JP2720158B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2720158B2
JP2720158B2 JP63010734A JP1073488A JP2720158B2 JP 2720158 B2 JP2720158 B2 JP 2720158B2 JP 63010734 A JP63010734 A JP 63010734A JP 1073488 A JP1073488 A JP 1073488A JP 2720158 B2 JP2720158 B2 JP 2720158B2
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memory
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置さらは主副ビット線構成の半
導体記憶装置に関し、例えばDRAM(ダイナミック・ラン
ダム・アクセス・メモリ)の低消費電力化に適用して有
効な技術に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a main / sub bit line structure, for example, for reducing the power consumption of a DRAM (Dynamic Random Access Memory). It is about technology that is effective to apply.

〔従来技術〕(Prior art)

DRAMにおいて、記憶容量の増大さらには集積度の向上
により、メモリセルを構成する蓄積容量が小さくされる
と共に、ビット線に結合されるメモリセルの数が増大さ
れてビット線の寄生容量が増大し、ビット線に読み出さ
れる信号量は益々小さくさる傾向にある。
In the DRAM, the storage capacity and the degree of integration have been increased, so that the storage capacity constituting the memory cell has been reduced, and the number of memory cells coupled to the bit line has been increased, thereby increasing the parasitic capacity of the bit line. , The amount of signals read to the bit lines tends to be smaller.

この対策として、センスアンプの駆動負荷を小さくす
るためのマット分割もしくはビット線分割が行われる。
特にその場合にビット線の分割数に応じてカラムスイッ
チ回路やカラムアドレスデコーダなどの周辺回路が増え
ないようにする方式として主副ビット線方式がある。
As a countermeasure, mat division or bit line division is performed to reduce the driving load of the sense amplifier.
In particular, in such a case, there is a main / sub bit line method as a method for preventing peripheral circuits such as a column switch circuit and a column address decoder from increasing according to the number of divisions of the bit lines.

この主副ビット線方式は、メモリセルが結合された複
数の副ビット線を夫々スイッチ素子を介して主ビット線
に共通接続し、これらスイッチ素子はワード線選択信号
に基づいて選択されるメモリセルを含む副ビット線を主
ビット線に導通にするようにスイッチ制御される。
In the main / sub bit line system, a plurality of sub bit lines each having a memory cell coupled thereto are commonly connected to a main bit line via a switch element, and these switch elements are selected by a memory cell selected based on a word line selection signal. Are controlled so as to make the sub-bit line including the bit line conductive to the main bit line.

なお、主副ビット線方式について記載された文献の例
としては電子通信情報学会誌CDM87−1(昭和62年4月2
1日付)がある。
As an example of a document describing the main / sub bit line method, see the IEICE CDM87-1 (April 2, 1987).
1 date).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、従来の主副ビット線方式のDRAMにおい
て上記スイッチ素子は、ワード線選択信号に基づいて選
択されるメモリセルを含む副ビット線とワード線を共通
にする各副ビット線が夫々主ビット線に関してオン状態
に制御されるため、全ての主ビット線は個々に副ビット
線に導通にされ、実際にデータの読み出しに供されない
主ビット線も、選択された副ビット線につながるセンス
アンプにとって負荷を構成することになる。さらには、
ワード線単位でメモリセルのリフレッシュを行うラス・
オンリ・リフレッシュのようなリフレッシュ動作におい
ても主ビット線は個々のセンスアンプにとって負荷を構
成する。このようにセンスアンプにとって主ビット線が
不所望な負荷になる場合、主ビット線には寄生容量が存
在し、特に主副ビット線方式では主ビット線が比較的長
くなっており、これにより不所望な負荷となる多数の主
ビット線が個々のセンスアンプによって充放電される
と、電力消費量が増大するという問題点があった。
However, in the conventional main / sub bit line type DRAM, the above-mentioned switch element has a sub bit line including a memory cell selected based on a word line selection signal and a sub bit line sharing a word line with the main bit line. , All the main bit lines are individually made conductive to the sub-bit lines, and the main bit lines that are not actually used for reading data also load the sense amplifier connected to the selected sub-bit line. Will be constituted. Moreover,
Lass for refreshing memory cells in word line units
Even in a refresh operation such as only refresh, the main bit line constitutes a load for each sense amplifier. As described above, when the main bit line becomes an undesired load for the sense amplifier, parasitic capacitance exists in the main bit line, and particularly in the main / sub bit line method, the main bit line is relatively long. When a large number of main bit lines serving as a desired load are charged and discharged by individual sense amplifiers, there is a problem that power consumption increases.

