JPH06333389A - Column system driving method and semiconductor memory - Google Patents

Column system driving method and semiconductor memory

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JPH06333389A
JPH06333389A JP5118133A JP11813393A JPH06333389A JP H06333389 A JPH06333389 A JP H06333389A JP 5118133 A JP5118133 A JP 5118133A JP 11813393 A JP11813393 A JP 11813393A JP H06333389 A JPH06333389 A JP H06333389A
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JP
Japan
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data
data line
memory cell
column
effect transistor
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JP5118133A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Maeda
敏夫 前田
Toshinori Taruishi
敏伯 垂石
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To increase the speed of data reading/writing cycles. CONSTITUTION:By driving a boosting circuit for generating a high voltage Vch by boosting an internal power source voltage Vcc and field effective transisters 101-108 for selectively connecting a data line coupled to a memory cell to a common data line using the high voltage Vch obtained by the boosting circuit, the operating speed is increased. At this time, since all levels of data lines to be selected simultaneously are rewitten, input/output circuits are provided corresponding to a number of plural data lines simultaneously selected by the column selecting control at a time.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはカラム系処理回路の高速化技術に関し、例えばシン
クロナスDRAM(ダイナミック・ランダム・アクセス
・メモリ)に適用して有効な技術に間する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for speeding up a semiconductor memory device, and further a column processing circuit, which is effective when applied to, for example, a synchronous DRAM (dynamic random access memory). .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のDRAM(ダイナミック・ランダ
ム・アクセス・メモリ)では、メモリに結合されたデー
タ線(ビット線とも称される)と、コモンI/O線とを
接続するトランスファーMOSの選択信号(以下「デー
タ線選択信号」という)は、レイアウト効率上2〜4デ
ータ線に対して一本の割合で割り当てられており、その
電位はトランスファーMOSがメモリセルと同様NMO
Sであることから選択時には、電源電圧電位に等しくさ
れていた。すなわち、データ線選択のためのハイレベル
は、内部電源電圧Vccと等しくされ、そのようなデー
タ線選択信号によりトランスファMOSが選択される。
2. Description of the Related Art In a conventional DRAM (dynamic random access memory), a transfer MOS selection signal for connecting a data line (also referred to as a bit line) coupled to the memory and a common I / O line. (Hereinafter, referred to as “data line selection signal”) is assigned to one to two to four data lines in terms of layout efficiency.
Since it was S, it was made equal to the power supply voltage potential at the time of selection. That is, the high level for selecting the data line is made equal to the internal power supply voltage Vcc, and the transfer MOS is selected by such a data line selection signal.

【0003】メモリセルデータ読出し時は、カラムアド
レスによりデコードされた一本のデータ線選択信号によ
って選択されて読出された複数のデータが、各々のコモ
ンI/O線でメインアンプに伝達され、メインアンプに
割り付けられたカラムアドレスにより選択データが特定
される。それに対してデータ書込み時は、一組のコモン
I/O線のレベルが、書込み用バッファにて増幅され、
I/OトランスファーMOSを開いてデータ線に書込み
データを伝達する。このときデータ線選択信号を共用す
る他のデータ線も同時に選択されてコモンI/O線に接
続される。非書込み状態のコモンI/O線は、電源電位
又はそれの1/2にプリチャージされているので、デー
タ破壊を防ぐため、データ線選択信号を立ちあげる前に
センスアンプを起動し、旧データを十分増幅しておく必
要がある。従って、選択データ線では、センスアンプに
より増幅された信号と書込みデータが競合するため、書
込み用バッファには、このセンスアンプ増幅信号を反転
し得る駆動力が必要とされる。
At the time of reading memory cell data, a plurality of data selected and read by one data line selection signal decoded by a column address are transmitted to the main amplifier by each common I / O line, and the main amplifier is supplied. The selected data is specified by the column address assigned to the amplifier. On the other hand, at the time of writing data, the level of the pair of common I / O lines is amplified by the write buffer,
The I / O transfer MOS is opened to transmit write data to the data line. At this time, other data lines sharing the data line selection signal are also selected and connected to the common I / O line. The common I / O line in the non-write state is precharged to the power supply potential or half of it, so to prevent data destruction, activate the sense amplifier before raising the data line selection signal and use the old data. Must be sufficiently amplified. Therefore, in the selected data line, the signal amplified by the sense amplifier and the write data compete with each other, and the write buffer is required to have a driving force capable of inverting the sense amplifier amplified signal.

