JPH11135008A - 転写シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラズマディスプレイパネルの下地層、前面
板や背面板の誘電体層、感光性ブラックマトリックス層
および感光性リブ層を均一な層厚で高精度に形成可能な
転写シートを提供する。 【解決手段】 ガラスフリットを含む無機成分と、焼成
除去可能な有機成分とを少なくとも含有し、かつ、表面
光沢度が２０〜１００の範囲内にある転写層をベースフ
ィルム上に剥離可能に設けて転写シートとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルにおける誘電体層を簡便に形成するための転
写シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）における誘電体層の形成は、層厚やパターンの精
度を高いレベルで維持しながら、低い製造コストで実施
可能なことが要求されている。

【０００３】従来、ＰＤＰにおける誘電体層の形成は、
所望の特性を有する誘電体層形成用のペーストを用いて
スクリーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定
のパターンを形成し、乾燥後に焼成してパターン形成す
る印刷法等により行われていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の印刷法は、工程
が簡略であり製造コストの低減が期待されるが、スクリ
ーン印刷法ではスクリーン印刷版を構成するメッシュ材
料の伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成した
パターンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発
生し、パターンのエッジ精度が低いという問題がある。
また、オフセット印刷法では、印刷回数が進むにつれて
パターン形成用ペーストが完全に基板に転写されずにブ
ランケットに残るようになり、層厚やパターンの精度の
低下が生じる。したがって、ブランケットの交換を随時
行いペーストのブランケット残りを防止して誘電体層の
形成精度を維持する必要があり、このため作業が極めて
煩雑であるという問題があった。

【０００５】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、プラズマディスプレイパネルの下地
層、前面板や背面板の誘電体層、感光性ブラックマトリ
ックス層および感光性リブ層を高い精度で形成可能な転
写シートを提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の転写シートは、ベースフィルムと、
該ベースフィルム上に剥離可能に設けられた転写層を少
なくとも備え、該転写層はガラスフリットを含む無機成
分、焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有し、か
つ、表面光沢度が２０〜１１０の範囲にあるような構成
とした。

【０００７】また、本発明の転写シートは、前記転写層
上に剥離可能に保護フィルムを備え、該保護フィルムが
剥離された状態での転写層の表面光沢度が３０〜１１０
の範囲にあるような構成とした。

【０００８】そして、上記の有機成分が感光性を有する
ような構成とした。

【０００９】上記のような本発明において、転写層の表
面光沢度が２０〜１１０（保護フィルムが剥離された転
写層の表面光沢度が３０〜１１０）の範囲内にあるとい
うことは、無機成分の分散不良による凝集物やピンホー
ル等の欠陥がなく転写層の表面平滑性が優れることであ
り、このような転写層は、保護フィルムのラミネート時
において転写層と保護フィルムとの間に気泡が入り込む
ことを防止し、転写時における被転写体への密着性に優
れ良好な転写性を有する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。

【００１１】図１は本発明の転写シートの一実施形態を
示す概略断面図である。図１において、転写シート１
は、ベースフィルム２と転写層３とを備える。転写層３
はベースフィルム２に対して剥離可能に設けられたもの
であり、ガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能
な有機成分を少なくとも含有するとともに、表面光沢度
が２０〜１１０、好ましくは３０〜１１０、更に好まし
くは４０〜９０の範囲内となるように設定されている。

【００１２】また、図２は本発明の転写シートの他の実
施形態を示す概略断面図である。図２において、転写シ
ート１１は、ベースフィルム１２と、このベースフィル
ム１２上に剥離可能に設けられた転写層１３と、さら
に、転写層１３上に剥離可能に設けられた保護フィルム
１４とを備える。転写層１３は、ガラスフリットを含む
無機成分と焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有す
る。そして、転写層１３は、保護フィルム１４が剥離可
能に設けられる前の状態における表面光沢度と、保護フ
ィルム１４が剥離された後の表面光沢度とが、３０〜１
１０の範囲、好ましくは４０〜１００の範囲内となるよ
うに設定されている。

