JPH11133623A - 被製版ロールへのパターン露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビーム走査による直接多重露光を行う際に、
正確な位置合わせを行う。 【解決手段】 表面にレジスト層を塗布した被製版ロー
ル１００をチャック１０で固定する。製版面１１０の端
部に指標Ｍを描いておく。回転駆動手段２０で被製版ロ
ール１００を回転させながら、指標検出手段５０で光学
的に指標Ｍが所定位置にきたことを検出し、その時点で
ロータリエンコーダ４０から与えられた回転角度信号θ
に基づいて、指標Ｍの回転角度変位量Δθを決定する。
パターンデータ格納手段７０内に用意されたパターンの
ラスターデータを、変位量Δθに応じたタイミングで露
光ビーム照射手段３０に与えることにより、製版面１１
０上のパターン描画の起点位置が毎回同じになるように
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は被製版ロールへのパ
ターン露光装置に関し、特に、同一の被製版ロールに対
して複数回の露光を行うのに適したパターン露光装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】グラビア印刷用の刷版やエンボス加工用
のエンボス版は、通常、円柱状の被製版ロールの外面に
凹凸構造を形成することにより作成される。凹凸構造の
形成方法としては、打刻針やレーザ光などで彫刻する彫
刻方式と、エッチング液を用いて腐食する腐食方式と
が、広く利用されている。後者の腐食方式を採る場合、
パターン露光装置を用いた露光が行われる。すなわち、
被製版ロールの製版面（ロールの外周面）に感光性レジ
スト層をコーティングし、このレジスト層上に所定のパ
ターンを焼き付け、現像を行った後にエッチング液を作
用させ、所定のパターンに応じた部分のみを腐食除去す
る工程が行われる。

【０００３】被製版ロールの製版面にパターンを焼き付
ける方法として、フィルムを用いた方法が古くから行わ
れている。この方法では、所定のパターンが二値画像と
して描かれたフィルムを、レジスト層をコーティングし
た被製版ロールの外周面に巻き付け、フィルムごしに光
を照射することになる。一方、フィルムを用いずに、ビ
ーム走査により直接露光を行う方法も近年盛んに行われ
ている。この方法では、焼き付けるパターンをデジタル
データの形式で用意し、このデジタルデータに基づい
て、レーザ光などのビームを走査するとともに照射／非
照射を制御し、製版面上に所望のパターンを描くことに
なる。このようなビームを用いた直接露光に利用される
パターン露光装置には、デジタルパターンデータに基づ
いて、ビームを走査する機構が備わっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】グラビア印刷用の刷版
やエンボス加工用のエンボス版には、平面的な二次元パ
ターンを表現するための凹凸構造が形成されるのが一般
的である。しかしながら、最近は、三次元の情報をもっ
たパターンを凹凸構造として形成し、製品の品質をより
高めようとする提案がなされている。たとえば、特許協
力条約に基づく国際公開第ＷＯ９５／２１０６０号公報
には、木目模様の壁紙に、木目導管溝の凹凸構造をエン
ボス加工により表現する手法が開示されている。この手
法によると、深部ほど径が小さくなるような導管溝がエ
ンボス加工により形成される。このような三次元形状を
もった導管溝用のエンボス版を腐食方式で作成するに
は、複数枚のパターンを用意し、個々のパターンごとに
焼き付け、現像、腐食といった工程を繰り返す多重露光
を行う必要がある。そのため、複数のパターン間での位
置合わせが必要になる。

