JPH11152594A - Tin and tin alloy plating bath and preparation of the same - Google Patents

Tin and tin alloy plating bath and preparation of the same

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JPH11152594A
JPH11152594A JP9336391A JP33639197A JPH11152594A JP H11152594 A JPH11152594 A JP H11152594A JP 9336391 A JP9336391 A JP 9336391A JP 33639197 A JP33639197 A JP 33639197A JP H11152594 A JPH11152594 A JP H11152594A
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JP
Japan
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tin
acid
plating bath
salt
alloy plating
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Application number
JP9336391A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiki Tsuji
清貴 辻
Takao Takeuchi
孝夫 武内
Masakazu Yoshimoto
雅一 吉本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiwa Kasei Kenkyusho KK
Ishihara Chemical Co Ltd
Original Assignee
Daiwa Kasei Kenkyusho KK
Ishihara Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/114Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1146Plating
    • H01L2224/11462Electroplating

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stabilize the transparency of a plating bath with the elapse of time by incorporating a soluble salt composed of one of a stannous salt and a mixture of the stannous salt with a metallic salt such as lead, one or more kinds of acids among organic acids and inorganic acids and one ore more kinds of antioxidants. SOLUTION: As the antioxidant contained in a tin and a tin alloy plating bath, phenols expressed by the formula are exemplified. In the formula, R is SO3 X (X is hydrogen, a metal such as Na, K and Ca, NH4 or the like), COOY (Y is hydrogen, a metal such as Na, K and Ca), CH3 , OCH3 , CH2 OH, CH2 CH2 OH, NH2 and a halogen, (n) is integer of 1-4 and (m) is integer of 1-2. Wherein, when m=2, R is substituents same as or different from each other. When n=1 and m=1, R is a group except SO3 H. When n=1 and m=2, R is a group except the combination of SO3 H with CH3 . When n=2 and m=1, R is a group except SO3 X.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電気メッキ用のスズ
及びスズ合金メッキ浴、並びにその調製方法に関し、新
規の酸化防止剤、或は凝集促進剤により、浴中の酸化第
二スズの発生を抑制するとともに、浴の長期使用で酸化
第二スズの懸濁粒子が生じた場合でも、当該微粒子の凝
集を促進して濾過機で有効に除去できるメッキ浴を提供
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a tin and tin alloy plating bath for electroplating and a method for preparing the same. The present invention relates to a novel antioxidant or a coagulation accelerator for controlling the generation of stannic oxide in the bath. The present invention provides a plating bath capable of promoting aggregation of the fine particles and effectively removing the fine particles even if suspended particles of stannic oxide are generated by long-term use of the bath.

【0002】[0002]

【発明の背景】近年、スズメッキ浴又はスズ−鉛合金な
どのスズ合金メッキ浴は半田付け性を向上させるための
皮膜として、半導体デバイス、コネクター、チップ部品
等の電子部品の表面処理用として広範に利用されてい
る。当該スズ又はスズ合金メッキ浴の分野では、塩酸、
硫酸、ホウフッ化水素酸などの無機酸や、有機スルホン
酸、脂肪族カルボン酸などの有機酸をベースとするメッ
キ浴が用いられているが、中でも、排水処理性が良く、
メッキ浴の腐食性が低いなどの理由からアルカンスルホ
ン酸、アルカノールスルホン酸などの有機スルホン酸を
ベースとするメッキ浴が広く普及している。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, tin plating baths or tin alloy plating baths such as tin-lead alloys have been widely used as coatings for improving solderability and for surface treatment of electronic components such as semiconductor devices, connectors and chip components. It's being used. In the field of the tin or tin alloy plating bath, hydrochloric acid,
Sulfuric acid, plating baths based on inorganic acids such as hydrofluoric acid, and organic acids such as organic sulfonic acids and aliphatic carboxylic acids are used.
BACKGROUND ART Plating baths based on organic sulfonic acids such as alkanesulfonic acids and alkanolsulfonic acids are widely used because of their low corrosiveness.

【0003】しかしながら、このようなスズ又はスズ合
金メッキ浴では、一般に、長期使用するに連れて浴中の
第一スズイオンが空気中の酸素による酸化や陽極酸化を
受けて第二スズイオンに変化し、さらにこのイオンが加
水分解して酸化第二スズの微粒子が発生してしまう。こ
の酸化第二スズの微粒子の粒子径は0.1μm〜数μm
の範囲で分布しているため、当該粒子はメッキ浴中に沈
降せずに懸濁粒子となって分散し、メッキ浴の透明度は
著しく低下する。
However, in such a tin or tin alloy plating bath, in general, stannous ions in the bath undergo oxidation or anodic oxidation by oxygen in the air and become stannic ions as the bath is used for a long time. Further, the ions are hydrolyzed to generate stannic oxide fine particles. The particle diameter of the stannic oxide fine particles is 0.1 μm to several μm.
, The particles are dispersed as suspended particles without settling in the plating bath, and the transparency of the plating bath is significantly reduced.

【0004】通常、メッキ装置にはメッキ浴に混入した
異物を除去する等の目的で濾過機が付設されており、メ
ッキ浴を連続的に濾過している。しかし、濾過に使用さ
れるフィルターは圧損、メンテナンスの容易性、或はコ
スト等の制約から、そのポアサイズは数μm〜数十μm
のものが使用されるため、フィルターのポアサイズより
メッキ浴中に懸濁している上記酸化第二スズの微粒子の
方が微細となり、濾過機で当該微粒子を捕捉して除去す
ることはほとんど困難であった。
[0004] Usually, a filtering device is attached to the plating apparatus for the purpose of removing foreign substances mixed in the plating bath, and the plating bath is continuously filtered. However, the pore size of the filter used for filtration is several μm to several tens μm due to pressure loss, easiness of maintenance, or restrictions such as cost.
The fine particles of the stannic oxide suspended in the plating bath are finer than the pore size of the filter, and it is almost difficult to capture and remove the fine particles with a filter. Was.

【0005】一方、スズ又はスズ合金メッキ浴中に発生
する酸化第二スズの微粒子はその表面に多くの水分子を
吸着していると考えられるため、当該微粒子の存在下で
スズ又はスズ合金メッキを施すと、電着皮膜中には多く
の水分子を吸着した酸化第二スズの粒子が共析すること
になる。このように、酸化第二スズと共に多くの水分子
がメッキ皮膜中に含まれると、メッキが施された部品を
半田付けするときの熱により、水が気化して大きく体積
膨張するため、半田接合部にボイド(気泡)が発生すると
いう問題が出て来る。
On the other hand, fine particles of stannic oxide generated in a tin or tin alloy plating bath are considered to have many water molecules adsorbed on the surface thereof. Is applied, stannic oxide particles adsorbing many water molecules are eutectoid in the electrodeposition film. As described above, when many water molecules are contained in the plating film together with stannic oxide, water is vaporized due to heat generated when the plated component is soldered, and the volume expands greatly. There is a problem that voids (bubbles) occur in the part.

【0006】因みに、最近では電子部品は年々小型化し
て、半田付けにより接合される面積も微細化して来てい
るため、接合部における接合強度の信頼性の確保が強く
求められているが、上述のようなボイドが生じると、接
合強度の信頼性を著しく損なうことになる。このため、
スズ又はスズ合金メッキ浴においては、長期使用で発生
する酸化第二スズを円滑に除去することが重要な課題と
なっている。
In recent years, since electronic components have been miniaturized year by year and the area to be joined by soldering has also been miniaturized, it has been strongly required to ensure the reliability of the joining strength at the joining portion. When such voids occur, the reliability of the bonding strength is significantly impaired. For this reason,
In a tin or tin alloy plating bath, it is an important issue to remove stannic oxide generated during long-term use.

【0007】[0007]

【従来の技術】スズの電気メッキ浴の従来技術1として
は、特開昭56−116894号公報に、メッキ浴の導
電性を高め、従来の酸性或はアルカリ性浴に比べて排水
処理が容易であるなどの理由からピロリン酸の中性メッ
キ浴をベースにして、これに二価のスズの酸化を防止す
るなどの目的で、ヒドラジン、次亜リン酸、亜リン酸、
アスコルビン酸又はこれらの塩などを添加するスズメッ
キ浴が開示されている。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Laid-Open Publication No. Sho 56-116894 discloses a conventional electroplating bath for tin, in which the conductivity of the plating bath is increased, and the drainage treatment is easier than that of a conventional acidic or alkaline bath. Hydrazine, hypophosphorous acid, phosphorous acid, etc. for the purpose of preventing oxidation of divalent tin to this based on neutral plating bath of pyrophosphoric acid
A tin plating bath to which ascorbic acid or a salt thereof is added is disclosed.

【0008】また、スズ−鉛合金の電気メッキ浴の従来
技術2としては、特開昭59−193296号公報に、
塩化第一スズ、酢酸鉛及び塩酸をベースにして、4価の
スズを2価に還元する還元剤として二塩化ヒドラジン、
或はハイドロキノン、次亜リン酸などを添加するスズ−
鉛合金メッキ浴が開示されている。
Further, as a prior art 2 of a tin-lead alloy electroplating bath, JP-A-59-193296 describes
Hydrazine dichloride as a reducing agent for reducing tetravalent tin to divalent based on stannous chloride, lead acetate and hydrochloric acid,
Or tin added with hydroquinone, hypophosphorous acid, etc.
A lead alloy plating bath is disclosed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術1又は2
は、共にハイドロキノンや次亜リン酸などの酸化防止剤
(或は還元剤)をメッキ浴に添加することにより、電気メ
ッキ浴中の第一スズイオン(Sn2+)の酸化防止を意図し
たものであるが、これらの公知の酸化防止剤などでは、
第一スズイオンの酸化速度をある程度遅延させる効果は
あるが、使用期間が2〜3カ月を経過する頃から酸化第
二スズの懸濁粒子が発生し、メッキ浴の透明度が失われ
る場合が多い。そして、一旦メッキ浴がこのような状態
に品質低下すると、前述のように濾過機での除去が困難
なことから、メッキ浴から得られる電着皮膜の接合強度
の信頼性を確保することもできなくなる。
The above prior art 1 or 2
Are both antioxidants such as hydroquinone and hypophosphorous acid
(Or a reducing agent) is added to the plating bath to prevent oxidation of stannous ions (Sn 2+ ) in the electroplating bath.
Although there is an effect of delaying the oxidation rate of stannous ions to some extent, suspended particles of stannic oxide are generated from about 2 to 3 months of use, and the transparency of the plating bath is often lost. Then, once the quality of the plating bath is reduced to such a state, it is difficult to remove the plating bath as described above, so that the reliability of the bonding strength of the electrodeposition film obtained from the plating bath can be secured. Disappears.

【0010】以上のように、スズ又はスズ合金の電気メ
ッキ浴では、酸化第二スズの微粒子はボイドの原因とな
るため、先ず、酸化第二スズの発生を有効に抑制し、そ
れと並行して、酸化第二スズの微粒子が発生した場合で
も、この微粒子を円滑に除去する措置を講じるのが現実
的である。本発明はこの方針に基づいて、スズ又はスズ
合金メッキ浴の透明度を経時的に安定化させることを技
術的課題とする。
As described above, in a tin or tin alloy electroplating bath, fine particles of stannic oxide cause voids. Therefore, first, the generation of stannic oxide is effectively suppressed, and at the same time, Even when fine particles of stannic oxide are generated, it is practical to take measures to smoothly remove the fine particles. An object of the present invention is to stabilize the transparency of a tin or tin alloy plating bath over time based on this policy.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、スズメッ
キ浴、或はスズ−鉛合金などのスズ合金メッキ浴中の第
一スズイオンの酸化を抑制することを研究するととも
に、その酸化物(即ち、酸化第二スズ)の浴中での挙動を
調べた。一般的に、スズメッキ浴又はスズ合金メッキ浴
中に生じる酸化第二スズの微粒子は極めて結晶成長又は
凝集しにくく、微細なまま存在しようとする性質を持っ
ている。そこで、本発明者らは、メッキ浴に酸化第二ス
ズの微粒子が発生してしまった場合には、この酸化第二
スズの微粒子の結晶成長を促進したり、微粒子同士を合
体凝集させて粒子径を大きくすることにより、濾過処理
でこれらの粒子を捕捉可能にしてメッキ浴から除去し、
もって浴の透明度を経時的に安定化させることを着想し
た。本出願人は、この着想に基づいて鋭意研究の結果、
特定のリン化合物が酸化第二スズの微粒子を凝集促進さ
れて粒子径を増大させることを突き止め、先に、特願平
9−165322号で提案した。
Means for Solving the Problems The present inventors have studied to suppress the oxidation of stannous ions in a tin plating bath or a tin alloy plating bath such as a tin-lead alloy, and have studied the oxides thereof. That is, the behavior of stannic oxide in a bath was examined. Generally, fine particles of stannic oxide generated in a tin plating bath or a tin alloy plating bath are extremely unlikely to grow or agglomerate, and have the property of existing as fine particles. Therefore, the present inventors have proposed that when stannic oxide fine particles are generated in a plating bath, the crystal growth of the stannic oxide fine particles is promoted or the fine particles are united and aggregated to form particles. By increasing the diameter, these particles can be trapped by filtration and removed from the plating bath,
The idea was to stabilize the clarity of the bath over time. The present applicant has conducted intensive research based on this idea,
It has been found that a specific phosphorus compound promotes agglomeration of stannic oxide fine particles to increase the particle diameter, and has previously been proposed in Japanese Patent Application No. 9-165322.

【0012】一方、本発明者らは、上述のように、スズ
メッキ浴、或はスズ合金メッキ浴中の第一スズイオンの
酸化を抑制するという第一課題の研究を進める過程で、
先ず、水酸基、及び水酸基以外の官能基を所定の位置に
所定の数だけ有する特定のフェノール類、ナフトール類
が酸化防止作用を有するだけではなく、前述の酸化第二
スズの凝集促進作用を兼備することを新たに見い出し
た。次いで、本発明者らは、前記先願の化合物とは異な
る特定の有機酸又はその塩、及び上記リン化合物の類縁
物が酸化第二スズの凝集促進作用に優れることを見い出
した。そして、これらの新規の酸化防止剤や凝集促進剤
の活用により、スズ、又はスズ合金メッキ浴の透明度の
経時安定化が達成できることを確認し、本発明を完成し
た。
On the other hand, as described above, the present inventors proceeded with research on the first problem of suppressing oxidation of stannous ions in a tin plating bath or a tin alloy plating bath,
First, specific phenols and naphthols having a predetermined number of hydroxyl groups and a functional group other than a hydroxyl group at a predetermined position not only have an antioxidant effect, but also have the above-described aggregation promoting effect of stannic oxide. I found something new. Next, the present inventors have found that a specific organic acid or a salt thereof different from the above-mentioned compound of the prior application, and an analog of the phosphorus compound are excellent in promoting the aggregation of stannic oxide. Then, it was confirmed that stabilization with time of the transparency of the tin or tin alloy plating bath could be achieved by utilizing these novel antioxidants and aggregation promoters, and the present invention was completed.

