JPH111546A - Epoxy resin composition and electronic component - Google Patents

Epoxy resin composition and electronic component

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JPH111546A
JPH111546A JP23961397A JP23961397A JPH111546A JP H111546 A JPH111546 A JP H111546A JP 23961397 A JP23961397 A JP 23961397A JP 23961397 A JP23961397 A JP 23961397A JP H111546 A JPH111546 A JP H111546A
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epoxy resin
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bisphenol
methyl
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition excellent in blocking resistance and moldability and capable of giving a cured product excellent in mechanical strength, etc., by using a low-viscosity epoxy resin or a specific bisphenol-based epoxy resin, together with a specific multi-function-type epoxy resin. SOLUTION: This composition is obtained by including (A) 10-90 wt.% of a low-viscosity epoxy resin having the melt viscosity of <=0.3 poises at 150 deg.C, e.g. an epoxidized product of 4,4-dihydroxydiphenylmethane, or a bisphenol-based epoxy resin of formula I [R8-10 are each methyl, etc.; G is glycidyl: (q) is 0-15] and 90-10 wt.% of n aralkyl-based epoxy resin of formula II [A is a (substituted) benzene ring, etc.; R1 is methyl, etc.; (m) is 0-2; (n) is 1-15], each based on the total weight of epoxy resins, (B) a hardener (e.g. a polyhydric phenol compound, etc.), and (C) an inorganic filler.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐ブロッキング性
に優れるとともに、速硬化性、流動性等の成形性に優
れ、かつ機械的強度、耐熱性、低吸湿性、耐クラック性
等に優れた硬化物を与える半導体素子等の電子部品封止
用エポキシ樹脂組成物、及びそれを用いた電子部品に関
するものである。
The present invention is excellent in blocking resistance, excellent in moldability such as rapid curability and fluidity, and excellent in mechanical strength, heat resistance, low moisture absorption, crack resistance and the like. The present invention relates to an epoxy resin composition for encapsulating an electronic component such as a semiconductor element that gives a cured product, and an electronic component using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物
は、注型、封止、積層板等の電気・電子分野に広く使用
されている。近年、電子部品の小型化、薄型化により、
より低粘度のエポキシ樹脂組成物が望まれている。従来
のエポキシ樹脂組成物は、比較的粘度の高いものが多
く、このため部品間の微細な間隙に樹脂が完全に流れな
いとか、気泡を巻きこむなど成型不良を起こし、絶縁不
良や耐湿性の劣化を起こすなどの問題があった。
2. Description of the Related Art A resin composition containing an epoxy resin as a main component is widely used in electric and electronic fields such as casting, sealing, and laminates. In recent years, as electronic components have become smaller and thinner,
A lower viscosity epoxy resin composition is desired. Conventional epoxy resin compositions often have a relatively high viscosity, which causes resin to not flow completely into minute gaps between parts or to cause molding defects such as entrapment of air bubbles, resulting in poor insulation and moisture resistance. There were problems such as deterioration.

【0003】特に、半導体の分野においては、プリント
基板への部品の実装の方法として、従来のピン挿入方式
から表面実装方式への移行が進展している。表面実装方
式においては、パッケージ全体がはんだ温度まで加熱さ
れ、熱衝撃によるパッケージクラックが大きな問題点と
なってきている。さらに、近年、半導体素子の高集積
化、素子サイズの大型化、配線幅の微細化も急速に進展
しており、パッケージクラックの問題が一層深刻化して
きている。パッケージクラックを防止する方法として樹
脂構造の強靱化、シリカの高充填化による高強度化、低
吸水率化などの方法がある。
In particular, in the field of semiconductors, as a method of mounting components on a printed circuit board, a shift from a conventional pin insertion method to a surface mounting method is progressing. In the surface mounting method, the entire package is heated to the solder temperature, and package cracks due to thermal shock have become a major problem. Furthermore, in recent years, high integration of semiconductor devices, enlargement of device size, and miniaturization of wiring width are also rapidly progressing, and the problem of package cracking is becoming more serious. As methods for preventing package cracks, there are methods such as toughening of the resin structure, high strength due to high filling of silica, and low water absorption.

【0004】上記問題点を克服するため、低粘度性に優
れたエポキシ樹脂が望まれている。低粘度エポキシ樹脂
としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂などが一般に広く用いられてい
るが、これらのエポキシ樹脂において低粘度のものは常
温で液状であり、取扱いが困難である。さらに、これら
のエポキシ樹脂は、耐熱性、機械的強度、靱性の点で十
分ではない。
[0004] In order to overcome the above problems, an epoxy resin excellent in low viscosity has been desired. As the low-viscosity epoxy resin, bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin and the like are generally and widely used. However, among these epoxy resins, those having low viscosity are liquid at room temperature and are difficult to handle. Furthermore, these epoxy resins are not sufficient in heat resistance, mechanical strength, and toughness.

【0005】このような背景から、常温で固体である結
晶性のエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物が最近
数多く提案されている。特公平4−7365号公報に
は、取扱い作業性、耐熱性、靱性等を改良したものとし
てビフェニル系エポキシ樹脂を主剤とした半導体封止用
エポキシ樹脂組成物が提案されているが、低吸水性、低
粘度性、硬化性の点で十分でない。また、特開平6−3
45850号公報には、主剤としてビスフェノールF型
の固形エポキシ樹脂を用いることが提案されている。ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂は低粘度性に優れた特徴
があるが、エポキシ樹脂組成物としての軟らかさに起因
するブロッキング性に改良すべき余地がある。
[0005] Against this background, many epoxy resin compositions using a crystalline epoxy resin that is solid at normal temperature have recently been proposed. Japanese Patent Publication No. 4-7365 proposes an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing a biphenyl-based epoxy resin as a main component as an improvement in handling workability, heat resistance, toughness and the like. , Low viscosity and curability are not sufficient. Also, JP-A-6-3
Japanese Patent No. 45850 proposes using a bisphenol F type solid epoxy resin as a main ingredient. The bisphenol F type epoxy resin has the characteristic of being excellent in low viscosity, but there is room for improvement in blocking properties due to the softness of the epoxy resin composition.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、エポキシ樹脂組成物としての耐ブロッキング性
に優れるとともに、速硬化性、流動性等の成形性に優
れ、かつ機械的強度、耐熱性、低吸湿性、耐クラック性
等に優れた硬化物を与える、特に表面実装型の半導体素
子等の電子部品封止用のエポキシ樹脂組成物、及びそれ
を用いた電子部品を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition having excellent blocking resistance, excellent moldability such as rapid curability and fluidity, and mechanical strength and heat resistance. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for providing a cured product excellent in low moisture absorption, crack resistance and the like, particularly for encapsulating electronic components such as surface-mounted semiconductor devices, and an electronic component using the same. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、低粘度性のエポキシ樹脂又
は特定のビスフェノール型エポキシ樹脂と特定の多官能
型エポキシ樹脂を併用した場合に、上記目的を達成し得
ることを見いだし、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in view of the above problems, and have found that a low viscosity epoxy resin or a specific bisphenol type epoxy resin is used in combination with a specific polyfunctional epoxy resin. The present inventors have found that the above object can be achieved, and have reached the present invention.

【0008】すなわち、本発明は、エポキシ樹脂、硬化
剤及び無機充填材よりなるエポキシ樹脂組成物におい
て、エポキシ樹脂成分として、150℃での溶融粘度が
0.3ポイズ以下の低粘度エポキシ樹脂を全エポキシ樹
脂成分中10〜90重量%、下記一般式(1)で表され
るアラルキル型エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂成分中9
0〜10重量%含有してなるエポキシ樹脂組成物であ
る。
That is, the present invention relates to an epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein a low-viscosity epoxy resin having a melt viscosity at 150 ° C. of 0.3 poise or less is used as an epoxy resin component. An aralkyl-type epoxy resin represented by the following general formula (1) is used in an amount of 10 to 90% by weight in the epoxy resin component.
An epoxy resin composition containing 0 to 10% by weight.

