JPH11124465A - Antistatic resin composition containing phosphonium fluorinated sulfonate - Google Patents

Antistatic resin composition containing phosphonium fluorinated sulfonate

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JPH11124465A
JPH11124465A JP10205726A JP20572698A JPH11124465A JP H11124465 A JPH11124465 A JP H11124465A JP 10205726 A JP10205726 A JP 10205726A JP 20572698 A JP20572698 A JP 20572698A JP H11124465 A JPH11124465 A JP H11124465A
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sulfonate
antistatic
phosphonium
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    • Y10S524/91Antistatic compositions
    • Y10S524/912Contains metal, boron, phosphorus, or silicon

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition capable of exhibiting excellent heat resistance, transparency and mechanical property by including a thermoplastic polymer and a heat-resistant antistatic agent. SOLUTION: This composition is obtained by mixing (A) an antistatic agent containing a halogenated carbon sulfonate of a multi-substituted phosphonium compound in an amount enough to impart antistatic characteristics with (B) a thermoplastic resin. Phosphonium fluorinated sulfonate is preferable as phosphonium sulfonate of the component A. An aromatic polycarbonate, a polyether imide, a polyester, a polyphenylene ether/polystyrene blend, a polamide, a polyketone, ABS or a blend of these polymer resins is preferable as the component B. Furthermore, the composition preferably comprises 90-99.95 wt.% component B and 10-0.05 wt.% component A.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は帯電防止樹脂組成物
に関するものであり、より具体的には熱可塑性ポリマー
と多置換ホスホニウム化合物のハロゲン化炭素スルホン
酸塩とを含んでなる透明熱可塑性樹脂組成物並びに多置
換ホスホニウム化合物のハロゲン化炭素スルホン酸塩に
関する。
The present invention relates to an antistatic resin composition, and more specifically, to a transparent thermoplastic resin composition comprising a thermoplastic polymer and a halogenated carbon sulfonate of a polysubstituted phosphonium compound. And halogenated carbon sulfonates of polysubstituted phosphonium compounds.

【0002】[0002]

【従来の技術】多くのポリマー又はポリマーブレンドは
比較的非導電性である。そのため、そのままではポリマ
ーの加工処理時及び使用時に静電荷が蓄積される結果と
なりかねない。帯電ポリマー成形品は微粉末たる塵を引
きつけ、滑らかな表面状態を害しかねない。成形品の表
面に引きつけられた粒子は成形品の透明度を低下させて
しまうこともある。さらに、静電荷はポリマーの製造プ
ロセスに重大な支障をきたしかねない。過去には合成高
分子材料の帯電を低減するための様々な試みとして炭素
及び金属粒子のような導電剤又は界面活性剤が、内部に
練込んだり或いはそれらを材料に塗布することで使われ
てきた。導電剤を用いるこれらの方法は、導電剤の通常
の使用量が多量であること、それらの材料への添加が難
しいこと、透明な製品を得ることや機械的及び流動学的
性質をもつ場合にそうした性質を保持するのが困難であ
ること、並びにかかる導電剤のコストが高いことなど多
くの理由のために一般には実施可能でない。そのため、
これらの導電剤は幾つかの限られた状況下でしか使用で
きない。
BACKGROUND OF THE INVENTION Many polymers or polymer blends are relatively non-conductive. As a result, static charge may accumulate during processing and use of the polymer as it is. Charged polymer moldings attract fine powder dust and can impair a smooth surface condition. Particles attracted to the surface of the molded article may reduce the transparency of the molded article. In addition, electrostatic charges can severely hinder the polymer manufacturing process. In the past, conductive agents or surfactants, such as carbon and metal particles, have been used in various attempts to reduce the charge of synthetic polymeric materials by kneading or applying them to the material. Was. These methods using a conductive agent can be used when the usual amount of conductive agent used is large, when it is difficult to add them to a material, when a transparent product is obtained, or when there are mechanical and rheological properties. It is not generally feasible for a number of reasons, such as the difficulty in retaining such properties, and the high cost of such conductive agents. for that reason,
These conductive agents can only be used under some limited circumstances.

【0003】帯電防止剤はポリマーの帯電傾向を低減さ
せるためにポリマーに添加される物質であり、電荷が存
在するときにはこれらの帯電防止剤は電荷の消散を促
す。帯電防止剤は通常は親水性又はイオン性のものであ
る。高分子材料の表面に存在するときには、それらは電
子の移動を促し、それにより静電荷の蓄積をなくす。帯
電防止剤は2通りの方法で使用される。一つは外部帯電
防止剤を用いるもので、かかる外部帯電防止剤は高分子
材料の表面に噴霧するか或いは高分子材料の浸漬によっ
て塗布される。二番目の方法は内部帯電防止剤を用いる
もので、これらは加工処理前のポリマーに添加される。
このようにして使用される帯電防止剤は、熱的に安定で
あるとともに加工処理時に表面に移動する能力をもつこ
とが必要とされる。
[0003] Antistatic agents are substances added to polymers to reduce their tendency to charge, and when charge is present, these antistatic agents help dissipate the charge. Antistatic agents are usually hydrophilic or ionic. When present on the surface of polymeric materials, they facilitate the transfer of electrons, thereby eliminating the build up of electrostatic charge. Antistatic agents are used in two ways. One is to use an external antistatic agent. The external antistatic agent is applied by spraying on the surface of the polymer material or immersing the polymer material. The second method uses internal antistatic agents, which are added to the polymer before processing.
The antistatic agent used in this way is required to be thermally stable and capable of moving to the surface during processing.

【0004】界面活性剤を主成分とする帯電防止剤は多
数存在するので、その中から状況に応じて適当なものを
選択し得る。実際、数多くの内部添加されるタイプが研
究され試験されてきた。ただし、内部添加型帯電防止剤
として使用する場合、アニオン界面活性剤は相溶性及び
均一分散性に劣り、加熱時に分解もしくは劣化する傾向
があるので、取扱いが難しい。他方、両性界面活性剤及
び分子内に第四窒素を有するカチオン界面活性剤は、帯
電防止性は良好であるが、耐熱性が著しく乏しいため限
られた状況下でしか使用できない。非イオン性界面活性
剤について述べると、それらは合成高分子材料との相溶
性に関しては上述のイオン性界面活性剤に比べ相対的に
優れているが、帯電防止性に弱い傾向があり、それらの
効果は常温及び高温で時間経過とともに消失する。さら
に、こうした非イオン性界面活性剤型の帯電防止剤は熱
安定性が限られているため、それらを芳香族ポリカーボ
ネートのようなエンジニアリングプラスチック樹脂と共
に使用するのは該樹脂の加工処理温度によって制限され
る。そこで、これらのタイプの界面活性剤は芳香族ポリ
カーボネートの光学的性質に悪影響を及ぼす。有機スル
ホン酸の金属塩に関しても、特に高温で成形されるポリ
カーボネート及びポリエステル樹脂用の内部添加型帯電
防止剤として報告されているが、これらは樹脂との相溶
性或いは耐熱性が十分でない。相溶性が不十分なときの
不都合な結果の一つは、ポリカーボネートのようなある
種の高分子材料の透明性がかかる帯電防止剤の使用によ
って失われることである。ハロゲン置換基を有する有機
スルホン酸のホスホニウム塩を難燃剤として使用するこ
とも報告されていたが(米国特許第4093589
号)、これらは帯電防止剤としても役立つと期待される
であろう。
[0004] Since there are a large number of antistatic agents containing a surfactant as a main component, an appropriate one can be selected from them depending on the situation. In fact, a number of internally added types have been studied and tested. However, when used as an internally added antistatic agent, the anionic surfactant is inferior in compatibility and uniform dispersibility, and tends to decompose or deteriorate upon heating, so that it is difficult to handle. On the other hand, amphoteric surfactants and cationic surfactants having a quaternary nitrogen in the molecule have good antistatic properties, but are extremely poor in heat resistance and can be used only under limited circumstances. Regarding nonionic surfactants, they are relatively superior to the above-mentioned ionic surfactants in terms of compatibility with synthetic polymer materials, but tend to have weak antistatic properties, and The effect disappears with time at normal and elevated temperatures. Furthermore, because of the limited thermal stability of such nonionic surfactant-type antistatic agents, their use with engineering plastic resins such as aromatic polycarbonates is limited by the processing temperature of the resin. You. Thus, these types of surfactants adversely affect the optical properties of the aromatic polycarbonate. The metal salts of organic sulfonic acids have also been reported as internally added antistatic agents for polycarbonate and polyester resins molded especially at high temperatures, but these have insufficient compatibility with resins or insufficient heat resistance. One of the disadvantageous consequences of poor compatibility is that the transparency of certain polymeric materials such as polycarbonate is lost by the use of such antistatic agents. The use of phosphonium salts of organic sulfonic acids with halogen substituents as flame retardants has also been reported (US Pat. No. 4,093,589).
No.), they would be expected to also serve as antistatic agents.

