JPH11140083A - ベンゾフラン誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有害雑草に対して優れた除草効果を有すると
ともに作物に安全性が高い除草剤を提供する。 【解決手段】 一般式［１］ （式中、Ａは一般式 等で示される基を表し、上記式中、Ｒ^１は水素原子、ア
ルキル基等を表し、Ｒ^２はメチル基又はアミノ基等を表
し、Ｘ及びＹはハロゲン原子等を表す。Ｂは置換されて
いてもよいアルキル基、置換されていてもよい２−アル
ケニル基等を表す。）で示されるベンゾフラン誘導体及
びこれを有効成分とする除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なベンゾフラン
誘導体及びそれを有効成分とする除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平５−２６２７６５号公報明細書、
特開平５−２５１６５号公報明細書にはある種のベンゾ
フラン誘導体が、特開昭６３−１５６７８７号公報明細
書にはある種のベンゾピラン誘導体及びベンゾフラン誘
導体が、さらにヨーロッパ特許６２６９６２号公報明細
書にはベンゾチオフェン誘導体及びベンゾフラン誘導体
が除草剤の有効成分として用いられることが記載されて
いる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】有用作物に対して使用
される除草剤は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分
な除草効果を示し、しかも、作物・雑草間の選択性を発
揮する薬剤であることが望まれる。しかしながら、土壌
処理に限らず、除草効果と作物・雑草間の選択性は、土
壌の性質に影響され、施用後に作物に薬害を生ずること
がある。これらの点で、上記特許明細書記載の化合物は
必ずしも満足すべきものとは言い難い。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な状
況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性を検討した
結果、新規なベンゾフラン誘導体（以下、本発明化合物
という）が、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を
有することを見いだし、本発明を完成した。すなわち、
本発明は一般式［１］

【０００５】

【化５】 ［式中、Ａは一般式

【０００６】

【化６】 で示される基を表し、上記式中、Ｒ^２は水素原子、メチ
ル基又はアミノ基を表し、Ｒ^３は水素原子又はハロアル
キル基を表し、Ｕは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘは
水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、Ｙはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子又はシアノ基を表し、Ｒ^１は
水素原子、アルキル基、アシル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を
表し、Ｂは一般式

【０００７】

【化７】 で示される基を表し、上記式中、Ｒ^４及びＲ^５は同一又
は相異なり、水素原子もしくはアルキル基を表すか、あ
るいは、Ｒ^４及びＲ^５は一緒になって３〜６員炭素環を
形成してもよく、Ｒ^６は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシ
ル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はシ
アノ基を表し、Ｒ^７は水素原子、アルキル基、ハロアル
キル基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル
基、アルキルスルホニルアルキル基又はハロゲン原子を
表し、Ｒ^８は水素原子又はアルキル基を表すか、あるい
は、Ｒ^７及びＲ^８は一緒になって３〜６員炭素環を形成
してもよい。

【０００８】Ｅはアシル基、シクロアルキルカルボニル
基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシアルキルカ
ルボニル基、アルキルチオアルキルカルボニル基、アル
キルスルホニルアルキルカルボニル基、アルキルチオカ
ルボニル基、シアノ基、窒素原子に同一又は相異なる水
素原子又はアルキル基が置換したカルバモイル基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキ
シカルボニル基、アルキニルオキシカルボニル基、シク
ロアルキルアルコキシカルボニル基又はニトロ基を表
し、Ｇはアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスル
ホニル基、アシル基、シクロアルキルカルボニル基、ハ
ロアルキルカルボニル基、アルコキシアルキルカルボニ
ル基、アルキルチオアルキルカルボニル基、アルキルス
ルホニルアルキルカルボニル基、アルキルチオカルボニ
ル基、シアノ基、窒素原子に同一又は相異なる水素原子
又はアルキル基が置換したカルバモイル基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカル
ボニル基、アルキニルオキシカルボニル基、シクロアル
キルアルコキシカルボニル基又はニトロ基を表し、Ｊは
アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、シクロアル
キルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコ
キシアルキルカルボニル基、アルキルチオアルキルカル
ボニル基、アルキルスルホニルアルキルカルボニル基、
アルキルチオカルボニル基、シアノ基、窒素原子に同一
又は相異なる水素原子又はアルキル基が置換したカルバ
モイル基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基
を表す。ただし、Ｇ及びＪが同一又は相異なり、アルコ
キシ基又はアルキルチオ基の場合、Ｒ^７は水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
ルキルチオアルキル基又はアルキルスルホニルアルキル
基を表し、Ｌは水素原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチ
オ基、アルキルスルホニル基、シアノ基、アシル基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原
子を表し、Ｑはハロアルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、ジアルキルアミノ基又はハロ
ゲン原子を表す。

【０００９】あるいは、Ｇ及びＪ、又はＬ及びＱは一緒
になって５〜８員環を形成してもよい。

【００１０】Ｒ^９及びＲ^１０は同一又は相異なり、水素
原子、アルキル基、水酸基又はアミノ基を表し、Ｗは酸
素原子、硫黄原子又は基−Ｎ（Ｒ^１１）−を表し、Ｒ
^１１は水素原子又はアルキル基を表す。］で示されるベ
ンゾフラン誘導体及びこれを有効成分として含有する除
草剤を提供するものである。さらに、一般式［１］で示
される本発明化合物を製造する際に重要な中間体となり
得る一般式［２］

【００１１】

【化８】 （式中、Ａ’はニトロ基又はアミノ基を表し、Ｂ、Ｘ、
Ｙ、Ｒ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）で示され
るベンゾフラン誘導体もまた新規化合物であり、本発明
に含まれる。

【００１２】なお、本明細書において、アルキル基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルコキシアル
キル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルホニル
アルキル基、アルコキシアルキルカルボニル基、アルキ
ルチオアルキルカルボニル基、アルキルスルホニルアル
キルカルボニル基、アルキルチオカルボニル基及びジア
ルキルアミノ基の「アルキル」とは、炭素数１〜６の直
鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３，３−ジメチ
ルブチル基等を挙げることができる。

【００１３】ハロアルキル基及びハロアルキルカルボニ
ル基の「ハロアルキル」とは、ハロゲン原子によって置
換された炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基
を示し、例えばクロロメチル基、ジフルオロメチル基、
トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等を挙
げることができる。

【００１４】ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、
臭素原子又はヨウ素原子を示す。

【００１５】アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルコキシアルキル基及びアルコキシアルキルカルボニ
ル基の「アルコキシ」とは、炭素数１〜６の直鎖又は分
岐鎖状のアルコキシ基を示し、例えばメトキシ基、エト
キシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−
ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキ
シ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、
イソヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基等
を挙げることができる。

【００１６】アシル基とは、炭素数１〜６の直鎖又は分
岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基
等を挙げることができる。

【００１７】シクロアルキルカルボニル基の「シクロア
ルキル」とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基を示
し、例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等を挙
げることができる。

【００１８】アルケニルオキシカルボニル基の「アルケ
ニル」とは、炭素数２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルケ
ニル基を示し、例えばビニル基、プロペニル基、イソプ
ロペニル基、ブテニル基、 ペンテニル基、ヘキセニル
基等を挙げることができる。

【００１９】アルキニルオキシカルボニル基の「アルキ
ニル」とは、炭素数２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキ
ニル基を示し、例えばエチニル基、プロピニル基、ブチ
ニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、３，３−ジメチ
ル−１−ブチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、
３−メチル−１−ペンチニル基等を挙げることができ
る。

【００２０】シクロアルキルアルコキシカルボニル基と
は、例えばシクロプロピルメトキシカルボニル基、シク
ロヘキシルメトキシカルボニル基等を挙げることができ
る。

【００２１】Ｇ及びＪ、又はＬ及びＱが一緒になって形
成する５〜８員環とは、例えば以下に示す環を表す。

【００２２】

【化９】 （式中、Ｒ及びＴは同一又は相異なり、酸素原子、硫黄
原子又はカルボニル基を表す。）

【００２３】

【発明の実施の形態】次に、本発明化合物の具体例を表
１〜表２２に記載する。しかしながら、本発明化合物は
これらの化合物に限定されるものではない。なお、化合
物番号は以後の記載において参照される。

【００２４】また、化合物番号１−８７及び化合物番号
１−８８はそれぞれジアステレオマーの関係にあり、シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー（順相）で前者は極性
の低いものであり、後者はより極性の高いものである。
特に明記して無いものはジアステレオマー混合物を表
す。また、二重結合に関して（Ｚ）とはＺ体を、（Ｅ）
とはＥ体をそれぞれ表し、特に明記して無いものはＥＺ
混合物を表す。

【００２５】また、カルボニル基を含む化合物のあるも
のには、ケト−エノール互変異性体が存在するが、これ
らの記載にはケト異性体の構造を用いた。

【００２６】

【表１】

【００２７】

【表２】

【００２８】

【表３】

【００２９】

【表４】

【００３０】

【表５】

【００３１】

【表６】

【００３２】

【表７】

【００３３】

【表８】

【００３４】

【表９】

【００３５】

【表１０】

【００３６】

【表１１】

【００３７】

【表１２】

【００３８】

【表１３】

【００３９】

【表１４】

【００４０】

【表１５】

【００４１】

【表１６】

【００４２】

【表１７】

【００４３】

【表１８】

【００４４】

【表１９】

【００４５】

【表２０】

【００４６】

【表２１】

【００４７】

【表２２】

【００４８】本発明化合物は、例えば以下に示す製造法
に従って製造することができる。しかし、その製造法は
これらの方法に限定されるものではない。

【００４９】＜製造法１＞一般式［１］で示される化合
物中、Ａが［Ａ−１］でＲ^２が水素原子又はメチル基で
ある本発明化合物（Ｃ−５）は以下のようにして製造す
ることができる。

【００５０】

【化１０】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ
^１２はカルボキシル基以外のＲ^１を表し、Ｂ^１は前記記
載のＥ、Ｇ、Ｊ、Ｌ並びにＱがカルボキシル基及びアル
キルチオカルボニル基以外のＢを表し、Ｒ^１３はアルキ
ル基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されて
いてもよいベンジル基を表し、Ｒ^１４は水素原子又はメ
チル基を表し、Ｌはハロゲン等の脱離基を表す。）。

