JPH11144467A - Memory device - Google Patents

Memory device

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JPH11144467A
JPH11144467A JP30190897A JP30190897A JPH11144467A JP H11144467 A JPH11144467 A JP H11144467A JP 30190897 A JP30190897 A JP 30190897A JP 30190897 A JP30190897 A JP 30190897A JP H11144467 A JPH11144467 A JP H11144467A
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JP
Japan
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precharge
data lines
storage device
memory
control circuit
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Shinji Osaki
真司 大崎
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology by which a memory device can be precharged sufficiently and, further, a current consumption can be reduced. SOLUTION: A plurality of precharge transistors m1 -m3 which precharge the data lines of a memory device are divided and selectively turned on/off so as to obtain a Gm suitable for an operation speed to reduce the current consumption of the memory device. The memory device has a plurality of switches which are connected in parallel to each other and by which one of a plurality of word lines W and one of a plurality of data lines D1 and D2 are respectively selected and driven to precharge the respective data lines D1 and D2 and has a control circuit which controls the plurality of switches which are connected in parallel to each other and by which the data lines D1 and D2 are precharged and the control circuit has a memory table which selects the precharge switch in accordance with the interrelation between the operation environment temperature of a memory cell and the operation frequency of the memory cell and a timing circuit which sets a time for precharge in accordance with the operation frequency.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特にデータ線の浮遊容量をプリチャージする半導
体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device for precharging a floating capacitance of a data line.

【0002】[0002]

【背景技術】スタティックRAMは、複数のワード線と
複数のデータ線をそれぞれ択一的に選択駆動する事によ
って多数の記憶セルの中の任意の記憶セルが選択される
とともに、各データ線をそれぞれプリチャージするため
のトランジスタがデータ線毎に設けられている。この記
憶セルは行と列のマトリックス状に配置されて記憶アレ
イをなす。
2. Description of the Related Art In a static RAM, an arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, and each data line is connected to each other. A transistor for precharging is provided for each data line. The storage cells are arranged in a matrix of rows and columns to form a storage array.

【0003】この記憶アレイには、それぞれ複数ずつの
ワード線およびデータ線が行方向及び列方向に付線され
ている。
In this storage array, a plurality of word lines and a plurality of data lines are respectively provided in a row direction and a column direction.

【0004】ここで、いずれか1つの行のワード線を選
択すると、この選択ワード線上の多数の記憶セルがそれ
ぞれデータ線に接続される。
When a word line in any one row is selected, a large number of memory cells on the selected word line are connected to data lines.

【0005】このとき、いずれか1つの列のデータ線を
選択すると、この選択データ線と上記選択ワード線の交
差個所に接続された記憶セルが選択される。
At this time, when a data line in any one column is selected, a memory cell connected to the intersection of the selected data line and the selected word line is selected.

【0006】そして、この選択記憶セルに対する記憶情
報の読み出しあるいは書き込みが上記選択データ線を介
して行われるようになる。この記憶情報の読み出しに
は、差動アンプにより2本のデータ線の電位差を検出し
て行っている。
[0006] Then, reading or writing of storage information to the selected storage cell is performed via the selected data line. The reading of the stored information is performed by detecting the potential difference between the two data lines using a differential amplifier.

【0007】このため読みだし前に2本のデータ線を充
電し、電位を合わせる動作としてプリチャージを行う。
プリチャージは記憶セルが選択される前にプリチャージ
トランジスタを動作させ、データ線の浮遊容量に電荷を
充電する。
For this reason, two data lines are charged before reading, and precharging is performed as an operation of adjusting potentials.
In precharge, a precharge transistor is operated before a memory cell is selected, and charges the floating capacitance of the data line.

【0008】2本のデータ線の電位差を検出する差動ア
ンプにより電位差を検出する事で読み出し動作を行う事
から、記憶セルからの僅かな電流で、2本のデータ線の
電位差を発生させることで動作するため、動作速度を下
げることなく、記憶セルサイズの削減、メモリ容量増大
に伴うデータ線の浮遊容量の増大の影響を受けない。
Since the reading operation is performed by detecting the potential difference by the differential amplifier for detecting the potential difference between the two data lines, the potential difference between the two data lines is generated with a small current from the memory cell. Therefore, the memory cell size is not reduced and the influence of the increase in the floating capacitance of the data line accompanying the increase in the memory capacity is not affected without lowering the operation speed.

【0009】しかし、読みだし前にプリチャージするた
めには、各データ線の浮遊容量を充電する電流がプリチ
ャージトランジスタを介して流れるので、この充電電流
の総量は、データ線の数に比例する。
However, in order to precharge before reading, a current for charging the stray capacitance of each data line flows through the precharge transistor. Therefore, the total amount of the charging current is proportional to the number of data lines. .

【0010】例えば、64個のデータ線が配列されてい
て、データ線1対あたりに0.15mAの充電電流が流
れるとすると、全体としては0.15mA×64=9.
6mAの負荷電流が選択時に流れる。
For example, if 64 data lines are arranged and a charging current of 0.15 mA flows per pair of data lines, a total of 0.15 mA × 64 = 9.
A load current of 6 mA flows when selected.

【0011】また、データ線を充電するために、プリチ
ャージトランジスタは、データ線毎に必要で、例えば6
4個のデータ線を持っていると、64個のプリチャージ
トランジスタが必要になる。プリチャージトランジスタ
を動作させるのに必要な電流は、例えば1個あたり0.
15mAの電流が流れるとすると、全体としては0.1
5mA×64=9.6mAの電流が、プリチャージ用の
トランジスタを動作させるのに流れることになる。
In order to charge a data line, a precharge transistor is required for each data line.
Having four data lines requires 64 precharge transistors. The current required to operate the precharge transistor is, for example, 0.
Assuming that a current of 15 mA flows, a total of 0.1 mA
A current of 5 mA × 64 = 9.6 mA flows to operate the precharge transistor.