【0005】別の特許にはポリカーボネート樹脂上の静
電荷を低減することが開示されている。すなわち米国特
許第4943380号には、90〜99.9重量%のポ
リカーボネートと0.1〜10重量%の次の一般式の耐
熱性スルホン酸ホスホニウムを含有する帯電防止組成物
が開示されている。
Another patent discloses reducing electrostatic charge on polycarbonate resins. That is, U.S. Pat. No. 4,943,380 discloses an antistatic composition containing 90 to 99.9% by weight of polycarbonate and 0.1 to 10% by weight of a heat-resistant phosphonium sulfonate of the following general formula.

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】式中、Rは炭素原子数1〜18の直鎖又は
枝分れ鎖アルキル基であり、R1 、R2 及びR3 は同一
であって各々炭素原子数1〜18の脂肪族炭化水素基又
は芳香族炭化水素基であり、R4 は炭素原子数1〜18
の炭化水素基である。分子内に第四窒素を含んだ対応カ
チオン界面活性剤は帯電防止特性には優れているものの
(米国特許第5468973号)、耐熱性が著しく劣る
ため限られた状況下でしか使えない。
In the formula, R is a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 1 , R 2 and R 3 are the same and are each an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms. A hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, wherein R 4 has 1 to 18 carbon atoms;
Is a hydrocarbon group. Corresponding cationic surfactants containing quaternary nitrogen in the molecule have excellent antistatic properties (U.S. Pat. No. 5,468,973) but can only be used under limited circumstances due to their remarkably poor heat resistance.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリ
エステル、ポリフェニレンエーテル/ポリスチレンブレ
ンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレン(ABS)又はこれらのブレンド又
はこれらと他の物質もしくはポリマーとのブレンドのよ
うなポリマーと耐熱性の帯電防止剤とを含んでなる帯電
防止樹脂組成物であって、該帯電防止剤の使用により上
述した従来の帯電防止剤の問題を解決できる樹脂組成物
を提供することである。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide polycarbonates, polyetherimides, polyesters, polyphenylene ether / polystyrene blends, polyamides, polyketones, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) or blends thereof or with them. An antistatic resin composition comprising a polymer such as a blend with another substance or a polymer and a heat-resistant antistatic agent, wherein the use of the antistatic agent solves the problems of the conventional antistatic agent described above. It is to provide a resin composition that can be solved.

【0009】本発明のもう一つの目的は、好ましくは成
形状態で透明性を有する合成樹脂に対して、成形品の透
明度及び機械的性質に悪影響を与えることなく、内部添
加できる新規帯電防止剤を提供することである。ただ
し、帯電防止についての必要条件は着色又は半透明熱可
塑性ポリマー成形品にも適用できるので、本発明は透明
な熱可塑性樹脂だけに限定されるものではない。
Another object of the present invention is to provide a novel antistatic agent which can be internally added to a synthetic resin preferably having transparency in a molded state without adversely affecting the transparency and mechanical properties of a molded article. To provide. However, the present invention is not limited to transparent thermoplastic resins only, since the requirements for antistatic can be applied to colored or translucent thermoplastic polymer moldings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】簡潔に述べると、本発明
によれば、ポリマーと添加剤の合計重量を基準にして、
約0.05〜10重量%、好ましくは約0.2〜1.5
重量%、さらに好ましくは約0.5〜1.5重量%の比
較的少量のある種の耐熱性中鎖及び短鎖ハロゲン化炭素
スルホン酸の置換ホスホニウム塩が、約90〜99.9
5重量%、好ましくは約98.5〜99.8重量%、さ
らに好ましくは約98.5〜99.5重量%のポリカー
ボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフ
ェニレンエーテル/ポリスチレンブレンド、ポリアミ
ド、ポリケトン、ABS又はこれらのポリマー樹脂ブレ
ンドにおける内部帯電防止剤として使用できることを発
見した。一般に、上記の中鎖及び短鎖スルホン酸の置換
ホスホニウム塩は次の一般式を有する。
Briefly, according to the present invention, based on the total weight of polymer and additive,
About 0.05 to 10% by weight, preferably about 0.2 to 1.5
%, More preferably from about 0.5 to 1.5% by weight of certain refractory medium and short chain halogenated carbon sulfonic acid substituted phosphonium salts of from about 90 to 99.9.
5 wt%, preferably about 98.5-99.8 wt%, more preferably about 98.5-99.5 wt% polycarbonate, polyetherimide, polyester, polyphenylene ether / polystyrene blend, polyamide, polyketone, ABS Alternatively, they have found that they can be used as internal antistatic agents in these polymer resin blends. Generally, the substituted phosphonium salts of the above mentioned medium and short chain sulfonic acids have the general formula:

【0011】[0011]

【化5】 Embedded image

【0012】式中、Xは少なくとも1つのXがハロゲン
であることを条件にしてハロゲン又は水素から独立に選
択されるものであり、n、m及びpは0〜12の整数で
あり、Yは無いか或いは原子環の炭素以外の複素環原子
或いは窒素、酸素、イオウ、セレン、リン、ヒ素のいず
れかであり、R1 、R2 及びR3 は同一であって各々炭
素原子数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数6〜
12の芳香族炭化水素基であり、R4 は炭素原子数1〜
18の炭化水素基である。ハロゲンは臭素、塩素、フッ
素及びヨウ素から独立に選択し得る。ハロゲンは好まし
くはフッ素である。
Wherein X is independently selected from halogen or hydrogen, provided that at least one X is halogen, n, m and p are integers from 0 to 12, and Y is R 1 , R 2, and R 3 are the same or different and each has 1 to 8 carbon atoms. An aliphatic hydrocarbon group or a carbon number of 6 to
12 aromatic hydrocarbon groups, and R 4 has 1 to 1 carbon atoms.
18 hydrocarbon groups. Halogen may be independently selected from bromine, chlorine, fluorine and iodine. Halogen is preferably fluorine.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】上記のスルホン酸ホスホニウムは
好ましくはフッ素化スルホン酸ホスホニウムであって、
フルオロカーボン含有有機スルホン酸アニオンと有機ホ
スホニウムカチオンとからなる。かかる有機スルホン酸
アニオンの具体例には、ペルフルオロメタンスルホネー
ト、ペルフルオロブタンスルホネート、ペルフルオロヘ
キサンスルホネート、ペルフルオロヘプタンスルホネー
ト及びペルフルオロオクタンスルホネートがある。上述
のホスホニウムカチオンの具体例には、テトラメチルホ
スホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチル
ホスホニウム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブ
チルメチルホスホニウム、トリブチルエチルホスホニウ
ム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリメチルブチ
ルホスホニウム、トリメチルオクチルホスホニウム、ト
リメチルラウリルホスホニウム、トリメチルステアリル
ホスホニウム、トリエチルオクチルホスホニウムのよう
な脂肪族ホスホニウム、並びにテトラフェニルホスホニ
ウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニル
ベンジルホスホニウム、トリブチルベンジルホスホニウ
ムのような芳香族ホスホニウムがある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The above phosphonium sulfonate is preferably a fluorinated phosphonium sulfonate,
It consists of a fluorocarbon-containing organic sulfonic acid anion and an organic phosphonium cation. Specific examples of such organic sulfonate anions include perfluoromethanesulfonate, perfluorobutanesulfonate, perfluorohexanesulfonate, perfluoroheptanesulfonate and perfluorooctanesulfonate. Specific examples of the above phosphonium cation, tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium, triethylmethylphosphonium, tributylmethylphosphonium, tributylethylphosphonium, trioctylmethylphosphonium, trimethylbutylphosphonium, trimethyloctylphosphonium, trimethyllaurylphosphonium, There are aliphatic phosphoniums such as trimethylstearylphosphonium, triethyloctylphosphonium, and aromatic phosphoniums such as tetraphenylphosphonium, triphenylmethylphosphonium, triphenylbenzylphosphonium, tributylbenzylphosphonium.

