JPH0743925B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0743925B2
JPH0743925B2 JP59058269A JP5826984A JPH0743925B2 JP H0743925 B2 JPH0743925 B2 JP H0743925B2 JP 59058269 A JP59058269 A JP 59058269A JP 5826984 A JP5826984 A JP 5826984A JP H0743925 B2 JPH0743925 B2 JP H0743925B2
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JP
Japan
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switch
data line
memory cell
memory
line
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勝高 木村
良樹 川尻
潤 衛藤
陵一 堀
清男 伊藤
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Hitachi Ltd
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に係り、特に高集積でかつ低消
費電力化に適したメモリアレー構成法に関するものであ
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a memory array configuration method suitable for high integration and low power consumption.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

今後半導体記憶装置が高集積・大容量化されるにつれ
て、低消費電力化を十分考慮した設計がますます重要に
なる。
As semiconductor memory devices become highly integrated and have large capacities in the future, it will become increasingly important to design with due consideration for low power consumption.

第1図は従来の半導体記憶装置の構成を示すものであ
る。メモリセルMCはワード線W0〜W3とデータ線D0〜D3
交点にマトリクス状に配置される。この構成において読
み出し動作は以下のようにして行なわれる。外部からの
アドレス信号A0〜A3が入力されると、Xデコーダ(XDE
C)が定まる。この結果、たとえばワード線W3が選択さ
れると、Xドライバ(XDRV)によりワード線W3に選択パ
ルスが出力され、これに接続されるメモリセルから各デ
ータ線D0〜D3に読み出し信号があらわれる。一方Yデコ
ーダ(YDEC)によりデータ線D0が選択されているとする
と、D0に読み出された信号はスイツチYG0を通つてI/O線
に出力されデータ出力Doutとなつて外部に出力される。
書き込みは、書き込み制御信号WEによつてデータ入力D
inがI/O線、スイツチYG0、データ線D0に送られ、選択さ
れているワード線W3との交点に接続されているメモリセ
ルMCにデータが書き込まれる。ここでクロツクφによつ
てタイミング発生回路TMG1,TMG2から各種内部タイミン
グが発生し、各種回路動作が制御される。また同図にお
いて、ARはメモリアレーを、CHIPはチツプ全体を示して
いる。
FIG. 1 shows the structure of a conventional semiconductor memory device. The memory cells MC are arranged in a matrix at the intersections of the word lines W 0 to W 3 and the data lines D 0 to D 3 . In this structure, the read operation is performed as follows. When the address signals A 0 to A 3 from the outside are input, the X decoder (XDE
C) is determined. As a result, for example, when the word line W 3 is selected, a selection pulse is output to the word line W 3 by the X driver (XDRV), and a read signal is output from the memory cells connected to the word line W 3 to each of the data lines D 0 to D 3. Appears. On the other hand, if the data line D 0 is selected by the Y decoder (YDEC), the signal read to D 0 is output to the I / O line through the switch YG 0 and is output to the outside as the data output D out. Is output.
Writing is performed by the data input D by the write control signal WE.
in is sent to the I / O line, switch YG 0 , and data line D 0 , and the data is written to the memory cell MC connected to the intersection with the selected word line W 3 . Here, various internal timings are generated from the timing generation circuits TMG1 and TMG2 by the clock φ, and various circuit operations are controlled. Further, in the figure, AR indicates a memory array, and CHIP indicates the entire chip.

さて第1図に示した従来の構成では、データの受け渡し
をするスイツチYGを距離的に近いワード線(例えばW3
に接続されたメモリセルの読み出しあるいは書き込み動
作にも、データ線全体すなわちスイツチYGとの接続点か
ら最遠端までが関与し、メモリ動作に伴いデータ線全体
が充放電されるため、消費電力の低減という観点から問
題があつた。
Now, in the conventional configuration shown in FIG. 1, the switch YG for transferring data is located close to the word line (for example, W 3 ).
The entire data line, that is, the connection point from the switch YG to the farthest end, is involved in the read or write operation of the memory cell connected to, and the entire data line is charged and discharged with the memory operation. There was a problem from the viewpoint of reduction.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、上記従来のメモリアレー構成に改良を
施し、消費電力の低減が可能なメモリアレー構成を提供
することにある。
An object of the present invention is to improve the conventional memory array configuration described above and provide a memory array configuration capable of reducing power consumption.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

上記目的を達成するための本発明は、データ線をスイツ
チにより複数の部分に分割し、選択されたメモリセルの
アクセスパスを形成しないデータ線部分をこのスイツチ
の開閉により、アクセスパスから分離し、消費電力の低
減を可能とするものである。
The present invention for achieving the above object divides a data line into a plurality of portions by a switch, and separates a data line portion that does not form an access path of a selected memory cell from the access path by opening and closing the switch, This makes it possible to reduce power consumption.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下本発明を実施例により詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples.