【０００５】パターンを焼き付ける際に、上述したフィ
ルムを用いる方法を採る場合、被製版ロールの外周面に
フィルムを巻き付けるときに、パターンの位置合わせを
行うことが可能である。すなわち、既に第１枚目のパタ
ーンが形成された被製版ロール上に、第２枚目のパター
ンが描かれたフィルムを巻き付ける場合、肉眼で両パタ
ーンの位置関係を把握しながら、フィルムを正しい位置
に合わせることが可能である。ところが、ビーム走査に
より直接露光を行う方法を採る場合、従来のパターン露
光装置では、両パターンの位置合わせ作業が非常に困難
である。従来の一般的なパターン露光装置は、もとも
と、同一の被製版ロール上に複数枚のパターンを重複露
光させるような利用形態を想定していないため、第１回
目の露光時の被製版ロールの位置（特に、軸回りの回転
位置）と第２回目の露光時の被製版ロールの位置とを正
確に合わせる機構をもちあわせていない。すなわち、既
に第１枚目のパターンが形成された被製版ロール上に、
第２枚目のパターンをビームによって描画する場合、第
１枚目のパターンは肉眼で確認することができる物理的
なパターンであるのに対し、第２枚目のパターンは、デ
ジタルデータとして用意されたパターンであるので、両
者を肉眼で位置合わせすることはできない。

【０００６】このような事情から、ビーム走査による直
接露光を行うパターン露光装置を用いて多重露光を行う
際には、筆記具などを用いて被製版ロール上に目安線を
描いておき、この目安線に基づいて大まかな位置合わせ
を行っている。しかしながら、木目導管溝のように、１
０μｍ〜１００μｍのオーダーをもった細かなパターン
についての多重露光を行う場合、このような目安線に基
づく位置合わせでは、十分な精度は到底得ることができ
ない。もちろん、被製版ロールによっては、パターン露
光装置側のチャックに設けられたキー溝に嵌合するキー
が形成されているタイプのものがあり、このようなタイ
プの被製版ロールを用いれば、被製版ロール側のキー
を、チャック側のキー溝に嵌合させた状態で取り付ける
ことにより、正確な位置合わせは可能である。ただ、キ
ーとキー溝の組み合わせには種々の規格があり、実際に
は、キーなしタイプの被製版ロールが多数利用されてい
るのが現状である。

【０００７】そこで本発明は、ビーム走査による直接多
重露光を行う際に、正確な位置合わせが可能な被製版ロ
ールへのパターン露光装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

(1) 本発明の第１の態様は、露光対象となる被製版ロ
ールの製版面にビームを照射して所定のパターンを露光
する被製版ロールへのパターン露光装置において、被製
版ロールの軸を把持固定するチャックと、このチャック
を被製版ロールの軸まわりに回転させる回転駆動手段
と、被製版ロールの製版面に照射する露光用のビームを
発生するビーム発生部と、発生したビームを被製版ロー
ルの軸方向に走査するビーム走査部と、を有する露光ビ
ーム照射手段と、露光すべきパターンを示すパターンデ
ータを格納したパターンデータ格納手段と、チャックの
回転位置を検出するロータリエンコーダと、被製版ロー
ル上に設けられた指標を所定位置にて検出する指標検出
手段と、この指標検出手段の検出信号と、ロータリエン
コーダの検出信号とに基づいて、チャックの基準回転位
置に対する指標の回転角度変位量を求める変位量検出手
段と、回転駆動手段に対して回転制御信号を与えるとと
もに、パターンデータに基づいて露光ビーム照射手段に
パターン描画信号を与える機能を有し、変位量検出手段
が求めた回転角度変位量に応じて、パターン描画信号を
与えるタイミングを調節する機能を有する制御手段と、
を設けるようにしたものである。

【０００９】(2) 本発明の第２の態様は、上述の第１
の態様に係る被製版ロールへのパターン露光装置におい
て、指標検出手段が、被製版ロールの回転円周軌道面上
の固定位置からの反射光強度を光学的に検出する装置を
有するようにしたものである。