【0014】本発明のフッ素化スルホン酸ホスホニウム
はこれらの有機スルホン酸アニオンと有機カチオンとの
どんな組合せからも得ることができるが、本発明は上記
具体例に限定されない。フッ素化スルホン酸ホスホニウ
ムは相当するスルホン酸と水酸化第四ホスホニウムを混
合溶媒中で混合し、次いで混合溶媒を蒸発させることに
よって非常に純粋な状態で製造することができる。例え
ば、ペルフルオロブタンスルホン酸テトラブチルホスホ
ニウムは、ペルフルオロブタンスルホン酸98.6g、
40重量%水酸化テトラブチルホスホニウム溶液200
ml及び混合溶媒500mlをフラスコに入れ、得られ
た混合物を室温で1時間撹拌し、油状層として分離する
スルホン酸ホスホニウムを単離し、100mlの水で洗
浄し、真空ポンプで溶媒を蒸発させることによって、約
95%の収率で製造することができる。
Although the fluorinated phosphonium sulfonates of the present invention can be obtained from any combination of these organic sulfonate anions and organic cations, the present invention is not limited to the above specific examples. The fluorinated phosphonium sulfonates can be prepared in a very pure state by mixing the corresponding sulfonic acids and quaternary phosphonium hydroxide in a mixed solvent and then evaporating the mixed solvent. For example, tetrabutylphosphonium perfluorobutanesulfonate is 98.6 g of perfluorobutanesulfonic acid,
40% by weight tetrabutylphosphonium hydroxide solution 200
ml and 500 ml of mixed solvent into a flask, the resulting mixture is stirred at room temperature for 1 hour, the phosphonium sulfonate which separates out as an oily layer is isolated, washed with 100 ml of water and the solvent is evaporated off by means of a vacuum pump , In a yield of about 95%.

【0015】前述の通り、本発明で用いられる好ましい
スルホン酸ホスホニウムは次の一般式のフッ素化スルホ
ン酸ホスホニウムである。
As mentioned above, the preferred phosphonium sulfonate used in the present invention is a fluorinated phosphonium sulfonate of the general formula

【0016】[0016]

【化6】 Embedded image

【0017】式中、Fはフッ素であり、nは1〜12の
整数であり、Sはイオウであり、R 1 、R2 及びR3
同一であって各々炭素原子数1〜8の脂肪族炭化水素基
又は炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、R
4 は炭素原子数1〜18の炭化水素基である。式(3)
で示されるフッ素化スルホン酸ホスホニウムを主要成分
として含んでなる帯電防止組成物は、その帯電防止性、
相溶性及び耐熱性を様々な手法で利用してポリカーボネ
ート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニ
レンエーテル/ポリスチレンブレンド、ポリアミド、ポ
リケトン、ABS又はこれらのポリマーのブレンドに帯
電防止性を賦与できる。本発明のフルオロカーボンスル
ホン酸ホスホニウム塩は低融点の半固形材料であり、そ
のまま溶融液として取り扱うことができる。本発明の幾
つかの実施形態では、室温(15〜25℃)で固体結晶
質材料であり、秤量、取扱い、並びにポリカーボネー
ト、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレ
ンエーテル/ポリスチレンブレンド、ポリアミド、ポリ
ケトン、ABS又はこれらのポリマーのブレンドへの添
加が容易である。
Wherein F is fluorine and n is 1-12.
An integer, S is sulfur, R 1, RTwoAnd RThreeIs
The same aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms each
Or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms;
FourIs a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. Equation (3)
Major component is fluorinated phosphonium sulfonate represented by
Antistatic composition comprising as, its antistatic properties,
Polycarbonate is made using various methods of compatibility and heat resistance.
Sheet, polyetherimide, polyester, polyphenylene
Lenether / polystyrene blend, polyamide, poly
Suitable for liquid ketone, ABS or blends of these polymers
Antistatic properties can be imparted. The fluorocarbon sulf of the present invention
Phosphonium phonate is a low-melting semi-solid material,
It can be handled as a melt as it is. The present invention
In some embodiments, a solid crystal at room temperature (15-25 ° C.)
Quality material, weighing, handling and polycarbonate
G, polyetherimide, polyester, polyphenylene
Ether / polystyrene blend, polyamide, poly
Addition to ketones, ABS or blends of these polymers
It is easy to add.

【0018】本発明を実施するための最も一般的な方法
は、ポリマーの製造又は加工時に帯電防止剤を直接添加
して混合することである。これは押出、射出成形、圧縮
成形又は注型を始めとする慣用手段によって加工処理で
きる。ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエ
ステル、ポリフェニレンエーテル/ポリスチレンブレン
ド、ポリアミド、ポリケトン、ABS又はこれらのポリ
マーのブレンドに添加されるフルオロカーボンスルホン
酸ホスホニウムの量は静電荷を低減もしくは消失させる
のに有効な量であり、広い範囲で変えることができる。
フルオロカーボンスルホン酸置換ホスホニウム帯電防止
剤の樹脂への添加量が少なすぎると、その樹脂から作っ
た製品に帯電傾向が依然としてみられるであろう。帯電
防止剤の添加量が多くなりすぎると、その添加分だけ不
経済であり、あるレベルを超えると樹脂の他の性質に悪
影響を及ぼすようになりかねない。例えば、透明ポリカ
ーボネート等級においてかかる内部添加法で好ましい結
果を得るには、本発明の帯電防止剤を成形用組成物に関
して0.1〜1.5重量%の割合で加えるのが好まし
く、0.4〜0.8重量%の割合で加えるのがさらに一
段と好ましい。本発明の帯電防止剤は従来のアルキルス
ルホン酸ホスホニウムのようなイオン性界面活性剤より
もさらに耐熱性に優れ、添加量をより少なくすることが
でき、樹脂組成物は優れた透明度及び機械的性質をも
つ。
The most common method of practicing the present invention is to directly add and mix an antistatic agent during the manufacture or processing of the polymer. It can be processed by conventional means, including extrusion, injection molding, compression molding or casting. The amount of phosphonium fluorocarbon sulfonate added to the polycarbonate, polyetherimide, polyester, polyphenylene ether / polystyrene blend, polyamide, polyketone, ABS or blend of these polymers is an amount effective to reduce or eliminate static charge. Can be changed in a wide range.
If the amount of fluorocarbon sulfonic acid-substituted phosphonium antistatic added to the resin is too low, products made from the resin will still have a tendency to charge. If the added amount of the antistatic agent is too large, the added amount is uneconomical, and if it exceeds a certain level, other properties of the resin may be adversely affected. For example, in order to obtain a favorable result by such an internal addition method in a transparent polycarbonate grade, it is preferable to add the antistatic agent of the present invention in a ratio of 0.1 to 1.5% by weight with respect to the molding composition, More preferably, it is added at a ratio of about 0.8% by weight. The antistatic agent of the present invention is more excellent in heat resistance than conventional ionic surfactants such as phosphonium alkyl sulfonate, can be added in a smaller amount, and the resin composition has excellent transparency and mechanical properties. With.