【0004】尚、DRAMについて記載された文献の例
としては、昭和59年11月30日に株式会社オーム社
から発行された「LSIハンドブック(第486頁
〜)」がある。
An example of a document describing DRAM is "LSI Handbook (Page 486-)" issued by Ohm Co., Ltd. on November 30, 1984.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、同時に
選択される非書込みデータ線のデータを保持するために
は、プリチャージされたコモンI/Oによりデータ線の
データが破壊しない程度の適正なセンスアンプ駆動力
と、I/OトランスファーMOSの相互コンダクタンス
gmを選ぶ必要がある。このことは、トランスファーM
OSの相互コンダクタンスgmを十分に上げることがで
きず、書込み動作、及び読出し動作の高速化の妨げにな
っている。
However, in order to hold the data of the non-write data lines selected at the same time, a proper sense amplifier which does not destroy the data of the data line by the precharged common I / O. It is necessary to select the driving force and the mutual conductance gm of the I / O transfer MOS. This is transfer M
The mutual conductance gm of the OS cannot be sufficiently increased, which hinders the speeding up of the write operation and the read operation.

【0006】また、従来方式では、データ線選択信号の
ハイレベルが電源電圧と等しくされていたため、ハイレ
ベル書込みにおいて、信号レベルがトランスファーMO
Sのしきい値分だけ下がってしまい、そのレベル不足
を、センスアンプで増幅することによって補っていた。
そのように、従来装置においては、データ線とコモンI
/O線との間のデータ受渡し部が、高速書込みのネック
とされている。
Further, in the conventional method, the high level of the data line selection signal is set to be equal to the power supply voltage.
It was lowered by the threshold value of S, and the lack of the level was compensated by amplifying with a sense amplifier.
As such, in the conventional device, the data line and the common I
The data transfer section with the / O line is the bottleneck for high-speed writing.

【0007】本発明の目的は、データの読出し、書込み
サイクルを高速化することによって、サイクルタイムを
短縮するための技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique for shortening the cycle time by accelerating the data read / write cycle.

【0008】本発明の上記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0010】すなわち、メモリセルに結合されたデータ
線を、カラムアドレスに応じて選択的にコモンデータ線
に結合させるための電界効果トランジスタの駆動に、内
部電源電圧を昇圧することによって得られた高電圧を使
用する。
That is, a high voltage obtained by boosting the internal power supply voltage is used to drive the field effect transistor for selectively coupling the data line coupled to the memory cell to the common data line according to the column address. Use voltage.

【0011】また、内部電源電圧を昇圧することによっ
て高電圧を生成する昇圧回路と、この昇圧回路によって
得られた高電圧を使用して、メモリセルに結合されたデ
ータ線を、選択的的にコモンデータ線に結合させるため
の電界効果トランジスタを駆動するための駆動回路とを
含んで半導体記憶装置を構成する。このとき、一つのカ
ラム選択制御によって一つのメモリセルマットから同時
に選択される複数のデータ線が、互いに異なるI/Oに
割り当てられることによって、当該同時に選択されたデ
ータ線の全てを書換え可能に構成することができる。
Further, by using a booster circuit for generating a high voltage by boosting the internal power supply voltage and the high voltage obtained by the booster circuit, the data line coupled to the memory cell is selectively A semiconductor memory device is configured to include a drive circuit for driving a field effect transistor for coupling to a common data line. At this time, a plurality of data lines simultaneously selected from one memory cell mat by one column selection control are assigned to different I / Os so that all of the simultaneously selected data lines can be rewritten. can do.

【0012】[0012]

【作用】上記した手段によれば、上記電界効果トランジ
スタを駆動するために、内部電源電圧を昇圧することに
よって得られた高電圧を使用することは、当該電界効果
トランジスタの相互コンダクタンスを上げ、しきい値分
の信号レベル低下を阻止し、このことが、データの読出
し、書込みサイクルを高速化するように作用し、サイク
ルタイムの短縮化を達成する。
According to the above-mentioned means, using the high voltage obtained by boosting the internal power supply voltage to drive the field effect transistor increases the transconductance of the field effect transistor. The signal level drop by the threshold value is prevented, and this acts to speed up the data read and write cycles, thus achieving a reduction in cycle time.

【0013】[0013]

【実施例】図1には本発明の一実施例にかかるDRAM
(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)が示さ
れる。
FIG. 1 shows a DRAM according to an embodiment of the present invention.
(Dynamic Random Access Memory) is shown.

【0014】図1に示されるDRAMは、特に制限され
ないが、図示されないMPU(マイクロ・プロセッシン
グ・ユニット)のクロックに同期してデータの書込み、
読出しを可能とするシンクロナスDRAMとされる。シ
ンクロナスDRAMのバーストモードでは、選択された
ワードのカラムアドレスを順次インクリメントし、ビッ
ト線を次々に選択することによって、データの入出力を
可能とする。
Although not particularly limited, the DRAM shown in FIG. 1 writes data in synchronization with a clock of an MPU (micro processing unit) (not shown).
It is a synchronous DRAM that enables reading. In the burst mode of the synchronous DRAM, the column address of the selected word is sequentially incremented, and the bit lines are sequentially selected to enable data input / output.