第2図は本発明の一実施例を示したもので、第1図で示
した従来の構成のうちメモリアレー部に対応する。本実
施例では、データ線をスイツチSWにより2分割し、分割
されたデータ線のうちI/O線との接続スイツチYGからみ
て1番目のデータ線部分(D01,D11,D21,D31)に接続さ
れているメモリセルが選択された場合、スイツチSWをOF
F状態とし、2番目のデータ線部分(D00,D10,D20,D30
を前記1番目のデータ線部分(D01,D11,D21,D31)より
切り離す。一方2番目のデータ線部分に接続されている
メモリセルが選択された場合、スイツチSWはON状態と
し、スイツチSW及びYGを通して選択メモリセルとI/O線
との接続を行なう。本実施例によれば、スイツチYGから
みて1番目のデータ線部分に接続されているメモリセル
が選択されると、メモリ動作時に充放電されるデータ線
容量が、スイツチSWをOFF状態にして切り離したデータ
線部分(D00,D10,D20,D30)の分だけ減少し、その分消
費電力を低減することができる。すなわち第2図で示し
たようにスイツチSWでデータ線を2等分割した場合、ワ
ード線W2もしくはW3が選択された時、データ線容量は第
1図で示した従来例に比べ半分に、ワード線W0もしくは
W1が選択された時は従来例と等しく、その結果データ線
の充放電に伴う平均消費電力を従来例に比べ、3/4倍に
することができる。なお第2図においては、スイツチSW
を1個設けて、データ線を2等分割した場合を示した
が、スイツチをn−1個設け、データ線をn分割(等分
割である必要はない)してもよく、その場合分割したデ
ータ線のうちスイツチYGからみてm番目のデータ線部分
にあるメモリセルを選択する時は、同様にスイツチYGか
らみてm−1番目までのスイツチSWをON状態とし、m番
目のスイツチをOFF状態にすればよい。これにより、平
均消費電力は従来例に比べ にできる。ここでnは1≦n≦(1本のデータ線に接続
されているメモリセルの数)である。
FIG. 2 shows an embodiment of the present invention, which corresponds to the memory array section of the conventional configuration shown in FIG. In this embodiment, the data line is divided into two by the switch SW, and the first data line portion (D 01 , D 11 , D 21 , D from the connection switch YG of the divided data lines connected to the I / O line). 31 )) when the memory cell connected to
Set to F state and the second data line part (D 00 , D 10 , D 20 , D 30 ).
Is separated from the first data line portion (D 01 , D 11 , D 21 , D 31 ). On the other hand, when the memory cell connected to the second data line portion is selected, the switch SW is turned on, and the selected memory cell and the I / O line are connected through the switch SW and YG. According to this embodiment, when the memory cell connected to the first data line portion viewed from the switch YG is selected, the data line capacitance charged and discharged during the memory operation disconnects the switch SW in the OFF state. data line portion reduced by (D 00, D 10, D 20, D 30) minute, can be reduced correspondingly power consumption. That is, when the data line is divided into two equal parts by the switch SW as shown in FIG. 2, when the word line W 2 or W 3 is selected, the data line capacitance becomes half as compared with the conventional example shown in FIG. , Word line W 0 or
When W 1 is selected, it is equal to the conventional example, and as a result, the average power consumption due to the charging / discharging of the data line can be 3/4 times that of the conventional example. In addition, in FIG. 2, the switch SW
Although the case where one data line is provided and the data line is equally divided is shown, n-1 number of switches may be provided and the data line may be divided into n (it is not necessary to be evenly divided). When selecting the memory cell in the m-th data line part of the data line from the switch YG, similarly, the m-1st switch SW from the switch YG is turned on and the m-th switch is turned off. You can do this. As a result, the average power consumption is You can Here, n is 1 ≦ n ≦ (the number of memory cells connected to one data line).

第3図は本発明の他の実施例を示したもので、メモリア
レーを等分割し、分割したメモリアレー(ARa,ARb)に
おいてそれぞれメモリセルを動作させる場合に、本発明
を適用した例である。同図に示したように各メモリアレ
ーにおいてデータ線はスイツチSWa及びSWbにより分割さ
れた構成となつている。このような構成において、一方
のメモリアレー(例えばARa)のI/O線との接続スイツチ
(YGa)からみて2番目のデータ線部分(Da0)に接続さ
れているメモリセルを動作させる時、他方のメモリアレ
ー(ARb)においては1番目のデータ線部分(Db1)に接
続されているメモリセルを動作させる。この場合前者の
メモリアレー(ARa)にあるデータ線を分割しているス
イツチ(SWa)はON状態とし、後者のメモリアレーのス
イツチ(SWb)はOFF状態とする。本実施例によれば、常
にどちらかのメモリアレーにおいてデータ線部分(Da0
もしくはDb0)が切り離されているため、データ線全体
を充放電させる従来法に比べ、消費電力を3/4倍に低減
できる。また第2図で示した実施例では、平均消費電力
が低減できるのに比べ、本実施例では任意のメモリセル
が選択されても消費電力を常に従来法の3/4倍にでき
る。なお第3図において各メモリアレーのデータ線はス
イツチにより等分割すなわち分割されたデータ線の各部
分に接続されているメモリセルの数が等しい時、任意の
メモリセルが選択されても常に消費電力を従来法の3/4
倍にできる。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. The present invention is applied to the case where the memory array is equally divided and the memory cells are respectively operated in the divided memory arrays (AR a , AR b ). Here is an example. As shown in the figure, the data line in each memory array is divided by the switches SW a and SW b . In such a configuration, the memory cell connected to the second data line portion (D a0 ) viewed from the connection switch (YG a ) with the I / O line of one memory array (eg, AR a ) is operated. At this time, in the other memory array (AR b ), the memory cell connected to the first data line portion (D b1 ) is operated. In this case, the switch (SW a ) dividing the data line in the former memory array (AR a ) is turned on, and the switch (SW b ) of the latter memory array is turned off. According to this embodiment, the data line portion (D a0
Alternatively, since D b0 ) is disconnected, the power consumption can be reduced to 3/4 times as compared with the conventional method of charging and discharging the entire data line. Further, in the embodiment shown in FIG. 2, the average power consumption can be reduced, whereas in the present embodiment, the power consumption can be always 3/4 times that of the conventional method even if an arbitrary memory cell is selected. In FIG. 3, the data line of each memory array is equally divided by a switch, that is, when the number of memory cells connected to each part of the divided data line is equal, power consumption is always maintained even if an arbitrary memory cell is selected. The conventional method 3/4
Can be doubled.

第4図は本発明の他の実施例で、第3図で示したデータ
線の分割をさらに行ない、1本のデータ線を4等分にし
た場合を示したもので、選択ワード線を分割している各
スイツチの状態との関係は第1表に示す。
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention in which the data line shown in FIG. 3 is further divided into four equal data lines, and the selected word line is divided. Table 1 shows the relationship with the state of each switch.

