JPH11156457A - Method for forming tapered hole, and manufacture op optical element - Google Patents

Method for forming tapered hole, and manufacture op optical element

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JPH11156457A
JPH11156457A JP9325650A JP32565097A JPH11156457A JP H11156457 A JPH11156457 A JP H11156457A JP 9325650 A JP9325650 A JP 9325650A JP 32565097 A JP32565097 A JP 32565097A JP H11156457 A JPH11156457 A JP H11156457A
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JP
Japan
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tapered hole
workpiece
forming
forming step
punch
Prior art date
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JP9325650A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Yamaguchi
修一 山口
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPH11156457A publication Critical patent/JPH11156457A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and surely obtain a tapered hole high in precision only by the pressing by press-inserting a swollen part projecting on the other surface side using a chamfering punch from the other surface side to form a chamfered part after the tapered hole is pierced from one surface side to the other surface side of a work. SOLUTION: A prepared hole 11e for a tapered hole is pierced in a work 11. A punching punch having the diameter slightly larger than the diameter on the small diameter side of the tapered hole is processed from one surface side of the work 11 to the other surface side. A small swollen part is formed in the tapered hole on the other surface side of the work 11 by burrs generated by the punching punch and residual parts of the swollen part generated in the tapered hole forming process. The chamfered part forming process is achieved by press-inserting a chamfering punch from the other surface side of the work 11 to form a chamfered part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プレス加工により
被加工物にテーパ穴を形成するためのテーパ穴の成形方
法および光学素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a tapered hole for forming a tapered hole in a workpiece by press working and a method for manufacturing an optical element.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プレス加工により被加工物にテー
パ穴を形成するためのテーパ穴の成形方法として、例え
ば、特開平8−281346号公報に開示される方法が
知られている。このテーパ穴の成形方法では、図10の
(a)に示すように、パンチ1の先端に形成されるテー
パ部1aを、上型2と下型3との間に配置される板材4
の下面から突出することにより、(b)および(c)に
示すようなテーパ穴4aが形成される。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a tapered hole for forming a tapered hole in a workpiece by press working, for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-281346 is known. In this method of forming a tapered hole, as shown in FIG. 10A, the tapered portion 1a formed at the tip of the punch 1 is replaced with a plate material 4 disposed between the upper die 2 and the lower die 3.
By projecting from the lower surface of the tapered hole, a tapered hole 4a as shown in FIGS.

【0003】そして、テーパ部1aの押圧により板材4
の下面から突出した膨出部4bを、カッター5により切
削除去することにより、(d)に示すような所定のテー
パ穴4aが得られる。
[0003] The pressing of the tapered portion 1a causes the plate material 4 to move.
A predetermined tapered hole 4a as shown in (d) is obtained by cutting and removing the swelling portion 4b protruding from the lower surface of the substrate by the cutter 5.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のテーパ穴の成形方法では、パンチ1のテーパ
部1aの押圧により板材4の下面から突出した膨出部4
bを、カッター5により切削除去しているため、プレス
加工工程の他に切削工程が必要になり、工程の複雑化に
より加工コストが増大するという問題があった。
However, in such a conventional method of forming a tapered hole, the bulging portion 4 protruding from the lower surface of the plate 4 by pressing the tapered portion 1a of the punch 1.
Since b is cut and removed by the cutter 5, a cutting step is required in addition to the pressing step, and there is a problem that the processing cost is increased due to the complexity of the step.

【0005】また、板材4の下面から突出した膨出部4
bを、カッター5により切削除去しているため、テーパ
穴4aの下面にバリが発生し、高い精度のテーパ穴4a
を得ることが困難になるという問題があった。本発明
は、かかる従来の問題を解決するためになされたもの
で、プレス加工のみにより高い精度のテーパ穴を容易,
確実に得ることができるテーパ穴の成形方法および光学
素子の製造方法を提供することを目的とする。
A bulging portion 4 protruding from the lower surface of the plate 4
b is cut off by the cutter 5, burrs are generated on the lower surface of the tapered hole 4a, and the tapered hole 4a with high precision is formed.
There is a problem that it becomes difficult to obtain The present invention has been made to solve such a conventional problem, and it is possible to easily form a highly accurate tapered hole only by press working.
An object of the present invention is to provide a method for forming a tapered hole and a method for manufacturing an optical element that can be reliably obtained.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1のテーパ穴の成
形方法は、テーパ部が形成されるテーパ穴成形用パンチ
を用いて被加工物の一面から他面に向けてテーパ穴を貫
通形成するテーパ穴成形工程と、前記被加工物の他面側
に突出形成された膨出部を、面取用パンチを前記被加工
物の他面側から挿入押圧することにより押し潰して前記
被加工物の他面側に面取部を形成する面取部成形工程と
を有することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of forming a tapered hole, wherein a tapered hole is formed by penetrating from one surface of the workpiece to the other surface using a tapered hole forming punch having a tapered portion. Forming a tapered hole, and squeezing the bulging portion formed on the other surface of the workpiece by inserting and chamfering a chamfering punch from the other surface of the workpiece. Forming a chamfer on the other surface of the object.

【0007】請求項2のテーパ穴の成形方法は、請求項
1記載のテーパ穴の成形方法において、前記テーパ穴成
形工程と前記面取部成形工程との間に、前記テーパ穴成
形工程により前記被加工物の他面側に突出形成された膨
出部を、打ち抜き用パンチを前記被加工物の一面から他
面に向けて貫通することにより除去する打ち抜き成形工
程を有することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method of forming a tapered hole according to the first aspect, the tapered hole is formed between the tapered hole forming step and the chamfered portion forming step by the tapered hole forming step. The present invention is characterized in that a punching step is provided for removing a bulging portion protruding from the other surface of the workpiece by penetrating a punch from one surface of the workpiece toward the other surface.