【００５１】本発明化合物（Ｃ−１）を特開平５−２５
１６５号公報明細書に記載された方法に準じ、例えばク
ロロ炭酸フェニル等のＲ^１３Ｏ−ＣＯ−Ｌで示される化
合物と反応させることにより、化合物（Ｃ−２）とする
か、本発明化合物（Ｃ−１）にホスゲン等を反応させて
化合物（Ｃ−３）とした後、これらの化合物をそれぞれ
塩基存在下、化合物（Ｃ−４）と反応させて得られる生
成物を酸処理することにより目的の本発明化合物（Ｃ−
５）を製造することができる。

【００５２】化合物（Ｃ−２）の製造は通常、溶媒中で
塩基の存在下、反応温度０〜１２０℃、好ましくは２０
〜８０℃で０．５〜２４時間反応させる。反応に供され
る試剤の量は本発明化合物（Ｃ−１）１当量に対してＲ
^１３Ｏ−ＣＯ−Ｌで示される化合物は１〜２当量、塩基
は１〜１．５当量である。塩基としては、炭酸カリウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウン
デセン、ピリジン等の有機塩基が挙げられる。溶媒とし
てはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル
又はそれらの混合物が挙げられる。

【００５３】化合物（Ｃ−３）の製造は通常、塩基の存
在下にて溶媒中、反応温度０〜１２０℃、好ましくは２
０〜１００℃で０．５〜２４時間反応させる。反応に供
される試剤の量は本発明化合物（Ｃ−１）１当量に対し
てホスゲン等は２〜１０当量、塩基は１〜１．５当量で
ある。溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類又はそれらの混合物が挙げられる。

【００５４】化合物（Ｃ−２）から本発明化合物（Ｃ−
５）の製造は通常、溶媒中で塩基の存在下、反応温度０
〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で０．５〜２４
時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物（Ｃ
−２）１当量に対して化合物（Ｃ−４）１〜１０当量、
塩基は１〜１０当量である。塩基としては、水素化カリ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基
が挙げられる。溶媒としてはジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化
水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、ア
セトニトリル又はそれらの混合物が挙げられる。

【００５５】化合物（Ｃ−３）から本発明化合物（Ｃ−
５）の製造は通常、溶媒中で塩基の存在下、反応温度０
〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で０．５〜２４
時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物（Ｃ
−３）１当量に対して化合物（Ｃ−４）１〜１０当量、
塩基は１〜１０当量である。塩基としては、水素化カリ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基
が挙げられる。溶媒としてはジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化
水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物又は
それらの混合物が挙げられる。

【００５６】本発明化合物（Ｃ−１）を含む本発明化合
物（Ｄ−９）は以下のようにして製造することができ
る。

【００５７】

【化１１】 （式中、Ｂ、Ｒ^４、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と同じ意味
を表し、Ｒ^１’はアシル基、ハロアルキルカルボニル
基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を表
し、Ｒ^１”は水素原子、アシル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を
表し、Ｘ^１及びＹ^１はそれぞれフッ素原子以外のＸ及び
Ｙを表し、Ｌ^１はハロゲン原子を表し、ＰＮはモノ又は
ジアシルアミノ基、モノ又はジハロアルキルカルボニル
アミノ基、モノ又はジアルキルスルホニルアミノ基、モ
ノ又はジハロアルキルスルホニルアミノ基、又はフタル
イミノ基等の保護基を持つアミノ基を表す。） 化合物（Ｄ−１）又は化合物（Ｄ−２）を対応するアル
キニルアルコールと塩基存在下で反応させることにより
化合物（Ｄ−３）を製造することができる。あるいは、
化合物（Ｄ−１）又は化合物（Ｄ−２）を塩基存在下で
加水分解することにより化合物（Ｄ−４）を製造した
後、プロパルギルアルコール誘導体をアゾ化合物及びト
リフェニルホスフィンの存在下で反応させる公知の方法
（シンセシス Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８１，１−２
８）によるか、又は脱離基を含んだプロパルギル誘導体
とを塩基存在下で縮合させる通常の方法により化合物
（Ｄ−３）を製造することができる。

【００５８】なお、例えばＸがフッ素原子でＹが塩素原
子又は臭素原子である化合物〔（Ｄ−１）に相当〕は、
例えば２，６−ジフルオロアニリンをＮ−クロロコハク
酸イミド（ＮＣＳ）又はＮ−ブロモコハク酸イミド（Ｎ
ＢＳ）等のハロゲン化剤によりフェニル環の４位を塩素
化又は臭素化した後、例えばメタクロロ過安息香酸等の
酸化剤で酸化することにより製造することができる。

【００５９】例えばＸがフッ素原子でＹがシアノ基であ
る化合物〔（Ｄ−１）に相当〕は、２，６−ジフルオロ
−４−シアノアニリンを例えばメタクロロ過安息香酸等
の酸化剤で酸化することにより製造することができる。

【００６０】次に、得られた化合物（Ｄ−３）を例えば
ジエチルアニリン等の溶媒中、フッ化セシウム等の塩基
存在下で環化させることにより化合物（Ｄ−５）を製造
した後、溶媒中、触媒の存在下又は非存在下、ハロゲン
化剤と反応させることにより化合物（Ｄ−６）を製造す
ることができる。

【００６１】次に、化合物（Ｄ−６）を以後に述べる製
造法（製造法４〜製造法１３）又は従来知られている種
々の方法等に準じて本発明化合物（Ｄ−７）に変換し、
さらにベンゾフラン環３位へ、例えばジクロロメタン溶
媒中、ジクロロメチルアルキルエーテルを二塩化スズ等
のルイス酸存在下で反応させる公知の方法［実験化学講
座（第４版）、第２１巻、第１１０頁］あるいは、例え
ばニトロメタン溶媒中、Ｒ^１５ＣＯＣｌ（式中、Ｒ^１５
はアシル基又はハロアルキルカルボニル基を表す。）を
塩化アルミニウム等のルイス酸存在下で反応させるフリ
ーデルクラフツ反応等の方法でアシル基及びハロアルキ
ルカルボニル基を、さらに導入されたホルミル基から例
えばアセトン溶媒中、ジョーンズ試薬（三酸化クロム、
硫酸及び水の混合溶液；オルガニック・シンセセス Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ ｃｏｌ．ｖｏｌ．
１参照）等の酸化剤で酸化する方法でカルボキシル基
を、さらにカルボキシル基を例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の溶媒中、炭酸カリウム等の塩基存在下、
アルキルハライドと反応する方法等でアルコキシカルボ
ニル基を導入した本発明化合物（Ｄ−８）を製造した
後、最後に本発明化合物（Ｄ−８）のニトロ基を例えば
酢酸触媒存在下で、トルエン−水の混合溶媒中、鉄粉還
元することにより本発明化合物（Ｄ−９）を製造するこ
とができる。

【００６２】また、化合物（Ｄ−３）を例えば酢酸触媒
存在下で、トルエン−水の混合溶媒中、鉄粉還元するこ
とにより化合物（Ｄ−１０）を製造した後、窒素原子を
保護基で保護することにより化合物（Ｄ−１１）を製造
し、例えばジエチルアニリン等の溶媒中、フッ化セシウ
ム等の塩基存在下で環化させることにより化合物（Ｄ−
１２）を製造することができる。

【００６３】次に、化合物（Ｄ−１２）を溶媒中、触媒
の存在下又は非存在下、ハロゲン化剤と反応させること
により化合物（Ｄ−１３）を製造した後、以後に述べる
製造法（製造法４〜製造法１３）又は従来知られている
種々の方法等に準じて化合物（Ｄ−１４）に変換し、さ
らにベンゾフラン環３位へ、ジクロロメチルアルキルエ
ーテルをルイス酸存在下で反応させる公知の方法［実験
化学講座（第４版）、第２１巻、第１１０頁］あるい
は、Ｒ^１５ＣＯＣｌ（式中、Ｒ^１５は前記と同じ意味を
表す。）をルイス酸存在下で反応させるフリーデルクラ
フツ反応等の方法でアシル基及びハロアルキルカルボニ
ル基を、さらに導入されたホルミル基から例えばジョー
ンズ試薬（三酸化クロム、硫酸及び水の混合溶液；オル
ガニック・シンセセズ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｅｓ ｃｏｌ．ｖｏｌ．１参照）等の酸化剤で酸化す
る方法でカルボキシル基を、さらにカルボキシル基を塩
基存在下、アルキルハライドと反応する方法等でアルコ
キシカルボニル基を導入した化合物（Ｄ−１５）を製造
した後、最後に、化合物（Ｄ−１５）の保護基を取り除
くことにより本発明化合物（Ｄ−９）を製造することが
できる。

【００６４】化合物（Ｄ−５）から化合物（Ｄ−６）、
又は化合物（Ｄ−１２）から化合物（Ｄ−１３）の製造
は通常、溶媒中、触媒の存在下又は非存在下で、反応温
度０〜１５０℃、好ましくは３０〜１００℃で０．５〜
２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物
（Ｄ−５）あるいは化合物（Ｄ−１２）１当量に対して
ハロゲン化剤は１〜１０当量であり、触媒は０．０１〜
０．５当量である。ハロゲン化剤としては臭素、塩素等
のハロゲン、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のＮ−ハロコ
ハク酸イミド、過臭化ピリジニウム等のピリジン塩等が
挙げられる。溶媒としてはクロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素類、ギ酸、酢酸等のカルボン酸
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等が挙げ
られる。触媒としては過酸化ベンゾイル、α，α’−ア
ゾビスイソブチロニトリル又はそれらの混合物が挙げら
れる。

【００６５】他の化合物の製造は、溶媒としてはトルエ
ン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のア
ミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化
合物、キノリン、ピリジン等の芳香族含窒素化合物、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
等のアニリン誘導体、酢酸エチル等のエステル類、ニト
ロメタン、アセトニトリル、水又はそれらの混合物が挙
げられる。特に、化合物（Ｄ−３）及び化合物（Ｄ−１
１）の閉環反応についてはＮ，Ｎ−ジエチルアニリンが
好ましい。