本 施例によれば、表に示したいずれのケースについて
も、消費電力を従来法に比べ5/8倍に低減できる。同様
にしてデータ線をスイツチによつてn等分に分割した場
合、一方のメモリアレーにおいてI/O線との接続スイツ
チからみてm番目のデータ線部分に接続されているメモ
リセルと、他方のメモリアレーにおいて(n+1−m)
番目のデータ線部分に接続されているメモリセルとを動
作させればよい。また前者のメモリアレーのm番目のス
イツチと、後者のメモリアレーの(n+1−m)番目の
スイツチをOFF状態にし、これらのスイツチよりI/O線と
の接続スイツチ側にあるスイツチを両メモリアレーとも
ON状態にする。これにより消費電力は従来法に比べ、常
に低減できる。
According to this example, in any of the cases shown in the table, the power consumption can be reduced to 5/8 times that of the conventional method. Similarly, when the data line is divided into n equal parts by the switch, the memory cell connected to the m-th data line part from the connection switch with the I / O line in one memory array and the other In memory array (n + 1-m)
The memory cell connected to the second data line portion may be operated. In addition, the mth switch of the former memory array and the (n + 1-m) th switch of the latter memory array are turned off, and the switches on the side of the switches connected to the I / O line are connected to both memory arrays. Tomo
Turn on. As a result, the power consumption is always higher than that of the conventional method. Can be reduced to

以上いくつかの実施例を用いて本発明の概念を示してき
たが、以下ではより具体的に本発明を説明するために、
nチヤンネルMOSトランジスタで構成した1トランジス
タMOSメモリを例にした実施例を示す。
Although the concept of the present invention has been shown by using some examples as described above, in order to describe the present invention more specifically,
An embodiment will be shown taking a one-transistor MOS memory composed of n-channel MOS transistors as an example.

第5図はデータ対線D,が近接してレイアウトされてい
るメモリセル(folded bitline arrangementあるいは2
交点セルと称す)を用いた第2図の具体例であり、第6
図は第5図のさらに詳細な具体例を示す。すなわち第5
図は、データ対線をスイツチSWによりDi0,▲▼と
Di1,▲▼(同図においてi=0〜n)に分割した
例を示す。この構成において、分割されたデータ線部分
Di0あるいは▲▼に接続されているメモリセルが
選択された場合、Xデコーダ(XDEC)によりスイツチSW
をON状態とし、メモリセルからの読み出し信号電圧を差
動増幅回路SAにより増幅し、この増幅された信号はYデ
コーダ(YDEC)で制御される信号線YCによつてI/O線へ
の読み出しが制御される。書き込み動作も同様に、チツ
プ外部からのデータ入力は、I/O線、YG、Di1(あるいは
▲▼)、SWを通して選択されたメモリセルに書き
込まれる。一方、データ線部分Di1あるいは▲▼
に接続されているメモリセルが選択された場合、XDECに
よりSWをOFF状態とし、Di0,▲▼を切り離し、メ
モリ動作を行なう。この動作を第6図,第7図を用いて
さらに詳細に説明する。まずプリチヤージ信号φ及び
データ線を分割するスイツチSWを制御する信号φをい
ずれも高いレベル(V+α)にし、プリチヤージ回路PC
によりデータ対線D00,▲▼及びD01,▲▼を
あるレベルVまでプリチヤージする。と同時にダミーセ
ルDM内のノードをアース電位(VSS)にセツトしてお
く。そしてφを立下げた後、今、メモリセルMCkの高
レベルを読み出すとすると、φをXDECにより立下げ、
D00,▲▼をD01,▲▼から分離する。XDECに
よりワード線Wkが選択され、ワードパルスφが印加さ
れるとともに、ダミーワード線DW2がXDECにより選択さ
れ、ダミーワードパルスφDWが印加される。これによ
り、D01にはメモリセルから信号電圧が、▲▼に
はダミーセルから参照信号電圧が出力され、D01,▲
▼間に微小な差動信号を生じる。その後起動パルスφ
を立下げてSAを動作させ、上記の差動信号を増幅す
る。この時スイツチSWはOFF状態となつているので、
D00,▲▼はプリチヤージレベルを保つことにな
る。その後YDECで選択されたYC0にパルスφが出力さ
れ、増幅された差動電圧はスイツチYGを経てI/O線にと
り出される。
FIG. 5 shows a memory cell (folded bitline arrangement or 2) in which the data line D is laid out in close proximity.
FIG. 6 is a specific example of FIG. 2 using an intersection cell).
The figure shows a more detailed example of FIG. That is, the fifth
The figure shows the data pair line as D i0 , ▲ ▼ with the switch SW.
An example of division into D i1 , ▲ ▼ (i = 0 to n in the figure) is shown. In this configuration, the divided data line part
When the memory cell connected to D i0 or ▲ ▼ is selected, the switch SW is switched by the X decoder (XDEC).
Is turned on, the read signal voltage from the memory cell is amplified by the differential amplifier circuit SA, and the amplified signal is read out to the I / O line by the signal line YC controlled by the Y decoder (YDEC). Is controlled. Similarly in the write operation, data input from the outside of the chip is written to the selected memory cell through the I / O line, YG, D i1 (or ▲ ▼) and SW. On the other hand, the data line part D i1 or ▲ ▼
When the memory cell connected to is selected, SW is turned off by XDEC, D i0 and ▲ ▼ are disconnected, and the memory operation is performed. This operation will be described in more detail with reference to FIGS. 6 and 7. First, both the precharge signal φ P and the signal φ G that controls the switch SW that divides the data line are set to a high level (V + α), and the precharge circuit PC
To precharge data pair lines D 00 , ▲ ▼ and D 01 , ▲ ▼ to a certain level V. At the same time, the node in the dummy cell DM is set to the ground potential (V SS ). Then, when the high level of the memory cell MC k is read after the fall of φ P , φ G is dropped by XDEC,
Separate D 00 , ▲ ▼ from D 01 , ▲ ▼. The word line W k is selected by XDEC and the word pulse φ W is applied, and the dummy word line DW 2 is selected by XDEC and the dummy word pulse φ DW is applied. Thus, the D 01 a signal voltage from the memory cell, ▲ ▼ the output reference signal voltage from the dummy cell, D 01,
▼ A minute differential signal is generated between them. Then start pulse φ
S is lowered and SA is operated to amplify the differential signal. At this time, the switch SW is in the OFF state,
D 00 , ▲ ▼ will keep the precharge level. After that, a pulse φ y is output to YC 0 selected by YDEC, and the amplified differential voltage is taken out to the I / O line via the switch YG.