【0013】即ち、本発明1は、(A)第一スズ塩と、第
一スズ塩及び鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニ
ッケル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金
属の塩の混合物とのいずれかよりなる可溶性塩、(B)ア
ルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂肪族カ
ルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウフッ化
水素酸などの無機酸から選ばれた酸の少なくとも一種、
(C)下記の(1)〜(2)式に示す酸化防止剤の少なくとも一
種、
That is, the present invention relates to (A) a stannous salt and a salt of a stannous salt and a metal selected from lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony. And (B) alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, organic acids such as aliphatic carboxylic acids, or selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and borofluoric acid. At least one kind of acid,
(C) at least one antioxidant represented by the following formulas (1) and (2),

【化7】 (式(1)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n=1、m=1
の場合、RはSO3Hを除く;n=1、m=2の場合、
RはSO3HとCH3の組み合わせを除く;n=2、m=
1の場合、RはSO3Xを除く。)
Embedded image (In the formula (1), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2, is halogen; n is an integer of from 1 to 4; m is an integer of 1-2, provided that when the m = 2, R
Are the same or different substituents; n = 1, m = 1
R excludes SO 3 H; n = 1, m = 2;
R excludes the combination of SO 3 H and CH 3 ; n = 2, m =
If 1, R excludes SO 3 X. )

【化8】 (式(2)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n、m=1の場
合、RはSO3Hを除く。)を含有することを特徴とする
スズ及びスズ合金メッキ浴である。
Embedded image (In the formula (2), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2, is halogen; n is an integer of from 1 to 4; m is an integer of 1-2, provided that when the m = 2, R
Are the same or different substituents from each other; when n and m = 1, R excludes SO 3 H. ), Which is a tin and tin alloy plating bath.

【0014】本発明2は、上記本発明1において、(1)
式の酸化防止剤が下記の(3)〜(4)式で表される化合物の
少なくとも一種
The present invention 2 is the invention according to the above-mentioned invention 1, wherein (1)
The antioxidant of the formula is at least one of the compounds represented by the following formulas (3) to (4)

【化9】 (式(3)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)
Embedded image (In the formula (3), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. )

【化10】 (式(4)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)であることを特徴とする
ものである。
Embedded image (In the formula (4), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. ).

【0015】本発明3は、上記本発明1又は2におい
て、(2)式の酸化防止剤が下記の(5)〜(6)式で表される
化合物の少なくとも一種
The present invention 3 is the invention according to the above invention 1 or 2, wherein the antioxidant of the formula (2) is at least one of the compounds represented by the following formulas (5) to (6):

【化11】 (式(5)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)
Embedded image (In the formula (5), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. )

【化12】 (式(6)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)であることを特徴とする
ものである。
Embedded image (In the formula (6), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium or the like, NH 4 or the like), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium or the like, N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. ).

【0016】本発明4は、(A)第一スズ塩と、第一スズ
塩及び鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケ
ル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の
塩の混合物とのいずれかよりなる可溶性塩、(B)アルカ
ンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂肪族カルボ
ン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウフッ化水素
酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸、(C)
酒石酸、酒石酸ナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石
酸カリウム、酒石酸カルシウム、酒石酸マグネシウム、
ロッシェル塩などの酒石酸塩、リン酸一水素ナトリウ
ム、リン酸二水素アンモニウムなどのリン酸水素塩など
から選ばれた酸化第二スズ微粒子の凝集促進剤の少なく
とも一種を含有することを特徴とするスズ及びスズ合金
メッキ浴である。
The present invention provides a mixture of (A) a stannous salt and a salt of a stannous salt and a metal selected from lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony. And (B) at least one selected from organic acids such as alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, and aliphatic carboxylic acid, or at least one selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and borofluoric acid. Acid of (C)
Tartaric acid, sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium tartrate, calcium tartrate, magnesium tartrate,
Tin containing at least one coagulation accelerator for stannic oxide fine particles selected from tartrate such as Rochelle salt, sodium monohydrogen phosphate and hydrogen phosphate such as ammonium dihydrogen phosphate And a tin alloy plating bath.

【0017】本発明5は、上記本発明1〜4のいずれか
のメッキ浴に加えて、さらに界面活性剤を含有すること
を特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴である。
[0017] The present invention 5 is a tin and tin alloy plating bath characterized in that it further contains a surfactant in addition to the plating bath of any of the above-mentioned present inventions 1-4.

【0018】本発明6は、上記本発明1〜5のいずれか
のメッキ浴に加えて、さらに光沢剤を含有することを特
徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴である。
[0018] The present invention 6 is a tin and tin alloy plating bath characterized in that it further contains a brightener in addition to the plating bath of any of the above-mentioned present inventions 1 to 5.

【0019】本発明7は、上記本発明1〜6のいずれか
のメッキ浴に加えて、さらに半光沢剤を含有することを
特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴である。
[0019] The present invention 7 is a tin and tin alloy plating bath characterized by further containing a semi-brightening agent in addition to the plating bath of any of the above-mentioned present inventions 1 to 6.

【0020】本発明8は、上記本発明1〜3及び5〜7
のいずれかのメッキ浴において、酸化防止剤を酸、可溶
性金属塩、界面活性剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なく
ともいずれかに予め混入し、建浴時に当該混合物を残り
の浴構成成分と混合することを特徴とするスズ及びスズ
合金メッキ浴の調製方法である。
[0020] The present invention 8 includes the above-mentioned inventions 1 to 3 and 5 to 7
In any one of the plating baths, an antioxidant is preliminarily mixed with at least one of an acid, a soluble metal salt, a surfactant, a brightener, and a semi-brightener, and the mixture is added to the remaining bath components at the time of building bath. And a method for preparing a tin and tin alloy plating bath.

【0021】本発明9は、上記本発明4〜7のいずれか
のメッキ浴において、凝集促進剤を酸、可溶性金属塩、
界面活性剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なくともいずれ
かに予め混入し、建浴時に当該混合物を残りの浴構成成
分と混合することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ
浴の調製方法である。
According to a ninth aspect of the present invention, in the plating bath according to any one of the fourth to seventh aspects, the coagulation promoter is an acid, a soluble metal salt,
A method for preparing a tin and tin alloy plating bath, characterized in that the mixture is previously mixed with at least one of a surfactant, a brightener, or a semi-brightener, and that the mixture is mixed with the remaining bath components at the time of bathing. is there.

【0022】本発明10は、上記本発明1〜3のいずれ
かの酸化防止剤をスズ塩の濃厚水溶液に添加し、当該水
溶液中の第一スズイオンの酸化を抑制することを特徴と
するスズ及びスズ合金メッキ浴用スズ塩水溶液の貯蔵方
法である。
A tenth aspect of the present invention provides a tin and tin antioxidant according to any one of the first to third aspects, wherein the antioxidant is added to a concentrated aqueous solution of a tin salt to suppress oxidation of stannous ions in the aqueous solution. This is a method for storing a tin salt aqueous solution for a tin alloy plating bath.

【0023】本発明11は、カテコール、ヒドロキノ
ン、レゾルシン、ピロガロール、フロログルシン、フェ
ノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、カテコール
スルホン酸、ヒドロキノンスルホン酸、ナフトールスル
ホン酸、アスコルビン酸、或はこれらの塩などから選ば
れた酸化防止剤の少なくとも一種をスズ塩の濃厚水溶液
に添加し、当該水溶液中の第一スズイオンの酸化を抑制
することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴用スズ
塩水溶液の貯蔵方法である。
The present invention 11 is selected from catechol, hydroquinone, resorcin, pyrogallol, phloroglucin, phenolsulfonic acid, cresolsulfonic acid, catecholsulfonic acid, hydroquinonesulfonic acid, naphtholsulfonic acid, ascorbic acid, and salts thereof. A method for storing a tin salt aqueous solution for a tin and tin alloy plating bath, characterized in that at least one antioxidant is added to a concentrated aqueous solution of a tin salt to suppress oxidation of stannous ions in the aqueous solution.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】上記本発明1の酸化防止剤は、一
般には、上記(1)式の特定フェノール類と(2)式の特定ナ
フトール類で表され、(1)式のフェノール類は、例え
ば、(3)式で表される1個の置換基を有するカテコール
類や、(4)式で表される1個の置換基を有するピロガロ
ール類が挙げられる。また、(2)式の2価ナフトール類
としては(5)式で表される6位に置換基を有する2,3−
ジヒドロキシナフタレンや、(6)式で表される5位に置
換基を有する2,3−ジヒドロキシナフタレンが好まし
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The antioxidant of the present invention 1 is generally represented by the above-mentioned specific phenols of the formula (1) and the specific naphthols of the formula (2). Examples thereof include catechols having one substituent represented by the formula (3) and pyrogallols having one substituent represented by the formula (4). Further, the divalent naphthols of the formula (2) include 2,3-having a substituent at the 6-position represented by the formula (5).
Dihydroxynaphthalene and 2,3-dihydroxynaphthalene having a substituent at the 5-position represented by the formula (6) are preferable.

【0025】上記(3)式のカテコール類の具体例は、次
の通りである。 3,4−ジヒドロキシ安息香酸(下記の(7)式参照)
Specific examples of the catechols of the above formula (3) are as follows. 3,4-dihydroxybenzoic acid (see formula (7) below)

【化13】 4−メトキシカテコール(下記の(8)式参照)Embedded image 4-methoxycatechol (see formula (8) below)

【化14】 3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール(下記の(9)
式参照)
Embedded image 3,4-dihydroxybenzyl alcohol ((9) below)
(See formula)

【化15】 4−メチルカテコール(下記の(10)式参照)Embedded image 4-methylcatechol (see formula (10) below)

【化16】 カテコールの多価スルホン酸ナトリウム(タイロンを
含む;下記の(11)式参照)
Embedded image Catechol sodium polysulfonate (including Tiron; see formula (11) below)

【化17】 (式(11)中、nは2、3、4である。)Embedded image (In the formula (11), n is 2, 3, and 4.)

【0026】上記(4)式のピロガロール類の具体例は、
没食子酸(下記の(12)式参照)などである。
Specific examples of the pyrogallols of the above formula (4) include:
And gallic acid (see the following formula (12)).

【化18】 Embedded image

【0027】また、上記(1)式のフェノール類に含まれ
る化合物としては、(3)式や(4)式の多価フェノール類に
属さないものであっても差し支えなく、その具体例は次
の通りである。 o−メトキシフェノール(慣用名グアヤコール、下記
の(13)式参照)
The compounds contained in the phenols of the above formula (1) may be those which do not belong to the polyhydric phenols of the formulas (3) and (4). It is as follows. o-Methoxyphenol (common name guaiacol, see the following formula (13))

【化19】 2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール(下記
の(14)式参照)
Embedded image 2 (4-hydroxyphenyl) ethyl alcohol (see formula (14) below)

【化20】 Embedded image

【0028】一方、上記(5)式、或は(6)式の2価ナフト
ール類の具体例は次の通りである。 2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸類
(下記の式(15)参照)
On the other hand, specific examples of the divalent naphthols of the above formula (5) or (6) are as follows. 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonic acids
(See formula (15) below)

【化21】 (式(15)中、Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム等の金属、NH4などである。) 2,3−ジヒドロキシナフタレン−5−スルホン酸類
(下記の式(16)参照)
Embedded image (In the formula (15), X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like.) 2,3-Dihydroxynaphthalene-5-sulfonic acids
(See formula (16) below)

【化22】 (式(16)中、Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム等の金属、NH4などである。)
Embedded image (In the formula (16), X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, calcium or the like, NH 4 or the like.)

【0029】また、上記(2)式のナフトール類に含まれ
る化合物としては、(5)式や(6)式の多価ナフトール類に
属さないものであっても差し支えなく、その具体例とし
ては2−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウム
(下記の(17)式参照)などが挙げられる。
The compounds contained in the naphthols of the above formula (2) may be those which do not belong to the polyvalent naphthols of the formulas (5) and (6). 2-Naphthol-6,8-disulfonic acid dipotassium
(See formula (17) below).

【化23】 Embedded image

【0030】上記式(1)の酸化防止剤にあっては、ベン
ゼン環に結合する水酸基の数nは1〜4であり、置換基
Rの数mは1〜2である。置換基Rが2個の場合は、両
方とも同一の置換基であっても良いし、スルホン酸基と
カルボキシル基のように異なるものであっても良い。但
し、水酸基と置換基が共に1個である場合、置換基Rは
スルホン酸基を除き、水酸基が1個で置換基が2個であ
る場合、置換基Rはスルホン酸基とメチル基の組み合わ
せを除き、水酸基が2個で置換基が1個である場合、置
換基Rはスルホン酸基(又はその塩)を除く。換言する
と、式(1)のフェノール類からフェノールスルホン酸、
クレゾールスルホン酸、カテコールスルホン酸類は除か
れる。
In the antioxidant of the above formula (1), the number n of the hydroxyl groups bonded to the benzene ring is 1 to 4, and the number m of the substituent R is 1 to 2. When there are two substituents R, both may be the same substituent or may be different such as a sulfonic acid group and a carboxyl group. However, when both the hydroxyl group and the substituent are one, the substituent R excludes a sulfonic acid group, and when the number of the hydroxyl group is one and the substituent is two, the substituent R is a combination of a sulfonic acid group and a methyl group. In the case where there are two hydroxyl groups and one substituent, the substituent R excludes a sulfonic acid group (or a salt thereof). In other words, from the phenols of the formula (1) to phenolsulfonic acid,
Cresol sulfonic acid and catechol sulfonic acids are excluded.

【0031】上記式(2)の酸化防止剤にあっては、ナフ
タレン環に結合する水酸基の数nは1〜4であり、置換
基Rの数mは1〜2である。置換基Rが2個の場合は、
共に同一の置換基であっても良いし、スルホン酸基とカ
ルボキシル基のように異なるものであっても良い。但
し、水酸基と置換基が共に1個である場合、置換基Rは
スルホン酸基を除き、換言すると、式(2)のナフトール
類からα−ナフトールスルホン酸、β−ナフトールスル
ホン酸などは除かれる。
In the antioxidant of the above formula (2), the number n of the hydroxyl groups bonded to the naphthalene ring is from 1 to 4, and the number m of the substituent R is from 1 to 2. When there are two substituents R,
Both may be the same substituent, or may be different such as a sulfonic acid group and a carboxyl group. However, when both the hydroxyl group and the substituent are one, the substituent R excludes a sulfonic acid group, in other words, α-naphtholsulfonic acid, β-naphtholsulfonic acid and the like are excluded from the naphthols of the formula (2). .

【0032】本発明1〜3の酸化防止剤の添加量はメッ
キ浴全体に対して、一般に0.05〜50g/L、好ま
しくは0.1〜10g/Lである。
The addition amount of the antioxidants of the present invention 1 to 3 is generally 0.05 to 50 g / L, preferably 0.1 to 10 g / L, based on the whole plating bath.