本発明の目的は、電力消費量を低減することができる
主副ビット線方式の半導体記憶装置を提供することにあ
る。
It is an object of the present invention to provide a main / sub bit line type semiconductor memory device capable of reducing power consumption.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴
は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば下記の通りである。
The outline of a representative invention among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、メモリセルが結合された複数の副ビット線
を夫々選択スイッチ回路を介して主ビット線に共通接続
して成る構成を複数組備え、カラムスイッチ回路により
上記主ビット線を選択的に共通データ線に導通可能にす
る半導体記憶装置に含まれる、上記選択スイッチ回路
を、所望の主ビット線における所望の副ビット線を当該
主ビット線に選択的に導通にする回路構成とするもので
ある。例えば、上記選択スイッチ回路は、所望の副ビッ
ト線を各主ビット線において共通に選択するための第1
スイッチ素子と、個々の主ビット線において第1スイッ
チ素子に直列接続され第1スイッチ素子によって選択さ
れた副ビット線を選択的に所望の主ビット線に導通制御
する第2スイッチ素子とによって構成することができ、
また、その場合に、上記第1スイッチ素子は、ワード線
選択信号に基づいて選択されるメモリセルを含む副ビッ
ト線と共にそれとワード線を共有する副ビット線を主ビ
ット線と1対1対応で選択するようにスイッチ制御し、
第2スイッチ素子は、カラムスイッチ回路により共通デ
ータ線に導通にされる主ビット線を副ビット線に導通に
するようにスイッチ制御することができる。
That is, a plurality of sets of a plurality of sub-bit lines each having a memory cell coupled thereto are commonly connected to a main bit line via a selection switch circuit, and the main bit line is selectively connected to a common data by a column switch circuit. The selection switch circuit included in the semiconductor memory device that enables conduction to a line has a circuit configuration for selectively conducting a desired sub-bit line of a desired main bit line to the main bit line. For example, the selection switch circuit includes a first switch circuit for commonly selecting a desired sub-bit line in each main bit line.
A switch element and a second switch element which is connected in series to the first switch element in each main bit line and selectively controls conduction of a sub-bit line selected by the first switch element to a desired main bit line. It is possible,
In this case, the first switch element has a one-to-one correspondence between the sub-bit line including the memory cell selected based on the word line selection signal and the sub-bit line sharing the word line with the sub-bit line. Switch control to select,
The second switch element can perform switch control so that the main bit line that is made conductive to the common data line by the column switch circuit is made conductive to the sub-bit line.

〔作 用〕(Operation)

上記した手段によれば、データの読み出し時に共通デ
ータ線に導通にされない主ビット線に関してはこれを副
ビット線と非導通に制御することができ、また、DRAMに
おけるようなリフレッシュ動作時には全ての主ビット線
を副ビット線とは非導通に制御することが可能とされる
ことにより、センスアンプにとって不所望な負荷となる
主ビット線の数が全体的に減らされ、言い換えるなら、
センスアンプが主ビット線を充放電させるときの電力消
費量が半導体記憶装置全体として低減され、これによっ
て主副ビット線方式を採る半導体記憶装置の電力消費量
の低減を達成するものである。
According to the above-described means, a main bit line that is not made conductive with the common data line at the time of data reading can be controlled to be non-conductive with the sub-bit line. By being able to control the bit line to be non-conductive with the sub-bit line, the number of main bit lines that are an undesirable load for the sense amplifier is reduced overall, in other words,
The power consumption when the sense amplifier charges and discharges the main bit line is reduced as a whole of the semiconductor memory device, whereby the power consumption of the semiconductor memory device employing the main / sub bit line system is reduced.

〔実施例〕〔Example〕

第3図は本発明の一実施例である主副ビット線方式の
DRAM全体を示すブロック図、第1図は第3図に示される
メモリセルアレイ内の所定の主ビット線対に関する構成
を代表的に示した回路図、第2図は第1図に示される所
定の副ビット線対に関する詳細な回路図である。
FIG. 3 shows a main / sub bit line system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1 is a block diagram showing the entire DRAM, FIG. 1 is a circuit diagram representatively showing a structure relating to a predetermined main bit line pair in the memory cell array shown in FIG. 3, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a predetermined structure shown in FIG. FIG. 3 is a detailed circuit diagram related to a sub-bit line pair.

本実施例のDRAMは特に制限されないが公知の半導体集
積回路製造技術によって1つの半導体基板に形成されて
おり、更に第1図に示されるように1対の主ビット線対
MBLi,▲▼に対して4対の副ビット線対SBLi1,
▲▼〜SBLi4,▲▼を備えた4マッ
ト構成とされる。
Although the DRAM of this embodiment is not particularly limited, it is formed on one semiconductor substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique, and furthermore, as shown in FIG.
For MBLi, ▲ ▼, four sub-bit line pairs SBLi 1 ,
It has a 4-mat configuration with ▲ ▼ to SBLi 4 and ▲ ▼.

先ず、第3図に基づいて本実施例のDRAMを概略的に説
明する。
First, a DRAM according to the present embodiment will be schematically described with reference to FIG.

このDRAMはダイナミック型メモリセルを複数個マトリ
クス配置して成るメモリセルアレイ1を有する。メモリ
セルは、特に制限されないが、折り返しデータ線方式に
よってレイアウトされた副ビット線対の夫々に1個おき
に等しい数づつデータ入出力端子を介して結合され、各
メモリセルの選択端子は、夫々に対応する列のワード線
に結合されている。ワード線の選択はローアドレスデコ
ーダ2が行う。このローアドレスデコーダ2は、ローア
ドレスバッファ及びアドレスラッチ3から供給される内
部ローアドレス信号a0,▲▼〜ai,▲▼を解読し
てこれに対応する所定のワード線を選択レベルに駆動す
る。内部ローアドレス信号a0,▲▼〜ai,▲▼
は、外部から供給されるローアドレス信号A0〜Aiに基づ
いて形成される。
This DRAM has a memory cell array 1 in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix. Although the memory cells are not particularly limited, they are coupled to the sub-bit line pairs laid out according to the folded data line system via data input / output terminals of equal number every other, and the selection terminal of each memory cell is Is coupled to the word line of the column corresponding to. The selection of a word line is performed by the row address decoder 2. The row address decoder 2 decodes an internal row address signal a 0 , ▼ to ai, ▼ supplied from a row address buffer and an address latch 3 and drives a corresponding predetermined word line to a selected level. . Internal row address signal a 0 , ▲ ▼ to ai, ▲ ▼
Are formed based on row address signals A 0 to Ai supplied from the outside.

