG. 6, the plating solution 16 leaks to the periphery of the back surface of the support bar 4.
A phenomenon called so-called back leakage occurred.

【0009】[0009]

【この発明が解決しようとする課題】また最悪の場合に
は、同じく図6にて示すようにパッド3裏面の周縁部に
もメッキ液16が裏もれしてしまう。このようにサポー
トバー4やパッド3の裏面にメッキ液16が裏もれして
しまうと、高価なメッキ液16の浪費という問題が発生
するのはもちろんだが、それ以外にも、その後の工程で
リードフレーム1aを複数枚積み重ねて搬送などを行う
場合、パッド3表面に施されたメッキとこのパッド3表
面に当接しているパッド3裏面に裏もれしたメッキとが
くっついてしまうという問題があった。このようにメッ
キ同士がくっついてしまうと、例えばその後の工程でリ
ードフレーム1aを複数枚積み重ね、その中から一枚ず
つ取り出して各処理工程に搬送したい場合にも積み重ね
られたリードフレーム1a同士が良好に分離されず、そ
の結果リードフレーム1aの2枚送りなどが頻発してし
まうという問題があった。
In the worst case, the plating solution 16 also leaks to the periphery of the back surface of the pad 3 as shown in FIG. If the plating solution 16 leaks from the back surface of the support bar 4 or the pad 3 in this way, the problem of wasting the expensive plating solution 16 will of course occur. When a plurality of lead frames 1a are stacked and transported, there is a problem that the plating applied to the surface of the pad 3 and the plating leaking from the back surface of the pad 3 in contact with the surface of the pad 3 are stuck. Was. If the plating adheres to each other as described above, for example, when a plurality of lead frames 1a are stacked in a subsequent step, and the lead frames 1a are taken out one by one and conveyed to each processing step, the stacked lead frames 1a are good. Therefore, there is a problem that the lead frame 1a is frequently fed by two sheets.

【0010】また、このような裏もれの結果、ダイボン
ディング工程やワイヤボンディング工程において、ヒー
トブロックにメッキ液16が付着してヒートブロックを
汚染してしまい、それがリードフレーム1aの変形不良
やワイヤ切れ不良、送り不良などを誘発してしまうとい
う問題もあった。本発明は前記実情に鑑みてなされたも
ので、上記問題を解決し、部分メッキの際にバックプレ
ートにてリードフレームを加圧した場合においても、パ
ッドの下方への押し出しを抑止し、かつサポートバーが
弾性部材にめりこんでしまうことなく良好に部分メッキ
を施すことのできる部分メッキ用マスク板を提供するこ
とを目的とするものである。
As a result of such back leakage, the plating solution 16 adheres to the heat block and contaminates the heat block in the die bonding step and the wire bonding step, which leads to poor deformation of the lead frame 1a, There is also a problem that a wire breakage failure, a feeding failure, and the like are induced. The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and solves the above-described problem. Even when the lead frame is pressed by the back plate during partial plating, the pad is prevented from being pushed downward and supported. It is an object of the present invention to provide a partial plating mask plate capable of satisfactorily performing partial plating without the bars being entrapped in the elastic member.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の部分メッキ用マスク板においては、サポー
トバーに対応する箇所の弾性部材の厚みを他部よりも薄
く形成するようにしている。そしてこれによりサポート
バーの弾性部材へのめりこみを防止し、リードフレーム
全体、特にサポートバー及び/またはパッド部のメッキ
不要領域を良好にマスキングすることができる。
In order to achieve the above object, in the mask plate for partial plating of the present invention, the thickness of the elastic member at the portion corresponding to the support bar is made thinner than the other portions. I have. Thus, the support bar can be prevented from being sunk into the elastic member, and the entire lead frame, in particular, the plating-free area of the support bar and / or the pad portion can be masked well.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明は、被メッキ物であるリー
ドフレームのメッキエリアに対応する開口部を有するマ
スクプレートの被メッキ物当接面に、同じくメッキエリ
アに対応する開口部を有する弾性部材を装着してなる部
分メッキ用マスク板において、マスクプレートのサポー
トバーに対応する箇所に、サポートバーの幅とほぼ同一
幅を有する凸部を設けたものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a resilient plate having an opening corresponding to a plating area on a surface of a mask plate having an opening corresponding to a plating area of a lead frame to be plated. In a partial plating mask plate on which a member is mounted, a projection having substantially the same width as the width of the support bar is provided at a position corresponding to the support bar of the mask plate.

