JP3425645B2 - Tin and tin alloy plating baths, methods for managing and preparing the plating baths - Google Patents

Tin and tin alloy plating baths, methods for managing and preparing the plating baths

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JP3425645B2 JP33639297A JP33639297A JP3425645B2 JP 3425645 B2 JP3425645 B2 JP 3425645B2 JP 33639297 A JP33639297 A JP 33639297A JP 33639297 A JP33639297 A JP 33639297A JP 3425645 B2 JP3425645 B2 JP 3425645B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電気メッキ用のスズ
及びスズ合金メッキ浴、並びにその管理方法及び調製方
法に関し、酸化防止剤と凝集促進剤を組み合わせて添加
することにより、酸化第二スズの発生を抑制するととも
に、濁りを抑制して透明度を持続的に安定化できるメッ
キ浴を提供する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a tin and tin alloy plating bath for electroplating, and a control method and a preparation method thereof. By adding a combination of an antioxidant and a coagulation accelerator, stannic oxide (EN) A plating bath capable of suppressing generation and suppressing turbidity and continuously stabilizing transparency.

【0002】[0002]

【発明の背景】近年、スズメッキ浴又はスズ−鉛合金な
どのスズ合金メッキ浴は半田付け性を向上させるための
皮膜として、半導体デバイス、コネクター、チップ部品
等の電子部品の表面処理用として広範に利用されてい
る。当該スズ又はスズ合金メッキ浴の分野では、塩酸、
硫酸、ホウフッ化水素酸などの無機酸や、有機スルホン
酸、脂肪族カルボン酸などの有機酸をベースとするメッ
キ浴が用いられているが、中でも、排水処理性が良く、
メッキ浴の腐食性が低いなどの理由からアルカンスルホ
ン酸、アルカノールスルホン酸などの有機スルホン酸を
ベースとするメッキ浴が広く普及している。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, tin plating baths or tin alloy plating baths such as tin-lead alloys have been widely used for surface treatment of electronic parts such as semiconductor devices, connectors and chip parts as films for improving solderability. It's being used. In the field of the tin or tin alloy plating bath, hydrochloric acid,
Inorganic acids such as sulfuric acid and borofluoric acid, and plating baths based on organic acids such as organic sulfonic acids and aliphatic carboxylic acids are used.
Plating baths based on organic sulfonic acids such as alkane sulfonic acids and alkanol sulfonic acids are widely used because of their low corrosiveness.

【0003】しかしながら、このようなスズ又はスズ合
金メッキ浴では、一般に、長期使用するに連れて浴中の
第一スズイオンが空気中の酸素による酸化や陽極酸化を
受けて第二スズイオンに変化し、さらにこのイオンが加
水分解して酸化第二スズの微粒子が発生してしまう。こ
の酸化第二スズの微粒子の粒子径は0.1μm〜数μm
の範囲で分布しているため、当該粒子はメッキ浴中に沈
降せずに懸濁粒子となって分散し、メッキ浴の透明度は
著しく低下する。
However, in such a tin or tin alloy plating bath, in general, stannous ions in the bath are converted to stannic ions by being oxidized or anodized by oxygen in the air with long-term use, Further, the ions are hydrolyzed to generate fine particles of stannic oxide. The particle size of the fine particles of stannic oxide is 0.1 μm to several μm.
Since the particles are distributed within the range, the particles do not settle in the plating bath and are dispersed as suspended particles, and the transparency of the plating bath is significantly reduced.

【0004】通常、メッキ装置にはメッキ浴に混入した
異物を除去する等の目的で濾過機が付設されており、メ
ッキ浴を連続的に濾過している。しかし、濾過に使用さ
れるフィルターは圧損、メンテナンスの容易性、或はコ
スト等の制約から、そのポアサイズは数μm〜数十μm
のものが使用されるため、フィルターのポアサイズより
メッキ浴中に懸濁している上記酸化第二スズの微粒子の
方が微細となり、濾過機で当該微粒子を捕捉して除去す
ることはほとんど困難であった。
Usually, the plating apparatus is provided with a filter for the purpose of removing foreign matters mixed in the plating bath, and the plating bath is continuously filtered. However, the filter used for filtration has a pore size of several μm to several tens of μm due to pressure loss, ease of maintenance, and constraints such as cost.
Since the fine particles of stannic oxide suspended in the plating bath become finer than the pore size of the filter, it is almost difficult to capture and remove the fine particles with a filter. It was

【0005】一方、スズ又はスズ合金メッキ浴中に発生
する酸化第二スズの微粒子はその表面に多くの水分子を
吸着していると考えられるため、当該微粒子の存在下で
スズ又はスズ合金メッキを施すと、電着皮膜中には多く
の水分子を吸着した酸化第二スズの粒子が共析すること
になる。このように、酸化第二スズと共に多くの水分子
がメッキ皮膜中に含まれると、メッキが施された部品を
半田付けするときの熱により、水が気化して大きく体積
膨張するため、半田接合部にボイド(気泡)が発生すると
いう問題が出て来る。
On the other hand, since the fine particles of stannic oxide generated in the tin or tin alloy plating bath are considered to adsorb many water molecules on the surface thereof, tin or tin alloy plating is performed in the presence of the fine particles. When this is applied, stannic oxide particles adsorbing many water molecules are co-deposited in the electrodeposition film. In this way, when many water molecules are contained in the plating film together with stannic oxide, the heat of soldering the plated components causes the water to evaporate and greatly expand in volume. There is a problem that voids (air bubbles) are generated in the part.

【0006】因みに、最近では電子部品は年々小型化し
て、半田付けにより接合される面積も微細化して来てい
るため、接合部における接合強度の信頼性の確保が強く
求められているが、上述のようなボイドが生じると、接
合強度の信頼性を著しく損なうことになる。このため、
スズ又はスズ合金メッキ浴においては、長期使用で発生
する酸化第二スズを円滑に除去することが重要な課題と
なっている。
By the way, recently, electronic parts have been downsized year by year and the area to be joined by soldering has been miniaturized. Therefore, it is strongly demanded to secure the reliability of the joining strength at the joining portion. When such voids occur, the reliability of the bonding strength is significantly impaired. For this reason,
In tin or tin alloy plating baths, smooth removal of stannic oxide generated during long-term use has become an important issue.

【0007】[0007]

【従来の技術】スズの電気メッキ浴の従来技術1として
は、特開昭56−116894号公報に、メッキ浴の導
電性を高め、従来の酸性或はアルカリ性浴に比べて排水
処理が容易であるなどの理由からピロリン酸の中性メッ
キ浴をベースにして、これに二価のスズの酸化を防止す
るなどの目的で、ヒドラジン、次亜リン酸、亜リン酸、
アスコルビン酸又はこれらの塩などを添加するスズメッ
キ浴が開示されている。
2. Description of the Related Art As the prior art 1 for tin electroplating bath, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-116894 discloses that the electroconductivity of the plating bath is increased so that wastewater treatment is easier than conventional acid or alkaline baths. For the reason such as being based on the neutral plating bath of pyrophosphoric acid, for the purpose of preventing the oxidation of divalent tin, hydrazine, hypophosphorous acid, phosphorous acid,
A tin plating bath to which ascorbic acid or a salt thereof is added is disclosed.

【0008】また、スズ−鉛合金の電気メッキ浴の従来
技術2としては、特開昭59−193296号公報に、
塩化第一スズ、酢酸鉛及び塩酸をベースにして、4価の
スズを2価に還元する還元剤として二塩化ヒドラジン、
或はハイドロキノン、次亜リン酸などを添加するスズ−
鉛合金メッキ浴が開示されている。
Further, as a prior art 2 of a tin-lead alloy electroplating bath, Japanese Patent Laid-Open No. 193296/1984 discloses:
Hydrazine dichloride as a reducing agent for reducing tetravalent tin to divalent based on stannous chloride, lead acetate and hydrochloric acid,
Or tin with addition of hydroquinone, hypophosphorous acid, etc.
A lead alloy plating bath is disclosed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術1又は2
は、共にハイドロキノンや次亜リン酸などの酸化防止剤
(或は還元剤)をメッキ浴に添加することにより、電気メ
ッキ浴中の第一スズイオン(Sn2+)の酸化防止を意図し
たものであるが、これらの公知の酸化防止剤などでは、
第一スズイオンの酸化速度をある程度遅延させる効果は
あるが、使用期間が2〜3カ月を経過する頃から酸化第
二スズの懸濁粒子が発生し、メッキ浴が濁って透明度が
失われる場合が多い。そして、一旦メッキ浴がこのよう
な状態に品質低下すると、前述のように、浴の濁りの原
因となっている酸化第二スズの懸濁粒子の除去が困難で
あることから、メッキ浴から得られる電着皮膜の接合強
度の信頼性を確保することもできなくなる。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention Prior Art 1 or 2
Are both antioxidants such as hydroquinone and hypophosphorous acid.
By adding (or a reducing agent) to the plating bath, it is intended to prevent the oxidation of stannous ions (Sn 2+ ) in the electroplating bath. With these known antioxidants, etc.,
Although it has the effect of delaying the oxidation rate of stannous ions to some extent, suspended particles of stannic oxide may be generated from the time when the usage period is over 2 to 3 months, and the plating bath may become turbid and lose transparency. Many. Once the quality of the plating bath deteriorates to such a state, it is difficult to remove suspended particles of stannic oxide, which causes the turbidity of the bath, as described above. It also becomes impossible to secure the reliability of the bonding strength of the electrodeposition coating.

【0010】以上のように、スズ又はスズ合金の電気メ
ッキ浴では、酸化第二スズの微粒子がボイドの原因とな
るため、先ず、酸化第二スズの発生を有効に抑制すると
ともに、酸化第二スズの発生がメッキ浴の濁りに関連す
ることから、浴の濁りを抑えて透明度を持続する措置を
講じるのが現実的である。本発明はこの方針に基づい
て、スズ又はスズ合金メッキ浴の透明度を経時的に安定
化させることを技術的課題とする。
As described above, in the tin or tin alloy electroplating bath, the fine particles of stannic oxide cause voids. Since the generation of tin is related to the turbidity of the plating bath, it is realistic to take measures to suppress the turbidity of the bath and maintain the transparency. Based on this policy, the present invention aims to stabilize the transparency of a tin or tin alloy plating bath over time.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、スズメッ
キ浴、或はスズ−鉛合金などのスズ合金メッキ浴中の第
一スズイオンの酸化を抑制する方策を研究するととも
に、濁りの原因をなす当該酸化物(即ち、酸化第二スズ)
の浴中での挙動を調べた。一般に、スズメッキ浴又はス
ズ合金メッキ浴に酸化第二スズが発生すると浴の濁りは
進行するが、酸化第二スズの浴中での挙動は不明な点が
多く、推量の域を出ないが、酸化第二スズは微粒子の状
態で浴に懸濁しているばかりではなく、水和などにより
部分的には溶解しているとも考えられるため、全てが濁
りにつながるとも断定し難い。その一方で、浴中に生じ
た酸化第二スズの微粒子は極めて結晶成長又は凝集しに
くく、微細なまま存在しようとする性質を持ち、これが
浴の濁りを解消できない主因であるのは、ほぼ間違いな
い。
Means for Solving the Problems The present inventors have studied a method for suppressing the oxidation of stannous ions in a tin plating bath or a tin alloy plating bath such as a tin-lead alloy, and have investigated the cause of turbidity. Egg oxide (that is, stannic oxide)
The behavior in the bath was investigated. Generally, when stannic oxide is generated in the tin plating bath or the tin alloy plating bath, the turbidity of the bath progresses, but the behavior of stannic oxide in the bath is unclear at many points, which is beyond the speculation range, Stannous oxide is considered to be not only suspended in the form of fine particles in the bath but also partially dissolved due to hydration, etc., so it is difficult to determine that everything will become cloudy. On the other hand, the fine particles of stannic oxide formed in the bath are extremely unlikely to undergo crystal growth or aggregation, and have the property of existing as fine particles, and this is the main reason why the turbidity of the bath cannot be eliminated. Absent.

【0012】そこで、本発明者らは、メッキ浴に酸化第
二スズの微粒子が発生してしまった場合には、この酸化
第二スズの微粒子の結晶成長を促進したり、微粒子同士
を合体凝集させて粒子径を大きくすることにより、間欠
的な濾過処理でこれらの粒子を捕捉可能にしてメッキ浴
から除去し、もって浴の濁りを抑えて、透明度を持続さ
せることを着想した。本出願人は、酸化第二スズの粒子
径を増大させるという上記着想に基づいて鋭意研究の結
果、特定のリン化合物が酸化第二スズの微粒子を結晶成
長、或は凝集促進させることを突き止め、先に、特願平
9−165322号で提案した。
[0012] Therefore, the inventors of the present invention, when fine particles of stannic oxide are generated in the plating bath, promote the crystal growth of the fine particles of stannic oxide, or coalesce and aggregate the fine particles. By enlarging the particle size, it was possible to capture these particles by an intermittent filtration process to remove them from the plating bath, thereby suppressing turbidity of the bath and maintaining transparency. As a result of intensive research based on the above idea of increasing the particle size of stannic oxide, the present applicant has found that a specific phosphorus compound promotes crystal growth or aggregation of stannic oxide particles, It was previously proposed in Japanese Patent Application No. 9-165322.

【0013】次いで、本発明者らは、スズ、或はスズ合
金メッキ浴の濁りを抑制することに主眼を置いて研究を
進める過程で、例えば、カテコールスルホン酸、ナフト
ールスルホン酸、或は没食子酸、3,4−ジヒドロキシ
安息香酸などと、ポリアクリルアミド、ピロリン酸、或
は酒石酸などとの組み合わせのように、酸化防止剤と凝
集促進剤を浴に併用添加すると、浴中の第一スズイオン
の酸化を抑制するだけではなく、浴の間欠的な濾過処理
により、メッキ浴の濁りを抑えて透明度を長期に亘り経
時安定化できることを見い出し、本発明を完成した。
Next, in the course of proceeding with the research, the inventors of the present invention focused on suppressing the turbidity of tin or tin alloy plating bath, for example, catechol sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, or gallic acid. When an antioxidant and a coagulation accelerator are added together to the bath, such as a combination of 3,4-dihydroxybenzoic acid and polyacrylamide, pyrophosphoric acid, or tartaric acid, the stannous ion in the bath is oxidized. In addition to suppressing the above, it was found that the turbidity of the plating bath can be suppressed and the transparency can be stabilized for a long period of time by intermittent filtration treatment of the bath, and the present invention has been completed.

【0014】即ち、本発明1は、(A)第一スズ塩と、第
一スズ塩及び鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニ
ッケル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金
属の塩の混合物とのいずれかよりなる可溶性塩、 (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種
の酸、 (C)3,4−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシカテ
コール、3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール、4
−メチルカテコール、没食子酸、o−メトキシフェノー
ル、2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール、
2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸類、
2,3−ジヒドロキシナフタレン−5−スルホン酸類、
2−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウム、或
はこれらの塩よりなる群から選ばれた酸化防止剤の少な
くとも一種、 (D)リン化合物、酒石酸、酒石酸ナトリウム、酒石酸ア
ンモニウム、酒石酸カリウム、酒石酸カルシウム、酒石
酸マグネシウム、ロッシェル塩などの酒石酸塩、ポリア
クリルアミドなどの高分子系凝集剤よりなる群から選ば
れた酸化第二スズ微粒子の凝集促進剤の少なくとも一種
を含有することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴
である。
That is, the present invention 1 is (A) a stannous salt and a salt of a stannous salt and a metal selected from lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony. Selected from the group consisting of (B) organic acids such as alkane sulfonic acid, alkanol sulfonic acid, and aliphatic carboxylic acid, or inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and borofluoric acid. At least one acid, (C) 3,4-dihydroxybenzoic acid, 4-methoxycate
Cole, 3,4-dihydroxybenzyl alcohol, 4
-Methylcatechol, gallic acid, o-methoxypheno
2 (4-hydroxyphenyl) ethyl alcohol,
2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonic acids,
2,3-dihydroxynaphthalene-5-sulfonic acids,
2-Naphthol-6,8-disulfonate dipotassium, or
Is a small amount of antioxidants selected from the group consisting of these salts.
At least one, selected from the group consisting of (D) phosphorus compounds, tartaric acid, sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium tartrate, tartrate salts such as calcium tartrate, magnesium tartrate and Rochelle salt, and polymeric flocculants such as polyacrylamide. A tin and tin alloy plating bath containing at least one kind of aggregation promoter of stannic oxide fine particles.