【0015】そのようなシンクロナスDRAMは、特に
制限されないが、入出力ピンI/O1〜I/O4を介し
て外部との間でデータの入出力を可能とするための入出
力制御回路11〜14と、メモリセルからのメモリ読出
しデータを増幅するための入出力回路21〜24,31
〜34,41〜44,51〜54と、複数のダイナミッ
ク型メモリセルをアレイ状に配列して成るメモリセルア
レイARY0〜ARY7と、アドレス信号Y0〜Y7を
デコードすることによってデータ線選択信号YSを生成
するためのカラムアドレスデコーダ(ColumnDE
C)17と、アドレスX0〜X8をデコードすることに
よってワード線駆動のための制御信号を生成するための
ロウデコーダ(RowDEC)60〜67とを含む。
Such a synchronous DRAM is not particularly limited, but the input / output control circuits 11 to 11 for enabling data input / output to / from the outside through the input / output pins I / O1 to I / O4. 14 and input / output circuits 21 to 24 and 31 for amplifying memory read data from the memory cells.
To 34, 41 to 44, 51 to 54, memory cell arrays ARY0 to ARY7 in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in an array, and data line selection signal YS are generated by decoding address signals Y0 to Y7. Column address decoder (ColumnDE
C) 17 and row decoders (RowDEC) 60 to 67 for generating control signals for driving the word lines by decoding the addresses X0 to X8.

【0016】特に制限されないが、アドレスの取込みに
ノンマルチプレックス方式が採用され、タイミングクロ
ックであるロウアドレスストローブ信号RAS*(*は
信号反転又はローアクティブを示す)、及びカラムアド
レスストローブ信号CAS*に同期して外部アドレス信
号が取込まれ、内部処理により、ロウアドレス(X0〜
X9)、カラムアドレス(Y0〜Y9)を生成するよう
になっている。また、特に制限されないが、ロウアドレ
ス(X0〜X8)は、一つのアレイ内のワード線512
本の中から1本を選択するため、各メモリセルアレイに
対応して配置されたロウデコーダ60〜61に入力され
ている。本実施例ではセンスアンプを2つのアレイ間で
共有するシェアード方式を用いているため、ロウアドレ
ス(X9)は、センスアンプ(SA)の左右に配置され
たメモリセルアレイの選択に使われる。カラムアドレス
Y0〜Y7が、カラムデコーダ17によってデコードさ
れることによって、256本のデータ線選択信号YSが
生成される。代表的に示されるように、一つのデータ線
選択信号YSによって、一つのメモリセルアレイあた
り、4本のデータ線が選択される。シェアード方式を採
用しているため、センスアンプ(SA)及びコモンI/
O線は、ロウアドレス(X9)で識別される2つのメモ
リセルアレイで共有されるようになっている。つまり、
ローアドレス(X9)の論理状態に応じて上記2つのメ
モリセルアレイのいずれかが選択的にセンスアンプ(S
A)及びコモンI/O線に結合されることにより、当該
メモリセルアレイに対するデータのリードライトが可能
とされる。
Although not particularly limited, a non-multiplex system is adopted for fetching addresses, and a row address strobe signal RAS * (* indicates signal inversion or row active) and a column address strobe signal CAS * which are timing clocks are used. An external address signal is taken in synchronously, and row address (X0 to X0
X9) and column addresses (Y0 to Y9) are generated. Although not particularly limited, the row address (X0 to X8) is a word line 512 in one array.
Since one is selected from the books, it is input to the row decoders 60 to 61 arranged corresponding to each memory cell array. In this embodiment, since the shared system in which the sense amplifier is shared by the two arrays is used, the row address (X9) is used for selecting the memory cell array arranged on the left and right of the sense amplifier (SA). The column addresses Y0 to Y7 are decoded by the column decoder 17 to generate 256 data line selection signals YS. As shown representatively, one data line selection signal YS selects four data lines per one memory cell array. Since the shared method is used, the sense amplifier (SA) and common I /
The O line is shared by the two memory cell arrays identified by the row address (X9). That is,
Depending on the logic state of the row address (X9), one of the two memory cell arrays is selectively operated by the sense amplifier (S
By being connected to A) and the common I / O line, data can be read / written from / to the memory cell array.