【0033】上記凝集促進剤は次の化合物などである。 酒石酸、或は、酒石酸ナトリウム、酒石酸アンモニウ
ム、酒石酸カリウム、酒石酸カルシウム、酒石酸マグネ
シウム、ロッシェル塩(酒石酸カリウムナトリウム)など
の酒石酸塩 リン酸一水素ナトリウム、リン酸一水素アンモニウ
ム、リン酸二水素アンモニウムなどのリン酸水素塩 当該凝集促進剤は単用又は併用でき、その添加量はメッ
キ浴全体に対して、一般に0.01〜100g/L、好
ましくは0.05〜10g/L、より好ましくは0.1〜
5g/Lである。
The above-mentioned coagulation accelerator is the following compound. Tartaric acid or tartrate such as sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium tartrate, calcium tartrate, magnesium tartrate, Rochelle salt (potassium sodium tartrate), sodium monohydrogen phosphate, ammonium monohydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate Hydrogen Phosphate The coagulation accelerator can be used alone or in combination. The amount of the coagulation accelerator is generally 0.01 to 100 g / L, preferably 0.05 to 10 g / L, more preferably 0.1 to 100 g / L based on the entire plating bath. 1 to
It is 5 g / L.

【0034】本発明はスズメッキ浴及びスズ合金メッキ
浴を対象とするが、このスズ合金は、上述のように、ス
ズと、鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケ
ル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属と
の合金である。具体的には、スズ−鉛、スズ−亜鉛、ス
ズ−銀、スズ−ビスマス、スズ−ニッケル、スズ−イン
ジウム、スズ−コバルト、スズ−銅、スズ−金、スズ−
アンチモンなどの2成分系のスズ合金を初め、スズ−ニ
ッケル−亜鉛、スズ−銅−亜鉛などの3成分系のスズ合
金も含まれる。上記第一スズ塩又は第一スズ塩と上記ス
ズ以外の金属の塩の混合物としては、任意の可溶性の塩
類を使用できるが、前記の酸(特に、有機スルホン酸)と
の塩類が好ましく、スズ及び他の金属の総濃度(金属と
しての換算添加量)は、一般に5〜100g/Lであ
る。
The present invention is directed to tin plating baths and tin alloy plating baths, which, as described above, contain tin, lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold, An alloy with a metal selected from antimony. Specifically, tin-lead, tin-zinc, tin-silver, tin-bismuth, tin-nickel, tin-indium, tin-cobalt, tin-copper, tin-gold, tin-
In addition to binary tin alloys such as antimony, ternary tin alloys such as tin-nickel-zinc and tin-copper-zinc are also included. As the mixture of the stannous salt or the stannous salt and the salt of a metal other than tin, any soluble salts can be used, and salts with the above-mentioned acids (particularly, organic sulfonic acids) are preferable. And the total concentration of the other metals (added amount as a metal) is generally 5 to 100 g / L.

【0035】上記の酸としては、メッキ浴での反応が比
較的穏やかで、排水処理が容易なアルカンスルホン酸、
アルカノールスルホン酸等の有機スルホン酸、或は、脂
肪族カルボン酸などの有機酸が好ましいが、塩酸、ホウ
フッ化水素酸、硫酸、ケイフッ化水素酸、過塩素酸など
の無機酸を選択することもできる。上記の酸は単用又は
併用され、酸の添加量は一般に0.1〜400g/L、
好ましくは70〜150g/Lである。
Examples of the above-mentioned acids include alkanesulfonic acid, which has a relatively mild reaction in a plating bath and is easily treated for drainage.
Organic sulfonic acids such as alkanolsulfonic acids or organic acids such as aliphatic carboxylic acids are preferred, but inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, sulfuric acid, hydrofluorosilicic acid and perchloric acid may also be selected. it can. The above acids are used alone or in combination, and the amount of the acid added is generally 0.1 to 400 g / L,
Preferably it is 70-150 g / L.

【0036】上記アルカンスルホン酸としては、化学式
n2n+1SO3H(例えば、n=1〜11)で示されるもの
が使用でき、具体的には、メタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、1―プロパンスルホン酸、2―プロパンスル
ホン酸、1―ブタンスルホン酸、2―ブタンスルホン
酸、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸などが挙げられる。
As the alkanesulfonic acid, those represented by the chemical formula C n H 2n + 1 SO 3 H (for example, n = 1 to 11) can be used. Specifically, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, Examples thereof include 1-propanesulfonic acid, 2-propanesulfonic acid, 1-butanesulfonic acid, 2-butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, hexanesulfonic acid, decanesulfonic acid, and dodecanesulfonic acid.

【0037】上記アルカノールスルホン酸としては、化
学式 Cm2m+1-CH(OH)-Cp2p-SO3H(例えば、m=0
〜2、p=1〜10) で示されるものが使用でき、具体的には、2―ヒドロキ
シエタン―1―スルホン酸、2―ヒドロキシプロパン―
1―スルホン酸、2―ヒドロキシブタン―1―スルホン
酸、2―ヒドロキシペンタン―1―スルホン酸などの
外、1―ヒドロキシプロパン―2―スルホン酸、3―ヒ
ドロキシプロパン―1―スルホン酸、4―ヒドロキシブ
タン―1―スルホン酸、2―ヒドロキシヘキサン―1―
スルホン酸、2―ヒドロキシデカン―1―スルホン酸、
2―ヒドロキシドデカン―1―スルホン酸などが挙げら
れる。
[0037] Examples of the alkanol sulfonic acid, the formula C m H 2m + 1 -CH ( OH) -C p H 2p -SO 3 H ( e.g., m = 0
~ 2, p = 1 ~ 10), specifically, 2-hydroxyethane-1-sulfonic acid, 2-hydroxypropane-
In addition to 1-sulfonic acid, 2-hydroxybutane-1-sulfonic acid, 2-hydroxypentane-1-sulfonic acid, etc., 1-hydroxypropane-2-sulfonic acid, 3-hydroxypropane-1-sulfonic acid, 4- Hydroxybutane-1-sulfonic acid, 2-hydroxyhexane-1-
Sulfonic acid, 2-hydroxydecane-1-sulfonic acid,
2-hydroxydodecane-1-sulfonic acid and the like.

【0038】上記脂肪族カルボン酸としては、一般に、
炭素数1〜6のカルボン酸が使用できる。具体的には、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、クエン酸、酒石酸、グルコ
ン酸、スルホコハク酸などが挙げられる。
As the aliphatic carboxylic acid, generally,
A carboxylic acid having 1 to 6 carbon atoms can be used. In particular,
Acetic acid, propionic acid, butyric acid, citric acid, tartaric acid, gluconic acid, sulfosuccinic acid and the like can be mentioned.

【0039】本発明のスズ又はスズ合金メッキ浴では、
界面活性剤の添加によりメッキ外観を向上し、緻密なメ
ッキ皮膜を得ることができる。上記界面活性剤としては
ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオ
ン系界面活性剤、両性界面活性剤の中から少なくとも一
種を使用することができる。
In the tin or tin alloy plating bath of the present invention,
By adding a surfactant, the plating appearance can be improved and a dense plating film can be obtained. As the surfactant, at least one of a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and an amphoteric surfactant can be used.

【0040】当該ノニオン系界面活性剤の具体例として
は、C1〜C20アルカノール、フェノール、ナフトー
ル、ビスフェノール類、C1〜C25アルキルフェノー
ル、アリールアルキルフェノール、C1〜C25アルキル
ナフトール、C1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)、ソ
ルビタンエステル、スチレン化フェノール、ポリアルキ
レングリコール、C1〜C22脂肪族アミン、C1〜C22
肪族アミドなどにエチレンオキシド(EO)及び/又はプ
ロピレンオキシド(PO)を2〜300モル付加縮合させ
たものや、C1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)などが
挙げられる。
[0040] Specific examples of the nonionic surfactants, C 1 -C 20 alkanols, phenol, naphthol, bisphenol, C 1 -C 25 alkyl phenols, aryl phenols, C 1 -C 25 alkyl naphthol, C 1 ~ C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt), sorbitan esters, styrenated phenols, polyalkylene glycols, C 1 -C 22 aliphatic amines, C 1 -C 22, such as ethylene oxide aliphatic amides (EO) and / or propylene oxide ( the PO) and those engaged 2-300 mol adduct condensation, and the like C 1 -C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt).

【0041】エチレンオキシド(EO)及び/又はプロピ
レンオキシド(PO)を付加縮合させるC1〜C20アルカ
ノールとしては、オクタノール、デカノール、ラウリル
アルコール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、ス
テアリルアルコール、エイコサノール、セチルアルコー
ル、オレイルアルコール、ドコサノールなどが挙げられ
る。同じくビスフェノール類としては、ビスフェノール
A、ビスフェノールBなどが挙げられる。C1〜C25
ルキルフェノールとしては、モノ、ジ、若しくはトリア
ルキル置換フェノール、例えば、p−ブチルフェノー
ル、p−イソオクチルフェノール、p−ノニルフェノー
ル、p−ヘキシルフェノール、2,4−ジブチルフェノ
ール、2,4,6−トリブチルフェノール、p−ドデシル
フェノール、p−ラウリルフェノール、p−ステアリル
フェノールなどが挙げられる。アリールアルキルフェノ
ールとしては、2−フェニルイソプロピルフェニルなど
が挙げられる。C1〜C25アルキルナフトールのアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチルヘキ
シル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなど
が挙げられ、ナフタレン核の任意の位置にあって良い。
1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)は、下記の一般式
(a)で表されるものである。
Examples of the C 1 -C 20 alkanol for addition condensation of ethylene oxide (EO) and / or propylene oxide (PO) include octanol, decanol, lauryl alcohol, tetradecanol, hexadecanol, stearyl alcohol, eicosanol and cetyl alcohol. , Oleyl alcohol, docosanol and the like. Similarly, bisphenols include bisphenol A and bisphenol B. C 1 -C 25 alkylphenols include mono-, di- or trialkyl-substituted phenols such as p-butylphenol, p-isooctylphenol, p-nonylphenol, p-hexylphenol, 2,4-dibutylphenol, 2,4, Examples include 6-tributylphenol, p-dodecylphenol, p-laurylphenol, p-stearylphenol and the like. Examples of the arylalkylphenol include 2-phenylisopropylphenyl and the like. Examples of the alkyl group of the C 1 -C 25 alkyl naphthol include methyl, ethyl, propyl, butylhexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl and the like, and may be at any position on the naphthalene nucleus.
C 1 -C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt) has the following general formula
(a).

【0042】[0042]

【化24】 (式(a)中、Ra及びRbは同一又は異なるC1〜C25アル
キル、但し、一方がHであっても良い。MはH又はアルカ
リ金属を示す。)
Embedded image (In the formula (a), R a and R b are the same or different C 1 -C 25 alkyl, provided that one of them may be H. M represents H or an alkali metal.)

【0043】ソルビタンエステルとしては、モノ、ジ又
はトリエステル化した1,4−、1,5−又は3,6−ソ
ルビタン、例えばソルビタンモノラウレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタンジステアレート、ソル
ビタンジオレエート、ソルビタン混合脂肪酸エステルな
どが挙げられる。C1〜C22脂肪族アミンとしては、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチ
ルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ステアリル
アミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミンなどの
飽和及び不飽和脂肪酸アミンなどが挙げられる。C1
22脂肪族アミドとしては、プロピオン酸、酪酸、カプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などのアミドが挙げ
られる。
As the sorbitan ester, mono-, di- or triester-converted 1,4-, 1,5- or 3,6-sorbitan such as sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan distearate, sorbitan diester Oleate, sorbitan mixed fatty acid ester and the like can be mentioned. Examples of the C 1 -C 22 aliphatic amine include saturated and unsaturated fatty acid amines such as propylamine, butylamine, hexylamine, octylamine, decylamine, laurylamine, stearylamine, ethylenediamine, and propylenediamine. C 1-
The C 22 aliphatic amides, propionic acid, butyric acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, amides such as behenic acid.

【0044】更に、上記ノニオン系界面活性剤として
は、 R1N(R2)2→O (上式中、R1はC5〜C25アルキル又はRCONHR3(R
3はC1〜C5アルキレンを示す)、R2は同一又は異なるC
1〜C5アルキルを示す。) などで示されるアミンオキシドを用いることができる。
Further, as the nonionic surfactant, R 1 N (R 2 ) 2 → O (where R 1 is a C 5 -C 25 alkyl or RCONHR 3 (R
3 represents C 1 -C 5 alkylene), R 2 is the same or different
Represents 1 to 5 alkyl; ) And the like.

【0045】上記ノニオン系界面活性剤は2つ以上を混
合しても良く、メッキ浴の添加量は一般に0.05〜1
00g/L、好ましくは0.1〜50g/Lである。
Two or more nonionic surfactants may be mixed, and the amount of the plating bath added is generally 0.05 to 1%.
00 g / L, preferably 0.1 to 50 g / L.

【0046】上記カチオン系界面活性剤としては、下記
の一般式(b)で表される第4級アンモニウム塩
As the cationic surfactant, a quaternary ammonium salt represented by the following general formula (b):

【0047】[0047]

【化25】 (式(b)中、Xはハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C5アル
カンスルホン酸又は硫酸、R1、R2及びR3は同一又は
異なるC1〜C20アルキル、R4はC1〜C10アルキル又
はベンジルを示す。) 或は、下記の一般式(c)で表されるピリジニウム塩など
が挙げられる。
Embedded image (In the formula (b), X is halogen, hydroxy, C 1 -C 5 alkanesulfonic acid or sulfuric acid, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different C 1 -C 20 alkyl, and R 4 is C 1 -C Represents 10 alkyl or benzyl.) Or a pyridinium salt represented by the following general formula (c).

【0048】[0048]

【化26】 (式(c)中、Xはハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C5アル
カンスルホン酸又は硫酸、R5はC1〜C20アルキル、R
6はH又はC1〜C10アルキルを示す。)
Embedded image (In the formula (c), X is halogen, hydroxy, C 1 -C 5 alkanesulfonic acid or sulfuric acid, R 5 is C 1 -C 20 alkyl, R
6 represents H or C 1 -C 10 alkyl. )

【0049】塩の形態のカチオン系界面活性剤の例とし
ては、ラウリルトリメチルアンモニウム塩、ステアリル
トリメチルアンモニウム塩、ラウリルジメチルエチルア
ンモニウム塩、オクタデシルジメチルエチルアンモニウ
ム塩、ジメチルベンジルラウリルアンモニウム塩、セチ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩、オクタデシルジメ
チルベンジルアンモニウム塩、トリメチルベンジルアン
モニウム塩、トリエチルベンジルアンモニウム塩、ヘキ
サデシルピリジニウム塩、ラウリルピリジニウム塩、ド
デシルピリジニウム塩、ステアリルアミンアセテート、
ラウリルアミンアセテート、オクタデシルアミンアセテ
ートなどが挙げられる。
Examples of the cationic surfactant in the form of a salt include lauryl trimethyl ammonium salt, stearyl trimethyl ammonium salt, lauryl dimethyl ethyl ammonium salt, octadecyl dimethyl ethyl ammonium salt, dimethyl benzyl lauryl ammonium salt, cetyl dimethyl benzyl ammonium salt Octadecyldimethylbenzylammonium salt, trimethylbenzylammonium salt, triethylbenzylammonium salt, hexadecylpyridinium salt, laurylpyridinium salt, dodecylpyridinium salt, stearylamine acetate,
Laurylamine acetate, octadecylamine acetate and the like can be mentioned.