各副ビット線対の一端側は差動増幅型のセンスアンプ
に夫々結合される。これらセンスアンプは、その動作が
開始されると、副ビット線対の間の微小電位差を検出し
てこれを増幅する。また、センスアンプにより副ビット
線対の電位差を検出してこれを増幅する前に各副ビット
線対に判定レベルを与えるビット線プリチャージ回路が
各副ビット線対に設けられている。
One end of each sub-bit line pair is connected to a differential amplification type sense amplifier. When these sense amplifiers start operating, they detect a small potential difference between a pair of sub-bit lines and amplify it. Also, a bit line precharge circuit is provided for each sub-bit line pair for detecting a potential difference between the sub-bit line pairs with a sense amplifier and applying a determination level to each sub-bit line pair before amplifying the potential difference.

一方、上記副ビット線対は、4組を単位としてその中
で所望の1組が選択的に主ビット線対に導通されるが、
この主ビット線対は、カラムスイッチ回路6を介して共
通データ線対7に共通接続される。このカラムスイッチ
回路6には主ビット線対を選択的に共通データ線対7に
導通にするためのカラム選択スイッチ素子が含まれ、こ
れらスイッチ素子は、カラムアドレスデコーダ8から出
力される選択信号によってスイッチ制御される。このカ
ラムアドレスデコーダ8にはカラムアドレスバッファ及
びアドレスラッチ9から内部カラムアドレス信号aj,▲
▼〜an,▲▼が供給される。この内部カラムア
ドレス信号aj,▲▼〜an,▲▼は、外部から供給
されるカラムアドレス信号Aj〜Anに基づいて形成され
る。
On the other hand, a desired one of the sub-bit line pairs is selectively conducted to the main bit line pair in units of four.
The main bit line pair is commonly connected to a common data line pair 7 via a column switch circuit 6. The column switch circuit 6 includes a column selection switch element for selectively making the main bit line pair conductive to the common data line pair 7, and these switch elements are controlled by a selection signal output from the column address decoder 8. Switch controlled. This column address decoder 8 receives internal column address signals aj, ▲ from a column address buffer and an address latch 9.
▼ to an, ▲ ▼ are supplied. These internal column address signals aj, ▼ to an, ▼ are formed based on externally supplied column address signals Aj to An.

上記共通データ線対7は、メインアンプ、データ入力
バッファ及びデータ出力バッファを含むデータ入出力回
路10に結合される。
The common data line pair 7 is coupled to a data input / output circuit 10 including a main amplifier, a data input buffer, and a data output buffer.

DRAM全体の内部タイミング制御はタイミングコントロ
ーラ11が行う。このタイミングコントローラ11は、外部
制御信号として▲▼(ロー・アドレス・ストロー
ブ)信号、▲▼(カラム・アドレス・ストロー
ブ)信号、▲▼(ライトイ・ネーブル)信号が供給
される。上記▲▼信号及び▲▼信号は動作
モードの設定さらには内部タイミング生成のための基本
的信号とされる。また、▲▼信号は、リード/ライ
ト動作を指示する信号とされる。このタイミングコント
ローラ11は、外部制御信号に基づいて内部を所定の手順
に従って制御するための各種内部制御信号を形成する
が、第3図にはワード線選択動作確定後にセンスアンプ
を活性化するためのセンスアンプ信号φsa、及び▲
▼信号のネゲート期間にビット線プリチャージを指示
するプリチャージ信号φpcが代表的に示されている。
The timing controller 11 controls the internal timing of the entire DRAM. The timing controller 11 is supplied with ▲ (row address strobe), ▲ (column address strobe), and ▼ (write enable) signals as external control signals. The signals ▲ and ▼ are used as basic signals for setting the operation mode and for generating the internal timing. The signal ▲ is a signal instructing a read / write operation. The timing controller 11 forms various internal control signals for controlling the inside according to a predetermined procedure based on the external control signal. FIG. 3 shows a timing chart for activating the sense amplifier after the word line selection operation is determined. Sense amplifier signal φsa and ▲
A precharge signal φpc for instructing bit line precharge during a signal negation period is representatively shown.

本実施例のDRAMにおいて、上記▲▼信号のアサ
ート期間がアクセスサイクルとされ、タイミングコント
ローラ11は▲▼信号がアサートされると、その内
部制御手順に従って各部の動作制御を行う。即ち、ロー
アドレス信号A0〜Ai及びカラムアドレス信号Aj〜Anが所
定の順番でローアドレスバッファ及びアドレスラッチ3
とカラムドレスバッファ及びアドレスラッチ9に取り込
まれると共に、取り込まれたアドレス信号をローアドレ
スデコーダ2及びカラムアドレスデコーダ8がデコード
して、入力アドレス信号に対応するメモリセルが共通デ
ータ線対7に導通にされ、メモリ・リード/メモリ・ラ
イトなどの動作指示に従って、メモリセルデータがデー
タ入出力回路10から外部に与えられ、又はデータ入出力
回路10から供給されたデータが上記アドレシングされた
メモリセルに書き込まれる。
In the DRAM of the present embodiment, the assertion period of the above-mentioned signal is an access cycle, and when the signal is asserted, the timing controller 11 controls the operation of each section according to its internal control procedure. That is, the row address signal A 0 ~Ai and the row address buffer and address latch 3 column address signal Aj~An is in a predetermined order
And the column address buffer 9 and the address latch 9, and the fetched address signal is decoded by the row address decoder 2 and the column address decoder 8, and the memory cell corresponding to the input address signal becomes conductive to the common data line pair 7. Memory cell data is externally supplied from the data input / output circuit 10 or data supplied from the data input / output circuit 10 is written to the addressed memory cell in accordance with an operation instruction such as a memory read / memory write. It is.

