JPH11157120A - 描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 描画時間の短縮化が可能な描画装置を提供す
る。 【解決手段】 露光ヘッドは、レーザビーム３０を主走
査方向に偏向する主走査方向偏向素子と、主走査方向偏
向素子を通過したレーザビーム３０を副走査方向に偏向
する第１および第２像回転プリズム１６ａ，１６ｂを備
える。第１像回転プリズム１６ａはレーザビーム３０を
副走査の順方向Ｙ１に角度α１だけ偏向し、第２像回転
プリズム１６ｂはレーザビーム３０を副走査の逆方向Ｙ
２に角度α２だけ偏向する。プリズム切換器は順方向Ｙ
１へのテーブル移動時に第１像回転プリズム１６ａをレ
ーザビーム３０の光軸上に移動させ、逆方向Ｙ２へのテ
ーブル移動時に第２像回転プリズム１６ｂをレーザビー
ム３０の光軸上に移動させて往復描画動作を行なわせ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、描画対象物に光ビ
ームを走査して描画を行なう描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ビームを用いた描画装置では、描画信
号に基づいて変調された光ビームを主走査方向に走査さ
せるとともに、描画対象物を保持したテーブルを副走査
方向に移動させることによって描画対象物に光ビームに
よる描画を行なう。

【０００３】このような描画装置としては、プリント基
板やリードフレーム用のマスクなどの感光材にレーザー
光でパターンを描画するために用いられる分割露光方式
（分割描画方式）の露光装置がある。

【０００４】図８は従来の分割露光方式の描画動作の説
明図である。分割露光方式の露光装置では、図８に示す
ように、感光材１００を原点側からＹ軸方向（副走査方
向）に一定速度で移動させながら、露光ヘッドからレー
ザービームＢをＸ軸方向（主走査方向）に走査すること
により、感光材１００の表面に一定の走査幅Ｗで描画を
行なう。

【０００５】図９は描画動作の拡大模式図である。感光
材１００は副走査の順方向Ｙ１に一定速度で移動してい
る。このため、レーザビームＢを主走査方向Ｘに走査す
ると、感光材１００上には描画ライン３１が主走査方向
Ｘに対して傾斜して作成される。このため、露光装置で
は、像回転プリズム等を用いてレーザビームＢを主走査
方向Ｘから所定の角度αだけ順方向Ｙ１側に傾斜するよ
うに偏向させて感光材１００の表面に照射している。そ
れにより、感光材１００の表面に主走査方向Ｘに平行に
描画ラインＡが形成される。

【０００６】感光材１００がストローク端部まで移動す
れば、露光ヘッドを感光材１００のＹ軸方向の原点側に
戻すとともに、一定距離だけＸ軸方向に移動させる。そ
の後、感光材１００をＹ軸方向に移動させるとともにレ
ーザビームＢをＸ軸方向に走査させる。

【０００７】このような動作を繰り返すことにより、感
光材１００上の短冊状の領域（以下、ストライプ領域と
呼ぶ）１０１ごとに順次露光が行なわれ、最終的に感光
材１００の全面に描画が行なわれる。

【０００８】上記のような露光装置に対して、近年では
描画処理の高速化が望まれている。このために、種々の
方法が提案されている。たとえば、露光ヘッドとテーブ
ルとの相対移動速度を高め、副走査方向への走査速度を
大きくする第１の方法、あるいは複数の露光ヘッドを用
いて複数のストライプ領域を同時に描画する第２の方法
などが提案されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
１の方法では、露光ヘッドとテーブルとの相対移動速度
を高めるためには限界があり、大きな効果を得ることが
できない。また、露光ヘッドとテーブルとの相対移動速
度を変化させると、主走査方向の走査速度と副走査方向
の走査速度の比が変化し、このために、レーザビームの
副走査方向への偏向量を変化させる必要が生じる。しか
しながら、従来の露光装置では、レーザビームの副走査
方向への偏向量を変化させることが困難である。

【００１０】また、第２の方法では、複数の露光ヘッド
が必要となり、露光装置の構成が複雑化するとともにコ
ストが高くなる。

【００１１】本発明の目的は、描画時間の短縮化が可能
な描画装置を提供することである。本発明の他の目的
は、光ビームの主走査方向への走査速度と副走査方向へ
の走査速度との比に応じて光ビームの副走査方向への偏
向量を変化させることが可能な描画装置を提供すること
である。