【0019】[0019]

【実施例】本発明を以下の実施例によりさらに説明す
る。ただし、これらの実施例は本発明を何ら限定するも
のではない。実施例における百分率に関する記載は重量
%である。試料の帯電防止挙動を分析するために以下の
2通りの試験法を用いた。それらは吸塵試験、静電荷測
定及び静電荷測定による表面抵抗率である。
The present invention is further described by the following examples. However, these examples do not limit the present invention at all. The percentages in the examples are percentages by weight. The following two test methods were used to analyze the antistatic behavior of the sample. They are the surface resistivity by dust absorption test, electrostatic charge measurement and electrostatic charge measurement.

【0020】吸塵試験 透明ポリカーボネート製品において吸塵を発現させた。
この試験法では、その場で調製したNH4Cl ダストに
よって飽和したデシケーター内に何枚かの色板を入れ
る。この吸塵室はサンプルを入れる前に1時間平衡化し
ておく。1時間後にサンプルを取り出し、映写ランプを
光源として用いて色板の映像を参照材料と一緒に造る。
これらの板の外観を帯電防止剤を全く含まないポリカー
ボネート参照板と視覚的に対比する。
Dust Absorption Test Dust absorption was developed in a transparent polycarbonate product.
In this test method, several color plates are placed in a desiccator saturated with in-situ prepared NH 4 Cl dust. The chamber is allowed to equilibrate for one hour before placing the sample. After one hour, the sample is removed and an image of the color plate is made with a reference material using a projection lamp as a light source.
The appearance of these plates is visually compared to a polycarbonate reference plate containing no antistatic agent.

【0021】表面抵抗率 表面抵抗率の測定は、室温での表面抵抗率の値が1017
〜1018Ωの範囲にあり、そのような範囲では正確な結
果を得るのが難しいので、55℃にて行った。温度55
℃での表面抵抗率の値は1013〜1014Ωの範囲にあ
る。これらの試験に加えて、以下の試験も行った。 黄色度指数(YI) − ASTM 1925−63T
にしたがって測定。 透明度 − ASTM D−1003にしたがって測
定。 ヘーズ − ASTM 1925−63T及びASTM
D−1003にしたがって測定。 メルトボリュームレート(MVR) − ASTM D
−1238にしたがって測定。
Surface resistivity The surface resistivity was measured at room temperature at a value of 10 17.
In the range of to 10 18 Omega, it is difficult to obtain accurate results in such a range, were carried out at 55 ° C.. Temperature 55
The values of the surface resistivity at ° C. are in the range of 10 13 to 10 14 Ω. In addition to these tests, the following tests were also performed. Yellowness Index (YI)-ASTM 1925-63T
Measured according to. Clarity-measured according to ASTM D-1003. Haze-ASTM 1925-63T and ASTM
Measured according to D-1003. Melt Volume Rate (MVR)-ASTM D
Measured according to -1238.

【0022】実施例1 この実施例では、本発明のフッ素化スルホン酸ホスホニ
ウムの製造について例示する。ペルフルオロブチルスル
ホン酸カリウムを出発原料として使用した。最初にイオ
ン交換カラム(Rohm & Haas社製、Ambe
rjet 1200H)を用いてカリウム(K+ イオ
ン)をH+ イオンと交換した。この方法で用いた第二段
階はフルオロカーボン末端スルホン酸と水酸化テトラブ
チルホスホニウムとを用いての酸塩基反応であり、高収
率及び高純度でフッ素化スルホン酸ホスホニウムを生じ
た。この反応は次の通りである。
Example 1 This example illustrates the preparation of a fluorinated phosphonium sulfonate of the present invention. Potassium perfluorobutyl sulfonate was used as starting material. First, an ion exchange column (Ahmbe, manufactured by Rohm & Haas)
rjet 1200H) to exchange potassium (K + ions) for H + ions. The second step used in this method was an acid-base reaction using a fluorocarbon-terminated sulfonic acid and tetrabutylphosphonium hydroxide to yield a fluorinated phosphonium sulfonate in high yield and purity. This reaction is as follows.

【0023】[0023]

【化7】 Embedded image

【0024】実施例2 この実施例では、本発明のフッ素化スルホン酸ホスホニ
ウムの製造を例示する。ノナフルオロエトキシエチルス
ルホン酸カリウムを出発原料として使用した。最初にイ
オン交換カラム(Rohm & Haas社製、Amb
erjet 1200H)を用いてカリウム(K+ イオ
ン)をH+ イオンと交換した。この方法で用いた第二段
階はフルオロカーボン末端スルホン酸と水酸化テトラブ
チルホスホニウムとを用いての酸塩基反応であり、高収
率及び高純度でフッ素化スルホン酸ホスホニウムを生じ
た。
Example 2 This example illustrates the preparation of a fluorinated phosphonium sulfonate of the present invention. Potassium nonafluoroethoxyethylsulfonate was used as starting material. First, an ion exchange column (Rohm & Haas, Amb
erjet 1200H) to exchange potassium (K + ion) for H + ion. The second step used in this method was an acid-base reaction using a fluorocarbon-terminated sulfonic acid and tetrabutylphosphonium hydroxide to yield a fluorinated phosphonium sulfonate in high yield and purity.

【0025】得られた化合物は次式を有していた。The resulting compound had the following formula:

【0026】[0026]

【化8】 Embedded image

【0027】実施例3 この実施例では、本発明のフッ素化スルホン酸ホスホニ
ウムの製造を例示する。様々なフルオロカーボン含有ス
ルホン酸とフルオロカーボン含有スルホン酸アンモニウ
ムの混合物であるZonyl−TBS(DuPont社
製)を出発原料として用いた。最初にイオン交換カラム
(Rohm & Haas社製、Amberjet 1
200H)を用いてアンモニウム(NH4 +)をH+ イオ
ンと交換した。この方法で用いた第二段階はフルオロカ
ーボン末端スルホン酸と水酸化テトラブチルホスホニウ
ムとを用いての酸塩基反応であった。得られた化合物混
合物は以下の諸成分からなるものであった(yは1〜9
の整数)。
Example 3 This example illustrates the preparation of a fluorinated phosphonium sulfonate of the present invention. Zonyl-TBS (manufactured by DuPont), which is a mixture of various fluorocarbon-containing sulfonic acids and fluorocarbon-containing ammonium sulfonate, was used as a starting material. First, an ion exchange column (Rohm & Haas, Amberjet 1)
200H) was used to exchange ammonium (NH 4 + ) for H + ions. The second step used in this method was an acid-base reaction using a fluorocarbon-terminated sulfonic acid and tetrabutylphosphonium hydroxide. The obtained compound mixture was composed of the following components (y was 1 to 9).
Integer).