【0012】ここで、動作速度を早くするときには、プ
リチャージ時間を短くし、プリチャージトランジスタの
Gmを大きくする。
Here, when increasing the operating speed, the precharge time is shortened and the Gm of the precharge transistor is increased.

【0013】プリチャージトランジスタのGmを大きく
すると、プリチャージトランジスタのゲート容量が増大
する。また、プリチャージトランジスタのGmが大きく
なると、プリチャージトランジスタのゲート容量が増大
し、ゲート容量の充電には、データ線の充電に比べて電
流が大きくなり、特に高速なメモリの場合には、メモリ
回路の消費電流の多くをしめている問題がある。
When Gm of the precharge transistor is increased, the gate capacitance of the precharge transistor increases. Further, when Gm of the precharge transistor increases, the gate capacitance of the precharge transistor increases, and the current required for charging the gate capacitance becomes larger than that for charging the data line. There is a problem that a large amount of current is consumed by the circuit.

【0014】従来、充電電流を減少させるために、プリ
チャージをデータ線毎に選択的に制御する方法を取り、
データ線の充電とプリチャージトランジスタのゲート容
量の充電を減少させていた。
Conventionally, in order to reduce the charging current, a method of selectively controlling precharge for each data line has been adopted.
The charge of the data line and the charge of the gate capacitance of the precharge transistor were reduced.

【0015】しかし、マイコンのメモリとして接続する
際は、プリチャージまでにアドレスが確定している回路
構成は、とれなく、プリチャージ終了後にアドレスが確
定する回路構成になるため、プリチャージ終了後でない
とアドレスが確定しない。
However, when connected as a memory of a microcomputer, a circuit configuration in which the address is determined before the precharge cannot be taken, and a circuit configuration in which the address is determined after the completion of the precharge is not used. And the address is not fixed.

【0016】このためプリチャージ期間にどのデータ線
のプリチャージを行うべきか判らないのでデータ線毎に
プリチャージを選択する事はできない問題点がある。
Therefore, there is a problem that it is not possible to select the precharge for each data line because it is not known which data line should be precharged during the precharge period.

【0017】もし、プリチャージ前のアドレスにより、
プリチャージするデータ線を決めてしまうと、確定して
いないアドレスを使う事になり、間違ったデータ線のプ
リチャージをしてしまう事が起こり、読み出しをしよう
とする、データ線のプリチャージが完全に行われない問
題が発生する。
If the address before the precharge,
If the data line to be precharged is determined, an address that has not been determined will be used, and the wrong data line will be precharged. Problems that do not occur.

【0018】このため、プリチャージをデータ線毎に選
択的に制御する事ができない。かかる問題点を解決する
一例が特開昭61−9892号公報に示されている。本
公報には、複数のワード線と複数のデータ線をそれぞれ
択一的に選択駆動することによって多数の記憶セルの中
の任意の記憶セルが選択されると共に、各データ線をそ
れぞれプリチャージするためのインピーダンス素子がデ
ータ線毎に設けられた記憶装置であって、各インピーダ
ンス素子の等価インピーダンスをデータ線ごとに可変制
御するようになすとともに、選択されたデータ線に設け
られたインピーダンス素子だけを相対的に低インピーダ
ンス化するようにしたことを開示している。
For this reason, the precharge cannot be selectively controlled for each data line. An example for solving such a problem is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-9892. In this publication, an arbitrary storage cell among a large number of storage cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, and each data line is precharged. Storage device in which an impedance element for each data line is provided, and the equivalent impedance of each impedance element is variably controlled for each data line, and only the impedance element provided for the selected data line is used. It discloses that the impedance is relatively reduced.

【0019】かかる制御は、特にスタティックRAMに
好適で、プリチャージのために電源からnMOSトラン
ジスタを介して各データ線毎に接続され、該nMOSト
ランジスタのゲート端子に各データ線に必要な電流を流
すように、また制御可変電圧を供給できるように、電源
と接地電位間にpMOSトランジスタを直列に接続し
て、その接続点に該nMOSトランジスタのゲート端子
を接続するようにして、インピーダンス素子として動作
させている。
This control is particularly suitable for a static RAM, and is connected to each data line from a power supply via an nMOS transistor for precharging, and a current required for each data line flows through a gate terminal of the nMOS transistor. As described above, a pMOS transistor is connected in series between a power supply and a ground potential so that a control variable voltage can be supplied, and the gate terminal of the nMOS transistor is connected to the connection point to operate as an impedance element. ing.

【0020】しかしながら、この公報においても上述し
た、確定していないアドレスを使う場合があり、間違っ
たデータ線のプリチャージをしてしまうことが起こり、
読み出しをしようとするデータ線のプリチャージが完全
に行われないという問題が残っている。
However, as described in this publication, there is a case where an undetermined address is used, and a wrong data line is precharged.
There remains a problem that the data line to be read is not completely precharged.

【0021】[発明の目的]本発明の目的は、記憶装置
のプリチャージを十分行うと共に、消費電流削減を可能
にする技術を提供するものである。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide a technique for sufficiently precharging a memory device and reducing current consumption.