【００１２】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するために、本発明者は、露光ヘッドと感光材
との相対的な副走査方向への往復移動行程において往復
描画動作を行なわせる方法を検討した。この場合には、
露光ヘッドと感光材との相対移動方向が往復描画の往行
程と復行程とで異なる。このため、感光材上に主走査方
向に平行に光ビームを走査させるためには、往行程と復
行程とで主走査時の光ビームの偏向方向を切り換える必
要が生じる。そこで、往行程と復行程とで１つの像回転
プリズムの取付け角度を変えて光ビームの偏向方向を切
り換える構造を考案した。

【００１３】しかしながら、この構造では、像回転プリ
ズムの取り付け角度を変更する度に、像回転プリズムを
正規の位置に固定、保持することが困難であり、像回転
プリズムの取り付け位置にずれが生じ、その結果、往行
程と復行程とで主走査方向への描画ラインに傾きが生
じ、ストライプ領域間のつなぎ目部分にずれが生じたり
して描画品質が劣化する。

【００１４】そこで、本発明者は、描画品質の劣化が生
じることなく描画時間を短縮化すべく、以下の発明を案
出したものである。

【００１５】（１）第１の発明 第１の発明に係る描画装置は、光ビームを主走査方向に
走査させて描画対象物に照射する光ビーム照射手段と、
光ビーム照射手段と描画対象物とを副走査方向に相対的
に往復移動させる移動手段とを備え、光ビーム照射手段
は、光ビームを出射する光源と、光源から出射された光
ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、主走査
手段からの光ビームが主走査方向に対して傾いた第１の
方向で走査するように光ビームを偏向する第１の偏向手
段と、主走査手段からの光ビームが主走査方向に対して
第１の方向と反対に傾いた第２の方向で走査するように
光ビームを偏向する第２の偏向手段と、光ビーム照射手
段と描画対象物との相対移動の方向に応じて第１の偏向
手段および第２の偏向手段の一方が主走査手段からの光
ビームを偏向するように切り換える切り換え手段とを備
えたものである。

【００１６】第１の発明に係る描画装置においては、光
ビーム照射手段と描画対象物との相対移動の方向にそれ
ぞれ対応する第１の偏向手段と第２の偏向手段とが設け
られている。切り換え手段は、光ビーム照射手段と描画
対象物とが副走査の一方向に相対移動する際には、第１
の偏向手段を用いて光ビームを偏向して主走査を行なわ
せ、また光ビーム照射手段と描画対象物とが副走査の他
方向に相対移動する際には、第２の偏向手段を用いて光
ビームを偏向して主走査を行なわせることができる。し
かも、第１の偏向手段および第２の偏向手段はそれぞれ
光ビームを所定の向きに偏向するように偏向量が定めら
れている。このため、描画対象物への副走査方向に応じ
て第１および第２の偏向手段を切り換えて使用すること
により、主走査方向への描画ラインの傾きのばらつきが
防止され、高品質で往復描画を行なえ、これによって描
画時間を短縮化することができる。

【００１７】（２）第２の発明 第２の発明に係る描画装置は、第１の発明に係る描画装
置の構成において、第１の偏向手段が、主走査手段によ
って主走査方向に走査される光ビームを第１の方向に偏
向する第１の像回転プリズムからなり、第２の偏向手段
が、主走査手段によって主走査方向に走査される光ビー
ムを第２の方向に偏向する第２の像回転プリズムからな
るものである。

【００１８】第１および第２の像回転プリズムはそれぞ
れ光ビームを第１の方向および第２の方向に偏向するよ
うに光ビーム照射手段の所定位置に固定されている。そ
して、切り換え手段が第１の像回転プリズムに切り換え
ると、第１の像回転プリズムが主走査手段からの光ビー
ムを第１の方向に偏向し、また切り換え手段が第２の像
回転プリズムに切り換えると、第２の像回転プリズムが
主走査手段からの光ビームを第２の方向に偏向する。

【００１９】第１および第２の像回転プリズムは切り換
え手段により切り換えられる度に第１および第２の方向
にそれぞれ光ビームを正確に偏向する。これにより、往
復描画動作時において、描画対象物に主走査方向に平行
に描画ラインを形成することができ、高品質の描画を行
なうことができる。