【0050】上記アニオン系界面活性剤としては、アル
キル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩などが挙げられる。
アルキル硫酸塩としては、ラウリル硫酸ナトリウム、オ
レイル硫酸ナトリウムなどが挙げられる。ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル硫酸塩としては、ポリオキシエ
チレン(EO12)ノニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリ
オキシエチレン(EO15)ドデシルエーテル硫酸ナトリ
ウムなどが挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル硫酸塩としては、ポリオキシエチレン
(EO15)ノニルフェニルエーテル硫酸塩などが挙げら
れる。アルキルベンゼンスルホン酸塩としては、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。
Examples of the anionic surfactant include an alkyl sulfate, a polyoxyethylene alkyl ether sulfate, a polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, and an alkylbenzene sulfonate.
Examples of the alkyl sulfate include sodium lauryl sulfate and sodium oleyl sulfate. Examples of the polyoxyethylene alkyl ether sulfate include sodium polyoxyethylene (EO12) nonyl ether sulfate and sodium polyoxyethylene (EO15) dodecyl ether sulfate. As polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene
(EO15) nonylphenyl ether sulfate and the like. Examples of the alkyl benzene sulfonate include sodium dodecyl benzene sulfonate.

【0051】上記両性界面活性剤としては、ベタイン、
スルホベタイン、アミノカルボン酸などが挙げられる。
また、エチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシド
とアルキルアミン又はジアミンとの縮合生成物の硫酸化
或はスルホン酸化付加物も使用できる。当該ベタインは
下記の一般式(d)又は(e)などで表されるものである。
As the amphoteric surfactant, betaine,
Sulfobetaine, aminocarboxylic acid and the like.
Sulfated or sulfonated adducts of the condensation products of ethylene oxide and / or propylene oxide with alkylamines or diamines can also be used. The betaine is represented by the following general formula (d) or (e).

【0052】[0052]

【化27】 (式(d)中、R7はC1〜C20アルキル、R8及びR9は同
一又は異なるC1〜C5アルキル、nは1〜3の整数を示
す。)
Embedded image (In the formula (d), R 7 is C 1 -C 20 alkyl, R 8 and R 9 are the same or different C 1 -C 5 alkyl, and n is an integer of 1-3.)

【0053】[0053]

【化28】 (式(e)中、R10はC1〜C20アルキル、R11は(CH2)m
OH又は(CH2)mOCH2CO2 -、R12は(CH2)nCO2
-、(CH2)nSO3 -、CH(OH)CH2SO3 -、m及びn
は1〜4の整数を示す。)
Embedded image (In the formula (e), R 10 is C 1 -C 20 alkyl, R 11 is (CH 2 ) m
OH or (CH 2 ) m OCH 2 CO 2 , R 12 is (CH 2 ) n CO 2
-, (CH 2) n SO 3 -, CH (OH) CH 2 SO 3 -, m and n
Represents an integer of 1 to 4. )

【0054】代表的なベタインは、ラウリルジメチルア
ンモニウムベタイン、ステアリルジメチルアンモニウム
ベタイン、2−ウンデシル−1−カルボキシメチル−1
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、2−オ
クチル−1−カルボキシメチル−1−カルボキシエチル
イミダゾリニウムベタインなどが挙げられ、硫酸化及び
スルホン酸化付加物としてはエトキシル化アルキルアミ
ンの硫酸付加物、スルホン酸化ラウリル酸誘導体ナトリ
ウム塩などが挙げられる。
Representative betaines are lauryl dimethyl ammonium betaine, stearyl dimethyl ammonium betaine, 2-undecyl-1-carboxymethyl-1
-Hydroxyethyl imidazolinium betaine, 2-octyl-1-carboxymethyl-1-carboxyethyl imidazolinium betaine, and the like. Examples of the sulfated and sulfonated adducts include sulfuric acid adducts of ethoxylated alkylamines and sulfonated adducts. Lauric acid derivative sodium salt and the like.

【0055】スルホベタインとしては、ヤシ油脂肪酸ア
ミドプロピルジメチルアンモニウム−2−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸、N−ココイルメチルタウリンナトリ
ウム、N−パルミトイルメチルタウリンナトリウムなど
が挙げられる。アミノカルボン酸としては、ジオクチル
アミノエチルグリシン、N−ラウリルアミノプロピオン
酸、オクチルジ(アミノエチル)グリシンナトリウム塩な
どが挙げられる。
Examples of the sulfobetaine include coconut oil fatty acid amidopropyldimethylammonium-2-hydroxypropanesulfonic acid, sodium N-cocoylmethyltaurine, sodium N-palmitoylmethyltaurine and the like. Examples of the aminocarboxylic acid include dioctylaminoethylglycine, N-laurylaminopropionic acid, and octyldi (aminoethyl) glycine sodium salt.

【0056】前記ノニオン系界面活性剤以外のこれらの
界面活性剤は2以上を併用しても良く、メッキ浴への添
加量は一般に0.05〜100g/L、好ましくは0.1
〜50g/Lである。
Two or more of these surfactants other than the nonionic surfactant may be used in combination, and the amount added to the plating bath is generally 0.05 to 100 g / L, preferably 0.1.
5050 g / L.

【0057】上記本発明6で使用できる光沢剤の具体例
としては、m−クロロベンズアルデヒド、p−ニトロベ
ンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、
(o−、p−)メトキシベンズアルデヒド、バニリン、
(2,4−、2,6−)ジクロロベンズアルデヒド、(o−、
p−)クロロベンズアルデヒド、1−ナフトアルデヒ
ド、2−ナフトアルデヒド、2(4)−ヒドロキシ−1−
ナフトアルデヒド、2(4)−クロロ−1−ナフトアルデ
ヒド、2(3)−チオフェンカルボキシアルデヒド、2
(3)−フルアルデヒド、3−インドールカルボキシアル
デヒド、サリチルアルデヒド、o−フタルアルデヒド、
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、パラアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、n−バレルアルデヒド、アクロレイ
ン、クロトンアルデヒド、グリオキサール、アルドー
ル、スクシンジアルデヒド、カプロンアルデヒド、イソ
バレルアルデヒド、アリルアルデヒド、グルタルアルデ
ヒド、1−ベンジリデン−7−ヘプタナール、2,4−
ヘキサジエナール、シンナムアルデヒド、ベンジルクロ
トンアルデヒド、アミン−アルデヒド縮合物、酸化メシ
チル、イソホロン、ジアセチル、ヘキサンジオン−3,
4、アセチルアセトン、3−クロロベンジリデンアセト
ン、sub.ピリジリデンアセトン、sub.フルフリジ
ンアセトン、sub.テニリデンアセトン、4−(1−ナ
フチル)−3−ブテン−2−オン、4−(2−フリル)−
3−ブテン−2−オン、4−(2−チオフェニル)−3−
ブテン−2−オン、クルクミン、ベンジリデンアセチル
アセトン、ベンザルアセトン、アセトフェノン、(2,4
−、3,4−)ジクロロアセトフェノン、ベンジリデンア
セトフェノン、2−シンナミルチオフェン、2−(ω−
ベンゾイル)ビニルフラン、ビニルフェニルケトン、ア
クリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、クロ
トン酸、ピロピレン−1,3−ジカルボン酸、ケイ皮
酸、(o−、m−、p−)トルイジン、(o−、p−)アミ
ノアニリン、アニリン、(o−、p−)クロロアニリン、
(2,5−、3,4−)クロロメチルアニリン、N−モノメ
チルアニリン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、
N−フェニル−(α−、β−)ナフチルアミン、メチルベ
ンズトリアゾール、1,2,3−トリアジン、1,2,4−
トリアジン、1,3,5−トリアジン、1,2,3−ベンズ
トリアジン、イミダゾール、2−ビニルピリジン、イン
ドール、キノリン、モノエタノールアミンとo−バニリ
ンの反応物などが挙げられる。
Specific examples of the brightener usable in the present invention 6 include m-chlorobenzaldehyde, p-nitrobenzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde,
(o-, p-) methoxybenzaldehyde, vanillin,
(2,4-, 2,6-) dichlorobenzaldehyde, (o-,
p-) chlorobenzaldehyde, 1-naphthaldehyde, 2-naphthaldehyde, 2 (4) -hydroxy-1-
Naphthaldehyde, 2 (4) -chloro-1-naphthaldehyde, 2 (3) -thiophenecarboxaldehyde, 2
(3) -furaldehyde, 3-indolecarboxaldehyde, salicylaldehyde, o-phthalaldehyde,
Formaldehyde, acetaldehyde, paraaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, propionaldehyde, n-valeraldehyde, acrolein, crotonaldehyde, glyoxal, aldol, succindialdehyde, capronaldehyde, isovaleraldehyde, allylaldehyde, glutaraldehyde, 1-benzylidene -7-heptanal, 2,4-
Hexadienal, cinnamaldehyde, benzylcrotonaldehyde, amine-aldehyde condensate, mesityl oxide, isophorone, diacetyl, hexanedione-3,
4, acetylacetone, 3-chlorobenzylideneacetone, sub. Pyridylideneacetone, sub. Furfuridinacetone, sub. Tenylideneacetone, 4- (1-naphthyl) -3-buten-2-one, 4- (2- Frill)
3-buten-2-one, 4- (2-thiophenyl) -3-
Buten-2-one, curcumin, benzylideneacetylacetone, benzalacetone, acetophenone, (2,4
-, 3,4-) dichloroacetophenone, benzylideneacetophenone, 2-cinnamylthiophene, 2- (ω-
(Benzoyl) vinylfuran, vinylphenylketone, acrylic acid, methacrylic acid, ethacrylic acid, ethyl acrylate, methyl methacrylate, butyl methacrylate, crotonic acid, propylene-1,3-dicarboxylic acid, cinnamic acid, (o-, m-, p-) toluidine, (o-, p-) aminoaniline, aniline, (o-, p-) chloroaniline,
(2,5-, 3,4-) chloromethylaniline, N-monomethylaniline, 4,4'-diaminodiphenylmethane,
N-phenyl- (α-, β-) naphthylamine, methylbenztriazole, 1,2,3-triazine, 1,2,4-
Examples thereof include triazine, 1,3,5-triazine, 1,2,3-benztriazine, imidazole, 2-vinylpyridine, indole, quinoline, and a reaction product of monoethanolamine and o-vanillin.

【0058】これら光沢剤は単用又は併用でき、メッキ
浴への添加量は一般に0.005〜40g/L、好まし
くは0.01〜20g/Lである。
These brighteners can be used alone or in combination, and the amount added to the plating bath is generally 0.005 to 40 g / L, preferably 0.01 to 20 g / L.

【0059】また、本発明のメッキ浴は、メッキ表面の
平滑性を向上するために上記本発明7の半光沢剤を含有
させることができる。当該半光沢剤は各種の前記界面活
性剤と併用することにより、さらに相乗的な効果を奏す
る。この場合の半光沢剤は、一般に、スズ又はスズ―鉛
合金メッキに使われる半光沢剤であれば原則として使用
できるが、特に有用な半光沢剤としては、下記の一般式
(f)〜(i)で表されるものが挙げられる。
The plating bath of the present invention may contain the above-mentioned semi-brightener of the present invention 7 in order to improve the smoothness of the plating surface. The semi-brightening agent has a further synergistic effect when used in combination with various surfactants. The semi-brightening agent in this case can be used in principle as long as it is a semi-brightening agent generally used for tin or tin-lead alloy plating.
and those represented by (f) to (i).

【0060】[0060]

【化29】 (式(f)中、Rは水素、アルキル基(C1〜C4)又はフェ
ニル基、RIは水素、水酸基又は存在しない場合、RII
はアルキレン基(C1〜C4)、フェニレン基又はベンジル
基、RIIIは水素又はアルキル基(C0〜C4)である。)
Embedded image (In the formula (f), R is hydrogen, an alkyl group (C 1 -C 4 ) or a phenyl group, R I is hydrogen, a hydroxyl group, or R II
Is an alkylene group (C 1 -C 4 ), phenylene group or benzyl group, and R III is hydrogen or an alkyl group (C 0 -C 4 ). )

【0061】[0061]

【化30】 (式(g)中、R、RIはアルキル基(C1〜C18)である。)Embedded image (In the formula (g), R, is R I is an alkyl group (C 1 ~C 18).)

【0062】[0062]

【化31】 (式(h)中、Rは水素、アルキル基(C1〜C4)又はフェ
ニル基である。)
Embedded image (In the formula (h), R is hydrogen, an alkyl group (C 1 -C 4 ) or a phenyl group.)

【0063】[0063]

【化32】 (式(i)中、R1、R2、R3、R4及びR5は夫々同一又は異
なっていても良く、(1)H、(2)―SH、(3)―OH、(4)
OR(Rは所望により―COOHで置換されていても良
いC1〜C6アルキル基)、(5)OH、ハロゲン、―COO
H、―(CO)COOH、アリール又はOC1〜C6アルキ
ル基で置換されていても良いC1〜C6アルキル基を意味
する。)
Embedded image (In the formula (i), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, respectively, and (1) H, (2) -SH, (3) -OH, (4 )
OR (R is a C 1 -C 6 alkyl group optionally substituted with —COOH), (5) OH, halogen, —COO
H, - (CO) COOH, means optionally substituted C 1 -C 6 alkyl aryl or OC 1 -C 6 alkyl group. )

【0064】上記半光沢剤のうちでも、特に、N―(3
―ヒドロキシブチリデン)―p―スルファニル酸、N―
ブチリデンスルファニル酸、N―シンナモイリデンスル
ファニル酸、2,4―ジアミノ―6―(2′―メチルイミ
ダゾリル(1′))エチル―1,3,5―トリアジン、2,4
―ジアミノ―6―(2′―エチル―4―メチルイミダゾ
リル(1′))エチル―1,3,5―トリアジン、2,4―ジ
アミノ―6―(2′―ウンデシルイミダゾリル(1′))エ
チル―1,3,5―トリアジン、サリチル酸フェニルなど
が挙げられる。
Among the above semi-brightening agents, in particular, N- (3
-Hydroxybutylidene) -p-sulfanilic acid, N-
Butylidene sulfanilic acid, N-cinnamoylidene sulfanilic acid, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl (1 ')) ethyl-1,3,5-triazine, 2,4
-Diamino-6- (2'-ethyl-4-methylimidazolyl (1 ')) ethyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-undecylimidazolyl (1')) Ethyl-1,3,5-triazine, phenyl salicylate and the like can be mentioned.