【0017】図3には上記入出力回路21〜24の構成
例が代表的に示される。
FIG. 3 typically shows a configuration example of the input / output circuits 21 to 24.

【0018】図3に示されるように入出力回路21〜2
4は、それぞれ入出力ピンI/O1〜I/O4を介して
外部から入力された信号を増幅してコモンI/Oへ出力
するための書込み用バッファWBと、それとは逆にコモ
ンI/Oのデータを増幅して外部出力可能とするための
メインアンプMAとを含んで成る。
As shown in FIG. 3, input / output circuits 21-2
Reference numeral 4 denotes a write buffer WB for amplifying a signal input from the outside via the input / output pins I / O1 to I / O4 and outputting the amplified signal to the common I / O, and conversely, the common I / O. And a main amplifier MA for amplifying the data of 1 to enable external output.

【0019】図4には図1におけるメモリセルアレイA
RY0,AEY1のカラム系直接周辺回路の構成例が代
表的に示される。
FIG. 4 shows the memory cell array A in FIG.
A configuration example of a column system direct peripheral circuit of RY0 and AEY1 is representatively shown.

【0020】カラムデコーダ17の出力信号に基づいて
形成されるデータ線選択信号YSは、トランスファMO
S101〜108に入力されるようになっている。この
トランスファMOS101〜108は、いわゆるカラム
選択スイッチであり、このトランスファMOS101〜
108により、相補データ線がコモンI/O線に選択的
に結合されるようになっている。メモリセルアレイAR
Y0,ARY1は、シェアードMOS71〜78,81
〜88により分離される。シェアード信号SHR0又は
SHR1がハイレベルにアサートされることによって、
メモリセルアレイARY0又はARY1が、センスアン
プSA1〜SA4に選択的に結合されるようになってい
る。ここで、シェアード信号SHR0,SHR1のハイ
レベルは、メモリセルのワード線WLと同様に、昇圧さ
れた電位とされ、特に制限されないが、高電位側電源V
ccよりも1.5ボルト程度高く設定される。そのよう
にシェアード信号SHR0,SHR1のハイレベルを高
電位側電源Vccよりも高めに設定するのは、シェアー
ドMOS71〜78,81〜88において、しきい値に
起因してメモリセルへの書込み電位が低下するのを防止
するためである。また、代表的に示されるセンスアンプ
SA1は、特に制限されないが、pチャンネル型MOS
トランジスタQp1とnチャンネル型MOSトランジス
タQn11とが直列接続されて成るインバータと、pチ
ャンネル型MOSトランジスタQp2とnチャンネル型
MOSトランジスタQn12とが直接接続されて成るイ
ンバータとが結合されてなり、シェアードMOS71,
72又は81,82がオンされることによって選択され
た相補データ線の信号レベルが、このセンスアンプで増
幅されるようになっている。他のセンスアンプSA2〜
SA4も上記と同一構成とされるので、その詳細な説明
は省略する。
The data line selection signal YS formed based on the output signal of the column decoder 17 is transferred to the transfer MO.
The input is made in S101 to S108. The transfer MOSs 101 to 108 are so-called column selection switches.
By 108, complementary data lines are selectively coupled to common I / O lines. Memory cell array AR
Y0 and ARY1 are shared MOS 71 to 78, 81
Separated by ~ 88. By asserting the shared signal SHR0 or SHR1 to a high level,
The memory cell array ARY0 or ARY1 is selectively coupled to the sense amplifiers SA1 to SA4. Here, the high level of the shared signals SHR0 and SHR1 is a boosted potential like the word line WL of the memory cell, and is not particularly limited, but the high potential side power supply V
It is set higher than cc by about 1.5 volts. In this way, the high level of the shared signals SHR0 and SHR1 is set higher than the high-potential-side power supply Vcc in the shared MOSs 71 to 78 and 81 to 88 because the write potential to the memory cell is caused by the threshold value. This is to prevent the deterioration. The sense amplifier SA1 shown as a representative is not particularly limited, but is a p-channel type MOS.
An inverter formed by connecting a transistor Qp1 and an n-channel type MOS transistor Qn11 in series and an inverter formed by directly connecting a p-channel type MOS transistor Qp2 and an n-channel type MOS transistor Qn12 are combined to form a shared MOS 71,
The signal level of the complementary data line selected by turning on 72 or 81, 82 is adapted to be amplified by this sense amplifier. Other sense amplifiers SA2
The SA4 also has the same configuration as that described above, and thus detailed description thereof will be omitted.

【0021】尚、他のメモリセルアレイに対応する直接
周辺回路も上記と同一構成とされる。
The direct peripheral circuits corresponding to other memory cell arrays have the same structure as above.