【００２０】（３）第３の発明 第３の発明に係る描画装置は、第２の発明に係る描画装
置の構成において、切り換え手段が、第１および第２の
像回転プリズムの一方に主走査手段からの光ビームが入
射するように第１および第２の像回転プリズムを移動さ
せる駆動手段を含むものである。

【００２１】この場合、駆動手段を駆動させることによ
って光ビーム照射手段と描画対象物との相対移動の方向
に応じて第１および第２の像回転プリズムを切り換えて
高品質の往復描画動作を行なうことができる。

【００２２】（４）第４の発明 第４の発明に係る描画装置は、光ビームを主走査方向に
走査させて描画対象物に照射する光ビーム照射手段と、
光ビーム照射手段と描画対象物とを副走査方向に相対的
に移動させる移動手段とを備え、光ビーム照射手段は、
光ビームを出射する光源と、光源から出射された光ビー
ムを主走査方向に走査させる主走査手段と、主走査手段
からの光ビームが主走査方向に対してそれぞれ異なる角
度傾いた方向に走査するように光ビームを偏向する複数
の偏向手段と、光ビーム照射手段と描画対象物との相対
移動速度と主走査方向への光ビームの走査速度との比に
応じて複数の偏向手段の１つが主走査手段からの光ビー
ムを偏向するように切り換える切り換え手段とを備えた
ものである。

【００２３】第４の発明に係る描画装置においては、複
数の偏向手段を備えている。各偏向手段は、主走査手段
からの光ビームを主走査方向に対してそれぞれ異なる角
度傾いた方向に光ビームを偏向することができる。この
ため、描画対象物の種類あるいは画像の種類等に応じて
光ビーム照射手段と描画対象物との相対移動速度と、主
走査方向への光ビームの走査速度との比が変化する場合
でも、その比に応じた偏向手段を選択し、切り換え手段
が切り換えることによって光ビームを主走査方向に正確
に走査させることができ、これによって高品質の描画を
行なうことができる。

【００２４】（５）第５の発明 第５の発明に係る描画装置は、第４の発明に係る描画装
置の構成において、各偏向手段が、主走査手段からの光
ビームを主走査方向に対して異なる角度傾いた方向に偏
向する像回転プリズムからなるものである。

【００２５】この場合、光ビーム照射手段と描画対象物
との相対移動速度と主走査方向への光ビームの走査速度
との比に応じた像回転プリズムを選択し、切り換え手段
により切り換えることにより、高品質の描画を行なうこ
とができる。

【００２６】（６）第６の発明 第６の発明に係る描画装置は、第５の発明に係る描画装
置の構成において、切り換え手段が、複数の像回転プリ
ズムの１つに主走査手段からの光ビームが入射するよう
に複数の像回転プリズムを移動させる駆動手段を含むも
のである。

【００２７】この場合、駆動手段により複数の像回転プ
リズムの各々を主走査方向に移動させて像回転プリズム
を切り換えることにより、高品質の描画動作を行なわせ
ることができる。

【００２８】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例にお
ける描画装置のブロック図であり、図２は図１の描画装
置の概略斜視図である。本実施例の描画装置は、描画領
域を主走査方向に分割した複数のストライプ領域ごとに
描画を行なう分割露光方式の露光装置である。なお、以
下の説明において、Ｘ軸方向を主走査方向、Ｘ軸方向に
直交するＹ軸方向を副走査方向とする。

【００２９】図１において、描画装置は、露光ヘッド１
およびテーブル７を備える。露光ヘッド１は、レーザビ
ーム３０を発生するレーザチューブ２、光学レンズ系
３、反射ミラー４、レーザビーム３０をＸ軸方向（主走
査方向）に偏向する主走査方向偏向素子５およびレーザ
ビーム３０をＹ軸方向（副走査方向）に偏向する副走査
方向偏向部６を有している。

【００３０】主走査方向偏向素子５は、音響光学偏向器
から構成されている。音響光学偏向器は、二酸化テルル
等の結晶からなる音響媒質の表面にトランスデューサと
呼ばれる超音波振動子を配置して形成されている。そし
て、超音波振動子から周波数の異なる超音波を音響媒質
中に伝搬させ、音響光学相互作用による光の回折現象を
利用して音響媒質に入射したレーザビームを超音波の周
波数に対応した角度で偏向する。このような作用により
主走査方向偏向素子５はレーザビーム３０をＸ軸方向に
偏向する。