【0065】同じく、上記一般式(i)のベンゾチアゾー
ル類系の半光沢剤としては、特に、ベンゾチアゾール、
2―メチルベンゾチアゾール、2―(メチルメルカプト)
ベンゾチアゾール、2―アミノベンゾチアゾール、2―
アミノ―6―メトキシベンゾチアゾール、2―メチル―
5―クロロベンゾチアゾール、2―ヒドロキシベンゾチ
アゾール、2―アミノ―6―メチルベンゾチアゾール、
2―クロロベンゾチアゾール、2,5―ジメチルベンゾ
チアゾール、6―ニトロ―2―メルカプトベンゾチアゾ
ール、5―ヒドロキシ―2―メチルベンゾチアゾール、
2―ベンゾチアゾールチオ酢酸などが挙げられる。
Similarly, the benzothiazole semi-brighteners of the above general formula (i) include, in particular, benzothiazole,
2-methylbenzothiazole, 2- (methylmercapto)
Benzothiazole, 2-aminobenzothiazole, 2-
Amino-6-methoxybenzothiazole, 2-methyl-
5-chlorobenzothiazole, 2-hydroxybenzothiazole, 2-amino-6-methylbenzothiazole,
2-chlorobenzothiazole, 2,5-dimethylbenzothiazole, 6-nitro-2-mercaptobenzothiazole, 5-hydroxy-2-methylbenzothiazole,
2-benzothiazolethioacetic acid and the like.

【0066】上記半光沢剤の添加量は、一般に0.00
1〜10g/L、好ましくは0.1〜5g/Lである。
The amount of the semi-brightening agent added is generally 0.00
It is 1 to 10 g / L, preferably 0.1 to 5 g / L.

【0067】上記本発明8〜9のメッキ浴の調製方法
は、本発明1〜3の酸化防止剤又は本発明4の凝集促進
剤をメッキ浴の構成成分である酸、可溶性塩、界面活性
剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なくともいずれかに予め
混入し、建浴時に残りの浴構成成分と混合することを特
徴とし、可溶性塩、界面活性剤、光沢剤、或は半光沢剤
などへの混入は、具体的にはこれらの水溶液などへの添
加をいう。
The method of preparing the plating baths of the present inventions 8 to 9 is characterized in that the antioxidants of the present inventions 1 to 3 or the coagulation promoters of the present invention 4 are mixed with the components of the plating baths such as acid, soluble salt and surfactant. Characterized in that it is previously mixed with at least one of a brightening agent and a semi-brightening agent, and is mixed with the remaining bath components at the time of building bath, such as a soluble salt, a surfactant, a brightening agent, or a semi-brightening agent. Specifically, the term “contamination” refers to the addition of these to an aqueous solution or the like.

【0068】本発明のメッキ浴での上記各成分の添加濃
度は、バレルメッキ、ラックメッキ、高速連続メッキ、
ラックレスメッキなどに対応して任意に調整・選択でき
る。また、本発明のメッキ浴には、上記光沢剤などの各
種添加剤の外に、通常のメッキ浴で使用される錯化剤、
pH調整剤、緩衝剤などを添加できることは勿論であ
る。
The concentration of each of the above components in the plating bath of the present invention is determined by barrel plating, rack plating, high-speed continuous plating,
It can be arbitrarily adjusted and selected according to rackless plating. Further, in the plating bath of the present invention, in addition to various additives such as the brightener, a complexing agent used in a normal plating bath,
Needless to say, a pH adjuster, a buffer and the like can be added.

【0069】また、本発明10の貯蔵方法は、スズ又は
スズ合金メッキ浴用のスズ塩水溶液の独立した貯蔵方法
であり、本発明1〜3の酸化防止剤を調整を終えたメッ
キ浴に添加する替わりに、調製前のスズ塩の濃厚水溶液
に添加して第一スズイオンの酸化を抑制する方法であ
る。本発明10〜11の濃厚水溶液とはスズの可溶性塩
に換算して50g/L以上をいう。本発明11の貯蔵方
法は、本発明1〜3の新規の酸化防止剤を添加する替わ
りに、カテコール、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガ
ロール、フロログルシン、フェノールスルホン酸、クレ
ゾールスルホン酸、アスコルビン酸、或はこれらの塩な
どのような周知又は公知の酸化防止剤や、カテコールス
ルホン酸、ヒドロキノンスルホン酸、ナフトールスルホ
ン酸、或はこれらの塩などの(本発明1〜3には含まれ
ない)酸化防止剤を使用したものである。本発明10〜
11では、各酸化防止剤は単用又は併用できる外、本発
明1〜3の酸化防止剤と周知又は公知(或はカテコール
スルホン酸など)の酸化防止剤とを組み合わせてスズ塩
の濃厚水溶液に添加しても良い。酸化防止剤の含有率は
スズ塩の濃厚水溶液に対して、一般に10ppm〜10
0g/L、好ましくは100ppm〜10g/Lであ
る。
The storage method of the present invention 10 is an independent storage method of a tin salt aqueous solution for a tin or tin alloy plating bath, and the antioxidants of the present invention 1 to 3 are added to the adjusted plating bath. Instead, it is a method of adding to a concentrated aqueous solution of a tin salt before preparation to suppress oxidation of stannous ions. The concentrated aqueous solution of the present invention 10 to 11 means 50 g / L or more in terms of a soluble salt of tin. Instead of adding the novel antioxidants of the present inventions 1 to 3, the storage method of the present invention 11 uses catechol, hydroquinone, resorcinol, pyrogallol, phloroglucin, phenolsulfonic acid, cresolsulfonic acid, ascorbic acid, or a mixture thereof. Use of well-known or known antioxidants such as salts, and antioxidants such as catecholsulfonic acid, hydroquinonesulfonic acid, naphtholsulfonic acid, or salts thereof (not included in the present invention 1 to 3) It was done. The present invention 10
In 11, the antioxidants can be used alone or in combination, and the antioxidants of the inventions 1 to 3 can be combined with well-known or known (or catecholsulfonic acid or the like) antioxidants to form a concentrated aqueous solution of a tin salt. It may be added. The content of the antioxidant is generally 10 ppm to 10% with respect to the concentrated aqueous solution of the tin salt.
0 g / L, preferably 100 ppm to 10 g / L.

【0070】[0070]

【発明の効果】(1)本発明1〜3の酸化防止剤をスズ或
はスズ合金メッキ浴に含有させると、後述の試験例に示
すように、第一に、浴中に酸化第二スズが発生するのを
有効に抑制できる(図1B〜図14B参照)。第二に、長
期使用でメッキ浴の酸化(空気酸化、或は陽極酸化)が進
行し、酸化第二スズの微粒子が発生した場合でも、当該
粒子を凝集促進し、或は結晶成長させて粒子径を増大さ
せることができる(図1A〜図14A参照)。即ち、本発
明の酸化防止剤は第一スズイオンの酸化防止作用のみな
らず、その酸化物である酸化第二スズの粒子の凝集促進
作用をも兼備する。とりわけ、上記酸化防止剤の中で
も、没食子酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸などの所
定のピロガロール類、或はカテコール類や、2,3−ジ
ヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸ナトリウム、
2,3−ジヒドロキシナフタレン−5−スルホン酸ナト
リウムなどの二価ナフトール類は、酸化第二スズ粒子に
対する凝集促進作用が大きい。また、カテコールなどの
公知の酸化防止剤などとは異なり、本発明の酸化防止剤
の中でも、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、グアヤコー
ル、2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール、2
−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウムなどは
浴の濁りを抑制し、透明度を持続できる傾向が強い。
(1) When the antioxidants of the present invention 1 to 3 are contained in a tin or tin alloy plating bath, first, as shown in the test examples described below, first, stannic oxide is contained in the bath. Can be effectively suppressed (see FIGS. 1B to 14B). Second, even if oxidation of the plating bath (air oxidation or anodic oxidation) progresses over a long period of use and fine particles of stannic oxide are generated, the particles are promoted to aggregate, or the particles are grown by crystal growth. The diameter can be increased (see FIGS. 1A to 14A). That is, the antioxidant of the present invention has not only an antioxidant effect of stannous ions but also an aggregation promoting effect of particles of stannic oxide which is an oxide thereof. In particular, among the above antioxidants, predetermined pyrogallols such as gallic acid and 3,4-dihydroxybenzoic acid, or catechols, sodium 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonate,
Divalent naphthols such as sodium 2,3-dihydroxynaphthalene-5-sulfonate have a large aggregation promoting effect on stannic oxide particles. Further, unlike known antioxidants such as catechol, among the antioxidants of the present invention, 3,4-dihydroxybenzoic acid, guaiacol, 2 (4-hydroxyphenyl) ethyl alcohol,
-Naphthol-6,8-disulfonic acid dipotassium has a strong tendency to suppress turbidity of the bath and maintain transparency.

【0071】(2)本発明4の凝集促進剤をスズ或はスズ
合金メッキ浴に含有させると、後述の試験例に示すよう
に、上記(1)と同様に酸化第二スズ粒子の凝集を有効に
促進することができる(図10A〜図11A、図14A
参照)。上記凝集促進剤のうち、酒石酸とその塩では凝
集促進作用は近似し、リン酸二水素アンモニウムは酒石
酸類より少し凝集能力が高かった。本発明ではスズ或は
スズ合金メッキ浴の透明度を保持することが最終的な目
標となるが、そのためには、前述のように、第一に、酸
化第二スズの微粒子の発生をなるべく抑制し、第二に、
長期使用などで酸化第二スズが発生した場合には、酸化
物の粒径を増して濾過機で捕捉除去することが効率的で
ある。そこで、本発明の酸化防止剤は第一の課題に、本
発明の凝集促進剤は第二の課題に夫々独立に使用するの
が基本となるが、本発明の酸化防止剤は総じて凝集促進
作用を兼備するため、第一と第二の課題を同時に満たす
ことができ、もって酸化防止剤の活用により凝集促進剤
を省略することも可能である。
(2) When the coagulation accelerator of the present invention 4 is contained in a tin or tin alloy plating bath, the coagulation of stannic oxide particles is reduced in the same manner as in (1) above, as shown in the test examples described below. Can be effectively promoted (FIGS. 10A to 11A, 14A
reference). Among the above-mentioned coagulation accelerators, tartaric acid and a salt thereof showed an approximate coagulation accelerating action, and ammonium dihydrogen phosphate had a slightly higher coagulation ability than tartaric acids. In the present invention, the ultimate goal is to maintain the transparency of the tin or tin alloy plating bath. To that end, as described above, first, the generation of stannic oxide fine particles should be suppressed as much as possible. ,Secondly,
When stannic oxide is generated due to long-term use or the like, it is efficient to increase the particle size of the oxide and capture and remove it with a filter. Therefore, the antioxidant of the present invention is basically used independently for the first problem, and the aggregation promoter of the present invention is basically used independently for the second problem. However, the antioxidant of the present invention generally has an aggregation promoting action. Therefore, the first and second problems can be satisfied at the same time, and the aggregation promoter can be omitted by utilizing the antioxidant.

【0072】(3)本発明5のように、メッキ浴に界面活
性剤を追加混合すると、スズ又はスズ合金メッキ皮膜の
粒子外観、密着性、緻密性などをさらに良好に促進でき
る。
(3) As in the present invention 5, when a surfactant is additionally added to the plating bath, the appearance of particles, adhesion, and denseness of the tin or tin alloy plating film can be further favorably promoted.

【0073】(4)本発明6又は7のように、メッキ浴に
光沢剤又は半光沢剤を追加混合すると、メッキ皮膜の光
沢性或は平滑性を良好に促進できる。
(4) As in the present invention 6 or 7, when a brightener or semi-brightener is additionally mixed into the plating bath, the gloss or smoothness of the plating film can be favorably promoted.

【0074】(5)本発明8又は9のように、電気メッキ
浴を調製するに当たり、別途に新規の酸化防止剤、或は
凝集促進剤を酸、界面活性剤、半光沢剤などの(水溶液
の)少なくともいずれかに予め混入してから、建浴時に
他の浴構成成分と合わせると、酸化第二スズの凝集促進
作用を一層高く保持できるとともに、メッキ浴に当該酸
化防止剤、或は凝集促進剤を均一に溶解でき、浴の調製
が楽になる。
(5) As in the case of the present invention 8 or 9, when preparing an electroplating bath, a novel antioxidant or a coagulation accelerator may be separately added to an aqueous solution such as an acid, a surfactant, a semi-brightening agent or the like. ) Is mixed in advance with at least one of them and then combined with other bath components at the time of bathing, so that the coagulation promoting action of stannic oxide can be kept higher and the antioxidant or coagulation The accelerator can be dissolved uniformly and the preparation of the bath becomes easy.

【0075】(6)本発明10又は11は、一体調製を終
えたスズ又はスズ合金メッキ浴に替えて、スズ塩の濃厚
水溶液に本発明1〜3の新規の酸化防止剤、カテコール
スルホン酸、ヒドロキノンスルホン酸、ナフトールスル
ホン酸、或は、周知、公知の酸化防止剤を添加して、ス
ズ塩水溶液の第一スズイオンの酸化を抑制する貯蔵方法
であり、添加対象のスズ塩水溶液が濃厚なので、所定量
のスズ塩を含有する水溶液全体の容量を減量でき、貯蔵
容器をコンパクトにまとめて、貯蔵の省スペース化が図
れる。通常、メッキ浴の構成成分であるスズ塩の酸化は
半年間で5%以内に抑制する必要があるが、スズ塩の濃
厚水溶液に酸化防止剤を添加することで、この課題を円
滑に達成でき、しかも、酸化防止剤の含有率は10pp
m(好ましくは100ppm)以上の少量でも効果があ
る。このため、スズ塩の濃厚水溶液に酸化防止剤を含有
させる方式は、メッキ浴を一体的に管理するのに替わり
得る充分に実用的な貯蔵方法である。
(6) The present invention 10 or 11 is characterized in that the novel antioxidant of the present invention 1 to 3, catecholsulfonic acid, Hydroquinone sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, or a well-known, well-known antioxidant is a storage method for suppressing the oxidation of stannous ions in a tin salt aqueous solution, since the tin salt aqueous solution to be added is concentrated, The volume of the entire aqueous solution containing a predetermined amount of tin salt can be reduced, the storage containers can be made compact, and the storage space can be saved. Usually, the oxidation of tin salt, which is a component of the plating bath, needs to be suppressed within 5% within six months. However, by adding an antioxidant to a concentrated aqueous solution of tin salt, this problem can be smoothly achieved. Moreover, the content of the antioxidant is 10 pp.
Even small amounts of m (preferably 100 ppm) are effective. For this reason, the method of including an antioxidant in a concentrated aqueous solution of a tin salt is a sufficiently practical storage method that can be used instead of integrally managing the plating bath.