【００６６】さらに、アゾ化合物としてはアゾジカルボ
ン酸ジエチルが好ましい。塩基としてはアルカリ金属又
はアルカリ土類金属等の水素化物、水酸化物、炭酸カリ
ウム等の炭酸化合物、炭酸水素化合物又は有機酸塩、フ
ッ化セシウム、フッ化カリウム等のフッ化金属化合物あ
るいはトリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン、ピリジン等の有機塩
基が挙げられる。反応温度は氷温から溶媒の還流温度ま
でで実施できる。

【００６７】保護基Ｐを取り除く方法は、塩基存在下で
の加水分解によるか、あるいは保護基がフタルイミノ基
の場合にはヒドラジンと反応させることによっても取り
除くことができる。

【００６８】前記の本発明化合物（Ｄ−７）又は化合物
（Ｄ−１４）は、前記の化合物（Ｄ−６）又は化合物
（Ｄ−１３）以外の以下の方法ａ又は方法ｂで説明する
化合物からも製造することができる。（方法ａ）

【００６９】

【化１２】 （式中、Ｌ^１、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表
し、Ｒ^１６及びＲ^１６’はそれぞれ同一又は相異なりア
ルキル基を表し、Ａ^１はニトロ基又は前記と同じ意味の
ＰＮを表す。） 化合物（Ｄ−１７）、化合物（Ｄ−１８）、化合物（Ｄ
−２０）、化合物（Ｄ−２１）、化合物（Ｄ−２２）、
化合物（Ｄ−２３）及び化合物（Ｄ−２４）から、以後
に述べる製造法４〜製造法１３又は従来知られている方
法に準じて、本発明化合物（Ｄ−７）又は化合物（Ｄ−
１４）を製造することができる。

【００７０】化合物（Ｄ−１７）は、前記の化合物（Ｄ
−５）又は化合物（Ｄ−１２）中、Ｒ^４がアルキル基で
ある化合物（Ｄ−１６）を四塩化炭素等の溶媒中、過酸
化ベンゾイル又はα，α’−アゾビスイソブチロニトリ
ル等の触媒の存在下又は非存在下、Ｎ−ハロコハク酸イ
ミド等のハロゲン化剤と反応させることにより製造する
ことができる。

【００７１】化合物（Ｄ−２０）は、化合物（Ｄ−１
９）を四塩化炭素等の溶媒中、過酸化ベンゾイル又は
α，α’−アゾビスイソブチロニトリル等の触媒の存在
下又は非存在下、Ｎ−ハロコハク酸イミド等のハロゲン
化剤と反応させることにより製造することができる。

【００７２】化合物（Ｄ−２１）は、化合物（Ｄ−２
０）を酸又は塩基存在下加水分解する方法、あるいは化
合物（Ｄ−６）又は化合物（Ｄ−１３）中、Ｒ^４がアル
キル基である化合物（Ｄ−２５）を、酸もしくは塩基存
在下又は非存在下、加水分解する方法でも製造すること
ができる。

【００７３】化合物（Ｄ−２２）は、化合物（Ｄ−２
１）をテトラヒドロフラン等の溶媒中、アルキルグリニ
ヤール試薬と反応させることにより製造することができ
る。

【００７４】化合物（Ｄ−１８）は、化合物（Ｄ−１
７）を酸もしくは塩基存在下、加水分解するか又は化合
物（Ｄ−２２）を、例えばアセトン溶媒中、ジョーンズ
試薬（三酸化クロム、硫酸及び水の混合溶液；オルガニ
ック・シンセセズ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ
ｓ ｃｏｌ．ｖｏｌ．１参照）等の酸化剤で酸化して製
造することができる。

【００７５】化合物（Ｄ−２３）は、化合物（Ｄ−１
８）から例えば、テトラヒドロフラン等の溶媒中、アル
キルグリニヤール試薬と反応させることにより製造する
ことができる。

【００７６】化合物（Ｄ−２４）は、化合物（Ｄ−２
３）を、例えば酢酸溶媒中、例えば臭化水素でハロゲン
化することにより製造することができる。（方法ｂ）

【００７７】

【化１３】 （式中、Ｒ^４、Ｒ^１６、Ｌ^１、Ａ^１、Ｘ及びＹはそれぞ
れ前記と同じ意味を表す。） 化合物（Ｄ−２６）、化合物（Ｄ−２７）、化合物（Ｄ
−２８）、化合物（Ｄ−２９）及び化合物（Ｄ−３１）
から、以後に述べる製造法４〜製造法１３又は従来知ら
れている方法に準じて、本発明化合物（Ｄ−７）又は化
合物（Ｄ−１４）を製造することができる。

【００７８】化合物（Ｄ−２６）は、前記の化合物（Ｄ
−６）又は化合物（Ｄ−１３）からテトラへドロン・レ
ターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）第
３１５１頁（１９７１年）記載の方法に準じて製造する
ことができる。

【００７９】化合物（Ｄ−２７）は、化合物（Ｄ−６）
又は化合物（Ｄ−１３）をシアノ化する方法により製造
することができる。

【００８０】化合物（Ｄ−２８）は、化合物（Ｄ−２
６）を酸化するか又は化合物（Ｄ−２７）を酸もしくは
塩基存在下、加水分解することにより製造することがで
きる。

【００８１】化合物（Ｄ−２９）は、化合物（Ｄ−２
８）を塩基存在下、アルキルハライドと反応することに
より製造することができる。

【００８２】化合物（Ｄ−３１）は、化合物（Ｄ−２
８）をベンゼン等の溶媒中又は無溶媒で、塩化チオニル
と反応することによって化合物（Ｄ−３０）を製造した
後、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソ
サイアティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第１０
０巻，第３６３６頁（１９７８年）記載の方法に準じて
製造することができる。

【００８３】Ｒ^１２がアルキル基である本発明化合物
（Ｃ−１）は、上記本発明化合物（Ｄ−９）の製造法に
準じて製造することができる以下の化合物（Ｄ−３
９）、化合物（Ｄ−４０）又は化合物（Ｄ−４１）から
製造することができる。

【００８４】

【化１４】 （式中、Ｒ^４、Ｒ^１６、Ｌ^１、ＰＮ、Ａ^１、Ｘ及びＹは
それぞれ前記と同じ意味を表す。） 化合物（Ｄ−３９）は、上記本発明化合物（Ｄ−９）の
製造法に準じて得られる化合物（Ｄ−３３）又は化合物
（Ｄ−３５）を例えばアセトン溶媒中、過剰量のジョー
ンズ試薬（三酸化クロム、硫酸及び水の混合溶液；オル
ガニック・シンセセズ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｅｓ ｃｏｌ．ｖｏｌ．１参照）等の酸化剤で反応さ
せた後、例えば酢酸−水混合溶媒中、加熱することによ
り製造できる化合物（Ｄ−３７）を例えばＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等の溶媒中、炭酸カリウム等の塩基存
在下、Ｌ^１ＣＨ_２ＣＯＲ^４（式中、Ｌ^１及びＲ^４はそれ
ぞれ前記と同じ意味を表す。）と反応させることにより
化合物（Ｄ−３８）を製造し、次に、化合物（Ｄ−３
８）を塩基存在下、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド等の溶媒中、加熱縮合することによって製造するこ
とができる。化合物（Ｄ−４０）は、化合物（Ｄ−３
９）を例えばテトラヒドロフラン溶媒中、ジイソブチル
アルミニウムヒドリド等の還元剤を用いて還元すること
により製造することができる。化合物（Ｄ−４１）は、
化合物（Ｄ−４０）を例えば酢酸溶媒中、臭化水素等の
ハロゲン化剤でハロゲン化することにより製造すること
ができる。

【００８５】Ａが［Ａ−２］である本発明化合物は、本
発明化合物（Ｃ−１）と無水３，４，５，６−テトラヒ
ドロフタル酸とを、適当な温度で融解させるか、又は酢
酸等の不活性溶媒中で反応させることにより製造するこ
とができる。

【００８６】Ａが［Ａ−３］である本発明化合物は、本
発明化合物（Ｃ−１）から製造したイソ（チオ）シアネ
ートに１−（エトキシカルボニル）ピペラジンを処理し
て得られた中間体を適当な塩基（好ましくは水素化ナト
リウム）で処理して環化させるか、又は当該のイソ（チ
オ）シアネートに適当なＮ−（アルコキシカルボニル）
ヒドラジンを処理して得られた中間体を適当な塩基によ
り環化してウラゾールを製造した後、このウラゾールを
二ナトリウム塩とし、１，４−ジブロモブタンと縮合す
ることにより製造することができる。

【００８７】Ａが［Ａ−４］である本発明化合物は、本
発明化合物（Ｃ−１）から製造したイソ（チオ）シアネ
ートに１−（エトキシカルボニル）ピペラジンを処理し
て得られた中間体をチオホスゲンと処理することにより
製造することができる。

【００８８】Ａが［Ａ−５］である本発明化合物は、本
発明化合物（Ｃ−１）をヒドラジンに変換した後、ピル
ビン酸と縮合しヒドラゾンを製造した後、さらに例えば
トルエン溶媒中、トリエチルアミン存在下、ジフェニル
ホスホリルアジドで処理することによりＲ^３が水素原子
である［Ａ−５］を製造することができる。さらに、こ
れら慣用の方法によりＮＨ部位のハロアルキル化を行う
とＲ^３がハロアルキル基である［Ａ−５］を製造するこ
とができる。

【００８９】Ａが［Ａ−６］である本発明化合物は、本
発明化合物（Ｃ−１）をヒドラジン塩酸塩に変換し、例
えばテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、環状イミノ
エーテル誘導体と反応させアミドラゾンを製造した後、
例えばジオキサン溶媒中、トリエチルアミン存在下、ホ
スゲンを処理することにより製造することができる。

【００９０】＜製造法２＞一般式［１］で示される化合
物中、Ａが［Ａ−１］でＲ^２がメチル基である本発明化
合物（Ｅ−２）は以下のようにして製造することができ
る。

【００９１】

【化１５】 （式中、Ｂ^１、Ｒ^１２、Ｌ、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と
同じ意味を表す。）前記製造法１で製造される本発明化
合物（Ｃ−５）中、Ｒ^１４が水素原子である本発明化合
物（Ｅ−１）を化合物ＣＨ３Ｌと反応させることによっ
て本発明化合物（Ｅ−２）を製造することができる。