【００３１】図３は副走査方向偏向部の斜視図であり、
（ａ）は往復描画時の往路における副走査方向偏向部の
動作状態を模式に示し、（ｂ）は往復描画時の復路にお
ける副走査方向偏向部の動作状態を模式的に示してい
る。なお、後述するように、往路においては、感光材１
００の上端１００ａから下端１００ｂに向かって描画が
行なわれるようにテーブル７が順方向Ｙ１に移動し、ま
た復路においては、感光材１００の下端１００ｂから上
端１００ａに向かって描画が行なわれるようにテーブル
７が逆方向Ｙ２に移動する。

【００３２】図３において、副走査方向偏向部６は第１
像回転プリズム１６ａ、第２像回転プリズム１６ｂ、ガ
イド１７およびリニアモータ等からなる駆動部（図示せ
ず）から構成される。

【００３３】第１および第２像回転プリズム１６ａ，１
６ｂはガイド１７に沿って主走査方向Ｘに移動可能に構
成されており、駆動部により第１および第２像回転プリ
ズム１６ａ，１６ｂの一方が主走査方向偏向素子５を通
過したレーザビーム３０が入射する位置に移動される。
すなわち、図３（ａ）に示す往路においては、第１像回
転プリズム１６ａがレーザビーム３０の入射位置に移動
され、図３（ｂ）に示す復路においては、第２像回転プ
リズム１６ｂがレーザビーム３０の入射位置に移動され
る。

【００３４】第１および第２像回転プリズム１６ａ，１
６ｂはペチャンプリズムやダハプリズム等の光学素子か
らなる。これらの光学素子は入射光を所定の角度だけ回
転して出射する。このような性質を利用して、第１およ
び第２像回転プリズム１６ａ，１６ｂは主走査方向偏向
素子５によって主走査方向Ｘに走査されるレーザビーム
３０を主走査方向に対して副走査方向側に傾けて偏向す
る。これにより、第１像回転プリズム１６ａを通過した
レーザビーム３０は主走査方向Ｘに対して角度α１だけ
順方向Ｙ１側に偏向され、第２像回転プリズム１６ｂを
通過したレーザビーム３０は主走査方向Ｘに対して第１
像回転プリズム１６ａの場合と反対の逆方向Ｙ２側に角
度α２だけ偏向される。

【００３５】また、図２に示すように、露光ヘッド１は
ヘッドガイド２４によりＸ軸方向に移動可能に案内され
ている。さらに、露光ヘッド１はボールねじ２５を介し
てＸ軸駆動モータ２３に連結されており、Ｘ軸駆動モー
タ２３によりＸ軸方向に駆動される。そして、図１に示
すように、露光ヘッド１はレーザビーム３０をＸ軸方向
に所定の走査幅Ｗで走査させながら感光材１００上に照
射する。

【００３６】テーブル７は、基台２１上に配置されたテ
ーブルガイド２２によってＹ軸方向に案内され、Ｙ軸駆
動モータ（図示せず）によってＹ軸方向に移動される。
描画時には、テーブル７上に感光材１００が載置され
る。

【００３７】さらに、描画装置は、図１に示すようにヘ
ッド送り制御器８、テーブル送り制御器９、プリズム切
換器１０、偏向素子インタフェース１１、偏向素子制御
器１２、ＣＰＵ（中央演算処理装置）１３、メモリ１４
および描画データ演算器１５を備えている。

【００３８】ヘッド送り制御器８は、Ｘ軸駆動モータ２
３（図２参照）を制御し、露光ヘッド１をＸ軸方向の所
定の位置に移動させる。テーブル送り制御器９は、Ｙ軸
駆動モータ（図示せず）を制御し、テーブル７を所定の
速度でＹ軸方向に移動させる。

【００３９】プリズム切換器１０は、テーブル７の送り
方向に応じて第１像回転プリズム１６ａおよび第２像回
転プリズム１６ｂの一方がレーザビーム３０の入射位置
となるように第１および第２像回転プリズム１６ａ，１
６ｂを移動させる。