【0076】[0076]

【実施例】以下、スズ又はスズ合金の電気メッキ浴の実
施例を順次説明するとともに、各実施例のメッキ浴を長
期にエアレーションした際の酸化第二スズによる浴の懸
濁の度合を経時的に測定した試験例を述べる。尚、本発
明は下記の実施例に拘束されるものではなく、本発明の
技術的思想の範囲内で多くの変形をなし得ることは勿論
である。
EXAMPLES In the following, examples of tin or tin alloy electroplating baths will be sequentially described, and the degree of suspension of the bath by stannic oxide when the plating bath of each embodiment is aerated for a long period of time will be described. An example of the test is described below. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and it goes without saying that many modifications can be made within the scope of the technical idea of the present invention.

【0077】下記の実施例1〜11はスズ−鉛合金メッ
キ浴であり、このうち、実施例1〜9は新規の酸化防止
剤を添加した例、実施例10〜11は新規の凝集促進剤
を添加した例である。また、実施例12〜19はスズ−
鉛合金以外のスズ合金メッキ浴、実施例20〜21はス
ズメッキ浴である。
Examples 1 to 11 below are tin-lead alloy plating baths. Among them, Examples 1 to 9 are examples in which a new antioxidant is added, and Examples 10 to 11 are new aggregation promoters. This is an example in which is added. In Examples 12 to 19, tin-
Tin alloy plating baths other than lead alloys, Examples 20 to 21 are tin plating baths.

【0078】《実施例1》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 没食子酸 1.2g/L 但し、調製は全ての浴構成成分を同時に混合する一浴方
式により実施した。また、メッキ浴中の4価のスズイオ
ンの含有率の初期値は約3g/Lであった(この調製方
式並びに初期値は、以下の実施例2〜21、比較例1〜5
ともに同じ)。
Example 1 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Gallic acid 1.2 g / L The test was carried out by a one-bath system in which the bath components were simultaneously mixed. Further, the initial value of the content of tetravalent tin ions in the plating bath was about 3 g / L (this preparation method and initial values are described in Examples 2 to 21 and Comparative Examples 1 to 5 below).
Both are the same).

【0079】《実施例2》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.4g/L
Example 2 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 3,4-dihydroxybenzoic acid 1.4 g / L

【0080】《実施例3》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 4−メチルカテコール 1.1g/L
Example 3 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 4-methylcatechol 1.1 g / L

【0081】《実施例4》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 2.4g/L
Example 4 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sodium sulfonate 2 .4g / L

【0082】《実施例5》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール 1.3g/L
Example 5 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 3,4-dihydroxybenzyl alcohol 1.3 g / L

【0083】《実施例6》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L グアヤコール 1.1g/L
Example 6 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Guayacol 1.1 g / L

【0084】《実施例7》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール 1.3g/L
Example 7 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 2 (4-hydroxyphenyl) ethyl alcohol 1.3 g / L L

【0085】《実施例8》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 2−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウム 3.5g/L
Example 8 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Dipotassium 2-naphthol-6,8-disulfonic acid 3 .5g / L

【0086】《実施例9》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 2,3−ジヒドロキシナフタレン −5−スルホン酸ナトリウム 2.4g/L
Example 9 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 2,3-dihydroxynaphthalene-5-sodium 5-sulfonate 2 .4g / L

【0087】《実施例10》下記の組成でスズ−鉛合金
メッキ浴を調製した(凝集促進剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 酒石酸 10g/L
Example 10 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding a coagulation accelerator). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Tartaric acid 10 g / L

【0088】《実施例11》下記の組成でスズ−鉛合金
メッキ浴を調製した(凝集促進剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L リン酸二水素アンモニウム 0.2g/L
Example 11 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding a coagulation accelerator). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Ammonium dihydrogen phosphate 0.2 g / L

【0089】《実施例12》下記の組成でスズ−コバル
ト合金メッキ浴を調製した(凝集促進剤の添加例)。 塩化第一スズ 45g/L 硫酸コバルト 300g/L メタンスルホン酸 50g/L グルコン酸 80g/L pH(アンモニア水で調整) 4.0 リン酸二水素アンモニウム 0.1g/L
Example 12 A tin-cobalt alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding a coagulation promoter). Stannous chloride 45 g / L Cobalt sulfate 300 g / L Methanesulfonic acid 50 g / L Gluconic acid 80 g / L pH (adjusted with ammonia water) 4.0 Ammonium dihydrogen phosphate 0.1 g / L

【0090】《実施例13》下記の組成によりスズ−イ
ンジウム合金メッキ浴を調製した(凝集促進剤の添加
例)。 2−プロパノールスルホン酸第一スズ(Sn2+として)10g/L 塩化インジウム(In3+として) 10g/L 2−プロパノールスルホン酸 100g/L グルコン酸ナトリウム 100g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 2.0 酒石酸 1g/L
Example 13 A tin-indium alloy plating bath having the following composition was prepared (an example of adding a coagulation accelerator). Stannous 2-propanol sulfonate (as Sn 2+ ) 10 g / L Indium chloride (as In 3+ ) 10 g / L 2-propanol sulfonic acid 100 g / L Sodium gluconate 100 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 2.0 Tartaric acid 1g / L

【0091】《実施例14》下記の組成でスズ−ニッケ
ル合金メッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 塩化第一スズ 45g/L 塩化ニッケル(6水和物) 300g/L 塩化アンモニウム 100g/L 塩酸(35%) 50ml/L フッ化アンモニウム 60g/L pH(アンモニア水で調整) 4.0 カテコール 1.0g/L 没食子酸 1.2g/L
Example 14 A tin-nickel alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous chloride 45 g / L Nickel chloride (hexahydrate) 300 g / L Ammonium chloride 100 g / L Hydrochloric acid (35%) 50 ml / L Ammonium fluoride 60 g / L pH (adjusted with aqueous ammonia) 4.0 Catechol 1. 0g / L Gallic acid 1.2g / L

【0092】《実施例15》下記の組成でスズ−ビスマ
ス合金メッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 40g/L メタンスルホン酸ビスマス(Bi3+として) 4g/L メタンスルホン酸 100g/L ポリオキシエチレンラウリルアミン(EO10) 5g/L 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.2g/L
Example 15 A tin-bismuth alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 40 g / L Bismuth methanesulfonate (as Bi 3+ ) 4 g / L Methanesulfonic acid 100 g / L Polyoxyethylene laurylamine (EO10) 5 g / L 3,4-dihydroxy Benzoic acid 1.2g / L

【0093】《実施例16》下記の組成でスズ−銀合金
メッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 17.5g/L メタンスルホン酸銀(Ag+として) 0.5g/L メタンスルホン酸 10g/L グルコン酸 0.9mol/L ヨウ化カリウム 1.5mol/L トリエタノールアミン 0.15mol/L モノエタノールアミンとo−バニリンの反応物 4g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 4.5 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 2.4g/L
Example 16 A tin-silver alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 17.5 g / L Silver methanesulfonate (as Ag + ) 0.5 g / L Methanesulfonic acid 10 g / L Gluconic acid 0.9 mol / L Potassium iodide 1.5 mol / L Triethanolamine 0.15 mol / L Reaction product of monoethanolamine and o-vanillin 4 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 4.5 2,3-Dihydroxynaphthalene-6-sodium sulfonate 2.4 g / L L

【0094】《実施例17》下記の組成でスズ−亜鉛合
金メッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 スルホコハク酸第一スズ(Sn2+として) 24g/L スルホコハク酸亜鉛(Zn2+として) 6g/L スルホコハク酸 0.6mol/L ナフトールポリエトキシレート(EO13) 2g/L ラウリルジメチルアンモニウムベタイン 0.1g/L L−アスコルビン酸 1.0g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 4.5 3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール 1.3g/L
Example 17 A tin-zinc alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous sulfosuccinate (as Sn 2+ ) 24 g / L Zinc sulfosuccinate (as Zn 2+ ) 6 g / L Sulfosuccinic acid 0.6 mol / L Naphthol polyethoxylate (EO13) 2 g / L Lauryldimethylammonium betaine 0.1 g / L L-ascorbic acid 1.0 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 4.5 3,4-dihydroxybenzyl alcohol 1.3 g / L

【0095】《実施例18》下記の組成によりスズ−ア
ンチモン合金メッキ浴を調製した(酸化防止剤の添加
例)。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 塩化アンチモン(SbCl3) 0.4g/L 硫酸 100g/L フッ化アンモニウム 5g/L にかわ 0.5g/L フェノール 5g/L 没食子酸 1.0g/L
Example 18 A tin-antimony alloy plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Antimony chloride (SbCl 3 ) 0.4 g / L Sulfuric acid 100 g / L Ammonium fluoride 5 g / L Glue 0.5 g / L Phenol 5 g / L Gallic acid 1.0 g / L

【0096】《実施例19》下記の組成によりスズ−銅
合金メッキ浴を調製した(凝集促進剤の添加例)。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸銅(CuSO4) 5g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 19 A tin-copper alloy plating bath was prepared according to the following composition (example of adding a coagulation promoter). Stannous sulfate (SnSO 4) 50g / L copper sulfate (CuSO 4) 5g / L sulfuric acid 100 g / L nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10g / L 2- mercaptobenzothiazole 0.5 g / L-tartaric acid 1.0 g / L

【0097】《実施例20》下記の組成によりスズメッ
キ浴を調製した(酸化防止剤の添加例)。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 20g/L 2−プロパノールスルホン酸 150g/L o−クレゾールスルホン酸 10g/L α−ナフトールポリエトキシレート(EO10) 10g/L 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 2.0g/L
Example 20 A tin plating bath having the following composition was prepared (example of adding an antioxidant). Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 20 g / L 2-propanolsulfonic acid 150 g / L o-cresolsulfonic acid 10 g / L α-naphthol polyethoxylate (EO10) 10 g / L 2,3-dihydroxynaphthalene − Sodium 6-sulfonate 2.0g / L

【0098】《実施例21》下記の組成によりスズメッ
キ浴を調製した(凝集促進剤の添加例)。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 21 A tin plating bath having the following composition was prepared (an example of addition of an aggregation promoter). Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Sulfuric acid 100 g / L Nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10 g / L 2-mercaptobenzothiazole 0.5 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0099】《比較例1》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例1は酸化防止剤も凝集促
進剤も添加しない、いわばスズ−鉛合金メッキ浴のブラ
ンク例である。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L
Comparative Example 1 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Comparative Example 1 is a blank example of a so-called tin-lead alloy plating bath in which neither an antioxidant nor an aggregation promoter was added. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L

【0100】《比較例2》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例2では、公知の酸化防止
剤であるカテコールを添加した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール 1.0g/L
Comparative Example 2 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. In Comparative Example 2, catechol, a known antioxidant, was added. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Catechol 1.0 g / L

【0101】《比較例3》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例3では、公知の凝集促進
剤であるポリアクリルアミドを添加した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L ポリアクリルアミド 0.05g/L 尚、上記ポリアクリルアミドは分子量1千万程度の市販
品を使用した。
Comparative Example 3 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. In Comparative Example 3, polyacrylamide, which is a known aggregation promoter, was added. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L polyacrylamide 0.05 g / L The above polyacrylamide is A commercial product having a molecular weight of about 10 million was used.

【0102】《比較例4》下記の組成でスズメッキ浴を
調製した。当該比較例4は酸化防止剤も凝集促進剤も添
加しない、いわばスズメッキ浴のブランク例である。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L
Comparative Example 4 A tin plating bath having the following composition was prepared. Comparative Example 4 is a so-called tin plating bath blank example in which neither an antioxidant nor a coagulation accelerator was added. Stannous sulfate (SnSO 4) 50g / L sulfuric acid 100 g / L nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10g / L 2- mercaptobenzothiazole 0.5 g / L

【0103】《比較例5》下記の組成でスズメッキ浴を
調製した。当該比較例5では、公知の酸化防止剤である
カテコールを添加した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 20g/L 2−プロパノールスルホン酸 150g/L o−クレゾールスルホン酸 10g/L α−ナフトールポリエトキシレート(EO10) 10g/L カテコール 1.0g/L
Comparative Example 5 A tin plating bath having the following composition was prepared. In Comparative Example 5, catechol, a known antioxidant, was added. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 20 g / L 2-propanolsulfonic acid 150 g / L o-cresolsulfonic acid 10 g / L α-naphthol polyethoxylate (EO10) 10 g / L Catechol 1.0 g / L

【0104】そこで、各メッキ浴に長期のエアレーショ
ンを施して、下記に示す試験例の要領で、各メッキ浴に
おける酸化第二スズの発生度合(即ち、第一スズイオンの
酸化の程度)、発生した酸化第二スズの粒子径、並びに
浴の濁りの程度を1週間ごとを基本として経時的に夫々
測定した。
Then, a long-term aeration was applied to each plating bath, and the degree of stannic oxide generation (that is, the degree of oxidation of stannous ions) in each plating bath was generated according to the test example shown below. The particle size of stannic oxide and the degree of turbidity of the bath were measured over time on a weekly basis.

【0105】《メッキ浴の経時評価試験例》調製した各
スズ又はスズ合金浴のメッキ液を1リットルのトールビ
ーカーに500mL入れ、このビーカーを50℃に保持
した恒温槽に収容した。次いで、メッキ液にポンプによ
り空気を1.5L/分の割合で連続的に吹き込んでエア
レーション(バブリング)を行った。
<< Evaluation Test Example of Plating Bath with Time >> 500 mL of the prepared plating solution for each tin or tin alloy bath was put into a 1-liter tall beaker, and this beaker was placed in a thermostat maintained at 50 ° C. Next, aeration (bubbling) was performed by continuously blowing air into the plating solution at a rate of 1.5 L / min using a pump.

【0106】(1)酸化第二スズの発生量の測定 上記空気の吹き込み操作を最長35日程度の期間継続
し、所定日数の経過時点ごとに各メッキ液を試料として
採取し、液中のSn2+とSn4+の全体の含有率を原子吸
光光度法で、また、Sn2+の含有率をヨード滴定法で夫
々測定して、前者から後者を減じることにより、各試料
中の4価のスズイオン(Sn4+)の含有率(%)を各々算出
し、浴中での酸化第二スズの発生量を評価した。但し、
当該測定で得られる酸化第二スズは浴中に粒子として懸
濁しているもの、或は溶解しているものの両方を含むと
推定される。
(1) Measurement of the amount of generated stannic oxide The air blowing operation was continued for a maximum of about 35 days, and each plating solution was sampled as a sample every predetermined number of days, and Sn in the solution was sampled. The total content of 2+ and Sn 4+ was measured by atomic absorption spectrometry, and the content of Sn 2+ was measured by iodometric titration, and the latter was subtracted from the former to obtain tetravalent in each sample. Was calculated for each tin ion (Sn 4+ ), and the amount of stannic oxide generated in the bath was evaluated. However,
It is presumed that the stannic oxide obtained in the measurement includes both those suspended as particles in the bath and those dissolved therein.