メモリセルMCiを選択する場合は信号φは高いレベル
(V+α)に保つておく(第7図において点線で示
す)。この場合D00とD01が、また▲▼と▲
▼が接続されており、D00,D01あるいは▲▼,▲
▼がアース電位まで放電される。
When the memory cell MC i is selected, the signal φ G is kept at a high level (V + α) (shown by the dotted line in FIG. 7). In this case D 00 and D 01 are again ▲ ▼ and ▲
▼ is connected and D 00 , D 01 or ▲ ▼, ▲
▼ is discharged to the ground potential.

スイツチSWをコントロールする信号φは例えばワード
線を選択するXデコーダに入力されるアドレス信号の上
位ビツトを利用することにより容易に制御できる。
The signal φ G for controlling the switch SW can be easily controlled by using, for example, the upper bit of the address signal input to the X decoder for selecting the word line.

本実施例によれば、データ線部分Di1,▲▼に接続
されているメモリセルが選択される場合、データ線部分
Di0,▲▼がメモリ動作時においても、プリチヤー
ジ状態を保つことができるため、スイツチSWがない従来
例に比べ、充放電されるデータ線容量を低減できる。充
放電されるデータ線容量が低減できることは、消費電力
の低減はもちろんのこと、電源電流のピーク値あるいは
基板とデータ線との結合等による雑音などが低減でき
る。また、メモリセル情報を反転書き込みする際の消費
電力が低減できる。
According to the present embodiment, when the memory cell connected to the data line portion D i1 , ▲ ▼ is selected, the data line portion
Since the precharge state can be maintained even when D i0 , ▲ ▼ is in memory operation, the capacity of the data line charged and discharged can be reduced as compared with the conventional example in which the switch SW is not provided. The capacity of the data line to be charged / discharged can be reduced not only to reduce the power consumption but also to reduce the peak value of the power supply current or noise due to the coupling between the substrate and the data line. Moreover, power consumption can be reduced when the memory cell information is inversely written.

なお第5図,第6図において、ダミーセルDM及び差動増
幅器SAをI/O線との接続スイツチYGに近い位置に配置し
ているが、これらは例えばスイツチSWに近い位置に配置
してもよく、要するにSWとYGの間に配置されていればよ
い。またデータ線プリチヤージ回路PCはDi0,▲▼
側に配置されてもよい。
In FIGS. 5 and 6, the dummy cell DM and the differential amplifier SA are arranged near the switch YG for connection with the I / O line, but they may be arranged near the switch SW, for example. Well, it just needs to be placed between SW and YG. The data line precharge circuit PC is D i0 , ▲ ▼
It may be arranged on the side.

第8図は、2交点セルを用いた第3図の具体例であり、
メモリアレーを2分割、データ線を2分割した場合の実
施例を示す。分割された各メモリアレーの構成及び動作
は第5図,第6図,第7図と同様であるが、第3図にお
いて説明したようにデータ線部分▲▼に接続さ
れているメモリセルとDbi1あるいは▲▼のメモ
リセルを動作させ、φGaは高いレベルに保ち、φGbはア
ース電位まで立下げる。一方Dai1あるいは▲▼
のメモリセルとDbi0あるいは▲▼のメモリセル
を動作させφGaはアース電位まで立下げ、φGbを高いレ
ベルに保つ。1トランジスタMOSメモリにおいてはこの
実施例で示したように、リフレツシユサイクル、S/Nな
どの関係からメモリアレーを分割し、分割したメモリア
レーでそれぞれメモリセルを動作されることがあり、本
実施例によれば、充放電されるデータ線容量を低減でき
るとともに、その低減分はどのメモリセルを選択しても
等しくすることができる。なお第8図においてI/O線を
2組設けた例を示したが、これは2組である必要はな
く、1組でも4組でもすなわち任意の組でもかまわな
い。
FIG. 8 is a specific example of FIG. 3 using a 2-intersection cell,
An example in which the memory array is divided into two and the data lines are divided into two will be described. The structure and operation of each of the divided memory arrays are the same as those in FIGS. 5, 6, and 7, but the memory cells and D connected to the data line portion ▲ ▼ as described in FIG. The memory cell of bi1 or ▲ ▼ is operated, φ Ga is maintained at a high level, and φ Gb is lowered to the ground potential. Meanwhile, D ai1 or ▲ ▼
The memory cell of and the memory cell of D bi0 or ▲ ▼ are operated to lower φ Ga to the ground potential and maintain φ Gb at a high level. In the one-transistor MOS memory, as shown in this embodiment, the memory array may be divided according to the relationship of the refresh cycle, S / N, etc., and each divided memory array may operate a memory cell. According to the example, the data line capacity to be charged / discharged can be reduced, and the reduced amount can be made equal regardless of which memory cell is selected. Although FIG. 8 shows an example in which two sets of I / O lines are provided, the number of I / O lines does not have to be two and may be one set, four sets, that is, any set.