次に1対の主ビット線対MBLi,▲▼に関する
構成を第1図及び第2図に基づいて詳細に説明する。
Next, the configuration relating to a pair of main bit lines MBLi, ▲ ▼ will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

主ビット線対MBLi,▲▼には、特に制限され
ないが、金属シリサイドもしくはアルミニウムなどの金
属によって構成され、また主ビット線対MBLi,▲
▼を共有する4組みの副ビット線SBLi1,▲
▼〜SBLi4,▲▼は、特に制限されないが、メ
モリセルの選択端子電極を兼ねる多結晶シリコンもしく
はシリサイドによって構成される。特に制限されない
が、副ビット線SBLi1,▲▼とSBLi2,▲
▼とは第1図に示されるように入れ子状態で2列に
敷設され、また同様に副ビット線SBLi3,▲▼
とSBLi4,▲▼とは入れ子状態で2列に敷設さ
れる。
The main bit line pair MBLi, ▲ ▼ is not particularly limited, but is made of a metal such as metal silicide or aluminum.
▼ 4 sets of sub-bit lines SBLi 1 , ▲ sharing
▼ to SBLi 4 and ▲ ▼ are not particularly limited, but are made of polycrystalline silicon or silicide also serving as a selection terminal electrode of the memory cell. Although not particularly limited, the sub-bit lines SBLi 1 , ▲ ▼ and SBLi 2 , ▲
As shown in FIG. 1, ▼ is laid in two rows in a nested state, and similarly, the sub-bit line SBLi 3 , ▲ ▼
And SBLi 4 , ▲ ▼ are nested in two rows.

第1図に代表的に示される主ビット線対MBLi,▲
▼は、上記カラムアドレスデコーダ8の出力選択信
号によってスイッチ制御されるNチャンネル型カラム選
択MOSFETQ2を介して共通データ線CD,▲▼に結合さ
れる。副ビット線対SBLi1,▲▼〜SBLi4,▲
▼には、Nチャンネル型選択MOSFETQ1と蓄積容
量Csが直列接続されて成る1トランジスタ型メモリセル
MCがそのデータ入出力端子を介して交互に結合される。
各メモリセルMCの蓄積容量Csには、特に制限されない
が、回路の一方の電源電圧Vddの半分に相当する電圧Vdd
/2が与えられる。尚、第1図においてメモリセルMCは○
印で示される。
Main bit line pair MBLi, ▲ representatively shown in FIG.
▼ is coupled to the common data line CD, ▲ ▼ via an N-channel type column selection MOSFET Q2 which is switch-controlled by the output selection signal of the column address decoder 8. Sub-bit line pair SBLi 1 , ▲ ▼ to SBLi 4 , ▲
▼ indicates a one-transistor type memory cell in which an N-channel type selection MOSFET Q1 and a storage capacitor Cs are connected in series.
MCs are alternately coupled via their data input / output terminals.
Although the storage capacity Cs of each memory cell MC is not particularly limited, a voltage Vdd corresponding to half of one power supply voltage Vdd of the circuit is used.
/ 2 is given. Note that in FIG.
Indicated by marks.

本出願においては、上記一対の副ビット線に接続され
る複数のメモリセルをメモリブロックと称する。
In the present application, a plurality of memory cells connected to the pair of sub-bit lines is referred to as a memory block.

各メモリセルMCの選択端子は、代表的に示された複数
本のワード線WLL,WLRに夫々列毎に結合される。ワード
線WLL,WLRの選択レベルは特に制限されないが電源電圧V
dd以上にブートストラップされたレベルとされる。
The selection terminal of each memory cell MC is coupled to a plurality of representatively shown word lines WLL and WLR for each column. Although the selection level of the word lines WLL and WLR is not particularly limited, the power supply voltage V
Bootstrap level is set to dd or higher.

上記副ビット線対SBLi1,▲▼〜SBLi4,▲
▼には夫々プリチャージ回路(第2図において
代表的にPRCで示される)及びセンスアンプSAi1〜SAi4
に結合されている。
Sub-bit line pair SBLi 1 , ▲ ▼ to SBLi 4 , ▲
▼ respectively show a precharge circuit (represented by PRC in FIG. 2) and sense amplifiers SAi 1 to SAi 4.
Is joined to.

