JPH11123884A - Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate - Google Patents

Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate

Info

Publication number
JPH11123884A
JPH11123884A JP9292325A JP29232597A JPH11123884A JP H11123884 A JPH11123884 A JP H11123884A JP 9292325 A JP9292325 A JP 9292325A JP 29232597 A JP29232597 A JP 29232597A JP H11123884 A JPH11123884 A JP H11123884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
printing plate
direct
plate precursor
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9292325A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuzuru Baba
譲 馬場
Ken Kawamura
建 河村
Norimasa Ikeda
憲正 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP9292325A priority Critical patent/JPH11123884A/en
Publication of JPH11123884A publication Critical patent/JPH11123884A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an original plate for a direct-description type waterless lithographic printing plate, improved in a resistance to printing. SOLUTION: In the manufacturing method of an original plate for a direct- description type waterless lithographic printing plate, in which a heat insulating layer, a heat sensitive layer and a silicone rubber layer are laminated sequentially on a substrate, a heat insulating layer composition, consisting of a compound having an epoxy compound and a carboxyl group, is applied on the substrate, then, the heat sensitive layer or a metallic thin film is formed under a condition that the epoxy group of the heat insulating layer composition remains.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いずに印
刷が可能な、水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザ光で直接製版できる直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waterless planographic printing plate precursor which can be printed without using dampening water, and more particularly to a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor which can be directly made by laser light. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。
2. Description of the Related Art Direct plate making, in which an offset printing plate is produced directly from an original without using a plate making film, is simple, does not require skill, is quick in obtaining a printing plate in a short time, Utilizing features such as rationality that can be selected according to quality and cost from the system,
In addition to the light printing industry, it has begun to enter the general offset printing and gravure printing fields.

【0003】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザプリンタなどの出力システムの急
激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が開
発されている。
In recent years, new types of various lithographic printing materials have been developed in recent years due to rapid advances in output systems such as prepress systems, imagesetters, and laser printers.

【0004】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザ光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層、またはインキ着肉層を
形成する方法などが挙げられる。
[0004] These lithographic printing plates can be classified according to plate making methods: a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode,
A method of forming an ink repellent layer or an ink deposited layer by ink jet is exemplified.

【0005】なかでも、レーザ光を照射する方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。
[0005] Above all, the method of irradiating a laser beam is superior to other methods in terms of resolution and plate making speed.
There are many types.

【0006】このレーザ光を用いる平版印刷版は、さら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの2つのタイプ
に分けられる。
[0006] The lithographic printing plate using the laser beam is further classified into two types, a photon mode by a photoreaction and a heat mode in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction.

【0007】フォトンモードタイプとしては (1)フォトポリマーを用いた高感度PS版 (2)有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 (3)銀塩方式平版 (4)銀塩複合方式平版 (5)直描マスター 等があり、ヒートモードタイプとしては、 (6)熱破壊方式平版 が挙げられる。As the photon mode type, (1) a high-sensitivity PS plate using a photopolymer (2) an electrophotographic lithographic plate using an organic photoconductor or zinc oxide (3) a silver salt lithographic plate (4) a silver salt composite System lithography (5) Direct drawing master etc., and the heat mode type includes (6) Thermal destruction system lithography.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(1)
の方式はレーザ光源に主としてアルゴンイオンレーザを
使用しているため装置が大型となり、また印刷版も高感
度のフォトポリマーを使用しているため、印刷版の取扱
いに注意が必要で、なおかつ保存安定性も低下しやすい
といった欠点がある。
However, (1)
The method uses an argon ion laser as the laser light source, which makes the equipment large, and the printing plate uses high-sensitivity photopolymer. There is a drawback that the property is easily reduced.

【0009】(2)の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後2〜5分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。
The electrophotographic lithographic method (2) has an advantage that it can be handled in a bright room, but since the dark decay becomes large within 2 to 5 minutes after charging of the photosensitive layer, the exposure and development process is performed in a short time after charging. Therefore, it is difficult to output a large format with high resolution.

【0010】(3)の銀塩方式は、さまざま波長のレー
ザに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取扱
いに注意を要するといった問題もある。
In the silver salt method (3), printing plates corresponding to lasers of various wavelengths have been developed. However, there is a problem that silver waste liquid comes out, and since the sensitivity is high, care must be taken when handling. There is also a problem that requires.

【0011】(4)の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層の該ハロゲン化
銀乳剤層をアルゴンイオンレーザで露光、現像後それを
マスクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が2回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。
The silver halide composite lithographic plate (4) is provided with a high-sensitivity silver halide emulsion layer on a photosensitive layer, exposing the upper silver halide emulsion layer with an argon ion laser, developing it, and further using the mask as a mask. Exposure and development are performed with ultraviolet rays. However, since this printing plate has two exposure and development steps, there is a problem that the processing of the printing plate becomes complicated.

【0012】(5)の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザで書き込むわけではないが、レーザプリンタで形成
されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上に転
写するものである。しかし、印刷版の解像度という面で
は、他の方式と比較して劣っている。
The direct drawing master (5) does not directly write on a printing plate with a laser, but transfers a toner image formed by a laser printer onto a printing plate as an ink-coated portion. However, the resolution of the printing plate is inferior to other methods.

【0013】以上のフォトンモードタイプに対して、
(6)の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザの急激な進歩によ
って、最近その有用性が見直されてきている。
For the above photon mode type,
The thermal destruction method (6) has an advantage that it can be handled in a bright room, and its usefulness has recently been reviewed due to the rapid progress of a semiconductor laser as a light source.

【0014】例えば、特開平6―199064号公報、
USP5339737号公報、USP5353705号
公報、EP0580393号公報、特開平6―5572
3号公報、EP0573091号公報、USP5378
580号公報にはレーザ光を光源として用いる、直描型
水なし平版印刷版原版が記載されている。
For example, JP-A-6-199064,
US Pat. No. 5,339,737, US Pat. No. 5,353,705, EP 0580393, JP-A-6-5572.
No. 3, EP0573091, USP 5378
No. 580 discloses a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor using a laser beam as a light source.

【0015】これらの熱破壊方式の印刷版原版の感熱層
は、レーザ光吸収化合物であるカーボンブラックと熱分
解化合物であるニトロセルロースからなり、カーボンブ
ラックがレーザ光を吸収することにより、光エネルギー
が熱エネルギーに変換され、その熱エネルギーにより感
熱層が破壊されるものである。そして最終的に、現像に
よってこの感熱層が破壊された部分を除去することによ
って、表面のシリコーンゴム層が同時に剥離され、イン
キ着肉部となる。
The heat-sensitive layer of these heat-destructive printing plate precursors is composed of carbon black as a laser light absorbing compound and nitrocellulose as a thermal decomposition compound. It is converted into heat energy, and the heat energy destroys the heat-sensitive layer. Finally, by removing the portion where the heat-sensitive layer has been destroyed by development, the silicone rubber layer on the surface is simultaneously peeled off to form an ink-filled portion.

【0016】しかしながらこれら印刷版は、レーザ光の
吸収率が十分ではなく、印刷版の感度が低いといった問
題があった。
However, these printing plates have a problem that the absorptance of the laser beam is not sufficient and the sensitivity of the printing plate is low.

【0017】この原因として、使用しているカーボンブ
ラックの1次粒子径が適当でないことが挙げられる。す
なわち、上記公報において使用されるカーボンブラック
の1次粒子径は、全て30μm以上で、使用している半
導体レーザ(波長800nm付近)の光を必ずしも効率
よく吸収するものではなかった。
This is because the primary particle size of the carbon black used is not appropriate. That is, the primary particle diameters of the carbon blacks used in the above publication are all 30 μm or more, and they do not always efficiently absorb the light of the semiconductor laser (wavelength around 800 nm) used.

【0018】これは、レーザ光の吸収効率の1つの目安
である、印刷版としての光学濃度が上記の粒子径では、
最大にならないということからも明らかである。すなわ
ち、光学濃度は粒子径が20μm前後の時が最大とな
り、30μmよりも大きくなると表面での光の反射が多
くなってしまうため光学濃度が低下してしまう。
This is one measure of the absorption efficiency of the laser beam. The optical density of the printing plate at the above-mentioned particle diameter is:
It is clear from the fact that it does not reach the maximum. That is, the optical density is maximum when the particle diameter is around 20 μm, and when the particle diameter is larger than 30 μm, the reflection of light on the surface increases and the optical density decreases.

【0019】なお粒子径が15μmよりも小さくなって
も、光学濃度は低下する。これは、粒子径が小さくなる
とカーボンブラック自体が透明性を帯びやすくなること
と、粒子の分散性が低下することによるものである。
Even if the particle diameter is smaller than 15 μm, the optical density decreases. This is because the carbon black itself tends to have transparency when the particle diameter is small, and the dispersibility of the particles is low.

【0020】さらに上記各公報においては、カーボンブ
ラックは、給油量が高い、すなわちハイストラクチャー
構造を有しているために、粒子同志が相互に凝集し、感
熱層溶液の粘度が高くなって取扱が不便になったり、塗
膜が均一にならないといった問題点も有していた。
Further, in each of the above publications, carbon black has a high lubricating amount, that is, has a high-structure structure, so that particles are aggregated with each other, and the viscosity of the heat-sensitive layer solution becomes high, so that it can be handled. There were also problems such as inconvenience and a non-uniform coating film.

【0021】そればかりではなく、特開平6―5572
3号公報、EP0573091号公報、USP5378
580号公報においては、光源としてNd―YAGレー
ザを用いているために、露光装置がかなり大がかりなも
のとなってしまうといった、別の問題点も持っていた。
In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 6-5572
No. 3, EP0573091, USP 5378
In Japanese Patent Publication No. 580, there is another problem that an exposure apparatus becomes considerably large because an Nd-YAG laser is used as a light source.

【0022】一方USP5379698号公報には、金
属薄膜を感熱層として用いる直描型水なし平版印刷版が
提案されている。
On the other hand, US Pat. No. 5,379,698 proposes a direct drawing type waterless lithographic printing plate using a metal thin film as a heat-sensitive layer.

【0023】この印刷版材は感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪
く、印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着
し印刷物上で欠点となるという問題点があった。加え
て、感熱層の上層にあたるシリコーンゴム層との接着性
も充分ではなく、これら各層間の接着性不足による耐刷
性不足は、この印刷版の致命的な欠点であり、実用化す
るためには解決すべき必要があった。
Since this printing plate material has a very thin heat-sensitive layer, a very sharp image can be obtained, which is advantageous in terms of the resolution of the printing plate. However, there has been a problem that the heat-sensitive layer in the non-image area is peeled off and ink adheres to the print, resulting in a defect on printed matter. In addition, the adhesiveness with the silicone rubber layer, which is the upper layer of the heat-sensitive layer, is not sufficient, and insufficient printing durability due to insufficient adhesiveness between these layers is a fatal drawback of this printing plate. Needed to be resolved.