【００９２】この反応は通常、溶媒中で塩基の存在下、
反応温度０〜１２０℃で０．５〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は本発明化合物（Ｅ−１）１当
量に対して化合物ＣＨ３Ｌは１〜１０当量、塩基は１〜
３当量である。塩基としては、炭酸カリウム、水素化カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムエ
トキシド、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド等が挙げられる。溶媒としてはクロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の
脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物、アセトニトリル又はそ
れらの混合物が挙げられる。

【００９３】＜製造法３＞一般式［１］で示される化合
物中、Ａが［Ａ−１］でＲ^２がアミノ基である本発明化
合物（Ｅ−３）は以下のようにして製造することができ
る。

【００９４】

【化１６】 （式中、Ｂ^１、Ｒ^１２、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と同じ
意味を表し、Ｒ^１７はメタンスルホニルオキシ基、パラ
トルエンスルホニルオキシ基又は２，４−ジニトロフェ
ノキシ基を表す。） 前記製造法１で製造される本発明化合物（Ｃ−５）中、
Ｒ^１４が水素原子である本発明化合物（Ｅ−１）を化合
物Ｒ^１７−ＮＨ_２（式中、Ｒ^１７は前記と同じ意味を表
す。）と反応させることによって本発明化合物（Ｅ−
３）を製造することができる。

【００９５】この反応は通常、溶媒中で塩基の存在下、
反応温度０〜１００℃で０．５〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は本発明化合物（Ｅ−１）１当
量に対して化合物Ｒ^１７−ＮＨ_２（式中、Ｒ^１７は前記
と同じ意味を表す。）は１〜１０当量、塩基は１〜３当
量である。塩基及び溶媒としては製造法２と同様なもの
が挙げられる。

【００９６】＜製造法４＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−２］で示される本発明化合物
（Ｆ−３）は、以下のようにして製造することができ
る。

【００９７】

【化１７】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^１２及びＬ
^１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｇ^１は、カルボキ
シル基又はアルキルチオカルボニル基以外のＧを表し、
Ｊ^１は、アルコキシ基、アルキルチオ基、カルボキシル
基、アルキルチオカルボニル基以外のＪを表す。） 化合物（Ｆ−１）と化合物（Ｆ−２）を反応させること
によって本発明化合物（Ｆ−３）を製造することができ
る。

【００９８】この反応は通常、溶媒中で塩基の存在下、
反応温度０〜１００℃で０．１〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は化合物（Ｆ−１）１当量に対
して化合物（Ｆ−２）は１〜２０当量、塩基は１〜２０
当量である。塩基としては、炭酸カリウム、水素化カリ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムエト
キシド、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド、リチウムジイソプロピルアミド、ノルマルブチ
ルリチウム等の有機リチウム化合物又は１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基
等が挙げられる。溶媒としては製造法２と同様なものが
挙げられる。

【００９９】化合物（Ｆ−１）は製造法１の方法以外に
も以下の方法により製造することもできる。

【０１００】

【化１８】 （式中、Ａ、Ｒ^４、Ｒ^１２、Ｒ^１６、Ａ^１、Ｌ^１、Ｘ及
びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表す。） 製造法１で記載した方法に準じて化合物（Ｇ−１）から
化合物（Ｇ−２）を経てアミノベンゾフラン誘導体（Ｇ
−３）を製造した後、製造法１で記載した方法に準じて
［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ａ−３］、［Ａ−４］、
［Ａ−５］又は［Ａ−６］のヘテロ環を導入した化合物
（Ｇ−４）を製造し、次に化合物（Ｇ−４）を四塩化炭
素等の溶媒中、過酸化ベンゾイル又はα，α’−アゾビ
スイソブチロニトリル等の触媒の存在下又は非存在下、
Ｎ−ハロコハク酸イミド等のハロゲン化剤と反応させる
ことによりＲ^５が水素原子である化合物（Ｆ−１）すな
わち化合物（Ｇ−５）を製造することができる。

【０１０１】また、化合物（Ｆ−１）は、化合物（Ｇ−
４）を四塩化炭素等の溶媒中、過酸化ベンゾイル又は
α，α’−アゾビスイソブチロニトリル等の触媒の存在
下又は非存在下、Ｎ−ハロコハク酸イミド等のハロゲン
化剤と反応させることにより化合物（Ｇ−６）を製造し
た後、酸又は塩基存在下、加水分解して化合物（Ｇ−
７）を製造し、次にテトラヒドロフラン等の溶媒中、ア
ルキルグリニヤール試薬と反応させることにより製造で
きる化合物（Ｇ−８）を、例えば、酢酸溶媒中、臭化水
素でハロゲン化することにより化合物（Ｇ−９）として
製造することができる。

【０１０２】＜製造法５＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−２］又は［Ｂ−６］で示され
る本発明化合物（Ｆ−５）及び本発明化合物（Ｆ−７）
は、以下のようにして製造することができる。

【０１０３】

【化１９】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^１２、Ｌ^１、Ｇ^１
及びＪ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ^１８は、
アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、
アルキルチオアルキル基又はアルキルスルホニルアルキ
ル基を表す。） 前記製造法４で製造される本発明化合物（Ｆ−３）中、
Ｒ^７が水素原子である本発明化合物（Ｆ−４）又は前記
製造法１で製造される本発明化合物（Ｆ−６）を化合物
Ｒ^１８Ｌ^１（式中、Ｒ^１８及びＬ^１は前記と同じ意味を
表す。）と反応させることによって本発明化合物（Ｆ−
５）及び本発明化合物（Ｆ−７）を製造することができ
る。

【０１０４】この反応は通常、溶媒中で塩基の存在下、
反応温度０〜１００℃で０．１〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は本発明化合物（Ｆ−４）及び
本発明化合物（Ｆ−６）１当量に対して化合物Ｒ^１８Ｌ
^１は１〜３当量、塩基は１〜３当量である。塩基として
は、製造法４と同様なものが挙げられる。溶媒としては
製造法２と同様なものが挙げられる。

【０１０５】＜製造法６＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−１］で示される本発明化合物
（Ｆ−９）、本発明化合物（Ｆ−１０）、本発明化合物
（Ｆ−１１）及び本発明化合物（Ｆ−１３）は、以下の
ようにして製造することができる。

【０１０６】

【化２０】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^１２、Ｒ
^１６及びＬ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、ｎは１
〜４の整数を表し、ｎ^１は２〜５の整数を表し、Ｅ^１は
アルキルチオカルボニル基以外のＥを表す。） 前記製造法４又は製造法５で製造される本発明化合物
（Ｆ−８）を例えば溶媒中又は無溶媒で、トリフルオロ
酢酸等の酸で処理することによって本発明化合物（Ｆ−
９）を製造することができる。さらに、本発明化合物
（Ｆ−９）を例えばキノリン等の溶媒中又は無溶媒で、
例えば銅触媒の存在下又は非存在下、加熱することによ
って本発明化合物（Ｆ−１０）を製造することができ
る。さらに、本発明化合物（Ｆ−１０）を化合物Ｒ^１６
Ｌ^１（式中、Ｒ^１６は前記と同じ意味を表す。）と反応
させることによって本発明化合物（Ｆ−１１）を製造す
ることができる。

【０１０７】また、本発明化合物（Ｆ−１３）は、本発
明化合物（Ｆ−１０）中、Ｒ^７が水素原子である本発明
化合物（Ｆ−１２）を化合物Ｌ^１−（ＣＨ_２）_ｎ ^１−Ｌ
^１（式中、Ｌ^１及びｎ^１は前記と同じ意味を表す。）と
反応させることによって製造することができる。

【０１０８】本発明化合物（Ｆ−１０）から本発明化合
物（Ｆ−１１）、及び本発明化合物（Ｆ−１２）から本
発明化合物（Ｆ−１３）の反応は通常、溶媒中で塩基の
存在下、反応温度０〜１００℃で０．５〜２４時間反応
させる。反応に供される試剤の量は本発明化合物（Ｆ−
１０）及び本発明化合物（Ｆ−１２）１当量に対して化
合物Ｒ^１６Ｌ^１又は化合物Ｌ^１−（ＣＨ_２）_ｎ ^１−Ｌ^１
（式中、Ｒ^１６及びＬ^１及びｎ^１は前記と同じ意味を表
す。）は１〜３当量、塩基は１〜３当量である。塩基と
しては製造法４と同様なものが挙げられる。溶媒として
は製造法２と同様なものが挙げられる。

【０１０９】＜製造法７＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−１］、［Ｂ−２］、［Ｂ−
５］又は［Ｂ−６］で示される本発明化合物（Ｆ−１
４）、本発明化合物（Ｆ−１６）、本発明化合物（Ｆ−
１８）及び本発明化合物（Ｆ−２０）は、以下のように
して製造することができる。

【０１１０】

【化２１】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^８、Ｌ^１及びＪ^１
はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｇ^２はアルケニルオ
キシカルボニル基、アルキニルオキシカルボニル基以外
のＧ^１を表し、Ｅ^２はアルケニルオキシカルボニル基、
アルキニルオキシカルボニル基以外のＥ^１を表し、Ｒ
^１２’はカルボキシル基及びホルミル基以外のＲ^１（Ｒ
^１は前記と同じ意味を表す。）を表す。） 本発明化合物（Ｆ−４）、前記製造法６で製造される本
発明化合物（Ｆ−１０）中Ｒ^７が水素原子もしくはアル
キル基である本発明化合物（Ｆ−１５）、前記製造法１
で製造される本発明化合物（Ｆ−１７）又は本発明化合
物（Ｆ−１９）を、ハロゲン化剤と反応させることによ
って本発明化合物（Ｆ−１４）、本発明化合物（Ｆ−１
６）、本発明化合物（Ｆ−１８）及び本発明化合物（Ｆ
−２０）を製造することができる。