【0015】[0015]

【0016】本発明2は、上記本発明1のメッキ浴に加
えて、さらに界面活性剤を含有することを特徴とするス
ズ及びスズ合金メッキ浴である。
The present invention 2 is a tin and tin alloy plating bath characterized in that it further contains a surfactant in addition to the plating bath of the present invention 1 .

【0017】本発明3は、上記本発明1又は2のメッキ
に加えて、さらに光沢剤を含有することを特徴とする
スズ及びスズ合金メッキ浴である。
The third aspect of the present invention is the plating according to the first or second aspect of the present invention.
In addition to the bath , a tin and tin alloy plating bath is characterized by further containing a brightening agent.

【0018】本発明4は、上記本発明1〜3のいずれか
のメッキ浴に加えて、さらに半光沢剤を含有することを
特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴である。
The present invention 4 is any one of the above inventions 1 to 3.
The tin and tin alloy plating bath is characterized in that it further contains a semi-brightening agent in addition to the above plating bath.

【0019】本発明5は、(A)第一スズ塩と、第一スズ
塩及び鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケ
ル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の
塩の混合物とのいずれかよりなる可溶性金属塩、及び (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた酸、その塩の少
なくとも一種を含有するスズ及びスズ合金メッキ浴にお
いて、上記可溶性金属塩(A)と酸(B)に、下記の(1)〜
(2)式に示す化合物、カテコールスルホン酸、ヒドロキ
ノンスルホン酸、ナフトールスルホン酸、カテコール、
ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロール、フロログル
シン、フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、
アスコルビン酸、或はこれらの塩よりなる群から選ばれ
た酸化防止剤(C)と、上記本発明1の凝集促進剤(D)と
を併用添加し、
The present invention 5 is (A) a mixture of a stannous salt and a stannous salt and a salt of a metal selected from lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony. And (B) an organic acid such as alkane sulfonic acid, alkanol sulfonic acid or aliphatic carboxylic acid, or an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or borofluoric acid. In a tin and tin alloy plating bath containing at least one of an acid and its salt, the soluble metal salt (A) and the acid (B) are added with the following (1) to
The compound represented by the formula (2), catechol sulfonic acid, hydroxy
Non-sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, catechol,
Hydroquinone, resorcin, pyrogallol, phloroglu
Syn, phenol sulfonic acid, cresol sulfonic acid,
Selected from the group consisting of ascorbic acid or salts thereof
The antioxidant (C) and the aggregation promoter (D) of the present invention 1 are added in combination,

【化3】 (式(1)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n=1、m=1
の場合、RはSO3Hを除く;n=1、m=2の場合、
RはSO3HとCH3の組み合わせを除く;n=2、m=
1の場合、RはSO3Xを除く。)
[Chemical 3] (In the formula (1), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium and calcium, NH 4 etc.), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
Are mutually the same or different substituents; n = 1, m = 1
In the case of, R excludes SO 3 H; in the case of n = 1 and m = 2,
R excludes combinations of SO 3 H and CH 3 ; n = 2, m =
In the case of 1, R excludes SO 3 X. )

【化4】 (式(2)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)当該酸化防止剤と
凝集促進剤の共存下で間欠的に濾過処理を繰り返して酸
化第二スズ粒子を浴外に捕捉・除去することにより、メ
ッキ浴の濁りを防止して透明度を経時的に安定可能にす
ることを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴の管理方
法である。
[Chemical 4] (In the formula (2), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, NH 4 and the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. ) By intermittently repeating the filtration treatment in the coexistence of the antioxidant and the coagulation promoter to capture and remove the stannic oxide particles outside the bath, the turbidity of the plating bath is prevented and the transparency is improved with time. It is a method of controlling tin and tin alloy plating baths, which is characterized by making it stable.

【0020】本発明6は、(A)第一スズ塩と、第一スズ
塩及び鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケ
ル、コバルト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の
塩の混合物とのいずれかよりなる可溶性金属塩、及び (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種
の酸を含有し、或は、さらに、界面活性剤、光沢剤、半
光沢剤の少なくともいずれかを含有するスズ及びスズ合
金メッキ浴において、上記本発明5の酸化防止剤並びに
上記本発明1の凝集促進剤を、酸、可溶性金属塩、界面
活性剤、光沢剤、或は半光沢剤の少なくともいずれかに
予め混入し、建浴時に当該混合物を残りの浴構成成分と
混合することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴の
調製方法である。
The present invention 6 is (A) a mixture of a stannous salt and a stannous salt and a salt of a metal selected from lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony. And (B) an organic acid such as alkane sulfonic acid, alkanol sulfonic acid or aliphatic carboxylic acid, or an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or borofluoric acid. In a tin and tin alloy plating bath containing at least one acid, or further containing at least one of a surfactant, a brightening agent and a semi-brightening agent, the antioxidant of the present invention 5
The aggregating promoter of the present invention 1 is mixed in advance with at least one of an acid, a soluble metal salt, a surfactant, a brightener, and a semi-brightener, and the mixture is mixed with the remaining bath constituents at the time of building a bath. A method for preparing a tin and tin alloy plating bath, comprising:

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】本発明は、第一に、特定の酸化防
止剤と凝集促進剤とを含有するスズ又はスズ合金メッキ
浴であり、第二に、スズ又はスズ合金メッキ浴の管理方
法であり、第三に、同スズ又はスズ合金メッキ浴の調製
方法である。この場合、第二〜第三の発明の酸化防止剤
及び凝集促進剤は、下記に示すように、公知の化合物を
含めて広く使用できる。第一の発明は、これらの酸化防
止剤及び凝集促進剤、特に酸化防止剤を特定化合物に限
定したものである。 上記第二〜第三の発明(即ち、本発
明5〜6)の管理方法又は調製方法で使用される酸化防
止剤は、上記(1)式の特定フェノール類と(2)式の特定ナ
フトール類として一般的に表される化合物、或は、カテ
コールスルホン酸、ヒドロキノンスルホン酸、ナフトー
ルスルホン酸、カテコール、ヒドロキノン、レゾルシ
ン、ピロガロール、フロログルシン、フェノールスルホ
ン酸、クレゾールスルホン酸、アスコルビン酸、或はこ
れらの塩よりなる群から選ばれたものである。上記(1)
式のフェノール類は、例えば、下記の(3)式で表される
1個の置換基を有するカテコール類や、(4)式で表され
る1個の置換基を有するピロガロール類が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is firstly directed to a specific antioxidant.
Tin or tin alloy plating containing a stopping agent and a coagulation promoter
Bath, secondly, how to manage tin or tin alloy plating bath
Third, the preparation of the same tin or tin alloy plating bath
Is the way. In this case, the antioxidant of the second to third inventions
And the aggregation accelerator, as shown below, a known compound
Can be widely used including. The first invention is to prevent these oxidation.
Antioxidants and aggregation promoters, especially antioxidants limited to specific compounds
It is a fixed one. The second to third inventions (that is, the present invention)
Antioxidant used in the control method or preparation method of 5-6)
The stopping agent is a compound generally represented by the specific phenols of the formula (1) and the specific naphthols of the formula (2), or catechol sulfonic acid, hydroquinone sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, catechol, hydroquinone, Resorcy
, Pyrogallol, phloroglucin, phenol sulfo
Acid, cresol sulfonic acid, ascorbic acid, or
It is selected from the group consisting of these salts. Above (1)
Examples of the phenols of the formula include catechols having one substituent represented by the following formula (3) and pyrogallols having one substituent represented by the formula (4).

【化5】 (式(3)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)
[Chemical 5] (In the formula (3), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, or calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, or calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. )

【化6】 (式(4)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)
[Chemical 6] (In the formula (4), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium and calcium, NH 4 etc.), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. )

【0022】また、(2)式の2価ナフトール類としては
下記に示す(5)式で表される6位に置換基を有する2,3
−ジヒドロキシナフタレンや、(6)式で表される5位に
置換基を有する2,3−ジヒドロキシナフタレンが好ま
しい。
Further, the divalent naphthols of the formula (2) have a substituent at the 6-position represented by the formula (5) below, 2,3
-Dihydroxynaphthalene and 2,3-dihydroxynaphthalene having a substituent at the 5-position represented by the formula (6) are preferable.

【化7】 (式(5)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)
[Chemical 7] (In the formula (5), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, calcium, or the like, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. )

【化8】 (式(6)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)
[Chemical 8] (In the formula (6), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, or calcium, NH 4 or the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium, or calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. )

【0023】上記(3)式のカテコール類の具体例は、次
の通りである。 3,4−ジヒドロキシ安息香酸(下記の(7)式参照)
Specific examples of the catechols of the above formula (3) are as follows. 3,4-dihydroxybenzoic acid (see formula (7) below)

【化9】 4−メトキシカテコール(下記の(8)式参照)[Chemical 9] 4-methoxycatechol (see formula (8) below)

【化10】 3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール(下記の(9)
式参照)
[Chemical 10] 3,4-dihydroxybenzyl alcohol ((9) below
(See formula)

【化11】 4−メチルカテコール(下記の(10)式参照)[Chemical 11] 4-methylcatechol (see formula (10) below)

【化12】 カテコールの多価スルホン酸ナトリウム(タイロンを
含む;下記の(11)式参照)
[Chemical 12] Catechol sodium polysulfonate (including Tyrone; see formula (11) below)

【化13】 (式(11)中、nは2、3、4である。)[Chemical 13] (In the formula (11), n is 2, 3, and 4.)

【0024】上記(4)式のピロガロール類の具体例は、
没食子酸(下記の(12)式参照)などである。
Specific examples of the pyrogallols of the above formula (4) are:
For example, gallic acid (see formula (12) below).

【化14】 [Chemical 14]

【0025】また、上記(1)式のフェノール類に含まれ
る化合物としては、(3)式や(4)式の多価フェノール類に
属さないものであっても差し支えなく、その具体例は次
の通りである。 o−メトキシフェノール(慣用名グアヤコール、下記
の(13)式参照)
The compounds contained in the phenols of the above formula (1) may be those which do not belong to the polyhydric phenols of the formulas (3) and (4), and specific examples thereof are as follows. Is the street. o-Methoxyphenol (common name guaiacol, see formula (13) below)

【化15】 2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール(下記
の(14)式参照)
[Chemical 15] 2 (4-Hydroxyphenyl) ethyl alcohol (See formula (14) below)

【化16】 [Chemical 16]

【0026】一方、上記(5)式、或は(6)式の2価ナフト
ール類の具体例は、次の化合物などである。 2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸類
(下記の式(15)参照)
On the other hand, specific examples of the divalent naphthols of the above formula (5) or formula (6) are the following compounds. 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonic acids
(See formula (15) below)

【化17】 (式(15)中、Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム等の金属、NH4などである。) 2,3−ジヒドロキシナフタレン−5−スルホン酸類
(下記の式(16)参照)
[Chemical 17] (In the formula (15), X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, or calcium, NH 4 or the like.) 2,3-dihydroxynaphthalene-5-sulfonic acid
(See formula (16) below)

【化18】 (式(16)中、Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム等の金属、NH4などである。)
[Chemical 18] (In the formula (16), X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium, or calcium, NH 4 or the like.)

【0027】また、上記(2)式のナフトール類に含まれ
る化合物としては、(5)式や(6)式の多価ナフトール類に
属さないものであっても差し支えなく、その具体例とし
ては2−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウム
(下記の(17)式参照)などが挙げられる。
Further, the compound contained in the naphthols of the above formula (2) may be one which does not belong to the polyvalent naphthols of the formulas (5) and (6), and its specific example is 2-Naphthol-6,8-disulfonate dipotassium
(See the formula (17) below) and the like.

【化19】 [Chemical 19]

【0028】上記式(1)の酸化防止剤にあっては、ベン
ゼン環に結合する水酸基の数nは1〜4であり、置換基
Rの数mは1〜2である。置換基Rが2個の場合は、両
方とも同一の置換基であっても良いし、スルホン酸基と
カルボキシル基のように異なるものであっても良い。但
し、水酸基と置換基が共に1個である場合、置換基Rは
スルホン酸基を除き、水酸基が1個で置換基が2個であ
る場合、置換基Rはスルホン酸基とメチル基の組み合わ
せを除き、水酸基が2個で置換基が1個である場合、置
換基Rはスルホン酸基(又はその塩)を除く。換言する
と、式(1)のフェノール類からフェノールスルホン酸、
クレゾールスルホン酸、カテコールスルホン酸類は除か
れる。
In the antioxidant of the above formula (1), the number n of hydroxyl groups bonded to the benzene ring is 1 to 4 and the number m of substituents R is 1 to 2. When the number of the substituents R is two, they may be the same, or may be different such as a sulfonic acid group and a carboxyl group. However, when both the hydroxyl group and the substituent are 1, the substituent R excludes the sulfonic acid group, and when the hydroxyl group is 1 and the substituent is 2, the substituent R is a combination of the sulfonic acid group and the methyl group. Except that when the number of hydroxyl groups is 2 and the number of substituents is 1, the substituent R excludes a sulfonic acid group (or a salt thereof). In other words, phenols of formula (1) to phenolsulfonic acid,
Cresol sulfonic acids and catechol sulfonic acids are excluded.

【0029】上記式(2)の酸化防止剤にあっては、ナフ
タレン環に結合する水酸基の数nは1〜4であり、置換
基Rの数mは1〜2である。置換基Rが2個の場合は、
共に同一の置換基であっても良いし、スルホン酸基とカ
ルボキシル基のように異なるものであっても良い。但
し、水酸基と置換基が共に1個である場合、置換基Rは
スルホン酸基を除き、換言すると、式(2)のナフトール
類からα−ナフトールスルホン酸、β−ナフトールスル
ホン酸などは除かれる。上記酸化防止剤の添加量はメッ
キ浴全体に対して、一般に0.05〜50g/L、好ま
しくは0.1〜10g/Lである。
In the antioxidant of the above formula (2), the number n of hydroxyl groups bonded to the naphthalene ring is 1 to 4 and the number m of substituents R is 1 to 2. When the number of substituents R is 2,
Both may be the same substituent, or may be different such as a sulfonic acid group and a carboxyl group. However, when both the hydroxyl group and the substituent are one, the substituent R excludes the sulfonic acid group, in other words, α-naphtholsulfonic acid, β-naphtholsulfonic acid, etc. are excluded from the naphthols of the formula (2). . The amount of the above-mentioned antioxidant added is generally 0.05 to 50 g / L, preferably 0.1 to 10 g / L, based on the whole plating bath.