【0024】本発明はかかる従来技術の欠点を改良する
ため、特に金属薄膜を感熱層とした場合の感熱層と断熱
層の接着性に着目して検討を行った結果、特定の化合物
を用い特定の条件下とした断熱層に、感熱層を形成する
ことにより耐刷性が向上することを見出した。
In order to improve the disadvantages of the prior art, the present invention has been studied by focusing on the adhesiveness between the heat-sensitive layer and the heat-insulating layer, particularly when a metal thin film is used as the heat-sensitive layer. It was found that printing durability was improved by forming a heat-sensitive layer on the heat-insulating layer under the conditions described in (1).

【0025】すなわち本発明の目的は、感熱層と断熱層
の接着性を向上することにより、耐刷性の優れた直描型
水なし平版印刷版を製造することにある。
That is, an object of the present invention is to produce a direct-drawing waterless planographic printing plate having excellent printing durability by improving the adhesion between the heat-sensitive layer and the heat insulating layer.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、基板上に断熱層、感熱層、シリコーンゴム層を順次
積層させる直描型水なし平版印刷版原版の製造法におい
て、基板に、エポキシ化合物およびカルボキシル基を有
する化合物からなる断熱層組成物を塗布し、断熱層組成
物のエポキシ基が残存する状態で、感熱層である金属薄
膜を形成することを特徴とする直描型水なし平版印刷版
原版の製造法により達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor in which a heat insulating layer, a heat-sensitive layer, and a silicone rubber layer are sequentially laminated on a substrate. A direct drawing type waterless coating characterized in that a heat insulating layer composition comprising an epoxy compound and a compound having a carboxyl group is applied and a metal thin film as a heat sensitive layer is formed in a state where the epoxy group of the heat insulating layer composition remains. This is achieved by a method for producing a lithographic printing plate precursor.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。
なお本発明において、直描型とは、露光時にネガあるい
はポジのフィルムを用いずに、印刷版上に直接記録ヘッ
ドから、画像形成を行うものを意味する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
In the present invention, the direct drawing type refers to a type in which an image is formed directly from a recording head on a printing plate without using a negative or positive film at the time of exposure.

【0028】本発明において、基板は寸法的に安定な板
状物であれば特に限定されず、公知の金属、フィルム等
を使用することができる。この様な寸法的に安定な板状
物としては、従来から印刷版の基板として使用されるも
のが挙げられ、それらを好適に使用することができる。
具体的には、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ−トされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えばセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ−
ルなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金
属がラミネ−トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチ
ックフィルムなどである。
In the present invention, the substrate is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material, and known metals, films and the like can be used. Examples of such a dimensionally stable plate-like material include those conventionally used as a substrate of a printing plate, and they can be suitably used.
Specifically, paper, plastic (for example, polyethylene,
Paper laminated with polypropylene, polystyrene, etc.), for example, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper, etc., for example, cellulose, carboxymethylcellulose, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, Polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetate
A plastic film such as a metal, a paper or a plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above.

【0029】これらの基板のうち、アルミニウム板は寸
法的に著しく安定であり、しかも安価であるので特に好
ましい。また、軽印刷用の基板として用いられている、
ポリエチレンテレフタレ−トフィルムも好ましく挙げら
れる。
Of these substrates, the aluminum plate is particularly preferable because it is extremely stable in dimension and inexpensive. Also used as a substrate for light printing,
A polyethylene terephthalate film is also preferred.

【0030】本発明においては、上記した基板上に、エ
ポキシ化合物およびカルボキシル基を有する化合物から
なる断熱層組成物を塗布し、断熱層組成物の官能基が残
存する状態で、感熱層である金属薄膜を形成することが
重要である。
In the present invention, a heat-insulating layer composition comprising an epoxy compound and a compound having a carboxyl group is applied onto the above-mentioned substrate, and the metal layer serving as the heat-sensitive layer is applied while the functional groups of the heat-insulating layer composition remain. It is important to form a thin film.

【0031】断熱層組成物を構成するこれらの化合物の
官能基は、加熱により官能基同志が架橋反応し硬化する
ものであり、従来の直描型水なし平版印刷版原版の製造
法においては、断熱層組成物を充分に架橋反応させた後
に感熱層を形成していた。しかしながら、本発明におい
ては、感熱層形成前には断熱層組成物中の官能基の一部
のみを架橋し、金属薄膜の感熱層を形成した後、残存す
る官能基を架橋反応するものである。この残存する官能
基の架橋反応時に、同時に断熱層組成物と感熱層を構成
する金属とが化学的に結合し、断熱層と金属薄膜の接着
を強固にし、本発明の目的とする耐刷性の向上が達成さ
れる。
The functional groups of these compounds constituting the heat-insulating layer composition are such that the functional groups cross-link and cure by heating, and are cured. In the conventional method for producing a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor, The heat-sensitive layer was formed after the heat-insulating layer composition was sufficiently crosslinked. However, in the present invention, before forming the heat-sensitive layer, only a part of the functional groups in the heat-insulating layer composition is crosslinked, and after forming the heat-sensitive layer of the metal thin film, the remaining functional groups undergo a cross-linking reaction. . During the crosslinking reaction of the remaining functional groups, at the same time, the heat-insulating layer composition and the metal constituting the heat-sensitive layer are chemically bonded to each other, and the adhesion between the heat-insulating layer and the metal thin film is strengthened. Is achieved.

【0032】断熱層組成物中の官能基の反応は加熱せず
に室温で行うことも出来るが、生産性、作業性の点で加
熱して架橋反応させる方法が好ましい。また、加熱する
条件により架橋度を容易に調節できるメリットもある。
The reaction of the functional group in the heat-insulating layer composition can be carried out at room temperature without heating, but a method of performing a crosslinking reaction by heating is preferred from the viewpoint of productivity and workability. There is also an advantage that the degree of crosslinking can be easily adjusted by heating conditions.

【0033】特に感熱層形成時に、断熱層組成物塗布面
が粘着性を有する場合には、作業性が低下するため、断
熱層組成物を塗布した後に加熱し、粘着性が無くなる程
度まで官能基の一部を架橋反応させ、次いで金属薄膜の
感熱層を形成した後、さらに加熱し断熱層組成物中の残
存官能基を架橋反応させることが好ましい。
In particular, when the heat-sensitive layer is formed, if the surface to which the heat-insulating layer composition is applied has tackiness, the workability deteriorates. Is preferably subjected to a cross-linking reaction, followed by forming a heat-sensitive layer of a metal thin film, and then further heating to cross-link the remaining functional groups in the heat insulating layer composition.

【0034】断熱層組成物に含まれるエポキシ化合物と
しては、水酸基含有化合物にエピハロヒドリンを反応さ
せることにより得られるエポキシ化合物が挙げられる。
The epoxy compound contained in the heat insulating layer composition includes an epoxy compound obtained by reacting a hydroxyl-containing compound with epihalohydrin.

【0035】水酸基含有化合物の具体例としては、以下
のものが挙げられる。
The following are specific examples of the hydroxyl group-containing compound.

【0036】(1)単官能水酸基含有化合物 具体例としてはメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ペンタノール、シクロヘキサノール、オクタノー
ル、ウンデカノール、ボルニルアルコール等が挙げられ
る。
(1) Monofunctional hydroxyl group-containing compound Specific examples include methanol, ethanol, propanol, pentanol, cyclohexanol, octanol, undecanol, bornyl alcohol and the like.

【0037】(2)多官能水酸基含有化合物 具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオ
ール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオ
ール、2−ブテン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−
1,2−ジオール、7−オクテン−1,2−ジオール、
3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、ヒドロキ
ノン、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールS、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、
ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合
体および共重合体、グリセリン、ジグリセリン、トリメ
チロールプロパン、1,2,4−ブタントリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ソルビタン、ポリビニルアルコール、セルロー
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの重合体および共重合体などが挙げられる。
(2) Polyfunctional hydroxyl group-containing compound Specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butanediol, 2,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2-butene-1,4-diol, 5-hexene-
1,2-diol, 7-octene-1,2-diol,
3-mercapto-1,2-propanediol, hydroquinone, dihydroxyanthraquinone, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, bisphenol A, bisphenol S, phenol formaldehyde novolak resin, resole resin, resorcinbenzaldehyde resin,
Pyrogallol acetone resin, hydroxystyrene polymer and copolymer, glycerin, diglycerin, trimethylolpropane, 1,2,4-butanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, sorbitan, polyvinyl alcohol, cellulose and derivatives thereof And hydroxyethyl (meth) acrylate polymers and copolymers.

【0038】また、上記の水酸基含有化合物の水酸基の
それぞれにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド
を付加したものも同様に使用することができる。
In addition, those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to each of the hydroxyl groups of the above-mentioned hydroxyl group-containing compounds can also be used.

【0039】これらエポキシ化合物はそれぞれ単独で使
用することもできるし、複数種を混合して使用すること
もできる。
Each of these epoxy compounds can be used alone, or a plurality of them can be used as a mixture.

【0040】さらに、断熱層組成物中に架橋剤として、
アミン化合物、アミンアダクト化合物の群から選ばれる
少なくとも1種の化合物を含有し、これより官能基が架
橋されることが、印刷時の耐溶剤性と耐刷性の点で好ま
しい。
Further, as a crosslinking agent in the heat insulating layer composition,
It is preferable to contain at least one compound selected from the group consisting of an amine compound and an amine adduct compound, and to crosslink a functional group from this, from the viewpoint of solvent resistance during printing and printing durability.

【0041】ここでアミン化合物、アミンアダクト化合
物について説明する。
Here, the amine compound and the amine adduct compound will be described.

【0042】アミン化合物としては、下記の一般式
(1)で示されるポリアミンが挙げられる。
Examples of the amine compound include polyamines represented by the following general formula (1).

【0043】[0043]

【化1】 (式中、R1 、R2 は水素原子、炭素数1〜20の置換
または無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニ
ル基、置換または無置換のアラルキル基であり、それぞ
れ同一であっても異なっていてもよい。置換基として
は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基などが挙げられる。好ましくは水素原
子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、ヒドロキシメチ
ル基、ヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、p
−ブロモフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、ベ
ンジル基などが挙げられる。
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, an aryl group, etc. Preferably, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and isopropyl Group, n-butyl group, sec-butyl group, hydroxymethyl group, hydroxypropyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, p
-Bromophenyl group, p-tolyl group, o-tolyl group, benzyl group and the like.