【0022】[0022]

【課題を解決しようとする手段】本発明は、上記目的を
達成すべく、複数のワード線と複数のデータ線をそれぞ
れ択一的に選択駆動することによって多数の記憶セルの
中の任意の記憶セルが選択されるとともに、前記各デー
タ線をそれぞれプリチャージするためのプリチャージト
ランジスタを複数並列に持つ記憶装置であって、前記デ
ータ線の浮遊容量を充電する時間を前記複数のプリチャ
ージトランジスタを切り替えることにより前記プリチャ
ージトランジスタのGmを可変制御する制御回路を備
え、所定時間内に充電が完了する最小限度のGmのプリ
チャージトランジスタを選択する選択回路を有すること
を特徴とする。又、更に上記選択を、温度、半導体の製
造条件によって前記Gmを選択制御を行うようにしたこ
とを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention selectively drives a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, so that any one of a plurality of storage cells can be selected. A cell is selected and a storage device having a plurality of precharge transistors for precharging each of the data lines in parallel, wherein the time for charging the stray capacitance of the data lines is reduced by the plurality of precharge transistors. A control circuit for variably controlling the Gm of the precharge transistor by switching is provided, and a selection circuit for selecting a minimum Gm precharge transistor whose charging is completed within a predetermined time is provided. Further, the selection is performed by selectively controlling the Gm according to the temperature and the manufacturing conditions of the semiconductor.

【0023】また、本発明は、複数のワード線と複数の
データ線をそれぞれ択一的に選択駆動することによって
多数の記憶セルの中の任意の記憶セルが選択されるとと
もに、前記各データ線をそれぞれプリチャージするため
のプリチャージスイッチを複数並列に持つ記憶装置であ
って、前記データ線をプリチャージする複数並列に接続
したプリチャージスイッチを選択制御する制御回路を備
え、前記制御回路には前記記憶セルの動作環境温度と前
記記憶セルの動作周波数との相関関係とから前記プリチ
ャージスイッチを選択するメモリテーブルと、前記動作
周波数から前記プリチャージする時間を設定するタイミ
ング回路とを備えたことを特徴とする。
Further, according to the present invention, an arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively. A storage device having a plurality of precharge switches for precharging each in parallel, comprising a control circuit for selectively controlling a plurality of precharge switches connected in parallel for precharging the data lines, wherein the control circuit includes: A memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between an operation environment temperature of the storage cell and an operation frequency of the storage cell; and a timing circuit for setting the precharge time from the operation frequency. It is characterized by.

【0024】さらに、本発明は、複数のワード線と複数
のデータ線をそれぞれ択一的に選択駆動することによっ
て多数の記憶セルの中の任意の記憶セルが選択されると
ともに、前記各データ線をそれぞれプリチャージするた
めのプリチャージスイッチを複数並列に持つ記憶装置で
あって、前記データ線をプリチャージする複数並列に接
続したプリチャージスイッチを選択制御する制御回路を
備え、前記制御回路には前記記憶セルの製造条件と前記
記憶セルの動作周波数との相関関係とから前記プリチャ
ージスイッチを選択するメモリテーブルと、前記動作周
波数から前記プリチャージする時間を設定するタイミン
グ回路とを備えたことを特徴とする。
Further, according to the present invention, an arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively. A storage device having a plurality of precharge switches for precharging each in parallel, comprising a control circuit for selectively controlling a plurality of precharge switches connected in parallel for precharging the data lines, wherein the control circuit includes: A memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between a manufacturing condition of the storage cell and an operating frequency of the storage cell, and a timing circuit for setting the precharge time from the operating frequency. Features.

【0025】またさらに、複数のワード線と複数のデー
タ線をそれぞれ択一的に選択駆動することによって多数
の記憶セルの中の任意の記憶セルが選択されるととも
に、前記各データ線をそれぞれプリチャージするための
プリチャージスイッチを複数並列に持つ記憶装置であっ
て、前記データ線をプリチャージする複数並列に接続し
た前記プリチャージスイッチを選択制御する制御回路を
備え、前記制御回路には前記記憶セルの製造条件と前記
記憶セルの動作環境温度との相関関係とから前記プリチ
ャージスイッチを選択するメモリテーブルと、前記動作
環境温度から前記プリチャージする時間を設定するタイ
ミング回路とを備えたことを特徴とする。
Further, by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, an arbitrary one of a large number of storage cells is selected, and each of the data lines is pre-selected. A storage device having a plurality of precharge switches for charging in parallel, comprising: a control circuit for selectively controlling the plurality of precharge switches connected in parallel for precharging the data lines, wherein the control circuit includes the storage device. A memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between a cell manufacturing condition and an operating environment temperature of the storage cell; and a timing circuit for setting the precharge time from the operating environment temperature. Features.

【0026】[発明の作用]本発明は、記憶装置のデー
タ線をプリチャージするためのプリチャートトランジス
タ(スイッチ)を動作速度に適したGm(全体としての
相互コンダクタンス)が得られるように、トランジスタ
を分割し、選択制御することにより、記憶装置の消費電
流の削減を可能にする。
According to the present invention, a precharging transistor (switch) for precharging a data line of a storage device is provided with a transistor so that Gm (overall transconductance) suitable for an operation speed can be obtained. Is divided and the selection control is performed, thereby reducing the current consumption of the storage device.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】[第1の実施形態]以下、この発
明の代表的な実施形態を、図面を参照しながら説明す
る。図1はこの発明による記憶装置の一実施形態を示す
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] Hereinafter, a representative embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of a storage device according to the present invention.

【0028】図1に示す記憶装置は、半導体記憶装置と
して構成されたMOS型スタティック型RAMであっ
て、スタッティック方式によって動作する。
The storage device shown in FIG. 1 is a MOS static RAM configured as a semiconductor storage device, and operates according to a static system.

【0029】図1に示すスタティックRAMは、多数の
記憶セルM11〜Mmnを行と列のマトリックス状に配
列してなる記憶アレイ1を有する。
The static RAM shown in FIG. 1 has a storage array 1 in which a large number of storage cells M11 to Mmn are arranged in a matrix of rows and columns.