【0013】なおこの凸部17の寸法は、サポートバー
4の幅方向については、サポートバー4の幅寸法と同一
か、サポートバー4の両側に存在するインナーリード5
に干渉しない程度に幅広に形成してもよい。またサポー
トバー4の長手方向については、サポートバー4のマス
クプレート11と当接する部分、すなわちマスクプレー
ト11の開口部10の端部から枠2に繋がる部分までの
間で適宜設定可能であり、更にはサポートバー4の全長
より長く設定してもよい。
In the width direction of the support bar 4, the size of the projection 17 is the same as the width of the support bar 4, or the inner leads 5 on both sides of the support bar 4.
May be formed wide enough not to interfere with the pattern. Further, the longitudinal direction of the support bar 4 can be appropriately set in a portion where the support bar 4 is in contact with the mask plate 11, that is, in a range from an end of the opening 10 of the mask plate 11 to a portion connected to the frame 2. May be set longer than the entire length of the support bar 4.

【0014】ただし、サポートバー4を良好に支持する
ためにも、前述したサポートバー4のマスクプレート1
1との当接部分の寸法、すなわちマスクプレート11の
開口部10の端部から枠2に繋がる部分までの寸法のう
ち、マスクプレート11の開口部10の端部を基準にし
て、当該当接部分の寸法の少なくとも1/3以上、望ま
しくは1/2以上に設定することが好ましい。また凸部
17と弾性部材12との密着性を良好にするために、凸
部17の当該当接部分の開口部10側の端部を0.2〜
0.5mm程度マスクプレート11の開口部10の端部
より短く設定するのが望ましい。更に高さ方向の寸法
は、サポートバー4のマスキングとめりこみ防止との兼
ね合いを考慮して、弾性部材12の厚みの3/5〜4/
5程度であることが好ましい。
However, in order to support the support bar 4 well, the mask plate 1 of the support bar 4 is required.
1, that is, the dimension from the end of the opening 10 of the mask plate 11 to the portion connected to the frame 2, based on the end of the opening 10 of the mask plate 11. It is preferable to set the size of the portion to at least 1/3 or more, preferably 1/2 or more. In order to improve the adhesion between the convex portion 17 and the elastic member 12, the end of the contact portion of the convex portion 17 on the opening 10 side should be 0.2 to 0.2.
It is desirable to set the length to about 0.5 mm shorter than the end of the opening 10 of the mask plate 11. Further, the dimension in the height direction is set to 3/5 to 4/4 of the thickness of the elastic member 12 in consideration of the balance between masking of the support bar 4 and prevention of indentation.
It is preferably about 5.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の部分メッキ用マスク板につい
て、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、従来例と
同一の箇所については同一の符号を用いて説明する。本
実施例においては、マスク板の基本的な構成については
従来例と同様であり、すなわちマスク板9は、図1に示
すように、リードフレーム1aのメッキエリア8に対応
する複数の開口部10を設けたガラスエポキシ樹脂など
の耐熱性及び耐薬品性を有する硬質材からなるマスクプ
レート11と、このマスクプレート11の被メッキ物当
接面に装着された、やはり被メッキ物であるリードフレ
ーム1aのメッキエリア8に対応する複数の開口部10
を設けたシリコンゴムなどからなる弾性部材12とから
構成されている。なおこのような弾性部材12は、一般
に金型を使用したモールド法などにより、マスクプレー
ト11の片面に形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A partial plating mask plate of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The same parts as those in the conventional example will be described using the same reference numerals. In the present embodiment, the basic configuration of the mask plate is the same as that of the conventional example, that is, the mask plate 9 has a plurality of openings 10 corresponding to the plating areas 8 of the lead frame 1a as shown in FIG. Plate 11 made of a heat-resistant and chemical-resistant hard material such as a glass epoxy resin provided with a glass plate, and a lead frame 1a, which is also an object to be plated, which is mounted on the surface of the mask plate 11 to be in contact with the object to be plated. Openings 10 corresponding to the plating areas 8
And an elastic member 12 made of silicon rubber or the like. Note that such an elastic member 12 is generally formed on one surface of the mask plate 11 by a molding method using a mold or the like.

【0016】ここで本実施例においては、図1に示すよ
うに、マスクプレート11の弾性部材12装着面の被メ
ッキ物であるリードフレーム1aのサポートバー4に対
応する箇所に、凸部17が設けられている。なお本実施
例においては、この凸部17はサポートバー4のマスク
プレート11の当接部分と幅方向、長手方向ともほぼ同
一寸法の長方形状で、かつ高さは弾性部材12の厚みの
4/5の寸法に形成されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, a projection 17 is formed at a position corresponding to the support bar 4 of the lead frame 1a, which is an object to be plated, on the mounting surface of the elastic member 12 of the mask plate 11. Is provided. In the present embodiment, the convex portion 17 has a rectangular shape having substantially the same dimensions in the width direction and the longitudinal direction as the contact portion of the support bar 4 with the mask plate 11, and the height is 4 / (thickness) of the thickness of the elastic member 12. 5 are formed.