【化4】 (式中、Aは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素
基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環
を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子
又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、mは1
又は2の整数、nは1〜15の数を示す)
Embedded image (In the formula, A represents a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted simultaneously or separately with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or methyl which may be the same or different. G represents a glycidyl group, and m represents 1
Or an integer of 2 and n represents a number of 1 to 15)

【0009】また、本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤及
び無機充填材よりなるエポキシ樹脂組成物において、エ
ポキシ樹脂成分として、下記一般式(3)で表されるビ
スフェノール型エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂成分中1
0〜90重量%、下記一般式(1)で表されるアラルキ
ル型エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂成分中90〜10重
量%含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物であ
る。
Further, the present invention provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein a bisphenol type epoxy resin represented by the following general formula (3) is used as an epoxy resin component: Middle one
An epoxy resin composition comprising 0 to 90% by weight, and 90 to 10% by weight of an aralkyl type epoxy resin represented by the following general formula (1) in all epoxy resin components.

【化5】 (式中、R8 、R9 、R10は同一又は異なってもよい水
素原子又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、
qは0〜15の数を示す)
Embedded image (Wherein, R 8 , R 9 and R 10 represent a hydrogen atom or a methyl group which may be the same or different, G represents a glycidyl group,
q shows the number of 0-15)

【化6】 (式中、Aは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素
基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環
を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子
又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、mは1
又は2の整数、nは1〜15の数を示す)
Embedded image (In the formula, A represents a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted simultaneously or separately with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or methyl which may be the same or different. G represents a glycidyl group, and m represents 1
Or an integer of 2 and n represents a number of 1 to 15)

【0010】さらに、本発明は、上記のエポキシ樹脂の
硬化物で封止されてなる電子部品である。
Further, the present invention is an electronic component sealed with a cured product of the above epoxy resin.

【0011】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明のエポキシ樹脂組成物に用いる低粘度エポキシ樹脂
は、特に限定されるものではないが、代表的には下記一
般式(2)で表される二官能性のエポキシ樹脂が挙げら
れる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The low-viscosity epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but typically includes a bifunctional epoxy resin represented by the following general formula (2).

【化7】 (式中、Gはグリシジル基を示し、R3 は1価の基を示
し、pは0〜4の整数を示し、Xは単結合又は2価の基
を示し、qは0〜15の数を示す)
Embedded image (Wherein, G represents a glycidyl group, R 3 represents a monovalent group, p represents an integer of 0 to 4, X represents a single bond or a divalent group, and q represents a number of 0 to 15. Indicates)

【0012】上記一般式(2)において、1価の基であ
るR3 としては、例えば水素原子、ハロゲン原子又は炭
素数1〜6の炭化水素基などが挙げられるが、グリシジ
ル基の反応性の観点から3位、5位あるいは3’位、
5’位が同時に炭素数3以上の2級又は3級炭素置換基
であることは好ましくない。また、連結基Xは単結合又
は2価の基であり、例えば酸素原子、硫黄原子、ケトン
基、スルホン基又は下記一般式(a)又は(b)で表さ
れる炭化水素基であるが、好ましくは単結合、酸素原
子、硫黄原子、メチレン基、エチリデン基又は1,4−
フェニレンビスイソプロピリデン基である。
In the general formula (2), examples of the monovalent group R 3 include a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. 3rd, 5th or 3 'position from the viewpoint,
It is not preferred that the 5′-position is simultaneously a secondary or tertiary carbon substituent having 3 or more carbon atoms. The linking group X is a single bond or a divalent group, for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a ketone group, a sulfone group, or a hydrocarbon group represented by the following general formula (a) or (b), Preferably a single bond, oxygen atom, sulfur atom, methylene group, ethylidene group or 1,4-
It is a phenylenebisisopropylidene group.

【化8】 (式中、R4 、R5 は水素原子又は炭素数1〜6の炭化
水素基を示す)
Embedded image (Wherein, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms)

【化9】 (式中、R6 、R7 は水素原子又はメチル基を示す)Embedded image (Wherein, R 6 and R 7 represent a hydrogen atom or a methyl group)

【0013】このような低粘度エポキシ樹脂としては、
例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンのエポ
キシ化物、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキ
シジフェニルメタンのエポキシ化物、3,3’,5,
5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルメタンのエポキシ化物、2,2’,3,3’,5,
5’−ヘキサメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルメタンのエポキシ化物、2,2’−ジメチル−5,
5’−ジターシャリーブチル−4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルメタンのエポキシ化物、1,4−ビス(4−
ヒドロキシクミル)ベンゼンのエポキシ化物、1,4−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシクミル)ベンゼンの
エポキシ化物、1,4−ビス(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシクミル)ベンゼンのエポキシ化物、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルエーテルのエポキシ化物、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドのエポキ
シ化物、2,2’−ジメチル−5,5−ジターシャリー
ブチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド
のエポキシ化物、3,3’,5,5’−テトラメチル−
4,4’−ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化物、
2,5−ジターシャリーブチル−ハイドロキノンのエポ
キシ化物、1,7−ナフタレンジオールのエポキシ化物
などが挙げられる。
As such a low-viscosity epoxy resin,
For example, epoxidized 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, epoxidized 3,3'-dimethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3 ', 5
Epoxidized product of 5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 2,2 ', 3,3', 5
Epoxidized product of 5'-hexamethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 2,2'-dimethyl-5,
Epoxidized product of 5'-di-tert-butyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 1,4-bis (4-
Hydroxycumyl) epoxidized benzene, 1,4-
Epoxidized bis (3-methyl-4-hydroxycumyl) benzene, 1,4-bis (3,5-dimethyl-4-)
Hydroxycumyl) epoxidized benzene, 4,4 '
Epoxidized dihydroxydiphenyl ether,
Epoxidized 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, epoxidized 2,2'-dimethyl-5,5-ditert-butyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetra Methyl-
Epoxidized 4,4'-dihydroxybiphenyl,
Epoxidized products of 2,5-ditert-butyl-hydroquinone, epoxidized products of 1,7-naphthalenediol and the like can be mentioned.

【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる低粘
度エポキシ樹脂は、上記のエポキシ樹脂に限定されず、
例えばハイドロキノン、2,5−ジターシャリーブチル
ハイドロキノン、2,5−ジターシャリーアミルハイド
ロキノン等のハイドロキノン類、カテコール類、レゾル
シン類、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジ
ヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレ
ン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒド
ロキシナフタレン等のナフタレンジオール類等のジグリ
シジルエーテル化物などであってもよい。
The low-viscosity epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is not limited to the above-mentioned epoxy resin.
For example, hydroquinones such as hydroquinone, 2,5-ditertiarybutylhydroquinone, 2,5-ditertiary amylhydroquinone, catechols, resorcinols, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxy Diglycidyl ethers such as naphthalene diols such as naphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene may be used.

【0015】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる低粘
度エポキシ樹脂の粘度は、150℃において0.3ポイ
ズ以下、好ましくは0.2ポイズ以下である。粘度が
0.3ポイズより高いと、無機充填材の高充填率化が困
難となり、耐クラック性等の性能の向上が望めない。
The viscosity of the low-viscosity epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is at most 0.3 poise at 150 ° C., preferably at most 0.2 poise. If the viscosity is higher than 0.3 poise, it is difficult to increase the filling rate of the inorganic filler, and improvement in performance such as crack resistance cannot be expected.