【００１０】(3) 本発明の第３の態様は、上述の第１
または第２の態様に係る被製版ロールへのパターン露光
装置において、パターンデータ格納手段内に格納するパ
ターンデータを、ラスターデータの形式で用意してお
き、ロータリエンコーダの示すチャックの回転位置が、
変位量検出手段によって求められた回転角度変位量に一
致したタイミングで、ラスターデータの先頭を露光ビー
ム照射手段へ供給開始するようにしたものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示する実施形態
に基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態に係る
被製版ロールへのパターン露光装置の基本構成を示すブ
ロック図である。この装置は、露光対象となる被製版ロ
ール１００の製版面１１０にビームを照射して所定のパ
ターンを露光する機能を有する。製版面１１０は、通
常、銅や鉄などの金属から構成されており、表面に感光
性のレジスト層（以下、単にレジスト層と呼ぶ）がコー
ティングされた状態になっている。このパターン露光装
置は、製版面１１０上のレジスト層にビームを照射し、
露光部と非露光部とからなるパターンを形成する露光処
理を行うことになる。この露光処理が完了した被製版ロ
ール１００は、別の現像装置において現像され、レジス
ト層のうちの露光部（ポジ型レジストの場合）もしくは
非露光部（ネガ型レジストの場合）が除去されることに
なる。その後、製版面１１０に腐食液を作用させると、
レジスト層が除去されて露出した金属面が腐食を受けて
窪み、露光したパターンに応じた凹凸構造が形成される
ことになる。

【００１２】このパターン露光装置の基本構成要素は、
図１に示されているとおり、チャック１０と、回転駆動
手段２０と、露光ビーム照射手段３０と、ロータリエン
コーダ４０と、指標検出手段５０と、変位量検出手段６
０と、パターンデータ格納手段７０と、制御手段８０と
である。なお、図１では、各構成要素間における電気信
号の伝達経路を実線の矢印で示し、機械的な動力の伝達
経路を白抜きの太矢印で示し、光学的なビームや信号の
伝達経路を破線の矢印で示してある。

【００１３】チャック１０は、被製版ロール１００の軸
を把持固定する機能をもった構成要素であり、図示のと
おり被製版ロール１００の両端にそれぞれ設けられてい
る。被製版ロール１００は、図に一点鎖線で示す回転軸
Ａを中心軸として、この軸回りに回転駆動させられる円
柱状のシリンダーであり、その両端には、円柱状の軸芯
部１２０および軸端部１３０が設けられている。チャッ
ク１０は、３組の把持爪１１を備えており、この３組の
把持爪１１によって、軸端部１３０を把持固定すること
ができる。図２は、チャック１０による軸端部１３０の
固定状態を示す図であり、図１に示すチャック１０を、
回転軸Ａに沿った方向からみた図に相当する。図の中央
に描かれた円は、軸端部１３０の位置を示すものであ
る。３組の把持爪１１は、チャック１０の半径方向に摺
動可能になっており、それぞれを中心方向に摺動させ、
内端面を軸端部１３０の外周面に当接した状態で固定す
ることにより、軸端部１３０をしっかりと把持固定する
ことができる。

【００１４】もっとも、図示したチャック１０は、現
在、一般的に利用されているチャックの一形態の構造を
例として示したものであり、この他にも種々の形態のチ
ャックを用いてかまわない。たとえば、被製版ロール１
００によっては、軸芯部１２０および軸端部１３０を有
しておらず、単なる中空の円筒シリンダー状のタイプも
ある。このようなタイプの被製版ロールについては、別
途用意した軸芯部１２０および軸端部１３０に相当する
ホルダー部品を両端に嵌合させた後、チャック１０に固
定することになる。

【００１５】回転駆動手段２０は、チャック１０を回転
軸Ａまわりに回転駆動させる手段であり、この実施形態
では、電動モータを内蔵した駆動装置により構成されて
いる。制御手段８０から与えられる回転制御信号Ｃに基
づいて、回転駆動手段２０は、所定の回転速度でチャッ
ク１０を回転駆動させる機能を有する。なお、図示の例
では、一対のチャック１０のうち、右側のチャック１０
に対してのみ回転駆動手段２０からの動力が伝達され、
左側のチャック１０は、単に、被製版ロール１００を把
持固定する機能のみを有する。