【0044】Aは2価の連結基を示し、具体的には一般
式−(A1 p −(A2 q −で示される。式中A
1 は、炭素数1〜20の置換または無置換の環式または
非環式のアルキレン、置換または無置換のフェニレンで
置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン
原子、水酸基、アリール基などが挙げられる。A2 は、
−O−B1 −、−S−B2 −、−NH−B3 −、−CO
−O−B4 −、−SO2 −NH−B5 −で、B1
2 、B3 、B4 、B5 は、上記のA1 と同一のものを
示す。pは1以上の整数、qは0または1以上の整数を
示す。)一般式(1)で示される2価以上のアミン化合
物の具体例としては、ジオキシエチレンジアミン、トリ
オキシエチレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミ
ン、ペンタオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチ
レンジアミン、ペプタオキシエチレンジアミン、オクタ
オキシエチレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミ
ン、デカオキシエチレンジアミン、トリトリアコンタオ
キシエチレンジアミン、モノオキシプロピレンジアミ
ン、ジオキシプロピレンジアミン、トリオキシプロピレ
ンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペンタオ
キシプロピレンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジア
ミン、ヘプタオキシプロピレンジアミン、オクタオキシ
プロピレンジアミン、ノナオキシプロピレンジアミン、
デカオキシプロピレンジアミン、トリトリアコンタオキ
シプロピレンジアミン、ポリメチレンジアミン、ポリエ
ーテルジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプ
ロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、ト
リエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペ
ンタエチレンヘキサミン、ジメチルアミノプロピルアミ
ン、ジエチルアミノプロピルアミン、置換ポリアミン等
の脂肪族ポリアミン化合物や、m−キシリレンジアミ
ン、テトラクロル−p−キシリレンジアミン等の芳香環
を有する脂肪族ポリアミン化合物、メンタンジアミン、
N−アミノエチルピペラジン、1,3−ジアミノシクロ
ヘキサン、イソホロンジアミン等の脂環族ポリアミン、
m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテ
ル、4,4’−メチレンジアニリン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、ベンジジン、4,4’−ビス(o−トルイ
ジン)、4,4’−チオジアニリン、o−フェニレンジ
アミン、ジアニシジン、メチレンビス(o−クロロアニ
リン)、2,4−トルエンジアミン、ビス(3,4−ジ
アミノフェニル)スルホン、ジアミノジトリスルホン、
4−クロロ−o−フェニレンジアミン、4−メトキシ−
6−メチル−m−フェニレンジアミン、m−アミノベン
ジルアミン等の芳香族ポリアミン化合物やジシアンジア
ミド、アジピン酸ジヒドラジドが挙げられる。
A represents a divalent linking group, and is specifically represented by the general formula-(A 1 ) p- (A 2 ) q- . Where A
1 is a substituted or unsubstituted cyclic or acyclic alkylene having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenylene, and the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, an aryl group. And the like. A 2 is,
-O-B 1- , -SB 2- , -NH-B 3- , -CO
—O—B 4 —, —SO 2 —NH—B 5 —, wherein B 1 ,
B 2 , B 3 , B 4 and B 5 are the same as A 1 described above. p represents an integer of 1 or more, and q represents 0 or an integer of 1 or more. As specific examples of the divalent or higher valent amine compound represented by the general formula (1), dioxyethylene diamine, trioxyethylene diamine, tetraoxyethylene diamine, pentaoxyethylene diamine, hexaoxyethylene diamine, peptaoxyethylene diamine, octaoxyethylene diamine, Nonaoxyethylenediamine, decaoxyethylenediamine, tritriacontaoxyethylenediamine, monooxypropylenediamine, dioxypropylenediamine, trioxypropylenediamine, tetraoxyethylenediamine, pentaoxypropylenediamine, hexaoxypropylenediamine, heptaoxypropylenediamine, octaoxy Propylene diamine, nonaoxypropylene diamine,
Decaoxypropylenediamine, tritriacontaoxypropylenediamine, polymethylenediamine, polyetherdiamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, dimethylaminopropyl Amines, diethylaminopropylamine, aliphatic polyamine compounds such as substituted polyamines, m-xylylenediamine, aliphatic polyamine compounds having an aromatic ring such as tetrachloro-p-xylylenediamine, menthanediamine,
Alicyclic polyamines such as N-aminoethylpiperazine, 1,3-diaminocyclohexane, and isophoronediamine;
m-phenylenediamine, diaminodiphenyl ether, 4,4'-methylenedianiline, diaminodiphenylsulfone, benzidine, 4,4'-bis (o-toluidine), 4,4'-thiodianiline, o-phenylenediamine, dianisidine, methylenebis (O-chloroaniline), 2,4-toluenediamine, bis (3,4-diaminophenyl) sulfone, diaminoditrisulfone,
4-chloro-o-phenylenediamine, 4-methoxy-
Examples thereof include aromatic polyamine compounds such as 6-methyl-m-phenylenediamine and m-aminobenzylamine, dicyandiamide, and adipic dihydrazide.

【0045】また、2−メチルイミダゾール、2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾー
ル、2,4−ジメチルイミダゾールなども挙げられる。
Further, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4-dimethylimidazole and the like can also be mentioned.

【0046】更に、上記のポリアミン化合物とカルボン
酸を両末端がアミノ基となるように反応させたポリアミ
ドアミンも挙げることができる。
Further, there may be mentioned a polyamidoamine obtained by reacting the above-mentioned polyamine compound with a carboxylic acid so that both terminals become amino groups.

【0047】また、尿素樹脂、メラミン樹脂等のアミノ
基含有樹脂であってもよい。
Further, amino group-containing resins such as urea resins and melamine resins may be used.

【0048】更にアミンアダクト化合物としては、上記
ポリアミン化合物とエポキシ化合物を反応させた物が挙
げられる。ここでエポキシ化合物は上記したエポキシ化
合物と同様の物を意味するものとする。
Further, examples of the amine adduct compound include those obtained by reacting the above-mentioned polyamine compound with an epoxy compound. Here, the epoxy compound means the same as the epoxy compound described above.

【0049】これらアミン化合物、アミンアダクト化合
物はそれぞれ単独で使用してもよいし、複数種を適宜混
合して使用してもよい。
These amine compounds and amine adduct compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0050】上記架橋剤の中でも、溶液の保存安定性、
硬化速度の点で、アミンアダクト化合物、イミダゾー
ル、芳香族アミン、脂環族アミンが好ましい。
Among the above crosslinking agents, storage stability of the solution,
From the viewpoint of curing speed, amine adduct compounds, imidazoles, aromatic amines, and alicyclic amines are preferred.

【0051】また本発明において、断熱層組成物中に含
まれるカルボキシル基を有する化合物としては、以下の
ものが挙げられる。
In the present invention, the compounds having a carboxyl group contained in the heat insulating layer composition include the following.

【0052】(1)上記のアミン化合物とカルボン酸
を、少なくとも1つの末端がカルボキシル基となる比率
で反応させた化合物 カルボン酸の具体例としては以下のものが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。
(1) Compound wherein the above-mentioned amine compound and carboxylic acid are reacted at a ratio at which at least one terminal is a carboxyl group. Specific examples of carboxylic acid include the following. Not limited.

【0053】マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、チオリン
ゴ酸、ラセミ酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の
2価の有機カルボン酸、トリメリット酸等の3価の有機
カルボン酸、3,9−ビス(2カルボキシアルキル)
2,4,8,10−テトラオキサスピロウンデカン等が
挙げられる。
Malonic acid, succinic acid, malic acid, thiomalic acid, racemic acid, citric acid, glutaric acid, adipic acid,
Pimelic acid, spearic acid, azelaic acid, sebacic acid,
Divalent organic carboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and dimer acid; trivalent organic carboxylic acids such as trimellitic acid; and 3,9-bis (2-carboxyalkyl)
2,4,8,10-tetraoxaspiroundoundane and the like.

【0054】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることが出来る。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体のカルボ
キシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジエ
ン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、カ
ルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン共重
合体等が挙げられる。
Further, a carboxy-modified unvulcanized rubber can be used. Specifically, natural rubber, butadiene,
Isoprene, styrene, acrylonitrile, carboxy-modified homopolymer or copolymer selected from acrylates, such as carboxy-modified polybutadiene, carboxy-modified styrene-butadiene copolymer, carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer,
Examples include carboxy-modified methyl methacrylate-butadiene copolymer.

【0055】更に、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールにより上記の多価カルボン酸をエステ
ル化反応させた化合物も用いることが出来る。該化合物
は両末端にカルボキシル基を有することが好ましい。
Further, a compound obtained by subjecting the above polyvalent carboxylic acid to an esterification reaction with polyethylene glycol or polypropylene glycol can also be used. The compound preferably has carboxyl groups at both ends.

【0056】(2)カルボキシル基を分子中に1個また
は2個有するα、β−不飽和化合物 具体例としてはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
アミド、メタクリル酸アミド、無水マレイン酸、マレイ
ン酸、マレイン酸アミド、マレイン酸イミド、イタコン
酸、クロトン酸、フマル酸、メサコン酸、2−メタクロ
イルオキシエチルコハク酸、2−メタクリロイルオキシ
エチルフタル酸、2−アクリロイルオキシエチルコハク
酸、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−アク
リロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸などが挙げ
られる。
(2) α, β-Unsaturated Compound Having One or Two Carboxyl Groups in the Molecule Specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, maleic anhydride, maleic acid, Maleic amide, maleic imide, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid, mesaconic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl phthalic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl Examples include phthalic acid and 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid.

【0057】また、これらカルボキシル基を分子中に1
個または2個有するα、β−不飽和化合物の重合体およ
びその架橋体も好ましく用いることができる。
In addition, these carboxyl groups are added to the molecule
Polymers of α, β-unsaturated compounds having one or two and crosslinked products thereof can also be preferably used.

【0058】この際共重合可能な他のモノマー成分の例
としては、公知のα−オレフィン、ビニル化合物、ビニ
リデン化合物が挙げられ、具体的には、エチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、1−ブチレン、ジイソブチレ
ン、メチルビニルエーテル、スチレン、酢酸ビニル、ア
クリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニ
トリルなどが挙げられる。
Examples of other copolymerizable monomer components include known α-olefins, vinyl compounds, and vinylidene compounds. Specific examples include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butylene, and diisobutylene. , Methyl vinyl ether, styrene, vinyl acetate, acrylate, methacrylate, acrylonitrile, and the like.

【0059】更に断熱層組成物中に、含燐化合物が含ま
れることが印刷時の耐溶剤性と耐刷性の点でより好まし
い。本発明において好ましい含燐化合物としては以下の
ものが挙げられる。すなわち、燐酸、アルキルリン酸、
アリールリン酸、アルキル亜リン酸、アリール亜リン
酸、亜リン酸不飽和アルキル、亜リン酸不飽和アリル、
リン酸不飽和アルキル、リン酸不飽和アリル等である。
Further, it is more preferable that the heat insulating layer composition contains a phosphorus-containing compound from the viewpoint of solvent resistance and printing durability during printing. The preferred phosphorus-containing compounds in the present invention include the following. That is, phosphoric acid, alkyl phosphoric acid,
Aryl phosphoric acid, alkyl phosphite, aryl phosphite, unsaturated alkyl phosphite, unsaturated allyl phosphite,
Unsaturated alkyl phosphate, unsaturated allyl phosphate and the like.