【0022】図5にはメモリセルアレイARY0の構成
例が代表的に示される。
FIG. 5 representatively shows a configuration example of the memory cell array ARY0.

【0023】代表的に示されるメモリセルアレイARY
0は、いわゆる1トランジスタ型構成であり、電荷蓄積
容量91とnチャンネル型MOSトランジスタ92とが
直列接続されて成る。WL0〜WL3はワード線であ
り、このワード線が選択レベルに駆動されることによっ
て、それに結合されたメモリセルへのデータ書込み若し
くはデータ読出しが可能とされる。BL,BL*は相補
データ線であり、この相補データ線BL,BL*には複
数のメモリセルが結合され、この相補データ線を介して
当該メモリセルへのデータ書込み、及びデータ読出しが
可能とされる。また、この相補データ線BL,BL*に
は、nチャンネル型MOSトランジスタ93〜95が結
合されて成るプリチャージ回路PCMOSが結合され、
プリチャージ制御信号PCがハイレベルにアサートされ
るタイミングで、相補データ線BL,BL*が、Vcc
/2(電源電圧Vccの1/2のレベル)にプリチャー
ジされるようになっている。
Representative memory cell array ARY
0 is a so-called 1-transistor type configuration, which is composed of a charge storage capacitor 91 and an n-channel MOS transistor 92 connected in series. WL0 to WL3 are word lines, and when this word line is driven to the selection level, data writing or data reading to the memory cell coupled thereto can be performed. BL and BL * are complementary data lines, and a plurality of memory cells are coupled to the complementary data lines BL and BL *, and data can be written to and read from the memory cells via the complementary data lines. To be done. Further, a precharge circuit PCMOS including n-channel MOS transistors 93 to 95 is coupled to the complementary data lines BL and BL *,
At the timing when the precharge control signal PC is asserted to the high level, the complementary data lines BL and BL * become Vcc.
It is designed to be precharged to / 2 (1/2 level of the power supply voltage Vcc).

【0024】図6には、カラムデコード信号に基づいて
データ線選択YSを生成するための回路構成例が示され
る。
FIG. 6 shows a circuit configuration example for generating the data line selection YS based on the column decode signal.

【0025】高電位側電源Vccを昇圧するための昇圧
回路121によって生成された高電圧Vchが、pチャ
ンネル型MOSトランジスタ111,112,113に
印加されるようになっている。pチャンネル型MOSト
ランジスタ111に、nチャンネル型MOSトランジス
タ110が直列接続されることによってインバータが形
成される。このインバータの出力がデータ線選択信号Y
Sとされる。pチャンネル型MOSトランジスタ111
がオフされることによってデータ線選択信号YSがロー
レベルとされるが、このときpチャンネル型MOSトラ
ンジスタ111を十分にオフさせるため、このpチャン
ネル型MOSトランジスタ111のゲート電極に高電圧
Vchを印加するためのpチャンネル型MOSトランジ
スタ112,113が設けられている。すなわち、カラ
ムアドレスストローブ信号CAS*に基づいて生成され
るカラム系制御信号がローレベルのとき、pチャンネル
型MOSトランジスタ113がオンされることによって
高電圧Vchがpチャンネル型MOSトランジスタ11
1のゲート電極に印加される。そしてこのとき、データ
線選択信号YSがローレベルとなり、それがpチャンネ
ル型MOSトランジスタ112にフェードバックされる
ことによってその状態が保持されるようになっている。
カラムデコード信号の一部を反転させるためのインバー
タ116が設けられ、このインバータ116の出力端子
がnチャンネル型MOSトランジスタ114を介して上
記MOSトランジスタ110,111のゲート電極に結
合されている。カラムデコード信号によって制御される
nチャンネル型MOSトランジスタ119,120が互
いに直列接続され、それの負荷としてpチャンネル型M
OSトランジスタ117,118が設けられる。カラム
系制御信号がハイレベルにアサートされている状態で、
カラムデコード信号によってnチャンネル型MOSトラ
ンジスタ119,120がオンされた場合には、インバ
ータ115の出力論理状態がハイレベルとされ、nチャ
ンネル型MOSトランジスタ114がオンされることに
よって、データ線選択信号YSはハイレベルとされる。
そしてメインアンプ(MA)が起動された後に、nチャ
ンネル型MOSトランジスタ114が、オフ状態とされ
ることによって、データ線選択信号YSがローレベルに
される。
The high voltage Vch generated by the booster circuit 121 for boosting the high-potential-side power supply Vcc is applied to the p-channel type MOS transistors 111, 112, 113. An inverter is formed by connecting the n-channel MOS transistor 110 in series to the p-channel MOS transistor 111. The output of this inverter is the data line selection signal Y
S. p-channel type MOS transistor 111
Is turned off, the data line selection signal YS is set to a low level. At this time, in order to sufficiently turn off the p-channel type MOS transistor 111, a high voltage Vch is applied to the gate electrode of this p-channel type MOS transistor 111. P-channel MOS transistors 112 and 113 are provided for this purpose. That is, when the column control signal generated based on the column address strobe signal CAS * is at the low level, the p-channel MOS transistor 113 is turned on so that the high voltage Vch changes to the p-channel MOS transistor 11.
1 to the gate electrode. At this time, the data line selection signal YS becomes low level, and the data line selection signal YS is faded back to the p-channel type MOS transistor 112, so that the state is maintained.
An inverter 116 for inverting a part of the column decode signal is provided, and the output terminal of the inverter 116 is coupled to the gate electrodes of the MOS transistors 110 and 111 via the n-channel MOS transistor 114. The n-channel type MOS transistors 119 and 120 controlled by the column decode signal are connected in series with each other, and a p-channel type M transistor is used as a load thereof.
OS transistors 117 and 118 are provided. While the column control signal is asserted to high level,
When the n-channel MOS transistors 119 and 120 are turned on by the column decode signal, the output logic state of the inverter 115 is set to the high level, and the n-channel MOS transistor 114 is turned on, so that the data line selection signal YS. Is a high level.
Then, after the main amplifier (MA) is activated, the n-channel MOS transistor 114 is turned off, so that the data line selection signal YS is set to the low level.