第9図は本発明の他の実施例で、第8図で示した実施例
において、差動増幅回路SA、ダミーセルDM及びデータ線
プリチヤージ回路をスイツチSW側に配置し、さらにこれ
らの回路とメモリセルとの間にスイツチXGa及びGbを付
加した構成となつている。このスイツチを付加すること
により、例えばDai0あるいは▲▼に接続されて
いるメモリセルの読み出し動作時にスイツチXGaをOFF状
態(スイツチSWaは前述したようにON状態)とし、SAに
より信号電圧を増幅した後にXGaをON状態とする。一方D
ai1あるいは▲▼に接続されているメモリセル
の読み出し動作時はXGaはON状態を保つ(SWaはOFF状
態)。XGbの動作も同様である。本実施例によれば、第
8図で示した効果(消費電力の均等な低減)とともに、
Dai0,▲▼,Dbi0,▲▼に接続されてい
るメモリセルの読み出し信号電圧を増加させることがで
き、Dai1,▲▼,Dbi1,▲▼に接続され
ているメモリセルと同等の読み出し信号電圧を得ること
ができる。
FIG. 9 shows another embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 8, the differential amplifier circuit SA, the dummy cell DM and the data line precharge circuit are arranged on the switch SW side, and further these circuits and the memory are arranged. It has a configuration in which switches XG a and G b are added to the cell. By adding this switch, for example, switch XG a is turned off (switch SW a is on as described above) during the read operation of the memory cell connected to D ai0 or ▲ ▼, and the signal voltage is changed by SA. and oN state XG a after amplifying. Meanwhile D
During the read operation of the memory cell connected to ai1 or ▲ ▼, XG a remains on (SW a is off). The operation of XG b is similar. According to this embodiment, in addition to the effect shown in FIG. 8 (equal reduction of power consumption),
D ai0, ▲ ▼, D bi0 , ▲ ▼ read signal voltage of the connected memory cell can be increased to, D ai1, ▲ ▼, D bi1, ▲ ▼ connected to a memory cell equivalent is The read signal voltage can be obtained.

第10図は本発明の他の実施例を示すもので、第6図で示
した実施例に、データ線の高電位補償回路RSTを付加し
た例を示している。このRSTは、例えばISSCC′81 Techi
cal Digest P.85に記載されている回路で構成され、SA
による信号増幅後、高電位側のデータ線のレベルを補償
し、充分な再書き込み電圧を得るためのものである。第
10図に示したように、RSTは第5図,第6図で前述したS
Aと同様に、SWとYGの間に配置される。またこのRSTによ
り得られる再書き込み電圧とアース電位との中間にデー
タ線をプリチヤージする方式にいたつては、ダミーセル
DMを省くことも可能である。
FIG. 10 shows another embodiment of the present invention, and shows an example in which a high potential compensation circuit RST for the data line is added to the embodiment shown in FIG. This RST is, for example, ISSCC'81 Techi
cal Digest Consists of circuits described in P.85, SA
After the signal is amplified by, the level of the data line on the high potential side is compensated to obtain a sufficient rewriting voltage. First
As shown in FIG. 10, RST is the S value described in FIGS. 5 and 6.
Like A, it is placed between SW and YG. For the method of precharging the data line between the rewrite voltage obtained by RST and the ground potential, the dummy cell is used.
It is also possible to omit DM.

以上第5図から第10図まで述べてきた実施例は分割した
各データ線部分のプリチヤージレベルが等しい場合につ
いて示したが、それぞれのデータ線部分のプリチヤージ
レベルが異なつていてもよい。以下にその実施例を示
す。
The embodiments described above with reference to FIGS. 5 to 10 show the case where the precharge levels of the divided data line portions are the same, but even if the precharge levels of the respective data line portions are different. Good. The example is shown below.

第11図はデータ線部分D00,▲▼を電位V0に、D01,
▲▼をV1(V0>V1)にプリチヤージする例を示
す。第12図はメモリセルMCiを選択した場合、第13図はM
Ckを選択した場合の動作波形を示したものである。MCi
を選択した場合に得られる読み出し信号電圧は、MCk
選択した場合のそれに比べ、データ線容量が大きい分小
さくなつてしまう。これによりSAにより信号を増幅した
後のデータ線の高電位側のプリチヤージレベルよりの落
ち込み量が大きくなり、再書き込み電圧が小さくなつて
しまう。そこで第11図で示したように、D00,▲▼
のプリチヤージレベルをD01,▲▼のそれより高く
しておくことにより、データ線の高電位側が落ち込んで
も、両者において等しい再書き込み電圧を得ることがで
きる。本実施例では第12図,第13図に示したように、第
7図で示した動作と異なり、スイツチSWをコントロール
する信号φはプリチヤージ動作の間は低レベルとな
り、スイツチSWはD00,▲▼とD01,▲▼とを
分離するように働く。なお第11図においてトランジスタ
QS1,QS2はそれぞれD00と▲▼、D01と▲▼
を等電位にするためのもので省くこともできる。
In FIG. 11, the data line portion D 00 , ▲ ▼ is set to the potential V 0 , D 01 ,
An example of precharging ▲ ▼ to V 1 (V 0 > V 1 ) is shown. FIG. 12 shows the case where the memory cell MC i is selected, and FIG.
The operation waveforms when C k is selected are shown. MC i
The read signal voltage obtained in the case of selection is smaller than that in the case of selecting MC k because the data line capacitance is larger. As a result, the amount of drop from the precharge level on the high potential side of the data line after the signal is amplified by SA becomes large, and the rewrite voltage becomes small. Therefore, as shown in Fig. 11, D 00 , ▲ ▼
By setting the precharge level of the data line higher than that of D 01 , ▲ ▼, even if the high potential side of the data line drops, the same rewrite voltage can be obtained for both. In this embodiment, as shown in FIGS. 12 and 13, unlike the operation shown in FIG. 7, the signal φ G for controlling the switch SW is at a low level during the precharge operation, and the switch SW is D 00. Work to separate, ▲ ▼ and D 01 , ▲ ▼. Note that in FIG. 11 the transistor
Q S1 and Q S2 are D 00 and ▲ ▼, D 01 and ▲ ▼, respectively
Can be omitted because it is for equipotential.