【0008】請求項3のテーパ穴の成形方法は、請求項
1または2記載のテーパ穴の成形方法において、前記テ
ーパ穴成形工程の前に、前記被加工物に予めテーパ穴用
の下穴を貫通形成することを特徴とする。請求項4の光
学素子の製造方法は、テーパ部を鏡面に磨かれたテーパ
穴成形用パンチを用いて被加工物の一面から他面に向け
て鏡面状のテーパ穴を貫通形成するテーパ穴成形工程
と、前記被加工物の他面側に突出形成された膨出部を、
面取用パンチを前記被加工物の他面側から挿入押圧する
ことにより押し潰して前記被加工物の他面側に面取部を
形成する面取部成形工程とを有することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the method of forming a tapered hole according to the first or second aspect, before the step of forming the tapered hole, a pilot hole for the tapered hole is previously formed in the workpiece. It is characterized by being formed through. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical element, comprising forming a mirror-shaped tapered hole from one surface of a workpiece to another surface by using a tapered hole-forming punch having a tapered portion polished to a mirror surface. Process, a bulge formed to project from the other surface of the workpiece,
Forming a chamfered portion on the other side of the workpiece by crushing the chamfering punch by inserting and pressing the punch from the other side of the workpiece. .

【0009】請求項5の光学素子の製造方法は、請求項
4記載の光学素子の製造方法において、前記テーパ穴成
形工程と前記面取部成形工程との間に、前記テーパ穴成
形工程により前記被加工物の他面側に突出形成された膨
出部を、打ち抜き用パンチを前記被加工物の一面から他
面に向けて貫通することにより除去する打ち抜き成形工
程を有することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the optical element manufacturing method according to the fourth aspect, wherein the tapered hole forming step includes the tapered hole forming step between the tapered hole forming step and the chamfered part forming step. The present invention is characterized in that a punching step is provided for removing a bulging portion protruding from the other surface of the workpiece by penetrating a punch from one surface of the workpiece toward the other surface.

【0010】請求項6の光学素子の製造方法は、請求項
4または5記載の光学素子の製造方法において、前記テ
ーパ穴成形工程の前に、前記被加工物に予めテーパ穴用
の下穴を貫通形成することを特徴とする。請求項7の光
学素子の製造方法は、請求項4ないし6のいずれか1項
記載の光学素子の製造方法において、前記テーパ穴は、
半導体レーザからの励起光を固体レーザ結晶に導くため
の反射面であることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method for manufacturing an optical element according to the fourth or fifth aspect, before the step of forming the tapered hole, a pilot hole for the tapered hole is previously formed in the workpiece. It is characterized by being formed through. The method for manufacturing an optical element according to claim 7 is the method for manufacturing an optical element according to claim 4, wherein the tapered hole is
It is a reflecting surface for guiding excitation light from a semiconductor laser to a solid-state laser crystal.

【0011】(作用)請求項1のテーパ穴の成形方法で
は、テーパ穴成形工程により、テーパ部が形成されるテ
ーパ穴成形用パンチを用いて被加工物の一面から他面に
向けてテーパ穴が貫通形成される。そして、面取部成形
工程により、被加工物の他面側に突出形成された膨出部
が、面取用パンチを被加工物の他面側から挿入押圧する
ことにより押し潰され被加工物の他面側に面取部が形成
される。
(Function) In the method of forming a tapered hole according to the first aspect, the tapered hole is formed from one surface of the workpiece to the other surface by using a tapered hole forming punch in which a tapered portion is formed in the tapered hole forming step. Are formed through. Then, in the chamfering part forming step, the bulging portion projectingly formed on the other side of the workpiece is crushed by inserting and pressing a chamfering punch from the other side of the workpiece. A chamfered part is formed on the other side.

【0012】請求項2のテーパ穴の成形方法では、テー
パ穴成形工程により被加工物の他面側に突出形成された
膨出部が、打ち抜き成形工程により、打ち抜き用パンチ
を被加工物の一面から他面に向けて貫通することにより
除去され、残存する膨出部が僅少なものになる。請求項
3のテーパ穴の成形方法では、テーパ穴成形工程の前
に、被加工物に予めテーパ穴用の下穴が貫通形成され、
テーパ穴成形工程において、この下穴にテーパ穴成形用
パンチのテーパ部を貫通することによりテーパ穴が形成
される。
In the method of forming a tapered hole according to a second aspect of the present invention, the bulging portion formed on the other side of the workpiece in the tapered hole forming step is formed by punching the punch for punching on one side of the workpiece in the punching step. The bulge is removed by penetrating from the other side to the other surface, and the remaining bulging portion is reduced. In the method of forming a tapered hole according to the third aspect, before the tapered hole forming step, a prepared hole for the tapered hole is formed through the workpiece in advance,
In the tapered hole forming step, a tapered hole is formed by penetrating the prepared hole through the tapered portion of the tapered hole forming punch.

【0013】請求項4の光学素子の製造方法では、テー
パ穴成形工程により、テーパ部を鏡面に磨かれたテーパ
穴成形用パンチを用いて被加工物の一面から他面に向け
て鏡面状のテーパ穴が貫通形成される。そして、面取部
成形工程により、被加工物の他面側に突出形成された膨
出部が、面取用パンチを被加工物の他面側から挿入押圧
することにより押し潰され被加工物の他面側に面取部が
形成される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the tapered hole forming step, the tapered portion is mirror-polished from one surface to the other surface by using a tapered hole forming punch whose mirror surface is polished to a mirror surface. A tapered hole is formed through. Then, in the chamfering part forming step, the bulging portion projectingly formed on the other side of the workpiece is crushed by inserting and pressing a chamfering punch from the other side of the workpiece. A chamfered part is formed on the other side.