【００４０】偏向素子制御器１２は、レーザビーム３０
を主走査方向に偏向するための制御信号を偏向素子イン
タフェース１１を介して主走査方向偏向素子５に出力
し、所定幅のストライプ領域の主走査を行なわせる。

【００４１】本実施例において、露光ヘッド１が本発明
の光ビーム照射手段に相当し、テーブル７、テーブルガ
イド２２およびＹ軸駆動モータが移動手段に相当し、レ
ーザチューブ２が光源に相当し、第１および第２像回転
プリズム１６ａ，１６ｂが第１および第２の偏向手段に
相当し、ガイド１７、駆動部およびプリズム切換器１０
が切り換え手段に相当する。

【００４２】次に、第１の実施例の描画装置における描
画動作について説明する。図４および図５は本実施例の
描画装置における分割露光方式の描画動作の説明図であ
り、図４は往復描画動作における往路の描画状態を示
し、図５は復路における描画状態を示している。また、
図６は描画動作のフローチャートである。

【００４３】図４および図５において、Ｘ軸は主走査方
向を示し、Ｙ軸は副走査方向を示す。また、Ｙ１および
Ｙ２はそれぞれ副走査における順方向および逆方向を示
している。順方向Ｙ１への副走査では、感光材１００の
上端１００ａから下端１００ｂに向かって描画が行なわ
れるようにテーブル７が順方向Ｙ１に移動し、逆方向Ｙ
２への副走査では、感光材１００の下端１００ｂから上
端１００ａに向かって描画が行なわれるようにテーブル
７が逆方向Ｙ２に移動する。

【００４４】感光材１００には描画領域１０２が設定さ
れており、描画領域１０２は仮想的に区切られた複数の
ストライプ領域ＳＴ１〜ＳＴｎに分割されている。そし
て、奇数番目のストライプ領域ＳＴｉ（ｉは奇数）では
テーブル７が順方向Ｙ１に移動しつつ描画が行なわれ、
偶数番目のストライプ領域ＳＴｉ（ｉは偶数）では、逆
方向Ｙ２に移動しつつ描画が行なわれる。

【００４５】図４および図６を参照して、まず、ストラ
イプ領域ＳＴｉのカウント変数ｉをリセットした後（ス
テップＳ１）、カウント変数ｉをインクリメントする
（ステップＳ２）。

【００４６】次に、テーブル７の移動方向が順方向Ｙ１
か逆方向Ｙ２かを判定する（ステップＳ３）。第１スト
ライプ領域ＳＴ１では順方向Ｙ１の移動が判定され、そ
れに応じて、露光ヘッド１およびテーブル７が第１スト
ライプ領域ＳＴ１の走査開始位置に移動する（ステップ
Ｓ４）。そして、描画データ演算器１５が描画データを
リップ（ＲＩＰ）演算処理する（ステップＳ５）。

【００４７】描画データの処理が終わると、プリズム切
換器１０は副走査方向偏向部６を駆動し、順方向用の第
１像回転プリズム１６ａをレーザビーム３０の光軸上に
位置するように移動させる（ステップＳ６）。そして、
テーブル７を順方向Ｙ１に移動させながら感光材１００
の第１ストライプ領域ＳＴ１に描画動作を行なう。

【００４８】この描画動作において、第１像回転プリズ
ム１６ａは主走査方向に走査されるレーザビーム３０を
主走査方向Ｘに対して順方向Ｙ１に角度α１だけ偏向す
る。図４中の点線は、レーザビーム３０の走査ライン３
０ａを示す。これにより、順方向Ｙ１に移動する感光材
１００の第１ストライプ領域ＳＴ１に主走査方向Ｘに平
行にレーザビーム３０による描画が行なわれる。図４中
の実線は、レーザビーム３０による描画ライン３０ｂを
示す（ステップＳ９）。

【００４９】第１ストライプ領域ＳＴ１の描画が終了す
ると、すべてのストライプ領域ＳＴｎの描画が終了した
か否かを判定し（ステップＳ１０）、ここでは、第２の
ストライプ領域ＳＴ２の描画動作に移る。