【0107】(2)酸化第二スズの粒子径の測定 上記(1)のエアレーション操作の開始後、所定日数経過
時点での各メッキ液を試料として採取し、各試料中に発
生した酸化第二スズ粒子のメジアン径(μm)をレーザー
回折式粒度分布測定装置(LA−500;堀場製作所
(株)製)を用いて測定した。
(2) Measurement of Particle Size of Stannic Oxide After the start of the aeration operation in (1) above, each plating solution was sampled as a sample after a lapse of a predetermined number of days, and the stannic oxide generated in each sample was sampled. Laser diffraction type particle size distribution analyzer (LA-500; Horiba, Ltd.)
(Manufactured by K.K.).

【0108】(3)メッキ液の濁りの測定 上記(1)のエアレーション操作の開始後、所定日数経過
時点での各メッキ液を濾過処理しないでそのまま試料と
して採取し、各試料の吸光度を純水をリファレンスとし
て波長660nmにおいて分光光度計(U−2000形
ダブルビーム分光光度計;(株)日立製作所製)を用いて
夫々測定した。
(3) Measurement of turbidity of plating solution After the start of the aeration operation in (1) above, each plating solution was sampled as it was without filtering, and the absorbance of each sample was measured using pure water. Was measured at a wavelength of 660 nm using a spectrophotometer (U-2000 type double beam spectrophotometer; manufactured by Hitachi, Ltd.).

【0109】《メッキ浴の評価》図1A・B・C〜図14
A・B・C及び図15A・B・C〜図19A・B・Cはその結
果を示す。本発明は基本的にスズ又はスズ合金メッキ浴
中の第一スズイオンの酸化と、酸化物の凝集の問題であ
り、また、各種のスズ合金メッキ浴の間では類似、或は
近似した傾向の試験結果が得られ、スズ−鉛合金浴でス
ズ合金メッキ浴を代表させることが可能なので、以下の
各メッキ浴の評価では、スズ−鉛合金メッキ浴とスズメ
ッキ浴をモデルケースとして評価するとともに、スズ−
鉛合金以外のスズ合金メッキ浴としては、スズ−ビスマ
ス合金浴を一例だけ別記するにとどめた。
<< Evaluation of Plating Bath >> FIGS. 1A, 1B, 1C to 14
A, B, and C and FIGS. 15A, B, C to 19A, B, and C show the results. The present invention is basically a matter of oxidation of stannous ions in a tin or tin alloy plating bath and agglomeration of oxides, and a test of similar or similar tendency among various tin alloy plating baths. The results were obtained, and the tin-lead alloy bath can be represented by a tin alloy plating bath.In the following evaluation of each plating bath, the tin-lead alloy plating bath and the tin plating bath were evaluated as model cases, and the tin-plating bath was evaluated. −
As a tin alloy plating bath other than a lead alloy, only a tin-bismuth alloy bath is described separately.

【0110】(1)酸化第二スズの発生量の比較評価(各図
のB参照) スズ−鉛合金メッキ浴に関して 酸化第二スズの発生量は、先ず、比較例1(ブランク)で
は、試験開始から2週間経過時点にかけて85%越えに
向かって急勾配で増大したが(図15B参照)、公知の酸
化防止剤(カテコール)を添加した比較例2では、ほぼ1
0%弱〜20%の範囲で推移し(図16B参照)、一定の
酸化防止効果が認められた。また、公知の凝集促進剤
(ポリアクリルアミド)を添加した比較例3では、ブラン
クと同様の結果であった。これに対して、新規の酸化防
止剤を添加した実施例1〜6及び9では、やはり10%
〜20%前後で推移し、カテコールと同様の酸化防止効
果が認められた。実施例7〜8では日数が経過するに伴
い発生量が若干増えたが、ブランクに比して明確な酸化
防止効果が窺えた。また、新規の凝集促進剤を添加した
実施例10〜11では、ブランクの比較例1と同様の結
果を示し、当然ながら酸化防止効果は期待できないこと
が判った。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 実施例15(図12B参照)に示すように、新規の酸化防
止剤(3,4−ジヒドロキシ安息香酸)を加えると、酸化
第二スズの発生量はほぼ10%前後に抑えることがで
き、スズ−鉛合金メッキ浴と同様の結果であった。 スズメッキ浴に関して 実施例20(図13B参照)に示すように、新規の酸化防
止剤(2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸
ナトリウム)を加えると、酸化第二スズの発生量はほぼ
10%弱に抑えることができ、同じく公知の酸化防止剤
(カテコール)を加えた比較例5(図19B参照)より一歩
優れた酸化防止効果が見られた。しかし、新規の凝集促
進剤(酒石酸)を加えた実施例21(図14B参照)では、
ブランクの比較例4(図18B参照)と同様に、酸化防止
効果は期待できなかった。
(1) Comparative evaluation of the amount of stannic oxide generated (see B in each figure) Regarding the tin-lead alloy plating bath, the amount of stannic oxide generated was first tested in Comparative Example 1 (blank). Although it increased steeply toward 85% over two weeks after the start (see FIG. 15B), in Comparative Example 2 to which a known antioxidant (catechol) was added, almost 1% was obtained.
The transition was in the range of slightly less than 0% to 20% (see FIG. 16B), and a certain antioxidant effect was observed. Also, known coagulation accelerators
In Comparative Example 3 in which (polyacrylamide) was added, the result was the same as that of the blank. On the other hand, in Examples 1 to 6 and 9 to which a new antioxidant was added, 10%
推移 20%, and the same antioxidant effect as catechol was observed. In Examples 7 and 8, the amount of generation slightly increased with the passage of days, but a clear antioxidant effect was observed as compared with the blank. Further, in Examples 10 to 11 in which a new aggregation promoter was added, the same results as in Comparative Example 1 of the blank were shown, and it was found that the antioxidant effect could not be expected as a matter of course. Regarding tin-bismuth alloy plating bath As shown in Example 15 (see FIG. 12B), when a new antioxidant (3,4-dihydroxybenzoic acid) is added, the amount of generated stannic oxide is about 10%. And the result was similar to that of the tin-lead alloy plating bath. Regarding the tin plating bath As shown in Example 20 (see FIG. 13B), when a new antioxidant (sodium 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonate) is added, the amount of generated stannic oxide is almost 10%. Can be kept low, also known antioxidants
(Catechol), an antioxidant effect superior to Comparative Example 5 (see FIG. 19B) was observed. However, in Example 21 (see FIG. 14B) in which a new aggregation promoter (tartaric acid) was added,
As in Comparative Example 4 of the blank (see FIG. 18B), no antioxidant effect could be expected.

【0111】(2)酸化第二スズのメジアン径の比較評価
(各図のA参照) スズ−鉛合金メッキ浴に関して 発生した酸化第二スズのメジアン径は、先ず、ブランク
の比較例1では2μm以下でコロイド粒子として浴に懸
濁していることが判った。カテコールを添加した比較例
2では、やはり2μm前後の微粒子として推移し、凝集
促進効果がないことが判った。ポリアクリルアミドを添
加した比較例3では、酸化第二スズの粒子径が増大し、
一定の凝集促進効果が認められた。これに対して、新規
の酸化防止剤を添加した実施例1では、メジアン径が1
週間経過ごろから急速に増大し、2〜4週間に60μm
程度に達して高い凝集能力を示した。実施例2も4週間
の期間を通じて7μm前後以上の凝集能力を示し、4週
間経過時点でも当初の凝集能力を保持した。特に、実施
例3は2週間程度で160μmを越える顕著な凝集能力
を示した。実施例4も日数経過に伴いメジアン径が増大
し、4週間程度で18μmに近付いた。実施例5は日数
経過に伴いメジアン径は下がって来るが、それでも15
μm以上を保持していた。スルホン酸基の位置が異なる
2価ナフトール類である実施例9も同様の結果であっ
た。実施例8はカテコールより優れた凝集能力を示し、
実施例6、7はカテコール並みであった。新規の凝集促
進剤(酒石酸)を添加した実施例10は1週間経過時点か
ら8μm以上の凝集能力を示し、リン酸二水素アンモニ
ウムを添加した実施例11は酒石酸より優れた凝集能力
を示した。また、図示省略したが、酒石酸のナトリウム
塩、カリウム塩などの塩類は酒石酸と同じような結果で
あった。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 実施例15(図12A参照)に示すように、新規の酸化防
止剤を加えると、酸化第二スズのメジアン径は10μm
以上に成長し、スズ−鉛合金メッキ浴と同様の凝集能力
を示した。 スズメッキ浴に関して 新規の酸化防止剤を加えた実施例20(図13A参照)、
及び新規の凝集促進剤を加えた実施例21(図14A参
照)ともに、酸化第二スズのメジアン径は成長を続けて
増大し、ブランクの比較例4(図18A参照)やカテコー
ルのみを加えた比較例5(図19A参照)に比べて、顕著
な凝集能力が認められた。
(2) Comparative evaluation of median diameter of stannic oxide
(See A in each figure.) Regarding the tin-lead alloy plating bath, the median diameter of the generated stannic oxide was 2 μm or less in Comparative Example 1 of the blank, and it was found that it was suspended in the bath as colloidal particles. In Comparative Example 2 to which catechol was added, the fine particles also changed to about 2 μm, indicating no aggregation promoting effect. In Comparative Example 3 in which polyacrylamide was added, the particle size of stannic oxide increased,
A certain coagulation promoting effect was observed. On the other hand, in Example 1 in which a new antioxidant was added, the median diameter was 1
It increases rapidly from about a week, and 60 μm in 2 to 4 weeks
To a high degree, showing a high coagulation capacity. Example 2 also showed an aggregation ability of about 7 μm or more over a period of 4 weeks, and retained the original aggregation ability even after 4 weeks. In particular, Example 3 showed a remarkable aggregation ability exceeding 160 μm in about two weeks. Also in Example 4, the median diameter increased with the passage of days, approaching 18 μm in about 4 weeks. In Example 5, although the median diameter decreases with the passage of days, the median diameter still decreases by 15 days.
μm or more was maintained. Example 9 in which divalent naphthols differing in the position of the sulfonic acid group had similar results. Example 8 shows better aggregation ability than catechol,
Examples 6 and 7 were comparable to catechol. Example 10 in which a new aggregation promoting agent (tartaric acid) was added showed an aggregation ability of 8 μm or more after one week, and Example 11 in which ammonium dihydrogen phosphate was added showed an aggregation ability superior to tartaric acid. Further, although not shown, salts such as sodium salt and potassium salt of tartaric acid had similar results to tartaric acid. Regarding tin-bismuth alloy plating bath As shown in Example 15 (see FIG. 12A), when a new antioxidant is added, the median diameter of stannic oxide becomes 10 μm.
It grew as described above and exhibited the same coagulation ability as the tin-lead alloy plating bath. Example 20 in which a new antioxidant was added for a tin plating bath (see FIG. 13A),
In both Example 21 and the new coagulation promoter-added example (see FIG. 14A), the median diameter of stannic oxide continued to grow and increased, and only blank Comparative Example 4 (see FIG. 18A) and catechol were added. As compared with Comparative Example 5 (see FIG. 19A), remarkable aggregation ability was observed.

【0112】(3)吸光度の比較評価(各図のC参照) スズ−鉛合金メッキ浴に関して 浴の濁りが大きいと吸光度も増し、基本的に濁りと吸光
度は比例関係にある。先ず、ブランクの比較例1では日
数経過に伴い、濁りも増した。ポリアクリルアミドを添
加した比較例3、及びカテコールを添加した比較例2の
勾配は比較例1よりは少し緩やかであるが、類似の結果
であった。これに対して、新規の酸化防止剤を添加した
実施例3、5〜8は初期並びに日数経過に伴う濁りが小
さく、特に、実施例5〜8は優れていた。実施例1〜
2、4、及び9は濁りの点はカテコールに一歩譲るが、
ブランクの比較例1のように直線的な増大傾向は示さ
ず、ある一定値以上には濁りは進行しなかった。新規の
凝集促進剤を添加した実施例10、11も濁りの点では
見るべきものは少なかった。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 新規の酸化防止剤を加えた実施例15(図12C参照)で
は、スズ−鉛合金メッキ浴と同様に、初期並びに日数経
過に伴う濁りが小さかった。 スズメッキ浴に関して 新規の酸化防止剤を加えた実施例20(図13C参照)で
は、やはり初期並びに日数経過に伴う濁りが小さかっ
た。また、新規の凝集促進剤を加えた実施例21(図1
4C参照)やカテコールのみを加えた比較例5(図19C
参照)では、ブランクの比較例4(図18C参照)のよう
に直線的な増大傾向ではないが、上記実施例20に比べ
て濁りが増した。
(3) Comparative evaluation of absorbance (see C in each figure) Tin-lead alloy plating bath Absorbance increases when the turbidity of the bath is large, and turbidity and the absorbance are basically in a proportional relationship. First, the turbidity increased with the passage of days in the blank Comparative Example 1. Although the slopes of Comparative Example 3 to which polyacrylamide was added and Comparative Example 2 to which catechol was added were slightly gentler than Comparative Example 1, similar results were obtained. On the other hand, Examples 3 and 5 to 8 to which the new antioxidant was added showed little turbidity at the initial stage and with the passage of days, and Examples 5 to 8 were particularly excellent. Example 1
2, 4, and 9 give the turbidity a step further to catechol,
The blank did not show a linear increasing tendency as in Comparative Example 1, and the turbidity did not progress beyond a certain value. In Examples 10 and 11 to which a new coagulation accelerator was added, there were few things to be seen in terms of turbidity. Regarding the tin-bismuth alloy plating bath In Example 15 (see FIG. 12C) to which a new antioxidant was added, the turbidity with the initial and days elapsed was small as in the case of the tin-lead alloy plating bath. In the case of Example 20 (see FIG. 13C) in which a new antioxidant was added to the tin plating bath, the turbidity with the initial and days elapsed was also small. Example 21 (FIG. 1) containing a new aggregation promoter was added.
4C) and Comparative Example 5 in which only catechol was added (FIG. 19C).
(See FIG. 18C), the turbidity increased compared to Example 20 although the blank did not have a linear increasing tendency as in Comparative Example 4 (see FIG. 18C).