【0060】これらの中でもリン酸不飽和アルキルが特
に好ましい。これらリン酸不飽和アルキルの具体例とし
ては、下記一般式(2)で示されるものが挙げられる。
Of these, unsaturated alkyl phosphates are particularly preferred. Specific examples of these unsaturated alkyl phosphates include those represented by the following general formula (2).

【0061】[0061]

【化2】 (式中Rは水素原子またはアルキル基を表し、nは0以
上の整数を表す。また、a、bはそれぞれ1以上の整数
を表す。) 特に、一般式(2)のRがメチル基であることが好まし
く、nが0または1であり、a、bがそれぞれ1または
2の化合物が好ましい。
Embedded image (Wherein R represents a hydrogen atom or an alkyl group, n represents an integer of 0 or more, and a and b each represent an integer of 1 or more.) In particular, R in the general formula (2) is a methyl group. It is preferable that n is 0 or 1, and a and b are each 1 or 2.

【0062】本発明において断熱層組成物は、上記した
エポキシ化合物、架橋剤、カルボキシル基を有する化合
物、含燐化合物の他に、バインダーポリマー、着色剤、
分散剤、レベリング剤、接着剤剤等を必要に応じ適宜含
有することができる。
In the present invention, in addition to the epoxy compound, the crosslinking agent, the compound having a carboxyl group, and the phosphorus-containing compound, a binder polymer, a coloring agent,
A dispersant, a leveling agent, an adhesive and the like can be appropriately contained as needed.

【0063】バインダーポリマーとしては、ポリオレフ
ィン類、ポリスチレン類、(メタ)アクリル酸エステル
ポリマー、未加硫ゴム、ポリオキシド類、ポリエステル
類、ポリウレタン類、ポリアミド類等が挙げられる。こ
れらの中でも、ポリエステル類、ポリウレタン類が好ま
しい。
Examples of the binder polymer include polyolefins, polystyrenes, (meth) acrylate polymers, unvulcanized rubbers, polyoxides, polyesters, polyurethanes, polyamides and the like. Among these, polyesters and polyurethanes are preferred.

【0064】着色剤としては公知の有機、無機顔料、染
料、金属粉末等を使用することができる。
As the coloring agent, known organic and inorganic pigments, dyes, metal powders and the like can be used.

【0065】また接着剤としては、公知のシランカップ
リング剤、有機チタネート等を使用することができる。
シランカップリング剤の具体例としては、3−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタアクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
等が挙げられる。
Known adhesives such as silane coupling agents and organic titanates can be used as the adhesive.
Specific examples of the silane coupling agent include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxytrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like.

【0066】上記の断熱層組成物は、ジメチルホルムア
ミド(DMF)、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジオキサン、トルエン、キシレン、テトラヒ
ドロフラン(THF)等の適当な有機溶剤に溶解させる
ことによって、組成物溶液として調製され、該断熱層組
成物溶液は公知の方法により基板上に塗布することがで
きる。
The above heat insulating layer composition is prepared as a composition solution by dissolving in a suitable organic solvent such as dimethylformamide (DMF), methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, toluene, xylene, tetrahydrofuran (THF). The heat insulating layer composition solution can be applied on a substrate by a known method.

【0067】その後、溶剤を揮散させ、断熱層組成物中
の一部の官能基のみを架橋反応させる。この時、基板の
到達温度で60〜120℃に加熱し架橋させることが好
ましく、60〜100℃がより好ましい。
Thereafter, the solvent is volatilized, and only a part of the functional groups in the heat insulating layer composition undergoes a crosslinking reaction. At this time, it is preferable to crosslink by heating to 60 to 120 ° C at the temperature reached by the substrate, and more preferably 60 to 100 ° C.

【0068】このように官能基の一部を架橋した断熱層
上に、後述する感熱層を形成させた後、更に加熱し、断
熱層中の残存官能基を架橋反応させる。この際の温度は
基板の到達温度で150〜260℃の範囲で行うことが
好ましく、更に好ましくは180℃〜240℃の範囲で
ある。
After forming a heat-sensitive layer, which will be described later, on the heat-insulating layer in which a part of the functional groups is cross-linked as described above, heating is further performed to cause a cross-linking reaction of the remaining functional groups in the heat-insulating layer. The temperature at this time is preferably in the range of 150 to 260 ° C. as the ultimate temperature of the substrate, and more preferably in the range of 180 to 240 ° C.

【0069】断熱層の厚さは、溶剤揮発後の被覆層にし
て、0.5〜50g/m2 が好ましく、より好ましくは
1〜10g/m2である。厚さが0.5g/m2よりも薄
いと基板表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果
が劣り、50g/m2よりも厚いと経済的見地から不利
となるので上記の範囲が好ましい。
The thickness of the heat-insulating layer is preferably 0.5 to 50 g / m 2 , more preferably 1 to 10 g / m 2 , as a coating layer after the evaporation of the solvent. When the thickness is less than 0.5 g / m 2 , the effect of blocking morphological defects and chemical adverse effects on the substrate surface is inferior, and when the thickness is more than 50 g / m 2, it is disadvantageous from an economic point of view.

【0070】本発明における断熱層組成物の好ましい組
成の例を以下に示す。
Preferred examples of the composition of the heat insulating layer in the present invention are shown below.

【0071】 (1)エポキシ化合物 50〜100重量部 (2)架橋剤 10〜 50重量部 (3)カルボキシル基を有する化合物 5〜 30重量部 (4)含燐化合物 0.01〜 1重量部 (5)バインダーポリマー 0〜 80重量部 (6)着色剤 0〜 10重量部 (7)接着剤 0〜 10重量部 (8)レベリング剤 0〜 5重量部 更に好ましい組成としては (1)エポキシ化合物 60〜100重量部 (2)架橋剤 10〜 40重量部 (3)カルボキシル基を有する化合物 5〜 20重量部 (4)含燐化合物 0.05〜0.5重量部 (5)バインダーポリマー 0〜 80重量部 (6)着色剤 1〜 5重量部 (7)接着剤 0〜 10重量部 (8)レベリング剤 0〜 5重量部 である。(1) 50 to 100 parts by weight of an epoxy compound (2) 10 to 50 parts by weight of a crosslinking agent (3) 5 to 30 parts by weight of a compound having a carboxyl group (4) 0.01 to 1 part by weight of a phosphorus-containing compound 5) Binder polymer 0 to 80 parts by weight (6) Colorant 0 to 10 parts by weight (7) Adhesive 0 to 10 parts by weight (8) Leveling agent 0 to 5 parts by weight More preferable composition is (1) epoxy compound 60 100 parts by weight (2) Crosslinking agent 10 to 40 parts by weight (3) Compound having a carboxyl group 5 to 20 parts by weight (4) Phosphorus-containing compound 0.05 to 0.5 part by weight (5) Binder polymer 0 to 80 Parts by weight (6) coloring agent 1 to 5 parts by weight (7) adhesive 0 to 10 parts by weight (8) leveling agent 0 to 5 parts by weight.

【0072】次に本発明における感熱層について説明す
る。
Next, the heat-sensitive layer in the present invention will be described.

【0073】本発明において感熱層は金属の薄膜からな
り、レーザ光を効率よく吸収して、その熱によって瞬間
的に一部または全部が蒸発、または融解することが重要
である。
In the present invention, it is important that the heat-sensitive layer is made of a metal thin film, efficiently absorbs the laser beam, and evaporates or melts instantaneously or partially by the heat.

【0074】レーザ光を効率よく吸収するためには、光
源として用いられる半導体レーザの波長(800nm付
近)に対する吸収率が重要である。この800nm付近
の光に対する吸収率の指標として、感熱層の光学濃度が
使用でき、光学濃度が高いほどレーザ光を効率よく吸収
することができると言える。
In order to efficiently absorb laser light, the absorptance for the wavelength (around 800 nm) of a semiconductor laser used as a light source is important. The optical density of the heat-sensitive layer can be used as an index of the absorptivity for light near 800 nm, and it can be said that the higher the optical density, the more efficiently the laser light can be absorbed.

【0075】本発明において、感熱層の光学濃度が0.
6〜2.3であることが好ましく、0.8〜1.8であ
ることが好ましい。
In the present invention, the optical density of the heat-sensitive layer is 0.5.
It is preferably from 6 to 2.3, and more preferably from 0.8 to 1.8.

【0076】光学濃度が0.6よりも小さいと、レーザ
光が効率よく吸収されないために印刷版の感度が低下す
る傾向があり、2.3よりも大きい場合は、通常のエネ
ルギー量では感熱層の膜中にレーザ光が届かなくなり、
結果として画像を形成するためのエネルギーが余分に必
要となり、感度も低下する傾向がある。
When the optical density is lower than 0.6, the sensitivity of the printing plate tends to decrease because the laser light is not efficiently absorbed. When the optical density is higher than 2.3, the heat-sensitive layer is not used with a normal energy amount. The laser beam stops reaching the film of
As a result, extra energy is required to form an image, and the sensitivity tends to decrease.

【0077】なおここでの光学濃度とはラッテンフィル
ター No.106を用いて、マクベス濃度計 RD―
514で測定を行った場合の数値をいう。
Here, the optical density means the Ratten filter No. Using Macbeth densitometer RD-106
The numerical value when the measurement is performed at 514.

【0078】また、印刷版の感度という面からは、金属
の融点が非常に重要である。すなわち、融点が高すぎる
と、レーザ光を照射しても金属が溶融、あるいは蒸発等
の変化を起こさないためである。本発明においては、感
熱層を構成する金属の融点が2000(K)以下である
ことが好ましい。
From the viewpoint of the sensitivity of the printing plate, the melting point of the metal is very important. That is, if the melting point is too high, the metal does not melt or change in evaporation or the like even when irradiated with laser light. In the present invention, the melting point of the metal constituting the heat-sensitive layer is preferably 2000 (K) or less.

【0079】このような金属の具体例としては、バリウ
ム、ベリリウム、ビスマス、カルシウム、セリウム、コ
バルト、銅、エルビウム、、ユピロピウム、鉄、ガドウ
ニウム、ゲルマニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチ
ウム、マグネシウム、マンガン、ネオジム、ニッケル、
鉛、パラジウム、ポロニウム、プラセオジム、ラジウ
ム、アンチモン、スカンジウム、ケイ素、サマリウム、
スズ、ストロンチウム、テルビウム、テルル、トリウ
ム、チタン、タリウム、ツリウム、イットリビウム、亜
鉛、ガリウム、セレン等が挙げられる。
Specific examples of such metals include barium, beryllium, bismuth, calcium, cerium, cobalt, copper, erbium, europium, iron, gadolinium, germanium, holmium, lanthanum, lutetium, magnesium, manganese, neodymium, nickel,
Lead, palladium, polonium, praseodymium, radium, antimony, scandium, silicon, samarium,
Tin, strontium, terbium, tellurium, thorium, titanium, thallium, thulium, yttrium, zinc, gallium, selenium and the like.