【００５０】図５および図６を参照して、ステップＳ２
においてストライプ領域のカウント変数ｉをインクリメ
ントする。そしてテーブル７の逆方向Ｙ２への移動が判
定された後（ステップＳ３）、露光ヘッド１およびテー
ブル７が第２ストライプ領域ＳＴ１の走査開始位置に移
動する（ステップＳ７）。そして、描画データ演算器１
５が描画データをリップ演算処理する（ステップＳ
８）。さらに、プリズム切換器１０が副走査方向偏向部
６を駆動し、逆方向用の第２像回転プリズム１６ｂがレ
ーザビーム３０の光軸上に位置するように移動させる
（ステップＳ９）。そして、テーブル７を逆方向Ｙ２に
移動させながら感光材１００の第２ストライプ領域ＳＴ
２に描画動作を行なう。

【００５１】この描画動作において、第２像回転プリズ
ム１６ｂは主走査方向に走査されるレーザビーム３０を
主走査方向Ｘに対して逆方向Ｙ２に角度α２だけ偏向す
る。図５中の点線は、レーザビーム３０の走査ライン３
０ａを示す。これにより、逆方向Ｙ２に移動する感光材
１００の第２ストライプ領域ＳＴ２に主走査方向Ｘに平
行にレーザビーム３０による描画が行なわれる。図５中
の実線は、レーザビーム３０による描画ライン３０ｂを
示す（ステップＳ１０）。

【００５２】上記のような描画動作がすべてのストライ
プ領域ＳＴｎにわたって繰り返し行なわれ、往復描画動
作が終了する。

【００５３】このように、本実施例の描画装置では、テ
ーブル７を順方向Ｙ１および逆方向Ｙ２に移動させて往
復描画を行なった場合でも、各ストライプ領域ＳＴｉに
おいて主走査方向に平行にレーザビーム３０を走査する
ことができる。このため、往復描画によって描画動作を
高速化し、かつ各ストライプ領域間で主走査方向への描
画ラインの傾きのばらつきが防止された高品質の描画を
行なうことができる。

【００５４】次に、本発明の第２の実施例について説明
する。本発明による副走査方向偏向部の構成は、第１の
実施例における往復描画動作のみならず、主走査方向お
よび副走査方向への走査速度が可変の描画動作にも適用
することができる。

【００５５】すなわち、レーザビームの主走査方向への
走査速度と露光ヘッドおよびテーブルの相対移動速度と
の比（以下、走査速度比と称する）が変化すると、それ
に応じて主走査方向に走査されるレーザビームの偏向角
度を変える必要がある。そこで、第２の実施例による描
画装置では、レーザビームの走査速度比に応じて所定の
角度に偏向させる複数の像回転プリズムを設けている。

【００５６】図７は第２の実施例による描画装置の副走
査方向偏向部の模式図である。図７の例では、３つの像
回転プリズム１６ｃ〜１６ｅがガイド１７上に移動可能
に取り付けられている。３つの像回転プリズム１６ｃ〜
１６ｅはリニアモータ等からなる駆動部（図示せず）に
よりレーザビームの光軸上に移動可能に構成されてい
る。なお、第２の実施例の描画装置の構成は、副走査方
向偏向部の構成および往復描画動作のための構成を除い
て、図１および図２に示す第１の実施例の描画装置と実
質的に同一である。

【００５７】本実施例においては、３つの像回転プリズ
ム１６ｃ〜１６ｅが本発明の偏向手段に相当し、ガイド
１７、駆動部およびプリズム切換器１０が切り換え手段
に相当する。

【００５８】描画動作時に、レーザビームの走査速度比
が変化すると、プリズム切換器１０は３つの像回転プリ
ズム１６ｃ〜１６ｅの中から走査速度比に適した像回転
プリズム１６ｃ〜１６ｅを選択し、レーザビームの光軸
上に移動させる。これにより、レーザビームが主走査方
向Ｘに平行に照射される。それゆえ、主走査方向と副走
査方向との走査速度比が変化した場合でも、描画ライン
の傾斜による描画品質の劣化を防止することができる。

【００５９】なお、像回転プリズムの数は、レーザビー
ムの走査速度比の種類に応じて適宜設定される。

【００６０】また、上記第１の実施例における往復描画
のための２つの像回転プリズムを含む構成と、第２の実
施例における走査速度比の変化に対応させるための複数
の像回転プリズムを含む構成とを同一の描画装置に備え
てもよい。この場合には、往復描画が可能で、かつ走査
速度比が可変で、高品質の描画が可能な描画装置を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における描画装置のブロ
ック図である。