【0026】次に、図2に示される従来構成との比較に
おいて本実施例回路の動作を説明する。
Next, the operation of the circuit of this embodiment will be described in comparison with the conventional configuration shown in FIG.

【0027】図2に示される従来メモリでは、入出力選
択回路2〜5が設けられ、アドレスY8,Y9の組合せ
に応じて、入出力回路の選択が行われるようになってい
る。一つのアレイから選択された4つのデータはメイン
アンプでの増幅時にカラムアドレスY8、Y9によるメ
インアンプ制御にて、当該4つのデータから一つが選択
される。データ書込みにおいても、一つのアレイあたり
同時選択される4つのデータ線に対し、カラムアドレス
Y8、Y9で選択された書込み用バッファにより1ビッ
トにのみ書込まれる。これに対し、本実施例装置のアレ
イ構成では、カラムアドレスY8、Y9をアレイ選択に
もちいる方式としており、データの書込み(読出し)時
にはARY0〜ARY7のうち、一つのメモリセルアレ
イが選択されて4ビットのデータが出力され、それぞれ
メインアンプにて増幅され各入出力ピンに伝達され、ま
た、選択された4ビットがそれぞれの書込み用バッファ
によって書込まれる。
In the conventional memory shown in FIG. 2, input / output selection circuits 2 to 5 are provided, and the input / output circuit is selected according to the combination of the addresses Y8 and Y9. The four data selected from one array are selected from the four data by the main amplifier control by the column addresses Y8 and Y9 during amplification by the main amplifier. Also in data writing, only one bit is written to the four data lines simultaneously selected for one array by the write buffer selected by the column addresses Y8 and Y9. On the other hand, in the array configuration of the device of the present embodiment, the column addresses Y8 and Y9 are used for array selection, and when writing (reading) data, one memory cell array of ARY0 to ARY7 is selected. Bit data is output, amplified by each main amplifier, transmitted to each input / output pin, and the selected 4 bits are written by each write buffer.