【0028】[0028]

【化9】 Embedded image

【0029】実施例4 実施例1のフッ素化スルホン酸ホスホニウムの帯電防止
性を求めた。まず、帯電防止剤を20℃の塩化メチレン
中で測定した固有粘度約0.46dl/g(デシリット
ル/グラム)の透明芳香族ポリカーボネート樹脂と二軸
押出機で約285℃の温度にて溶融混練し、ダイオリフ
ィスを通して押出してストランドとし、水中急冷した後
ペレット化した。ペレットは約125℃で約2時間乾燥
した。単軸射出成形機を用いて上記乾燥ペレットを射出
成形温度約285℃にて約10cm四方の約2.5mm
厚の板に射出成形した。明らかに、射出成形バレルの全
体にわたる温度プロフィールは約285℃という極限ま
で変化した。この実施例では、バレル温度は約20℃か
ら約285℃まで変化した。表1に示す各組成物は上記
に述べた同一条件下で製造したもので、各組成物中に存
在する帯電防止剤の濃度に応じてポリカーボネート濃度
が変わる。各組成物は同量の離型剤、UV吸収剤、安定
剤、酸化防止剤及び染料を含んでおり、それらの合計量
は使用したポリカーボネートの約0.8重量%であっ
た。得られた結果は次の通りである。
Example 4 The antistatic properties of the fluorinated phosphonium sulfonate of Example 1 were determined. First, an antistatic agent is melt-kneaded with a transparent aromatic polycarbonate resin having an intrinsic viscosity of about 0.46 dl / g (deciliter / gram) measured in methylene chloride at 20 ° C. at a temperature of about 285 ° C. using a twin-screw extruder. The mixture was extruded through a die orifice into a strand, quenched in water, and then pelletized. The pellet was dried at about 125 ° C. for about 2 hours. Using a single-axis injection molding machine, the above-mentioned dried pellets are injected at an injection molding temperature of about 285 ° C., about 10 cm square about 2.5 mm
It was injection molded into a thick plate. Clearly, the temperature profile over the entire injection molded barrel changed to the limit of about 285 ° C. In this example, the barrel temperature varied from about 20 ° C to about 285 ° C. Each composition shown in Table 1 was produced under the same conditions as described above, and the polycarbonate concentration varies depending on the concentration of the antistatic agent present in each composition. Each composition contained the same amounts of release agent, UV absorber, stabilizer, antioxidant and dye, the total amount of which was about 0.8% by weight of the polycarbonate used. The results obtained are as follows.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】上記の結果は、表面抵抗率及び透明度の結
果が示す通り、本発明の組成物の優れた帯電防止性を明
瞭に示しており、透明性や色には影響がなかった。実施例5 実施例4の組成物を、実施例4の成形温度+20℃及び
実施例4の20秒という標準冷却時間に対して120秒
の冷却時間という一段と過酷な成形条件下で成形した。
得られた結果は次の通りである。
The above results clearly show the excellent antistatic properties of the composition of the present invention, as shown by the results of surface resistivity and transparency, and did not affect the transparency or color. Example 5 The composition of Example 4 was molded under the more severe molding conditions of a molding temperature of + 20 ° C. of Example 4 and a cooling time of 120 seconds compared to the standard cooling time of 20 seconds of Example 4.
The results obtained are as follows.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】過酷な条件(実施例4の成形温度+20℃
及び実施例4の20秒という標準冷却時間に対して12
0秒の冷却時間)を用いた各濃度の同一試料の射出成形
の結果が表2に開示されている。表1と表2の結果を対
比すると、過酷な成形条件を用いた場合、帯電防止ポリ
カーボネートの得られる帯電防止剤濃度は0.5%を若
干上回る添加量まで減少する。これは、さらに高い加工
処理温度で本発明の帯電防止剤の表面移行能力が改善さ
れることを示している。このことは、過酷な温度(+2
0℃)において標準サイクル時間(t=20秒)で成形
した物品でも確認された。帯電防止剤濃度を0.6%と
してサイクル時間20秒で標準成形及び過酷成形条件で
成形したサンプルでは、表面抵抗率が1.74(表1)
から0.33(表2)に低下した。これらの結果は、表
面抵抗率に対する成形条件の影響、並びに帯電防止剤の
表面移行能力が温度及びサイクル時間に依存することを
明瞭に示している。
Severe conditions (molding temperature of Example 4 + 20 ° C.)
And 12 seconds for the standard cooling time of 20 seconds in Example 4.
The results of injection molding of the same sample at each concentration using 0 second cooling time are disclosed in Table 2. Comparing the results in Tables 1 and 2, when harsh molding conditions are used, the resulting antistatic agent concentration of the antistatic polycarbonate decreases to slightly more than 0.5%. This indicates that the surface transfer ability of the antistatic agent of the present invention is improved at higher processing temperatures. This is due to the extreme temperatures (+2
(0 ° C.) at a standard cycle time (t = 20 seconds). A sample molded under standard molding and severe molding conditions with a cycle time of 20 seconds with an antistatic agent concentration of 0.6% had a surface resistivity of 1.74 (Table 1).
To 0.33 (Table 2). These results clearly show the effect of molding conditions on surface resistivity, and that the ability of the antistatic agent to migrate to the surface depends on temperature and cycle time.

【0034】例6 使用した帯電防止剤が竹本油脂株式会社から入手した先
行技術のスルホン酸ホスホニウムであるEPA−202
であることを除いて、実施例4を繰り返した。EPA−
202の組成物は次の式を有しており、米国特許第49
43380号に記載された帯電防止組成物である。
Example 6 The antistatic agent used was EPA-202, a prior art phosphonium sulfonate obtained from Takemoto Yushi Co., Ltd.
Example 4 was repeated except that EPA-
The composition of Formula 202 has the following formula:
43380 is an antistatic composition.

【0035】[0035]

【化10】 Embedded image

【0036】結果を次に示す。The results are shown below.

【0037】[0037]

【表3】 [Table 3]

【0038】本発明の帯電防止剤(実施例1のノナフル
オロ−1−ブタンスルホン酸テトラブチルホスホニウ
ム)が先行技術のスルホン酸ホスホニウムEPA−20
2よりも格段に低い濃度においてそれより優れた帯電防
止性を有することが分かる。表面抵抗率が低いほど添加
剤の帯電防止性は優れている。先行技術の添加剤の濃度
が2.0%のときの抵抗率は、本発明の帯電防止剤の濃
度がほんの0.8%のときに等しい。また、EPA−2
02が粘稠な黄色オイルで黄色度指数を増大させるのに
対して、実施例1の帯電防止は白色固体であって、粘稠
オイルよりも粉末の優れた分散体が得られる。
The antistatic agent of the present invention (tetrabutyl phosphonium nonafluoro-1-butanesulfonate of Example 1) was replaced by the prior art phosphonium sulfonate EPA-20.
It can be seen that at a concentration much lower than 2, the antistatic properties are better. The lower the surface resistivity, the better the antistatic properties of the additive. The resistivity when the concentration of the prior art additive is 2.0% is equal when the concentration of the antistatic agent of the present invention is only 0.8%. Also, EPA-2
02 is a viscous yellow oil that increases the yellowness index, whereas the antistatic of Example 1 is a white solid, giving a better dispersion of powder than a viscous oil.

【0039】さらに、MVRで測定した通り、本発明の
組成物のメルトフローは基本的に影響されない。1.5
%という濃度(表1)であっても、MVRは添加剤を全
く含まない組成物の値を僅かに上回るにすぎない。表3
の先行技術の帯電防止剤では濃度が1.5%のときMV
Rは添加剤なしの場合のほぼ2倍である。これは先行技
術の添加剤が可塑剤として作用していることを実証して
おり、機械的性質に(とりわけ芳香族ポリカーボネート
樹脂において)重大な悪影響をもつ。
Further, as measured by MVR, the melt flow of the composition of the present invention is essentially unaffected. 1.5
Even at a concentration of% (Table 1), the MVR is only slightly above that of the composition without any additives. Table 3
With the prior art antistatic agent, the MV at a concentration of 1.5%
R is almost twice that without additives. This demonstrates that the prior art additives are acting as plasticizers and has significant adverse effects on mechanical properties (especially in aromatic polycarbonate resins).

【0040】実施例7 20℃の塩化メチレン中で測定した固有粘度が約0.4
2dl/g(デシリットル/グラム)の高流動性芳香族
ポリカーボネート樹脂を、実施例4と同一の条件下で溶
融混練し、射出成形した。ただし、この実施例で成形し
たのはコンパクトディスク(CD)ブランクであった。
Example 7 An intrinsic viscosity of about 0.4 measured in methylene chloride at 20 ° C.
A high flowability aromatic polycarbonate resin of 2 dl / g (deciliter / gram) was melt-kneaded under the same conditions as in Example 4 and injection-molded. However, what was molded in this example was a compact disc (CD) blank.