【０１１１】この反応は通常、溶媒中、塩基存在下又は
非存在下、反応温度−７０〜１５０℃、好ましくは−７
０〜１００℃で０．１〜４８時間反応させる。反応に供
される試剤の量は本発明化合物（Ｆ−４）、本発明化合
物（Ｆ−１５）、本発明化合物（Ｆ−１７）及び本発明
化合物（Ｆ−１９）１当量に対してハロゲン化剤は１〜
２０当量用い、ここでハロゲン化剤としては臭素、塩素
等のハロゲン、塩化スルフリル、Ｎ−ブロモコハク酸イ
ミド等のＮ−ハロコハク酸イミド及び四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類等が挙げられる。溶媒としてはジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ギ酸、酢酸等
のカルボン酸類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のア
ミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化
合物等が挙げられる。塩基としては、製造法４と同様な
ものが挙げられる。

【０１１２】＜製造法８＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−１］、［Ｂ−２］、［Ｂ−
５］又は［Ｂ−６］で示される本発明化合物（Ｆ−２
２）、本発明化合物（Ｆ−２４）、本発明化合物（Ｆ−
２６）及び本発明化合物（Ｆ−２８）は、以下のように
して製造することができる。

【０１１３】

【化２２】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ
^１２’、Ｒ^１６及びＵはそれぞれ前記と同じ意味を表
し、Ｒ^１９はアルキル基を表す。） 本発明化合物（Ｆ−２１）、本発明化合物（Ｆ−２
３）、本発明化合物（Ｆ−２５）又は本発明化合物（Ｆ
−２７）を例えば五硫化リン又はローソン試薬〔２，４
−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−
２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド〕等の
チオカルボニル化試薬と反応させることによって本発明
化合物（Ｆ−２２）、本発明化合物（Ｆ−２４）、本発
明化合物（Ｆ−２６）及び本発明化合物（Ｆ−２８）を
製造することができる。

【０１１４】＜製造法９＞一般式［１］で示される化合
物の中でＢが一般式［Ｂ−４］又は［Ｂ−８］で示され
る本発明化合物（Ｆ−３０）及び本発明化合物（Ｆ−３
２）は、以下のようにして製造することができる。

【０１１５】

【化２３】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^８、Ｒ^１１及びＲ
^１２’はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｑ^１はハロア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
キルチオ基、アルキルスルホニル基、シアノ基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ニトロ
基又はハロゲン原子を表す。） 化合物（Ｆ−３１）又は前記製造法１で製造される本発
明化合物（Ｆ−２９）を塩基存在下、ホスホニウム試薬
〔Ｐｈ_３Ｐ^＋ＣＨＲ^１１Ｑ^１〕Ｌ^{１ −}（式中、Ｒ^１１、
Ｌ^１及びＱ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）と反
応させることによって本発明化合物（Ｆ−３０）及び本
発明化合物（Ｆ−３２）を製造することができる。

【０１１６】この反応は通常、溶媒中、塩基存在下、反
応温度−７０〜１５０℃、好ましくは−７０〜１００℃
で１〜４８時間反応させる。また、この反応は、場合に
より触媒量の水により反応が促進される。反応に供され
る試剤の量は本発明化合物（Ｆ−２９）及び化合物（Ｆ
−３１）１当量に対してホスホニウム試薬は１〜３当
量、塩基は１〜３当量である。溶媒としては製造法２と
同様なものが挙げられる。塩基としては、製造法４と同
様なものが挙げられる。

【０１１７】＜製造法１０＞一般式［１］で示される化
合物の中でＢが一般式［Ｂ−１］又は［Ｂ−５］で示さ
れる本発明化合物（Ｆ−３３）及び本発明化合物（Ｆ−
３４）は、以下のようにして製造することができる。

【０１１８】

【化２４】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^８、Ｒ^１２’及び
ｎ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ^１９’は同一
又は相異なるアルキル基を表し、Ｚ^１は同一又は相異な
り酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚ^１Ｒ^１９’は互いに
結合してこれと隣り合う炭素原子と共に５〜８員環を形
成してもよい。） 化合物（Ｆ−３１）あるいは前記製造法１で製造される
本発明化合物（Ｆ−２９）を化合物ＨＺ^１Ｒ^１９’又は
化合物ＨＺ^１（ＣＨ_２）ｎ^１Ｚ^１Ｈと酸存在下又は非存
在下で反応させることによって本発明化合物（Ｆ−３
３）及び本発明化合物（Ｆ−３４）を製造することがで
きる。

【０１１９】この反応は通常、溶媒中又は無溶媒で、触
媒量の酸存在下、反応温度０〜１５０℃、好ましくは０
〜１００℃で０．５〜４８時間反応させる。反応に供さ
れる試剤の量は本発明化合物（Ｆ−２９）及び化合物
（Ｆ−３１）１当量に対して化合物ＨＺ^１Ｒ^１９’又は
化合物ＨＺ^１（ＣＨ_２）ｎ^１Ｚ^１Ｈは１〜４０当量であ
る。溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類及びヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素類が挙げられる。酸としては、パラトルエ
ンスルホン酸、塩化アンモニウム、塩酸又はトリフルオ
ロボロンエーテラート等が挙げられる。

【０１２０】＜製造法１１＞一般式［１］で示される化
合物の中でＢが一般式［Ｂ−４］又は［Ｂ−８］で示さ
れる本発明化合物（Ｆ−３６）及び本発明化合物（Ｆ−
３８）は、以下のようにして製造することができる。

【０１２１】

【化２５】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^８、Ｒ^１２’、Ｒ
^１６及びＲ^１９はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ
^２０はアルキルスルホニル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基又はシアノ基を表し、Ｒ
^２１はアルキル基を表す。） 化合物（Ｆ−３５）又は化合物（Ｆ−３７）を、例えば
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中又は非溶媒
中、化合物（Ｒ^１６Ｏ）_２Ｃ（Ｒ^８）Ｎ（Ｒ^１９）（Ｒ
^２１）（式中、Ｒ^８、Ｒ^１６、Ｒ^１９及びＲ^２１は前記
と同じ意味を表す。）を表す。と反応させることによっ
て本発明化合物（Ｆ−３６）及び本発明化合物（Ｆ−３
８）を製造することができる。

【０１２２】＜製造法１２＞一般式［１］で示される化
合物の中でＢが一般式［Ｂ−３］又は［Ｂ−７］で示さ
れる本発明化合物（Ｆ−４０）及び本発明化合物（Ｆ−
４２）は、以下のようにして製造することができる。

【０１２３】

【化２６】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ
^１１及びＲ^１２’はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｗ
^１は酸素原子又は基−Ｎ（Ｒ^１１）−を表し、Ｇ^２及び
Ｊ^２は同一又は相異なりアシル基、アルコキシカルボニ
ル基又はシアノ基を表す。） 本発明化合物（Ｆ−３９）又は本発明化合物（Ｆ−４
１）を溶媒中、ＨＯＮＨ _２又はＲ^１１ＮＨＮＨ_２（式
中、Ｒ^１１は前記と同じ意味を表す。）と反応させるこ
とによって本発明化合物（Ｆ−４０）又は本発明化合物
（Ｆ−４２）を製造することができる。

【０１２４】この反応は通常、塩基存在下もしくは非存
在下、溶媒中、反応温度０〜１５０℃、好ましくは０〜
１００℃で０．１〜２４時間反応させる。反応に供され
る試剤の量は本発明化合物（Ｆ−３９）又は本発明化合
物（Ｆ−４１）１当量に対して化合物ＨＯＮＨ_２又は化
合物Ｒ^１１ＮＨＮＨ_２（式中、Ｒ^１１は前記と同じ意味
を表す。）は１〜３当量である。溶媒としてはジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノ
ール等のアルコール類、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等
の脂肪族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物等が挙げられる。塩基としては製造法２と同様
なものが挙げられる。

【０１２５】＜製造法１３＞本発明化合物（Ｆ−４４）
は、以下のようにして製造することができる。

【０１２６】

【化２７】 （式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ前
記と同じ意味を表し、Ｒ^２２は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基又はシクロアルキルアルキ
ル基を表す。） 本発明化合物（Ｆ−４４）は、本発明化合物（Ｆ−４
３）を溶媒中、三臭化ホウ素と反応させた後、水で処理
することによって製造することができる。

【０１２７】この反応は通常、溶媒中、反応温度−４０
〜６０℃、好ましくは−２０〜３０℃で０．１〜２４時
間反応させる。反応に供される試剤の量は本発明化合物
（Ｆ−４３）１当量に対して三臭化ホウ素は１〜３当量
が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させるこ
とができる。溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類が挙げられ
る。

【０１２８】＜製造法１４＞一般式［１］で示される化
合物の中で、Ｂに窒素原子に同一又は相異なる水素原子
もしくはアルキル基が置換したカルバモイル基を持つ本
発明化合物は、カルボキシル基を持つ本発明化合物を、
例えばベンゼン等の溶媒中、塩化チオニルと反応させる
ことによって製造できる酸クロリドに例えばテトラヒド
ロフラン等の溶媒中、過剰量のアミン誘導体ＨＮ
（Ｒ^４）（Ｒ^５）（式中、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ前記
と同じ意味を表す。）を反応させるか、カルボキシル基
を持つ本発明化合物を、例えばアセトン中、アシルジイ
ミダゾールと反応させることによって製造できるアシル
イミダゾールに、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等の溶媒中、過剰量のアミン誘導体ＨＮ（Ｒ^４）
（Ｒ^５）（式中、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ前記と同じ意
味を表す。）を反応させることによって製造することが
できる。

【０１２９】なお、Ｂ又はＲ^１にカルボン酸を持つ本発
明化合物は、Ｂ又はＲ^１にアルコキシカルボニル基を持
つ本発明化合物を酸又は塩基で処理することによって製
造することができる。

【０１３０】また、ベンゾフラン環の３位は、製造法１
の原料合成の項で示した様に求電子置換反応が進行す
る。よって、種々のＲ^１を持つ本発明化合物は、Ａが
［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ａ−３］、［Ａ−４］、
［Ａ−５］又は［Ａ−６］でＲ^１が水素原子である本発
明化合物から、製造法１に記載の方法に準じて製造する
ことができる。