【0030】上記本発明5〜6の管理方法又は調製方法
で使用する凝集促進剤は、リン化合物、酒石酸、或は、
酒石酸ナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸カリウ
ム、酒石酸カルシウム、酒石酸マグネシウム、ロッシェ
ル塩(酒石酸カリウムナトリウム)などの酒石酸塩、ポリ
アクリルアミドなどの高分子系凝集剤などをいう。上記
リン化合物は次の通りである。 (1)オルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、ポリリン
酸、次亜リン酸、亜リン酸、及びこれらのナトリウム
塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アン
モニウム塩、バリウム塩、鉄塩、亜鉛塩等の塩類、或は
リン酸一水素ナトリウム、リン酸二水素アンモニウムな
どのリン酸水素塩などの無機リン化合物。 (2)アミノトリ(メチレンホスホン酸)、1−ヒドロキシ
エチリデン−1−ジホスホン酸、エチレンジアミンテト
ラ(メチレンホスホン酸)、リン酸アルキル(例えば、エ
チルリン酸、ジエチルリン酸など)、及びこれらのナト
リウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩、アンモニウム塩、バリウム塩、鉄塩、亜鉛塩等の塩
類などの有機リン化合物。上記凝集促進剤は単用又は併
用でき、その添加量はメッキ浴全体に対して、一般に
0.01〜100g/L、好ましくは0.05〜10g/
L、より好ましくは0.1〜5g/Lである。
The control method or preparation method of the above inventions 5 to 6
The aggregating accelerator used in is a phosphorus compound, tartaric acid, or
It refers to sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium tartrate, calcium tartrate, magnesium tartrate, tartrate salts such as Rochelle's salt (potassium sodium tartrate), and polymeric flocculants such as polyacrylamide. The phosphorus compound is as follows. (1) Orthophosphoric acid, metaphosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, hypophosphorous acid, phosphorous acid, and their sodium salts, potassium salts, calcium salts, magnesium salts, ammonium salts, barium salts, iron salts, zinc salts Inorganic phosphorus compounds such as salts such as sodium phosphate monobasic, hydrogen phosphate such as ammonium dihydrogen phosphate, and the like. (2) aminotri (methylenephosphonic acid), 1-hydroxyethylidene-1-diphosphonic acid, ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), alkyl phosphates (e.g., ethylphosphoric acid, diethylphosphoric acid, etc.), and their sodium salts, potassium Organic phosphorus compounds such as salts, calcium salts, magnesium salts, ammonium salts, barium salts, iron salts, zinc salts and the like. The above coagulation accelerators can be used alone or in combination, and the addition amount thereof is generally 0.01 to 100 g / L, preferably 0.05 to 10 g / L with respect to the entire plating bath.
L, more preferably 0.1 to 5 g / L.

【0031】[0031]

【0032】本発明5〜6の管理方法又は調製方法で
は、基本的に、没食子酸、3,4−ジヒドロキシ安息香
酸、4−メチルカテコール、グアヤコール、ジヒドロキ
シナフタレンスルホン酸、ナフトールジスルホン酸など
の新規の酸化防止剤、或はカテコールスルホン酸、ヒド
ロキノンスルホン酸、ナフトールスルホン酸、或はこれ
らの塩に対しては、相手方の凝集促進剤の種類はあまり
拘束されず、自由に組み合わせることができる。また、
カテコール、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロー
ル、フロログルシン、フェノールスルホン酸、クレゾー
ルスルホン酸、アスコルビン酸、或はこれらの塩などの
周知又は公知の酸化防止剤に対しては、酒石酸、酒石酸
ナトリウム、酒石酸アンモニウムなどの酒石酸塩、リン
酸一水素ナトリウム、リン酸二水素アンモニウムなどの
リン酸水素塩、或はポリアクリルアミドなどの凝集促進
剤を組み合わせることができる。
In the control method or preparation method of the present invention 5-6
Is basically a novel antioxidant such as gallic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 4-methylcatechol, guaiacol, dihydroxynaphthalenesulfonic acid and naphtholdisulfonic acid, or catecholsulfonic acid, hydroquinonesulfonic acid, With respect to naphthol sulfonic acid or a salt thereof, the type of coagulation promoting agent on the other side is not so restricted and they can be freely combined. Also,
For well-known or known antioxidants such as catechol, hydroquinone, resorcin, pyrogallol, phloroglucin, phenolsulfonic acid, cresolsulfonic acid, ascorbic acid, or salts thereof, tartaric acid, sodium tartarate, tartaric acid such as ammonium tartarate, etc. A salt, a hydrogen phosphate such as sodium monohydrogen phosphate or ammonium dihydrogen phosphate, or an aggregation promoter such as polyacrylamide can be combined.

【0033】以上のように、本発明5〜6の管理方法又
は調製方法において、酸化防止剤に3,4−ジヒドロキ
シ安息香酸、没食子酸、ジヒドロキシナフタレンスルホ
ン酸、ナフトールジスルホン酸、カテコールスルホン酸
などを選択すると、相手方の凝集促進剤の種類にはあま
り拘束されずに、酸化第二スズの発生を抑制できるとと
もに、浴の透明性を長期に持続できる。逆に、凝集促進
剤に酒石酸及びその塩、リン酸水素塩、ポリアクリルア
ミドなどを選択すると、酸化防止剤の種類にはあまり拘
束されずに、同様の結果を得ることができる。一方、上
記第一の発明(即ち、本発明1)は、浴の濁りの抑制と透
明度の経時的安定性の見地から、上述の酸化防止剤と凝
集促進剤を特定成分に限定したものであり、特に、酸化
防止剤は公知の化合物とは異なる特定の化合物を選択し
たものである。 即ち、上記酸化防止剤は、3,4−ジヒ
ドロキシ安息香酸、4−メトキシカテコール、3,4−
ジヒドロキシベンジルアルコール、4−メチルカテコー
ル、没食子酸、o−メトキシフェノール、2(4−ヒド
ロキシフェニル)エチルアルコール、2,3−ジヒドロキ
シナフタレン−6−スルホン酸類、2,3−ジヒドロキ
シナフタレン−5−スルホン酸類、2−ナフトール−
6,8−ジスルホン酸二カリウム、或はこれらの塩より
なる群から選ばれたものの少なくとも一種である。ま
た、上記凝集促進剤は、リン化合物、酒石酸、酒石酸ナ
トリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸カリウム、酒石
酸カルシウム、酒石酸マグネシウム、ロッシェル塩など
の酒石酸塩、ポリアクリルアミドなどの高分子系凝集剤
よりなる群から選ばれたものの少なくとも一種である。
これら特定の酸化防止剤と凝集促進剤の組み合わせとし
ては、次の具体例が好ましい。 酸化防止剤 凝集促進剤 (1)3,4−ジヒドロキシ安息香酸 ピロリン酸 (2)没食子酸 酒石酸 (3)没食子酸 リン酸二水素アンモニウム (4)2,3−ジヒドロキシナフタレン ポリアクリルアミド −6−スルホン酸ナトリウム (5)没食子酸 ピロリン酸 (6)2,3−ジヒドロキシナフタレン ピロリン酸 −5−スルホン酸ナトリウム (7)グアヤコール ピロリン酸 (8)没食子酸 酒石酸アンモニウム (9)3,4−ジヒドロキシ安息香酸 酒石酸 (10)3,4−ジヒドロキシ安息香酸 次亜リン酸 (11)没食子酸 次亜リン酸ナトリウム (12)3,4−ジヒドロキシ 酒石酸 −ベンジルアルコール (13)2(4−ヒドロキシフェニル) リン酸二水素アンモニウム −エチルアルコール (14)2,3−ジヒドロキシナフタレン リン酸二水素アンモニウム −6−スルホン酸ナトリウム (15)2,3−ジヒドロキシナフタレン 酒石酸アンモニウム −5−スルホン酸ナトリウム
As described above, the management method of the present invention 5 or 6 or
In the preparation method, if 3,4-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, dihydroxynaphthalene sulfonic acid, naphthol disulfonic acid, catechol sulfonic acid, etc. are selected as antioxidants, they are not so restricted by the type of coagulation promoter of the other party. In addition, the generation of stannic oxide can be suppressed, and the transparency of the bath can be maintained for a long time. On the contrary, when tartaric acid and its salt, hydrogen phosphate, polyacrylamide and the like are selected as the aggregation accelerator, similar results can be obtained without being restricted by the kind of the antioxidant. On the other hand
The first aspect of the invention (that is, the first aspect of the invention) is to suppress the turbidity of the bath and to make
From the standpoint of stability of brightness over time, the antioxidants and coagulants mentioned above
The collection accelerator is limited to specific components, especially
As the inhibitor, a specific compound different from the known compounds is selected.
It is a thing. That is, the above antioxidant is 3,4-dihydric
Droxybenzoic acid, 4-methoxycatechol, 3,4-
Dihydroxybenzyl alcohol, 4-methylcatechol
, Gallic acid, o-methoxyphenol, 2 (4-hydride)
Roxyphenyl) ethyl alcohol, 2,3-dihydroxy
Sinaphthalene-6-sulfonic acids, 2,3-dihydroxy
Sinaphthalene-5-sulfonic acids, 2-naphthol-
From dipotassium 6,8-disulfonate or salts thereof
At least one selected from the group consisting of Well
In addition, the agglomeration promoter is a phosphorus compound, tartaric acid, sodium tartarate.
Thorium, ammonium tartrate, potassium tartrate, tartar
Calcium acid, magnesium tartrate, Rochelle salt, etc.
Polymeric flocculants such as tartrate and polyacrylamide
Is at least one selected from the group consisting of:
The following specific examples are preferable as the combination of these specific antioxidants and aggregation accelerators. Antioxidant Aggregation promoter (1) 3,4-Dihydroxybenzoic acid Pyrophosphoric acid (2) Gallic acid Tartaric acid (3) Gallic acid Ammonium dihydrogen phosphate (4) 2,3-Dihydroxynaphthalene Polyacrylamide-6-sulfonic acid Sodium (5) Gallic acid Pyrophosphate (6) 2,3-Dihydroxynaphthalene Pyrophosphate-5-sulfonate sodium (7) Guayacol pyrophosphate (8) Gallic acid Ammonium tartrate (9) 3,4-Dihydroxybenzoic acid Tartrate ( 10) 3,4-Dihydroxybenzoic acid hypophosphorous acid (11) Gallic acid Sodium hypophosphite (12) 3,4-Dihydroxytartaric acid-benzyl alcohol (13) 2 (4-Hydroxyphenyl) ammonium dihydrogen phosphate -Ethyl alcohol (14) 2,3-dihydroxynaphthalene Ammonium dihydrogen phosphate-6-sulfonate sodium (15) 2,3-Dihydroxyna The array type ammonium tartrate 5-sodium sulfonate

【0034】本発明1のメッキ浴、或は、本発明5〜6
の管理方法又は調製方法においては、スズメッキ浴及び
スズ合金メッキ浴を対象とするが、このスズ合金は、上
述のように、スズと、鉛、銀、亜鉛、ビスマス、インジ
ウム、ニッケル、コバルト、銅、金、鉛、スズ−銀、ス
ズ−ビスマス、スズ−ニッケル、スズ−インジウム、ス
ズ−コバルト、スズ−銅、スズ−金、スズ−アンチモン
などの2成分系のスズ合金を初め、スズ−ニッケル−亜
鉛、スズ−銅−亜鉛などの3成分系のスズ合金も含まれ
る。上記第一スズ塩又は第一スズ塩と上記スズ以外の金
属の塩の混合物としては、任意の可溶性の塩類を使用で
きるが、前記の酸(特に、有機スルホン酸)との塩類が好
ましく、スズ及び他の金属の総濃度(金属としての換算
添加量)は、一般に5〜100g/Lである。
The plating bath of the present invention 1 or the present invention 5 to 6
In the control method or preparation method of, the tin plating bath and the tin alloy plating bath are targeted, and this tin alloy contains tin, lead, silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, and copper as described above. , Tin, nickel, and two-component tin alloys such as gold, lead, tin-silver, tin-bismuth, tin-nickel, tin-indium, tin-cobalt, tin-copper, tin-gold, tin-antimony. A ternary tin alloy such as zinc or tin-copper-zinc is also included. As the mixture of the stannous salt or the stannous salt and the salt of a metal other than tin, any soluble salt can be used, but salts with the acid (particularly, organic sulfonic acid) are preferable, and tin. In addition, the total concentration of the other metals (the added amount converted as the metal) is generally 5 to 100 g / L.

【0035】上記の酸としては、メッキ浴での反応が比
較的穏やかで、排水処理が容易なアルカンスルホン酸、
アルカノールスルホン酸等の有機スルホン酸、或は、脂
肪族カルボン酸などの有機酸が好ましいが、塩酸、ホウ
フッ化水素酸、硫酸、ケイフッ化水素酸、過塩素酸など
の無機酸を選択することもできる。上記の酸は単用又は
併用され、酸の添加量は一般に0.1〜400g/L、
好ましくは70〜150g/Lである。
As the above-mentioned acid, alkanesulfonic acid, which has a relatively mild reaction in the plating bath and is easy to treat wastewater,
Organic sulfonic acids such as alkanol sulfonic acids or organic acids such as aliphatic carboxylic acids are preferable, but inorganic acids such as hydrochloric acid, borofluoric acid, sulfuric acid, hydrosilicofluoric acid and perchloric acid can also be selected. it can. The above-mentioned acids are used alone or in combination, and the addition amount of the acid is generally 0.1 to 400 g / L,
It is preferably 70 to 150 g / L.

【0036】上記アルカンスルホン酸としては、化学式
n2n+1SO3H(例えば、n=1〜11)で示されるもの
が使用でき、具体的には、メタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、1―プロパンスルホン酸、2―プロパンスル
ホン酸、1―ブタンスルホン酸、2―ブタンスルホン
酸、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸などが挙げられる。
As the above alkanesulfonic acid, those represented by the chemical formula C n H 2n + 1 SO 3 H (for example, n = 1 to 11) can be used. Specifically, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, Examples thereof include 1-propanesulfonic acid, 2-propanesulfonic acid, 1-butanesulfonic acid, 2-butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, hexanesulfonic acid, decanesulfonic acid and dodecanesulfonic acid.

【0037】上記アルカノールスルホン酸としては、化
学式 Cm2m+1-CH(OH)-Cp2p-SO3H(例えば、m=0
〜2、p=1〜10) で示されるものが使用でき、具体的には、2―ヒドロキ
シエタン―1―スルホン酸、2―ヒドロキシプロパン―
1―スルホン酸、2―ヒドロキシブタン―1―スルホン
酸、2―ヒドロキシペンタン―1―スルホン酸などの
外、1―ヒドロキシプロパン―2―スルホン酸、3―ヒ
ドロキシプロパン―1―スルホン酸、4―ヒドロキシブ
タン―1―スルホン酸、2―ヒドロキシヘキサン―1―
スルホン酸、2―ヒドロキシデカン―1―スルホン酸、
2―ヒドロキシドデカン―1―スルホン酸などが挙げら
れる。
The above alkanol sulfonic acid has the chemical formula C m H 2m + 1 -CH (OH) -C p H 2p -SO 3 H (for example, m = 0.
~ 2, p = 1 to 10) can be used. Specifically, 2-hydroxyethane-1-sulfonic acid, 2-hydroxypropane-
1-sulfonic acid, 2-hydroxybutane-1-sulfonic acid, 2-hydroxypentane-1-sulfonic acid, etc., 1-hydroxypropane-2-sulfonic acid, 3-hydroxypropane-1-sulfonic acid, 4- Hydroxybutane-1-sulfonic acid, 2-hydroxyhexane-1-
Sulfonic acid, 2-hydroxydecane-1-sulfonic acid,
2-hydroxydodecane-1-sulfonic acid and the like can be mentioned.

【0038】上記脂肪族カルボン酸としては、一般に、
炭素数1〜6のカルボン酸が使用できる。具体的には、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、クエン酸、酒石酸、グルコ
ン酸、スルホコハク酸などが挙げられる。
As the above-mentioned aliphatic carboxylic acid, generally,
A carboxylic acid having 1 to 6 carbon atoms can be used. In particular,
Examples thereof include acetic acid, propionic acid, butyric acid, citric acid, tartaric acid, gluconic acid, and sulfosuccinic acid.

【0039】本発明のスズ又はスズ合金メッキ浴では、
界面活性剤の添加によりメッキ外観を向上し、緻密なメ
ッキ皮膜を得ることができる。上記界面活性剤としては
ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオ
ン系界面活性剤、両性界面活性剤の中から少なくとも一
種を使用することができる。
In the tin or tin alloy plating bath of the present invention,
By adding a surfactant, the plating appearance can be improved and a dense plating film can be obtained. As the surfactant, at least one selected from nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and amphoteric surfactants can be used.