【0030】この記憶アレイ1には、複数のワード線W
および2本を対とする複数対のデータ線D1,D2がX
方向(行方向)およびY方向(列方向)にそれぞれ布線
されている。
The storage array 1 includes a plurality of word lines W
And two or more pairs of data lines D1 and D2 are X
The wires are wired in the direction (row direction) and the Y direction (column direction).

【0031】アドレスバッファ11,21、Xデコーダ
12、Yデコーダ22が設けられている。これらによっ
てアドレス信号Aiが2つの択一的な選択信号X1〜X
m、Y1〜Ynにデコードされるようになっている。
There are provided address buffers 11 and 21, an X decoder 12, and a Y decoder 22. By these, the address signal Ai is divided into two alternative selection signals X1 to X
m, Y1 to Yn.

【0032】その一方の選択信号は、X選択信号X1〜
Xmとして、Xドライバ13を介して、各ワード線Wに
与えられる。これにより、いずれか1本のワード線Wだ
けが選択されて能動化されるようになっている。
One of the selection signals is an X selection signal X1 to X1.
Xm is provided to each word line W via the X driver 13. Thereby, only one of the word lines W is selected and activated.

【0033】また、その他方の選択信号は、Y選択信号
Y1〜Ynとして、Y選択スイッチ列23に与えられ
る。そして、このY選択スイッチ23を介して、いずれ
か1対のデータ線D1,D2が選択されて読み出しセン
ス回路31に接続されるようになっている。そのほかに
は、書き込み/読み出し制御回路32等が設けられてい
る。
The other selection signal is given to the Y selection switch row 23 as Y selection signals Y1 to Yn. Then, via this Y selection switch 23, one pair of data lines D1 and D2 is selected and connected to the read sense circuit 31. In addition, a write / read control circuit 32 and the like are provided.

【0034】書き込み/読み出し制御回路32は、外部
から与えられる書き込み制御信号(ライトイネーブル)
WEおよびチップ選択信号CSによって動作する。
The write / read control circuit 32 has an externally applied write control signal (write enable).
Operated by WE and chip select signal CS.

【0035】ライトイネーブルWEおよびチップ選択信
号CSが共に能動になると、記憶装置が、書き込みモー
ドになると、書き込みデータDiがアドレス信号Aiに
よって選択される記憶セルに書き込まれる。ライトイネ
ーブルWEが非能動でチップ選択信号CSが能動になる
と、記憶装置が読み出しモードとなる。
When the write enable WE and the chip select signal CS are both activated, when the storage device enters the write mode, the write data Di is written to the storage cell selected by the address signal Ai. When the write enable WE is inactive and the chip select signal CS becomes active, the storage device enters the read mode.

【0036】読み出しモードのときには、アドレス信号
Aiによって選択される記憶セルの記憶内容が上記読み
出しセンス回路31から読み出しデータDoとして出力
される。
In the read mode, the contents stored in the memory cell selected by the address signal Ai are output from the read sense circuit 31 as read data Do.

【0037】ここで、上記データ線D1,D2は、読み
出し動作の前に、それぞれプリチャージトランジスタm
によってプリチャージされるようになっている。
The data lines D1 and D2 are connected to the precharge transistors m before the read operation.
Is to be pre-charged.

【0038】図2のT1期間がプリチャージ期間に相当
し、ワード線Wが非選択時、すなわちメモリ部のフリッ
プフロップを導通/非導通とするトランジスタQ1がO
FFの状態で行われる。
The T1 period in FIG. 2 corresponds to the precharge period, and when the word line W is not selected, that is, the transistor Q1 for turning on / off the flip-flop of the memory unit is turned on.
This is performed in the state of FF.

【0039】図1のプリチャージトランジスタmは複数
のpチャンネル型MOS電界効果トランジスタm1〜m
nによって構成され、そのゲートを制御するgm選択ト
ランジスタg1〜gnにより構成され、トランジスタm
1〜mnのゲートをGNDにする事で所定のトランジス
タm1〜mnを動作させるようになっている。
The precharge transistor m shown in FIG. 1 includes a plurality of p-channel MOS field effect transistors m1 to m.
n, and gm select transistors g1 to gn that control the gates thereof.
By setting the gates of 1 to mn to GND, predetermined transistors m1 to mn are operated.

【0040】トランジスタはm1〜mnはpチャンネル
トランジスタで構成され、このトランジスタm1〜mn
によってデータ線D1,D2の電位が電源Vccの電位
側に引っ張られるようになっている。
The transistors m1 to mn are p-channel transistors.
Thereby, the potentials of the data lines D1 and D2 are pulled toward the potential side of the power supply Vcc.

【0041】このプリチャージ動作は、読み出し動作時
に、読み出しセンスアンプがデータ線の浮遊容量C1,
C2の影響を受けないように、予めデータ線D1,D2
を等電位に設定する。
In this precharge operation, during the read operation, the read sense amplifier is connected to the floating capacitance C1 of the data line.
In order not to be affected by C2, data lines D1, D2
Are set to the same potential.

【0042】プリチャージ動作が終了し、ワード線Wが
選択されて能動化されると、選択ワード線にそってトラ
ンジスタQ1が導通駆動される。これにより選択ワード
線W上の記憶セルMxyがそれぞれデータ線D1,D2
に接続される。
When the precharge operation is completed and the word line W is selected and activated, the transistor Q1 is turned on along the selected word line. As a result, the storage cells Mxy on the selected word line W are connected to the data lines D1 and D2, respectively.
Connected to.