【0016】また、本発明のエポキシ樹脂組成物に用い
られる低粘度エポキシ樹脂と同様に使用可能なエポキシ
樹脂は、上記一般式(3)で表されるビスフェノール型
エポキシ樹脂である。一般式(3)において、R8 、R
9 、R10は同一又は異なってもよい水素原子又はメチル
基を示すが、好ましくはR8 とR9 がメチル基であり、
10が水素原子又はメチル基である。平均の繰り返し数
qは0〜15、好ましくは0〜5である。なお、一般式
(3)で表されるビスフェノール型エポキシ樹脂は、1
50℃での溶融粘度が0.3ポイズ以下のものであって
もよい。
An epoxy resin usable in the same manner as the low-viscosity epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is a bisphenol-type epoxy resin represented by the general formula (3). In the general formula (3), R 8 , R
9 and R 10 represent a hydrogen atom or a methyl group which may be the same or different, preferably R 8 and R 9 are methyl groups,
R 10 is a hydrogen atom or a methyl group. The average number of repetitions q is 0 to 15, preferably 0 to 5. The bisphenol-type epoxy resin represented by the general formula (3) is 1
The melt viscosity at 50 ° C. may be 0.3 poise or less.

【0017】低粘度エポキシ樹脂又は一般式(3)で表
されるビスフェノール型エポキシ樹脂は、ビスフェノー
ル化合物に代表されるフェノール性水酸基を有する化合
物とエピクロロヒドリンとを反応させることにより合成
することができる。この反応は、通常のエポキシ化反応
と同様に行うことができる。ビスフェノール化合物を用
いる場合、例えば、ビスフェノール化合物を過剰のエピ
クロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、50
〜150℃、好ましくは60〜120℃で1〜10時間
反応させる方法が挙げられる。この際、アルカリ金属水
酸化物の使用量は、ビスフェノール化合物の水酸基1モ
ルに対し0.8〜2モル、好ましくは0.9〜1.2モ
ルである。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留
去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の
溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次い
で溶剤を留去することにより、所望のエポキシ樹脂とす
ることができる。
The low-viscosity epoxy resin or the bisphenol type epoxy resin represented by the general formula (3) can be synthesized by reacting a compound having a phenolic hydroxyl group represented by a bisphenol compound with epichlorohydrin. it can. This reaction can be performed in the same manner as a usual epoxidation reaction. When a bisphenol compound is used, for example, after dissolving the bisphenol compound in an excess of epichlorohydrin, the solution is dissolved in an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like.
To 150 ° C., preferably 60 to 120 ° C. for 1 to 10 hours. At this time, the amount of the alkali metal hydroxide used is 0.8 to 2 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the bisphenol compound. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, and the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain a desired product. It can be an epoxy resin.

【0018】合成の際の条件によっては、ビスフェノー
ル化合物の二量体以上の多量体を含む混合物として得ら
れるが、低粘度性の観点からは、ビスフェノール化合物
の単量体含有量の多いものほどよく、好ましくは単量体
の含有量が50重量%以上である。単量体の含有量が5
0重量%より少ないと、二量体以上の多量体の含有量が
増加して粘度が上昇する。
Depending on the conditions at the time of synthesis, a mixture containing a multimer of a dimer or more of a bisphenol compound can be obtained, but from the viewpoint of low viscosity, the higher the monomer content of the bisphenol compound, the better. The content of the monomer is preferably 50% by weight or more. 5 monomer content
If the amount is less than 0% by weight, the content of the dimer or higher multimer increases and the viscosity increases.

【0019】合成されたエポキシ樹脂は、好ましくは結
晶化させ固形化したのち使用する。エポキシ樹脂の融点
範囲は、好ましくは40〜150℃、さらに好ましくは
50〜130℃である。40℃より低いと保存時にブロ
ッキングの問題があり、150℃より高いと硬化剤又は
その他の添加剤との溶融混合性に劣り、エポキシ樹脂組
成物調製時の作業性が低下する。ここでいう融点とは、
キャピラリー法により昇温速度2℃/分で得られる値で
ある。
The synthesized epoxy resin is preferably used after being crystallized and solidified. The melting point range of the epoxy resin is preferably 40 to 150C, more preferably 50 to 130C. If the temperature is lower than 40 ° C., there is a problem of blocking during storage, and if the temperature is higher than 150 ° C., the melt mixing property with a curing agent or other additives is inferior, and the workability at the time of preparing the epoxy resin composition is reduced. The melting point here is
This is a value obtained by a capillary method at a heating rate of 2 ° C./min.

【0020】低粘度エポキシ樹脂又は一般式(3)で表
されるビスフェノール型エポキシ樹脂の純度、特に加水
分解性塩素量は、封止する電子部品の信頼性向上の観点
より少ない方がよい。特に限定するものではないが、好
ましくは1000ppm以下がよい。なお、本発明でい
う加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値
をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30ml
に溶解後、1N−KOH、10mlを加え30分間煮沸
還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水
100mlを加え、0.002N−AgNO3 水溶液で
電位差滴定を行い得られる値である。
The purity of the low-viscosity epoxy resin or the bisphenol-type epoxy resin represented by the general formula (3), particularly the amount of hydrolyzable chlorine, is preferably smaller than the viewpoint of improving the reliability of the electronic component to be sealed. There is no particular limitation, but preferably 1000 ppm or less. In addition, the hydrolyzable chlorine referred to in the present invention refers to a value measured by the following method. That is, 0.5 g of a sample is placed in 30 ml of dioxane.
After adding 10 ml of 1N-KOH and boiling under reflux for 30 minutes, the mixture was cooled to room temperature, further added with 100 ml of 80% acetone water, and subjected to potentiometric titration with a 0.002 N-AgNO 3 aqueous solution.

【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物において、低
粘度エポキシ樹脂又は一般式(3)で表されるビスフェ
ノール型エポキシ樹脂の含有率は、全エポキシ樹脂成分
中、10〜90重量%、好ましくは30%〜80重量%
である。これらのエポキシ樹脂の含有率が10重量%よ
り少ないと耐クラック性に優れた硬化物を与えることが
できず、また粘度低下効果が小さく、無機充填材の充填
率を高くできない。また、90重量%を超えるとエポキ
シ樹脂組成物の耐ブロッキング性が低下する。
In the epoxy resin composition of the present invention, the content of the low-viscosity epoxy resin or the bisphenol type epoxy resin represented by the general formula (3) is 10 to 90% by weight, preferably 30 to 90% by weight, based on all epoxy resin components. % To 80% by weight
It is. If the content of these epoxy resins is less than 10% by weight, a cured product having excellent crack resistance cannot be obtained, the effect of lowering the viscosity is small, and the filling rate of the inorganic filler cannot be increased. On the other hand, when the content exceeds 90% by weight, the blocking resistance of the epoxy resin composition decreases.