【0040】当該ノニオン系界面活性剤の具体例として
は、C1〜C20アルカノール、フェノール、ナフトー
ル、ビスフェノール類、C1〜C25アルキルフェノー
ル、アリールアルキルフェノール、C1〜C25アルキル
ナフトール、C1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)、ソ
ルビタンエステル、スチレン化フェノール、ポリアルキ
レングリコール、C1〜C22脂肪族アミン、C1〜C22
肪族アミドなどにエチレンオキシド(EO)及び/又はプ
ロピレンオキシド(PO)を2〜300モル付加縮合させ
たものや、C1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)などが
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include C 1 to C 20 alkanols, phenols, naphthols, bisphenols, C 1 to C 25 alkylphenols, arylalkylphenols, C 1 to C 25 alkylnaphthols, C 1 to C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt), sorbitan ester, styrenated phenol, polyalkylene glycol, C 1 -C 22 aliphatic amine, C 1 -C 22 aliphatic amide and the like are added to ethylene oxide (EO) and / or propylene oxide ( Examples thereof include those obtained by addition-condensing 2 to 300 mol of PO), C 1 to C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt), and the like.

【0041】エチレンオキシド(EO)及び/又はプロピ
レンオキシド(PO)を付加縮合させるC1〜C20アルカ
ノールとしては、オクタノール、デカノール、ラウリル
アルコール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、ス
テアリルアルコール、エイコサノール、セチルアルコー
ル、オレイルアルコール、ドコサノールなどが挙げられ
る。同じくビスフェノール類としては、ビスフェノール
A、ビスフェノールBなどが挙げられる。C1〜C25
ルキルフェノールとしては、モノ、ジ、若しくはトリア
ルキル置換フェノール、例えば、p−ブチルフェノー
ル、p−イソオクチルフェノール、p−ノニルフェノー
ル、p−ヘキシルフェノール、2,4−ジブチルフェノ
ール、2,4,6−トリブチルフェノール、p−ドデシル
フェノール、p−ラウリルフェノール、p−ステアリル
フェノールなどが挙げられる。アリールアルキルフェノ
ールとしては、2−フェニルイソプロピルフェニルなど
が挙げられる。C1〜C25アルキルナフトールのアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチルヘキ
シル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなど
が挙げられ、ナフタレン核の任意の位置にあって良い。
1〜C25アルコキシル化リン酸(塩)は、下記の一般式
(a)で表されるものである。
C 1 -C 20 alkanols for addition condensation of ethylene oxide (EO) and / or propylene oxide (PO) include octanol, decanol, lauryl alcohol, tetradecanol, hexadecanol, stearyl alcohol, eicosanol, cetyl alcohol. , Oleyl alcohol, docosanol and the like. Similarly, examples of bisphenols include bisphenol A and bisphenol B. As C 1 -C 25 alkylphenols, mono-, di-, or trialkyl-substituted phenols such as p-butylphenol, p-isooctylphenol, p-nonylphenol, p-hexylphenol, 2,4-dibutylphenol, 2,4, 6-tributylphenol, p-dodecylphenol, p-laurylphenol, p-stearylphenol and the like can be mentioned. Examples of the arylalkylphenol include 2-phenylisopropylphenyl and the like. Examples of the alkyl group of the C 1 -C 25 alkylnaphthol include methyl, ethyl, propyl, butylhexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl and the like, which may be at any position of the naphthalene nucleus.
The C 1 -C 25 alkoxylated phosphoric acid (salt) has the following general formula:
It is represented by (a).

【0042】[0042]

【化20】 (式(a)中、Ra及びRbは同一又は異なるC1〜C25アル
キル、但し、一方がHであっても良い。MはH又はアルカ
リ金属を示す。)
[Chemical 20] (In the formula (a), R a and R b are the same or different C 1 to C 25 alkyl, but one of them may be H. M is H or an alkali metal.)

【0043】ソルビタンエステルとしては、モノ、ジ又
はトリエステル化した1,4−、1,5−又は3,6−ソ
ルビタン、例えばソルビタンモノラウレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタンジステアレート、ソル
ビタンジオレエート、ソルビタン混合脂肪酸エステルな
どが挙げられる。C1〜C22脂肪族アミンとしては、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチ
ルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ステアリル
アミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミンなどの
飽和及び不飽和脂肪酸アミンなどが挙げられる。C1
22脂肪族アミドとしては、プロピオン酸、酪酸、カプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などのアミドが挙げ
られる。
The sorbitan ester is a mono-, di- or triester-esterified 1,4-, 1,5- or 3,6-sorbitan such as sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan distearate, sorbitan diester. Examples thereof include oleate and sorbitan mixed fatty acid ester. Examples of C 1 -C 22 aliphatic amines include propylamine, butylamine, hexylamine, octylamine, decylamine, laurylamine, stearylamine, saturated and unsaturated fatty acid amines such as ethylenediamine and propylenediamine. C 1 ~
Examples of the C 22 aliphatic amide include amides such as propionic acid, butyric acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid and behenic acid.

【0044】更に、上記ノニオン系界面活性剤として
は、 R1N(R2)2→O (上式中、R1はC5〜C25アルキル又はRCONHR3(R
3はC1〜C5アルキレンを示す)、R2は同一又は異なるC
1〜C5アルキルを示す。) などで示されるアミンオキシドを用いることができる。
Further, as the nonionic surfactant, R 1 N (R 2 ) 2 → O (in the above formula, R 1 is C 5 -C 25 alkyl or RCONHR 3 (R
3 represents C 1 -C 5 alkylene), R 2 is the same or different C
Shows the 1 -C 5 alkyl. ) Etc. can be used.

【0045】上記ノニオン系界面活性剤は2つ以上を混
合しても良く、メッキ浴の添加量は一般に0.05〜1
00g/L、好ましくは0.1〜50g/Lである。
Two or more of the above nonionic surfactants may be mixed, and the addition amount of the plating bath is generally 0.05 to 1
The amount is 00 g / L, preferably 0.1 to 50 g / L.

【0046】上記カチオン系界面活性剤としては、下記
の一般式(b)で表される第4級アンモニウム塩
As the above cationic surfactant, a quaternary ammonium salt represented by the following general formula (b) is used.

【0047】[0047]

【化21】 (式(b)中、Xはハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C5アル
カンスルホン酸又は硫酸、R1、R2及びR3は同一又は
異なるC1〜C20アルキル、R4はC1〜C10アルキル又
はベンジルを示す。) 或は、下記の一般式(c)で表されるピリジニウム塩など
が挙げられる。
[Chemical 21] (In the formula (b), X is halogen, hydroxy, C 1 -C 5 alkanesulfonic acid or sulfuric acid, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different C 1 -C 20 alkyl, and R 4 is C 1 -C. 10 alkyl or benzyl) or a pyridinium salt represented by the following general formula (c).

【0048】[0048]

【化22】 (式(c)中、Xはハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C5アル
カンスルホン酸又は硫酸、R5はC1〜C20アルキル、R
6はH又はC1〜C10アルキルを示す。)
[Chemical formula 22] (In the formula (c), X is halogen, hydroxy, C 1 -C 5 alkanesulfonic acid or sulfuric acid, R 5 is C 1 -C 20 alkyl, R
6 represents H or C 1 -C 10 alkyl. )

【0049】塩の形態のカチオン系界面活性剤の例とし
ては、ラウリルトリメチルアンモニウム塩、ステアリル
トリメチルアンモニウム塩、ラウリルジメチルエチルア
ンモニウム塩、オクタデシルジメチルエチルアンモニウ
ム塩、ジメチルベンジルラウリルアンモニウム塩、セチ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩、オクタデシルジメ
チルベンジルアンモニウム塩、トリメチルベンジルアン
モニウム塩、トリエチルベンジルアンモニウム塩、ヘキ
サデシルピリジニウム塩、ラウリルピリジニウム塩、ド
デシルピリジニウム塩、ステアリルアミンアセテート、
ラウリルアミンアセテート、オクタデシルアミンアセテ
ートなどが挙げられる。
Examples of the cationic surfactant in the form of salt include lauryl trimethyl ammonium salt, stearyl trimethyl ammonium salt, lauryl dimethyl ethyl ammonium salt, octadecyl dimethyl ethyl ammonium salt, dimethyl benzyl lauryl ammonium salt, cetyl dimethyl benzyl ammonium salt. , Octadecyldimethylbenzylammonium salt, trimethylbenzylammonium salt, triethylbenzylammonium salt, hexadecylpyridinium salt, laurylpyridinium salt, dodecylpyridinium salt, stearylamine acetate,
Examples include lauryl amine acetate and octadecyl amine acetate.

【0050】上記アニオン系界面活性剤としては、アル
キル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩などが挙げられる。
アルキル硫酸塩としては、ラウリル硫酸ナトリウム、オ
レイル硫酸ナトリウムなどが挙げられる。ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル硫酸塩としては、ポリオキシエ
チレン(EO12)ノニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリ
オキシエチレン(EO15)ドデシルエーテル硫酸ナトリ
ウムなどが挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル硫酸塩としては、ポリオキシエチレン
(EO15)ノニルフェニルエーテル硫酸塩などが挙げら
れる。アルキルベンゼンスルホン酸塩としては、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。
Examples of the anionic surfactants include alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, alkylbenzene sulfonates and the like.
Examples of the alkyl sulfates include sodium lauryl sulfate and sodium oleyl sulfate. Examples of the polyoxyethylene alkyl ether sulfate include polyoxyethylene (EO12) sodium nonyl ether sulfate and polyoxyethylene (EO15) sodium dodecyl ether sulfate. As polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene
(EO15) nonyl phenyl ether sulfate and the like. Examples of the alkylbenzene sulfonate include sodium dodecylbenzene sulfonate.

【0051】上記両性界面活性剤としては、ベタイン、
スルホベタイン、アミノカルボン酸などが挙げられる。
また、エチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシド
とアルキルアミン又はジアミンとの縮合生成物の硫酸化
或はスルホン酸化付加物も使用できる。当該ベタインは
下記の一般式(d)又は(e)などで表されるものである。
As the amphoteric surfactant, betaine,
Examples thereof include sulfobetaine and aminocarboxylic acid.
Also, a sulfated or sulfonated adduct of a condensation product of ethylene oxide and / or propylene oxide with an alkylamine or a diamine can be used. The betaine is represented by the following general formula (d) or (e).

【0052】[0052]

【化23】 (式(d)中、R7はC1〜C20アルキル、R8及びR9は同
一又は異なるC1〜C5アルキル、nは1〜3の整数を示
す。)
[Chemical formula 23] (In the formula (d), R 7 represents C 1 -C 20 alkyl, R 8 and R 9 represent the same or different C 1 -C 5 alkyl, and n represents an integer of 1 to 3.)

【0053】[0053]

【化24】 (式(e)中、R10はC1〜C20アルキル、R11は(CH2)m
OH又は(CH2)mOCH2CO2 -、R12は(CH2)nCO2
-、(CH2)nSO3 -、CH(OH)CH2SO3 -、m及びn
は1〜4の整数を示す。)
[Chemical formula 24] (In formula (e), R 10 is C 1 -C 20 alkyl, and R 11 is (CH 2 ) m
OH or (CH 2) m OCH 2 CO 2 -, R 12 is (CH 2) n CO 2
-, (CH 2) n SO 3 -, CH (OH) CH 2 SO 3 -, m and n
Represents an integer of 1 to 4. )

【0054】代表的なベタインは、ラウリルジメチルア
ンモニウムベタイン、ステアリルジメチルアンモニウム
ベタイン、2−ウンデシル−1−カルボキシメチル−1
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、2−オ
クチル−1−カルボキシメチル−1−カルボキシエチル
イミダゾリニウムベタインなどが挙げられ、硫酸化及び
スルホン酸化付加物としてはエトキシル化アルキルアミ
ンの硫酸付加物、スルホン酸化ラウリル酸誘導体ナトリ
ウム塩などが挙げられる。
Representative betaines are lauryl dimethyl ammonium betaine, stearyl dimethyl ammonium betaine, 2-undecyl-1-carboxymethyl-1.
-Hydroxyethyl imidazolinium betaine, 2-octyl-1-carboxymethyl-1-carboxyethyl imidazolinium betaine and the like can be mentioned. Sulfated and sulfonated adducts include sulfuric acid adducts of ethoxylated alkylamines and sulfonated Examples thereof include sodium salt of lauric acid derivative.

【0055】スルホベタインとしては、ヤシ油脂肪酸ア
ミドプロピルジメチルアンモニウム−2−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸、N−ココイルメチルタウリンナトリ
ウム、N−パルミトイルメチルタウリンナトリウムなど
が挙げられる。アミノカルボン酸としては、ジオクチル
アミノエチルグリシン、N−ラウリルアミノプロピオン
酸、オクチルジ(アミノエチル)グリシンナトリウム塩な
どが挙げられる。
Examples of the sulfobetaines include coconut oil fatty acid amidopropyldimethylammonium-2-hydroxypropanesulfonic acid, N-cocoylmethyltaurine sodium, N-palmitoylmethyltaurine sodium and the like. Examples of the aminocarboxylic acid include dioctylaminoethylglycine, N-laurylaminopropionic acid, and octyldi (aminoethyl) glycine sodium salt.

【0056】前記ノニオン系界面活性剤以外のこれらの
界面活性剤は2以上を併用しても良く、メッキ浴への添
加量は一般に0.05〜100g/L、好ましくは0.1
〜50g/Lである。
Two or more of these surfactants other than the above nonionic surfactants may be used in combination, and the amount added to the plating bath is generally 0.05 to 100 g / L, preferably 0.1.
~ 50 g / L.