【００１３】本発明の転写シート１，１１は、上記のよ
うに転写層の表面光沢度が２０〜１１０の範囲内にある
ので表面平滑性に優れ、転写シート１１では、保護フィ
ルム１４のラミネート時において転写層１３と保護フィ
ルム１４との間に気泡が入り込むことが防止され、ま
た、転写層３，１３の被転写体への転写（転写シート１
１では保護フィルム１４を剥離した後の被転写体への転
写）において密着性が向上して転写性が良好なものとな
る。

【００１４】本発明において転写層の表面光沢度は日本
電色工業（株）製グロスメーターＶＧＳ−１００１ＤＰ
を用いて測定した値であり、この表面光沢度を転写層
３，１３の表面性の指標とするものである。すなわち、
転写層３，１３に無機成分の分散不良による凝集物やピ
ンホール等の欠陥がある場合、表面平滑性が低下し、そ
れが表面光沢度に反映されて、表面光沢度が２０未満と
なる。また、通常、保護フィルム１４が設けられた転写
層１３の表面平滑性は向上するが、保護フィルム１４の
転写層１３との接触面の表面平滑性が悪い場合、保護フ
ィルム１４を剥離した状態での転写層１３の表面平滑性
が低下し、それが表面光沢度に反映されて、表面光沢度
が３０未満となる。したがって、転写層３の表面光沢度
を２０以上、保護フィルム１４を剥離した後の転写層１
３の表面光沢度を３０以上とすることにより、表面性に
優れた転写層を備えた転写シートとすることができる。
このように、表面光沢度が高いほど転写層３，１３の表
面性は良好なものとなるが、表面光沢度が１１０を超え
ると、表面性向上による更なる効果が期待できずに製造
コストの増大、製造歩留の低下を来すことがあるので、
表面光沢度の上限は１１０程度が好ましい。

【００１５】転写層３，１３の表面光沢度は、後述する
無機成分の粉体形状や含有量、有機成分の種類や含有
量、使用する溶剤、塗布条件等により影響されるので、
表面光沢度が上記の範囲内に入るような条件を設定して
転写層３，１３を形成する必要がある。

【００１６】このような転写シート１，１１は、シート
状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコ
アに巻き回したロール形状とすることができる。使用す
るコアは、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにＡＢＳ
樹脂、塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコ
ア、樹脂を含浸させた紙管等が好ましい。

【００１７】次に、上記の転写シート１，１１の構成に
ついて説明する。ベースフィルム 本発明の転写シート１，１１を構成するベースフィルム
２，１２は、転写層３，１３を形成するときのインキ組
成物に対して安定であり、また、柔軟性を有し、かつ、
張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用す
る。

【００１８】用いる材料としては、まず、樹脂フィルム
を挙げることができる。樹脂フィルムの具体例として
は、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共重
合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体フ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニ
ルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテ
ルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィル
ム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォン
フィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオラ
イドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィ
ルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピ
レンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィル
ム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキシ
レンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレン
ナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢
酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポ
リウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテ
ルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合
したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１
軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を
用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸
フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方
向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィ
ルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせた
もの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂
から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しするこ
とによって作成される複合フィルム等を挙げることがで
きる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、
例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コ
ロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン処理ポ
リプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使用して
もよい。

【００１９】また、ベースフィルム２，１２として金属
箔や金属鋼帯を用いることもできる。このような金属箔
や金属鋼帯の具体例として、銅箔、銅鋼帯、アルミニウ
ム箔、アルミニウム鋼帯、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ３０
１、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ４２０Ｊ２およびＳＵＳ６３
１等のステンレス鋼帯、ベリリウム鋼帯等を挙げること
ができる。さらに、上述の金属箔あるいは金属鋼帯を上
述の樹脂フィルムに貼り合わせたものを使用することも
できる。