【図２】図１の描画装置の概略斜視図である。

【図３】副走査方向偏向部の斜視図である。

【図４】本実施例の描画装置における分割露光方式の描
画動作の説明図である。

【図５】本実施例の描画装置における分割露光方式の描
画動作の説明図である。

【図６】描画動作のフローチャートである。

【図７】第２の実施例による副走査方向偏向部の模式図
である。

【図８】従来の分割露光方式の描画動作の説明図であ
る。

【図９】描画動作の拡大模式図である。

【符号の説明】 １ 露光ヘッド ２ レーザチューブ ３ 光学レンズ系 ５ 主走査方向偏向素子 ６ 副走査方向偏向部 ７ テーブル １０ プリズム切換器 １２ 偏向素子制御器 １３ ＣＰＵ １６ａ 第１像回転プリズム １６ｂ 第２像回転プリズム １６ｃ〜１６ｅ 像回転プリズム １７ ガイド ３０ レーザビーム

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームを主走査方向に走査させて描画
   対象物に照射する光ビーム照射手段と、 前記光ビーム照射手段と前記描画対象物とを副走査方向
   に相対的に往復移動させる移動手段とを備え、 前記光ビーム照射手段は、 前記光ビームを出射する光源と、 前記光源から出射された前記光ビームを主走査方向に走
   査させる主走査手段と、 前記主走査手段からの前記光ビームが前記主走査方向に
   対して傾いた第１の方向で走査するように前記光ビーム
   を偏向する第１の偏向手段と、 前記主走査手段からの前記光ビームが前記主走査方向に
   対して前記第１の方向と反対に傾いた第２の方向で走査
   するように前記光ビームを偏向する第２の偏向手段と、 前記光ビーム照射手段と前記描画対象物との相対移動の
   方向に応じて前記第１の偏向手段および前記第２の偏向
   手段の一方が前記主走査手段からの前記光ビームを偏向
   するように切り換える切り換え手段とを備えたことを特
   徴とする描画装置。
2. 【請求項２】 前記第１の偏向手段は、前記主走査手段
   によって前記主走査方向に走査される前記光ビームを前
   記第１の方向に偏向する第１の像回転プリズムからな
   り、 前記第２の偏向手段は、前記主走査手段によって前記主
   走査方向に走査される前記光ビームを前記第２の方向に
   偏向する第２の像回転プリズムからなることを特徴とす
   る請求項１記載の描画装置。
3. 【請求項３】 前記切り換え手段は、前記第１および第
   ２の像回転プリズムの一方に前記主走査手段からの前記
   光ビームが入射するように前記第１および第２の像回転
   プリズムを移動させる駆動手段を含むことを特徴とする
   請求項２記載の描画装置。
4. 【請求項４】 光ビームを主走査方向に走査させて描画
   対象物に照射する光ビーム照射手段と、 前記光ビーム照射手段と前記描画対象物とを副走査方向
   に相対的に移動させる移動手段とを備え、 前記光ビーム照射手段は、 前記光ビームを出射する光源と、 前記光源から出射された前記光ビームを主走査方向に走
   査させる主走査手段と、 前記主走査手段からの前記光ビームが前記主走査方向に
   対してそれぞれ異なる角度傾いた方向に走査するように
   前記光ビームを偏向する複数の偏向手段と、 前記光ビーム照射手段と前記描画対象物との相対移動速
   度と前記主走査方向への前記光ビームの走査速度との比
   に応じて前記複数の偏向手段の１つが前記主走査手段か
   らの前記光ビームを偏向するように切り換える切り換え
   手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
5. 【請求項５】 各偏向手段は、前記主走査手段からの前
   記光ビームを前記主走査方向に対して異なる角度傾いた
   方向に偏向する像回転プリズムからなることを特徴とす
   る請求項４記載の描画装置。
6. 【請求項６】 前記切り換え手段は、前記複数の像回転
   プリズムの１つに前記主走査手段からの前記光ビームが
   入射するように前記複数の像回転プリズムを移動させる
   駆動手段を含むことを特徴とする請求項５記載の描画装
   置。