上記プリチャージ回路PRCは、特に制限されないが、
チップ非選択期間の所定タイミングにオン動作されるこ
とによって対を成す副ビット線をリークさせて平衡化す
る1対のNチャンネル型イコライズMOSFETQ11,Q12を備
え、両MOSFETQ11,Q12の結合ノードを介して、リーク電
流などを補償するためにプリチャージ電圧Vdd/2を各副
ビット線対に供給可能に構成される。イコライズMOSFET
Q11,Q12は、チップ非選択期間においてハイレベルに制
御されるような上記プリチャージ信号φpcによってスイ
ッチ制御される。このプリチャージ回路PRCは、メモリ
アクセス開始前にビット線対をその動作上望ましいレベ
ルにプリチャージする共に、メモリセルデータの読み出
しに当たっては、判定レベルVdd/2を与える。
Although the precharge circuit PRC is not particularly limited,
A pair of N-channel type equalizing MOSFETs Q11 and Q12 that leak and balance a pair of sub-bit lines by being turned on at a predetermined timing during a chip non-selection period, and via a coupling node of both MOSFETs Q11 and Q12 In order to compensate for a leak current, a precharge voltage Vdd / 2 can be supplied to each sub-bit line pair. Equalize MOSFET
Q11 and Q12 are switch-controlled by the precharge signal φpc, which is controlled to a high level during a chip non-selection period. The precharge circuit PRC precharges the bit line pair to a desired level for the operation before starting the memory access, and gives a judgment level Vdd / 2 when reading the memory cell data.

センスアンプSAi1〜SAi4は、特に制限されないが、そ
の詳細を示す第2図のように、Pチャンネル型センスア
ンプ部SApとNチャンネル型センスアンプ部SAnによって
構成される相補型MOSスタティック構成とされる。上記
Nチャンネル型センスアンプ部SAnは、ソース電極が共
通接続されたNチャンネル型MOSFETQ3及びQ4のドレイン
電極を夫々副ビット線対に結合すると共に、MOSFETQ3の
ゲート電極を一方の副ビット線に、MOSFETQ4のゲート電
極を他方の副ビット線に交差接続して成る。同様に、P
チャンネル型センスアンプ部SApは、ソース電極が共通
接続されたPチャンネル型MOSFETQ5及びQ6のドレイン電
極を夫々副ビット線対に結合すると共に、MOSFETQ5のゲ
ート電極を一方の副ビット線に、MOSFETQ6のゲート電極
を他方の副ビット線に交差接続して成る。
Sense amplifier SAi 1 ~SAi 4 is not particularly limited, as in the second diagram showing the details, a complementary MOS static structure composed of P-channel type sense amplifier portion SAp and N-channel sense amplifier section SAn Is done. The N-channel sense amplifier SAn couples the drain electrodes of N-channel MOSFETs Q3 and Q4, whose source electrodes are commonly connected, to a pair of sub-bit lines, and connects the gate electrode of the MOSFET Q3 to one sub-bit line, and the MOSFET Q4. Is cross-connected to the other sub-bit line. Similarly, P
The channel-type sense amplifier section SAp couples the drain electrodes of P-channel MOSFETs Q5 and Q6, whose source electrodes are commonly connected, to a pair of sub-bit lines, and connects the gate electrode of MOSFET Q5 to one sub-bit line and the gate of MOSFET Q6. An electrode is cross-connected to the other sub-bit line.

上記Pチャンネル型センスアンプ部SAp及びNチャン
ネル型センスアンプ部SAnのコモンソース電極は定電流
源として機能されるPチャンネル型MOSFETQ7を介して電
源端子Vddに結合され、また、Nチャンネル型センスア
ンプ部SAnのコモンソース電極は定電流源として機能さ
れるNチャンネル型MOSFETQ8を介して回路の接地端子の
ような他方の電源端子Vssに結合される。尚、MOSFETQ7,
Q8は、上記センスアンプ信号φsaがハイレベルにアサー
トされることにより共にオン動作され、これによってセ
ンスアンプSAi1〜SAi4を夫々活性化する。活性化された
センスアンプは、副ビット線対を、その微小電位差に応
じ、Pチャンネル型センスアンプ部SAp及びNチャンネ
ル型センスアンプ部SAnのコモンソース電圧を到達レベ
ルとするように差動増幅する。
The common source electrodes of the P-channel sense amplifier SAp and the N-channel sense amplifier SAn are coupled to a power supply terminal Vdd via a P-channel MOSFET Q7 functioning as a constant current source. The common source electrode of SAn is coupled to the other power supply terminal Vss, such as the ground terminal of the circuit, via an N-channel MOSFET Q8 functioning as a constant current source. In addition, MOSFETQ7,
Q8 is the sense amplifier signal φsa are both turned on by being asserted to the high level, thereby respectively activate the sense amplifier SAi 1 ~SAi 4. The activated sense amplifier differentially amplifies the sub-bit line pair so that the common source voltage of the P-channel type sense amplifier SAp and the N-channel type sense amplifier SAn is attained in accordance with the minute potential difference. .