【0057】上記本発明4で使用できる光沢剤の具体例
としては、m−クロロベンズアルデヒド、p−ニトロベ
ンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、
(o−、p−)メトキシベンズアルデヒド、バニリン、
(2,4−、2,6−)ジクロロベンズアルデヒド、(o−、
p−)クロロベンズアルデヒド、1−ナフトアルデヒ
ド、2−ナフトアルデヒド、2(4)−ヒドロキシ−1−
ナフトアルデヒド、2(4)−クロロ−1−ナフトアルデ
ヒド、2(3)−チオフェンカルボキシアルデヒド、2
(3)−フルアルデヒド、3−インドールカルボキシアル
デヒド、サリチルアルデヒド、o−フタルアルデヒド、
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、パラアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、n−バレルアルデヒド、アクロレイ
ン、クロトンアルデヒド、グリオキサール、アルドー
ル、スクシンジアルデヒド、カプロンアルデヒド、イソ
バレルアルデヒド、アリルアルデヒド、グルタルアルデ
ヒド、1−ベンジリデン−7−ヘプタナール、2,4−
ヘキサジエナール、シンナムアルデヒド、ベンジルクロ
トンアルデヒド、アミン−アルデヒド縮合物、酸化メシ
チル、イソホロン、ジアセチル、ヘキサンジオン−3,
4、アセチルアセトン、3−クロロベンジリデンアセト
ン、sub.ピリジリデンアセトン、sub.フルフリジ
ンアセトン、sub.テニリデンアセトン、4−(1−ナ
フチル)−3−ブテン−2−オン、4−(2−フリル)−
3−ブテン−2−オン、4−(2−チオフェニル)−3−
ブテン−2−オン、クルクミン、ベンジリデンアセチル
アセトン、ベンザルアセトン、アセトフェノン、(2,4
−、3,4−)ジクロロアセトフェノン、ベンジリデンア
セトフェノン、2−シンナミルチオフェン、2−(ω−
ベンゾイル)ビニルフラン、ビニルフェニルケトン、ア
クリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、クロ
トン酸、ピロピレン−1,3−ジカルボン酸、ケイ皮
酸、(o−、m−、p−)トルイジン、(o−、p−)アミ
ノアニリン、アニリン、(o−、p−)クロロアニリン、
(2,5−、3,4−)クロロメチルアニリン、N−モノメ
チルアニリン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、
N−フェニル−(α−、β−)ナフチルアミン、メチルベ
ンズトリアゾール、1,2,3−トリアジン、1,2,4−
トリアジン、1,3,5−トリアジン、1,2,3−ベンズ
トリアジン、イミダゾール、2−ビニルピリジン、イン
ドール、キノリン、モノエタノールアミンとo−バニリ
ンの反応物などが挙げられる。
Specific examples of the brightening agent that can be used in the present invention 4 are m-chlorobenzaldehyde, p-nitrobenzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde,
(o-, p-) methoxybenzaldehyde, vanillin,
(2,4-, 2,6-) dichlorobenzaldehyde, (o-,
p-) chlorobenzaldehyde, 1-naphthaldehyde, 2-naphthaldehyde, 2 (4) -hydroxy-1-
Naphthaldehyde, 2 (4) -chloro-1-naphthaldehyde, 2 (3) -thiophenecarboxaldehyde, 2
(3) -furaldehyde, 3-indolecarboxaldehyde, salicylaldehyde, o-phthalaldehyde,
Formaldehyde, acetaldehyde, paraaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, propionaldehyde, n-valeraldehyde, acrolein, crotonaldehyde, glyoxal, aldol, succindialdehyde, capronaldehyde, isovaleraldehyde, allylaldehyde, glutaraldehyde, 1-benzylidene -7-heptanal, 2,4-
Hexadienal, cinnamaldehyde, benzylcrotonaldehyde, amine-aldehyde condensate, mesityl oxide, isophorone, diacetyl, hexanedione-3,
4, acetylacetone, 3-chlorobenzylideneacetone, sub.pyridylideneacetone, sub.furfuridineacetone, sub.tenylideneacetone, 4- (1-naphthyl) -3-buten-2-one, 4- (2- Frill)-
3-buten-2-one, 4- (2-thiophenyl) -3-
Butene-2-one, curcumin, benzylidene acetylacetone, benzalacetone, acetophenone, (2,4
-, 3,4-) dichloroacetophenone, benzylideneacetophenone, 2-cinnamylthiophene, 2- (ω-
(Benzoyl) vinyl furan, vinyl phenyl ketone, acrylic acid, methacrylic acid, ethacrylic acid, ethyl acrylate, methyl methacrylate, butyl methacrylate, crotonic acid, pyropyrene-1,3-dicarboxylic acid, cinnamic acid, (o-, m-, p-) toluidine, (o-, p-) aminoaniline, aniline, (o-, p-) chloroaniline,
(2,5-, 3,4-) chloromethylaniline, N-monomethylaniline, 4,4'-diaminodiphenylmethane,
N-phenyl- (α-, β-) naphthylamine, methylbenztriazole, 1,2,3-triazine, 1,2,4-
Examples thereof include triazine, 1,3,5-triazine, 1,2,3-benztriazine, imidazole, 2-vinylpyridine, indole, quinoline, and a reaction product of monoethanolamine and o-vanillin.

【0058】これら光沢剤は単用又は併用でき、メッキ
浴への添加量は一般に0.005〜40g/L、好まし
くは0.01〜20g/Lである。
These brighteners can be used alone or in combination, and the amount added to the plating bath is generally 0.005 to 40 g / L, preferably 0.01 to 20 g / L.

【0059】また、本発明のメッキ浴は、メッキ表面の
平滑性を向上するために上記本発明5の半光沢剤を含有
させることができる。当該半光沢剤は各種の前記界面活
性剤と併用することにより、さらに相乗的な効果を奏す
る。この場合の半光沢剤は、一般に、スズ又はスズ―鉛
合金メッキに使われる半光沢剤であれば原則として使用
できるが、特に有用な半光沢剤としては、下記の一般式
(f)〜(i)で表されるものが挙げられる。
In addition, the plating bath of the present invention may contain the semi-brightening agent of the present invention 5 in order to improve the smoothness of the plating surface. When the semi-brightening agent is used in combination with various kinds of the above surfactants, a more synergistic effect is exhibited. The semi-brightening agent in this case can generally be used as long as it is a semi-brightening agent used for tin or tin-lead alloy plating, but as a particularly useful semi-brightening agent, the following general formula can be used.
Examples include those represented by (f) to (i).

【0060】[0060]

【化25】 (式(f)中、Rは水素、アルキル基(C1〜C4)又はフェ
ニル基、RIは水素、水酸基又は存在しない場合、RII
はアルキレン基(C1〜C4)、フェニレン基又はベンジル
基、RIIIは水素又はアルキル基(C0〜C4)である。)
[Chemical 25] (In the formula (f), R is hydrogen, an alkyl group (C 1 -C 4 ), or a phenyl group, and R I is hydrogen, a hydroxyl group, or, if not present, R II.
Is an alkylene group (C 1 -C 4 ), a phenylene group or a benzyl group, and R III is hydrogen or an alkyl group (C 0 -C 4 ). )

【0061】[0061]

【化26】 (式(g)中、R、RIはアルキル基(C1〜C18)である。)[Chemical formula 26] (In the formula (g), R and R I are alkyl groups (C 1 to C 18 ).)

【0062】[0062]

【化27】 (式(h)中、Rは水素、アルキル基(C1〜C4)又はフェ
ニル基である。)
[Chemical 27] (In the formula (h), R is hydrogen, an alkyl group (C 1 -C 4 ), or a phenyl group.)

【0063】[0063]

【化28】 (式(i)中、R1、R2、R3、R4及びR5は夫々同一又は異
なっていても良く、(1)H、(2)―SH、(3)―OH、(4)
OR(Rは所望により―COOHで置換されていても良
いC1〜C6アルキル基)、(5)OH、ハロゲン、―COO
H、―(CO)COOH、アリール又はOC1〜C6アルキ
ル基で置換されていても良いC1〜C6アルキル基を意味
する。)
[Chemical 28] (In the formula (i), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are (1) H, (2) -SH, (3) -OH, (4 )
OR (R is a C 1 -C 6 alkyl group optionally substituted by —COOH), (5) OH, halogen, —COO
H, - (CO) COOH, means optionally substituted C 1 -C 6 alkyl aryl or OC 1 -C 6 alkyl group. )

【0064】上記半光沢剤のうちでも、特に、N―(3
―ヒドロキシブチリデン)―p―スルファニル酸、N―
ブチリデンスルファニル酸、N―シンナモイリデンスル
ファニル酸、2,4―ジアミノ―6―(2′―メチルイミ
ダゾリル(1′))エチル―1,3,5―トリアジン、2,4
―ジアミノ―6―(2′―エチル―4―メチルイミダゾ
リル(1′))エチル―1,3,5―トリアジン、2,4―ジ
アミノ―6―(2′―ウンデシルイミダゾリル(1′))エ
チル―1,3,5―トリアジン、サリチル酸フェニルなど
が挙げられる。
Among the above semi-brightening agents, especially N- (3
-Hydroxybutylidene) -p-sulfanilic acid, N-
Butylidene sulfanilic acid, N-cinnamoylidene sulfanilic acid, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl (1 ')) ethyl-1,3,5-triazine, 2,4
-Diamino-6- (2'-ethyl-4-methylimidazolyl (1 ')) ethyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-undecylimidazolyl (1')) Examples include ethyl-1,3,5-triazine and phenyl salicylate.

【0065】同じく、上記一般式(i)のベンゾチアゾー
ル類系の半光沢剤としては、特に、ベンゾチアゾール、
2―メチルベンゾチアゾール、2―(メチルメルカプト)
ベンゾチアゾール、2―アミノベンゾチアゾール、2―
アミノ―6―メトキシベンゾチアゾール、2―メチル―
5―クロロベンゾチアゾール、2―ヒドロキシベンゾチ
アゾール、2―アミノ―6―メチルベンゾチアゾール、
2―クロロベンゾチアゾール、2,5―ジメチルベンゾ
チアゾール、6―ニトロ―2―メルカプトベンゾチアゾ
ール、5―ヒドロキシ―2―メチルベンゾチアゾール、
2―ベンゾチアゾールチオ酢酸などが挙げられる。
Similarly, as the benzothiazole type semi-brightener of the general formula (i), benzothiazole,
2-methylbenzothiazole, 2- (methylmercapto)
Benzothiazole, 2-aminobenzothiazole, 2-
Amino-6-methoxybenzothiazole, 2-methyl-
5-chlorobenzothiazole, 2-hydroxybenzothiazole, 2-amino-6-methylbenzothiazole,
2-chlorobenzothiazole, 2,5-dimethylbenzothiazole, 6-nitro-2-mercaptobenzothiazole, 5-hydroxy-2-methylbenzothiazole,
2-benzothiazole thioacetic acid and the like can be mentioned.

【0066】上記半光沢剤の添加量は、一般に0.00
1〜10g/L、好ましくは0.1〜5g/Lである。
The amount of the above semi-brightening agent added is generally 0.00
It is 1 to 10 g / L, preferably 0.1 to 5 g / L.

【0067】本発明のメッキ浴での上記各成分の添加濃
度は、バレルメッキ、ラックメッキ、高速連続メッキ、
ラックレスメッキなどに対応して任意に調整・選択でき
る。また、本発明のメッキ浴には、上記光沢剤などの各
種添加剤の外に、通常のメッキ浴で使用される錯化剤、
pH調整剤、緩衝剤などを添加できることは勿論であ
る。
The addition concentration of each of the above components in the plating bath of the present invention is barrel plating, rack plating, high speed continuous plating,
It can be arbitrarily adjusted and selected for rackless plating. Further, in the plating bath of the present invention, in addition to various additives such as the above brightener, a complexing agent used in a usual plating bath,
Of course, a pH adjuster, a buffer, etc. can be added.

【0068】[0068]

【発明の効果】(1)スズ浴、或はスズ合金浴では、酸化
防止剤を単独添加すると酸化第二スズの発生に一定の防
止効果はあるが、浴の濁りが日数経過に伴い増大し(図
14〜15及び図17参照)、逆に、凝集促進剤を単独
添加すると、酸化第二スズの発生を防止する効果はな
く、また、浴の濁りも抑制できない(図16及び図18
参照)。これに対して、本発明1〜2、或は6のよう
に、酸化防止剤と凝集促進剤を組み合わせてスズ或はス
ズ合金メッキ浴に添加し、その共存下で間欠的な濾過処
理をすると、後述の試験例に示すように(図1〜13参
照)、その相乗作用の働きで、総じて、酸化第二スズの
発生を有効に抑制できるとともに、とりわけ、メッキ浴
の濁りが試験の初期から終期までの全期間に亘りほぼ低
い度合で推移し、浴の透明度の持続性が図れた。即ち、
酸化防止剤と凝集促進剤をスズ或はスズ合金浴に併用添
加し、間欠的に濾過処理を繰り返すと、浴中の第一スズ
イオンの酸化を有効に抑制できるだけではなく、浴調製
後の日数経過で浴の酸化が進行し、酸化第二スズの微粒
子が発生した場合でも、上記処理剤の併用作用で酸化第
二スズが凝集促進され、或は結晶成長して、粒子径が増
した酸化第二スズを濾過処理するたびに捕捉できる。こ
のため、メッキ浴中の酸化第二スズを容易に外部に除去
し、もってメッキ浴の透明度を長期に保持(経時的に安
定化)できる。
[Effects of the Invention] (1) In a tin bath or a tin alloy bath, addition of an antioxidant alone has a certain preventive effect on the generation of stannic oxide, but the turbidity of the bath increases with the passage of days. (See FIGS. 14 to 15 and FIG. 17) On the contrary, when the coagulation accelerator is added alone, there is no effect of preventing the generation of stannic oxide, and turbidity of the bath cannot be suppressed (FIGS. 16 and 18).
reference). On the other hand, as in the present invention 1 or 2, or 6, an antioxidant and a coagulation accelerator are combined and added to a tin or tin alloy plating bath, and intermittent filtration treatment is performed under the coexistence thereof.
As a matter of fact , as shown in the test examples described later (see FIGS. 1 to 13), the synergistic effect of the stannic oxide can be effectively suppressed as a whole, and in particular, the turbidity of the plating bath can be tested. During the entire period from the beginning to the end of the bath, the degree of transition remained at a low level and the transparency of the bath was maintained. That is,
If an antioxidant and a coagulation accelerator are added to the tin or tin alloy bath together and the filtration process is repeated intermittently, not only the oxidation of stannous ions in the bath can be effectively suppressed but also the number of days after the bath preparation elapses. Even if stannic oxide fine particles are generated due to the progress of oxidation in the bath, the combined use of the above treatments promotes aggregation of stannic oxide, or crystal growth causes oxidation of stannic oxide with an increased particle size. It can be captured every time the tin is filtered. Therefore, stannic oxide in the plating bath can be easily removed to the outside, and thus the transparency of the plating bath can be maintained for a long period of time (stabilized over time).

【0069】この場合、本発明の処理剤の併用添加は、
後述の実施例4に示すように(図4参照)、カテコール、
或はヒドロキノンなどの公知の酸化防止剤と、ポリアク
リルアミドなどの公知の凝集促進剤との組み合わせでも
良いし、後述の実施例2に示すように(図2参照)、没食
子酸などの新規の酸化防止剤と、酒石酸などの新規の凝
集促進剤との組み合わせでも良い。また、後述の実施例
1に示すように(図1参照)、3,4−ジヒドロキシ安息
香酸、没食子酸などの新規の化合物、カテコールスルホ
ン酸、ヒドロキノンスルホン酸、ナフトールスルホン
酸、或はこれらの塩から選ばれた酸化防止剤と、本出願
人が前記先願で提案したピロリン酸などの凝集促進剤と
の組み合わせでも良い。具体的には、3,4−ジヒドロ
キシ安息香酸とピロリン酸、没食子酸とピロリン酸、
3,4−ジヒドロキシ安息香酸と酒石酸、没食子酸と酒
石酸、没食子酸とリン酸二水素アンモニウムなどの組み
合わせは、酸化第二スズの発生と浴の濁りの両方を抑制
する点で、顕著な効果が期待できる。特に、メッキ浴の
透明度の経時安定性(持続性)に関しては、酸化防止剤に
没食子酸を選択すると、組み合わせ相手の凝集促進剤の
種類はあまり問わず、逆に、凝集促進剤に酒石酸又はそ
の塩、或はリン酸水素塩などを選択すると、組み合わせ
相手の酸化防止剤の種類はあまり問わずに、優れた効果
が期待できる。
In this case, the combined use of the treating agent of the present invention is
As shown in Example 4 below (see FIG. 4), catechol,
Alternatively, a known antioxidant such as hydroquinone may be combined with a known aggregation promoter such as polyacrylamide, or as shown in Example 2 (see FIG. 2) described later, a novel oxidation agent such as gallic acid may be used. A combination of an inhibitor and a new aggregation accelerator such as tartaric acid may be used. In addition, as shown in Example 1 below (see FIG. 1), novel compounds such as 3,4-dihydroxybenzoic acid and gallic acid, catechol sulfonic acid, hydroquinone sulfonic acid, naphthol sulfonic acid, or salts thereof. A combination of an antioxidant selected from the above and an aggregation accelerator such as pyrophosphoric acid proposed by the present applicant in the above-mentioned prior application may be used. Specifically, 3,4-dihydro
Xybenzoic acid and pyrophosphoric acid, gallic acid and pyrophosphoric acid,
3,4-dihydroxybenzoic acid and tartaric acid, gallic acid and sake
A combination of formic acid, gallic acid and ammonium dihydrogen phosphate
The combination can be expected to have a remarkable effect in suppressing both generation of stannic oxide and turbidity of the bath. Especially, with regard to the stability over time of the transparency of the plating bath (persistence) ,
When gallic acid is selected , the type of aggregation partner of the combination partner does not matter so much. Conversely, when tartaric acid or a salt thereof, or hydrogen phosphate is selected as the aggregation promoter, the type of antioxidant of the combination partner is selected. The excellent effect can be expected regardless of.