第14図は第11図とは逆にD01,▲▼に高い電位をプ
リチヤージする例を示す。回路構成は第10図で示したも
のに、ダミーセルDM10,DM21及びシヨート用回路SCを
D00,▲▼側に付加した構成となつている。第15図
にメモリセルMCiを、第16図にMCkを選択した場合の動作
波形を示す。以下にこれを用いて動作を説明する。まず
プリチヤージ信号φを高いレベル(V+α)に、φ
を中間レベルVGにし、プリチヤージ回路RC及びシヨート
回路SCによりD01,▲▼をレベルVに、D00,▲
▼を(VG−VT)にプリチヤージする。ここでVTはスイ
ツチSWのトランジスタのしきい電圧である。そしてφ
を立下げた後、今、メモリセルMCiの高レベルを読み出
す(第15図)とすると、Xデコーダによりワード線Wi
選択され、ワードパルスφWiが印加されるとともにダミ
ーワードパルスφDW0がダミーワード線DW20に印加さ
れ、D00,▲▼にD00,▲▼部分の容量とメモ
リセル容量とで決まる差動信号が生じる。この差動信号
はスイツチSWを通してD01,▲▼に転送され、その
後SAによつて増幅される。そしてRSTによりD01を再書き
込み電圧Vまで復帰させるとともに、φをV+αまで
昇圧し、D00をVまで上げ、再書き込みを行なう。一方M
Ckの高レベルを読み出す(第16図)時は、φを立下げ
た後、φも立下げ、D00とD01,▲▼と▲
▼をそれぞれ分離し、MCkの信号の読み出し、再書き込
みが行なわれる。本実施例では、D00あるいは▲
▼に接続されているメモリセルの読み出しにおいても、
SAにより増幅される差動信号をD01あるいは▲▼
のメモリセルと同程度に大きくできる利点がある。阻し
本実施例ではVGより小さくすると動作しない。
Contrary to FIG. 11, FIG. 14 shows an example of precharging a high potential at D 01 , ▲ ▼. The circuit configuration is the same as that shown in FIG. 10, with dummy cells DM 10 , DM 21 and a short circuit SC.
The configuration is added to the D 00 , ▲ ▼ side. FIG. 15 shows operation waveforms when the memory cell MC i is selected, and FIG. 16 shows operation waveforms when MC k is selected. The operation will be described below using this. First, set the precharge signal φ P to a high level (V + α), and φ G
Is set to an intermediate level V G , and the precharge circuit RC and the short circuit SC set D 01 , ▲ ▼ to level V and D 00 , ▲.
Precharge ▼ to (V G −V T ). Where V T is the threshold voltage of the switch SW transistor. And φ P
When the high level of the memory cell MC i is read out (FIG. 15) after the falling of, the word line W i is selected by the X decoder, the word pulse φ Wi is applied, and the dummy word pulse φ DW0 is applied. There is applied to the dummy word line DW 20, D 00, ▲ ▼ to D 00, ▲ ▼ differential signal is generated that is determined by the capacitance and the memory cell capacitor section. This differential signal is transferred to D 01 , ▲ ▼ through the switch SW and then amplified by SA. Then, D 01 is restored to the rewriting voltage V by RST, φ G is boosted to V + α, D 00 is raised to V, and rewriting is performed. Meanwhile M
When reading the high level of C k (Fig. 16), after φ P is lowered, φ G is also lowered and D 00 and D 01 , ▲ ▼ and ▲
The ▼ is separated, and the MC k signal is read and rewritten. In this embodiment, D 00 or ▲
Even when reading the memory cell connected to ▼,
Set the differential signal amplified by SA to D 01 or ▲ ▼
There is an advantage that it can be made as large as the memory cell. In this embodiment, V G is If it is smaller, it will not work.

第17図は以上述べてきた実施例と異なり、スイツチSWを
2つの信号φG1G2によりコントロールした例を示
す。構成は第6図で示した構成において、スイツチSWを
2本の制御線GC1,GC2により制御し、D00,▲▼側
にも差動増幅器、I/O線、スイツチYGを配置している。
またD00,▲▼に接続されるメモリセルの数を等し
くし、ダミーセル容量をメモリセル容量と等しく、いわ
ゆるフルサイズダミーセル方式を用いている。第18図に
メモリセルMCiの高レベルを読み出す時の動作波形を示
す。同図に示すように信号を読み出す際にダミーセル側
のデータ線に接続されているスイツチのゲート(GC2
を高いレベルに保ち(第18図ではφG2)、ダミーセル側
のデータ線容量をメモリセル側の2倍とすることによ
り、参照信号電圧を得ている。その後SAによる増幅前に
φG2も低いレベルに立下げ、データ線容量の不平衡をと
りさつた後に信号の増幅を行なう。MCkの読み出しも同
様にして行なう。本実施例ではこのようにフルサイズダ
ミーセルを使用できることが利点である。なお第18図で
はMCiだけを動作させた場合を示したが、MCkも同時に動
作させることも可能である。
FIG. 17 shows an example in which the switch SW is controlled by two signals φ G1 and φ G2 , unlike the embodiment described above. In the configuration shown in FIG. 6, the switch SW is controlled by two control lines GC 1 and GC 2 , and a differential amplifier, an I / O line and a switch YG are also arranged on D 00 , ▲ ▼ side. ing.
Further, the so-called full-size dummy cell system is used in which the number of memory cells connected to D 00 , ▲ ▼ is made equal and the dummy cell capacity is made equal to the memory cell capacity. FIG. 18 shows operation waveforms when reading the high level of the memory cell MC i . As shown in the figure, the gate of the switch (GC 2 ) connected to the data line on the dummy cell side when reading the signal.
Is maintained at a high level (φ G2 in FIG. 18) and the data line capacitance on the dummy cell side is doubled on the memory cell side to obtain the reference signal voltage. After that, φ G2 is also lowered to a low level before amplification by SA, the signal line capacitance is unbalanced, and then the signal is amplified. Read MC k in the same way. In this embodiment, it is an advantage that a full size dummy cell can be used in this way. Although FIG. 18 shows the case where only MC i is operated, MC k can also be operated simultaneously.