【００１６】露光ビーム照射手段３０は、被製版ロール
１００の製版面１１０に照射する露光用のビームＢ（こ
の例では、レーザ光ビームを用いているが、電子線ビー
ムなど他の荷電粒子や電磁波のビームを用いてもかまわ
ない）を発生するビーム発生部３１と、発生したビーム
Ｂを被製版ロール１００の軸方向に走査するビーム走査
部３２と、を有する。回転駆動手段２０によって、製版
面１１０を回転させると、露光用のビームＢを製版面１
１０の円周方向に走査させることができるが、ビーム走
査部３２によってビーム発生部３１を軸方向に移動させ
れば、露光用のビームＢを製版面１１０の回転軸Ａ方向
に走査させることができる。こうして、露光ビーム照射
手段３０は、制御手段８０から与えられるパターン描画
信号Ｓに基づいて、製版面１１０の全面をビーム走査に
より露光する処理を行う。。

【００１７】ロータリエンコーダ４０は、チャック１０
の回転位置を電気信号として検出する機能を有する。こ
の例では、ロータリエンコーダ４０は、図の右側のチャ
ック１０の回転角度を０°〜３６０°の範囲内の回転角
度信号θとして出力する機能を有する。この回転角度信
号θは、図の右側のチャック１０の絶対的な回転角度位
置を示すものであるが、被製版ロール１００の絶対的な
回転角度位置を示すものではない。なぜなら、被製版ロ
ール１００とチャック１０との相対的な回転角度位置
は、常に一定ではなく、チャック１０への取り付け作業
を行うたびに変動するからである。すなわち、図２に示
すように、軸端部１３０を把持爪１１によって把持固定
した状態では、被製版ロール１００とチャック１０との
相対的な回転位置は固定されるが、把持爪１１を緩め、
被製版ロール１００をチャック１０から取り外してしま
うと、両者の相対的な回転位置関係は失われてしまう。
次に述べる指標検出手段５０および変位量検出手段６０
は、被製版ロール１００とチャック１０との相対的な回
転位置関係を記録する機能を果たす。

【００１８】まず、指標検出手段５０は、被製版ロール
１００上に設けられた指標Ｍを所定位置にて検出する機
能を有する。指標Ｍは、図示の例では、製版面１１０上
に形成された十字状のマークになっているが、パターン
形成の邪魔にならない位置であれば、被製版ロール１０
０の任意の位置に設けるようにしてかまわない。また、
指標Ｍの形状も任意の形状でよい。被製版ロール１００
が回転駆動させられると、この指標Ｍは所定の円周軌道
上を移動することになる。指標検出手段５０は、指標Ｍ
がこの円周軌道上の所定位置に到来したことを検出する
ことができれば、どのような手段で構成してもかまわな
い。この例では、指標検出手段５０は、被製版ロール１
００の回転円周軌道面上の固定位置からの反射光強度を
光学的に検出する装置によって構成されている。すなわ
ち、被製版ロール１００の回転によって指標Ｍが到来す
ることになる所定の固定位置に、光ビームを照射し、こ
の固定位置からの反射光の強度を半導体感光素子によっ
て電気信号として検出するようにしている。指標検出手
段５０からの検出信号Ｄは、変位量検出手段６０に与え
られる。