【0043】データ線D1,D2が記憶セルMxyに接
続されると、そのデータ線D1,D2の電位が記憶セル
Mxyの記憶内容に応じて相補的に変化する。この時、
作動アンプで構成されるセンスアンプ31が、D1,D
2の電位差を検出し、Mxyの記憶内容を読み出す。上
記読み出し動作タイミングは、図2のT2期間に相当す
る。
When the data lines D1 and D2 are connected to the storage cell Mxy, the potentials of the data lines D1 and D2 change complementarily according to the storage contents of the storage cell Mxy. At this time,
The sense amplifiers 31 composed of operation amplifiers are D1, D
2 is detected, and the stored content of Mxy is read. The read operation timing corresponds to the period T2 in FIG.

【0044】以上が本実施形態のMOS型スタティック
RAMの動作概要を説明した、さらに本特許の特徴であ
る、プリチャージ動作についてさらに詳しく説明する。
The outline of the operation of the MOS static RAM according to the present embodiment has been described above. The precharge operation, which is a feature of the present invention, will be described in more detail.

【0045】従来においては、プリチャージトランジス
タmは1個で構成され、そのgmは必要なスピードが得
られる値を設計時に作りこみLSI製造後は、一定値に
固定されていた。
Conventionally, the precharge transistor m is constituted by one, and the value gm of the precharge transistor m is designed at the time of designing, and is fixed at a constant value after manufacturing the LSI.

【0046】ところが、この実施形態では、プリチャー
ジトランジスタmのgmが、プリチャージトランジスタ
選択回路50によって選択制御されるようになってい
る。
However, in this embodiment, the gm of the precharge transistor m is selectively controlled by the precharge transistor selection circuit 50.

【0047】プリチャージトランジスタ選択回路50
が、選択信号51,52,53を出力し、プリチャージ
タイミング発生回路からは、プリチャージタイミング信
号54が出力され、前記2つの信号をゲートg1〜g3
でそれぞれ論理和を取ることでプリチャージトランジス
タm1〜m3のいずれかが動作しデータ線D1,D2を
プリチャージする。
Precharge transistor selection circuit 50
Output preselection timing signals 54 from the precharge timing generation circuit, and output the two signals to the gates g1 to g3.
, One of the precharge transistors m1 to m3 operates to precharge the data lines D1 and D2.

【0048】このプリチャージトランジスタm1〜mn
の選択は、高速動作時は大きなGmを選択し、低速動作
時は小さなGmを選択する事により必要とするスピード
に適したGmを選択できる。
The precharge transistors m1 to mn
Can be selected by selecting a large Gm at the time of high-speed operation and selecting a small Gm at the time of low-speed operation by selecting a Gm suitable for the required speed.

【0049】高速動作時、低速動作時のタイミングチャ
ートを図2に示す。図2においてT2期間のデータ読み
出しに先立って、T1期間のプリチャージ時間を高速動
作時には短く、低速動作時には長くしている。
FIG. 2 is a timing chart for the high-speed operation and the low-speed operation. In FIG. 2, prior to the data reading in the period T2, the precharge time in the period T1 is short in the high-speed operation and is long in the low-speed operation.

【0050】Gmの調整はm1だけを選択することによ
り小さなGmが選択でき、m1,m2,m3の3個を選
択する事で前記の3倍のGmを得ることが出来る。
For the adjustment of Gm, a small Gm can be selected by selecting only m1, and a Gm three times the above can be obtained by selecting three of m1, m2, and m3.

【0051】プリチャージタイミング発生回路55は、
選択したGmのトランジスタでプリチャージが完了する
まで、0を出力する回路で、0を出力する時間は、デー
タ線の浮遊容量C1,C2とGmにより決まる。
The precharge timing generation circuit 55
Until the precharge is completed by the selected Gm transistor, the time for outputting 0 in the circuit that outputs 0 is determined by the floating capacitances C1, C2 and Gm of the data line.

【0052】例えば、マイコンのメモリとして本メモリ
を用いたシステムにおいて、マイコンが高速動作時は、
大きなGmを選択したプリチャージ時間を短くすること
で、メモリのスピードを早くし、逆に低速動作時は、小
さなgmを選択し消費電流を下げることができる。
For example, in a system using this memory as the memory of the microcomputer, when the microcomputer operates at high speed,
By shortening the precharge time for selecting a large Gm, the speed of the memory can be increased. Conversely, during low-speed operation, a small gm can be selected to reduce current consumption.

【0053】図3は、特にプリチャージトランジスタ選
択回路50とプリチャージタイミング発生回路55の内
容の一例を示す概念図である。プリチャージトランジス
タ選択回路50は、動作温度と動作周波数(動作速度)
Fmaxとの関係からg選択信号51〜53に対するGm
を設定するメモリとしてのGm選択テーブル56と、G
mからg選択信号51〜53に変換するデコーダとから
構成され、g選択信号51〜53はOR回路g1〜g3
に供給される。また、プリチャージタイミング発生回路
55はチップセレクト信号に応じて、プリチャージトラ
ンジスタ選択回路50からの設定温度に応じてプリチャ
ージの時間を設定すると共に、OR回路g1〜g3にプ
リチャージ時間信号を供給して、温度と動作周波数Fma
xに応じて、プリチャージするビット線へGmに応じた
電流値でプリチャージする。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing an example of the contents of the precharge transistor selection circuit 50 and the precharge timing generation circuit 55 in particular. The precharge transistor selection circuit 50 operates at an operating temperature and an operating frequency (operating speed).
Gm for the g selection signals 51-53 from the relationship with Fmax
Gm selection table 56 as a memory for setting
and a decoder for converting m to g selection signals 51 to 53. The g selection signals 51 to 53 are OR circuits g1 to g3.
Supplied to Further, the precharge timing generation circuit 55 sets a precharge time according to a set temperature from the precharge transistor selection circuit 50 in accordance with the chip select signal, and supplies a precharge time signal to the OR circuits g1 to g3. And the temperature and operating frequency Fma
According to x, the bit line to be precharged is precharged with a current value according to Gm.