【0014】請求項5の光学素子の製造方法では、テー
パ穴成形工程により被加工物の他面側に突出形成された
膨出部が、打ち抜き成形工程により、打ち抜き用パンチ
を被加工物の一面から他面に向けて貫通することにより
除去され、残存する膨出部が僅少なものになる。請求項
6の光学素子の製造方法では、テーパ穴成形工程の前
に、被加工物に予めテーパ穴用の下穴が貫通形成され、
テーパ穴成形工程において、この下穴にテーパ穴成形用
パンチのテーパ部を貫通することによりテーパ穴が形成
される。
In the method of manufacturing an optical element according to the fifth aspect, the bulging portion protrudingly formed on the other surface side of the workpiece in the tapered hole forming step is formed by punching the punch for punching the one surface of the workpiece in the punching molding step. The bulge is removed by penetrating from the other side to the other surface, and the remaining bulging portion is reduced. In the method of manufacturing an optical element according to the sixth aspect, before the tapered hole forming step, a prepared hole for the tapered hole is formed through the workpiece in advance,
In the tapered hole forming step, a tapered hole is formed by penetrating the prepared hole through the tapered portion of the tapered hole forming punch.

【0015】請求項7の光学素子の製造方法では、テー
パ穴が、半導体レーザからの励起光を固体レーザ結晶に
導くための反射面とされる。
According to a seventh aspect of the present invention, the tapered hole is a reflecting surface for guiding the excitation light from the semiconductor laser to the solid-state laser crystal.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明のテーパ穴の成形方
法の一実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a method for forming a tapered hole according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0017】この実施形態のテーパ穴の成形方法では、
図1に示すように、板状の被加工物11に、一面11a
から他面11bに向けて小径となるテーパ穴11cが形
成され、このテーパ穴11cの他面11b側に面取部1
1dが形成される。被加工物11は、例えば、鉄,真
鍮,銅等の板材とされる。そして、テーパ穴11cが、
非常に高い精度で鏡面状に形成されている。
In the method of forming a tapered hole according to this embodiment,
As shown in FIG. 1, a plate-shaped workpiece 11 is
A tapered hole 11c having a smaller diameter is formed from the front surface to the other surface 11b, and the chamfered portion 1 is formed on the other surface 11b side of the tapered hole 11c.
1d is formed. The workpiece 11 is, for example, a plate material such as iron, brass, or copper. And the tapered hole 11c is
The mirror is formed with very high precision.

【0018】すなわち、この実施形態では、先ず、図2
に示すように、被加工物11に、テーパ穴11c用の下
穴11eが貫通形成される。この下穴11eは、テーパ
穴11cの小径側の直径より多少小さめに形成され、例
えば、プレス加工により形成される。なお、テーパ穴1
1cが比較的鋭角状であり、塑性変形による余肉の量が
少ない場合には、下穴11eの形成を省略することがで
きる。
That is, in this embodiment, first, FIG.
As shown in the figure, a pilot hole 11e for the tapered hole 11c is formed through the workpiece 11. The pilot hole 11e is formed slightly smaller than the diameter of the tapered hole 11c on the small diameter side, and is formed by, for example, press working. In addition, taper hole 1
When 1c has a relatively acute angle and the amount of excess wall thickness due to plastic deformation is small, the formation of the pilot hole 11e can be omitted.

【0019】次に、テーパ穴成形工程が行われ、図3に
示すように、被加工物11にテーパ穴11cが形成され
る。このテーパ穴成形工程は、図4に示すように、テー
パ穴成形用パンチ13を用いて、被加工物11の一面1
1aから他面11bに向けてテーパ穴11cを貫通形成
することにより行われる。
Next, a tapered hole forming step is performed, and a tapered hole 11c is formed in the workpiece 11 as shown in FIG. In this tapered hole forming step, as shown in FIG.
This is performed by forming a tapered hole 11c from 1a toward the other surface 11b.

【0020】テーパ穴成形用パンチ13は、ハイスある
いは超硬金属からなり、その先端には、テーパ部13a
が形成されている。このテーパ部13aは、研削加工し
た後に、研磨加工され鏡面状態とされている。研磨加工
は、油性のダイヤモンドぺーストを使用して行われる。
The taper hole forming punch 13 is made of high-speed steel or superhard metal, and has a tapered portion 13a at its tip.
Are formed. The tapered portion 13a is mirror-finished by grinding after grinding. The polishing is performed using an oil-based diamond paste.

【0021】ダイヤモンドぺーストのダイヤモンド砥粒
の粒度は、始めメッシュ換算値#1200(粒度12〜
22μm)〜#1800(粒度8〜12μm)を使用
し、研削加工によるツールマークが殆ど無くなったとこ
ろで、メッシュ換算値#8000(粒度2〜4μm)〜
#14000(粒度0〜2μm)程度の粒度で仕上げ磨
きが行われる。
The grain size of the diamond abrasive grains of the diamond paste is initially a mesh conversion value # 1200 (grain size 12 to
22 μm) to # 1800 (grain size 8 to 12 μm), and when the tool mark due to the grinding process is almost eliminated, the mesh conversion value # 8000 (grain size 2 to 4 μm)
Finish polishing is performed with a particle size of about # 14000 (particle size 0 to 2 μm).

【0022】このテーパ穴成形用パンチ13は、プレス
の上ダイセット15に固定されている。一方、プレスの
下ダイセット17には、下型19が固定され、この下型
19の上面に被加工物11が載置されている。
The tapered hole forming punch 13 is fixed to an upper die set 15 of a press. On the other hand, a lower die 19 is fixed to the lower die set 17 of the press, and the workpiece 11 is placed on the upper surface of the lower die 19.