【0022】次に、上記一般式(1)で表されるアラル
キル型エポキシ樹脂は、アラルキル型多価フェノール樹
脂とエピクロルヒドリンを反応させることにより合成す
ることができる。一般式(1)において、Aはベンゼン
環又はナフタレン環を示し、これらの環は炭素数1〜6
の炭化水素基で置換されていてもよい。好ましくは、A
は無置換若しくはメチル基で置換されたベンゼン環又は
ナフタレン環である。R1 とR2 は水素原子又はメチル
基であり、これらは同一又は異なってもよい。mは1又
は2であり、平均の繰り返し数nは1〜15であるが、
好ましくは1〜5である。また、1分子内に存在するA
はベンゼン環又はナフタレン環のいずれかであっても両
方であってもよい。なお、一般式(1)において、エポ
キシ化する際にグリジル基が開環して一部オリゴマーが
生成するが、これも一般式(1)のアラルキル型エポキ
シ樹脂に含まれるものとする。
Next, the aralkyl-type epoxy resin represented by the general formula (1) can be synthesized by reacting an aralkyl-type polyhydric phenol resin with epichlorohydrin. In the general formula (1), A represents a benzene ring or a naphthalene ring, and these rings have 1 to 6 carbon atoms.
May be substituted. Preferably, A
Is a benzene ring or a naphthalene ring substituted or unsubstituted with a methyl group. R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group, which may be the same or different. m is 1 or 2, and the average number of repetitions n is 1 to 15,
Preferably it is 1-5. In addition, A present in one molecule
May be either a benzene ring or a naphthalene ring or both. In the general formula (1), the glycidyl group is ring-opened during epoxidation to partially form an oligomer, which is also included in the aralkyl-type epoxy resin of the general formula (1).

【0023】このようなアラルキル型エポキシ樹脂は、
下記一般式(4)で表されるアラルキル型多価フェノー
ル樹脂とエピクロルヒドリンとを反応させることにより
合成することができる。
Such an aralkyl type epoxy resin is
It can be synthesized by reacting an aralkyl polyhydric phenol resin represented by the following general formula (4) with epichlorohydrin.

【化10】 (式中、Aは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素
基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環
を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子
又はメチル基を示し、mは1又は2の整数、nは1〜1
5の数を示す)
Embedded image (In the formula, A represents a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted simultaneously or separately with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or methyl which may be the same or different. M represents an integer of 1 or 2; n represents 1 to 1
Indicate the number of 5)

【0024】一般式(4)で表されるアラルキル型多価
フェノール樹脂は、アルキル置換又は未置換のフェノー
ル性水酸基含有物質と芳香族架橋剤とを反応させること
により合成することができる。
The aralkyl-type polyhydric phenol resin represented by the general formula (4) can be synthesized by reacting an alkyl-substituted or unsubstituted phenolic hydroxyl group-containing substance with an aromatic crosslinking agent.

【0025】このフェノール性水酸基含有物質として
は、アルキル置換又は未置換のフェノール類があり、A
がベンゼン環の場合、例えばフェノール、o−クレゾー
ル、m−クレゾール、p−クレゾール、エチルフェノー
ル類、イソプロピルフェノール類、ターシャリーブチル
フェノール類、アリルフェノール類、フェニルフェノー
ル類、2,6−キシレノール、2,6−ジエチルフェノ
ールなどが挙げられ、Aがナフタレン環である場合、例
えば1−ナフトール、2−ナフトールなどが挙げられ
る。
The phenolic hydroxyl group-containing substance includes alkyl-substituted or unsubstituted phenols.
Is a benzene ring, for example, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, ethylphenols, isopropylphenols, tert-butylphenols, allylphenols, phenylphenols, 2,6-xylenol, When A is a naphthalene ring, examples thereof include 1-naphthol and 2-naphthol.

【0026】また、芳香族架橋剤としては、ベンゼン骨
格を有するものとビフェニル骨格を有するものがある。
ベンゼン骨格を有するものとしては、o−体、m−体又
はp−体のいずれでもよいが、好ましくはm−体又はp
−体である。ベンゼン骨格を有する芳香族架橋剤として
は、例えばp−キシリレングリコール、α,α’−ジメ
トキシ−p−キシレン、α,α’−ジエトキシ−p−キ
シレン、α,α’−ジイソプロポキシ−p−キシレン、
α,α’−ジブトキシ−p−キシレン、m−キシリレン
グリコール、α,α’−ジメトキシ−m−キシレン、
α,α’−ジエトキシ−m−キシレン、α,α’−ジイ
ソプロポキシ−m−キシレン、α,α’−ジブトキシ−
m−キシレン、1,4−ジ(α−ヒドロキシエチル)ベ
ンゼン、1,4−ジ(α−メトキシエチル)ベンゼン、
1,4−ジ(α−エトキシエチル)ベンゼン、1,4−
ジ(α−イソプロポキシエチル)ベンゼン、1,4−ジ
(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−
ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−
ジ(2−エトキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−
ジ(2−イソプロポキシ−2−プロピル)ベンゼン、
1,3−ジ(α−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,3
−ジ(α−メトキシエチル)ベンゼン、1,3−ジ(2
−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ジ
(2−メトキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,2−ジ
ビニルベンゼン、1,3−ジビニルベンゼン、1,4−
ジビニルベンゼン、1,2−ジ(2−プロペニル)ベン
ゼン、1,3−ジ(2−プロペニル)ベンゼン、1,4
−ジ(2−プロペニル)ベンゼンなどが挙げられる。
The aromatic cross-linking agent includes those having a benzene skeleton and those having a biphenyl skeleton.
The compound having a benzene skeleton may be any of an o-form, an m-form and a p-form, but is preferably an m-form or a p-form.
-Body. Examples of the aromatic crosslinking agent having a benzene skeleton include p-xylylene glycol, α, α′-dimethoxy-p-xylene, α, α′-diethoxy-p-xylene, and α, α′-diisopropoxy-p -Xylene,
α, α′-dibutoxy-p-xylene, m-xylylene glycol, α, α′-dimethoxy-m-xylene,
α, α'-diethoxy-m-xylene, α, α'-diisopropoxy-m-xylene, α, α'-dibutoxy-
m-xylene, 1,4-di (α-hydroxyethyl) benzene, 1,4-di (α-methoxyethyl) benzene,
1,4-di (α-ethoxyethyl) benzene, 1,4-
Di (α-isopropoxyethyl) benzene, 1,4-di (2-hydroxy-2-propyl) benzene, 1,4-
Di (2-methoxy-2-propyl) benzene, 1,4-
Di (2-ethoxy-2-propyl) benzene, 1,4-
Di (2-isopropoxy-2-propyl) benzene,
1,3-di (α-hydroxyethyl) benzene, 1,3
-Di (α-methoxyethyl) benzene, 1,3-di (2
-Hydroxy-2-propyl) benzene, 1,3-di (2-methoxy-2-propyl) benzene, 1,2-divinylbenzene, 1,3-divinylbenzene, 1,4-
Divinylbenzene, 1,2-di (2-propenyl) benzene, 1,3-di (2-propenyl) benzene, 1,4
-Di (2-propenyl) benzene and the like.