【００１９】変位量検出手段６０は、指標検出手段５０
から与えられる検出信号Ｄと、ロータリエンコーダ４０
から与えられる回転角度信号θとに基づいて、チャック
１０の基準回転位置に対する指標Ｍの回転角度変位量Δ
θを求める機能を有する。図３は、この変位量検出手段
６０による回転角度変位量Δθの検出原理を示すグラフ
である。グラフの上段には、指標検出手段５０から与え
られる検出信号Ｄの信号波形が示されている。すなわ
ち、横軸に時間軸ｔをとり、縦軸に信号Ｄの強度をとる
と、指標Ｍが所定の固定位置に到来した時点において、
反射光強度が低下するため、信号Ｄの強度が低下してい
ることがわかる。一方、グラフの下段には、ロータリエ
ンコーダ４０から与えられる回転角度信号θのとるべき
範囲である０°〜３６０°の目盛りが横軸上に示されて
いる。被製版ロール１００を回転させると、ロータリエ
ンコーダ４０からは、その時点での回転角度信号θの値
がリアルタイムで与えられることになる。したがって、
変位量検出手段６０は、指標検出手段５０から与えられ
る検出信号Ｄと、ロータリエンコーダ４０から与えられ
る回転角度信号θとに基づいて、チャック１０の基準回
転位置に対する指標Ｍの回転角度変位量Δθを求めるこ
とができる。図示の例では、ロータリエンコーダ４０か
らの回転角度信号θが０°のときのチャック１０の回転
位置を基準回転位置と定め、検出信号Ｄの信号強度が最
低となった時点において、ロータリエンコーダ４０から
与えられた回転角度信号θの値をそのまま回転角度変位
量Δθとして取り扱えるようにしている。具体的には、
図示の例の場合、回転角度変位量Δθ＝１２０°となっ
ている。

【００２０】パターンデータ格納手段７０は、製版面１
１０上に露光すべきパターンを示すパターンデータを格
納している。通常、パターンデータは、縦横に配列され
た多数の画素からなるラスターデータの形式で用意され
ており、個々の画素ごとに、描画／非描画のいずれかを
示す画素値が定義されている。

【００２１】制御手段８０は、回転駆動手段２０に対し
て回転制御信号Ｃを与えるとともに、このパターンデー
タに基づいて露光ビーム照射手段３０にパターン描画信
号Ｓを与える機能を有する。パターン描画信号Ｓは、ビ
ーム発生部３１に対して、ビームの照射／非照射を指示
するとともに、ビーム走査部３２に対して走査指示を与
える信号である。制御手段８０は、回転駆動手段２０の
回転速度およびビーム走査部３２による走査速度を考慮
して、製版面１１０上における露光用のビームＢの走査
位置を認識し、パターンデータ格納手段７０内のパター
ンデータを参照した上で、当該走査位置に対して、露光
用のビームＢを照射すべきか、非照射とすべきかを判断
することになる。パターン描画信号Ｓは、このような照
射／非照射を示すビット列を含む信号になる。

【００２２】本発明の重要な特徴は、制御手段８０が、
変位量検出手段６０が求めた回転角度変位量Δθに応じ
て、パターン描画信号Ｓを与えるタイミングを調節する
機能を有する点である。具体的には、ロータリエンコー
ダ４０の示すチャック１０の回転位置が、変位量検出手
段６０によって求められた回転角度変位量Δθに一致し
たタイミングで、パターンデータ格納手段７０内にパタ
ーンデータとして用意されているラスターデータの先頭
を、露光ビーム照射手段３０へ供給する作業を開始する
処理が行われる。たとえば、図３のグラフに示されてい
る例のように、回転角度変位量Δθが１２０°であった
場合、ロータリエンコーダ４０から与えられる回転角度
信号θの値が１２０°になったタイミングに合わせて、
パターン描画信号Ｓが露光ビーム照射手段３０に与えら
れることになり、パターンは、指標Ｍに対して一定の位
置関係をもった位置から、製版面１１０上に描画される
ことになる。

【００２３】本発明に係るパターン露光装置は、このよ
うな機能を有しているため、被製版ロール１００に対し
て多重露光を行った場合であっても、毎回の露光時に個
々のパターンを正確に位置合わせすることが可能にな
る。たとえば、上述した手順に従って、製版面１１０上
に所定のパターンを露光し、ここで、被製版ロール１０
０を、一旦、チャック１０から取り外し、再びチャック
１０に装着して再度露光を行った場合を考えてみよう。
この場合、被製版ロール１００とチャック１０との相対
的な回転位置は、１回目の露光時と２回目の露光時とで
は異なってしまう。それにもかかわらず、２回のパター
ン露光は、常に、同一の指標Ｍに対して一定の位置関係
をもった位置を起点として行われるため、合計２回のパ
ターン露光によって製版面１１０上に形成された２つの
パターンは、正確に位置合わせがなされたものになる。