【0080】これらの中でも印刷版の感度の点から、融
点が930(K)以下であることがより好ましい。この
ような金属の具体例としては、テルル、スズ、アンチモ
ン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タ
リウム、亜鉛およびビスマス等が挙げられる。これらの
金属は、蒸着膜にした場合、レーザ光でパターンが形成
されやすいために好ましい。
Among these, the melting point is more preferably 930 (K) or less from the viewpoint of the sensitivity of the printing plate. Specific examples of such a metal include tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc, bismuth and the like. These metals are preferable when they are formed into a vapor-deposited film because a pattern can be easily formed by laser light.

【0081】しかしながら、逆に融点が低すぎても印刷
版の形態保持性が低下しやすくなるために、特に好まし
い融点の範囲としては500(K)〜930(K)であ
る。
However, conversely, even if the melting point is too low, the shape retention of the printing plate is apt to be deteriorated. Therefore, a particularly preferable range of the melting point is 500 (K) to 930 (K).

【0082】またこれらの金属は、2種類あるいは3種
類のアロイとすることによって、融点を調節し易くで
き、印刷版としての感度を向上させることができるた
め、特に好ましい。
These metals are particularly preferable when they are made of two or three kinds of alloys, because the melting point can be easily adjusted and the sensitivity as a printing plate can be improved.

【0083】アロイとする場合には、金属の組み合わせ
によって、様々なものが作製でき、上記した融点200
0(K)以下の金属の中から、適宜組み合わせて用いる
ことができる。これらの中でも、扱いやすさの点からテ
ルル、スズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛の
何れかの金属の2種類、あるいは3種類の組み合わせが
好ましい。
In the case of an alloy, various products can be produced depending on the combination of metals.
It can be used in an appropriate combination from metals of 0 (K) or less. Among them, two or three kinds of metals of tellurium, tin, antimony, gallium, bismuth and zinc are preferable from the viewpoint of ease of handling.

【0084】具体的な組み合わせとしては、2種類のア
ロイでは、テルル/スズ、テルル/アンチモン、テルル
/ガリウム、テルル/ビスマス、テルル/亜鉛、スズ/
アンチモン、スズ/ガリウム、スズ/ビスマス、スズ/
亜鉛が好ましく、より好ましくは、テルル/スズ、テル
ル/アンチモン、テルル/亜鉛、スズ/アンチモン、ス
ズ/亜鉛である。
As a specific combination, the two alloys include tellurium / tin, tellurium / antimony, tellurium / gallium, tellurium / bismuth, tellurium / zinc, and tin / tin.
Antimony, tin / gallium, tin / bismuth, tin /
Zinc is preferred, more preferably tellurium / tin, tellurium / antimony, tellurium / zinc, tin / antimony, tin / zinc.

【0085】3種類のアロイでは、テルル/スズ/アン
チモン、テルル/スズ/ガリウム、テルル/スズ/ビス
マス、テルル/スズ/亜鉛、テルル/亜鉛/アンチモ
ン、テルル/亜鉛/ガリウム、テルル/亜鉛/ビスマ
ス、スズ/亜鉛/アンチモンが好ましく、より好ましく
は、テルル/スズ/アンチモン、テルル/スズ/亜鉛、
スズ/亜鉛/アンチモンである。
The three alloys include tellurium / tin / antimony, tellurium / tin / gallium, tellurium / tin / bismuth, tellurium / tin / zinc, tellurium / zinc / antimony, tellurium / zinc / gallium, and tellurium / zinc / bismuth. , Tin / zinc / antimony are preferred, more preferably tellurium / tin / antimony, tellurium / tin / zinc,
Tin / zinc / antimony.

【0086】またこの時、薄膜の膜厚も印刷版の感度に
大きな影響を与える。すなわち、膜厚が厚すぎると、薄
膜を蒸発、融解させるために要するエネルギーが余分に
必要となるために、印刷版の感度が低下してしまうので
ある。
At this time, the thickness of the thin film also greatly affects the sensitivity of the printing plate. That is, if the film thickness is too thick, the energy required for evaporating and melting the thin film becomes extra, and the sensitivity of the printing plate is reduced.

【0087】このため、膜厚としては1000オングス
トローム以下が好ましく、200オングストローム以下
がより好ましい。
For this reason, the thickness is preferably 1000 Å or less, more preferably 200 Å or less.

【0088】このような金属薄膜の形成方法としては、
真空蒸着、スパッタリングの何れかの方法で行うことが
好ましい。
As a method of forming such a metal thin film,
It is preferable to carry out by any of vacuum deposition and sputtering.

【0089】真空蒸着は、10-4〜10-7mmHgの減
圧容器中で、金属を加熱蒸発させ、基板の表面に薄膜を
形成させる方法である。
Vacuum evaporation is a method in which a metal is heated and evaporated in a vacuum vessel of 10 −4 to 10 −7 mmHg to form a thin film on the surface of a substrate.

【0090】スパッタリングは、10-1〜10-3mmH
gの減圧容器中で1対の電極に直流あるいは交流電圧を
加え、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現
象を利用して基板上に薄膜を形成する方法である。
The sputtering is performed at 10 -1 to 10 -3 mmH
In this method, a DC or AC voltage is applied to a pair of electrodes in a reduced-pressure container of g to generate glow discharge, and a thin film is formed on a substrate by using a sputtering phenomenon of a cathode.

【0091】次にシリコーンゴム層について説明する。
本発明において、シリコーンゴム層は、従来の水なし平
版印刷版原版におけるシリコーンゴム層と同様の組成物
からなるものであればよい。
Next, the silicone rubber layer will be described.
In the present invention, the silicone rubber layer may be composed of the same composition as the silicone rubber layer in the conventional waterless planographic printing plate precursor.

【0092】このようなシリコ−ンゴム組成物として
は、線状オルガノポリシロキサン(好ましくはジメチル
ポリシロキサン)をまばらに架橋することにより得られ
るものが挙げられ、代表的なものとして、次式(3)に
示すような繰り返し単位を有するものが挙げられる。
Examples of such a silicone rubber composition include those obtained by sparsely cross-linking a linear organopolysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane). As a typical example, the following formula (3) )), Those having a repeating unit as shown in (1).

【0093】[0093]

【化3】 (ここでnは2以上の整数である。Rは炭素数1〜10
のアルキル、アリ−ル、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のRの40%以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Rの60%以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。) 本発明においてシリコ−ンゴム層は、縮合型の架橋を行
うシリコ−ンゴム(RTV、LTV型シリコ−ンゴム)
で形成されることが好ましい。このようなシリコ−ンゴ
ムとしては、オルガノポリシロキサン鎖のRの一部がH
に置換されたものも使用できるが、通常次式(4)と
(5)または(6)で表される末端基同志の縮合によっ
て架橋される。これにさらに過剰の架橋剤を存在させて
もよい。
Embedded image (Here, n is an integer of 2 or more. R has 1 to 10 carbon atoms.)
Alkyl, aryl, or cyanoalkyl group. Preferably, 40% or less of the whole R is vinyl, phenyl, vinyl halide, or halogenated phenyl, and 60% or more of R is a methyl group. Further, it has at least one or more hydroxyl group in the molecular chain at the chain end or in the form of a side chain. In the present invention, the silicone rubber layer is a silicone rubber which performs condensation type crosslinking (RTV, LTV type silicone rubber).
It is preferable to be formed by. In such a silicone rubber, a part of R of the organopolysiloxane chain is H.
Can be used, but it is usually crosslinked by condensation of terminal groups represented by the following formulas (4) and (5) or (6). An excess of a crosslinking agent may be present in this.

【0094】[0094]

【化4】 (ここでRは式(3)において説明したRと同様であ
る。)
Embedded image (Here, R is the same as R described in Formula (3).)

【化5】 (ここでRは式(3)において説明したRと同様であ
り、R1 、R2 は一価の低級アルキル基である。)
Embedded image (Where R is the same as R described in formula (3), and R1 and R2 are monovalent lower alkyl groups.)

【化6】 (ここでRは式(3)において説明したRと同様であ
り、Acはアセチル基である。) このような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴム組成物に
は、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カ
ルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル錫、錫(II)
オクトエ−ト、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸
のような触媒が添加される。
Embedded image (Here, R is the same as R described in the formula (3), and Ac is an acetyl group.) Such a silicone rubber composition that performs condensation type crosslinking includes tin, zinc, lead, and calcium. Metal carboxylate, such as manganese, for example, dibutyltin laurate, tin (II)
A catalyst such as octoate, naphthenate, or chloroplatinic acid is added.

【0095】これ以外にも、縮合型シリコ−ンゴム組成
物である加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキ
サン)を添加することも任意であり、またゴム強度を向
上させる目的で、シリカなどの公知の充填剤を添加させ
ることも任意である。
In addition to this, it is optional to add a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane) which is a condensed silicone rubber composition. Is optional.

【0096】さらに、本発明においてはシリコーンゴム
層に、上記した縮合型シリコーンゴム組成物の他に、付
加型のシリコーンゴム組成物を用いることも可能であ
る。
Further, in the present invention, an addition type silicone rubber composition may be used for the silicone rubber layer in addition to the condensation type silicone rubber composition described above.

【0097】次に付加型シリコーンゴム組成物について
説明する。本発明に用いる付加型シリコーンゴム組成物
としては、例えば、分子中に少なくとも2個のビニル基
を有するポリオルガノシロキサンと、分子中に少なくと
も3個のSiH基を有するポリオルガノシロキサンおよ
び白金化合物からなるものが挙げられ、これを適当な溶
媒で希釈したものを、感熱層上に塗布し、加熱乾燥して
硬化させることによってシリコーンゴム層が形成され
る。
Next, the addition type silicone rubber composition will be described. Examples of the addition type silicone rubber composition used in the present invention include a polyorganosiloxane having at least two vinyl groups in a molecule, a polyorganosiloxane having at least three SiH groups in a molecule, and a platinum compound. A silicone rubber layer is formed by diluting this with a suitable solvent, applying it on the heat-sensitive layer, drying by heating and curing.

【0098】この時、分子中に少なくとも2個のビニル
基を有するオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖末
端、中間のどちらかにビニル基を有するものが挙げら
れ、アルケニル基以外の有機基として好ましいものは、
置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基である。
また、微量の水酸基を含有していてもよい。
At this time, examples of the organopolysiloxane having at least two vinyl groups in the molecule include those having a vinyl group at either the terminal or middle of the molecular chain, and those which are preferable as organic groups other than alkenyl groups. Is
It is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.
Further, it may contain a trace amount of hydroxyl group.