【0027】ビフェニル骨格を有する芳香族架橋剤とし
ては、例えば4,4’−ジヒドロキシメチルビフェニ
ル、2,4’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,
2’−ジヒドロキシメチルビフェニル、4,4’−ジメ
トキシメチルビフェニル、2,4’−ジメトキシメチル
ビフェニル、2,2’−ジメトキシメチルビフェニル、
4,4’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、2,
4’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、2,2’−
ジイソプロポキシメチルビフェニル、4,4’−ジブト
キシメチルビフェニル、2,4’−ジブトキシメチルビ
フェニル、2,2’−ジブトキシメチルビフェニル、
4,4’−ジ(α−ヒドロキシエチル)ビフェニル、
4,4’−ジ(α−メトキシエチル)ビフェニル、4,
4’−ジ(α−エトキシエチル)ビフェニル、4,4’
−ジ(α−イソプロポキシエチル)ビフェニル、4,
4’−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニ
ル、4,4’−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ビフ
ェニル、4,4’−ジ(2−エトキシ−2−プロピル)
ビフェニル、4,4’−ジ(2−イソプロポキシ−2−
プロピル)ビフェニル、2,4’−ジ(α−ヒドロキシ
エチル)ビフェニル、2,4’−ジ(α−メトキシエチ
ル)ビフェニル、2,4’−ジ(2−ヒドロキシ−2−
プロピル)ビフェニル、2,4’−ジ(2−メトキシ−
2−プロピル)ビフェニル、2,4’−ジビニルビフェ
ニル、2,2’−ジビニルビフェニル、4,4’−ジビ
ニルビフェニル、2,4’−ジ(2−プロペニル)ビフ
ェニル、2,2’−ジ(2−プロペニル)ビフェニル、
4,4’−ジ(2−プロペニル)ビフェニルなどが挙げ
られる。メチロール基等の官能基のビフェニルに対する
置換位置は4,4’−位、2,4’−位又は2,2’−
位のいずれでもよいが、芳香族架橋剤として好ましい化
合物は4,4’−体であり、全架橋剤中に4,4’−体
が50重量%以上含まれるものが特に好ましい。これよ
り少ないとエポキシ樹脂とした際の硬化速度が低下した
り、得られた硬化物がもろくなるなどの欠点がある。
Examples of the aromatic crosslinking agent having a biphenyl skeleton include 4,4'-dihydroxymethylbiphenyl, 2,4'-dihydroxymethylbiphenyl,
2′-dihydroxymethylbiphenyl, 4,4′-dimethoxymethylbiphenyl, 2,4′-dimethoxymethylbiphenyl, 2,2′-dimethoxymethylbiphenyl,
4,4′-diisopropoxymethylbiphenyl, 2,
4'-diisopropoxymethylbiphenyl, 2,2'-
Diisopropoxymethyl biphenyl, 4,4'-dibutoxymethyl biphenyl, 2,4'-dibutoxymethyl biphenyl, 2,2'-dibutoxymethyl biphenyl,
4,4′-di (α-hydroxyethyl) biphenyl,
4,4′-di (α-methoxyethyl) biphenyl, 4,
4′-di (α-ethoxyethyl) biphenyl, 4,4 ′
-Di (α-isopropoxyethyl) biphenyl, 4,
4'-di (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, 4,4'-di (2-methoxy-2-propyl) biphenyl, 4,4'-di (2-ethoxy-2-propyl)
Biphenyl, 4,4'-di (2-isopropoxy-2-
Propyl) biphenyl, 2,4′-di (α-hydroxyethyl) biphenyl, 2,4′-di (α-methoxyethyl) biphenyl, 2,4′-di (2-hydroxy-2-
Propyl) biphenyl, 2,4′-di (2-methoxy-
2-propyl) biphenyl, 2,4′-divinylbiphenyl, 2,2′-divinylbiphenyl, 4,4′-divinylbiphenyl, 2,4′-di (2-propenyl) biphenyl, 2,2′-di ( 2-propenyl) biphenyl,
4,4′-di (2-propenyl) biphenyl and the like. The substitution position of a functional group such as a methylol group for biphenyl is 4,4′-position, 2,4′-position or 2,2′-position.
The preferred compound as the aromatic cross-linking agent is the 4,4'-isomer, and the compound containing 50% by weight or more of the 4,4'-isomer in the total cross-linking agent is particularly preferable. If the amount is less than this, there are drawbacks such as a decrease in the curing speed when used as an epoxy resin, and the resulting cured product becomes brittle.

【0028】一般式(4)において、平均の繰り返し数
nは1〜15である。nの値は、フェノール性水酸基含
有化合物と芳香族架橋剤とを反応させる際の両者のモル
比を変えることにより容易に調整できる。すなわち、フ
ェノール性水酸基含有化合物を芳香族架橋剤に対し過剰
に用いるほどnの値は小さくコントロールできる。nの
値が大きいほど得られた樹脂の軟化点と粘度が高くな
る。また、nの値が小さいほど粘度が低下するが、合成
時の未反応フェノール性水酸基含有化合物が多くなり、
樹脂の生産効率が低下する。両者のモル比は、実用上フ
ェノール性水酸基含有化合物1モルに対し芳香族架橋剤
が1モル以下でなければならず、好ましくは0.1〜
0.9モルである。芳香族架橋剤が0.1モルより少な
いと未反応のフェノール性水酸基含有化合物量が多くな
る。
In the general formula (4), the average number of repetitions n is 1 to 15. The value of n can be easily adjusted by changing the molar ratio of the phenolic hydroxyl group-containing compound and the aromatic crosslinking agent when they are reacted. That is, the more the phenolic hydroxyl group-containing compound is used relative to the aromatic crosslinking agent, the smaller the value of n can be controlled. The larger the value of n, the higher the softening point and viscosity of the obtained resin. Further, the viscosity decreases as the value of n decreases, but the number of unreacted phenolic hydroxyl group-containing compounds during synthesis increases,
Resin production efficiency decreases. The molar ratio of the two should be such that the aromatic cross-linking agent is practically 1 mol or less per 1 mol of the phenolic hydroxyl group-containing compound, and is preferably 0.1 to 1 mol.
0.9 mole. When the amount of the aromatic crosslinking agent is less than 0.1 mol, the amount of the unreacted phenolic hydroxyl group-containing compound increases.

【0029】一般式(1)のアラルキル型エポキシ樹脂
の軟化点は、好ましくは50〜120℃、より好ましく
は60〜100℃である。軟化点が50℃より低いとエ
ポキシ樹脂組成物の耐ブロッキング性の改良効果が小さ
く、120℃より高いと粘度上昇により無機充填材を高
充填化できない。
The softening point of the aralkyl epoxy resin of the general formula (1) is preferably from 50 to 120 ° C., more preferably from 60 to 100 ° C. When the softening point is lower than 50 ° C., the effect of improving the blocking resistance of the epoxy resin composition is small, and when the softening point is higher than 120 ° C., the inorganic filler cannot be highly filled due to an increase in viscosity.

【0030】本発明のエポキシ樹脂組成物において、ア
ラルキル型エポキシ樹脂の含有率は、全エポキシ樹脂成
分中、10〜90重量%、好ましくは30〜70重量%
である。アラルキル型エポキシ樹脂の含有率が10重量
%より少ないとエポキシ樹脂組成物の耐ブロッキング性
の改良効果が小さく、90重量%を超えると粘度上昇に
より無機充填材の充填率を高くできない。
In the epoxy resin composition of the present invention, the content of the aralkyl type epoxy resin is 10 to 90% by weight, preferably 30 to 70% by weight, based on all epoxy resin components.
It is. If the content of the aralkyl type epoxy resin is less than 10% by weight, the effect of improving the blocking resistance of the epoxy resin composition is small, and if it exceeds 90% by weight, the filling rate of the inorganic filler cannot be increased due to the increase in viscosity.