【0023】下型19には、被加工物11に形成される
下穴11eと同軸上に、テーパ穴成形用パンチ13のテ
ーパ部13aを逃がすための逃げ穴19aが形成されて
いる。また、下型19を覆ってストリッパー21が配置
されている。このストリッパー21により、テーパ穴1
1cを成形したテーパ穴成形用パンチ13が、被加工物
11から離れる時に、被加工物11がテーパ穴成形用パ
ンチ13と一緒に持ち上がることが防止される。
In the lower die 19, a relief hole 19a for releasing the tapered portion 13a of the taper hole forming punch 13 is formed coaxially with the pilot hole 11e formed in the workpiece 11. Further, a stripper 21 is disposed so as to cover the lower mold 19. This stripper 21 allows the taper hole 1
When the tapered hole forming punch 13 formed with 1c is separated from the workpiece 11, the workpiece 11 is prevented from lifting together with the tapered hole forming punch 13.

【0024】また、被加工物11が傾き、テーパ穴成形
用パンチ13が損傷すること、あるいは、テーパ穴11
cの内面に傷が付くことが防止される。そして、図4に
示す状態から、上ダイセット15を下降することによ
り、テーパ穴成形用パンチ13のテーパ部13aが、被
加工物11の一面11aから他面11bに向けて貫通形
成され、テーパ穴11cが成形される。
Further, the workpiece 11 is tilted and the punch 13 for forming the tapered hole is damaged.
The inner surface of c is prevented from being damaged. By lowering the upper die set 15 from the state shown in FIG. 4, the tapered portion 13a of the tapered hole forming punch 13 is formed so as to penetrate from the one surface 11a of the workpiece 11 to the other surface 11b. A hole 11c is formed.

【0025】次に、この実施形態では、図3に示したよ
うに、テーパ穴成形工程により被加工物11の他面11
b側に突出形成された膨出部11fを殆ど除去するため
に打ち抜き成形工程が行われる。この打ち抜き成形工程
は、図5に示すように、テーパ穴11cの小径側の直径
より多少大きめの直径を有する打ち抜き用パンチ23
を、被加工物11の一面11aから他面11bに向けて
貫通することにより行われる。
Next, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the other surface 11 of the workpiece 11 is formed by a tapered hole forming step.
A punch forming step is performed in order to almost remove the bulging portion 11f protruding to the b side. As shown in FIG. 5, the punch forming step includes a punch 23 having a diameter slightly larger than the diameter of the tapered hole 11c on the small diameter side.
Through the workpiece 11 from one surface 11a to the other surface 11b.

【0026】この打ち抜き成形工程の終了後には、図6
に示すように、打ち抜き用パンチ23により生じた返
り、およびテーパ穴成形工程により生じた膨出部11f
の残部により、被加工物11の他面11b側のテーパ穴
11cには、僅少な膨出部11hが形成されている。次
に、この実施形態では、被加工物11の他面11b側に
突出形成された膨出部11hを押し潰し、膨出部11h
を無くすために、面取部成形工程が行われる。
After the end of the punch forming step, FIG.
As shown in the figure, the return generated by the punching punch 23 and the bulging portion 11f generated by the tapered hole forming step.
, A slight bulging portion 11h is formed in the tapered hole 11c on the other surface 11b side of the workpiece 11. Next, in this embodiment, the bulging portion 11h protruding from the other surface 11b of the workpiece 11 is crushed, and the bulging portion 11h is crushed.
In order to eliminate, a chamfered part forming step is performed.

【0027】この面取部成形工程は、図7に示すよう
に、面取用パンチ25を被加工物11の他面11b側か
ら挿入押圧することにより行われる。すなわち、面取用
パンチ25の先端には、平坦部25aが形成され、この
平坦部25aから突出して突出部25bが形成されてい
る。また、突出部25bと平坦部25aとの間に面取用
テーパ部25cが形成されている。
This chamfer forming step is performed by inserting and pressing a chamfering punch 25 from the other surface 11b of the workpiece 11 as shown in FIG. That is, a flat portion 25a is formed at the tip of the chamfering punch 25, and a protruding portion 25b is formed to protrude from the flat portion 25a. A chamfered tapered portion 25c is formed between the protruding portion 25b and the flat portion 25a.

【0028】そして、被加工物11の他面11b側に突
出形成された膨出部11hを、平坦部25aおよび面取
用テーパ部25cにより押圧することにより、図1に示
した面取部11dが成形される。なお、この面取部11
dの大きさは、可能な限り小さくすることが望ましい。
上述したテーパ穴の成形方法では、テーパ穴成形工程に
より、被加工物11の一面11aから他面11bに向け
てテーパ穴11cを貫通形成した後、面取部成形工程に
より、被加工物11の他面11b側に突出形成された膨
出部11hを、面取用パンチ25を被加工物11の他面
11b側から挿入押圧することにより押し潰し被加工物
11の他面11b側に面取部11dを形成するようにし
たので、プレス加工のみにより高い精度のテーパ穴11
cを容易,確実に得ることができる。
The bulging portion 11h protruding from the other surface 11b of the workpiece 11 is pressed by the flat portion 25a and the chamfered tapered portion 25c, thereby forming the chamfered portion 11d shown in FIG. Is molded. The chamfered portion 11
It is desirable that the value of d be as small as possible.
In the above-described method for forming a tapered hole, the tapered hole 11c is formed through the tapered hole forming step from one surface 11a of the workpiece 11 toward the other surface 11b, and then the workpiece 11 is formed by the chamfered part forming step. The bulged portion 11h protruding from the other surface 11b is crushed by inserting and pressing the chamfering punch 25 from the other surface 11b of the workpiece 11 to chamfer the bulged portion 11h on the other surface 11b of the workpiece 11. Since the portion 11d is formed, the tapered hole 11 with high accuracy can be formed only by pressing.
c can be obtained easily and reliably.