【0099】分子中に2個以上のビニル基を有するポリ
オルガノシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られるが、本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the polyorganosiloxane having two or more vinyl groups in the molecule include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0100】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサン)(ジ
メチルシロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチ
ルビニルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンの2分子
以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メチ
ル基の(メチル1−ヘキセンシロキサン)(ジメチルシ
ロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチル1−ヘ
キセンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体等
である。
Polydimethylsiloxane having vinyl groups at both terminals, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having vinyl groups at both terminals, A compound in which two or more molecules of a polydimethylsiloxane having a vinyl group have a dimethylene bridge between main chains, a (methyl 1-hexene siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer having a methyl group at both ends, and a (methyl 1-hexene) having a vinyl group at both ends. Siloxane) (dimethylsiloxane) copolymer.

【0101】これらビニル基含有ポリシロキサンは、硬
化後のゴム物性の点で、その分子量が5,000以上で
あることが好ましく、10,000以上がより好まし
い。また、これらのビニル基含有ポリシロキサンは単独
で使用することもできるし、複数の種類を任意の比率で
混合して使用することもできる。
These vinyl group-containing polysiloxanes preferably have a molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, from the viewpoint of rubber properties after curing. In addition, these vinyl group-containing polysiloxanes can be used alone, or a plurality of types can be used by mixing at an arbitrary ratio.

【0102】分子中に少なくとも3個のSiH基を有す
るポリオルガノシロキサンとしては分子鎖末端、中間の
どちらかにSiH基を有するものが挙げられ、SiH基
以外の有機基として好ましいものは、置換もしくは非置
換のアルキル基、アリール基である。
Examples of the polyorganosiloxane having at least three SiH groups in the molecule include those having a SiH group at either the molecular chain terminal or in the middle, and those preferable as organic groups other than the SiH group are substituted or substituted. Unsubstituted alkyl and aryl groups.

【0103】分子中に少なくとも3個のSiH基を有す
るポリオルガノシロキサンの具体例としては以下のもの
が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the polyorganosiloxane having at least three SiH groups in the molecule include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0104】両末端SiH基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の(メチルハイドロジェンシロキ
サン)(ジメチルシロキサン)共重合体、両末端SiH
基の(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシ
ロキサン)共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等である。
Polydimethylsiloxane having SiH groups at both terminals, polymethylhydrogensiloxane having methyl groups at both terminals, (methylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, SiH groups at both terminals
(Methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer, cyclic polymethyl hydrogen siloxane and the like.

【0105】これらの中でも、本発明において好ましく
使用できるものとしては、分子中に少なくとも3個のS
iH基を有するポリオルガノシロキサンのSiH基数を
分子量で除した値が0.001mol/g以上のものが
好ましく、更に好ましくは0.002mol/g以上が
好ましい。0.001mol/g未満の場合は硬化速度
が低下し好ましくない。
Among these, those which can be preferably used in the present invention include at least three S
The value obtained by dividing the number of SiH groups in the polyorganosiloxane having an iH group by the molecular weight is preferably 0.001 mol / g or more, more preferably 0.002 mol / g or more. If the amount is less than 0.001 mol / g, the curing rate is undesirably reduced.

【0106】また、これらのSiH基含有ポリオルガノ
シロキサンは単独で使用することもできるし、複数の種
類を任意の比率で混合して使用することもできる。
These SiH group-containing polyorganosiloxanes can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

【0107】また、ビニル基を有するポリオルガノシロ
キサンとSiH基を有するポリオルガノシロキサンの有
機基はインキ反撥性の向上の点で、すべての基数の60
%以上がメチル基であることが好ましい。
The organic groups of the polyorganosiloxane having a vinyl group and the polyorganosiloxane having a SiH group have a total of 60 groups in terms of improving the ink repellency.
% Or more is preferably a methyl group.

【0108】上記ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
とSiH基含有ポリオルガノシロキサンを混合して使用
する際の比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニ
ル基数を1とした場合にSiH基数が1.5〜15とな
るような混合比率が好ましく、更に好ましくは1.5〜
12が好ましい。
The ratio of the mixture of the vinyl group-containing polyorganosiloxane and the SiH group-containing polyorganosiloxane may be 1.5 to 1.5 when the number of vinyl groups in the silicone rubber composition is 1. A mixing ratio of 15 is preferable, and more preferably 1.5 to
12 is preferred.

【0109】ビニル基数1に対するSiH基数が1.5
未満の場合には、シリコーンゴム層の硬化性が低下し、
15より大きい場合にはシリコーンゴムが脆くなり耐摩
耗性が低下し好ましくない。
When the number of SiH groups relative to the number of vinyl groups is 1.5
If less than, the curability of the silicone rubber layer decreases,
If it is more than 15, the silicone rubber becomes brittle and the wear resistance is undesirably reduced.

【0110】また付加型シリコーンゴム組成物中に含ま
れる白金化合物としては、特に限定されないが、白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金などが
挙げられる。これらの中でもオレフィン配位白金が好ま
しい。
The platinum compound contained in the addition type silicone rubber composition is not particularly limited, but includes platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin-coordinated platinum and the like. Among these, olefin-coordinated platinum is preferable.

【0111】また、付加型シリコーンゴム組成物の硬化
速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニル)
シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサ
ン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を
添加することが好ましい。
In order to control the curing rate of the addition type silicone rubber composition, tetracyclo (methyl vinyl)
Vinyl group-containing organopolysiloxane such as siloxane, alcohol containing carbon-carbon triple bond, acetone,
It is preferable to add a reaction inhibitor such as methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and propylene glycol monomethyl ether.

【0112】本発明に好ましく用いられる付加型シリコ
ーンゴム組成物としては次のようなものが挙げられる。
The addition type silicone rubber composition preferably used in the present invention includes the following.

【0113】 (1)分子中にビニル基を少なくとも2個有するポリオルガノシロキサン 100重量部 (2)分子中に少なくとも3個のSiH基を有するポリオルガノシロキサン 0.1〜10000重量部 (3)白金化合物 0.00001〜10重量部 (4)反応抑制剤 0.1〜10重量部 (5)溶剤 100〜4000重量部 これらの組成物の他に、縮合型シリコーンゴム組成物で
ある水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水分解性官
能基含有シラン(もしくはシロキサン)を添加すること
も任意であり、またゴム強度を向上させる目的で、シリ
カなどの公知の充填剤を添加することも任意である。
(1) 100 parts by weight of a polyorganosiloxane having at least two vinyl groups in a molecule (2) 0.1 to 10,000 parts by weight of a polyorganosiloxane having at least three SiH groups in a molecule (3) Platinum Compound 0.00001 to 10 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.1 to 10 parts by weight (5) Solvent 100 to 4000 parts by weight In addition to these compositions, a hydroxyl group-containing organopoly which is a condensation type silicone rubber composition It is optional to add siloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), and it is also optional to add a known filler such as silica for the purpose of improving rubber strength.

【0114】また、本発明において縮合型および付加型
シリコーンゴム組成物には、上記組成物に加え、シラン
カップリング剤を含有することが好ましい。
In the present invention, the condensation type and addition type silicone rubber compositions preferably contain a silane coupling agent in addition to the above composition.

【0115】シランカップリング剤の具体例としては、
ビニルシラン、(メタ)アクリロイルシラン、エポキシ
シラン、アミノシラン、メルカプトシラン、クロロシラ
ン等公知のものが全て使用できるが、なかでも(メタ)
アクリロイルシラン、エポキシシラン、アミノシラン、
メルカプトシラン等が好ましく挙げられる。
Specific examples of the silane coupling agent include:
Known materials such as vinyl silane, (meth) acryloyl silane, epoxy silane, amino silane, mercapto silane and chloro silane can all be used, and among them, (meth)
Acryloyl silane, epoxy silane, amino silane,
Mercaptosilane is preferred.

【0116】これらの中でも特にエポキシシランが好ま
しい。エポキシシランの具体例としては、3―グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、2―(3,4―エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙
げられる。
Of these, epoxysilane is particularly preferred. Specific examples of epoxysilane include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like.

【0117】これらのシランカップリング剤は、シリコ
ーンゴム層組成物の固形分に対し、0.1〜5重量%の
比率で使用することが好ましく、更に好ましくは0.5
〜3重量%である。
These silane coupling agents are preferably used at a ratio of 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.5% by weight, based on the solid content of the silicone rubber layer composition.
33% by weight.

【0118】これら、シリコーンゴム層の膜厚は0.5
〜50g/m2が好ましく、さらに好ましくは0.5〜
10g/m2である。膜厚が0.5g/m2よりも小さい
場合は印刷版のインキ反撥性が低下しやすく、50g/
2よりも大きい場合は、経済的見地から不利である。
The thickness of the silicone rubber layer is 0.5
To 50 g / m 2 , more preferably 0.5 to 50 g / m 2.
10 g / m 2 . When the film thickness is less than 0.5 g / m 2 , the ink repellency of the printing plate tends to decrease, and
If it is larger than m 2 , it is disadvantageous from an economic point of view.

【0119】さらにシリコーンゴム層を保護するなどの
目的で、シリコーンゴム層の表面にプレ−ンまたは凹凸
処理した薄い保護フィルムをラミネ−トしたり、特開平
5―323588号公報に記載の、現像溶媒に溶解する
ようなポリマーの塗膜を形成することも可能である。
Further, for the purpose of protecting the silicone rubber layer, a thin protective film treated with a plane or uneven surface is laminated on the surface of the silicone rubber layer, or the surface of the silicone rubber layer is developed as described in JP-A-5-323588. It is also possible to form a coating of the polymer that dissolves in the solvent.

【0120】特に、保護フィルムをラミネートした場合
には、保護フィルム上からレーザ露光を行い、その後保
護フィルムを剥離することによって印刷版上にパターン
を形成する、いわゆる剥離現像を行うことによって印刷
版を作成することも可能である。
In particular, when a protective film is laminated, laser exposure is performed from above the protective film, and then the protective film is peeled off to form a pattern on the printing plate. It can also be created.

【0121】上記した本発明の直描型水なし平版印刷版
原版の製造法の好ましい具体例としては、次の方法が挙
げられる。
Preferred specific examples of the method for producing the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the invention described above include the following method.

【0122】すなわち、リバースロールコーター、エア
ーナイフコーター、メーヤバーコーターなどの通常のコ
ーターあるいはホエラーのような回転塗布装置を用い、
エポキシ化合物およびカルボキシル基を有する化合物か
らなる断熱層組成物を基板上に塗布し、60〜120℃
で数分間硬化した後、金属を蒸着またはスパッタリング
させることによって感熱層を形成し、その後加熱し断熱
層中の残存官能基を架橋反応させ、さらにシリコーンゴ
ム組成物を塗布し、50〜150℃の温度で数分間熱処
理しゴム硬化させてシリコーンゴム層を形成する。シリ
コーンゴム層の上に、必要に応じて、保護フィルムをラ
ミネートするか、あるいは、保護層を形成し、目的とす
る直描型水なし平版印刷版原版が製造される。
That is, a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a Mayer bar coater, or a rotary coating device such as a wheyer is used.
A heat insulating layer composition comprising an epoxy compound and a compound having a carboxyl group is applied on a substrate,
After curing for several minutes, a heat-sensitive layer is formed by vapor-depositing or sputtering a metal, followed by heating to cause a cross-linking reaction of the remaining functional groups in the heat-insulating layer, further applying a silicone rubber composition, and heating at 50 to 150 ° C. The rubber is cured by heating at a temperature for several minutes to form a silicone rubber layer. If necessary, a protective film is laminated on the silicone rubber layer, or a protective layer is formed to produce a desired direct-drawing waterless planographic printing plate precursor.