【0070】(2)本発明2のように、メッキ浴に界面活
性剤を追加混合すると、スズ又はスズ合金メッキ皮膜の
粒子外観、密着性、緻密性などをさらに良好に促進でき
る。
(2) When a surfactant is additionally mixed in the plating bath as in the case of the present invention 2 , the particle appearance, adhesion, denseness, etc. of the tin or tin alloy plating film can be further favorably promoted.

【0071】(3)本発明3又は4のように、メッキ浴に
光沢剤又は半光沢剤を追加混合すると、メッキ皮膜の光
沢性或は平滑性を良好に促進できる。
(3) When a brightening agent or a semi-brightening agent is additionally mixed in the plating bath as in the third or fourth aspect of the present invention , the glossiness or smoothness of the plating film can be favorably promoted.

【0072】(4)本発明6のように、電気メッキ浴を調
製するに当たり、別途に酸化防止剤と凝集促進剤を酸、
界面活性剤、半光沢剤などの少なくともいずれかに予め
混入してから、建浴時に他の浴構成成分と合わせると、
酸化第二スズの凝集促進作用を一層高く保持できるとと
もに、メッキ浴に当該酸化防止剤と凝集促進剤を均一に
溶解でき、浴の調製が楽になる。
(4) In preparing the electroplating bath as in the present invention 6, an antioxidant and an aggregation accelerator are separately added with an acid,
If it is mixed with at least one of surfactants, semi-brightening agents, etc. in advance, and then combined with other bath constituents when building the bath,
The coagulation promoting action of stannic oxide can be maintained higher, and the antioxidant and the coagulation promoting agent can be uniformly dissolved in the plating bath, which facilitates bath preparation.

【0073】[0073]

【実施例】以下、スズ又はスズ合金の電気メッキ浴の実
施例を順次説明するとともに、各実施例のメッキ浴を長
期にエアレーションしながら、基本的に1週間ごとに濾
過を繰り返した場合に、酸化第二スズによる浴の懸濁の
度合を経時的に測定した試験例を述べる。尚、本発明は
下記の実施例に拘束されるものではなく、本発明の技術
的思想の範囲内で多くの変形をなし得ることは勿論であ
る。
[Examples] Examples of electroplating baths of tin or tin alloys will be sequentially described below, and when the plating baths of the examples are aerated for a long period of time, basically when filtration is repeated every one week, A test example in which the degree of suspension of the bath with stannic oxide was measured with time will be described. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and many modifications can be made within the scope of the technical idea of the present invention.

【0074】下記の実施例1〜10及び比較例1〜3は
スズ−鉛合金メッキ浴であり、比較例1〜2は酸化防止
剤(カテコール、カテコールスルホン酸)を単独添加した
例、比較例3は凝集促進剤(酒石酸)を単独添加した例で
ある。また、実施例11〜18はスズ−鉛合金以外のス
ズ合金メッキ浴の例、実施例19〜20はスズメッキ浴
の例である。
The following Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 are tin-lead alloy plating baths, and Comparative Examples 1 and 2 are examples in which an antioxidant (catechol, catechol sulfonic acid) is added alone, and Comparative Examples. No. 3 is an example in which a coagulation accelerator (tartaric acid) was added alone. Further, Examples 11 to 18 are examples of tin alloy plating baths other than tin-lead alloys, and Examples 19 to 20 are examples of tin plating baths.

【0075】《実施例1》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.4g/L ピロリン酸 1.0g/L 但し、調製は全ての浴構成成分を同時に混合する一浴方
式により実施した。また、メッキ浴中の4価のスズイオ
ンの含有率の初期値は約3g/Lであった(この調製方
式並びに初期値は、以下の実施例2〜20、比較例1〜5
ともに同じ)。
Example 1 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 3,4-dihydroxybenzoic acid 1.4 g / L Pyroline Acid 1.0 g / L However, the preparation was carried out by a one-bath system in which all the bath constituents were simultaneously mixed. Further, the initial value of the content of tetravalent tin ions in the plating bath was about 3 g / L (this preparation method and the initial values are the following Examples 2 to 20 and Comparative Examples 1 to 5).
Both are the same).

【0076】《実施例2》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 没食子酸 1.2g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 2 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Gallic acid 1.2 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0077】《実施例3》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール−4−スルホン酸(35%) 5.0g/L 酒石酸アンモニウム 1.2g/L
Example 3 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5.0 g / L Ammonium tartrate 1.2g / L

【0078】《実施例4》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール−4−スルホン酸(35%) 5.0g/L ポリアクリルアミド 0.05g/L 尚、上記ポリアクリルアミドは分子量1千万程度の市販
品を使用した。
Example 4 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5.0 g / L polyacrylamide 0.05 g / L Incidentally, as the polyacrylamide, a commercially available product having a molecular weight of about 10 million was used.

【0079】《実施例5》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 没食子酸 1.2g/L リン酸二水素アンモニウム 0.1g/L
Example 5 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L Gallic acid 1.2 g / L Ammonium dihydrogen phosphate 0 .1 g / L

【0080】《実施例6》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 1.0g/L ポリアクリルアミド 0.05g/L
Example 6 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sodium sulfonate 1 0.0 g / L Polyacrylamide 0.05 g / L

【0081】《実施例7》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール−4−スルホン酸(35%) 5g/L リン酸二水素アンモニウム 0.1g/L
Example 7 A tin-lead alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5 g / L Ammonium dihydrogen phosphate 0.1 g / L

【0082】《実施例8》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール−4−スルホン酸(35%) 5g/L ピロリン酸 1g/L
Example 8 A tin-lead alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5 g / L Pyrophosphoric acid 1 g / L

【0083】《実施例9》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 没食子酸 1.2g/L ピロリン酸 1.0g/L
Example 9 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Gallic acid 1.2 g / L Pyrophosphate 1.0 g / L

【0084】《実施例10》下記の組成でスズ−鉛合金
メッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.4g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 10 A tin-lead alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L 3,4-dihydroxybenzoic acid 1.4 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0085】《実施例11》下記の組成でスズ−コバル
ト合金メッキ浴を調製した。 塩化第一スズ 45g/L 硫酸コバルト 300g/L メタンスルホン酸 50g/L グルコン酸 80g/L pH(アンモニア水で調整) 4.0 カテコール−4−スルホン酸(35%) 5g/L リン酸二水素アンモニウム 0.1g/L
Example 11 A tin-cobalt alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous chloride 45 g / L Cobalt sulfate 300 g / L Methanesulfonic acid 50 g / L Gluconic acid 80 g / L pH (adjusted with aqueous ammonia) 4.0 Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5 g / L Dihydrogen phosphate Ammonium 0.1 g / L

【0086】《実施例12》下記の組成によりスズ−イ
ンジウム合金メッキ浴を調製した。 2−プロパノールスルホン酸第一スズ(Sn2+として)10g/L 塩化インジウム(In3+として) 10g/L 2−プロパノールスルホン酸 100g/L グルコン酸ナトリウム 100g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 2.0 没食子酸 1.2g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 12 A tin-indium alloy plating bath having the following composition was prepared. 2-Propanol sulfonic acid stannous (as Sn 2+ ) 10 g / L indium chloride (as In 3+ ) 10 g / L 2-propanol sulfonic acid 100 g / L sodium gluconate 100 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 2.0 Gallic acid 1.2g / L Tartaric acid 1.0g / L

【0087】《実施例13》下記の組成でスズ−ニッケ
ル合金メッキ浴を調製した。 塩化第一スズ 45g/L 塩化ニッケル(6水和物) 300g/L 塩化アンモニウム 100g/L 塩酸(35%) 50ml/L フッ化アンモニウム 60g/L pH(アンモニア水で調整) 4.0 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.2g/L ピロリン酸 1.0g/L
Example 13 A tin-nickel alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous chloride 45 g / L Nickel chloride (hexahydrate) 300 g / L Ammonium chloride 100 g / L Hydrochloric acid (35%) 50 ml / L Ammonium fluoride 60 g / L pH (adjusted with ammonia water) 4.0 3,4 -Dihydroxybenzoic acid 1.2 g / L Pyrophosphoric acid 1.0 g / L

【0088】《実施例14》下記の組成でスズ−ビスマ
ス合金メッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 40g/L メタンスルホン酸ビスマス(Bi3+として) 4g/L メタンスルホン酸 100g/L ポリオキシエチレンラウリルアミン(EO10) 5g/L 3,4−ジヒドロキシ安息香酸 1.0g/L リン酸二水素アンモニウム 0.1g/L
Example 14 A tin-bismuth alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 40 g / L Bismuth methanesulfonate (as Bi 3+ ) 4 g / L Methanesulfonic acid 100 g / L Polyoxyethylene laurylamine (EO10) 5 g / L 3,4-dihydroxy Benzoic acid 1.0 g / L Ammonium dihydrogen phosphate 0.1 g / L

【0089】《実施例15》下記の組成でスズ−銀合金
メッキ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 17.5g/L メタンスルホン酸銀(Ag+として) 0.5g/L メタンスルホン酸 10g/L グルコン酸 0.9mol/L ヨウ化カリウム 1.5mol/L トリエタノールアミン 0.15mol/L モノエタノールアミンとo−バニリンの反応物 4g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 4.5 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 1.0g/L ポリアクリルアミド 0.05g/L
Example 15 A tin-silver alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 17.5 g / L silver methanesulfonate (as Ag + ) 0.5 g / L methanesulfonic acid 10 g / L gluconic acid 0.9 mol / L potassium iodide 1.5 mol / L triethanolamine 0.15 mol / L Reaction product of monoethanolamine and o-vanillin 4 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 4.5 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sodium sulfonate 1.0 g / L polyacrylamide 0.05g / L

【0090】《実施例16》下記の組成でスズ−亜鉛合
金メッキ浴を調製した。 スルホコハク酸第一スズ(Sn2+として) 24g/L スルホコハク酸亜鉛(Zn2+として) 6g/L スルホコハク酸 0.6mol/L ナフトールポリエトキシレート(EO13) 2g/L ラウリルジメチルアンモニウムベタイン 0.1g/L L−アスコルビン酸 1.0g/L pH(水酸化ナトリウムで調整) 4.5 3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール 1.3g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 16 A tin-zinc alloy plating bath having the following composition was prepared. Stannous sulfosuccinate (as Sn 2+ ) 24 g / L Zinc sulfosuccinate (as Zn 2+ ) 6 g / L Sulfosuccinic acid 0.6 mol / L Naphthol polyethoxylate (EO13) 2 g / L Lauryl dimethyl ammonium betaine 0.1 g / L L-ascorbic acid 1.0 g / L pH (adjusted with sodium hydroxide) 4.5 3,4-dihydroxybenzyl alcohol 1.3 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0091】《実施例17》下記の組成によりスズ−ア
ンチモン合金メッキ浴を調製した。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 塩化アンチモン(SbCl3) 0.4g/L 硫酸 100g/L フッ化アンモニウム 5g/L にかわ 0.5g/L フェノール 5g/L 没食子酸 1.2g/L ピロリン酸 1.0g/L
Example 17 A tin-antimony alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Antimony chloride (SbCl 3 ) 0.4 g / L Sulfuric acid 100 g / L Ammonium fluoride 5 g / L glue 0.5 g / L Phenol 5 g / L Gallic acid 1.2 g / L Pyroline Acid 1.0g / L

【0092】《実施例18》下記の組成によりスズ−銅
合金メッキ浴を調製した。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸銅(CuSO4) 5g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L カテコール−4−スルホン酸 1.7g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 18 A tin-copper alloy plating bath was prepared with the following composition. Stannous sulfate (SnSO 4) 50g / L copper sulfate (CuSO 4) 5g / L sulfuric acid 100 g / L nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10g / L 2- mercaptobenzothiazole 0.5 g / L catechol-4-sulfonic acid 1.7 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0093】《実施例19》下記の組成によりスズメッ
キ浴を調製した。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L 没食子酸 1.0g/L 酒石酸 1.0g/L
Example 19 A tin plating bath having the following composition was prepared. Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Sulfuric acid 100 g / L Nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10 g / L 2-Mercaptobenzothiazole 0.5 g / L Gallic acid 1.0 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0094】《実施例20》下記の組成によりスズメッ
キ浴を調製した。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 20g/L 2−プロパノールスルホン酸 150g/L o−クレゾールスルホン酸 10g/L α−ナフトールエトキシレート(EO10) 10g/L 2,3−ジヒドロキシナフタレン −6−スルホン酸ナトリウム 1.2g/L ピロリン酸 1.0g/L
Example 20 A tin plating bath having the following composition was prepared. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 20 g / L 2-propanol sulfonic acid 150 g / L o-cresol sulfonic acid 10 g / L α-naphthol ethoxylate (EO10) 10 g / L 2,3-dihydroxynaphthalene-6 -Sodium sulfonate 1.2 g / L Pyrophosphoric acid 1.0 g / L

【0095】《比較例1》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例1は酸化防止剤を単独添
加した例である。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール 1.0g/L
Comparative Example 1 A tin-lead alloy plating bath having the following composition was prepared. Comparative Example 1 is an example in which an antioxidant is added alone. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L Catechol 1.0 g / L

【0096】《比較例2》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例2は他の種類の酸化防止
剤を単独添加した例である。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L カテコール−4−スルホン酸(35%) 5.0g/L
Comparative Example 2 A tin-lead alloy plating bath was prepared with the following composition. Comparative Example 2 is an example in which another type of antioxidant was added alone. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonic acid 67.2 g / L Catechol-4-sulfonic acid (35%) 5.0 g / L

【0097】《比較例3》下記の組成でスズ−鉛合金メ
ッキ浴を調製した。当該比較例3は凝集促進剤を単独添
加した例である。 メタンスルホン酸第一スズ(Sn2+として) 30g/L メタンスルホン酸鉛(Pb2+として) 3g/L 遊離メタンスルホン酸 67.2g/L 酒石酸 7g/L
Comparative Example 3 A tin-lead alloy plating bath was prepared with the following composition. Comparative Example 3 is an example in which the aggregation promoter was added alone. Stannous methanesulfonate (as Sn 2+ ) 30 g / L Lead methanesulfonate (as Pb 2+ ) 3 g / L Free methanesulfonate 67.2 g / L Tartaric acid 7 g / L

【0098】《比較例4》下記の組成でスズメッキ浴を
調製した。当該比較例4は前記実施例19を基本としな
がら、酒石酸を省略して、没食子酸(酸化防止剤)のみを
単独添加した例である。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L 没食子酸 1.0g/L
Comparative Example 4 A tin plating bath having the following composition was prepared. Comparative Example 4 is an example in which tartaric acid was omitted and only gallic acid (antioxidant) was added alone based on Example 19 described above. Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Sulfuric acid 100 g / L Nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10 g / L 2-Mercaptobenzothiazole 0.5 g / L Gallic acid 1.0 g / L

【0099】《比較例5》下記の組成でスズメッキ浴を
調製した。当該比較例5は前記実施例19を基本としな
がら、没食子酸を省略して、酒石酸(凝集促進剤)のみを
単独添加した例である。 硫酸第一スズ(SnSO4) 50g/L 硫酸 100g/L ノニルフェノールポリエトキシレート(EO15) 10g/L 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5g/L 酒石酸 1.0g/L
Comparative Example 5 A tin plating bath having the following composition was prepared. Comparative Example 5 is an example in which gallic acid was omitted and only tartaric acid (aggregation promoter) was added alone based on Example 19 described above. Stannous sulfate (SnSO 4 ) 50 g / L Sulfuric acid 100 g / L Nonylphenol polyethoxylate (EO15) 10 g / L 2-mercaptobenzothiazole 0.5 g / L Tartaric acid 1.0 g / L

【0100】そこで、各メッキ浴に長期のエアレーショ
ンを施しながら、間欠的に浴の濾過を繰り返して、下記
に示す試験例の要領で、濾過後の各メッキ浴における酸
化第二スズの発生度合(即ち、第一スズイオンの酸化の程
度)、並びに浴の濁りの程度を経時的に夫々測定した。
但し、酸化第二スズの凝集度合を測る指標として、酸化
第二スズのメジアン径は重要であるが、本試験例では、
浴を間欠的に濾過しているため、濾過後の浴に存在する
酸化第二スズのメジアン径の測定では、濾材を通過した
微細粒子しか測定対象にならず、測定の意味がほとんど
ないことから、基本的に当該メジアン径の測定試験は省
略した。
Therefore, the bath filtration was repeated intermittently while subjecting each plating bath to aeration for a long period of time, and the degree of generation of stannic oxide in each plating bath after filtration ( That is, the degree of oxidation of stannous ion) and the degree of turbidity of the bath were measured over time.
However, as an index for measuring the degree of aggregation of stannic oxide, the median diameter of stannic oxide is important, but in this test example,
Since the bath is filtered intermittently, in the measurement of the median diameter of stannic oxide present in the bath after filtration, only the fine particles that have passed through the filter medium can be measured, so there is little meaning in the measurement. Basically, the measurement test of the median diameter was omitted.