【００２４】ここでは、このような多重露光を利用した
エンボス製品を製造するプロセスに、本発明に係るパタ
ーン露光装置を利用した適用例を述べておく。たとえ
ば、図４に側断面図を示すような木目柄の壁紙シート２
００を考える。この壁紙シート２００の表面には、木目
導管溝を模した溝がエンボス加工により形成されてお
り、図示の例では、第１段目の溝２０１と第２段目の溝
２０２とによって、疑似的な木目導管溝が形成されてい
る。このような段差構造をもった疑似的な木目導管溝
は、天然木の木目導管溝に近い構造を有しているため、
壁紙シート２００の表面などに形成すると、より自然な
風合いを表現することができる。

【００２５】このような段差構造をもった溝を壁紙シー
ト２００上に形成するためには、段差構造をもったエン
ボス版を作成する必要がある。段差構造をもったエンボ
ス版を作成する手法には、いくつかの方法が知られてい
るが、最も単純な方法は、複数のパターンを用いて複数
回の腐食工程を繰り返す方法である。たとえば、図５の
平面図に示すような第１枚目のパターンＰ１（木目導管
溝の平面図に相当）を用意し、このパターンＰ１に基づ
いて、製版面１１０を腐食すれば、図６の側断面図に示
すように、第１の段差部１１１を形成することができ
る。続いて、図７の平面図に示すような第２枚目のパタ
ーンＰ２（第１枚目のパターンＰ１と相似形で、面積は
より小さい）を用意し、このパターンＰ２に基づいて、
図６に示す製版面１１０に対して再度の腐食を行えば、
図８の側断面図に示すように、第１の段差部１１１上に
第２の段差部１１２が形成された段差構造を得ることが
できる。この図８に示すような段差構造をもったエンボ
ス版を用いてエンボス加工を行えば、図４に示すような
壁紙シート２００を製造することができる。

【００２６】ところが、壁紙シート２００上に形成され
る疑似的な木目導管溝は、幅が数１０μｍ〜５００μｍ
程度、長さが数１００μｍ〜数ｍｍ程度と、比較的小さ
な寸法をもった模様である。このため、２枚のパターン
Ｐ１，Ｐ２の位置合わせ誤差を、少なくとも５００μｍ
以下に抑えなければ、実用上、利用することはできな
い。本発明に係るパターン露光装置は、このような位置
合わせ誤差の条件を十分に満たしており、実用上十分な
位置精度をもったエンボス版を作成することが可能にな
る。

【００２７】図９は、図８に示すような段差構造をもっ
たエンボス版を、本発明に係るパターン露光装置を利用
して作成する手順を示す流れ図である。まず、ステップ
Ｓ１において、ｎ枚分のパターンデータを作成する。た
とえば、ｎ＝２の場合であれば、図５および図７に示す
ような２枚のパターンＰ１，Ｐ２（図には１つの導管溝
しか示されていないが、実際には、多数の導管溝が並べ
られたパターンを用いる）をラスターデータとして用意
し、パターンデータ格納手段７０内に格納しておけばよ
い。続いて、ステップＳ２において、被製版ロール１０
０の端部に指標Ｍを形成する。指標Ｍは、たとえば、鋭
利な刃物の先端部を利用して、けがき線として製版面１
１０の端部に形成すればよい。そして、ステップＳ３に
おいて、繰り返しパラメータｉ＝１に設定し、ステップ
Ｓ４〜Ｓ１０までの工程をｎ回分だけ繰り返せばよい。

【００２８】まず、ステップＳ４において、被製版ロー
ル１００の外周面にレジスト層をコーティングする。続
いて、ステップＳ５で、この被製版ロール１００のチャ
ッキングを行う。すなわち、両側の軸端部１３０をチャ
ック１０によって把持固定する。このとき、作業者は、
チャック１０に対する被製版ロール１００の相対的な回
転方向に関する位置に留意する必要はない。ただし、軸
方向に関する相対的な位置関係は、常に一定となるよう
にする必要がある。もっとも、一般的なチャック１０で
は、把持爪１１の端面と軸芯部１２０の端面とを当接さ
せることにより、両者の軸方向に関する位置関係が常に
一定になるように配慮されており、作業者は、通常のチ
ャッキング作業を行うだけで十分である。