ここで、4組みの副ビット線対SBLi1,▲▼
〜SBLi4,▲▼は1対の主ビット線対を共有
し、メモリセルアレイ全体として4マットを構成する。
1対の主ビット線対を共有する4組みの副ビット線対
は、夫々選択スイッチ回路20を介して当該主ビット線対
に共通接続される。この選択スイッチ回路20は、所望の
主ビット線対における所望の副ビット線対を当該主ビッ
ト線対に選択的に導通可能に構成され、例えば、ワード
線選択信号に基づいて選択されるメモリセルを含む副ビ
ット線対と共にそれとワード線を共有する副ビット線対
を主ビット線対と1対1で選択するための所謂マット選
択機能の外に、マット選択機能によって選択された個々
の副ビット線対を主ビット線単位で当該主ビット線に対
して非導通に制御可能な機能を備える。
Here, four pairs of sub-bit line pairs SBLi 1 , ▲ ▼
SBSBLi 4 , ▼▼ share one main bit line pair, and constitute 4 mats as a whole memory cell array.
Four sub-bit line pairs sharing one main bit line pair are commonly connected to the main bit line pair via the selection switch circuits 20, respectively. The selection switch circuit 20 is configured to selectively enable a desired sub-bit line pair in a desired main bit line pair to the main bit line pair. For example, a memory cell selected based on a word line selection signal In addition to the so-called mat selection function for selecting the sub bit line pair sharing the word line with the sub bit line pair including the sub bit line pair, the individual sub bit selected by the mat selection function, A function of controlling a line pair to be non-conductive with respect to the main bit line on a main bit line basis is provided.

本実施例の選択スイッチ回路20において、マット選択
機能は、4組みの副ビット線対SBLi1,▲▼〜
SBLi4,▲▼を夫々主ビット線対MBLi,▲
▼に導通可能にするNチャンネル型第1MOSFETQf1
Qf4によって達成する。この第1MOSFETQf1〜Qf4は、リー
ド/ライト動作においてアドレシングされるべきメモリ
セルが結合されている副ビット線対を選択し得るよう
に、アドレスデコード結果に基づいてスイッチ制御され
る。
In the selection switch circuit 20 of this embodiment, the mat selection function has four pairs of sub-bit line pairs SBLi 1 ,
SBLi 4 , ▲ ▼ to main bit line pair MBLi, ▲
N-channel first MOSFET Qf 1 to enable conduction to ▼
Achieved by Qf 4 . The first 1MOSFETQf 1 ~Qf 4, as can select sub-bit line pair to which the memory cell to be addressed in the read / write operation is coupled, it is switch-controlled based on the address decode result.

また、マット選択機能によって選択された個々の副ビ
ット線対を主ビット線単位で当該主ビット線に対して非
導通に制御可能な機能は、夫々の副ビット線対SBLi1,▲
▼〜SBLi4,▲▼と主ビット線対MB
Li,▲▼との間において上記第1MOSFETQf1〜Qf4
に直列に介在されたNチャンネル型第2MOSFETQsiによっ
て達成する。この第2MOSFETQsiは、特に制限されない
が、当該第2MOSFETQsiを含む主ビット線対MBLi,▲
▼をカラム選択MOSFETQ2を介して共通データ線CD,
▲▼に導通制御するためにカラムアドレスデコーダ
から出力されるカラム選択信号によってスイッチ制御さ
れる。
The function of controlling each sub-bit line pair selected by the mat selection function to be non-conductive with respect to the main bit line in units of the main bit line is a function of each sub-bit line pair SBLi 1 , ▲
▼ to SBLi 4 , ▲ ▼ and main bit line pair MB
Between the first MOSFET Qf 1 to Qf 4
This is achieved by an N-channel type second MOSFET Qsi interposed in series with the second MOSFET. The second MOSFET Qsi is not particularly limited, but includes a main bit line pair MBLi, ▲ including the second MOSFET Qsi.
▼ represents the common data line CD,
The switch is controlled by the column selection signal output from the column address decoder in order to control the conduction in ▲ ▼.

したがって、例えば、外部から供給されるアドレス信
号に基づいて第1図の副ビット線対SBLi1,▲
▼に結合された所定のメモリセルが選択される場合に
は、第1MOSFETQf1及び第2MOSFETQsがオン状態に制御さ
れることにより、当該メモリセルは副ビット線対SBLi1,
▲▼から主ビット線対MBLi,▲▼を
経由して共通データ線CD,▲▼に導通にされる。こ
のとき、メモリセルアレイ1に含まれる主ビット線対MB
Li,▲▼以外のその他図示しない主ビット線対
に係る第2MOSFETはオフ状態に制御される。これによ
り、選択レベルに駆動される所定1本のワード線によっ
て選択されるメモリセルデータが読み出される各副ビッ
ト線対のためのセンスアンプ即ちセンスアンプSAi1を含
む図示しない一列全てのセンスアンプであって選択メモ
リマットに含まれるセンスアンプは、アクセス対象メモ
リセルのためのセンスアンプSAi1を除き、夫々に対応す
る図示しない主ビット線対を負荷とすることなく増幅動
作即ち実質的にはリフレッシュ動作のための増幅動作を
行うことができる。
Therefore, for example, based on an externally supplied address signal, the pair of sub-bit lines SBLi 1 , ▲ in FIG.
When a predetermined memory cell coupled to ▼ is selected, the first MOSFET Qf 1 and the second MOSFET Qs are controlled to be turned on, so that the memory cell is connected to the sub-bit line pair SBLi 1 ,
From ▲, conduction is made to the common data line CD, ▼ via the main bit line pair MBLi, ▼▼. At this time, the main bit line pair MB included in the memory cell array 1
The second MOSFETs related to the main bit line pair (not shown) other than Li and ▲ ▼ are controlled to be off. Thereby, the sense amplifiers for each sub-bit line pair from which the memory cell data selected by the predetermined one word line driven to the selected level is read, that is, the sense amplifiers SAi 1 in all the columns (not shown) including the sense amplifiers SAi 1 are used. the sense amplifier in the selected memory mat there is a sense amplifier SAi 1 except, amplifying operation i.e. substantially refresh without the load of the main bit line pair (not shown) corresponding to each for access target memory cell An amplification operation for the operation can be performed.