さてこれまで2交点セルを用いた実施例を示したが、デ
ータ対線が空間的に離れている方式のセル(open bitli
ne arrangementあるいは1交点セルと称す)で構成され
たメモリに対しても本発明は適用可能である。その一例
を第19図に示す。第19図は2交点セルの実施例である第
5図に対応するものである。同図において、データ対線
がSAを中心に左右に拡がつているため、データ線を分割
するスイツチSW(SWL,SWR)も左右に拡がり、このスイ
ツチをコントロールする信号線(GCL,GCR)がそれぞれ
のスイツチについて必要となる。本発明によれば、1交
点セルにおいても2交点セルで述べてきたように、消費
電力の低減ができる。
So far, an embodiment using a two-intersection cell has been shown, but a cell of a method in which data pairs are spatially separated (open bitli
The present invention can also be applied to a memory configured by a ne arrangement or one intersection cell. One example is shown in FIG. FIG. 19 corresponds to FIG. 5, which is an example of a two-intersection cell. In the figure, since the data pair lines extend to the left and right around SA, the switch SW (SW L , SW R ) that divides the data line also extends to the left and right, and the signal line (GC L , G C R ) is required for each switch. According to the present invention, the power consumption can be reduced even in the one-intersection cell as described in the two-intersection cell.

さらに本発明はデータ線を細分化し、それぞれにI/O線
を配置したようなメモリアレー構成(例えば特願56−81
042,特願57−125687,特願58−4162)に対しても適用可
能で、第20図にその一例を示す。同図に示すように、分
割したデータ線に、YデコーダとYトライバによる出力
制御信号YCで制御されるスイツチYGが設けられ、I/O線
との間でデータの授受が行なわれる。また分割された各
データ線はXデコーダとXドライバによる出力制御信号
線GCで制御されるスイツチSWによりさらに分割され、選
択されたメモリセルがどちらのデータ線部分(例えば▲
▼,▲▼)に接続されているかによつ
てスイツチSWを開閉し、消費電力の低減を図つたもので
ある。また本実施例においても、第3図あるいは第4図
で示したワード線の選択とスイツチの開閉との関係を拡
張し、本実施例に適用することにより、消費電力を低減
するとともに、その低減分はどのメモリセルを選択して
も等しくすることができる。なお第20図において、Aは
アドレス信号を、RWCはリード・ライトコントロール回
路を示している。
Furthermore, the present invention is a memory array configuration in which the data lines are subdivided and I / O lines are arranged for each (for example, Japanese Patent Application No. 56-81).
042, Japanese Patent Application No. 57-125687, Japanese Patent Application No. 58-4162), an example of which is shown in FIG. As shown in the figure, a switch YG controlled by an output control signal YC by a Y decoder and a Y-triver is provided on the divided data line, and data is exchanged with the I / O line. Further, each divided data line is further divided by a switch SW controlled by an output control signal line GC by an X decoder and an X driver, and the selected memory cell has which data line portion (for example, ▲).
The switch SW is opened / closed depending on whether it is connected to ▼, ▲ ▼) to reduce power consumption. Also in this embodiment, the relationship between the selection of the word line and the opening / closing of the switch shown in FIG. 3 or 4 is expanded and applied to this embodiment to reduce the power consumption and reduce the power consumption. The amount can be made equal regardless of which memory cell is selected. In FIG. 20, A indicates an address signal and RWC indicates a read / write control circuit.