【0031】また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、
本発明の必須成分として用いられる低粘度エポキシ樹脂
及びアラルキル型エポキシ樹脂以外に、分子中にエポキ
シ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂を併用するこ
ともできる。このようなエポキシ樹脂としては、例えば
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノー
ル、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾル
シン等の2価のフェノール類、トリス−(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4
−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラッ
ク、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノー
ル類、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビ
スフェノール類からそれぞれ誘導されるグリシジルエー
テル化物などが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は単
独でもよいし、2種以上を併用してもよい。
Further, the epoxy resin composition of the present invention comprises:
In addition to the low-viscosity epoxy resin and the aralkyl-type epoxy resin used as essential components of the present invention, a general epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule can be used in combination. Examples of such an epoxy resin include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, and tris- (4 -Hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4
-Hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak and the like, phenols having three or more valences, and glycidyl ether compounds each derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A and the like. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

【0032】本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化剤とし
ては、特に制限はなく、従来より公知のエポキシ樹脂硬
化剤を用いることができるが、好ましくは多価フェノー
ル性化合物である。多価フェノール性化合物としては、
エポキシ樹脂硬化剤として公知のものを使用できる他、
アラルキル型構造を有する多価フェノール性化合物を使
用することができる。アラルキル型構造を有する多価フ
ェノール性化合物は、アルキル置換若しくは未置換のベ
ンゼン環又はナフタレン環を有する多価フェノール性水
酸基含有化合物と特定の芳香族架橋剤とを反応させるこ
とにより合成できる。
The curing agent for the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known epoxy resin curing agent can be used, and is preferably a polyhydric phenolic compound. As polyhydric phenolic compounds,
In addition to those known as epoxy resin curing agents,
Polyhydric phenolic compounds having an aralkyl-type structure can be used. The polyhydric phenolic compound having an aralkyl-type structure can be synthesized by reacting a polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compound having an alkyl-substituted or unsubstituted benzene ring or naphthalene ring with a specific aromatic crosslinking agent.

【0033】この多価フェノール性水酸基含有化合物と
しては、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、
ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,
4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイド
ロキノン、レゾルシン、カテコール、ナフタレンジオー
ル類等の2価のフェノール類や、トリス−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス
(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラ
ック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラッ
ク、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフ
ェノール類や、さらにフェノール類、ナフトール類又は
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノー
ル、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾル
シン、カテコール、ナフタレンジオール類等の2価のフ
ェノール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベ
ンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p
−キシリレングリコール、p−キシリレングリコールジ
メチルエーテル、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニル
ベンゼン、ジメトキシメチルビフェニル類、ジビニルビ
フェニル、ジイソプロペニルビフェニル類等の架橋剤と
の反応により合成される多価フェノール性化合物などが
挙げられる。これらの硬化剤は単独でもよいし、2種以
上を併用してもよい。
The polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compound includes, for example, bisphenol A, bisphenol F,
Bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,
Divalent phenols such as 4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, naphthalene diols, and tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis ( 4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, tri- or more phenols represented by polyvinylphenol, and further phenols, naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene Bivalent phenols such as bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, naphthalene diol and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydrido Roxybenzaldehyde, p
-Xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, divinylbenzene, diisopropenylbenzene, dimethoxymethylbiphenyls, divinylbiphenyl, polyhydric phenolic compounds synthesized by reaction with diisopropenylbiphenyls, etc. Is mentioned. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0034】硬化剤としての多価フェノール性化合物の
軟化点は、好ましくは40〜150℃、より好ましくは
50〜120℃である。多価フェノール性化合物の軟化
点が40℃より低いと保存時のブロッキングの問題があ
り、150℃を超えるとエポキシ樹脂組成物調製時の混
練性と成形性に問題がある。また、150℃における溶
融粘度は、好ましくは20ポイズ以下、より好ましくは
5ポイズ以下である。これより高いとエポキシ樹脂組成
物調製時の混練性及び成形性に問題がある。
The softening point of the polyhydric phenol compound as a curing agent is preferably from 40 to 150 ° C., more preferably from 50 to 120 ° C. If the softening point of the polyhydric phenolic compound is lower than 40 ° C., there is a problem of blocking during storage, and if it exceeds 150 ° C., there is a problem in kneading properties and moldability in preparing the epoxy resin composition. The melt viscosity at 150 ° C. is preferably 20 poise or less, more preferably 5 poise or less. If it is higher than this, there is a problem in kneadability and moldability during preparation of the epoxy resin composition.

【0035】本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充
填材として、例えばシリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸
カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ
素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステア
タイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体又はこ
れらを球形化したビーズ等の1種又は2種以上を配合す
る。無機充填材の高充填化には、球状の溶融シリカが好
適に使用される。また、シリカは、数種類の粒径分布を
持ったものを組み合わせて使用される。組み合わせるシ
リカの平均粒径は、0.5〜100μmがよい。これら
の無機充填材の配合量は、70重量%以上が好ましく、
さらに好ましくは80重量%以上である。無機充填材が
70重量%より少ないとはんだ耐熱性の向上効果が小さ
い。
In the epoxy resin composition of the present invention, as an inorganic filler, for example, silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, One or two or more kinds of powders such as mullite and titania or spherical beads thereof are mixed. For high packing of the inorganic filler, spherical fused silica is preferably used. Further, silica having several kinds of particle size distributions is used in combination. The average particle size of the silica to be combined is preferably 0.5 to 100 μm. The compounding amount of these inorganic fillers is preferably 70% by weight or more,
It is more preferably at least 80% by weight. If the amount of the inorganic filler is less than 70% by weight, the effect of improving the solder heat resistance is small.

【0036】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物に
は、従来より公知の硬化促進剤を配合することができ
る。このような硬化促進剤としては、例えばアミン類、
イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸などがあ
り、具体的には1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメ
チルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエ
タノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール
等の三級アミンや、2−メチルイミダゾール、2−フェ
ニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾ
ール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール
類や、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフ
イン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィ
ン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類や、テト
ラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テ
トラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレー
ト、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレート
等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2
−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボ
レート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレー
ト等のテトラフェニルボロン塩などが挙げられる。通
常、その配合量はエポキシ樹脂100重量部に対し、
0.2〜10重量部である。
Further, the epoxy resin composition of the present invention may contain a conventionally known curing accelerator. Examples of such a curing accelerator include amines,
There are imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., and specifically, 1,8-diazabicyclo (5,4,0)
Tertiary amines such as undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl Imidazoles such as imidazole and 2-heptadecyl imidazole; organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine; tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate; tetraphenylphosphonium / ethyl Tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borate such as triphenyl borate, tetrabutyl phosphonium / tetrabutyl borate, 2
And tetraphenylboron salts such as -ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate and N-methylmorpholine / tetraphenylborate. Usually, the compounding amount is based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
0.2 to 10 parts by weight.

【0037】さらにまた、本発明のエポキシ樹脂組成物
には、成形時の流動性改良及びリードフレーム等との密
着性向上の観点より、熱可塑性のオリゴマー類を配合す
ることができる。熱可塑性のオリゴマー類としては、例
えばC5 系及びC9 系の石油樹脂、スチレン樹脂、イン
デン樹脂、インデン・スチレン共重合樹脂、インデン・
スチレン・フェノール共重合樹脂、インデン・クマロン
共重合樹脂、インデン・ベンゾチオフェン共重合樹脂な
どが挙げられ、その配合量はエポキシ樹脂100重量部
に対し2〜30重量部である。
The epoxy resin composition of the present invention may further contain a thermoplastic oligomer from the viewpoint of improving the fluidity during molding and improving the adhesion to a lead frame or the like. The thermoplastic oligomers, for example, C 5 system and the C 9 based petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene-styrene copolymer resin, indene
Styrene / phenol copolymer resin, indene / coumarone copolymer resin, indene / benzothiophene copolymer resin, and the like are included, and the blending amount is 2 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

【0038】さらに必要に応じて、本発明のエポキシ樹
脂組成物には、例えば、臭素化エポキシ等の難燃剤、カ
ルナバワックス、エステル系ワックス等の離型剤、エポ
キシシラン、アミノシラン、ウレイドシラン、ビニルシ
ラン、アルキルシラン、有機チタネート、アルミニウム
アルコレート等のカップリング剤、カーボンブラック等
の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、シリコンオ
イル等の低応力化剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩等
の滑剤などを配合することができる。
If necessary, the epoxy resin composition of the present invention may further contain, for example, a flame retardant such as a brominated epoxy, a release agent such as carnauba wax or an ester wax, an epoxy silane, an amino silane, an ureido silane, or a vinyl silane. , Coupling agents such as alkyl silanes, organic titanates and aluminum alcoholates, coloring agents such as carbon black, flame retardant aids such as antimony trioxide, low stress agents such as silicone oil, higher fatty acids, higher fatty acid metal salts, etc. And the like.