上記実施例によれば以下の作用効果を得ることができ
る。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.

(1)メモリアクセス時に共通データ線CD,▲▼に
導通にされない主ビット線対に関してはこれを全て副ビ
ット線と非導通に制御することができるから、少なくと
も選択メモリマットに含まれる個々のセンスアンプにと
って不所望な負荷となる主ビット線の数が全体的に減ら
され、これによって、センスアンプが主ビット線を充放
電させるときの電力消費量をDRAM全体として低減するこ
とができる。
(1) All the main bit line pairs that are not made conductive to the common data line CD, ▲ ▼ during memory access can be controlled to be non-conductive to the sub-bit lines, so that at least the individual senses included in the selected memory mat The number of main bit lines that cause an undesired load on the amplifier is reduced overall, whereby the power consumption when the sense amplifier charges and discharges the main bit line can be reduced as a whole DRAM.

(2)ワード線単位でメモリセルのリフレッシュを行う
ラス・オンリ・リフレッシュのようなリフレッシュ動作
において、カラムアドレスデコーダ8の出力選択信号は
全て非選択レベルにされる。これにより、当該リフレッ
シュ動作時には全ての第2MOSFETQsがオフ状態に制御さ
れることにより、同様に個々のセンスアンプにとって不
所望な負荷となる主ビット線は副ビット線対に一切導通
にされず、リフレッシュ動作時には、センスアンプが主
ビット線を充放電させるときの電力消費を全て省くこと
ができる。
(2) In a refresh operation such as ras-only refresh for refreshing memory cells in word line units, all output selection signals of the column address decoder 8 are set to the non-selection level. As a result, during the refresh operation, all the second MOSFETs Qs are controlled to be turned off, so that the main bit line, which is an undesired load for each sense amplifier, is not conducted at all to the sub-bit line pair, and In operation, all power consumption when the sense amplifier charges and discharges the main bit line can be omitted.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づい
て具体的に説明したが本発明はそれに限定されずその要
旨を逸脱しない範囲において種々変更することができ
る。
The invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, but the present invention is not limited thereto, and can be variously modified without departing from the gist thereof.

例えば、上記実施例の主副ビット線構造は2対の副ビ
ット線対を夫々2列で入れ子状態で敷設してセンスアン
プの形成領域を効果的に得ることができるようになって
いるが、本発明はこれに限定されず、各副ビット線対の
組みを1列に敷設するように構成してもよい。また、セ
ンスアンプは2組みの副ビット線に共用するシェアード
センス方式にしてもよい。更に、主ビット線を共有する
副ビット線の数は4組に限定されず適宜に決定すること
ができる。
For example, in the main / sub bit line structure of the above embodiment, two pairs of sub bit lines are laid in a nested state in two columns, respectively, so that the formation region of the sense amplifier can be effectively obtained. The present invention is not limited to this, and may be configured such that sets of each sub-bit line pair are laid in one column. Further, the sense amplifier may be of a shared sense type commonly used for two sets of sub-bit lines. Further, the number of sub-bit lines sharing the main bit line is not limited to four sets and can be determined as appropriate.