【0054】さらに、図3に示すように、温度によるG
mの能力差を、必要とするメモリスピードが得られるよ
うに、温度に対するGmをプリチャージトランジスタ選
択回路50内に予めメモリテーブルにプログラムしてお
き、必要なメモリのスピードに最適なGmを選択するこ
とにより、さらに消費電流の削減が可能になる。
Further, as shown in FIG.
In order to obtain the required memory speed, Gm with respect to temperature is preprogrammed in the memory table in the precharge transistor selection circuit 50 so that the required memory speed can be obtained, and the optimum Gm for the required memory speed is selected. As a result, current consumption can be further reduced.

【0055】例えば、温度2の時に、Fmax4を得る
には、Gm選択テーブル56から2個のプリチャージト
ランジスタを動作させる結果が得られ、デコーダ回路5
5によりg1選択信号51とg2選択信号52が選択さ
れ、プリチャージトランジスタm1とm2が動作する。
For example, to obtain Fmax4 at the temperature of 2, the result of operating two precharge transistors is obtained from the Gm selection table 56, and the decoder circuit 5
5, the g1 selection signal 51 and the g2 selection signal 52 are selected, and the precharge transistors m1 and m2 operate.

【0056】[第2の実施形態]第2の実施形態とし
て、図4に示すように、製造時の条件、例えば各プリチ
ャージ用MOSトランジスタの相互コンダクタンスが製
造条件で異なることから、この製造時のバラツキ条件に
よるGmの能力差を、又は必要とするメモリスピードが
得られるように製造時の条件に対するGmを、予めテー
ブル56にプログラムしておき、必要なメモリの動作周
波数に最適なGmを選択することにより、さらに消費電
流の削減が可能になる。
[Second Embodiment] As a second embodiment, as shown in FIG. 4, the conditions at the time of manufacturing, for example, the mutual conductance of each precharge MOS transistor are different depending on the manufacturing conditions. The Gm capability difference due to the variation condition or the Gm for the manufacturing condition so that the required memory speed can be obtained is programmed in the table 56 in advance, and the Gm optimal for the required memory operating frequency is selected. By doing so, the current consumption can be further reduced.

【0057】即ち、図4によれば、プリチャージトラン
ジスタ選択回路50とプリチャージタイミング発生回路
55の内容の一例を示す概念図であり、プリチャージト
ランジスタ選択回路50は、Gm選択テーブル56によ
って、メモリセルの製造時の条件と動作周波数Fmaxと
の関係から、何個のトランジスタでプリチャージするの
かを示すGmを設定する。つぎに、Gmの値からg選択
信号51〜53に変換するデコーダを介して、g選択信
号51〜53にその信号を伝送され、OR回路g1〜g
3に供給される。また、プリチャージタイミング発生回
路55はチップセレクト信号に応じて、プリチャージト
ランジスタ選択回路50からの製造時の条件に応じてプ
リチャージの時間を設定すると共に、OR回路g1〜g
3にプリチャージ時間信号を供給して、動作周波数Fma
xと、メモリセルの製造条件の一つの例えば拡散条件に
応じて、プリチャージするビット線へGmに応じた電流
値でプリチャージする。
FIG. 4 is a conceptual diagram showing an example of the contents of the precharge transistor selection circuit 50 and the precharge timing generation circuit 55. The precharge transistor selection circuit 50 Gm indicating how many transistors are to be precharged is set from the relationship between the conditions at the time of manufacturing the cell and the operating frequency Fmax. Next, the signals are transmitted to the g selection signals 51 to 53 via a decoder for converting the value of Gm into the g selection signals 51 to 53, and the OR circuits g1 to g
3 is supplied. Further, the precharge timing generation circuit 55 sets the precharge time according to the conditions at the time of manufacture from the precharge transistor selection circuit 50 in response to the chip select signal, and also sets the OR circuits g1 to g
3 is supplied with a precharge time signal, and the operating frequency Fma
According to x and one of the manufacturing conditions of the memory cell, for example, a diffusion condition, a precharged bit line is precharged with a current value according to Gm.

【0058】以上から、最小限度のプリチャージトラン
ジスタm1〜mnを選択する事により、m1〜mnのゲ
ート容量が減少し、このトランジスタのゲート容量を充
電し、トランジスタを動作させるための電流を削減でき
る。この電流の削減の度合いは例えばGmが小さく、動
作速度が遅いm1のゲート容量が、m2の半分であれば
消費電流はI=fCV(Cはメモリセルビット線の寄生
容量、Vは電源電圧Vccである)から半分にする事がで
きる。
As described above, by selecting the minimum precharge transistors m1 to mn, the gate capacitance of m1 to mn is reduced, and the current required for charging the gate capacitance of these transistors and operating the transistor can be reduced. . The degree of reduction of this current is, for example, Gm is small, and if the gate capacitance of m1 whose operation speed is slow is half of m2, the consumption current is I = fCV (C is the parasitic capacitance of the memory cell bit line, and V is the power supply voltage Vcc. ).

【0059】さらに問題点のところで述べたように、プ
リチャージに要する電流が全体の多くを占めていること
からの消費電流の大幅な削減が可能になる。
Further, as described in the section of the problem, the current required for precharging occupies a large part of the whole, so that the current consumption can be greatly reduced.