【００２９】続いて、ステップＳ６において、回転角度
変位量Δθの検出を行う。すなわち、被製版ロール１０
０を回転させることにより、指標検出手段５０から検出
信号Ｄを得るとともに、ロータリエンコーダ４０から回
転角度信号θを得るようにし、図３のグラフで説明した
原理に基づいて、回転角度変位量Δθ１を求める処理を
行う。そして、ステップＳ７において、ｉ枚目（ｉ＝
１）のパターンの露光処理を行う。すなわち、パターン
データ格納手段７０内に格納されている１枚目のパター
ンＰ１のラスターデータを、露光ビーム照射手段３０に
与えて露光を行うが、このとき、回転角度変位量Δθ１
に応じたタイミングで、ラスターデータが与えられるこ
とになる。

【００３０】こうして、製版面１１０への１枚目のパタ
ーン露光が完了したら、被製版ロール１００をチャック
１０から取り外し、ステップＳ８において、被製版ロー
ル１００に対する現像を行い、ステップＳ９において、
被製版ロール１００に対する腐食を行い、ステップＳ１
０において、被製版ロール１００に対する洗浄を行うこ
とになる。これにより、製版面１１０には、図６に示す
ような第１の段差部１１１が形成されることになる。

【００３１】続いて、ステップＳ１１からステップＳ１
２へと進み、パラメータｉの値を２に更新した後、再び
ステップＳ４へと戻り、被製版ロール１００の外周面に
レジスト層をコーティングする作業が行われる。この場
合、図６に示すような段差構造が形成された製版面１１
０の上に、更にレジスト層が形成されることになる。そ
して、ステップＳ５で、この被製版ロール１００のチャ
ッキングを行う。このときも、作業者は、チャック１０
に対する被製版ロール１００の相対的な回転位置に留意
する必要はない。そして、ステップＳ６において、新た
な回転角度変位量Δθ２の検出を行い、ステップＳ７に
おいて、２枚目のパターンの露光処理を行う。すなわ
ち、パターンデータ格納手段７０内に格納されている２
枚目のパターンＰ２のラスターデータを、露光ビーム照
射手段３０に与えて露光を行うが、このときも、直前に
検出された新たな回転角度変位量Δθ２に応じたタイミ
ングで、ラスターデータが与えられることになる。した
がって、２枚目のパターンは、１枚目のパターンに対し
て、正確に位置合わせされた状態で多重露光されること
になる。

【００３２】こうして、製版面１１０への２枚目のパタ
ーン露光が完了したら、被製版ロール１００をチャック
１０から取り外し、ステップＳ８において、被製版ロー
ル１００に対する現像を行い、ステップＳ９において、
被製版ロール１００に対する腐食を行い、ステップＳ１
０において、被製版ロール１００に対する洗浄を行うこ
とになる。これにより、製版面１１０には、図８に示す
ような第２の段差部１１２が形成されることになる。最
後に、ステップＳ１１からステップＳ１３へと進み、必
要に応じて、サンドブラスト処理やクロムメッキ処理な
どの後処理を行えば、エンボス版の作成作業は完了す
る。

【００３３】

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る被製版ロー
ルへのパターン露光装置によれば、被製版ロール上の指
標を基準とした位置合わせを行うことができるため、ビ
ーム走査による直接多重露光を行う際にも、正確な位置
合わせが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施形態に係る被製版ロール
へのパターン露光装置の基本構成を示すブロック図であ
る。

【図２】図１に示すパターン露光装置におけるチャック
１０による軸端部１３０の固定状態を示す図であり、図
１に示すチャック１０を、回転軸Ａに沿った方向からみ
た図である。