【００２０】上記のようなベースフィルム２，１２の厚
みは、４〜４００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍの
範囲で設定することができる。転写層 転写層３，１３は、ガラスフリットを含む無機成分と焼
成除去可能な有機成分を少なくとも含有するインキ組成
物を、ベースフィルム２，１２上にダイレクトグラビア
コーティング法、グラビアリバースコーティング法、リ
バースロールコーティング法、スライドダイコーティン
グ法、スリットダイコーティング法、コンマコーティン
グ法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布
手段により塗布、乾燥して形成することができる。 （１）無機成分 上記のガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が３
５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7〜１００×１０^-7／℃であるガラスフリットを使用す
ることができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃
を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被
パターン形成体の耐熱性が低い場合には焼成段階で熱変
形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリ
ットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により有機成
分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリッ
トが融着するため、空隙を生じやすく好ましくない。さ
らに、ガラスフリットの熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7／℃未満、あるいは、１００×１０^-7／℃を超える
と、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなり
すぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましく
ない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜
１０μｍの範囲が好ましい。このようなガラスフリット
としては、例えばＢｉ₂ Ｏ₃ またはＰｂＯを主成分とす
るガラスフリットを使用することができる。

【００２１】また、転写層３，１３は、無機粉体として
酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラ
スフリット１００重量部に対して３０重量部以下の範囲
で含有することができる。このような無機粉体は、平均
粒径が０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。

【００２２】また、本発明の転写シート１，１１を障壁
形成用として使用する場合、形成した障壁パターンの外
光反射を低減し、実用上のコントラストを向上させるた
めに、無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは白色顔
料を転写層３，１３に含有させることができる。耐火性
の黒色顔料としては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−
Ｆｅ，Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等
を挙げることができる。また、耐火性の白色顔料として
は、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸カル
シウム等が挙げられる。 （２）有機成分 転写層３，１３に含有される焼成除去可能な有機成分と
して、熱可塑性樹脂を使用することができる。

【００２３】熱可塑性樹脂は、上述の無機成分のバイン
ダとして、また、転写性の向上を目的として含有させる
ものであり、例えば、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチル
メタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペン
チルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−
ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチ
ルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デ
シルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等の１
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。

【００２４】特に、上記のなかでメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの１種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。

【００２５】上記の熱可塑性樹脂の分子量は、１０，０
００〜５００，０００の範囲が好ましい。

【００２６】また、転写層３，１３に含有される焼成除
去可能な有機成分として、感光性樹脂組成物を使用する
ことができる。

【００２７】感光性樹脂組成物は、少なくともポリマ
ー、モノマーおよび開始剤を含有するものであり、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。

【００２８】ポリマーとしては、メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリ
レート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリ
レート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの１種
以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量
体（例えば、東亜合成（株）製Ｍ−５６００）、コハク
酸２−メタクリロイルオキシエチル、コハク酸２−アク
リロイルオキシエチル、フタル酸２−メタクリロイルオ
キシエチル、フタル酸２−アクリロイルオキシエチル、
ヘキサヒドロフタル酸２−メタクリロイルオキシエチ
ル、ヘキサヒドロフタル酸２−アクリロイルオキシエチ
ル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、
ビニル酢酸、これらの酸無水物等の１種以上からなるポ
リマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロー
ス誘導体等が挙げられる。

【００２９】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００３０】上記のポリマーの分子量は、５，０００〜
３００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，０
００の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマ
ー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニ
ルアルコール誘導体、Ｎ−メチル−２−ピロリドンポリ
マー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合す
ることができる。

【００３１】感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマ
ーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニ
ル−２−ピロリドン等が挙げられる。本発明では、上記
の反応性モノマーを１種または２種以上の混合物とし
て、あるいは、その他の化合物との混合物として使用す
ることができる。

【００３２】感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メ
チル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、
α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエト
キシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、
２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチル
シクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン
−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン
−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベ
ンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられる。本発
明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上使
用することができる。