【0017】このようなマスク板9を利用した部分メッ
キ方法についても従来例と同様であり、図4に示すよう
に、まずマスク板9をトッププレート13上に装着す
る。なお、このトッププレート13にもマスク板9に設
けられた開口部10に対応する複数の開口部10が設け
られている。そしてこのマスク板9の弾性部材12上に
リードフレーム1aの被メッキ面側を当接させて載置
し、またリードフレーム1aのメッキされない面側に
は、メッキ液が裏面に回り込まないようにバックプレー
ト14の被メッキ物当接面に装着されたバックプレート
ゴム15を当接させて、リードフレーム1aをはさみ込
む。
The partial plating method using such a mask plate 9 is the same as in the conventional example. First, the mask plate 9 is mounted on the top plate 13 as shown in FIG. The top plate 13 also has a plurality of openings 10 corresponding to the openings 10 provided in the mask plate 9. Then, the plating surface of the lead frame 1a is placed on the elastic member 12 of the mask plate 9 with the plating surface in contact with the plating member. The back plate rubber 15 mounted on the plate 14 is brought into contact with the plate contacting surface, and the lead frame 1a is sandwiched.

【0018】この状態でバックプレート14を上方から
加圧し、マスク板9の弾性部材12及びバックプレート
14のバックプレートゴム15をそれぞれリードフレー
ム1aに密着させて、リードフレーム1aのメッキ不要
領域をマスキングする。なお、このときリードフレーム
1aのメッキエリア8に対応する箇所は、図2に示すよ
うに、マスク板9の開口部10内に突出せしめられてい
る。
In this state, the back plate 14 is pressurized from above, and the elastic member 12 of the mask plate 9 and the back plate rubber 15 of the back plate 14 are brought into close contact with the lead frame 1a, thereby masking the plating-free area of the lead frame 1a. I do. At this time, a portion corresponding to the plating area 8 of the lead frame 1a is projected into the opening 10 of the mask plate 9, as shown in FIG.

【0019】ここで本発明のマスク板9においては、マ
スクプレート11のリードフレーム1aのサポートバー
4に対応する箇所に凸部17が設けられているので、リ
ードフレーム1aをバックプレート14及びマスク板9
にてはさみ込み加圧する場合にも、図2に示すように、
この凸部17が存在する部分は他部よりも弾性部材12
の厚みが薄く形成されるため、バックプレート14のリ
ードフレーム1aとの当接面に装着されているバックプ
レートゴム15の弾性力によるパッド3の下方(マスク
板9側)へのせり出しやそれに伴うサポートバー4の弾
性部材12へのめりこみを抑制することができ、その結
果パッド3及びサポートバー4とバックプレートゴム1
5との密着性が損なわれることなく良好にメッキを施す
ことができる。
Here, in the mask plate 9 of the present invention, since the projection 17 is provided at a position corresponding to the support bar 4 of the lead frame 1a of the mask plate 11, the lead frame 1a is connected to the back plate 14 and the mask plate. 9
Even when pressurizing with
The portion where the convex portion 17 exists is more elastic than the other portion.
Is formed to be thin, and the back plate rubber 15 mounted on the contact surface of the back plate 14 with the lead frame 1a protrudes below the pad 3 (to the side of the mask plate 9) due to the elastic force of the back plate rubber 15 and the accompanying protrusion. The support bar 4 can be prevented from being embedded into the elastic member 12, and as a result, the pad 3, the support bar 4 and the back plate rubber 1 can be prevented.
5 can be satisfactorily plated without deteriorating the adhesiveness to 5.

【0020】そしてこの状態でマスク板9に設けられた
複数個の開口部10に対応したノズル(図示せず)から
当該開口部10内にメッキ液が噴出され、これにより当
該開口部9内に突出せしめられているリードフレーム1
aの被メッキ面のメッキエリア8に対応する箇所に所望
する厚さでメッキを施すのである。
In this state, a plating solution is ejected from the nozzles (not shown) corresponding to the plurality of openings 10 provided in the mask plate 9 into the openings 10, whereby the plating liquid is injected into the openings 9. Lead frame 1 protruding
A portion corresponding to the plating area 8 on the surface to be plated a is plated with a desired thickness.

【0021】なお、本実施例においてはリードフレーム
を短尺状に形成した例につき説明したが、これに限定さ
れず、帯状に形成した状態または単体で形成した場合に
も適用することができる。また、本実施例においてはリ
ードが2方向に伸長するタイプのリードフレームにつき
説明したが、これに限定されることなく、例えばリード
の伸長方向が1方向のものや4方向のものなどにも本発
明は適用可能である。なおリードが4方向に伸長するも
のの場合には、サポートバー形状に対応して凸部17は
図3に示すように配設される。
In this embodiment, an example in which the lead frame is formed in a short shape has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a case in which the lead frame is formed in a band shape or a single unit. In this embodiment, the description has been given of the lead frame of the type in which the lead extends in two directions. However, the present invention is not limited to this type. For example, the lead frame may be extended in one direction or four directions. The invention is applicable. When the leads extend in four directions, the protrusions 17 are arranged as shown in FIG. 3 corresponding to the shape of the support bar.