以上、本発明の実施例をいくつか述べたが、本発明の適
用範囲はここで述べた実施例に限定されず、発明の思想
を逸脱しない範囲で種々変更可能なことは言うまでもな
い。例えばここではnチヤネルMOSトランジスタで構成
した場合について、説明したが、使用する信号の電位関
係をすべて逆にすることにより、PチヤネルMOSトラン
ジスタで構成することも可能である。またCMOS(Comple
mentaryMOS)により構成されたメモリについても適用可
能である。さらにここでは1トランジスタMOSメモリを
例にして説明したが、フリツプフロツプ型のメモリセル
などで構成されたいわゆるスタテイツクメモリ(例えば
ISSCC83 Technical Digest P.66に記載されている)やR
OM(例えばISSCC83 Technical Digest P.168に記載され
ているEEPROMなど)あるいはこれらのメモリを同一チツ
プ内に搭載したマイクロプロセツサなどについても、本
発明により消費電力の低減が可能である。その一例とし
て第21図はスタテイツクメモリに対する本発明の一実施
例を示す。同図に示すようにフリツプフロツプで構成さ
れたメモリセルが多数接続されているデータ対線を、信
号線GCにより制御されるスイツチSWにより分割し、メモ
リセルMCkがワード線Wkにより選択された場合、SWをOFF
状態とし、一方メモリセルMCiが選択された場合、SWをO
N状態にすることで、1トランジスタMOSメモリと同様に
消費電力の低減が図れる。
Although some embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the scope of application of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. For example, although the case where the n-channel MOS transistor is used has been described here, it is also possible to use the P-channel MOS transistor by reversing the potential relationships of the signals used. In addition, CMOS (Comple
(mentary MOS) is also applicable to the memory configured. Further, although the one-transistor MOS memory has been described here as an example, a so-called static memory (eg, a flip-flop type memory cell) (for example,
ISSCC83 Technical Digest P.66) and R
The power consumption of the OM (for example, the EEPROM described in ISSCC83 Technical Digest P.168) or a microprocessor equipped with these memories in the same chip can be reduced by the present invention. As an example, FIG. 21 shows an embodiment of the present invention for a static memory. As shown in the figure, a data pair line to which a large number of flip-flop memory cells are connected is divided by a switch SW controlled by a signal line GC, and a memory cell MC k is selected by a word line W k . If the switch is OFF
State, and when memory cell MC i is selected, set SW to O
By setting the N state, it is possible to reduce power consumption as in the one-transistor MOS memory.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べたように、本発明によれば、高集積にもかかわ
らず、消費電力の小さいメモリが実現できる。
As described above, according to the present invention, a memory with low power consumption can be realized despite high integration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は従来の半導体記憶装置の構成図、第2図から第
21図は夫々本発明の実施例を説明する図である。 MC……メモリセル、DM……ダミーセル、d,,D,……
データ線、W……ワード線、DW……ダミーワード線、XD
……Xデコーダ,Xドライバ、YD……Yデコーダ,Yドライ
バ、I/O,▲▼……入出力線(I/O線)、YC……Y
ドライバ出力線、SA……差動増幅回路、RC……データ線
プリチヤージ回路、RST……データ線高電位補償回路、S
C……シヨート回路、YG……I/O線接続スイツチ、SW,XG
……スイツチ、GC……スイツチ制御線。
FIG. 1 is a block diagram of a conventional semiconductor memory device, and FIGS.
FIG. 21 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention. MC …… Memory cell, DM …… Dummy cell, d ,, D, ……
Data line, W ... Word line, DW ... Dummy word line, XD
…… X decoder, X driver, YD …… Y decoder, Y driver, I / O, ▲ ▼ …… Input / output line (I / O line), YC …… Y
Driver output line, SA ... Differential amplifier circuit, RC ... Data line precharge circuit, RST ... Data line high potential compensation circuit, S
C …… Short circuit, YG …… I / O line connection switch, SW, XG
...... Switch, GC …… Switch control line.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀 陵一 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 伊藤 清男 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭51−147931(JP,A) 特開 昭55−58891(JP,A) 特開 昭57−141096(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Ryoichi Hori 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji City, Tokyo Metropolitan Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Kiyoo Ito 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji City, Tokyo Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (56) Reference JP-A-51-147931 (JP, A) JP-A-55-58891 (JP, A) JP-A-57-141096 (JP, A)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のデータ線と、それらと交わるように
配置された複数のワード線と、それらの所望の交差部に
配置されたメモリセルと、上記複数のデータ線に共通な
共通データ線と、上記共通データ線と上記データ線との
接続を行う第1のスイッチと、上記データ線に読みださ
れた信号を増幅する複数の差動増幅回路より構成される
メモリアレーを偶数個有し、少なくとも2個以上の偶数
個のメモリアレーが同時に活性化される半導体記憶装置
において、 上記データ線をn個(n≧2)の部分データ線に分割す
るn−1個の第2のスイッチが上記データ線毎に設けら
れ、上記メモリアレー毎に上記第2のスイッチを制御す
るn−1本のスイッチ制御線を有し、 かつ、同時に活性化される上記偶数個のメモリアレーの
うち半分のメモリアレーでは上記第1のスイッチから見
たm番目の部分データ線に接続されたメモリセルを選択
し、残り半分のメモリアレーでは(n+1−m)番目の
部分データ線に接続されたメモリセルを選択する手段
と、それぞれの上記メモリアレーにおいて選択されたメ
モリセルと上記共通データ線とを接続する第1の部分デ
ータ線群から、上記接続に関与しない第2の部分データ
線群を上記第2のスイッチにより分離する手段とを有す
ることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of data lines, a plurality of word lines arranged so as to intersect with them, a memory cell arranged at a desired intersection thereof, and a common data line common to the plurality of data lines. And an even number of memory arrays each including a first switch for connecting the common data line to the data line and a plurality of differential amplifier circuits for amplifying a signal read on the data line. In a semiconductor memory device in which at least two or more even number memory arrays are activated at the same time, n−1 second switches for dividing the data lines into n (n ≧ 2) partial data lines are provided. Half of the even number of memory arrays that are provided for each of the data lines and that have n-1 switch control lines that control the second switch for each of the memory arrays and that are simultaneously activated Memorial Then, the memory cell connected to the m-th partial data line viewed from the first switch is selected, and the memory cell connected to the (n + 1-m) -th partial data line is selected in the remaining half of the memory array. Means and a first partial data line group that connects the selected memory cell in each of the memory arrays and the common data line to a second partial data line group that does not participate in the connection. A semiconductor memory device having means for separating by.
【請求項2】上記差動増幅回路は、上記第1のスイッチ
と第2のスイッチとの間にのみ設けられていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the differential amplifier circuit is provided only between the first switch and the second switch.
【請求項3】隣り合う一対の上記データ線は、一対のデ
ータ対戦を構成することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the pair of adjacent data lines form a pair of data battles.
【請求項4】上記nは3個以上であり、上記差動増幅回
路は上記第1のスイッチから見て第1番目と第2番目の
上記第2のスイッチ間に設けられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第3項記載の半導体記憶装置。
4. The n is 3 or more, and the differential amplifier circuit is provided between the first switch and the second switch which are the second switch as viewed from the first switch. The semiconductor memory device according to claim 3.
【請求項5】上記メモリセルは、1つのトランジスタと
1つのキャパシタとからなることを特徴とする特許請求
の範囲第1項乃至第4項の何れかに記載の半導体記憶装
置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell comprises one transistor and one capacitor.
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