【0101】《メッキ浴の経時評価試験例》調製した各
スズ又はスズ合金浴のメッキ液を1リットルのトールビ
ーカーに500mL入れ、このビーカーを50℃に保持
した恒温槽に収容した。次いで、メッキ液にポンプによ
り空気を1.5L/分の割合で連続的に吹き込んでエア
レーション(バブリング)しながら、基本的に1週間ごと
に濾過処理を繰り返して、主にメッキ浴の透明度の持続
性を中心に試験した。
<< Example of Evaluation Test of Plating Bath with Time >> 500 mL of the prepared tin or tin alloy bath plating solution was placed in a 1-liter tall beaker, and the beaker was placed in a constant temperature bath maintained at 50.degree. Then, while continuously blowing air into the plating solution at a rate of 1.5 L / min by a pump, the filtration process is basically repeated every week to maintain the transparency of the plating bath. Tested mainly on sex.

【0102】(1)酸化第二スズの発生量の測定 上記空気の吹き込み操作を最長35日程度の期間継続
し、所定日数の経過時点ごとに各メッキ液を試料として
採取し、液中のSn2+とSn4+の全体の含有率を原子吸
光光度法で、また、Sn2+の含有率をヨード滴定法で夫
々測定して、前者から後者を減じることにより、各試料
中の4価のスズイオン(Sn4+)の含有率(%)を各々算出
し、浴中での酸化第二スズの発生量を評価した。但し、
当該測定で得られる酸化第二スズは浴中に粒子として懸
濁しているもの、或は溶解しているものの両方を含むと
推定される。
(1) Measurement of Stannous Oxide Generation Rate The above-mentioned air blowing operation was continued for a maximum of about 35 days, and each plating solution was taken as a sample at the elapse of a predetermined number of days, and Sn in the solution was sampled. The total content of 2+ and Sn 4+ was measured by atomic absorption spectrophotometry, and the content of Sn 2+ was measured by iodometric titration method. The content (%) of tin ion (Sn 4+ ) was calculated for each, and the amount of stannic oxide generated in the bath was evaluated. However,
The stannic oxide obtained by the measurement is presumed to include both suspended particles as particles in the bath and dissolved particles.

【0103】(2)メッキ液の濁りの測定 上記(1)のエアレーション操作の開始後、濾過処理ごと
に濾過後の各メッキ液を試料として採取し、各試料の吸
光度を純水をリファレンスとして波長660nmにおい
て分光光度計(U−2000形ダブルビーム分光光度
計;(株)日立製作所製)を用いて夫々測定した。
(2) Measurement of turbidity of plating solution After starting the aeration operation of (1) above, each plating solution after filtration was sampled for each filtration treatment, and the absorbance of each sample was measured with pure water as a reference wavelength. Each measurement was performed at 660 nm using a spectrophotometer (U-2000 type double beam spectrophotometer; manufactured by Hitachi, Ltd.).

【0104】《メッキ浴の評価》図1A・B〜図13A・
B及び図14A・B〜図18A・Bはその結果を示す。本
発明は基本的にスズ又はスズ合金メッキ浴中の第一スズ
イオンの酸化と、酸化物の凝集の問題であり、また、各
種のスズ合金メッキ浴の間では類似、或は近似した傾向
の試験結果が得られ、スズ−鉛合金浴でスズ合金メッキ
浴を代表させることが可能なので、以下の各メッキ浴の
評価では、スズ−鉛合金メッキ浴とスズメッキ浴をモデ
ルケースとして評価するとともに、スズ−鉛合金以外の
スズ合金メッキ浴としては、スズ−ビスマス合金浴を一
例だけ別記するにとどめた。
<< Evaluation of Plating Bath >> FIGS. 1A-B to 13A-
B and FIGS. 14A-B to 18A-B show the results. The present invention is basically a problem of the oxidation of stannous ions in a tin or tin alloy plating bath and the agglomeration of oxides, and a test of similar or similar tendencies among various tin alloy plating baths. Since the results are obtained and it is possible to represent the tin alloy plating bath with the tin-lead alloy bath, in the evaluation of each plating bath below, the tin-lead alloy plating bath and the tin plating bath are evaluated as model cases, and As the tin alloy plating bath other than the lead alloy, a tin-bismuth alloy bath is described only as an example.

【0105】(1)酸化第二スズの発生量の比較評価(各図
のA参照) スズ−鉛合金メッキ浴に関して 酸化第二スズの発生量は、酸化防止剤(カテコール)を単
独添加した比較例1では、ほぼ10%強で推移し(図1
4A参照)、一定の酸化防止効果が認められた。別種の
酸化防止剤(カテコール−4−スルホン酸)を単独添加し
た比較例2は10%前後で推移した(図15A参照)。ま
た、凝集促進剤(酒石酸)を単独添加した比較例3では、
2週間経過時点で第二スズイオンの含有率は85%程度
に高まり(図16A参照)、酸化防止効果が期待できない
ことが判った。これに対して、酸化防止剤と凝集促進剤
を組み合わせた実施例1〜10のうち、先ず、3,4−
ジヒドロキシ安息香酸とピロリン酸を組み合わせた実施
例1では、カテコールスルホン酸の比較例2と同様に1
0%前後で推移し、有効な酸化防止作用を確認した(図
1A参照)。実施例2〜4及び6、9〜10も同様の結
果であった(図2A〜4A、図6A、図9A〜10A参
照)。とりわけ、実施例5、7〜8は日数経過に伴って
発生量がゼロに近付き、顕著な酸化防止作用が確かめら
れた(図5A、図7A〜8A参照)。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 3,4−ジヒドロキシ安息香酸とリン酸二水素アンモニ
ウムを組み合わせた実施例14(図11A参照)では、酸
化第二スズの発生量は10%強から5%程度に向かって
減少を続け、優れた酸化防止効果が確かめられた。 スズメッキ浴に関して 酸化第二スズの発生量は、没食子酸のみを加えた比較例
4(図17A参照)では10%前後で推移したのに対し
て、没食子酸と酒石酸を加えた実施例19(図12A参
照)や、2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン
酸ナトリウムとピロリン酸を加えた実施例20(図13
A参照)では、概ね10%以下で推移した。酒石酸のみ
を加えた比較例5(図18A)では、3週間経過時点で第
二スズイオンの含有率は85%程度に高まり、酸化防止
効果が期待できなかった。
(1) Comparative evaluation of the amount of stannic oxide generated (see A in each figure) Regarding the amount of stannic oxide generated in the tin-lead alloy plating bath, a comparison was made by adding an antioxidant (catechol) alone. In Example 1, it has remained at a little over 10% (Fig. 1
4A), a certain antioxidant effect was observed. Comparative Example 2 in which another type of antioxidant (catechol-4-sulfonic acid) was added alone remained around 10% (see FIG. 15A). In Comparative Example 3 in which the aggregation promoter (tartaric acid) was added alone,
After the lapse of 2 weeks, the content rate of stannic ions increased to about 85% (see FIG. 16A), and it was found that the antioxidant effect could not be expected. On the other hand, among Examples 1 to 10 in which the antioxidant and the aggregation accelerator are combined, first, 3,4-
In Example 1 in which dihydroxybenzoic acid and pyrophosphoric acid were combined, as in Comparative Example 2 of catecholsulfonic acid, 1
The change was around 0%, and an effective antioxidant effect was confirmed (see FIG. 1A). Similar results were obtained in Examples 2 to 4 and 6, 9 to 10 (see FIGS. 2A to 4A, 6A, and 9A to 10A). In particular, in Examples 5 and 7 to 8, the generation amount approached zero with the lapse of days, and a remarkable antioxidant effect was confirmed (see FIGS. 5A and 7A to 8A). In Example 14 (see FIG. 11A) in which 3,4-dihydroxybenzoic acid and ammonium dihydrogen phosphate were combined in the tin-bismuth alloy plating bath, the amount of stannic oxide generated was from about 10% to about 5%. It continued to decrease and the excellent antioxidant effect was confirmed. In the tin plating bath, the amount of stannic oxide generated was around 10% in Comparative Example 4 (see FIG. 17A) in which only gallic acid was added, whereas in Example 19 in which gallic acid and tartaric acid were added (see FIG. 12A) or Example 20 in which sodium 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonate and pyrophosphoric acid were added (FIG. 13).
(See A), the rate remained below 10%. In Comparative Example 5 (FIG. 18A) to which only tartaric acid was added, the content of stannic ions increased to about 85% after 3 weeks, and the antioxidant effect could not be expected.

【0106】(2)吸光度の比較評価(各図のB参照) スズ−鉛合金メッキ浴に関して 浴の濁りが大きいと吸光度も増し、基本的に濁りと吸光
度は比例関係にある。先ず、カテコール、或はカテコー
ルスルホン酸を単独添加した比較例1〜2も、同様の結
果であり、酸化防止剤、或は凝集促進剤を夫々単独添加
したメッキ浴では、浴の濁りが増すか、濁りの水準が高
く、濁りを有効に抑制できないことが確認された(図1
4B〜15B参照)。また、酒石酸を単独添加した比較
例3は濁りの水準は低いが、日数経過に伴い濁りが増し
た(図16B参照)。これに対して、酸化防止剤と凝集促
進剤を組み合わせた実施例1〜10のうち、3,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸とピロリン酸を組み合わせた実施例
1は、上記比較例1〜3に比べて、初期から30日経過
の全期間を通して顕著に低い濁り度合を持続し、没食子
酸と酒石酸を組み合わせた実施例2、カテコールスルホ
ン酸と酒石酸アンモニウムを組み合わせた実施例3、カ
テコールスルホン酸とポリアクリルアミドを組み合わせ
た実施例4、或は2,3−ジヒドロキシナフタレン−6
−スルホン酸塩とポリアクリルアミドを組み合わせた実
施例6、没食子酸とピロリン酸を組み合わせた実施例
9、3,4−ジヒドロキシ安息香酸と酒石酸を組み合わ
せた実施例10も同様に低い濁りで推移した(図1B〜
4B、図6B、図9B〜図10B参照)。没食子酸とリ
ン酸二水素アンモニウムを組み合わせた実施例5は初期
の濁りはやや高いが、その後濁りは急激に減少し、ひき
続き減少を続けながら一層濁りが小さくなった(図5B
参照)。カテコールスルホン酸とリン酸二水素アンモニ
ウムを組み合わせた実施例7も初期の濁りは実施例5と
同様であるが、2週間〜3週間にかけて濁りをほぼ抑制
でき、また、カテコールスルホン酸とピロリン酸を組み
合わせた実施例8も初期の濁りはやや高いが、1週間後
から濁りが急減するという顕著な傾向を示した。 スズ−ビスマス合金メッキ浴に関して 3,4−ジヒドロキシ安息香酸とリン酸二水素アンモニ
ウムを組み合わせた実施例14(図11B参照)では、初
期の濁りも比較的小さく、その後も低く推移して、スズ
−鉛合金メッキ浴に比べても遜色のない(透明度の)水準
であった。 スズメッキ浴に関して 没食子酸のみを加えた比較例4(図17B参照)や、酒石
酸のみを加えた比較例5(図18B)では、浴の濁りが増
加傾向にあった。これに対して、没食子酸と酒石酸を加
えた実施例19(図12B参照)や、2,3−ジヒドロキ
シナフタレン−6−スルホン酸ナトリウムとピロリン酸
を加えた実施例20(図13B参照)は、概ね濁りの低い
水準で推移し、比較例4〜5との差異は明らかであっ
た。
(2) Comparative Evaluation of Absorbance (Refer to B of Each Figure) Regarding tin-lead alloy plating bath, when the turbidity of the bath is large, the absorbance also increases, and basically the turbidity and the absorbance are in a proportional relationship. First, Comparative Examples 1 and 2 in which catechol or catechol sulfonic acid was added alone showed the same result. In the plating baths in which the antioxidant or the coagulation accelerator was added respectively, was the turbidity of the bath increased? However, it was confirmed that the level of turbidity was high and turbidity could not be effectively suppressed (Fig. 1
4B-15B). In Comparative Example 3 in which tartaric acid was added alone, the turbidity level was low, but the turbidity increased with the passage of days (see FIG. 16B). On the other hand, among Examples 1 to 10 in which the antioxidant and the aggregation accelerator were combined, Example 1 in which 3,4-dihydroxybenzoic acid and pyrophosphoric acid were combined was compared with Comparative Examples 1 to 3 above. Example 3 in which gallic acid and tartaric acid were combined, Example 3 in which catechol sulfonic acid and ammonium tartrate were combined, and catechol sulfonic acid and polyacrylamide were maintained, maintaining a markedly low turbidity throughout the entire period of 30 days from the beginning. Example 4 in combination or 2,3-dihydroxynaphthalene-6
-Example 6 in which sulfonate and polyacrylamide were combined, Example 9 in which gallic acid and pyrophosphoric acid were combined, and Example 10 in which 3,4-dihydroxybenzoic acid and tartaric acid were combined also showed low turbidity ( 1B-
4B, FIG. 6B, and FIGS. 9B to 10B). In Example 5 in which gallic acid and ammonium dihydrogen phosphate were combined, the initial turbidity was slightly high, but thereafter the turbidity was sharply reduced, and the turbidity was further reduced while continuing to decrease (FIG. 5B).
reference). In Example 7 in which catechol sulfonic acid and ammonium dihydrogen phosphate were combined, the initial turbidity was the same as that in Example 5, but the turbidity was almost suppressed over 2 to 3 weeks, and catechol sulfonic acid and pyrophosphoric acid were added. The combined Example 8 also showed a remarkable tendency that the initial turbidity was slightly high, but the turbidity was sharply reduced after 1 week. In Example 14 (see FIG. 11B) in which 3,4-dihydroxybenzoic acid and ammonium dihydrogen phosphate were combined in the tin-bismuth alloy plating bath, the initial turbidity was relatively small, and thereafter, the turbidity was low, and tin- The level was as good as that of the lead alloy plating bath (transparency). In Comparative Example 4 in which only gallic acid was added to the tin plating bath (see FIG. 17B) and Comparative Example 5 in which only tartaric acid was added (FIG. 18B), the turbidity of the bath tended to increase. On the other hand, Example 19 in which gallic acid and tartaric acid were added (see FIG. 12B) and Example 20 in which sodium 2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonate and pyrophosphoric acid were added (see FIG. 13B), The level of turbidity was generally low, and the difference with Comparative Examples 4 to 5 was clear.