【００３３】このような熱可塑性樹脂あるいは感光性樹
脂組成物の転写層３，１３における含有量は、上述の無
機成分１００重量部に対して３〜５０重量部、好ましく
は５〜３０重量部の範囲で設定することができる。熱可
塑性樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が３重量部未満で
あると、転写層３，１３の形状保持性が低く、特に、ロ
ール状態での保存性、取扱性に問題を生じ、また、転写
シート１，１１を所望の形状に切断（スリット）する場
合に無機成分がごみとして発生し、プラズマディスプレ
イパネル作製に支障を来すことがある。一方、熱可塑性
樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が５０重量部を超える
と、焼成により有機成分を完全に除去することができ
ず、焼成後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好
ましくない。

【００３４】さらに、上述の熱可塑性樹脂、感光性樹脂
組成物には、添加剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖
移動剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定
剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応
じて含有することができる。

【００３５】転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−
ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２
−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケー
ト、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ
−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ
−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２
−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の
低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることができる。

【００３６】また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。

【００３７】また、転写層３，１３形成のために熱可塑
性樹脂あるいは感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤と
しては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−
テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカ
ルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル
等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテー
ト、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、シクロ
ヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、
３−メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレン
グリコールジアルキルエーテル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、安息香酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられ
る。保護フィルム 本発明の転写シート１１を構成する保護フィルム１４
は、保護フィルム１４剥離後の転写層１３の表面光沢度
を３０〜１１０の範囲から逸脱させることのない表面性
を有し、柔軟で、張力もしくは圧力で著しい変形を生じ
ない材料を使用することができる。具体的には、ポリエ
チレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィル
ム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポ
リプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメ
タクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビ
ニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラールフィル
ム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフ
ィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフ
ォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフル
オロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフル
オライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレン
フィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプ
ロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフ
ィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレ
ートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸セルロ
ースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタ
ンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミド
フィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合したフィ
ルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１軸延伸も
しくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用いて流
れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィル
ム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向の延
伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィルムの
うちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたもの、
および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂から選
ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすることによ
って作成される複合フィルム等を挙げることができる。
これらのフィルムのうちで、特に２軸延伸ポリエステル
フィルムを使用することが好ましい。また、上記の樹脂
フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコン処理ポ
リエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレンテ
レフタレート、メラミン処理ポリエチレンテレフタレー
ト、コロナ処理ポリエチレン、コロナ処理ポリプロピレ
ン、シリコン処理ポリプロピレン等を使用してもよい。

【００３８】上記のような保護フィルム１４の厚みは、
４〜４００μｍ、好ましくは６〜１５０μｍの範囲で設
定することができる。

【００３９】次に、上述のような本発明の転写シートを
用いたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の誘電体
層の形成の例を説明する。

【００４０】ここで、誘電体層の形成を説明する前に、
ＡＣ型のＰＤＰについて説明する。

【００４１】図３はＡＣ型ＰＤＰを示す概略構成図であ
り、前面板と背面板を離した状態を示したものである。
図３において、ＰＤＰ５１は前面板６１と背面板７１と
が互いに平行に、かつ対向して配設されており、背面板
７１の前面側には、立設するように障壁７６が形成さ
れ、この障壁７６によって前面板６１と背面板７１とが
一定間隔で保持される。前面板６１は、前面ガラス基板
６２を有し、この前面ガラス基板６２の背面側に透明電
極である維持電極６３と金属電極であるバス電極６４と
からなる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆っ
て誘電体層６５が形成されており、さらにその上にＭｇ
Ｏ層６６が形成されている。また、背面板７１は、背面
ガラス基板７２を有し、この背面ガラス基板７２の前面
側には下地層７３を介して上記複合電極と直交するよう
に障壁７６の間に位置してアドレス電極７４が互いに平
行に形成され、また、これを覆って誘電体層７５が形成
されており、さらに障壁７６の壁面とセルの底面を覆う
ようにして蛍光体層７７が設けられている。このＡＣ型
ＰＤＰでは、前面ガラス基板６２上の複合電極間に交流
電源から所定の電圧を印加して電場を形成することによ
り、前面ガラス基板６２と背面ガラス基板７２と障壁７
６とで区画される表示要素としての各セル内で放電が行
われる。そして、この放電により生じる紫外線により蛍
光体層７７が発光させられ、前面ガラス基板６２を透過
してくるこの光を観察者が視認するようになっている。