【0028】すなわち、従来方式では、一本のデータ選
択信号YSにより同時選択される4データ線のうち実際
に書込むのは1ビットのみであるため、例えばコモンI
/O1のみ書込む場合、他のコモンI/Oは電源電位に
プリチャージされており、センスアンプSA2〜SA4
に接続されたデータ線が再書込みのためそれぞれセンス
アンプにて増幅されるが、I/OトランスファーMOS
T101〜108がオンされているため、ローレベル側
のデータ線のセンスアンプ引き抜きMOS(例えばQn
12)と、ハイレベルにプリチャージされているコモン
I/O線につながるトランスファMOS101はお互い
に引き合うこととなる。このため、従来方式では、トラ
ンスファーMOS101の相互コンダクタンスgmを、
Qn12より下げておく必要があり、且つ、書込みデー
タ線のセンスアンプを書込み用バッファ(W.B)の駆
動力で反転させる必要があるが、本実施例では、一つの
カラム選択制御によって同時に選択される複数のデータ
線の数に対応して入出力回路が設けられ、同時選択され
たデータ線が全て書き換えられるため、I/Oトランス
ファーMOSとセンスアンプSAの相互コンダクタンス
gmを気にする必要がなく、高速書込みのためにI/O
トランスファーMOSのゲート入力を昇圧電位として書
込み用バッファにてフル書込みさせることができる。
That is, in the conventional method, only one bit is actually written in the four data lines simultaneously selected by one data selection signal YS.
When only / O1 is written, the other common I / Os are precharged to the power supply potential and the sense amplifiers SA2 to SA4
The data line connected to the I / O transfer MOS is amplified by the sense amplifier for rewriting.
Since T101 to 108 are turned on, the sense amplifier pull-out MOS (for example, Qn
12) and the transfer MOS 101 connected to the common I / O line precharged to the high level attract each other. Therefore, in the conventional method, the mutual conductance gm of the transfer MOS 101 is
It is necessary to lower than Qn12, and it is necessary to invert the sense amplifier of the write data line by the driving force of the write buffer (WB), but in this embodiment, one column selection control is performed to select simultaneously. Since the input / output circuits are provided corresponding to the number of the plurality of data lines to be written and all the simultaneously selected data lines are rewritten, it is necessary to pay attention to the mutual conductance gm of the I / O transfer MOS and the sense amplifier SA. I / O for high speed writing
The gate input of the transfer MOS can be used as a boosted potential for full writing in the write buffer.

【0029】上記のように本実施例によれば、センスア
ンプによる旧デ−タに対し、駆動力の十分大きい書き込
み用バッファ(WB)にて書き込めるため、書き込みサ
イクルを高速化することができる。特に、カラムアドレ
スを連続して書換えるシンクロナスDRAM等のページ
モードに特に有効である。
As described above, according to the present embodiment, the old data by the sense amplifier can be written by the write buffer (WB) having a sufficiently large driving force, so that the write cycle can be speeded up. In particular, it is particularly effective for a page mode of a synchronous DRAM or the like in which column addresses are continuously rewritten.

【0030】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに制限
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and needless to say, various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0031】例えば、図中ではメモリセルアレイに隣接
してデータ線プリチャージ用のプリチャージ回路(PC
MOS)が配置されているが、このプリチャージ回路P
CMOSもセンスアンプ同様シェアードMOS間に配置
し、2つのメモリセルアレイ間で共有できることは言う
までもない。
For example, in the figure, a precharge circuit (PC) for precharging a data line is provided adjacent to a memory cell array.
MOS) is arranged, but this precharge circuit P
Needless to say, the CMOS can be shared between the two memory cell arrays by arranging the CMOS between the shared MOSs like the sense amplifier.

【0032】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるシンク
ロナスDRAMに適用した場合について説明したが、本
発明はそれに限定されるものではなく、DRAM全般に
適用することができる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the synchronous DRAM which is the background field of application has been described, but the present invention is not limited thereto and DRAM in general. Can be applied to.

【0033】本発明は、少なくともメモリセルに結合さ
れたデータ線を選択的的にコモンデータ線に結合させる
ことを条件に適用することができる。
The present invention can be applied on condition that at least the data line coupled to the memory cell is selectively coupled to the common data line.

【0034】[0034]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0035】すなわち、メモリセルに結合されたデータ
線を、カラムアドレスに応じて選択的にコモンデータ線
に結合させるための電界効果トランジスタの駆動に、内
部電源電圧を昇圧することによって得られた高電圧を使
用することにより、当該電界効果トランジスタの相互コ
ンダクタンスを上げ、しきい値分のレベル低下を阻止す
ることができ、それによって、データの読出し、書込み
サイクルの高速化を図ることができる。また、一つのカ
ラム選択制御によって一つのメモリセルマットから同時
に選択される複数のデータ線が、互いに異なるI/Oに
割り当てられ、当該同時に選択されたデータ線の全てを
書換え可能に構成されることによって、センスアンプの
駆動力に対して書込み用バッファの駆動力を上げること
ができ、そして、センスアンプによる増幅を待つことな
しに書込み用データの入出力が可能とされるので、書込
み動作の高速化を図ることができる。
That is, a high voltage obtained by boosting the internal power supply voltage is used to drive the field effect transistor for selectively coupling the data line coupled to the memory cell to the common data line according to the column address. By using the voltage, it is possible to increase the transconductance of the field-effect transistor and prevent the level from being reduced by the threshold value, thereby speeding up the data read / write cycle. Also, a plurality of data lines simultaneously selected from one memory cell mat by one column selection control are assigned to different I / Os, and all of the simultaneously selected data lines are rewritable. The drive power of the write buffer can be increased with respect to the drive power of the sense amplifier, and the write data can be input / output without waiting for amplification by the sense amplifier. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るDRAMのアレイ構成
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of an array configuration of a DRAM according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図2】従来のDRAMのアレイ構成ブロック図であ
る。
FIG. 2 is a block diagram of an array configuration of a conventional DRAM.