【0022】更に、本実施例においてはマスクプレート
11の材質としてガラスエポキシ樹脂を使用したが、こ
れに限定されず、耐薬品性や耐熱性、絶縁性を満足する
ことができるものならばその他の材料によっても置換可
能である。また、弾性部材12の材質についても、本実
施形態において使用したシリコンゴム以外でも、合成ゴ
ム、天然ゴムやウレタン、フッ素系の樹脂などが適用で
きる。
Further, in this embodiment, glass epoxy resin is used as the material of the mask plate 11. However, the material is not limited to this, and any other material that can satisfy chemical resistance, heat resistance, and insulation properties can be used. It can be replaced by a material. Further, as for the material of the elastic member 12, other than the silicone rubber used in the present embodiment, synthetic rubber, natural rubber, urethane, fluorine-based resin and the like can be applied.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の部分
メッキ用マスク板によれば、マスクプレートのサポート
バーに対応する箇所には凸部が設けられているので、こ
の箇所の弾性部材の厚みを他部と比較して薄く形成する
ことができ、このため部分メッキの際にバックプレート
にて被メッキ物であるリードフレームを加圧した場合に
おいても、サポートバーがマスク板の弾性部材にめりこ
むことがないので、その結果バックプレートゴムとリー
ドフレームのサポートバー及び/またはパッドとの密着
性を損なうことなく良好に部分メッキを施すことが可能
となる。
As described above, according to the mask plate for partial plating of the present invention, since the projection corresponding to the support bar of the mask plate is provided, the elastic member at this location is provided. Since the thickness can be made thinner than other parts, even when the lead frame, which is the object to be plated, is pressed by the back plate during partial plating, the support bar is attached to the elastic member of the mask plate. As a result, the partial plating can be performed well without impairing the adhesion between the back plate rubber and the support bar and / or the pad of the lead frame.

【0024】また、このようにマスクプレート上に凸部
を設けることにより、マスクプレートと弾性部材との密
着性を向上することができるという効果も奏功する。
Further, by providing the projections on the mask plate as described above, the effect that the adhesion between the mask plate and the elastic member can be improved is also effective.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の部分メッキ用マスク板の構成を示す斜
視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a mask plate for partial plating of the present invention.

【図2】本発明の部分メッキ用マスク板を用いた部分メ
ッキ方法を示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a partial plating method using a partial plating mask plate of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing another embodiment of the present invention.

【図4】部分メッキ装置を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing a partial plating apparatus.

【図5】従来の部分メッキ用マスク板を用いた部分メッ
キ方法を示す断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional partial plating method using a partial plating mask plate.

【図6】メッキの裏もれを示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing leakage of plating.

【図7】被メッキ物である半導体装置用リードフレーム
を示す平面図。
FIG. 7 is a plan view showing a lead frame for a semiconductor device which is an object to be plated;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1a、1b リードフレーム 2 枠 3 パッド 4 サポートバー 5 インナーリード 6 タイバー 7 アウターリード 8 メッキエリア 9 マスク板 10 開口部 11 マスクプレート 12 弾性部材 13 トッププレート 14 バックプレート 15 バックプレートゴム 16 メッキ液 17 凸部 1, 1a, 1b lead frame 2 frame 3 pad 4 support bar 5 inner lead 6 tie bar 7 outer lead 8 plating area 9 mask plate 10 opening 11 mask plate 12 elastic member 13 top plate 14 back plate 15 back plate rubber 16 plating solution 17 convex part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メッキエリアに対応する開口部を有する
マスクプレートの被メッキ物当接面に、同じくメッキエ
リアに対応する開口部を有する弾性部材を装着してなる
部分メッキ用マスク板において、マスクプレートのサポ
ートバーに対応する箇所に、サポートバーの幅とほぼ同
一幅を有する凸部が設けられていることを特徴とする部
分メッキ用マスク板。
1. A partial plating mask plate comprising: a mask plate having an opening corresponding to a plating area; and an elastic member having an opening corresponding to the plating area is mounted on a surface of the mask plate contacting an object to be plated. A mask plate for partial plating, wherein a protrusion having substantially the same width as the width of the support bar is provided at a position corresponding to the support bar of the plate.
JP34377397A 1997-11-28 1997-11-28 Mask plate for partial plating Pending JPH11158685A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011021226A (en) * 2009-07-15 2011-02-03 Mitomo Semicon Engineering Kk Intermittently partial plating apparatus and method for intermittently partial plating by use of the same

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