【0029】また、テーパ穴成形工程により被加工物1
1の他面11b側に突出形成された膨出部11fの少な
くとも一部を、打ち抜き成形工程により、打ち抜き用パ
ンチ23を被加工物11の一面11aから他面11bに
向けて貫通することにより除去するようにしたので、面
取部成形工程の前において、被加工物11の他面11b
側に突出形成される膨出部11hの量を非常に少なくす
ることが可能になり、被加工物11の他面11b側に突
出形成される膨出部11hを、面取部成形工程により確
実に押し潰すことができる。
The workpiece 1 is formed by a tapered hole forming step.
At least a part of the bulging portion 11f protruding toward the other surface 11b is removed by penetrating the punch 23 from the one surface 11a of the workpiece 11 toward the other surface 11b by a punch forming process. Therefore, before the chamfered part forming step, the other surface 11b of the workpiece 11 is formed.
The amount of the bulging portion 11h protruding to the side of the workpiece 11 can be extremely reduced, and the bulging portion 11h protruding to the other surface 11b side of the workpiece 11 can be reliably formed by the chamfered portion forming step. Can be crushed.

【0030】さらに、上述したテーパ穴の成形方法で
は、テーパ穴成形工程の前に、被加工物11に予めテー
パ穴11c用の下穴11eを貫通形成したので、テーパ
穴11c成形工程におけるテーパ穴11cの形成が容易
になり、テーパ穴11cの精度を高めることができる。
Further, in the above-described method of forming a tapered hole, the pilot hole 11e for the tapered hole 11c is formed in the workpiece 11 in advance before the tapered hole forming step. 11c can be easily formed, and the accuracy of the tapered hole 11c can be increased.

【0031】なお、本発明のテーパ穴成形方法は、この
実施形態だけに限られず、場合によっては、打ち抜きパ
ンチ23を用いて膨出部11fを打ち抜く工程を省くこ
とができる。例えば、被加工物11の板厚などを選択す
ることによっては、テーパ穴成形工程で突出形成される
膨出部11fの膨出量が少ないことがある。この場合に
は、打ち抜きパンチ23を用いて膨出部11fを打ち抜
くことを行わなくても良く、テーパ穴成形工程後に、膨
出部11fの打ち抜き成形工程を行わずに、面取部成形
工程を行っても良い。
The method of forming a tapered hole according to the present invention is not limited to this embodiment. In some cases, the step of punching the bulging portion 11f using the punch 23 can be omitted. For example, depending on the selection of the thickness of the workpiece 11 or the like, the amount of bulging of the bulging portion 11f formed in the tapered hole forming step may be small. In this case, it is not necessary to punch out the bulged portion 11f using the punching punch 23, and after the tapered hole forming process, without performing the punched-out forming process of the bulged portion 11f, the chamfered portion forming process is performed. You may go.

【0032】図8は、本発明の光学素子の製造方法によ
り製造された光学素子27を示している。この光学素子
27は、例えば、鉄,真鍮,銅等の金属製の板材からな
る被加工物11にテーパ穴11cを形成して構成されて
いる。板材の肉厚Wは、例えば、0.5〜1.5mm程度
の肉厚とされている。
FIG. 8 shows an optical element 27 manufactured by the method for manufacturing an optical element according to the present invention. The optical element 27 is configured by forming a tapered hole 11c in the workpiece 11 made of a metal plate material such as iron, brass, or copper. The thickness W of the plate is, for example, about 0.5 to 1.5 mm.

【0033】また、テーパ穴11cの大径側の直径R1
は、例えば、0.7mmとされ、小径側の直径R2は、例
えば、0.5mmとされている。そして、直径R1,R2
の寸法較差が、±0.02mm以内とされている。また、
テーパ穴11cの小径側には、光学素子27としての性
能に影響のない程度の僅少な面取部11dが形成されて
いる。
The diameter R1 on the large diameter side of the tapered hole 11c
Is, for example, 0.7 mm, and the diameter R2 on the smaller diameter side is, for example, 0.5 mm. And the diameters R1, R2
Is within ± 0.02 mm. Also,
A small chamfered portion 11d is formed on the small diameter side of the tapered hole 11c so as not to affect the performance as the optical element 27.

【0034】この光学素子27は、上述したテーパ穴の
成形方法と同様の方法で製造されているため、光学素子
の製造方法の詳細な説明を省略する。この光学素子27
は、本出願人が、先に、特願平9−61832号として
出願したもので、図9に示すように、半導体レーザ29
からの励起光31を固体レーザ結晶33に効率的に導く
ために使用され、半導体レーザ29からの励起光31
が、テーパ穴11cで反射され固体レーザ結晶33に導
かれる。
Since the optical element 27 is manufactured by the same method as the above-described method of forming the tapered hole, a detailed description of the method of manufacturing the optical element will be omitted. This optical element 27
Has been filed by the present applicant as Japanese Patent Application No. 9-61832, and as shown in FIG.
The pumping light 31 from the semiconductor laser 29 is used to efficiently guide the pumping light 31 from the
Is reflected by the tapered hole 11 c and guided to the solid-state laser crystal 33.