【0039】通常、本発明のエポキシ樹脂組成物は、所
定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した
のち、ミキシングロール、押出機等によって混練し、冷
却、粉砕することによって、成形材料とすることができ
る。
Usually, the epoxy resin composition of the present invention is obtained by sufficiently mixing raw materials of a predetermined blending amount by a mixer or the like, kneading them by a mixing roll, an extruder, etc., cooling and pulverizing to obtain a molding material. be able to.

【0040】本発明で得られる成形材料を用いて、電子
部品を封止する方法としては、低圧トランスファー成形
法が最も一般的であるが、射出成形法、圧縮成形法によ
っても可能である。
As a method for sealing an electronic component using the molding material obtained in the present invention, a low pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method or a compression molding method is also possible.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に具体的に説明する。 実施例1〜6、比較例1〜5 下記に示すエポキシ樹脂成分、硬化剤、難燃剤及び無機
充填材と、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、
シランカップリング剤としてγ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン並びにその他の表1に示す添加剤を用い、
表1に示す配合割合で混練してエポキシ樹脂組成物を調
製した。なお、表1中の数値は重量部で示されている。
The present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 5 The following epoxy resin components, curing agents, flame retardants and inorganic fillers, and triphenylphosphine as a curing accelerator,
Using γ-aminopropyltriethoxysilane as a silane coupling agent and other additives shown in Table 1,
An epoxy resin composition was prepared by kneading at the mixing ratio shown in Table 1. The numerical values in Table 1 are shown in parts by weight.

【0042】エポキシ樹脂A:3,3’,5,5’−テ
トラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン
のエポキシ化物 (新日鐵化学製、ESLV−80X
Y;エポキシ当量193、加水分解性塩素250pp
m、融点78℃、150℃での溶融粘度0.08ポイ
ズ) エポキシ樹脂B:2,2’,3,3’,5,5’−ヘキ
サメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンの
エポキシ化物 (新日鐵化学製、GK−8001;エポ
キシ当量209、加水分解性塩素250ppm、融点1
15℃、150℃での溶融粘度0.18ポイズ) エポキシ樹脂C:1,4−ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシクミル)ベンゼンのエポキシ化物 (新日鐵化学
製、ESLV−90CR;エポキシ当量256、加水分
解性塩素660ppm、融点90℃、150℃での溶融
粘度0.19ポイズ) エポキシ樹脂D:2,2’−ジメチル−5,5’−ジタ
ーシャリーブチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニル
スルフィドのエポキシ化物 (新日鐵化学製、ESLV
−120TE;エポキシ当量251、加水分解性塩素3
80ppm、融点108℃、150℃での溶融粘度0.
14ポイズ) エポキシ樹脂E: 4,4’−ジヒドロキシジフェニル
エーテルのエポキシ化物 (新日鐵化学製、ESLV−
80DE;エポキシ当量174、加水分解性塩素350
ppm、融点78℃、150℃での溶融粘度0.06ポ
イズ) エポキシ樹脂F:3,3’,5,5’−テトラメチル−
4,4’−ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化物
(油化シェルエポキシ製、YX4000HK;エポキシ
当量195、加水分解性塩素450ppm、融点105
℃、150℃での溶融粘度0.11ポイズ) エポキシ樹脂G:2−ナフトールアラルキル型エポキシ
樹脂 (新日鐵化学製、ESN−185;エポキシ当量
280、加水分解性塩素200ppm、軟化点85℃、
150℃での溶融粘度4.6ポイズ) エポキシ樹脂H:o−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂 (日本化薬製、EOCN−1020−55;エポ
キシ当量196、加水分解性塩素400ppm、軟化点
55℃、150℃での溶融粘度0.98ポイズ) エポキシ樹脂I:o−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂 (日本化薬製、EOCN−1020−70;エポ
キシ当量200、加水分解性塩素400ppm、軟化点
70℃、150℃での溶融粘度3.4ポイズ)
Epoxy resin A: Epoxidized product of 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane (ESLV-80X manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
Y: epoxy equivalent 193, hydrolyzable chlorine 250 pp
m, melting point 78 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.08 poise) Epoxy resin B: epoxidized 2,2 ′, 3,3 ′, 5,5′-hexamethyl-4,4′-dihydroxydiphenylmethane (new Nippon Steel Chemical, GK-8001; epoxy equivalent 209, hydrolyzable chlorine 250 ppm, melting point 1
Epoxy resin C: Epoxidized product of 1,4-bis (3-methyl-4-hydroxycumyl) benzene (ESLV-90CR; manufactured by Nippon Steel Chemical; epoxy) Equivalent: 256, hydrolyzable chlorine: 660 ppm, melting point: 90 ° C., melt viscosity at 150 ° C .: 0.19 poise) Epoxy resin D: 2,2′-dimethyl-5,5′-ditert-butyl-4,4′-dihydroxy Epoxy compound of diphenyl sulfide (Nippon Steel Chemical, ESLV
-120TE; epoxy equivalent 251, hydrolyzable chlorine 3
80 ppm, melting point 108 ° C, melt viscosity at 150 ° C
Epoxy resin E: Epoxidized product of 4,4'-dihydroxydiphenyl ether (ESLV-, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
80DE; epoxy equivalent 174, hydrolyzable chlorine 350
ppm, melting point 78 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.06 poise) Epoxy resin F: 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-
Epoxidized 4,4'-dihydroxybiphenyl
(YX4000HK, manufactured by Yuka Shell Epoxy; epoxy equivalent: 195, hydrolyzable chlorine: 450 ppm, melting point: 105
Epoxy resin G: 2-naphthol aralkyl type epoxy resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., ESN-185; epoxy equivalent 280, hydrolyzable chlorine 200 ppm, softening point 85 ° C,
Melt viscosity at 150 ° C. 4.6 poise) Epoxy resin H: o-cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku, EOCN-1020-55; epoxy equivalent 196, hydrolyzable chlorine 400 ppm, softening point 55 ° C., 150) Epoxy resin I: o-cresol novolak type epoxy resin (EOCN-1020-70, manufactured by Nippon Kayaku; epoxy equivalent 200, hydrolyzable chlorine 400 ppm, softening point 70 ° C, 150 ° C) (Melt viscosity of 3.4 poise)

【0043】硬化剤A:フェノールノボラック (群栄
化学製、PSM−4261;OH当量103、軟化点8
2℃) 硬化剤B:フェノールアラルキル型樹脂 (三井東圧
製、XL−225−LL;OH当量174、軟化点75
℃) 臭素化エポキシA:ノボラック型臭素化エポキシ (日
本化薬製、BREN−S;エポキシ当量284、加水分
解性塩素600ppm、軟化点84℃) シリカA:球状シリカ(平均粒径30μm) シリカB:球状シリカ(平均粒径16μm) シリカC:球状シリカ(平均粒径0.6μm)
Curing agent A: phenol novolak (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PSM-4261; OH equivalent: 103, softening point: 8)
Curing agent B: Phenol aralkyl type resin (manufactured by Mitsui Toatsu, XL-225-LL; OH equivalent 174, softening point 75)
° C) Brominated epoxy A: Novolac type brominated epoxy (BREN-S, manufactured by Nippon Kayaku; epoxy equivalent: 284, hydrolyzable chlorine: 600 ppm, softening point: 84 ° C) Silica A: spherical silica (average particle size: 30 µm) Silica B : Spherical silica (average particle size: 16 μm) Silica C: Spherical silica (average particle size: 0.6 μm)