【０１３１】

【実施例】以下に具体的製造例を示す。 製造例１ ３−［２−（２−アセチル−２−クロロ−１−メチル−
３−オキソブチル）−４−クロロ−６−フルオロベンゾ
フラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，
４−ジオン（化合物番号１−１１３）の製造 ３−クロロ−２，４−ペンタンジオン１．５ｇ（１１．
０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌに溶解し、１０℃で１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン１．７ｇ
（１１．０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温下１０分間撹拌
し、反応液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに
溶解した３−［２−（１−ブロモエチル）−４−クロロ
−６−フルオロベンゾフラン−７−イル］−１−メチル
−６−トリフルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒ
ドロピリミジン−２，４−ジオン１．０ｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）を１０℃で滴下した。室温下で１０分間撹拌後、
反応液を氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出し
た。有機層をクエン酸で中和し、水及び飽和食塩水の順
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し目的物０．８ｇ（収率
７３．０％）を得た。

【０１３２】製造例２ ３−［２−（２−アセチル−１−メチル−３−オキソブ
チル）−４−クロロ−６−フルオロベンゾフラン−７−
イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，
２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジオン
（化合物番号１−６７）の製造 ２，４−ペンタジオン２．１ｇ（２１．３ｍｍｏｌ）を
５０ｍｌに溶解し、１０℃で１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン３．２ｇ（２１．３ｍ
ｍｏｌ）を滴下した。室温下１０分間撹拌し、これに
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解した３−
［２−（１−ブロモエチル）−４−クロロ−６−フルオ
ロベンゾフラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフ
ルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジ
ン−２，４−ジオン１．０ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を１０
℃で滴下した。室温下１０分間撹拌後、反応液を氷水に
あけ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層をクエ
ン酸で中和した後、水及び飽和食塩水の順で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し目的物０．５ｇ（収率４８．１
％）を得た。

【０１３３】製造例３ ３−［２−（２−アセチル−１，２−ジメチル−３−オ
キソブチル）−４−クロロ−６−フルオロベンゾフラン
−７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−
１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジ
オン（化合物番号１−１０９）の製造 １，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン０．４ｇ（２．６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５０ｍｌ溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１０ｍｌに溶解した３−［２−（２−アセチル−１−
メチル−３−オキソブチル）−４−クロロ−６−フルオ
ロベンゾフラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフ
ルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジ
ン−２，４−ジオン１．０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を１０
℃で滴下した。室温下１０分間撹拌し、ヨウ化メチル
０．３ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を室温下で滴下した。室温
下１時間撹拌後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル１０
０ｍｌで抽出した。有機層をクエン酸で中和した後、水
及び飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し目
的物０．６ｇ（収率５９．８％）を得た。

【０１３４】製造例４ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］−２−エトキシカルボニル酪酸（化合
物番号１−５６）の製造 ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］−２−エトキシカルボニル酪酸ｔ−ブ
チル１．０ｇ（１．７ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸を
５０ｍｌに溶解し、室温下２０分間撹拌した。反応液を
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて
精製し目的物０．６ｇ（収率６７．８％）を得た。

【０１３５】製造例５ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］酪酸エチル（化合物番号１−１４）の
製造 ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］−２−エトキシカルボニル酪酸１．０
ｇ（１．９ｍｍｏｌ）をキノリン５０ｍｌに溶解し、触
媒の銅１ｇを加え、１２０℃で１時間撹拌した。反応液
を氷水にあけ、希塩酸及び水、飽和食塩水の順で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒
を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し目的物を０．７ｇ（収率７７．
５％）を得た。

【０１３６】製造例６ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］−２−メチル酪酸メチル（化合物番号
１−３０）の合成 窒素気流下、テトラヒドロフラン５０ｍｌ中にリチウム
ジイソプロピルアミド０．３ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を溶
解し、−６０℃で３−［４−クロロ−６−フルオロ−７
−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２，４−ジ
オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−３
−イル）ベンゾフラン−２−イル］酪酸メチル０．８ｇ
（１．７ｍｍｏｌ）を滴下した。１０分間撹拌後、−６
０℃でヨウ化メチル０．４ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を滴下
し、−６０℃で１時間撹拌後、反応液を、反応液を氷水
（０．１Ｎ塩酸）にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出
した。有機層を水及び飽和食塩水の順で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し
た後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し目的物０．４５ｇ（収率５６．０％）を
得た。

【０１３７】製造例７ ３−［４−クロロ−２−（２−クロロ−１−メチル−３
−オキソブチル）−６−フルオロベンゾフラン−７−イ
ル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジオン（化
合物番号１−８７）の製造 窒素気流下、テトラヒドロフラン５０ｍｌ中にリチウム
ジイソプロピルアミド０．４ｇ（３．７ｍｍｏｌ）を溶
解し、−６０℃でメチル ３−［７−クロロ−５−フル
オロ−２−（１−メチル−３−オキソブチル）ベンゾフ
ラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチ
ル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４
−ジオン１．０ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を滴下した。１０
分間撹拌後、−６０℃で四塩化炭素０．５ｇ（３．２ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、−６０℃で１時間撹拌後、反応液を
氷水（０．１Ｎ塩酸）にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで
抽出した。有機層を水及び飽和食塩水の順で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し目的物０．５３ｇ（収率５０．０
％）を得た。

【０１３８】製造例８ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−２−（２−メトキシ
ビニル）ベンゾフラン−７−イル］−１−メチル−６−
トリフルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピ
リミジン−２，４−ジオン（化合物番号１−３１９，１
−３２０）の合成 テトラヒドロフラン５０ｍｌ中にｔ−ブトキシカリウム
０．６ｇ（５．１ｍｍｏｌ）を懸濁させ、窒素気流下、
−４０℃でメトキシメチルトリフェニルホスホニウムク
ロライド１．８ｇ（５．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液
を−４０℃で１時間撹拌した後、−７０℃でテトラヒド
ロフラン１０ｍｌに溶解した３−（４−クロロ−６−フ
ルオロ−２−ホルミルベンゾフラン−７−イル）−１−
メチル−６−トリフルオロメチル−１，２，３，４−テ
トラヒドロピリミジン−２，４−ジオン１．０ｇ（２．
５ｍｍｏｌ）を滴下した。窒素気流下、−７０℃で１時
間撹拌後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌ
で抽出した。有機層をクエン酸で中和した後、水及び飽
和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物
Ｅ体０．２４ｇ（収率２２．４％）及び、目的物Ｚ体
０．１９ｇ（収率１７．７％）を得た。Ｅ体融点１５９
〜１６０℃、Ｚ体融点１４１〜１４４℃

【０１３９】製造例９ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］−３−メチルアクリル酸メチル（化合
物番号１−３２５，１−３２６）の合成 ベンゼン５０ｍｌ中にメチル（トリフェニルホスホラニ
リデン）アセテート１．２ｇ（３．７ｍｍｏｌ）及び３
−（２−アセチル−４−クロロ−６−フルオロベンゾフ
ラン−７−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチ
ル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４
−ジオン１．０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、触媒となる安息
香酸０．０１ｇ（０．１ｍｍｏｌ）を溶解し、加熱環流
下で６時間撹拌した。減圧下で溶媒を留去した後、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し目的物Ｅ体０．１ｇ（収率８．８％）及び、目的物
Ｚ体０．６ｇ（収率５２．６％）を得た。Ｅ体融点１６
８〜１７０℃、Ｚ体融点１３３〜１３５℃

【０１４０】製造例１０ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−２−（１，１−ジ
（メチルチオ）エチル）ベンゾフラン−７−イル］−１
−メチル−６−トリフルオロメチル−１，２，３，４−
テトラヒドロピリミジン−２，４−ジオン（化合物番号
１−２３３）の製造 ３−［２−アセチル−４−クロロ−６−フルオロベンゾ
フラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，
４−ジオン１．０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
５０ｍｌに溶解し、メタンチオール（３０％メタノール
溶液）１．０ｇ（６．２ｍｍｏｌ）加えた。混合溶液に
触媒量の三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を加え、
室温下で６０分間撹拌後、反応液を氷水にあけ、塩化メ
チレン１００ｍｌで抽出した。有機層を水及び飽和食塩
水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的物１．０
ｇ（収率８３．３％）を得た。

【０１４１】製造例１１ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−２−（２−メチル−
１，３−オキサチオラン−２−イル）ベンゾフラン−７
−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，
２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジオン
（化合物番号１−２３４）の製造 ３−［２−アセチル−４−クロロ−６−フルオロベンゾ
フラン−７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，
４−ジオン１．０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）をベンゼン５０
ｍｌに溶解し、２−メルカプトエタノール０．２ｇ
（２．６ｍｍｏｌ）加えた。混合溶液に触媒量のパラト
ルエンスルホン酸を加え、加熱環流下で１０時間撹拌
後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出
した。有機層を水及び飽和食塩水の順で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し
た後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し目的物０．３ｇ（収率２６．３％）を得
た。

【０１４２】製造例１２ ３−［４−クロロ−２−（２−ジメチルアミノ−１−メ
タンスルホニル）ビニル−６−フルオロベンゾフラン−
７−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−
１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジ
オン（化合物番号１−３３２）の合成 メタノール５０ｍｌ中に、３−（４−クロロ−６−フル
オロ−２−メタンスルホニルメチルベンゾフラン−７−
イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，
２，３，４−テトラヒドロピリミジン−２，４−ジオン
０．５ｇ（１．１ｍｍｏｌ）及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドジメチルアセタール１．３６ｇ（１１．０ｍ
ｍｏｌ）を溶解し、加熱環流下で５時間撹拌後、減圧下
で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し目的物０．４ｇ（収率７
１．０％）を得た。融点２１５〜２１６℃

【０１４３】製造例１３ ３−｛４−クロロ−６−フルオロ−２−［１−（１，
３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）エチル］ベ
ンゾフラン−７−イル｝−１−メチル−６−トリフルオ
ロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−
２，４−ジオン（化合物番号１−２６１）の製造 エタノール５０ｍｌ中に、３−［２−（２−アセチル−
１−メチル−３−オキソブチル）−４−クロロ−６−フ
ルオロベンゾフラン−７−イル］−１−メチル−６−ト
リフルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリ
ミジン−２，４−ジオン０．５５ｇ（１．１ｍｍｏｌ）
を溶解し、０℃以下でメチルヒドラジン０．５ｇ（１
０．８ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃以下で１時間撹拌
後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出
した。有機層を飽和クエン酸溶液、水及び飽和食塩水の
順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し目的物０．２ｇ（収
率４０．９％）を得た。