【図3】上記実施例における入出回路の構成例ブロック
図である。
FIG. 3 is a block diagram of a configuration example of an input / output circuit in the above embodiment.

【図4】上記実施例におけるカラム直接周辺回路の構成
例回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a configuration example of a column direct peripheral circuit in the above embodiment.

【図5】上記実施例におけるメモリセルの構成例回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a configuration example of a memory cell in the above embodiment.

【図6】上記実施例において高電圧を用いてデータ選択
信号を生成する回路の構成回路図である。
FIG. 6 is a configuration circuit diagram of a circuit that generates a data selection signal by using a high voltage in the above embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11〜14 入出力制御回路 17 カラムデコーダ 21〜24 入出力回路 31〜34 入出力回路 41〜44 入出力回路 51〜54 入出力回路 60〜67 ロウデコーダ 71〜78 シェアードMOS 81〜81 シェアードMOS 91 メモリセルを形成するための電荷蓄積容量 101〜108 トランスファMOS 121昇圧回路 SA1〜SA4 センスアンプ PCMOS プリチャージ回路 MA メインアンプ WB 書込み用バッファ WL0〜WL3 ワード線 BL,BL* 相補データ線 11-14 Input / output control circuit 17 Column decoder 21-24 Input / output circuit 31-34 Input / output circuit 41-44 Input / output circuit 51-54 Input / output circuit 60-67 Row decoder 71-78 Shared MOS 81-81 Shared MOS 91 Charge storage capacitors 101 to 108 for forming a memory cell Transfer MOS 121 Booster circuit SA1 to SA4 Sense amplifier PCMOS precharge circuit MA Main amplifier WB Write buffer WL0 to WL3 Word line BL, BL * Complementary data line

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルに結合されたデータ線を、カ
ラムアドレスに応じて選択的にコモンデータ線に結合さ
せるための電界効果トランジスタを含むカラム系をカラ
ムアドレスに基づいて駆動するためのカラム系駆動方式
において、内部電源電圧を昇圧することによって得られ
た高電圧によって上記電界効果トランジスタを駆動する
ことを特徴とするカラム系駆動方式。
1. A column system for driving a column system including a field effect transistor for selectively coupling a data line coupled to a memory cell to a common data line according to a column address, based on the column address. In the driving method, the field-effect transistor is driven by a high voltage obtained by boosting an internal power supply voltage.
【請求項2】 メモリセルに結合されたデータ線を選択
的的にコモンデータ線に結合させるための電界効果トラ
ンジスタを有し、カラムアドレスに基づいてこの電界効
果トランジスタを制御することによって、メモリセルデ
ータのリードライトを可能にす半導体記憶装置におい
て、内部電源電圧を昇圧することによって高電圧を生成
するための昇圧回路と、この昇圧回路によって得られた
高電圧を使用して上記電界効果トランジスタを駆動する
ための駆動回路とを含むことを特徴とする半導体記憶装
置。
2. A memory cell having a field effect transistor for selectively coupling a data line coupled to a memory cell to a common data line, and controlling the field effect transistor based on a column address. In a semiconductor memory device capable of reading and writing data, a booster circuit for generating a high voltage by boosting an internal power supply voltage, and the field effect transistor using the high voltage obtained by the booster circuit A semiconductor memory device comprising: a drive circuit for driving.
【請求項3】 一つのカラム選択制御によって一つのメ
モリセルマットから同時に選択される複数のデータ線
が、互いに異なるI/Oに割り当てられることによっ
て、当該同時に選択されたデータ線の全てを書換え可能
に構成された請求項2記載の半導体記憶装置。
3. A plurality of data lines simultaneously selected from one memory cell mat by one column selection control are assigned to different I / Os so that all of the simultaneously selected data lines can be rewritten. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device is configured as described above.
【請求項4】 上記電界効果トランジスタは、nチャン
ネル型MOSトランジスタとされた請求項2又は3記載
の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the field effect transistor is an n-channel MOS transistor.
JP5118133A 1993-05-20 1993-05-20 Column system driving method and semiconductor memory Pending JPH06333389A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08190788A (en) * 1994-10-13 1996-07-23 Lg Semicon Co Ltd Word-line drive circuit of memory
US7339850B2 (en) 2004-07-13 2008-03-04 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory device allowing high-speed data reading
US7859914B2 (en) 2007-04-03 2010-12-28 Spansion Llc Non-volatile memory device, non-volatile memory system and control method for the non-volatile memory device in which driving ability of a selector transistor is varied

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