【0041】上記の通り組成物中に存在する帯電防止剤
の濃度に応じてポリカーボネート含有量を変えて、3種
類の組成物及び3組のCD(1組成物当たり10枚)を
製造した。各組成物は同量の離型剤及び安定剤を含んで
いた。サンプルCDブランクの透明度、色及び静電荷を
調べた。各CDブランクを成形後直ちにSIMCO社製
の較正ハンドヘルドフィールドメーターを用いて静電荷
を測定した。得られた結果は次の通りである。
As described above, three kinds of compositions and three sets of CDs (10 sheets per composition) were produced by changing the polycarbonate content in accordance with the concentration of the antistatic agent present in the composition. Each composition contained the same amount of release agent and stabilizer. Sample CD blanks were examined for clarity, color, and static charge. Immediately after molding each CD blank, the static charge was measured using a calibration handheld field meter manufactured by SIMCO. The results obtained are as follows.

【0042】[0042]

【表4】 [Table 4]

【0043】上記の結果は、非常に高流動性のグレード
において、透明度及び色に影響を与えずに卓越した帯電
防止性が得られることを明瞭に示している。0.5%の
帯電防止剤を含む組成物は吸塵試験で全く埃を引きつけ
なかった。0.3%の帯電防止剤を添加した場合、帯電
防止剤を全く添加しなかった参照試料に比べて多大な改
善がみられた。
The above results clearly show that for very high flow grades, excellent antistatic properties can be obtained without affecting clarity and color. The composition containing 0.5% of the antistatic agent did not attract any dust in the dust absorption test. When 0.3% of the antistatic agent was added, a great improvement was observed as compared with the reference sample in which no antistatic agent was added.

【0044】実施例8 実施例2及び3(式(5)及び(6))のフッ素化スル
ホン酸ホスホニウムの帯電防止性を次のようにして測定
した。まず、帯電防止剤を20℃の塩化メチレン中で測
定した固有粘度が約0.46dl/g(デシリットル/
グラム)の透明芳香族ポリカーボネート樹脂と二軸押出
機で約285℃の温度にて溶融混練し、ダイオリフィス
を通して押出してストランドとし、水中急冷した後ペレ
ット化した。ペレットは約125℃で約2時間乾燥し
た。単軸射出成形機を用いて上記乾燥ペレットを射出成
形温度約285℃にて約10cm四方の約2.5mm厚
の板に射出成形した。明らかに、射出成形バレルの全体
にわたっての温度プロフィールは約285℃という極限
まで変化した。この実施例では、バレル温度は約20℃
から約285℃まで変化した。表5に示す各組成物は上
記に述べた同一条件下で製造したもので、各組成物中に
存在する帯電防止剤の濃度に応じてポリカーボネート濃
度が変わる。各組成物は同量の離型剤、UV吸収剤、安
定剤、酸化防止剤及び染料を含んでおり、それらの合計
量は使用したポリカーボネートの約0.8重量%であっ
た。得られた結果は次の通りである。
Example 8 The antistatic properties of the fluorinated phosphonium sulfonates of Examples 2 and 3 (formulas (5) and (6)) were measured as follows. First, the intrinsic viscosity of the antistatic agent measured in methylene chloride at 20 ° C. is about 0.46 dl / g (deciliter / g).
G) with a twin-screw extruder to melt and knead the mixture at a temperature of about 285 ° C., extrude through a die orifice into strands, quench in water, and pelletize. The pellet was dried at about 125 ° C. for about 2 hours. Using a single-axis injection molding machine, the dried pellets were injection-molded at an injection molding temperature of about 285 ° C. into a plate of about 10 cm square and about 2.5 mm thick. Clearly, the temperature profile throughout the injection molded barrel changed to an extreme of about 285 ° C. In this example, the barrel temperature is about 20 ° C.
To about 285 ° C. Each composition shown in Table 5 was produced under the same conditions as described above, and the polycarbonate concentration varies depending on the concentration of the antistatic agent present in each composition. Each composition contained the same amounts of release agent, UV absorber, stabilizer, antioxidant and dye, the total amount of which was about 0.8% by weight of the polycarbonate used. The results obtained are as follows.

【0045】[0045]

【表5】 [Table 5]

【0046】以上の例から明らかな通り、本発明の帯電
防止組成物を用いると、例6に記載した先行技術のEP
A−202に比べて少ない添加量でも、成形板の表面抵
抗率が低いことを明瞭に示している。さらに、EPA−
202では、過酷な成形条件を用いると激しい黄変が起
きたのに対して、本発明の新規合成帯電防止組成物では
そうした黄変は観察されなかった。また、EPA−20
2がMVR値の増大にみられるようにポリカーボネート
に対する可塑剤とみなされるのに対して、本発明のフッ
素化スルホン酸ホスホニウムでは流動性に基本的に何の
変化もみられなかった。
As is evident from the above examples, the use of the antistatic composition of the present invention allows the use of the prior art EP described in Example 6.
It clearly shows that the surface resistivity of the formed plate is low even with a small amount of addition as compared with A-202. Furthermore, EPA-
In 202, severe yellowing occurred under severe molding conditions, whereas no such yellowing was observed in the novel synthetic antistatic composition of the present invention. Also, EPA-20
2 was regarded as a plasticizer for polycarbonate as seen in the increase in MVR value, whereas essentially no change in flow was observed with the fluorinated phosphonium sulfonates of the present invention.

【0047】本発明において、本願特許請求の範囲に規
定する発明の思想及び範囲を逸脱することなく、上記に
記載した実施形態に様々な変更を加えることは当業者が
なし得るものと理解される。
In the present invention, it will be understood by those skilled in the art that various modifications can be made to the above-described embodiment without departing from the spirit and scope of the invention defined in the claims of the present application. .

フロントページの続き (72)発明者 シーオドラス・ランバータス・ホウクス オランダ、4613、エーエス・ベルゲン・オ プ・ゾーム、ハルスタースウェグ、303番Continuing on the front page (72) Inventor Theodoras Lambertas Hawks The Netherlands, 4613, AS Bergen op Sohm, Halstersweg, No. 303