【0113】(4)総合評価 スズ−鉛合金メッキ浴に関して 公知の酸化防止剤を添加したメッキ浴(比較例2)では、
酸化第二スズの発生に一定の防止効果はあるが、発生し
た酸化第二スズは微粒子のまま存在し、浴の濁りも減少
しなかった(図16参照)。また、公知の凝集促進剤を添
加したメッキ浴(比較例3)では、逆に、酸化第二スズの
発生を防止する効果はなく、浴の濁りも増したが、発生
した酸化第二スズ粒子に対して一定の凝集能力を示した
(図17参照)。これに対して、新規の酸化防止剤を添加
した実施例1〜9では、総じて、酸化第二スズの発生を
有効に抑制できるとともに、発生した酸化第二スズ粒子
の凝集能力も高く、第一スズイオンの酸化防止能力とそ
の酸化物粒子の凝集促進能力を兼備していた。また、メ
ッキ浴の濁りを抑制できる場合が多かった。新規の凝集
促進剤を添加した実施例10〜11では、酸化第二スズ
の発生防止効果は期待できないが、酸化第二スズ粒子の
凝集能力は高かった。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 新規の酸化防止剤を添加した実施例15(図12参照)で
は、スズ−鉛合金メッキ浴と同様に、第一スズイオンの
酸化防止能力とその酸化物粒子の凝集促進能力を兼備し
ていた。また、メッキ浴の濁りも比較的抑制できた。 スズメッキ浴に関して ブランクの比較例4(図18参照)やカテコールのみを加
えた比較例5(図19参照)と比較すると、新規の酸化防
止剤を加えた実施例20(図13参照)は第一スズイオン
の酸化防止能力とその酸化物粒子の凝集促進能力を良好
に兼備していた。また、新規の凝集促進剤を加えた実施
例21(図14参照)は優れた酸化第二スズの凝集能力を
示した。従って、スズメッキ浴に新規の酸化防止剤、或
は凝集促進剤を加えた効果は、ほぼスズ−鉛合金メッキ
浴と同様の傾向であった。
(4) Comprehensive evaluation Regarding the tin-lead alloy plating bath In the plating bath to which a known antioxidant was added (Comparative Example 2),
Although there was a certain prevention effect on the generation of stannic oxide, the generated stannic oxide remained as fine particles, and the turbidity of the bath did not decrease (see FIG. 16). On the other hand, in the plating bath (Comparative Example 3) to which the known coagulation accelerator was added, on the contrary, the effect of preventing the generation of stannic oxide was not increased and the turbidity of the bath was increased. Showed a certain coagulation ability
(See FIG. 17). On the other hand, in Examples 1 to 9 in which a new antioxidant was added, the generation of stannic oxide can be effectively suppressed as a whole, and the generated stannic oxide particles have a high aggregation ability. It had both the ability to prevent oxidation of tin ions and the ability to promote the aggregation of oxide particles. In many cases, turbidity of the plating bath could be suppressed. In Examples 10 to 11 in which a new aggregation promoter was added, the effect of preventing the generation of stannic oxide could not be expected, but the aggregation ability of the stannic oxide particles was high. Regarding the tin-bismuth alloy plating bath In Example 15 (see FIG. 12) in which a new antioxidant was added, similarly to the tin-lead alloy plating bath, the antioxidant ability of stannous ions and the promotion of agglomeration of the oxide particles were obtained. He had the ability. In addition, the turbidity of the plating bath was relatively suppressed. Regarding the tin plating bath, in comparison with Comparative Example 4 (see FIG. 18) of a blank and Comparative Example 5 (see FIG. 19) in which only catechol was added, Example 20 (see FIG. 13) in which a new antioxidant was added was the first. The antioxidant ability of tin ions and the ability to promote the aggregation of the oxide particles were well combined. Further, Example 21 (see FIG. 14) to which a novel aggregation promoter was added showed excellent aggregation ability of stannic oxide. Therefore, the effect of adding a new antioxidant or a coagulation promoter to the tin plating bath was almost the same as that of the tin-lead alloy plating bath.

【0114】以上のように、本発明の新規の酸化防止剤
をスズ或はスズ合金メッキ浴に添加すると、第一スズイ
オンの酸化防止作用と酸化第二スズの凝集促進作用を兼
ね備えるので、浴中の第一スズイオンの酸化を有効に抑
制できるとともに、長期使用でメッキ浴の酸化が進行し
て酸化第二スズの微粒子が発生した場合でも、当該粒子
を凝集促進し、或は結晶成長させてメジアン径を増大さ
せることができる。このため、メッキ装置に付設した濾
過機を用いて酸化第二スズの粒子を容易に捕捉・除去す
ることができ、もってメッキ浴の透明度を経時的に安定
化(長期に持続)できる。本発明の新規の凝集促進剤を添
加した場合も、同様に酸化第二スズ粒子の凝集を促進
し、メッキ浴の透明度を長期に持続できる。
As described above, when the novel antioxidant of the present invention is added to a tin or tin alloy plating bath, the antioxidant has a function of preventing oxidation of stannous ions and a function of promoting aggregation of stannic oxide. In addition to effectively suppressing the oxidation of stannous ions, even when the oxidation of the plating bath progresses over a long period of use and fine particles of stannic oxide are generated, the particles are promoted to agglomerate, or the median is grown by crystal growth. The diameter can be increased. For this reason, the stannic oxide particles can be easily captured and removed by using a filter attached to the plating apparatus, whereby the transparency of the plating bath can be stabilized with time (continued for a long time). Even when the novel aggregation promoter of the present invention is added, the aggregation of stannic oxide particles is similarly promoted, and the transparency of the plating bath can be maintained for a long time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1のスズ−鉛合金メッキ浴にエアレーシ
ョンを施した場合の試験結果を示す図であり、図1Aは
発生した酸化第二スズ粒子のメジアン径を示す経時変化
図、図1Bは浴中での4価のスズイオンの含有率を示す
経時変化図、図1Cは浴の吸光度を示す経時変化図であ
る。
FIG. 1 is a view showing a test result when aeration is applied to a tin-lead alloy plating bath of Example 1, and FIG. 1A is a time-dependent change diagram showing a median diameter of generated stannic oxide particles, and FIG. 1B. FIG. 1 is a temporal change diagram showing the content of tetravalent tin ions in the bath, and FIG. 1C is a temporal change diagram showing the absorbance of the bath.

【図2】実施例2のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 2 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 2.

【図3】実施例3のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 3 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 3.

【図4】実施例4のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 4 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 4.

【図5】実施例5のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 5 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 5.

【図6】実施例6のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 6.

【図7】実施例7のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 7 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 7.

【図8】実施例8のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 8 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 8.

【図9】実施例9のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 9 is a view corresponding to FIG. 1, showing a tin-lead alloy plating bath of Example 9.

【図10】実施例10のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図
1相当図である。
FIG. 10 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 10.

【図11】実施例11のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図
1相当図である。
FIG. 11 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 11.

【図12】実施例15のスズ−ビスマス合金メッキ浴を
示す図1相当図である。
FIG. 12 is a view corresponding to FIG. 1, illustrating a tin-bismuth alloy plating bath of Example 15.

【図13】実施例20のスズメッキ浴を示す図1相当図
である。
FIG. 13 is a view corresponding to FIG. 1, showing a tin plating bath of Example 20.

【図14】実施例21のスズメッキ浴を示す図1相当図
である。
FIG. 14 is a view corresponding to FIG. 1, showing a tin plating bath of Example 21.

【図15】比較例1のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
FIG. 15 shows a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 1.
FIG.

【図16】比較例2のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
FIG. 16 shows a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 2.
FIG.

【図17】比較例3のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
FIG. 17 shows a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 3.
FIG.

【図18】比較例4のスズメッキ浴を示す図1相当図で
ある。
FIG. 18 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Comparative Example 4.

【図19】比較例5のスズメッキ浴を示す図1相当図で
ある。
FIG. 19 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Comparative Example 5.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉本 雅一 兵庫県明石市二見町南二見21番地の8 株 式会社大和化成研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Masakazu Yoshimoto, Inventor of Daiwa Kasei Research Laboratories at 21 Minami Futami, Futami-cho, Akashi City, Hyogo Prefecture

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)第一スズ塩と、第一スズ塩及び鉛、
銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケル、コバル
ト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の塩の混合物
とのいずれかよりなる可溶性塩、 (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた酸の少なくとも
一種、 (C)下記の(1)〜(2)式に示す酸化防止剤の少なくとも一
種、 【化1】 (式(1)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n=1、m=1
の場合、RはSO3Hを除く;n=1、m=2の場合、
RはSO3HとCH3の組み合わせを除く;n=2、m=
1の場合、RはSO3Xを除く。) 【化2】 (式(2)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n、m=1の場
合、RはSO3Hを除く。)を含有することを特徴とする
スズ及びスズ合金メッキ浴。
(A) stannous salt, stannous salt and lead,
A soluble salt composed of any one of a mixture of salts of a metal selected from silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony; (B) alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, and aliphatic carboxylic acid Such as an organic acid, or at least one acid selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and hydrofluoric acid; (C) at least one antioxidant represented by the following formulas (1) to (2) , Embedded image (In the formula (1), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2, is halogen; n is an integer of from 1 to 4; m is an integer of 1-2, provided that when the m = 2, R
Are the same or different substituents; n = 1, m = 1
R excludes SO 3 H; n = 1, m = 2;
R excludes the combination of SO 3 H and CH 3 ; n = 2, m =
If 1, R excludes SO 3 X. ) (In the formula (2), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2, is halogen; n is an integer of from 1 to 4; m is an integer of 1-2, provided that when the m = 2, R
Are the same or different substituents from each other; when n and m = 1, R excludes SO 3 H. ), Comprising a tin and tin alloy plating bath.
【請求項2】 (1)式の酸化防止剤が下記の(3)〜(4)式
で表される化合物の少なくとも一種 【化3】 (式(3)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。) 【化4】 (式(4)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)であることを特徴とする
請求項1に記載のスズ及びスズ合金メッキ浴。
2. The antioxidant of the formula (1) is at least one of the compounds represented by the following formulas (3) to (4): (In the formula (3), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. ) (In the formula (4), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. 2. The tin and tin alloy plating bath according to claim 1, wherein
【請求項3】 (2)式の酸化防止剤が下記の(5)〜(6)式
で表される化合物の少なくとも一種 【化5】 (式(5)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。) 【化6】 (式(6)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである。)であることを特徴とする
請求項1又は2に記載のスズ及びスズ合金メッキ浴。
3. The antioxidant of the formula (2) is at least one of the compounds represented by the following formulas (5) to (6): (In the formula (5), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., NH 4 etc.), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium, etc., N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. ) (In the formula (6), R is SO 3 X (X is hydrogen, sodium, potassium, calcium or the like, NH 4 or the like), COOY (Y is hydrogen, sodium, potassium, calcium or the like, N
H 4 ), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 and halogen. The tin and tin alloy plating bath according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 (A)第一スズ塩と、第一スズ塩及び鉛、
銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケル、コバル
ト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の塩の混合物
とのいずれかよりなる可溶性塩、 (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種
の酸、 (C)酒石酸、酒石酸ナトリウム、酒石酸アンモニウム、
酒石酸カリウム、酒石酸カルシウム、酒石酸マグネシウ
ム、ロッシェル塩などの酒石酸塩、リン酸一水素ナトリ
ウム、リン酸二水素アンモニウムなどのリン酸水素塩な
どから選ばれた酸化第二スズ微粒子の凝集促進剤の少な
くとも一種を含有することを特徴とするスズ及びスズ合
金メッキ浴。
(A) stannous salt, stannous salt and lead,
A soluble salt composed of any one of a mixture of salts of a metal selected from silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony; (B) alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, and aliphatic carboxylic acid Such as organic acids, or at least one acid selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and hydrofluoric acid; (C) tartaric acid, sodium tartrate, ammonium tartrate;
At least one kind of coagulation accelerator for stannic oxide fine particles selected from potassium tartrate, calcium tartrate, magnesium tartrate, tartrate such as Rochelle salt, and hydrogen phosphate such as sodium monohydrogen phosphate and ammonium dihydrogen phosphate A tin and tin alloy plating bath, characterized by containing:
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載のメ
ッキ浴に加えて、さらに界面活性剤を含有することを特
徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴。
5. A tin and tin alloy plating bath, which further comprises a surfactant in addition to the plating bath according to claim 1. Description:
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載のメ
ッキ浴に加えて、さらに光沢剤を含有することを特徴と
するスズ及びスズ合金メッキ浴。
6. A tin and tin alloy plating bath, which further comprises a brightener in addition to the plating bath according to claim 1. Description:
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載のメ
ッキ浴に加えて、さらに半光沢剤を含有することを特徴
とするスズ及びスズ合金メッキ浴。
7. A tin and tin alloy plating bath, which further comprises a semi-brightening agent in addition to the plating bath according to claim 1. Description:
【請求項8】 請求項1〜3及び5〜7のいずれか1項
に記載のメッキ浴において、酸化防止剤を酸、可溶性金
属塩、界面活性剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なくとも
いずれかに予め混入し、建浴時に当該混合物を残りの浴
構成成分と混合することを特徴とするスズ及びスズ合金
メッキ浴の調製方法。
8. The plating bath according to claim 1, wherein the antioxidant is at least one of an acid, a soluble metal salt, a surfactant, a brightener, and a semi-brightener. A method for preparing a tin and tin alloy plating bath, wherein the mixture is mixed in advance with any one of the components and the mixture is mixed with the remaining bath components at the time of building the bath.
【請求項9】 請求項4〜7のいずれか1項に記載のメ
ッキ浴において、凝集促進剤を酸、可溶性金属塩、界面
活性剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なくともいずれかに
予め混入し、建浴時に当該混合物を残りの浴構成成分と
混合することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴の
調製方法。
9. The plating bath according to claim 4, wherein the coagulation promoter is added to at least one of an acid, a soluble metal salt, a surfactant, a brightener, and a semi-brightener. A method for preparing a tin and tin alloy plating bath, comprising mixing and mixing the mixture with the remaining bath components at the time of bathing.
【請求項10】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の
酸化防止剤をスズ塩の濃厚水溶液に添加し、当該水溶液
中の第一スズイオンの酸化を抑制することを特徴とする
スズ及びスズ合金メッキ浴用スズ塩水溶液の貯蔵方法。
10. An antioxidant according to claim 1, which is added to a concentrated aqueous solution of a tin salt to suppress oxidation of stannous ions in the aqueous solution. How to store tin salt aqueous solution for tin alloy plating bath.
【請求項11】 カテコール、ヒドロキノン、レゾルシ
ン、ピロガロール、フロログルシン、フェノールスルホ
ン酸、クレゾールスルホン酸、カテコールスルホン酸、
ヒドロキノンスルホン酸、ナフトールスルホン酸、アス
コルビン酸、或はこれらの塩などから選ばれた酸化防止
剤の少なくとも一種をスズ塩の濃厚水溶液に添加し、当
該水溶液中の第一スズイオンの酸化を抑制することを特
徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴用スズ塩水溶液の貯
蔵方法。
11. Catechol, hydroquinone, resorcin, pyrogallol, phloroglucin, phenolsulfonic acid, cresolsulfonic acid, catecholsulfonic acid,
Adding at least one antioxidant selected from hydroquinone sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, ascorbic acid, or a salt thereof to a concentrated aqueous solution of a tin salt to suppress oxidation of stannous ions in the aqueous solution. A method for storing a tin salt aqueous solution for a tin and tin alloy plating bath.
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