【００４２】次に、上述のＰＤＰの背面板７１における
誘電体層７５の形成を説明する。

【００４３】図４は本発明の転写シート１を用いた誘電
体層７５の形成を説明するための工程図である。

【００４４】図４において、まず、下地層７３上にアド
レス電極パターン７４が設けられた背面ガラス基板７２
に転写シート１の転写層３側を圧着し、その後、ベース
フィルム２を剥離して転写層３を転写する（図４
（Ａ））。この転写工程では、転写シート１の転写層３
の表面光沢度が２０〜１１０の範囲内にあるので、転写
層３の転写面側の表面平滑性は優れたものであり、下地
層７３およびアドレス電極パターン７４への密着性が高
く、転写層３の良好な転写が行える。尚、転写層３の転
写において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加
熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。

【００４５】その後、焼成してパターン３´の有機成分
を除去することにより、誘電体層７５を形成する（図４
（Ｄ））。

【００４６】上述の例では、図１に示されるような本発
明の転写シートが使用されているが、図２に示されるよ
うな保護フィルムを備えた転写シートを使用する場合、
保護フィルムを剥離除去した後に図４と同様の操作によ
り誘電体層の形成を行うことが可能である。また、誘電
体層７５を所望のパターンで形成せずに全ベタで形成す
る場合は、転写層を転写した後、直ちに有機成分を焼成
除去することができる。

【００４７】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。

【００４８】まず、下記組成の誘電体形成用のインキ組
成物を調製した。

【００４９】 インキ組成物の組成 ・ガラスフリット … ７０重量部 （主成分：Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ，Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ） 平均粒径＝３μｍ） ・ＴｉＯ₂ … ７重量部 ・Ａｌ₂ Ｏ₃ … ５重量部 （上記の無機成分混合体の軟化点＝５７０℃、Ｔｇ＝４８５℃ 熱膨張係数α₃₀₀ ＝８０×１０^-7／℃） ・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシエチル メタクリレート共重合体（８／２（モル比）） … ２０重量部 （分子量＝３００，０００） ・アジピン酸エステル系の転写性付与剤 … １２重量部 （旭電化工業（株）製アデカカイザーＲＳ１０７） ・プロピレングリコールモノメチルエーテル … ５０重量部 次に、ベースフィルムとしてポリエチレンテレフタレー
トフィルム（東レ（株）製Ｔ−６０）を準備し、このベ
ースフィルム上に上記のインキ組成物をブレードコート
法により塗布し乾燥（１００℃、２分間）して厚み２５
μｍの転写層を形成した。

【００５０】次に、この転写層に保護フィルムとしてシ
リコン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（東セ
ロ（株）製ＳＰ−ＰＥＴ−０３−２５−Ｃ（厚み２５μ
ｍ））をラミネートして、図２に示されるような転写シ
ート（試料１）を形成した。

【００５１】また、上記のインキ組成物の分散条件を種
々変えてインキ組成物を調製し、このインキ組成物を使
用して上記と同様にして転写シート（試料２〜５）を作
製した。特に、試料４および試料５は、故意に分散不良
を生じさせたインキ組成物を使用して作製した。

【００５２】このように作製した各転写シート（試料１
〜５）について、保護フィルムをラミネートする前の転
写層の表面光沢度をグロスメーター（日本電色工業
（株）製ＶＧＳ−１００１ＤＰ）で測定し、また、保護
フィルムをラミネートした状態での気泡の混入の有無を
観察して、これらの結果を下記の表１に示した。