【0035】なお、実際には、励起光31の反射率を向
上するために、テーパ穴11cには金メッキが施される
が、金メッキは単に反射率を向上するためのものであ
り、金メッキを行う前に、テーパ穴11cの面粗度が、
例えば、Rmaxで0.1μm程度以内の鏡面状態にな
っていることが要求される。この実施形態の光学素子の
製造方法では、上述したテーパ穴の成形方法と同様に、
テーパ穴成形工程により、被加工物11の一面11aか
ら他面11bに向けてテーパ穴11cを貫通形成した
後、面取部成形工程により、被加工物11の他面11b
側に突出形成された膨出部11hを、面取用パンチ25
を被加工物11の他面11b側から挿入押圧することに
より押し潰し被加工物11の他面11b側に面取部11
dを形成するようにしたので、プレス加工のみにより高
い精度のテーパ穴11cを備えた光学素子27を容易,
確実に得ることができる。
Actually, in order to improve the reflectance of the excitation light 31, gold plating is applied to the tapered hole 11c. However, the gold plating is only for improving the reflectance, and the gold plating is performed. Before, the surface roughness of the tapered hole 11c is
For example, it is required that the mirror surface state be within about 0.1 μm in Rmax. In the method for manufacturing an optical element according to this embodiment, similar to the method for forming a tapered hole described above,
After a tapered hole 11c is formed through the tapered hole forming step from one surface 11a of the workpiece 11 toward the other surface 11b, the other surface 11b of the workpiece 11 is formed by a chamfered part forming step.
The protruding portion 11h protruding from the side is
Is pressed and crushed by being inserted and pressed from the other surface 11b side of the workpiece 11 to form a chamfered portion 11 on the other surface 11b side of the workpiece 11.
Since d is formed, the optical element 27 having the highly accurate tapered hole 11c can be easily formed only by pressing.
Can be obtained reliably.

【0036】そして、テーパ穴成形工程において、テー
パ部13aを鏡面に磨かれたテーパ穴成形用パンチ13
を用いてテーパ穴11cを成形するようにしたので、精
度の高い鏡面状のテーパ穴11cを備えた光学素子27
を得ることができる。また、テーパ穴成形工程により被
加工物11の他面11b側に突出形成された膨出部11
fを、打ち抜き成形工程により、打ち抜き用パンチ23
を被加工物11の一面11aから他面11bに向けて貫
通することにより除去するようにしたので、面取部成形
工程の前において、被加工物11の他面11b側に突出
形成される膨出部11hの量を非常に少なくすることが
可能になり、被加工物11の他面11b側に突出形成さ
れる膨出部11hを、面取部成形工程により確実に押し
潰すことができ、テーパ穴11cの精度が高い光学素子
27を得ることができる。
Then, in the taper hole forming step, the taper hole forming punch 13 having the tapered portion 13a polished to a mirror surface.
Is used to form the tapered hole 11c, so that the optical element 27 having the highly accurate mirror-shaped tapered hole 11c is formed.
Can be obtained. In addition, the bulging portion 11 protrudingly formed on the other surface 11b side of the workpiece 11 by the tapered hole forming step.
f is punched by a punching molding process.
Is removed by penetrating from one surface 11a of the workpiece 11 toward the other surface 11b, so that the bulge formed to project toward the other surface 11b of the workpiece 11 before the chamfered part forming step. The amount of the protruding portion 11h can be made very small, and the protruding portion 11h formed to protrude on the other surface 11b side of the workpiece 11 can be reliably crushed by the chamfered portion forming step, An optical element 27 with high accuracy of the tapered hole 11c can be obtained.

【0037】さらに、テーパ穴成形工程の前に、被加工
物11に予めテーパ穴11c用の下穴11eを貫通形成
したので、テーパ穴成形工程におけるテーパ穴11cの
形成が容易になり、テーパ穴11cの精度がより高い光
学素子27を得ることができる。また、半導体レーザ2
9からの励起光31を固体レーザ結晶33に導くための
反射面となるテーパ穴11cを備えた光学素子27を容
易,確実に得ることができる。
Furthermore, since the pilot hole 11e for the tapered hole 11c is formed in the workpiece 11 in advance before the tapered hole forming step, the tapered hole 11c can be easily formed in the tapered hole forming step. It is possible to obtain the optical element 27 with higher accuracy of 11c. In addition, the semiconductor laser 2
An optical element 27 having a tapered hole 11c serving as a reflection surface for guiding the pumping light 31 from 9 to the solid-state laser crystal 33 can be obtained easily and reliably.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上述べたように、請求項1のテーパ穴
の成形方法では、テーパ穴成形工程により、被加工物の
一面から他面に向けてテーパ穴を貫通形成した後、面取
部成形工程により、被加工物の他面側に突出形成された
膨出部を、面取用パンチを被加工物の他面側から挿入押
圧することにより押し潰し被加工物の他面側に面取部を
形成するようにしたので、プレス加工のみにより高い精
度のテーパ穴を容易,確実に得ることができる。
As described above, in the method for forming a tapered hole according to the first aspect, after the tapered hole is formed from one surface of the workpiece to the other surface in the tapered hole forming step, the chamfered portion is formed. The bulging portion formed on the other side of the workpiece by the forming step is crushed by inserting and pressing a chamfering punch from the other side of the workpiece to the other side of the workpiece. Since the recess is formed, a highly accurate tapered hole can be easily and reliably obtained only by pressing.

【0039】請求項2のテーパ穴の成形方法では、テー
パ穴成形工程により被加工物の他面側に突出形成された
膨出部を、打ち抜き成形工程により、打ち抜き用パンチ
を被加工物の一面から他面に向けて貫通することにより
除去するようにしたので、面取部成形工程の前におい
て、被加工物の他面側に突出形成される膨出部の量を非
常に少なくすることが可能になり、被加工物の他面側に
突出形成される膨出部を、面取部成形工程により確実に
押し潰すことができる。
In the method of forming a tapered hole according to a second aspect of the present invention, the bulging portion protrudingly formed on the other surface of the workpiece in the tapered hole forming step is formed by punching a punch for punching on one side of the workpiece in the punching step. Therefore, before the chamfered portion forming step, the amount of the bulging portion projecting to the other surface side of the workpiece can be extremely reduced. It is possible to reliably crush the bulging portion projecting from the other surface of the workpiece by the chamfer forming step.