【0060】ここで、Gmの制御は、 1)単純に所望の動作速度を得られるものを選択する方
法、 2)マイコンなどにより、プログラム化し温度、製造条
件、電源電圧により選択する方法、 3)メモリ読み出しを試行し、書き込んだデータと読み
出したデータが等しくなる、 ということで、メモリが正常動作する最適なGmをフィ
ードバックする等も可能になる。
Here, Gm is controlled by 1) a method of simply selecting a device capable of obtaining a desired operation speed, 2) a method of programming by a microcomputer or the like, and selecting by a temperature, a manufacturing condition, and a power supply voltage; 3). Attempting to read the memory, the written data and the read data become equal, which makes it possible to feed back the optimum Gm for the normal operation of the memory.

【0061】上記実施形態では、プリチャージトランジ
スタ選択回路50内のメモリテーブル56に環境温度と
動作周波数、製造時の条件と動作周波数の関係を2次元
的に示す例を示したが、3次元のメモリーテーブルを用
いて、三次元的に決定したGmで所定数のMOSトラン
ジスタをオンしてプリチャージすることも勿論可能であ
る。
In the above embodiment, an example is shown in which the memory table 56 in the precharge transistor selection circuit 50 two-dimensionally shows the relationship between the ambient temperature and the operating frequency, and the relationship between the manufacturing conditions and the operating frequency. It is of course possible to turn on a predetermined number of MOS transistors with Gm determined three-dimensionally using a memory table to perform precharge.

【0062】上記実施形態では、スタティックRAMの
プリチャージについて説明したが、SDRAM(Synchr
onous Dynamic RAM)の場合にバンク切り換えの際の
プリチャージについても適用することが可能であり、同
様な効果を奏し得る。
In the above embodiment, the precharge of the static RAM has been described.
In the case of an onous dynamic RAM, the present invention can be applied to precharge at the time of bank switching, and the same effect can be obtained.

【0063】さらに、大容量のDRAMでは、バンク切
り換えにプリチャージを行うが、この場合にも、動作温
度やDRAMの製造条件等によって、Gmを切り換え
て、適切な電流値によってプリチャージすることによ
り、上述のSRAMによるデータ線程のプリチャージ数
は多くないが、低消費電力化が可能になる。
Further, in a large-capacity DRAM, precharging is performed for bank switching. Also in this case, Gm is switched according to the operating temperature, DRAM manufacturing conditions, and the like, and precharging is performed with an appropriate current value. Although the number of precharges in the SRAM is not as large as that of the data line, the power consumption can be reduced.

【0064】さらに、本プリチャージに関し、以上の説
明では、MOS型スタティックRAM技術に適用した場
合について説明したが、それに限定されるものではな
く、例えば、ROMあるいはダイナミックRAM等、今
後開発されるFRAMや他のメモリセル等にも適応でき
ることは勿論である。
Further, in the above description, the case where the present precharge is applied to the MOS static RAM technology has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, a FRAM to be developed in the future, such as a ROM or a dynamic RAM, is used. Of course, it can also be applied to other memory cells and the like.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上の様に、動作速度に応じて、特にデ
ータの読み出し時に、プリチャージトランジスタのGm
を可変制御することにより、データ線の数だけ接続され
ているプリチャージトランジスタのゲート容量を削減で
き消費電流の削減が可能になる。
As described above, the Gm of the precharge transistor depends on the operation speed, especially when reading data.
, The gate capacity of the precharge transistors connected by the number of data lines can be reduced, and the current consumption can be reduced.

【0066】Gmを可変制御する方式は、 1)動作速度に応じて予めテーブル化しておき選択する
方式、 2)マイコンなどにより、プログラム化し温度、製造条
件、電源電圧により選択する方法、 3)メモリ読み出しを試行し、書き込んだデータと読み
出したデータが等しくなる最適なgmをフィードバック
する方式、 等により、動作速度に適したGmを選択し、消費電流の
削減が可能となる。
The method of variably controlling Gm is: 1) a method of selecting a table in advance according to the operation speed; 2) a method of programming by a microcomputer or the like and selecting by temperature, manufacturing conditions and power supply voltage; 3) a memory Gm suitable for the operation speed can be selected by a method of performing readout and feeding back the optimum gm that makes the written data equal to the read data, and the current consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明による記憶装置の一実施形態を示すブ
ロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a storage device according to the present invention.

【図2】この発明による記憶装置のタイミングを示すタ
イミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing the timing of the storage device according to the present invention.

【図3】第1図に示した記憶装置の要部実施形態を示す
ブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of a main part of the storage device shown in FIG. 1;

【図4】第1図に示した記憶装置の要部第2実施形態を
示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the main part of the storage device shown in FIG. 1;

【図5】従来例によるプリチャージ用の回路ブロック図
である。
FIG. 5 is a circuit block diagram for precharge according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 記憶セルアレイ Ai アドレス信号 11,21 アドレスバッファ 12 Xデコーダ 13 Xドライバ 22 Yデコーダ 23 Y選択スイッチ列 X1〜Xm ワード線選択信号 Y1〜Yn データ線選択信号 M11〜Mmn 記憶セル W ワード線 D1〜D2 データ線 31 読み出しセンスアンプ 32 書き込み、読み出し制御 m1,m2,m3 プリチャージトランジスタ g1,g2,g3 論理和ゲート 50 プリチャージトランジスタ選択回路 51 g1選択信号 52 g2選択信号 53 g3選択信号 54 プリチャージタイミング信号 55 プリチャージタイミング発生回路 56 Gm選択テーブル Reference Signs List 1 storage cell array Ai address signal 11, 21 address buffer 12 X decoder 13 X driver 22 Y decoder 23 Y selection switch array X1 to Xm word line selection signal Y1 to Yn data line selection signal M11 to Mmn storage cell W word line D1 to D2 Data line 31 Read sense amplifier 32 Write / read control m1, m2, m3 Precharge transistors g1, g2, g3 OR gate 50 Precharge transistor selection circuit 51 g1 selection signal 52 g2 selection signal 53 g3 selection signal 54 Precharge timing signal 55 precharge timing generation circuit 56 Gm selection table