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多置換ホスホニウム化合物のハロゲン化
炭素スルホン酸塩を含んでなる帯電防止剤と熱可塑性樹
脂とを混合してなる帯電防止熱可塑性樹脂組成物であっ
て、該ホスホニウム化合物が当該熱可塑性樹脂組成物か
ら成形した物品に帯電防止特性を賦与するのに充分な量
で存在する熱可塑性樹脂組成物。
1. An antistatic thermoplastic resin composition comprising a mixture of an antistatic agent comprising a halogenated carbon sulfonate of a polysubstituted phosphonium compound and a thermoplastic resin, wherein the phosphonium compound is a thermoplastic resin. A thermoplastic resin composition present in an amount sufficient to impart antistatic properties to articles molded from the thermoplastic resin composition.
【請求項2】 前記帯電防止剤が多置換ホスホニウム化
合物のフッ素化炭素スルホン酸塩である、請求項1記載
の組成物。
2. The composition according to claim 1, wherein the antistatic agent is a fluorinated carbon sulfonate of a polysubstituted phosphonium compound.
【請求項3】 前記熱可塑性樹脂が、芳香族ポリカーボ
ネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェ
ニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル/スチレンポ
リマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン、これらのブレンド並び
にこれらと他の物質とのブレンドからなる群から選択さ
れる、請求項1記載の組成物。
3. The thermoplastic resin is an aromatic polycarbonate, polyetherimide, polyester, polyphenylene ether, polyphenylene ether / styrene polymer blend, polyamide, polyketone, acrylonitrile-butadiene-styrene, blends thereof and other materials. The composition of claim 1, wherein the composition is selected from the group consisting of a blend with
【請求項4】 当該熱可塑性樹脂組成物が、熱可塑性樹
脂と添加剤の重量を基準にして90〜99.95重量%
の熱可塑性樹脂とそれに応じた10〜0.05重量%の
帯電防止剤とを含んでなる、請求項1記載の組成物。
4. The composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin composition comprises 90 to 99.95% by weight based on the weight of the thermoplastic resin and additives.
The composition according to claim 1, comprising a thermoplastic resin of the formula (1) and a corresponding 10 to 0.05% by weight of an antistatic agent.
【請求項5】 前記多置換ホスホニウム化合物のフッ素
化炭素スルホン酸塩が次式のフッ素化スルホン酸ホスホ
ニウム化合物である、請求項2記載の組成物。 【化1】 式中、nは0〜18の整数であり、R1 、R2 及びR3
は同一であって各々炭素原子数1〜8の脂肪族炭化水素
基及び炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基から基本
的になる群から選択されるものであり、R4 は炭素原子
数1〜18の炭化水素基である。
5. The composition according to claim 2, wherein the fluorinated carbon sulfonate of the polysubstituted phosphonium compound is a fluorinated phosphonium sulfonate compound of the following formula. Embedded image Wherein n is an integer of 0 to 18, and R 1 , R 2 and R 3
Are the same and are each selected from the group consisting essentially of an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and R 4 is a carbon atom These are hydrocarbon groups of the formulas 1 to 18.
【請求項6】 前記フッ素化スルホン酸ホスホニウム化
合物が次式のものである、請求項5記載の組成物。 【化2】
6. The composition of claim 5, wherein said fluorinated phosphonium sulfonate compound is of the formula: Embedded image
【請求項7】 前記熱可塑性樹脂が透明芳香族ポリカー
ボネートである、請求項5記載の組成物。
7. The composition according to claim 5, wherein said thermoplastic resin is a transparent aromatic polycarbonate.
【請求項8】 次式の帯電防止化合物。 【化3】 式中、Xは少なくとも1つのXがハロゲンであることを
条件にしてハロゲン及び水素から基本的になる群から独
立に選択されるものであり、n、m及びpは0〜12の
整数であり、Yは無いか或いは原子環の炭素以外の複素
環原子或いは窒素、酸素、イオウ、セレン、リン、ヒ素
などからなる群から選択されるものであり、R1 、R2
及びR3 は同一であって各々炭素原子数1〜8の脂肪族
炭化水素基及び炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基
から基本的になる群から独立に選択されるものであり、
4 は炭素原子数1〜18の炭化水素基であり、ハロゲ
ンは臭素、塩素、フッ素及びヨウ素から基本的になる群
から独立に選択される。
8. An antistatic compound of the following formula: Embedded image Wherein X is independently selected from the group consisting essentially of halogen and hydrogen, provided that at least one X is halogen, and n, m and p are integers from 0 to 12 , Y is absent or selected from the group consisting of heterocyclic atoms other than carbon in the atomic ring or nitrogen, oxygen, sulfur, selenium, phosphorus, arsenic, etc., and R 1 , R 2
And R 3 are the same and are each independently selected from the group consisting essentially of an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms,
R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the halogen is independently selected from the group consisting essentially of bromine, chlorine, fluorine and iodine.
【請求項9】 Xがフッ素である、請求項8記載の化合
物。
9. The compound according to claim 8, wherein X is fluorine.
【請求項10】 nが3で、R1 、R2 、R3 及びR4
が各々炭素原子数4のアルキル基であり、Yが無く、m
及びpが0である、請求項9記載の化合物。
10. n is 3, R 1 , R 2 , R 3 and R 4
Are each an alkyl group having 4 carbon atoms, Y is absent, m
And p is zero.
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ES (1) ES2218771T3 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003507510A (en) * 1999-08-16 2003-02-25 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Antistatic agent
JP2003519281A (en) * 1999-12-29 2003-06-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Water / oil repellent antistatic composition
JP2004292447A (en) * 2003-03-25 2004-10-21 E I Du Pont De Nemours & Co Fluorinated onium salt
JP2007517107A (en) * 2003-12-30 2007-06-28 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Water resistant and permanent antistatic thermoplastic composition
WO2007119631A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-25 Koei Chemical Company, Limited Antistatic agent, and antistatic resin composition comprising the same
JP2007532647A (en) * 2004-04-13 2007-11-15 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Method for producing antistatic agent
JP2009511434A (en) * 2005-09-22 2009-03-19 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー Ionic liquid
KR100989907B1 (en) 2007-12-28 2010-10-26 주식회사 삼양사 Thermoplastic resin composition and molding articles using the same

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2002106870A (en) 1999-08-16 2003-09-20 Байер АГ (DE) ANTISTATIC
US6372829B1 (en) 1999-10-06 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Antistatic composition
DE10027333A1 (en) * 2000-06-02 2001-12-06 Bayer Ag Flame retardant and anti-electrostatic polycarbonate molding compounds
JP2002124108A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Koito Mfg Co Ltd Lighting device for vehicle
US20020123566A1 (en) * 2000-12-20 2002-09-05 Georgiev Emil M. Flame retardant carbonate polymer composition
US6723668B2 (en) 2000-12-28 2004-04-20 Graph To Graphics, Inc. Multiple layer cloth for casino, gaming and billiard tables and method therefor
US6703329B2 (en) 2000-12-28 2004-03-09 Graph To Graphics, Inc. Multiple layer cloth for casino, gaming and billiard tables and method therefor
DE10119416A1 (en) * 2001-04-20 2002-10-24 Bayer Ag Layer system comprising at least two layers of thermoplastics, useful for the production of molded articles and extrudate, has at least one layer that contains a sulfonate antistatic compound.
JP2003231815A (en) * 2002-02-08 2003-08-19 Ge Plastics Japan Ltd Thermoplastic resin composition and method for ameliorating soil pattern
AU2003210838B2 (en) * 2002-02-08 2008-03-13 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Thermoplastic resin composition and method of improving appearance
US6900257B2 (en) 2002-08-06 2005-05-31 General Electric Company Antistatic agents and polymer compositions derived therefrom
US6841598B2 (en) * 2002-08-16 2005-01-11 General Electric Company Antistatic and antidust agents, compositions thereof, and methods of manufacture
JP2004083750A (en) * 2002-08-27 2004-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd Polyester resin composition
TWI319412B (en) * 2003-01-15 2010-01-11 Sumitomo Rubber Ind Polymeric-type antistatic agent and antistatic polymer composition and fabricating method thereof
US20060056031A1 (en) * 2004-09-10 2006-03-16 Capaldo Kevin P Brightness enhancement film, and methods of making and using the same
US7314652B2 (en) * 2003-02-28 2008-01-01 General Electric Company Diffuser for flat panel display
US7094861B2 (en) * 2003-12-30 2006-08-22 General Electric Company Thermoplastic composition containing polymeric anti-static salt, method of making, and use thereof
CN100412120C (en) * 2003-12-30 2008-08-20 通用电气公司 Thermoplastic composition containing polymeric anti-static salt, method of making, and use thereof
US7731881B2 (en) 2003-12-30 2010-06-08 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Method for making fog resistant thermoplastic articles and articles made therefrom
US7280170B2 (en) * 2004-05-25 2007-10-09 General Electric Company Optical film, light-diffusing film, and methods of making and using the same
US20080166523A1 (en) * 2007-01-04 2008-07-10 Asahi Kasei Chemicals Corporation Tab leader tape made of polyphenylene ether-based resin
JP2006028389A (en) * 2004-07-20 2006-02-02 Teijin Chem Ltd Aromatic polycarbonate resin composition
US7341784B2 (en) * 2004-09-10 2008-03-11 General Electric Company Light management film and its preparation and use
US20060100327A1 (en) * 2004-11-08 2006-05-11 Hoeks Theodorus L Methods of making an antistatic agent
DE102005040313A1 (en) 2005-08-24 2007-03-01 Bayer Materialscience Ag Light-diffusing moldings with high light transmission and improved antistatic properties
US20080187728A1 (en) * 2005-09-30 2008-08-07 General Electric Company Anti-frost film assemblies, method of manufacture, and articles made thereof
US20070125248A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Coyle Dennis J Embossing drum system with removable outer sleeve and methods of use
US20070126148A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 General Electric Company Microstructured embossing drum and articles made therefrom
US20070125651A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Buckley Paul W Electroform, methods of making electroforms, and products made from electroforms
US20070125655A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Buckley Paul W Electroform, methods of making electroforms, and products made from electroforms
US20070125652A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Buckley Paul W Electroform, methods of making electroforms, and products made from electroforms
US20070125653A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Coyle Dennis J Multilayer electroform, methods of making multilayer electroforms, and products made therefrom
US20070125654A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Buckley Paul W Electroform, methods of making electroforms, and products made from electroforms
US20070126144A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Yadong Jin Polish/texture thermoplastic film and method for making the same
US20070203271A1 (en) * 2006-01-27 2007-08-30 Alms Gregory R Coating process for thermoplastics
US20070281129A1 (en) * 2006-06-06 2007-12-06 Chi Kwong Chan Diffuser films and methods for making and using the same
US20080114103A1 (en) * 2006-11-13 2008-05-15 General Electric Company Thermoplastic Polycarbonate Compositions With Improved Static Resistance
US7999041B2 (en) * 2007-05-07 2011-08-16 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Neutral static polycarbonates, methods of making, and articles formed therefrom
US8623948B2 (en) * 2008-06-26 2014-01-07 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate compositions having antistatic enhancers, method of preparing, and articles comprising the same
KR101027763B1 (en) 2008-09-05 2011-04-07 광 석 서 Antistatic high temperature polymer compounds containing metal salts
EP2168783A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Bayer MaterialScience AG Use of a plastic foil in colour laser printing
EP2172336A1 (en) 2008-09-24 2010-04-07 Bayer MaterialScience AG Forgery-proof security characteristics in confidential or valuable documents
EP2831163A1 (en) * 2012-03-30 2015-02-04 Bayer Intellectual Property GmbH Polycarbonate composition with improved optical properties
CN102659642A (en) * 2012-04-20 2012-09-12 湖南鸿跃化工制造有限公司 Preparation method of antistatic agent onium salt fluoride
US8691915B2 (en) 2012-04-23 2014-04-08 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Copolymers and polymer blends having improved refractive indices
BR112014032247A2 (en) 2012-06-21 2018-05-02 3M Innovative Properties Co Laser recordable film susceptible to static dissipation:
CN108047682A (en) * 2017-12-24 2018-05-18 洛阳名力科技开发有限公司 A kind of toughness is strong and the engineering plastics of high abrasion
WO2021021897A1 (en) 2019-07-31 2021-02-04 Sabic Global Technologies B.V. Material and method for powder bed fusion
WO2021021896A1 (en) * 2019-07-31 2021-02-04 Sabic Global Technologies B.V. Powder bed fusion material and method
WO2021116356A1 (en) 2019-12-12 2021-06-17 Covestro Intellectual Property Gmbh & Co. Kg Films having special properties