【0040】請求項3のテーパ穴の成形方法では、テー
パ穴成形工程の前に、被加工物に予めテーパ穴用の下穴
を貫通形成したので、テーパ穴成形工程におけるテーパ
穴の形成が容易になり、テーパ穴の精度を高めることが
できる。請求項4の光学素子の製造方法では、テーパ穴
成形工程により、被加工物の一面から他面に向けてテー
パ穴を貫通形成した後、面取部成形工程により、被加工
物の他面側に突出形成された膨出部を、面取用パンチを
被加工物の他面側から挿入押圧することにより押し潰し
被加工物の他面側に面取部を形成するようにしたので、
プレス加工のみにより高い精度のテーパ穴を備えた光学
素子を容易,確実に得ることができる。
According to the third aspect of the present invention, since the pilot hole for the tapered hole is formed in the workpiece before the tapered hole forming step, the tapered hole can be easily formed in the tapered hole forming step. And the accuracy of the tapered hole can be increased. In the method of manufacturing an optical element according to claim 4, the tapered hole is formed from one surface of the workpiece to the other surface in the tapered hole forming step, and then the other side of the workpiece is formed in the chamfered part forming step. Since the bulging portion formed to protrude from the other side of the workpiece is crushed by inserting and pressing a chamfering punch from the other side of the workpiece, so that a chamfered section is formed on the other side of the workpiece.
An optical element having a highly accurate tapered hole can be easily and reliably obtained only by pressing.

【0041】そして、テーパ穴成形工程において、テー
パ部13aを鏡面に磨かれたテーパ穴成形用パンチを用
いてテーパ穴を成形するようにしたので、精度の高い鏡
面状のテーパ穴を備えた光学素子を得ることができる。
請求項5の光学素子の製造方法では、テーパ穴成形工程
により被加工物の他面側に突出形成された膨出部を、打
ち抜き成形工程により、打ち抜き用パンチを被加工物の
一面から他面に向けて貫通することにより除去するよう
にしたので、面取部成形工程の前において、被加工物の
他面側に突出形成される膨出部の量を非常に少なくする
ことが可能になり、被加工物の他面側に突出形成される
膨出部を、面取部成形工程により確実に押し潰すことが
でき、テーパ穴の精度が高い光学素子を得ることができ
る。
In the tapered hole forming step, the tapered portion 13a is formed into a tapered hole by using a tapered hole forming punch whose surface is polished to a mirror surface. An element can be obtained.
In the method of manufacturing an optical element according to the fifth aspect, the bulging portion protrudingly formed on the other surface side of the workpiece by the tapered hole forming step is formed by punching the punch for punching from one surface of the workpiece to the other surface by the punching molding step. Before the chamfered portion forming step, the amount of the bulging portion formed on the other surface of the workpiece can be greatly reduced before the chamfered portion forming step. In addition, the bulged portion protruding from the other surface of the workpiece can be reliably crushed by the chamfered portion forming step, and an optical element having a highly accurate tapered hole can be obtained.

【0042】請求項6の光学素子の製造方法では、テー
パ穴成形工程の前に、被加工物に予めテーパ穴用の下穴
を貫通形成したので、テーパ穴成形工程におけるテーパ
穴の形成が容易になり、テーパ穴の精度がより高い光学
素子を得ることができる。請求項7の光学素子の製造方
法では、半導体レーザからの励起光を固体レーザ結晶に
導くための反射面となるテーパ穴を備えた光学素子を容
易,確実に得ることができる。
In the method of manufacturing an optical element according to the sixth aspect, the pilot hole for the tapered hole is previously formed in the workpiece before the tapered hole forming step, so that the tapered hole can be easily formed in the tapered hole forming step. Thus, an optical element having a higher precision of the tapered hole can be obtained. In the method for manufacturing an optical element according to the seventh aspect, an optical element having a tapered hole serving as a reflection surface for guiding excitation light from a semiconductor laser to a solid-state laser crystal can be easily and reliably obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態によ
り成形されたテーパ穴を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a tapered hole formed by one embodiment of a tapered hole forming method of the present invention.

【図2】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態によ
り成形された下穴を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a pilot hole formed by a taper hole forming method according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態のテ
ーパ穴成形工程後の被加工物の状態を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a state of a workpiece after a tapered hole forming step according to an embodiment of the tapered hole forming method of the present invention.

【図4】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態のテ
ーパ穴成形工程を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a tapered hole forming step of one embodiment of the tapered hole forming method of the present invention.

【図5】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態の打
ち抜き成形工程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a punching forming step of the tapered hole forming method according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態の打
ち抜き成形工程後の被加工物の状態を示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state of a workpiece after a punch forming step of an embodiment of the method of forming a tapered hole according to the present invention.

【図7】本発明のテーパ穴の成形方法の一実施形態の面
取部成形工程を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a chamfered portion forming step of the tapered hole forming method according to one embodiment of the present invention.

【図8】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態によ
り製造された光学素子を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an optical element manufactured by one embodiment of the method for manufacturing an optical element of the present invention.

【図9】図8の光学素子の使用方法を示す断面図であ
る。
FIG. 9 is a sectional view showing a method of using the optical element of FIG.