【0044】次に、これらのエポキシ樹脂組成物を17
5℃で成形し、175℃で12時間ポストキュアを行
い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。ガ
ラス転移点は熱機械測定装置により昇温速度10℃/分
の条件で求めた。また、吸水率はエポキシ樹脂組成物を
用いて直径50mm、厚さ3mmの円盤を成形し、ポス
トキュアした後85℃、85%RHの条件で24時間及
び100時間吸湿させたときのものである。クラック発
生率はQFP−80pin(14×20×2.5mm
t)を成形し、ポストキュア後、吸水率と同条件の85
℃、85%RHの条件で所定の時間吸湿させた後、26
0℃のはんだ浴に10秒間浸漬させた後、パッケージの
状態を観察し求めた。ブロッキング性は、微粉砕したエ
ポキシ樹脂組成物を25℃で24時間放置後、凝集した
組成物の重量割合とした。各種物性の測定結果を表2に
示す。
Next, these epoxy resin compositions were mixed with 17
After molding at 5 ° C. and post-curing at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, it was subjected to various physical property measurements. The glass transition point was determined by a thermomechanical measuring device at a heating rate of 10 ° C./min. The water absorption was measured when a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was formed using an epoxy resin composition, post-cured, and allowed to absorb moisture at 85 ° C. and 85% RH for 24 hours and 100 hours. . Crack generation rate is QFP-80pin (14 × 20 × 2.5mm
t) is molded and post-cured, and then subjected to the same condition as the water absorption rate of 85.
After absorbing moisture for a predetermined time under the condition of 85 ° C. and 85% RH,
After being immersed in a solder bath at 0 ° C. for 10 seconds, the state of the package was observed and determined. The blocking property was defined as the weight ratio of the agglomerated composition after the pulverized epoxy resin composition was left at 25 ° C. for 24 hours. Table 2 shows the measurement results of various physical properties.

【0045】表2から、本発明で規定した条件を満たす
実施例1〜6は全て耐ブロッキング性に優れるととも
に、速硬化性、流動性等の成形性に優れ、かつ機械的強
度、耐熱性、低吸湿性、耐クラック性等に優れた硬化物
を与えることがわかる。一方、本発明で規定した条件を
満たしていない比較例1〜5は実施例ほど前述の特性全
てが優れてはいない。すなわち、比較例1及び2では、
アラルキル型エポキシ樹脂を含有していないため、耐ブ
ロッキング性が実施例に比べて低下している。比較例3
及び4では、150℃での溶融粘度0.3ポイズ以下の
低粘度エポキシ樹脂を含有していないため、エポキシ樹
脂組成物の流動性が実施例に比べて低下しており、無機
充填材の高充填に不適である。比較例5では、アラルキ
ル型エポキシ樹脂を含有していないため、耐ブロッキン
グ性が実施例に比べて低下しており、また硬化物の耐ク
ラック性が実施例に比べて低下している。
From Table 2, it can be seen that Examples 1 to 6 satisfying the conditions specified in the present invention are all excellent in blocking resistance, excellent in moldability such as rapid curability and fluidity, and have good mechanical strength, heat resistance, It can be seen that a cured product excellent in low moisture absorption, crack resistance and the like is provided. On the other hand, Comparative Examples 1 to 5, which do not satisfy the conditions defined in the present invention, do not have all of the above-mentioned characteristics as excellent as Examples. That is, in Comparative Examples 1 and 2,
Since it does not contain an aralkyl-type epoxy resin, the blocking resistance is lower than that of the examples. Comparative Example 3
In Examples 4 and 4, since the low-viscosity epoxy resin having a melt viscosity at 150 ° C. of 0.3 poise or less was not contained, the fluidity of the epoxy resin composition was lower than that of the examples, and the inorganic filler had a high viscosity. Not suitable for filling. In Comparative Example 5, since no aralkyl-type epoxy resin was contained, the blocking resistance was lower than in the examples, and the crack resistance of the cured product was lower than in the examples.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、速硬化
性、流動性等の成形性に優れるとともに、組成物として
の耐ブロッキング性も良好であり、かつ機械的強度、耐
熱性、低吸湿性、耐クラック性等に優れた硬化物を与
え、半導体素子等の電子部品の封止に応用した場合、耐
クラック性が大幅に改善し、優れたはんだ耐熱性を示
す。
The epoxy resin composition of the present invention is excellent in moldability such as rapid curability and fluidity, has good blocking resistance as a composition, and has mechanical strength, heat resistance and low moisture absorption. When a cured product excellent in heat resistance and crack resistance is provided and applied to encapsulation of electronic components such as semiconductor elements, crack resistance is greatly improved and excellent solder heat resistance is exhibited.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材よ
りなるエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分
として、150℃での溶融粘度が0.3ポイズ以下の低
粘度エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂成分中10〜90重
量%、下記一般式(1)で表されるアラルキル型エポキ
シ樹脂を全エポキシ樹脂成分中90〜10重量%含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中、Aは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素
基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環
を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子
又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、mは1
又は2の整数、nは1〜15の数を示す)
1. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein, as the epoxy resin component, a low-viscosity epoxy resin having a melt viscosity at 150 ° C. of 0.3 poise or less is contained in all epoxy resin components. An epoxy resin composition containing 10 to 90% by weight, and 90 to 10% by weight of an aralkyl type epoxy resin represented by the following general formula (1) in all epoxy resin components. Embedded image (In the formula, A represents a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted simultaneously or separately with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or methyl which may be the same or different. G represents a glycidyl group, and m represents 1
Or an integer of 2 and n represents a number of 1 to 15)
【請求項2】 エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材よ
りなるエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分
として、下記一般式(3)で表されるビスフェノール型
エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂成分中10〜90重量
%、下記一般式(1)で表されるアラルキル型エポキシ
樹脂を全エポキシ樹脂成分中90〜10重量%含有する
ことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 【化2】 (式中、R8 、R9 、R10は同一又は異なってもよい水
素原子又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、
qは0〜15の数を示す) 【化3】 (式中、Aは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素
基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環
を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子
又はメチル基を示し、Gはグリシジル基を示し、mは1
又は2の整数、nは1〜15の数を示す)
2. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein a bisphenol type epoxy resin represented by the following general formula (3) is used as an epoxy resin component in an amount of 10 to 90 in all epoxy resin components. An epoxy resin composition characterized by containing 90 to 10% by weight of an aralkyl-type epoxy resin represented by the following general formula (1) in all epoxy resin components. Embedded image (Wherein, R 8 , R 9 and R 10 represent a hydrogen atom or a methyl group which may be the same or different, G represents a glycidyl group,
q represents a number from 0 to 15) (In the formula, A represents a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted simultaneously or separately with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or methyl which may be the same or different. G represents a glycidyl group, and m represents 1
Or an integer of 2 and n represents a number of 1 to 15)
【請求項3】 硬化剤が、軟化点40〜150℃の多価
フェノール性化合物てある請求項1又は2記載のエポキ
シ樹脂組成物。
3. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the curing agent is a polyhydric phenolic compound having a softening point of 40 to 150 ° C.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のエポキ
シ樹脂組成物の硬化物で封止されてなる電子部品。
4. An electronic component sealed with a cured product of the epoxy resin composition according to claim 1.
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