【0107】(4)総合評価 スズ−鉛合金メッキ浴に関して 酸化防止剤を単独添加した比較例1〜2では、酸化第二
スズの発生に一定の防止効果はあるが、浴の濁りが日数
経過に伴い増した(図14〜15参照)。また、凝集促進
剤を単独添加した比較例3では、酸化第二スズの発生を
防止する効果はなく、浴の濁りも抑制できなかった(図
16参照)。これに対して、酸化防止剤と凝集促進剤を
併用添加した実施例1〜10では、総じて、酸化第二ス
ズの発生を有効に抑制できるとともに、とりわけ、メッ
キ浴の濁りが試験の初期から終期までの全期間に亘り低
い度合で推移し、浴の透明度の持続性が高かった(図1
〜10参照)。 スズ−鉛合金メッキ浴に関して 酸化防止剤と凝集促進剤を併用添加した実施例14で
は、スズ−鉛合金メッキ浴の場合と同様に、酸化第二ス
ズの発生を有効に抑制できるとともに、浴の透明度の持
続性も高かった(図11参照)。 スズメッキ浴に関して スズメッキ浴の場合も、実施例19〜20(図12〜1
3参照)と比較例4〜5(図17〜18参照)の比較で明
らかなように、酸化防止剤と凝集促進剤を併用添加する
と、スズ−鉛合金メッキ浴の場合と同様に、酸化第二ス
ズの発生を有効に抑制し、浴の透明度の持続性も高かっ
た。
(4) Comprehensive Evaluation In Comparative Examples 1 and 2 in which an antioxidant was added alone to the tin-lead alloy plating bath, there was a certain preventive effect on the generation of stannic oxide, but the turbidity of the bath passed for several days. It increased with the increase (see FIGS. 14 to 15). Further, in Comparative Example 3 in which the aggregation promoter was added alone, there was no effect of preventing the generation of stannic oxide, and turbidity of the bath could not be suppressed (see FIG. 16). On the other hand, in Examples 1 to 10 in which the antioxidant and the coagulation accelerator were used in combination, the generation of stannic oxide can be effectively suppressed as a whole, and in particular, the turbidity of the plating bath was from the initial stage to the final stage of the test. The degree of transparency of the bath remained high throughout the entire period up to and including (Fig. 1
10). In Example 14 in which the antioxidant and the coagulation accelerator were added together with respect to the tin-lead alloy plating bath, the generation of stannic oxide can be effectively suppressed and the bath can be effectively suppressed as in the case of the tin-lead alloy plating bath. The transparency was also persistent (see Figure 11). Regarding the tin plating bath, also in the case of the tin plating bath, Examples 19 to 20 (FIGS.
3) and Comparative Examples 4 to 5 (see FIGS. 17 to 18), when the antioxidant and the coagulation accelerator are added together, the oxidation of the same amount as that of the tin-lead alloy plating bath occurs. The generation of bistin was effectively suppressed, and the transparency of the bath was long-lasting.

【0108】以上のことは、酸化防止剤と凝集促進剤を
スズ或はスズ合金浴に併用添加し、間欠的に濾過処理を
繰り返すと、浴中の第一スズイオンの酸化を有効に抑制
できるだけではなく、浴調製後の日数経過で浴の酸化が
進行し、酸化第二スズの微粒子が発生した場合でも、上
記処理剤の相乗作用で当該微粒子が凝集促進、或は結晶
成長されて、粒子径が増した酸化第二スズは濾過処理す
るごとに(即ち、メッキ装置に付設した濾過機を間欠的に
駆動するごとに)捕捉されることを意味する。よって、
浴中の酸化第二スズは容易に外部に除去され、もってメ
ッキ浴の透明度は長期に保持(経時的に安定化)される。
As described above, when the antioxidant and the coagulation accelerator are added together to the tin or tin alloy bath and the filtration treatment is repeated intermittently, the oxidation of stannous ion in the bath can be effectively suppressed. Even if the oxidation of the bath progresses with the lapse of days after preparation of the bath and fine particles of stannic oxide are generated, the fine particles are promoted aggregation or crystal growth due to the synergistic action of the above-mentioned treatment agent, and the particle diameter is increased. It means that the stannic oxide with increased amount is captured every time the filtration process is performed (that is, each time the filter attached to the plating device is intermittently driven). Therefore,
The stannic oxide in the bath is easily removed to the outside, so that the transparency of the plating bath is maintained for a long time (stabilized over time).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1のスズ−鉛合金メッキ浴にエアレーシ
ョンを施しながら、間欠的に濾過処理を繰り返した場合
の試験結果を示す図であり、図1Aは濾過後の浴中の4
価のスズイオンの含有率を示す経時変化図、図1Bは濾
過後の浴の吸光度を示す経時変化図である。
FIG. 1 is a diagram showing test results in the case where a tin-lead alloy plating bath of Example 1 was subjected to intermittent filtration treatment while aerating, and FIG.
FIG. 1B is a time-dependent change diagram showing the absorbance of the bath after filtration, showing the time-dependent change in the content of valent tin ions.

【図2】実施例2のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
2 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 2. FIG.

【図3】実施例3のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 3 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 3.

【図4】実施例4のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
4 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 4. FIG.

【図5】実施例5のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
5 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 5. FIG.

【図6】実施例6のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 6;

【図7】実施例7のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
FIG. 7 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 7.

【図8】実施例8のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
8 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 8. FIG.

【図9】実施例9のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1相
当図である。
9 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 9. FIG.

【図10】実施例10のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図
1相当図である。
FIG. 10 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-lead alloy plating bath of Example 10.

【図11】実施例15のスズ−ビスマス合金メッキ浴を
示す図1相当図である。
11 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin-bismuth alloy plating bath of Example 15. FIG.

【図12】実施例19のスズメッキ浴を示す図1相当図
である。
12 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Example 19. FIG.

【図13】実施例20のスズメッキ浴を示す図1相当図
である。
13 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Example 20. FIG.

【図14】比較例1のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
14 is a view showing a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 1. FIG.
FIG.

【図15】比較例2のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
FIG. 15 is a view showing a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 2;
FIG.

【図16】比較例3のスズ−鉛合金メッキ浴を示す図1
相当図である。
16 is a view showing a tin-lead alloy plating bath of Comparative Example 3. FIG.
FIG.

【図17】比較例4のスズメッキ浴を示す図1相当図で
ある。
FIG. 17 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Comparative Example 4.

【図18】比較例5のスズメッキ浴を示す図1相当図で
ある。
18 is a view corresponding to FIG. 1 showing a tin plating bath of Comparative Example 5. FIG.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉本 雅一 兵庫県明石市二見町南二見21番地の8 株式会社大和化成研究所内 (56)参考文献 特開 昭58−42786(JP,A) 特開 平9−78285(JP,A) 特開 平8−269770(JP,A) 特開 平8−260186(JP,A) 特開 平8−260185(JP,A) 特開 平8−74097(JP,A) 特開 平8−53790(JP,A) 特開 平7−3493(JP,A) 特開 平5−171489(JP,A) 特開 平5−44074(JP,A) 特開 平4−236796(JP,A) 特開 平2−301589(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25D 3/32 C25D 3/60 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Masakazu Yoshimoto 8 21 21 Minami Futami, Futami-cho, Akashi-shi, Hyogo Inside Daiwa Kasei Laboratory Co., Ltd. (56) Reference JP-A-58-42786 (JP, A) JP JP-A-9-78285 (JP, A) JP-A-8-269770 (JP, A) JP-A-8-260186 (JP, A) JP-A-8-260185 (JP, A) JP-A-8-74097 (JP , A) JP 8-53790 (JP, A) JP 7-3493 (JP, A) JP 5-171489 (JP, A) JP 5-44074 (JP, A) JP 4-236796 (JP, A) JP-A-2-301589 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C25D 3/32 C25D 3/60

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)第一スズ塩と、第一スズ塩及び鉛、
銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケル、コバル
ト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の塩の混合物
とのいずれかよりなる可溶性塩、 (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種
の酸、 (C)3,4−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシカテ
コール、3,4−ジヒドロキシベンジルアルコール、4
−メチルカテコール、没食子酸、o−メトキシフェノー
ル、2(4−ヒドロキシフェニル)エチルアルコール、
2,3−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸類、
2,3−ジヒドロキシナフタレン−5−スルホン酸類、
2−ナフトール−6,8−ジスルホン酸二カリウム、或
はこれらの塩よりなる群から選ばれた酸化防止剤の少な
くとも一種、 (D)リン化合物、酒石酸、酒石酸ナトリウム、酒石酸ア
ンモニウム、酒石酸カリウム、酒石酸カルシウム、酒石
酸マグネシウム、ロッシェル塩などの酒石酸塩、ポリア
クリルアミドなどの高分子系凝集剤よりなる群から選ば
れた酸化第二スズ微粒子の凝集促進剤の少なくとも一種
を含有することを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ
浴。
1. (A) stannous salt, stannous salt and lead,
(B) alkane sulfonic acid, alkanol sulfonic acid, aliphatic carboxylic acid, which is a soluble salt consisting of a mixture of salts of metals selected from silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony Or at least one acid selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and borofluoric acid, (C) 3,4-dihydroxybenzoic acid, 4-methoxycate
Cole, 3,4-dihydroxybenzyl alcohol, 4
-Methylcatechol, gallic acid, o-methoxypheno
2 (4-hydroxyphenyl) ethyl alcohol,
2,3-dihydroxynaphthalene-6-sulfonic acids,
2,3-dihydroxynaphthalene-5-sulfonic acids,
2-Naphthol-6,8-disulfonate dipotassium, or
Is a small amount of antioxidants selected from the group consisting of these salts.
At least one, selected from the group consisting of (D) phosphorus compounds, tartaric acid, sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium tartrate, tartrate salts such as calcium tartrate, magnesium tartrate and Rochelle salt, and polymeric flocculants such as polyacrylamide. A tin and tin alloy plating bath containing at least one aggregation promoting agent of stannic oxide particles.
【請求項2】 請求項1のメッキ浴に加えて、さらに界
面活性剤を含有することを特徴とするスズ及びスズ合金
メッキ浴。
2. A tin and tin alloy plating bath, which further contains a surfactant in addition to the plating bath of claim 1.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のメッキ浴に加え
て、さらに光沢剤を含有することを特徴とするスズ及び
スズ合金メッキ浴。
3. A tin and tin alloy plating bath, which further contains a brightening agent in addition to the plating bath according to claim 1 or 2.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項に記載のメ
ッキ浴に加えて、さらに半光沢剤を含有することを特徴
とするスズ及びスズ合金メッキ浴。
4. A tin and tin alloy plating bath, which further contains a semi-brightening agent in addition to the plating bath according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 (A)第一スズ塩と、第一スズ塩及び鉛、
銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケル、コバル
ト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の塩の混合物
とのいずれかよりなる可溶性金属塩、及び (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた酸、その塩の少
なくとも一種を含有するスズ及びスズ合金メッキ浴にお
いて、 上記可溶性金属塩(A)と酸(B)に、下記の(1)〜(2)式に
示す化合物、カテコールスルホン酸、ヒドロキノンスル
ホン酸、ナフトールスルホン酸、カテコール、ヒドロキ
ノン、レゾルシン、ピロガロール、フロログルシン、フ
ェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、アスコル
ビン酸、或はこれらの塩よりなる群から選ばれた酸化防
止剤(C)と、請求項1の凝集促進剤(D)とを併用添加
し、 【化1】 (式(1)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基である;n=1、m=1
の場合、RはSO3Hを除く;n=1、m=2の場合、
RはSO3HとCH3の組み合わせを除く;n=2、m=
1の場合、RはSO3Xを除く。) 【化2】 (式(2)中、RはSO3X(Xは水素、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の金属、NH4など)、COOY(Yは
水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム等の金属、N
4など)、CH3、OCH3、CH2OH、CH2CH2
H、NH2、ハロゲンである;nは1〜4の整数であ
る;mは1〜2の整数である、但し、m=2の場合、R
は互いに同一又は異なる置換基であっても良い;n、m
=1の場合、RはSO3Hを除く。)当該酸化防止剤と
凝集促進剤の共存下で間欠的に濾過処理を繰り返して酸
化第二スズ粒子を浴外に捕捉・除去することにより、メ
ッキ浴の濁りを防止して透明度を経時的に安定可能にす
ることを特徴とするスズ及びスズ合金メッキ浴の管理方
法。
5. (A) stannous salt, stannous salt and lead,
A soluble metal salt consisting of a mixture of salts of metals selected from silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony, and (B) alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, aliphatic In a tin and tin alloy plating bath containing an organic acid such as carboxylic acid or an acid selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and borofluoric acid and at least one salt thereof, the above-mentioned soluble metal salt (A ) And acid (B), the following (1) to (2)
Compounds shown, catechol sulfonic acid, hydroquinone sulphate
Fonic acid, naphthol sulfonic acid, catechol, hydroxy
Non, resorcin, pyrogallol, phloroglucin, fu
Enolsulfonic acid, cresolsulfonic acid, ascor
Antioxidant selected from the group consisting of binic acid or salts thereof.
The inhibitor (C) and the aggregation accelerator (D) of claim 1 are added together, and (In the formula (1), R is SO 3 X (X is hydrogen, a metal such as sodium, potassium and calcium, NH 4 etc.), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
Are mutually the same or different substituents; n = 1, m = 1
In the case of, R excludes SO 3 H; in the case of n = 1 and m = 2,
R excludes combinations of SO 3 H and CH 3 ; n = 2, m =
In the case of 1, R excludes SO 3 X. ) [Chemical 2] (In the formula (2), R is SO 3 X (X is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, NH 4 and the like), COOY (Y is a metal such as hydrogen, sodium, potassium and calcium, N
H 4, etc.), CH 3 , OCH 3 , CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, NH 2 , halogen; n is an integer of 1 to 4; m is an integer of 1 to 2, provided that when m = 2, R
May be the same or different substituents; n, m
= 1, R excludes SO 3 H. ) By intermittently repeating the filtration treatment in the coexistence of the antioxidant and the coagulation promoter to capture and remove the stannic oxide particles outside the bath, the turbidity of the plating bath is prevented and the transparency is improved with time. A method for controlling tin and tin alloy plating baths, which is characterized by making it stable.
【請求項6】 (A)第一スズ塩と、第一スズ塩及び鉛、
銀、亜鉛、ビスマス、インジウム、ニッケル、コバル
ト、銅、金、アンチモンから選ばれた金属の塩の混合物
とのいずれかよりなる可溶性金属塩、及び (B)アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸、脂
肪族カルボン酸などの有機酸、或は、塩酸、硫酸、ホウ
フッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種
の酸を含有し、或は、さらに、界面活性剤、光沢剤、半
光沢剤の少なくともいずれかを含有するスズ及びスズ合
金メッキ浴において、請求項5の酸化防止剤並びに請求項1の凝集促進剤を、
酸、可溶性金属塩、界面活性剤、光沢剤、或は半光沢剤
の少なくともいずれかに予め混入し、建浴時に当該混合
物を残りの浴構成成分と混合することを特徴とするスズ
及びスズ合金メッキ浴の調製方法。
6. (A) stannous salt, stannous salt and lead,
A soluble metal salt consisting of a mixture of salts of metals selected from silver, zinc, bismuth, indium, nickel, cobalt, copper, gold and antimony, and (B) alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid, aliphatic It contains an organic acid such as carboxylic acid or at least one acid selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and borofluoric acid, or further contains a surfactant, a brightening agent or a semi-brightening agent. A tin and tin alloy plating bath containing at least one of the antioxidant according to claim 5 and the aggregation accelerator according to claim 1,
A tin and tin compound characterized by being mixed in advance with at least one of an acid, a soluble metal salt, a surfactant, a brightening agent, or a semi-brightening agent, and mixing the mixture with the remaining bath constituents at the time of building a bath. How to prepare a gold plating bath.
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