【0123】さらにこのようにして得られた直描型水な
し平版印刷版原版は、シリコーンゴム層あるいは保護フ
ィルム上から、または保護フィルムを剥離してからレー
ザ光で画像状に露光される。
Further, the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor thus obtained is imagewise exposed to laser light from a silicone rubber layer or a protective film, or after peeling off the protective film.

【0124】露光に使用されるレーザ光の光源として
は、発振波長が300nm〜1500nmの範囲にある
Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、He―Neレー
ザ、He―Cdレーザ、ルビーレーザ、ガラスレーザ、
半導体レーザ、YAGレーザ、チタンサファイアレー
ザ、色素レーザ、窒素レーザ、金属蒸気レーザ等の種々
のレーザが使用できる。なかでも、半導体レーザは近年
の技術的進歩により、小型化し、経済的にも他のレーザ
光源よりも有利であるので好ましい。
The light source of the laser beam used for the exposure includes an Ar ion laser, a Kr ion laser, a He—Ne laser, a He—Cd laser, a ruby laser, a glass laser, and an oscillation wavelength in the range of 300 nm to 1500 nm.
Various lasers such as a semiconductor laser, a YAG laser, a titanium sapphire laser, a dye laser, a nitrogen laser, and a metal vapor laser can be used. Among them, a semiconductor laser is preferable because it is downsized due to recent technological advances and is economically more advantageous than other laser light sources.

【0125】上記の方法で露光された直描型水なし平版
印刷版は必要に応じて、剥離現像、または溶剤現像処理
される。
The direct-drawing type waterless planographic printing plate exposed by the above method is subjected to peeling development or solvent development as required.

【0126】溶剤現像処理の際、好ましく用いられる現
像液としては、水や、水に下記の極性溶媒を添加したも
のや、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、イソパ
ラフィン系炭化水素、ガソリン、灯油など)、芳香族炭
化水素類(トルエン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化
水素類(トリクレンなど)などの少なくとも1種類以上
の混合溶媒に、下記の極性溶媒を少なくとも1種類添加
したものが好ましく挙げられる。
In the solvent developing treatment, a developer preferably used is water, a solution obtained by adding the following polar solvent to water, an aliphatic hydrocarbon (hexane, heptane, isoparaffin hydrocarbon, gasoline, kerosene). ), Aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (tricrene, etc.) and at least one mixed solvent to which at least one of the following polar solvents is added. .

【0127】極性溶媒としては、アルコール類(メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グルコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、1,3―ブチ
レングリコール、2,3―ブチレングリコール、ヘキシ
レングリコール、2―エチル―1,3―ヘキサンジオー
ルなど)、エーテル類(エチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ―2―エチルヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフランなど)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジアセトンアルコールなど)、エステル類(酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トなど)、カルボン酸(2―エチル酪酸、カプロン酸、
カプリル酸、2―エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレ
イン酸、ラウリル酸など)が挙げられる。
As the polar solvent, alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol,
Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, hexylene glycol, 2-ethyl-1 , 3-hexanediol, etc.), ethers (ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, dioxane, Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.)
Diacetone alcohol, etc., esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.), Carboxylic acids (2-ethylbutyric acid, caproic acid,
Caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, capric acid, oleic acid, lauric acid, etc.).

【0128】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加してもよい。また、さらにアルカリ剤、例
えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコールアミ
ン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添
加することもできる。
Further, a known surfactant may be added to the above developer composition. Further, an alkali agent such as sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, diglycolamine, monoglycolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added. .

【0129】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。
To these developing solutions, known basic dyes such as crystal violet, Victor Pure Blue, Astrazone Red, etc., acid dyes and oil-soluble dyes are added to simultaneously develop and dye the image area. Can be.

【0130】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。
In the development, the developer can be developed by impregnating a nonwoven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge or the like with such a developer and wiping the plate surface.

【0131】また、特開昭63―163357号公報に
記載されているような自動現像機を用い、上記の現像液
で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしながら
回転ブラシで版面を擦ることによって、好適に現像する
ことができる。
Further, using an automatic developing machine as described in JP-A-63-163357, the plate surface is pre-treated with the above developing solution, and then the plate surface is rubbed with a rotating brush while showering with tap water or the like. Thereby, development can be suitably performed.

【0132】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。
Development can also be performed by spraying hot water or steam onto the plate instead of the above-mentioned developer.

【0133】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明するが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0134】[0134]

【実施例】【Example】

実施例1 厚さ0.24mmの脱脂したアルミニウム板上に下記の
組成よりなる断熱層溶液を塗布し、80℃、1分間乾燥
し、断熱層組成物中の官能基の一部を架橋した4g/m
2の断熱層を設けた。
Example 1 A heat insulating layer solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.24 mm, dried at 80 ° C. for 1 minute, and 4 g of a part of functional groups in the heat insulating layer composition crosslinked. / M
Two heat insulating layers were provided.

【0135】 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)イソホロンジアミンとフェニルグリシジルエーテルの反応物 20重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ライトエステルPM(含燐化合物 共栄社化学(株)製) 0.5重量部 (f)ジメチルホルムアミド 480重量部 次いで、この断熱層上にテルル(融点722K)を真空
蒸着によって形成し、感熱層を設けた後200℃で1分
間加熱した。
(A) Denacol EX411 (epoxy compound manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Reaction product of isophoronediamine and phenylglycidyl ether 20 parts by weight (c) Light ester HO-MP (carboxyl group-containing compound) 10 parts by weight (d) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) Light ester PM (phosphorus-containing compound manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.5 part by weight (f) 480 parts by weight of dimethylformamide Next, tellurium (melting point: 722 K) was formed on the heat-insulating layer by vacuum vapor deposition, and after providing the heat-sensitive layer, it was heated at 200 ° C. for 1 minute.

【0136】次にこの上に、次の組成を有するシリコ−
ンゴム溶液を塗布し、120℃で2分間乾燥し、厚さ2
g/m2のシリコ−ンゴム層を設けた。
Next, a silicon having the following composition
Apply a rubber solution and dry at 120 ° C for 2 minutes.
g / m 2 of a silicone rubber layer was provided.

【0137】 (a)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (b)HMS−501(両末端メチル(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジ メチルシロキサン)共重合体 Hwt%=約0.7 チッソ(株)製) 4重量部 (c)SZ6040(エポキシ基含有シラン化合物 東レ・ダウコーニング・シ リコーン(株)製) 5重量部 (d)オレフィン配位白金 0.02重量部 (e)反応抑制剤 0.3重量部 (f)”アイソパーE”(イソパラフィン系炭化水素 エクソン化学(株)製) 990重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ8μmのポリ
エステルフィルム“ルミラー”(東レ(株)製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。
(A) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (b) HMS-501 (methyl (methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer at both ends Hwt% = about 0.7 Chisso Corporation 4 parts by weight (c) SZ6040 (epoxy group-containing silane compound manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) 5 parts by weight (d) Olefin coordinated platinum 0.02 parts by weight ( e) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight (f) "Isopar E" (isoparaffin-based hydrocarbon manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 990 parts by weight An 8 μm-thick polyester film was added to the laminate obtained as described above. "Lumirror" (manufactured by Toray Industries, Inc.) was laminated using a calendar roller to obtain a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor.

【0138】その後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、X―Yテーブルに装着した半導体レーザ(SL
D―304XT、出力1W、波長809nm、ソニー
(株)製)を用いて、ビーム直径20μm、露光時間1
0μsでパルス露光を行った。この時、レーザ出力はL
Dパルス変調駆動装置で任意に変化させ、版面上でのレ
ーザパワーを測定した。
After that, the "Lumirror" of the printing plate precursor was peeled off, and the semiconductor laser (SL) mounted on the XY table was removed.
D-304XT, output 1 W, wavelength 809 nm, manufactured by Sony Corporation), beam diameter 20 μm, exposure time 1
Pulse exposure was performed at 0 μs. At this time, the laser output is L
The laser power on the printing plate was measured while being arbitrarily changed by a D pulse modulation driving device.

【0139】続いて、下記の組成を有する現像液を含浸
させた木綿パッドで擦り、現像を行った。
Subsequently, development was performed by rubbing with a cotton pad impregnated with a developer having the following composition.

【0140】 (a)水 80重量部 (b)ジエチレングリコールモノ―2―エチルヘキシルエーテル 20重量部 また、得られた印刷版について、オフセット印刷機(小
森スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工
業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷を行い、版面に損傷が発生するこ
となく印刷できる枚数を耐刷性として評価した。結果を
表1に示す。
(A) 80 parts by weight of water (b) 20 parts by weight of diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether The obtained printing plate was attached to an offset printing machine (Komori Sprint 4-color machine). Printing was performed on high quality paper using "Dryocolor" black, indigo, red, and yellow inks manufactured by Co., Ltd., and the number of sheets that could be printed without causing damage to the plate surface was evaluated as printing durability. Table 1 shows the results.

【0141】実施例2 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Example 2 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat insulating layer was changed to the following, and developed and printed in the same manner as in Example 1 to evaluate. did. Table 1 shows the results.

【0142】 断熱層組成 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)ビス(3,4−ジアミノフェニル)スルフォン 20重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例3 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Insulation layer composition (a) Denacol EX411 (epoxy compound manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Bis (3,4-diaminophenyl) sulfone 20 parts by weight (c) Light ester HO-MP ( Carboxyl group-containing compound (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) dimethylformamide 480 parts by weight Example 3 The composition of the heat insulating layer is changed to the following. Except for the above, a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1, developed and printed in the same manner as in Example 1, and evaluated. Table 1 shows the results.

【0143】 断熱層組成 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)ユーバン20SE60(メラミン樹脂 三井東圧化学(株)製) 20重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例4 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
(A) Denacol EX411 (epoxy compound, manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Uban 20SE60 (melamine resin, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) 20 parts by weight (c) Light ester HO-MP (carboxyl group-containing compound manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria pure blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) dimethylformamide 480 parts by weight Example 4 A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lithographic printing plate was changed to that of Example 1, and developed and printed as in Example 1, and evaluated. Table 1 shows the results.