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線と複数のデータ線をそれ
ぞれ択一的に選択駆動することによって多数の記憶セル
の中の任意の記憶セルが選択されるとともに、前記各デ
ータ線をそれぞれプリチャージするためのプリチャージ
トランジスタを複数並列に持つ記憶装置であって、 前記データ線の浮遊容量を充電する時間を前記複数のプ
リチャージトランジスタを切り替えることにより前記プ
リチャージトランジスタのGmを可変制御する制御回路
を備え、所定時間内に充電が完了する最小限度のGmの
プリチャージトランジスタを選択する選択回路を有する
ことを特徴とする記憶装置。
An arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, and each of the data lines is precharged. A storage device having a plurality of pre-charge transistors in parallel, the control circuit variably controlling the Gm of the pre-charge transistors by switching the plurality of pre-charge transistors to charge the floating capacitance of the data line. And a selection circuit for selecting a minimum Gm precharge transistor whose charging is completed within a predetermined time.
【請求項2】 上記選択を、温度、半導体の製造条件に
よって前記Gmを選択制御を行うようにしたことを特徴
とする請求項1に記載の記憶装置。
2. The storage device according to claim 1, wherein said selection is performed by selectively controlling said Gm according to temperature and semiconductor manufacturing conditions.
【請求項3】 複数のワード線と複数のデータ線をそれ
ぞれ択一的に選択駆動することによって多数の記憶セル
の中の任意の記憶セルが選択されるとともに、前記各デ
ータ線をそれぞれプリチャージするためのプリチャージ
スイッチを複数並列に持つ記憶装置であって、 前記データ線をプリチャージする複数並列に接続したプ
リチャージスイッチを選択制御する制御回路を備え、前
記制御回路には前記記憶セルの動作環境温度と前記記憶
セルの動作周波数との相関関係とから前記プリチャージ
スイッチを選択するメモリテーブルと、前記動作周波数
から前記プリチャージする時間を設定するタイミング回
路とを備えたことを特徴とする記憶装置。
3. An arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, and each of the data lines is precharged. A storage device having a plurality of precharge switches for performing parallel control, the control circuit selectively controlling a plurality of precharge switches connected in parallel for precharging the data lines, wherein the control circuit includes A memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between an operating environment temperature and an operating frequency of the storage cell; and a timing circuit for setting the precharge time from the operating frequency. Storage device.
【請求項4】 複数のワード線と複数のデータ線をそれ
ぞれ択一的に選択駆動することによって多数の記憶セル
の中の任意の記憶セルが選択されるとともに、前記各デ
ータ線をそれぞれプリチャージするためのプリチャージ
スイッチを複数並列に持つ記憶装置であって、 前記データ線をプリチャージする複数並列に接続したプ
リチャージスイッチを選択制御する制御回路を備え、前
記制御回路には前記記憶セルの製造条件と前記記憶セル
の動作周波数との相関関係とから前記プリチャージスイ
ッチを選択するメモリテーブルと、前記動作周波数から
前記プリチャージする時間を設定するタイミング回路と
を備えたことを特徴とする記憶装置。
4. An arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, and each of the data lines is precharged. A storage device having a plurality of precharge switches for performing parallel control, the control circuit selectively controlling a plurality of precharge switches connected in parallel for precharging the data lines, wherein the control circuit includes A memory comprising: a memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between manufacturing conditions and an operation frequency of the storage cell; and a timing circuit for setting a time for the precharge from the operation frequency. apparatus.
【請求項5】 複数のワード線と複数のデータ線をそれ
ぞれ択一的に選択駆動することによって多数の記憶セル
の中の任意の記憶セルが選択されるとともに、前記各デ
ータ線をそれぞれプリチャージするためのプリチャージ
スイッチを複数並列に持つ記憶装置であって、 前記データ線をプリチャージする複数並列に接続した前
記プリチャージスイッチを選択制御する制御回路を備
え、前記制御回路には前記記憶セルの製造条件と前記記
憶セルの動作環境温度との相関関係とから前記プリチャ
ージスイッチを選択するメモリテーブルと、前記動作環
境温度から前記プリチャージする時間を設定するタイミ
ング回路とを備えたことを特徴とする記憶装置。
5. An arbitrary memory cell among a large number of memory cells is selected by selectively driving a plurality of word lines and a plurality of data lines, respectively, and each of the data lines is precharged. A storage device having a plurality of precharge switches for performing parallel control, the control circuit selectively controlling the plurality of precharge switches connected in parallel to precharge the data lines, wherein the control circuit includes the storage cell. A memory table for selecting the precharge switch based on a correlation between the manufacturing conditions and the operating environment temperature of the storage cell, and a timing circuit for setting the precharge time from the operating environment temperature. Storage device.
【請求項6】 請求項3乃至5のいずれか1項に記載の
記憶装置において、前記記憶セルは、SRAM,又はD
RAMであることを特徴とする記憶装置。
6. The storage device according to claim 3, wherein the storage cell is an SRAM or a DRAM.
A storage device, which is a RAM.
【請求項7】 請求項4乃至6のいずれか1項に記載の
記憶装置において、前記プリチャージスイッチはMOS
トランジスタであって、前記制御回路は前記複数のMO
Sトランジスタをオン/オフして前記プリチャージスイ
ッチのGmを可変とすることを特徴とする記憶装置。
7. The storage device according to claim 4, wherein said precharge switch is a MOS transistor.
A transistor, wherein the control circuit includes the plurality of MOs.
A storage device, wherein Gm of the precharge switch is made variable by turning on / off an S transistor.
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