【図３】図１に示すパターン露光装置における変位量検
出手段６０による回転角度変位量Δθの検出原理を示す
グラフである。

【図４】本発明に係るパターン露光装置を用いて作成し
た木目柄の壁紙シート２００の側断面図である。

【図５】図４に示す壁紙シート２００のエンボス加工に
用いるエンボス版を作成するために用いた第１枚目のパ
ターンＰ１の平面図である。

【図６】図５に示す第１枚目のパターンＰ１を用いて、
製版面１１０上に第１の段差部１１１を形成した状態を
示す側断面図である。

【図７】図４に示す壁紙シート２００のエンボス加工に
用いるエンボス版を作成するために用いた第２枚目のパ
ターンＰ２の平面図である。

【図８】図７に示す第２枚目のパターンＰ２を用いて、
製版面１１０上に第２の段差部１１２を形成した状態を
示す側断面図である。

【図９】図８に示すような段差構造をもったエンボス版
を、本発明に係るパターン露光装置を利用して作成する
手順を示す流れ図である。

【符号の説明】

１０…チャック １１…把持爪 ２０…回転駆動手段 ３０…露光ビーム照射手段 ３１…ビーム発生部 ３２…ビーム走査部 ４０…ロータリエンコーダ ５０…指標検出手段 ６０…変位量検出手段 ７０…パターンデータ格納手段 ８０…制御手段 １００…被製版ロール １１０…製版面 １１１…第１の段差部 １１２…第２の段差部 １２０…軸芯部 １３０…軸端部 ２００…壁紙シート ２０１…第１段目の溝 ２０２…第２段目の溝 Ａ…回転軸 Ｂ…露光用のビーム Ｃ…回転制御信号 Ｄ…指標の検出信号 Ｍ…指標 Ｓ…パターン描画信号 Ｐ，Ｐ１，Ｐ２…露光用のパターン θ…回転角度信号 Δθ…回転角度変位量

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光対象となる被製版ロールの製版面に
   ビームを照射して所定のパターンを露光するパターン露
   光装置であって、 被製版ロールの軸を把持固定するチャックと、 このチャックを前記被製版ロールの軸まわりに回転させ
   る回転駆動手段と、 前記被製版ロールの製版面に照射する露光用のビームを
   発生するビーム発生部と、発生したビームを前記被製版
   ロールの軸方向に走査するビーム走査部と、を有する露
   光ビーム照射手段と、 露光すべきパターンを示すパターンデータを格納したパ
   ターンデータ格納手段と、 前記チャックの回転位置を検出するロータリエンコーダ
   と、 前記被製版ロール上に設けられた指標を所定位置におい
   て検出する指標検出手段と、 前記指標検出手段の検出信号と、前記ロータリエンコー
   ダの検出信号とに基づいて、前記チャックの基準回転位
   置に対する前記指標の回転角度変位量を求める変位量検
   出手段と、 前記回転駆動手段に対して回転制御信号を与えるととも
   に、前記パターンデータに基づいて前記露光ビーム照射
   手段にパターン描画信号を与える機能を有し、前記変位
   量検出手段が求めた回転角度変位量に応じて、前記パタ
   ーン描画信号を与えるタイミングを調節する機能を有す
   る制御手段と、 を備えることを特徴とする被製版ロールへのパターン露
   光装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のパターン露光装置にお
   いて、 指標検出手段が、被製版ロールの回転円周軌道面上の固
   定位置からの反射光強度を光学的に検出する装置を有す
   ることを特徴とする被製版ロールへのパターン露光装
   置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載のパターン露光
   装置において、 パターンデータ格納手段内に格納するパターンデータ
   を、ラスターデータの形式で用意しておき、 ロータリエンコーダの示すチャックの回転位置が、変位
   量検出手段によって求められた回転角度変位量に一致し
   たタイミングで、前記ラスターデータの先頭を露光ビー
   ム照射手段へ供給開始することを特徴とする被製版ロー
   ルへのパターン露光装置。