【図10】従来のテーパ穴の成形方法を示す説明図であ
る。
FIG. 10 is an explanatory view showing a conventional method for forming a tapered hole.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 被加工物 11a 一面 11b 他面 11c テーパ穴 11d 面取部 11e 下穴 11f 膨出部 11h 膨出部 13 テーパ穴成形用パンチ 13a テーパ部 23 打ち抜き用パンチ 25 面取用パンチ 27 光学素子 Reference Signs List 11 Workpiece 11a One surface 11b Other surface 11c Tapered hole 11d Chamfered portion 11e Prepared hole 11f Swelled portion 11h Swelled portion 13 Tapered hole forming punch 13a Tapered portion 23 Punching punch 25 Chamfering punch 27 Optical element

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テーパ部が形成されるテーパ穴成形用パ
ンチを用いて被加工物の一面から他面に向けてテーパ穴
を貫通形成するテーパ穴成形工程と、 前記被加工物の他面側に突出形成された膨出部を、面取
用パンチを前記被加工物の他面側から挿入押圧すること
により押し潰して前記被加工物の他面側に面取部を形成
する面取部成形工程と、 を有することを特徴とするテーパ穴の成形方法。
1. A tapered hole forming step of forming a tapered hole from one surface of a workpiece to another surface using a tapered hole forming punch having a tapered portion, and a tapered hole forming step of forming the tapered portion. A chamfered portion for forming a chamfered portion on the other surface side of the workpiece by squeezing the bulged portion protruding from the other surface side of the workpiece by inserting and pressing a chamfering punch from the other surface side of the workpiece. A method of forming a tapered hole, comprising: a forming step.
【請求項2】 請求項1記載のテーパ穴の成形方法にお
いて、 前記テーパ穴成形工程と前記面取部成形工程との間に、
前記テーパ穴成形工程により前記被加工物の他面側に突
出形成された膨出部を、打ち抜き用パンチを前記被加工
物の一面から他面に向けて貫通することにより除去する
打ち抜き成形工程を有することを特徴とするテーパ穴の
成形方法。
2. The method for forming a tapered hole according to claim 1, wherein between the tapered hole forming step and the chamfered part forming step,
A punch forming step of removing a bulge formed by projecting to the other surface side of the workpiece by the tapered hole forming step by penetrating a punch from one surface of the workpiece toward the other surface. A method for forming a tapered hole, comprising:
【請求項3】 請求項1または2記載のテーパ穴の成形
方法において、 前記テーパ穴成形工程の前に、前記被加工物に予めテー
パ穴用の下穴を貫通形成することを特徴とするテーパ穴
の成形方法。
3. The method of forming a tapered hole according to claim 1, wherein a pilot hole for the tapered hole is formed in advance in the workpiece before the tapered hole forming step. Hole forming method.
【請求項4】 テーパ部を鏡面に磨かれたテーパ穴成形
用パンチを用いて被加工物の一面から他面に向けて鏡面
状のテーパ穴を貫通形成するテーパ穴成形工程と、 前記被加工物の他面側に突出形成された膨出部を、面取
用パンチを前記被加工物の他面側から挿入押圧すること
により押し潰して前記被加工物の他面側に面取部を形成
する面取部成形工程と、 を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
4. A tapered hole forming step of forming a mirror-shaped tapered hole from one surface of the workpiece to the other surface using a tapered hole forming punch having a tapered portion polished to a mirror surface, The bulging portion protrudingly formed on the other side of the workpiece is crushed by inserting and pressing a chamfering punch from the other side of the workpiece to form a chamfered part on the other side of the workpiece. A method for manufacturing an optical element, comprising: forming a chamfered portion to be formed.
【請求項5】 請求項4記載の光学素子の製造方法にお
いて、 前記テーパ穴成形工程と前記面取部成形工程との間に、
前記テーパ穴成形工程により前記被加工物の他面側に突
出形成された膨出部を、打ち抜き用パンチを前記被加工
物の一面から他面に向けて貫通することにより除去する
打ち抜き成形工程を有することを特徴とする光学素子の
製造方法。
5. The method of manufacturing an optical element according to claim 4, wherein: between the taper hole forming step and the chamfered part forming step
A punch forming step of removing a bulge formed by projecting to the other surface side of the workpiece by the tapered hole forming step by penetrating a punch from one surface of the workpiece toward the other surface. A method for producing an optical element, comprising:
【請求項6】 請求項4または5記載の光学素子の製造
方法において、 前記テーパ穴成形工程の前に、前記被加工物に予めテー
パ穴用の下穴を貫通形成することを特徴とする光学素子
の製造方法。
6. The method for manufacturing an optical element according to claim 4, wherein before the step of forming a tapered hole, a pilot hole for a tapered hole is formed in the workpiece in advance. Device manufacturing method.
【請求項7】 請求項4ないし6のいずれか1項記載の
光学素子の製造方法において、 前記テーパ穴は、半導体レーザからの励起光を固体レー
ザ結晶に導くための反射面であることを特徴とする光学
素子の製造方法。
7. The method for manufacturing an optical element according to claim 4, wherein the tapered hole is a reflection surface for guiding excitation light from a semiconductor laser to a solid-state laser crystal. A method for manufacturing an optical element.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102371300A (en) * 2011-10-26 2012-03-14 巨力索具股份有限公司 Forming equipment and technology for punching taper hole of black metal forged piece
JP6142296B1 (en) * 2016-07-27 2017-06-07 鹿児島県 Method of forming through-holes while suppressing generation of burrs
CN109433988A (en) * 2018-10-30 2019-03-08 西安建筑科技大学 A kind of continuous press forging forming process of taper counter sink and mold
JP2019202363A (en) * 2018-05-22 2019-11-28 肇 倉橋 Punching plate and manufacturing method thereof

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102371300A (en) * 2011-10-26 2012-03-14 巨力索具股份有限公司 Forming equipment and technology for punching taper hole of black metal forged piece
JP6142296B1 (en) * 2016-07-27 2017-06-07 鹿児島県 Method of forming through-holes while suppressing generation of burrs
JP2018015774A (en) * 2016-07-27 2018-02-01 鹿児島県 Method for forming through-hole by restraining the occurrence of burr
JP2019202363A (en) * 2018-05-22 2019-11-28 肇 倉橋 Punching plate and manufacturing method thereof
CN109433988A (en) * 2018-10-30 2019-03-08 西安建筑科技大学 A kind of continuous press forging forming process of taper counter sink and mold
CN109433988B (en) * 2018-10-30 2020-07-17 西安建筑科技大学 Continuous stamping and forging forming process and die for conical counter bore

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