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1274578B (en) * 1965-01-21 1968-08-08 Bayer Ag Process for the preparation of cycloalkylamine compounds
US4005057A (en) * 1973-10-09 1977-01-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Antistatic composition containing an N-alkyl polycarbonamide and a phosphonium salt
US4038258A (en) * 1975-09-17 1977-07-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Antistatic composition containing an aliphatic polyester or polyether ester and a phosphonium salt
US4093589A (en) 1977-02-03 1978-06-06 General Electric Company Non-opaque flame retardant polycarbonate composition
US4582781A (en) 1984-08-01 1986-04-15 Eastman Kodak Company Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt
EP0230907A3 (en) 1986-01-17 1989-05-31 Asahi Glass Company Ltd. Electric double layer capacitor having high capacity
EP0246825B1 (en) 1986-05-20 1991-02-27 Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. Quaternary salt solution electrolyte for electrolytic capacitors
US4943380A (en) 1987-09-18 1990-07-24 Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha Antistatic resin composition with transparency containing phosphonium sulphonate
EP0309622B1 (en) 1987-09-28 1997-03-05 Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha Method for reducing build up of electrostatic charges on transparent synthetic macromolecular materials selected from polymethyl methycrylate or polycarbonate
DE3737496A1 (en) * 1987-11-05 1989-05-18 Hoechst Ag METHOD FOR INCREASING THE ELECTROSTATIC RECHARGEABILITY OF POWDER VARNISHES AND POWDERS AND THEIR USE FOR SURFACE COATING OF FIXED OBJECTS
JPH01178554A (en) 1988-01-07 1989-07-14 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Thermoplastic resin composition
US5112558A (en) * 1988-01-29 1992-05-12 Husky Injection Molding Systems Ltd. Injection molding process
US5187214A (en) * 1988-11-08 1993-02-16 Ppg Industries, Inc. Quaternary ammonium antistatic polymer compositions
US5051330A (en) 1989-12-15 1991-09-24 Eastman Kodak Company Fluorinated onium salts as toner electrostatic transfer agents and charge control agents
JPH03259576A (en) 1990-03-09 1991-11-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Josephson junction
JP3427848B2 (en) * 1993-07-02 2003-07-22 三菱瓦斯化学株式会社 Antistatic resin composition
ES2185644T3 (en) * 1993-08-26 2003-05-01 Teijin Ltd PROCEDURE OF PRODUCTION OF STABILIZED POLYCARBONATE.
JPH07188539A (en) 1993-12-27 1995-07-25 Nippon G Ii Plast Kk Copolycarbonate resin composition
US5468793A (en) 1994-07-25 1995-11-21 Wico Corporation Plastic compositions with antistatic properties
JPH08302165A (en) 1995-05-12 1996-11-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd Antistatic polyester film
JPH11106635A (en) * 1997-09-30 1999-04-20 Ge Plastics Japan Ltd Polycarbonate resin composition and method product thereof

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003507510A (en) * 1999-08-16 2003-02-25 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Antistatic agent
JP4803932B2 (en) * 1999-08-16 2011-10-26 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Antistatic agent
JP2003519281A (en) * 1999-12-29 2003-06-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Water / oil repellent antistatic composition
JP2004292447A (en) * 2003-03-25 2004-10-21 E I Du Pont De Nemours & Co Fluorinated onium salt
JP2007517107A (en) * 2003-12-30 2007-06-28 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Water resistant and permanent antistatic thermoplastic composition
KR101227348B1 (en) 2003-12-30 2013-01-28 사빅 이노베이티브 플라스틱스 아이피 비.브이. Water resistant permanent antistatic thermoplastic composition
JP2011201900A (en) * 2004-04-13 2011-10-13 Sabic Innovative Plastics Ip Bv Method for producing antistatic agent
JP2007532647A (en) * 2004-04-13 2007-11-15 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Method for producing antistatic agent
JP4932702B2 (en) * 2004-04-13 2012-05-16 サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ Method for producing antistatic agent
JP2009511434A (en) * 2005-09-22 2009-03-19 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー Ionic liquid
JP2014005303A (en) * 2005-09-22 2014-01-16 E.I.Du Pont De Nemours And Company Ionic liquids
JPWO2007119631A1 (en) * 2006-03-31 2009-08-27 広栄化学工業株式会社 Antistatic agent and antistatic resin composition containing the same
WO2007119631A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-25 Koei Chemical Company, Limited Antistatic agent, and antistatic resin composition comprising the same
JP5275024B2 (en) * 2006-03-31 2013-08-28 広栄化学工業株式会社 Antistatic agent and antistatic resin composition containing the same
KR100989907B1 (en) 2007-12-28 2010-10-26 주식회사 삼양사 Thermoplastic resin composition and molding articles using the same

Also Published As

Publication number Publication date
BR9802551A (en) 2000-01-11
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