【０１４４】製造例１４ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］酪酸アミド（化合物番号１−２４）の
合成 ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］酪酸１．０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を塩
化チオニル５０ｍｌに溶解した。８０℃で１時間撹拌
後、減圧下で塩化チオニルを留去し、残渣にアセトニト
リル５０ｍｌを加えた。これに１０℃で２８％アンモニ
ア水０．３ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温下で
０．５時間撹拌後、反応液を氷冷下で０．１Ｎ塩酸にあ
け、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層を水及び
飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的物
１．０ｇ（収率９０．２％）を得た。融点６１〜６２℃

【０１４５】製造例１５ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］ブチロニトリル（化合物番号１−２
３）の合成 ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（１−メチル−
６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）ベンゾフ
ラン−２−イル］酪酸アミド０．８ｇ（１．８ｍｍｏ
ｌ）及び、四塩化炭素２．８ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）、
トリフェニルホスフィン０．９ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン中に溶解し、５０℃で２時間撹拌し
た。反応液を氷水にあけ、クロロホルム１００ｍｌで抽
出した。有機層を水及び飽和食塩水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し目的物０．１８ｇ（収率２３．３％）
を得た。

【０１４６】製造例１６ ３−［４−クロロ−６−フルオロ−７−（３，４，５，
６−テトラヒドロフタルイミド−１−イル）ベンゾフラ
ン−２−イル］−２−メトキシカルボニル酪酸メチル
（化合物番号２−２０）の合成 ジメチルマロネート３．２ｇ（２４ｍｍｏｌ）及び１，
８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン３．６ｇ
（２４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍｌに溶解し、室温下、Ｎ−（４−クロロ−６−フルオ
ロ−２−ブロモメチルベンゾフラン−７−イル）−３，
４，５，６−テトラヒドロフタルイミド１．０ｇ（２．
４ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応液
を氷水にあけ、希塩酸にてＰＨ＝１としたの後、酢酸エ
チル１００ｍｌで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウ
ムで中和後、水及び飽和食塩水の順で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した
後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し目的物０．５２ｇ（収率４５．０％）を得
た。

【０１４７】製造例１７ ３−｛４−クロロ−６−フルオロ−７−（１，６，８−
トリアザビシクロ［４．３．０］ノナン−７−オン−９
−チオン−１−イル）ベンゾフラン−２−イル｝−２−
ｔ−ブトキシカルボニルプロピオン酸エチル（化合物番
号３−２３）の合成 エチル ｔ−ブチルマロネート４．０ｇ（２１ｍｍｏ
ｌ）及び炭酸カリウム３．２ｇ（２１ｍｍｏｌ）をＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、室温下、
８−（４−クロロ−６−フルオロ−２−ブロモメチルベ
ンゾフラン−７−イル）−１，６，８−トリアザビシク
ロ［４．３．０］ノナン−７−オン−９−チオン１．０
ｇ（２．４ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌し
た。反応液を氷水にあけ、希塩酸にてＰＨ＝１としたの
後、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層を炭酸水
素ナトリウムで中和後、水及び飽和食塩水の順で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒
を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し目的物０．７９ｇ（収率６１．
０％）を得た。

【０１４８】製造例１８ ９−［２−（２−カルボキシ−２−エトキシカルボニル
エチル）−４−クロロ−６−フルオロベンゾフラン−７
−イルイミノ］−８−チア−１，６−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノナン−７−オン（化合物番号４−２
１）の合成 ９−［２−（２−ｔ−ブトキシカルボニル−２−エトキ
シカルボニルエチル）−４−クロロ−６−フルオロベン
ゾフラン−７−イルイミノ］−８−チア−１，６−ジア
ザビシクロ［４．３．０］ノナン−７−オン１．２ｇ
（２．２ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸５０ｍｌに溶解
し、室温で０．５時間撹拌した。反応液を氷水にあけ、
酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層を炭酸水素ナ
トリウムで中和後、水及び飽和食塩水の順で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後、目的物０．７６ｇ（収率７１．０％）を得
た。

【０１４９】製造例１９ ３−［４−クロロ−７−（４−ジフルオロメチル−５−
メチル−２Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３（４Ｈ）
−オン−２−イル）−６−フルオロベンゾフラン−２−
イル］−２−メトキシカルボニルプロピオン酸メチル
（化合物番号５−２４）の合成 ジメチルマロネート１．６ｇ（１２ｍｍｏｌ）及び１，
８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン１．８ｇ
（１２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍｌに溶解し、室温下、２−（２−ブロモメチル−４−
クロロ−６−フルオロベンゾフラン−７−イル）−４−
ジフルオロメチル−５−メチル−２Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３（４Ｈ）−オン０．５ｇ（１．２ｍｍｏ
ｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応液を氷水に
あけ、希塩酸にてＰＨ＝１としたの後、酢酸エチル１０
０ｍｌで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウムで中和
後、水及び飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し目的物０．３９ｇ（収率７１．０％）を得た。

【０１５０】参考例１ ３−（４−クロル−２−フルオロ−６−ヒドロキシフェ
ニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシル
の合成 ３−（４−クロル−２−フルオロ−６−メトキシフェニ
ル）−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシル
５．７ｇ（１６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１００ｍｌ
に溶解し、０℃で三臭化ホウ素（３．０Ｍジクロロメタ
ン溶液）２７ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で
３時間撹拌後、反応混合物を氷水にあけ、炭酸水素ナト
リウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、有機層を
水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶をイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、白色結晶の目的物５．４ｇ（収率
９８．２％）を得た。融点１４３〜１４４℃

【０１５１】参考例２ ３−（４−クロル−２−フルオロ−６−プロパルギルオ
キシフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル
ウラシルの合成 ３−（４−クロル−２−フルオロ−６−ヒドロキシフェ
ニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシル
５．４ｇ（１６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３．３ｇ（２
４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ
に懸濁し、室温で臭化プロパルギル２．７ｇ（２２ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。６０〜７０℃で５時間撹拌した後、
反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶をイソプロ
ピルエーテルで洗浄し、白色結晶の目的物５．２ｇ（収
率８６．７％）を得た。融点１５０〜１５２℃

【０１５２】参考例３ ３−（４−クロル−２−ヒドロキシフェニル）−１−メ
チル−６−トリフルオロメチルウラシルの合成 ３−（４−クロル−２−メトキシフェニル）−１−メチ
ル−６−トリフルオロメチルウラシル４１．０ｇ（１２
２．５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０００ｍｌに溶解
し、−１０℃〜−５℃で三臭化ホウ素（１．０Ｍジクロ
ロメタン溶液）４７０ｍｌ（４７０．８ｍｍｏｌ）を滴
下した。室温で３時間撹拌後、反応混合物を氷水にあ
け、炭酸水素ナトリウムで中和した。ジクロロメタンで
抽出し有機層を水、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶
をイソプロピルエーテルで洗浄し、白色結晶の目的物２
７．６ｇ（収率７０．３％）を得た。融点１９８〜２０
２℃

【０１５３】参考例４ ３−（４−クロル−２−プロパルギルオキシフェニル）
−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシルの合成 ３−（４−クロル−２−ヒドロキシフェニル）−１−メ
チル−６−トリフルオロメチルウラシル２２．６ｇ（７
０．５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム１４．５ｇ（１０５．
１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５０ｍ
ｌに懸濁し、室温で臭化プロパルギル１１．２ｇ（９
４．１ｍｍｏｌ）を滴下した。７０℃で２時間撹拌した
後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶をイソ
プロピルエーテルで洗浄し淡茶色粉末の目的物２２．５
ｇ（収率８９．０％）を得た。融点１４７〜１４８℃

【０１５４】参考例５ ３−（２，４−ジフルオロ−６−ヒドロキシフェニル）
−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシルの合成 ３−（２，４−ジフルオロ−６−メトキシフェニル）−
１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシル１３．６
ｇ（４０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５０ｍｌに溶解
し、０℃で三臭化ホウ素（３．０Ｍジクロロメタン溶
液）６６．７ｍｌ（２００ｍｍｏｌ）を滴下した。室温
で３時間撹拌後、反応混合物を氷水にあけ、炭酸水素ナ
トリウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、有機層
を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶をイソプロ
ピルエーテルで洗浄し、白色結晶の目的物９．８ｇ（収
率７５．４％）を得た。融点１９５〜１９６℃

【０１５５】参考例６ ３−（２，４−ジフルオロ−６−プロパルギルオキシフ
ェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシ
ルの合成 ３−（２，４−ジフルオロ−６−ヒドロキシフェニル）
−１−メチル−６−トリフルオロメチルウラシル４．８
ｇ（１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３．２ｇ（２３ｍｍ
ｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに懸濁
し、室温で臭化プロパルギル２．５ｇ（２１ｍｍｏｌ）
を滴下した。６０〜７０℃で５時間撹拌した後、反応混
合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去後、残渣の粗結晶をイソプロピル
エーテルで洗浄し、黄土色粉末の目的物５．０ｇ（収率
９２．６３％）を得た。融点１５９〜１６２℃

【０１５６】参考例７ ３−［４−クロル−２−（１−メチル−２−プロピニル
オキシ）フェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメ
チルウラシルの合成 ３−（４−クロル−２−ヒドロキシフェニル）−１−メ
チル−６−トリフルオロメチルウラシル１．７ｇ（５．
３ｍｍｏｌ）、１−ブチン−３−オール０．６３ｇ
（９．０ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン１．５
７ｇ（６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍ
ｌに溶解し、氷冷下アゾジカルボン酸ジエチル１．０ｇ
（６．０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温で１
時間撹拌後、溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、白色結晶の目的物１．８
６ｇ（収率９３．９％）を得た。融点９６〜９９℃ 次に、本発明化合物のいくつかについて^１Ｈ−ＮＭＲデ
ータを以下に示す。

【０１５７】

【表２３】

【０１５８】

【表２４】

【０１５９】

【表２５】

【０１６０】

【表２６】

【０１６１】

【表２７】

【０１６２】

【表２８】

【０１６３】

【表２９】

【０１６４】

【表３０】

【０１６５】

【表３１】

【０１６６】本発明の除草剤は、一般式［１］で示され
るベンゾフラン誘導体を有効成分としてなる。

【０１６７】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤又は補助剤等
を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤又は粒剤等に
製剤して使用することもできる。