また、上記実施例の選択スイッチ回路20は、第1及び
第2MOSFETを直列接続して構成したが、両MOSFETの機能
を達成するためのスイッチ制御信号を特別に形成する回
路を設ける場合にはそれら1対のスイッチ素子を1つの
スイッチ素子に置き換えることも可能である。
Further, the selection switch circuit 20 of the above embodiment is configured by connecting the first and second MOSFETs in series. However, when a circuit for specially generating a switch control signal for achieving the functions of both MOSFETs is provided, the selection It is also possible to replace a pair of switch elements with one switch element.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるDRAMに適用した場
合について説明したが、本発明はそれに限定されるもの
ではなく、擬似SRAM(スタティック・ランダム・アクセ
ス・メモリ)、バーチャリーもしくは仮想記憶SRAM、フ
レームバッファメモリなどを各種ダイナミック形式の半
導体記憶装置、さらにはその他揮発性及び不揮発性の各
種記憶形式を持つ半導体記憶装置に広く適用することが
できる。本発明は、少なくともメモリセルが結合された
複数の副ビット線を夫々選択スイッチ回路を介して主ビ
ット線に共通接続する主副ビット線方式を備えた条件の
ものに適用することができる。
In the above description, the case where the invention made by the inventor is applied to a DRAM, which is a field of application as the background, has been mainly described. However, the present invention is not limited thereto, and a pseudo SRAM (static random An access memory, a virtual or virtual storage SRAM, a frame buffer memory, and the like can be widely applied to semiconductor storage devices of various dynamic formats, as well as semiconductor storage devices of various volatile and nonvolatile storage formats. The present invention can be applied to a device provided with a main / sub bit line system in which at least a plurality of sub bit lines coupled to memory cells are commonly connected to a main bit line via a selection switch circuit.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りであ
る。
The effects obtained by the representative inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、複数の副ビット線を夫々主ビット線に接続
する選択スイッチ回路を、所望の主ビット線における所
望の副ビット線を当該主ビット線に選択的に導通にする
回路構成とすることにより、メモリアクセス時に共通デ
ータ線に導通にされない主ビット線に関してはこれを副
ビット線と非導通に制御することができ、その結果、セ
ンスアンプにとって不所望な負荷となる主ビット線の数
を全体的に減らすことができて、センスアンプが主ビッ
ト線を充放電させるときの電力消費量を半導体記憶装置
全体として低減することができ、これによって主副ビッ
ト線方式を採る半導体記憶装置の電力消費量の低減を達
成することができる効果がある。
That is, the selection switch circuit that connects each of the plurality of sub-bit lines to the main bit line has a circuit configuration in which a desired sub-bit line in a desired main bit line is selectively made conductive to the main bit line. The main bit line that is not made conductive to the common data line during memory access can be controlled to be non-conductive to the sub-bit line, and as a result, the number of main bit lines that cause an undesired load on the sense amplifier can be reduced as a whole. Power consumption when the sense amplifier charges / discharges the main bit line can be reduced as a whole of the semiconductor memory device, whereby the power consumption of the semiconductor memory device employing the main / sub bit line method can be reduced. There is an effect that reduction of the amount can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例である主副ビット線方式のDR
AMにおける所定の主ビット線対に関する構成を代表的に
示した回路図、 第2図は第1図に示された所定の副ビット線対に関する
詳細な回路図である。 第3図は主副ビット線方式のDRAM全体を示すブロック図
である。 1……メモリセルアレイ、2……ローアドレスデコー
ダ、6……カラムスイッチ回路、8……カラムアドレス
デコーダ、MBLi,▲▼……主ビット線対、SBL
i1,▲▼〜SBLi4,▲▼……副ビッ
ト線対、WLL,WLR……ワード線、MC……メモリセル、SAi
1〜SAi4……センスアンプ、20……選択スイッチ回路、Q
f1〜Qf4……第1MOSFET、Qsi……第2MOSFET、CD,▲
▼……共通データ線。
FIG. 1 is a diagram showing a main / sub bit line type DR according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram representatively showing a configuration relating to a predetermined main bit line pair in AM, and FIG. 2 is a detailed circuit diagram relating to a predetermined sub-bit line pair shown in FIG. FIG. 3 is a block diagram showing the entire DRAM of the main / sub bit line system. 1 ... memory cell array, 2 ... row address decoder, 6 ... column switch circuit, 8 ... column address decoder, MBLi, ▲ ▼ ... main bit line pair, SBL
i 1 , ▲ ▼ to SBLi 4 , ▲ ▼… sub-bit line pair, WLL, WLR… word line, MC… memory cell, SAi
1 to SAi 4 Sense amplifier, 20 Selection switch circuit, Q
f 1 to Qf 4 …… First MOSFET, Qsi …… Second MOSFET, CD, ▲
▼ …… Common data line.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】選択端子とデータ入出力端子を有する複数
のメモリセルと、前記複数のメモリセルの前記選択端子
がそれぞれに接続された複数のワード線と、前記複数の
メモリセルの前記データ入出力端子が接続された複数の
副ビット線とを備えるメモリブロックと、 前記メモリブロックの複数個に対応して設けられる複数
の主ビット線と、 前記主ビット線と前記メモリブロックの複数個のそれぞ
れの副ビット線との間に直列接続された第1スイッチ素
子および第2スイッチ素子と、 前記複数の主ビット線のそれぞれがカラムスイッチ回路
を介して接続される共通データ線と、 前記副ビット線ごとに設けられメモリセルの選択開始前
に当該副ビット線を動作上望ましいレベルにプリチャー
ジするプリチャージ回路と、 前記副ビット線ごとに設けられたメモリセル選択後の当
該副ビット線の信号を増幅するセンスアンプ回路とを備
え、 前記第1スイッチ素子は、ワード線選択信号に基づいて
選択すべきメモリセルの含まれる前記メモリブロックの
副ビット線を主ビット線に接続するように制御され、 前記第2スイッチ素子は、ビット線選択信号に基づいて
前記カラムスイッチ回路によって前記共通データ線に接
続される主ビット線を、前記選択すべきメモリセルの含
まれる前記メモリブロックの副ビット線に接続するよう
に制御される ことを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of memory cells having a selection terminal and a data input / output terminal; a plurality of word lines to which the selection terminals of the plurality of memory cells are respectively connected; and a data input / output terminal of the plurality of memory cells. A memory block including a plurality of sub-bit lines to which output terminals are connected; a plurality of main bit lines provided corresponding to a plurality of the memory blocks; and a plurality of the main bit lines and a plurality of the memory blocks, respectively. A first switch element and a second switch element connected in series between the sub-bit line and a common data line to which each of the plurality of main bit lines is connected via a column switch circuit; A precharge circuit provided for each of the sub-bit lines for pre-charging the sub-bit line to an operationally desirable level before the start of selection of a memory cell; A sense amplifier circuit for amplifying a signal of the sub-bit line after the selected memory cell is selected, wherein the first switch element includes a memory cell including a memory cell to be selected based on a word line selection signal. The second switch element is controlled to connect a sub-bit line to a main bit line, and the second switch element selects the main bit line connected to the common data line by the column switch circuit based on a bit line selection signal. A semiconductor memory device, which is controlled so as to be connected to a sub-bit line of the memory block including a memory cell to be included.
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