【００５３】次いで、上記の各転写シート（試料１〜
５）を所定の幅にスリットし、ＡＢＳ樹脂製のコアに巻
き回し、ロール状態で２５℃の条件で７日間保存した。
その後、保護フィルムを剥離して転写層の表面光沢度を
上記と同様に測定し、結果を下記の表１に示した。

【００５４】また、上記の保存後の転写シートの保護フ
ィルムを剥離し、１００℃に加温したガラス基板（電極
パターンが既に形成されたもの）上にオートカットラミ
ネータを用いて４０℃の熱ロールで圧着した。次に、室
温まで冷却した後、ベースフィルムを剥離して転写層を
ガラス基板に転写した。この転写工程における各転写シ
ート（試料１〜５）の転写性を観察し、結果を下記の表
１に示した。

【００５５】次に、ガラス基板を５７０℃で焼成して誘
電体層を形成した。

【００５６】このように形成された誘電体層の厚みを測
定し、また、表面状態を観察して下記の表１に示した。

【００５７】

【表１】 表１に示されるように、本発明の転写シート（試料１〜
３）は、転写層と保護フィルムとの間に気泡の混入がな
く、ガラス基板への転写性も良好であった。また、これ
らの転写シートを用いて形成した誘電体層は、厚みが均
一で表面の平坦性も良好であることが確認された。

【００５８】これに対して、保護フィルムをラミネート
する前の転写層の表面光沢度が２０に達していない転写
シート（試料４）では、転写層と保護フィルムとの間に
気泡の混入がみられ、また、ガラス基板への転写性も、
転写層の膜切れやガラス基板との密着不良等が発生して
悪いものであった。さらに、この転写シート（試料４）
を用いて形成した誘電体層は、焼成後も同様に基板との
密着不良が発生し、エアーの混入が認められた。また、
試料５では、保護フィルムとラミネートすることができ
ず、ガラス基板へも転写できなかった。

【００５９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればベ
ースフィルム上に、ガラスフリットを含む無機成分と、
焼成除去可能な有機成分とを少なくとも含有し、かつ、
表面光沢度が２０〜１１０（保護フィルムが剥離された
転写層の表面光沢度が３０〜１１０）の範囲内にある転
写層を剥離可能に設けて転写シートとするので、転写層
は無機成分の分散不良による凝集物やピンホール等の欠
陥がなく表面平滑性に優れ、保護フィルムを備える場合
には転写層と保護フィルムとの間に気泡が入り込むこと
がないので転写層の良好な表面平滑性が保たれ、被転写
体への転写層の転写性が良好なものとなり、層厚の均一
な誘電体層の形成が可能となり、また、有機成分が感光
性を有する場合には、露光・現像によるパターニングの
精度が高く、これにより、誘電体の高精細なパターン形
成が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断
面図である。

【図２】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。

【図３】プラズマディスプレイパネルの一例を示す概略
構成図である。

【図４】本発明の転写シートを用いた誘電体層形成の一
例を説明するための工程図である。

【符号の説明】

１，１１…転写シート ２，１２…ベースフィルム ３，１３…転写層 １４…保護フィルム Ｍ…フォトマスク

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースフィルムと、該ベースフィルム上
   に剥離可能に設けられた転写層を少なくとも備え、該転
   写層はガラスフリットを含む無機成分、焼成除去可能な
   有機成分を少なくとも含有し、かつ、表面光沢度が２０
   〜１１０の範囲にあることを特徴とする転写シート。
2. 【請求項２】 前記転写層上に剥離可能に保護フィルム
   を備え、該保護フィルムが剥離された状態での転写層の
   表面光沢度が３０〜１１０の範囲にあることを特徴とす
   る請求項１に記載の転写シート。
3. 【請求項３】 前記有機成分は感光性を有することを特
   徴とする請求項１または請求項２に記載の転写シート。