【０１６８】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等が挙げられる。

【０１６９】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等が挙げられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等が挙げられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用す
る。

【０１７０】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用又は
水面施用等により使用することができる。有効成分の配
合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又
は粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好まし
くは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよ
い。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重
量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選
ぶのがよい。

【０１７１】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から
適宜選ぶのがよい。

【０１７２】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。

【０１７３】次に代表的な製剤例を挙げて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。

【０１７４】〈製剤例１〉 水和剤 化合物（１−１）の１０部にポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土
の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得
る。

【０１７５】〈製剤例２〉 水和剤 化合物（１−１）の１０部にポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土
の２０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を
混合粉砕し、水和剤を得る。

【０１７６】〈製剤例３〉 水和剤 化合物（１−１）の１０部にポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土
の２０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの
６４部を混合粉砕し、水和剤を得る。

【０１７７】〈製剤例４〉 乳剤 化合物（１−１）の３０部にキシレンとイソホロンの等
量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビ
タンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリー
ルポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物
の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって
乳剤を得る。

【０１７８】〈製剤例５〉 粒剤 化合物（１−１）の１０部、タルクとベントナイトを
１：３の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカー
ボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタン
アルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポ
リマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５
部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたもの
を直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後
に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。

【０１７９】次に試験例を挙げて本発明化合物の奏する
効果を説明する。

【０１８０】〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効
果試験 １００ｃｍ^２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、入水、代掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍ
ｏ）及びホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃ
ｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤
を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１
０アール当り１００ｇとした。その後、温室内で育成
し、処理後２１日目に表３２の基準に従って除草効果を
調査した。結果を表３３〜表３５に示す。

【０１８１】

【表３２】

【０１８２】

【表３３】

【０１８３】

【表３４】

【０１８４】

【表３５】

【０１８５】〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効
果試験 １２０ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、オオイ
ヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、
コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種して覆土した。
製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０ア
ール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当
り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。
その後、温室内で育成し、処理２１日目に表３２の基準
に従って、除草効果を調査した。その結果を表３６〜表
３８に示す。なお、−は未試験を表す。

【０１８６】

【表３６】

【０１８７】

【表３７】

【０１８８】

【表３８】

【０１８９】〈試験例３〉 畑地土壌処理による除草効
果試験 ８０ｃｍ^２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イチ
ビ（Ａｂ）、アオビユ（Ａｍ）の各種子を播種して覆土
した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、
１０アール当り有効成分が６．３ｇになる様に、１０ア
ール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布
した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表３２
の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表３
９に示す。なお、−は未試験を表す。

【０１９０】

【表３９】 〈試験例４〉 畑地茎葉処理による除草効果試験 １２０ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、オオイ
ヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、
コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種し、温室内で２
週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希
釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、
１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方か
ら全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、
処理１４日目に表３２の基準に従って、除草効果を調査
した。その結果を表４０〜表４２に示す。

【０１９１】

【表４０】

【０１９２】

【表４１】

【０１９３】

【表４２】 〈試験例５〉 畑地茎葉処理による除草効果試験 ８０ｃｍ^２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イチ
ビ（Ａｂ）、アオビユ（Ａｍ）の各種子を播種して覆土
した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、
１０アール当り有効成分が６．３ｇになる様に、１０ア
ール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体
に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１
４日目に表３２の基準に従って、除草効果を調査した。
その結果を表４３に示す。

【０１９４】

【表４３】

【０１９５】

【発明の効果】一般式［１］で表される本発明の化合物
は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイ
ヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカ
キンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモ
ミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメ
クグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および
１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコロ
グサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメ
ノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から
生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮す
る。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、
コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガ
ヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年
生雑草を防除することもできる。

【０１９６】一方、本発明の除草剤は作物に対する安全
性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコ
シ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対
して高い安全性を示す。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ａ０１Ｎ 43/824 Ｃ０７Ｄ 405/14 ２３１ Ｃ０７Ｄ 405/14 ２３１ ２３９ ２３９ 409/14 ２３９ 409/14 ２３９ 411/14 411/14 413/14 ２３９ 413/14 ２３９ 417/14 ２３９ 417/14 ２３９ 471/04 １０１ 471/04 １０１ 487/04 １４５ 487/04 １４５ 513/04 ３５１ 513/04 ３５１ Ａ０１Ｎ 43/82 １０１ (72)発明者 伊月 義則 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 田丸 雅敏 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 川崎 浩 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 山地 充洋 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 花井 涼 広島県広島市安佐南区西原２丁目26番35号 −103 (72)発明者 魚津 壮太 静岡県小笠郡菊川町加茂3353番地 (72)発明者 佐土原 英雄 埼玉県新座市堀ノ内２丁目９番地の３

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［１］ 【化１】 ［式中、Ａは一般式 【化２】 で示される基を表し、上記式中、Ｒ^２は水素原子、メチ
   ル基又はアミノ基を表し、Ｒ^３は水素原子又はハロアル
   キル基を表し、Ｕは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘは
   水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、Ｙはフッ素
   原子、塩素原子、臭素原子又はシアノ基を表し、Ｒ^１は
   水素原子、アルキル基、アシル基、ハロアルキルカルボ
   ニル基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を
   表し、Ｂは一般式、 【化３】 で示される基を表し、上記式中、Ｒ^４及びＲ^５は同一又
   は相異なり、水素原子又はアルキル基を表すか、あるい
   は、Ｒ^４及びＲ^５は一緒になって３〜６員炭素環を形成
   してもよく、Ｒ^６は水素原子、アルキル基、アルコキシ
   基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル
   基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はシア
   ノ基を表し、Ｒ^７は水素原子、アルキル基、ハロアルキ
   ル基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル
   基、アルキルスルホニルアルキル基又はハロゲン原子を
   表し、Ｒ^８は水素原子又はアルキル基を表すか、あるい
   は、Ｒ^７及びＲ^８は一緒になって３〜６員炭素環を形成
   してもよい。Ｅはアシル基、シクロアルキルカルボニル
   基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシアルキルカ
   ルボニル基、アルキルチオアルキルカルボニル基、アル
   キルスルホニルアルキルカルボニル基、アルキルチオカ
   ルボニル基、シアノ基、窒素原子に同一又は相異なる水
   素原子又はアルキル基が置換したカルバモイル基、カル
   ボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキ
   シカルボニル基、アルキニルオキシカルボニル基、シク
   ロアルキルアルコキシカルボニル基又はニトロ基を表
   し、Ｇはアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスル
   ホニル基、アシル基、シクロアルキルカルボニル基、ハ
   ロアルキルカルボニル基、アルコキシアルキルカルボニ
   ル基、アルキルチオアルキルカルボニル基、アルキルス
   ルホニルアルキルカルボニル基、アルキルチオカルボニ
   ル基、シアノ基、窒素原子に同一又は相異なる水素原子
   又はアルキル基が置換したカルバモイル基、カルボキシ
   ル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカル
   ボニル基、アルキニルオキシカルボニル基、シクロアル
   キルアルコキシカルボニル基又はニトロ基を表し、Ｊは
   アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、シクロアル
   キルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコ
   キシアルキルカルボニル基、アルキルチオアルキルカル
   ボニル基、アルキルスルホニルアルキルカルボニル基、
   アルキルチオカルボニル基、シアノ基、窒素原子に同一
   又は相異なる水素原子又はアルキル基が置換したカルバ
   モイル基、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基
   を表す。ただし、Ｇ及びＪが同一又は相異なり、アルコ
   キシ基又はアルキルチオ基の場合、Ｒ^７は水素原子、ア
   ルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
   ルキルチオアルキル基又はアルキルスルホニルアルキル
   基を表し、Ｌは水素原子、アルキル基、ハロアルキル
   基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチ
   オ基、アルキルスルホニル基、シアノ基、アシル基、カ
   ルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原
   子を表し、Ｑはハロアルキル基、アルコキシ基、アルコ
   キシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
   基、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシ
   カルボニル基、ニトロ基、ジアルキルアミノ基又はハロ
   ゲン原子を表す。あるいは、Ｇ及びＪ、又はＬ及びＱは
   一緒になって５〜８員環を形成してもよい。Ｒ^９及びＲ
   ^１０は同一又は相異なり、水素原子、アルキル基、水酸
   基又はアミノ基を表し、Ｗは酸素原子、硫黄原子又は基
   −Ｎ（Ｒ^１１）−を表し、Ｒ^１１は水素原子又はアルキ
   ル基を表す。］で示されるベンゾフラン誘導体。
2. 【請求項２】Ｒ^１が水素原子である請求項１に記載のベ
   ンゾフラン誘導体
3. 【請求項３】ＢがＢ−１，Ｂ−２，Ｂ−５，Ｂ−６であ
   る請求項１又は請求項２に記載のベンゾフラン誘導体
4. 【請求項４】ＢがＢ−１，Ｂ−２である請求項１又は請
   求項２に記載のベンゾフラン誘導体
5. 【請求項５】ＡがＡ−１である請求項１、２、３又は請
   求項４に記載のベンゾフラン誘導体
6. 【請求項６】ＡがＡ−２である請求項１、２、３又は請
   求項４に記載のベンゾフラン誘導体
7. 【請求項７】ＡがＡ−３である請求項１、２、３又は請
   求項４に記載のベンゾフラン誘導体
8. 【請求項８】ＡがＡ−４である請求項１、２、３又は請
   求項４に記載のベンゾフラン誘導体
9. 【請求項９】ＡがＡ−５である請求項１、２、３又は請
   求項４に記載のベンゾフラン誘導体
10. 【請求項１０】ＡがＡ−６である請求項１、２、３又は
    請求項４に記載のベンゾフラン誘導体
11. 【請求項１１】請求項１〜１０のいずれかに記載のベン
    ゾフラン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
12. 【請求項１２】一般式［２］ 【化４】 （式中、Ａ’はニトロ基又はアミノ基を表し、Ｂ、Ｘ、
    Ｙ、Ｒ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）で示され
    るベンゾフラン誘導体。