【0144】 断熱層組成 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)3,3’−ジメチル4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン 10重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例5 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Insulation layer composition (a) Denacol EX411 (epoxy compound manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) 3,3′-dimethyl 4,4′-diaminodicyclohexylmethane 10 parts by weight (c) light ester HO-MP (carboxyl group-containing compound manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria pure blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) dimethylformamide 480 parts by weight Example 5 A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lithographic printing plate was changed to that of Example 1, and developed and printed as in Example 1, and evaluated. Table 1 shows the results.

【0145】 断熱層組成 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)2−エチル4−メチルイミダゾール 10重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例6 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Insulation layer composition (a) Denacol EX411 (epoxy compound manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) 2-ethyl 4-methylimidazole 10 parts by weight (c) light ester HO-MP (containing carboxyl group) Compound Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria pure blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) Dimethylformamide 480 parts by weight Example 6 Except that the composition of the heat insulating layer was changed to the following, A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1, and developed and printed in the same manner as in Example 1 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0146】 断熱層組成 (a)エピコート828(エポキシ化合物 油化シェルエポキシ(株)製) 90重量部 (b)2−エチル4−メチルイミダゾール 10重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例7 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Insulation layer composition (a) Epicoat 828 (epoxy compound manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) 2-ethyl 4-methylimidazole 10 parts by weight (c) light ester HO-MP (carboxyl group) Contained compound: Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) Dimethylformamide 480 parts by weight Example 7 Except that the composition of the heat insulating layer was changed to the following A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1, and developed and printed in the same manner as in Example 1 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0147】 断熱層組成 (a)エピコート828(エポキシ化合物 油化シェルエポキシ(株)製) 90重量部 (b)イソホロンジアミンとフェニルグリシジルエーテルの反応物 20重量部 (c)ライトエステルHO−MP(カルボキシル基含有化合物 共栄社化学(株 )製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 実施例8 シリコーンゴム層組成を下記のものに変更する以外は、
実施例7と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例7と同様に現像・印刷し評価した。結果を
表1に示す。
(A) Epicoat 828 (epoxy compound, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Reaction product of isophoronediamine and phenylglycidyl ether 20 parts by weight (c) Light ester HO-MP ( Carboxyl group-containing compound (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) Dimethylformamide 480 parts by weight Example 8 The silicone rubber layer composition was changed to the following. Except to do
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 7, and developed and printed in the same manner as in Example 7 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0148】 (a)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (b)HMS−501(両末端メチル(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジ メチルシロキサン)共重合体 Hwt%=約0.7 チッソ(株)製) 4重量部 (c)オレフィン配位白金 0.02重量部 (d)反応抑制剤 0.3重量部 (e)”アイソパーE”(イソパラフィン系炭化水素 エクソン化学(株)製) 990重量部 実施例9 シリコーンゴム層組成を下記のものに変更する以外は、
実施例7と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例7と同様に現像・印刷し評価した。結果を
表1に示す。
(A) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (b) HMS-501 (methyl (methyl hydrogen siloxane) (dimethylsiloxane) copolymer at both ends Hwt% = about 0.7 (manufactured by Chisso Corporation) 4 parts by weight (c) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (d) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight (e) "Isopar E" (isoparaffinic hydrocarbon Exxon Chemical ( 990 parts by weight Example 9 Except for changing the silicone rubber layer composition to the following,
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 7, and developed and printed in the same manner as in Example 7 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0149】 (a)ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (d)“アイソパ−G”(イソパラフィン系炭化水素 エクソン化学(株)製) 1200重量部 実施例10 シリコーンゴム層組成を下記のものに変更する以外は、
実施例9と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例9と同様に現像・印刷し評価した。結果を
表1に示す。
(A) 100 parts by weight of polydimethylsiloxane (molecular weight: about 25,000, terminal hydroxyl group) (b) 12 parts by weight of ethyltriacetoxysilane (c) 0.1 part by weight of dibutyltin diacetate (d) "Isopar- G ″ (isoparaffinic hydrocarbon manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 1200 parts by weight Example 10 Except that the composition of the silicone rubber layer was changed to the following,
A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 9, and developed and printed in the same manner as in Example 9 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0150】 (a)ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)SZ6040(エポキシ基含有シラン化合物 東レ・ダウコーニング・シ リコーン(株)製) 5重量部 (d)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (e)“アイソパ−G”(イソパラフィン系炭化水素 エクソン化学(株)製) 1200重量部 実施例11 断熱層組成を実施例5と同じものに変更する以外は、実
施例10と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例10と同様に現像・印刷し評価した。結果
を表1に示す。
(A) 100 parts by weight of polydimethylsiloxane (molecular weight: about 25,000, terminal hydroxyl group) (b) 12 parts by weight of ethyltriacetoxysilane (c) SZ6040 (epoxy group-containing silane compound Dow Corning Toray Toray Co., Ltd. 5 parts by weight (d) 0.1 parts by weight of dibutyltin diacetate (e) 1200 parts by weight of "Isopar-G" (isoparaffin-based hydrocarbon manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) Example 11 Insulation layer composition A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 10, except that the composition was changed to the same as in Example 5, and developed and printed in the same manner as in Example 10 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0151】実施例12 感熱層の金属をアンチモン(融点904K)に変更する
以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版
原版を作製し、実施例1と同様に現像・印刷し評価し
た。結果を表1に示す。
Example 12 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal of the heat-sensitive layer was changed to antimony (melting point: 904K). Printed and evaluated. Table 1 shows the results.

【0152】実施例13 感熱層の金属をテルルと錫のアロイ(融点920K)に
変更する以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平
版印刷版原版を作製し、実施例1と同様に現像・印刷し
評価した。結果を表1に示す。
Example 13 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal of the heat-sensitive layer was changed to an alloy of tellurium and tin (melting point: 920 K). Similarly, development and printing were performed and evaluated. Table 1 shows the results.

【0153】実施例14 感熱層の金属を錫と亜鉛とアンチモンのアロイ(融点1
300K)に変更する以外は、実施例1と同様にして直
描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施例1と同様に
現像・印刷し評価した。結果を表1に示す。
Example 14 The metal of the heat-sensitive layer was an alloy of tin, zinc and antimony (melting point 1
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 300K), and developed and printed in the same manner as in Example 1 to evaluate. Table 1 shows the results.

【0154】実施例15 感熱層の金属をチタン(融点1933K)に変更する以
外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に現像・印刷し評価した。
結果を表1に示す。
Example 15 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the metal of the heat-sensitive layer was changed to titanium (melting point: 1933 K). Printed and evaluated.
Table 1 shows the results.

【0155】実施例16 断熱層組成を下記のものに変更する以外は、実施例1と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例1と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
Example 16 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat insulating layer was changed to the following, and developed and printed in the same manner as in Example 1 to evaluate. did. Table 1 shows the results.

【0156】 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)イソホロンジアミンとフェニルグリシジルエーテルの反応物 20重量部 (c)ソアレックスR−BH(カルボキシル基含有化合物 日本合成化学工業( 株)製) 10重量部 (d)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (e)ライトエステルPM(含燐化合物 共栄社化学(株)製) 0.5重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部 比較例1 基板として、ポリエステルフィルム(ICI Film
s white329フィルム)を使用し断熱層を設け
ず、感熱層形成後に加熱をしない以外は、実施例10と
同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施
例10と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示
す。
(A) Denacol EX411 (epoxy compound manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Reaction product of isophoronediamine and phenylglycidyl ether 20 parts by weight (c) Soarex R-BH (carboxyl group-containing compound) 10 parts by weight (d) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (e) Light ester PM (phosphorus-containing compound manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.5 part by weight ( e) Dimethylformamide 480 parts by weight Comparative Example 1 As a substrate, a polyester film (ICI Film)
s white 329 film), a heat-insulating layer was not provided, and no heating was performed after the formation of the heat-sensitive layer. A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 10, and developed in the same manner as in Example 10. -Printed and evaluated. Table 1 shows the results.

【0157】比較例2 シリコーンゴム層を、実施例9のものに変更する以外
は、比較例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版
を作製し、比較例1と同様に現像・印刷し評価した。結
果を表1に示す。
Comparative Example 2 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the silicone rubber layer was changed to that of Example 9, and the development and development were performed in the same manner as in Comparative Example 1. Printed and evaluated. Table 1 shows the results.

【0158】比較例3 シリコーンゴム層を、実施例8のものに変更する以外
は、比較例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版
を作製し、比較例1と同様に現像・印刷し評価した。結
果を表1に示す。
Comparative Example 3 A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the silicone rubber layer was changed to that of Example 8, and the development and development were performed in the same manner as in Comparative Example 1. Printed and evaluated. Table 1 shows the results.

【0159】比較例4 感熱層の金属をチタンに変更し、シリコーンゴム層を実
施例9のものに変更する以外は、比較例1と同様にして
直描型水なし平版印刷版原版を作製し、比較例1と同様
に現像・印刷し評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 4 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the metal of the heat-sensitive layer was changed to titanium and the silicone rubber layer was changed to that of Example 9. Developed and printed in the same manner as in Comparative Example 1, and evaluated. Table 1 shows the results.

【0160】比較例5 断熱層組成物塗布後の加熱温度を200℃に変更し、感
熱層形成後の加熱をしない以外は実施例1と同様にして
直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施例1と同様
に現像・印刷し評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 5 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the heating temperature after the application of the heat insulating layer composition was changed to 200 ° C., and heating was not performed after the formation of the heat sensitive layer. Then, development and printing were performed in the same manner as in Example 1 and evaluated. Table 1 shows the results.

【0161】比較例6 断熱層を下記の組成に変更する以外は、実施例1と同様
にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施例1
と同様に現像・印刷し評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 6 A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the heat insulating layer was changed to the following composition.
Developed and printed in the same manner as described above and evaluated. Table 1 shows the results.

【0162】 (a)デナコールEX411(エポキシ化合物 長瀬化成工業(株)製) 90重量部 (b)イソホロンジアミンとフェニルグリシジルエーテルの反応物 20重量部 (c)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (d)ライトエステルPM(含燐化合物 共栄社化学(株)製) 0.5重量部 (e)ジメチルホルムアミド 480重量部(A) Denacol EX411 (epoxy compound, manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.) 90 parts by weight (b) Reaction product of isophoronediamine and phenylglycidyl ether 20 parts by weight (c) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 Parts by weight (d) Light ester PM (phosphorus-containing compound manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by weight (e) dimethylformamide 480 parts by weight

【表1】 表1に示したごとく、本発明の条件を満足する実施例
は、優れた耐刷性を有するものであるのに対し、比較例
は十分な耐刷性が得られなかった。
[Table 1] As shown in Table 1, Examples satisfying the conditions of the present invention have excellent printing durability, whereas Comparative Examples did not provide sufficient printing durability.

【0163】[0163]

【発明の効果】本発明の直描型水なし平版印刷版原版の
製造法は、基板上に断熱層、感熱層、シリコーンゴム層
を順次積層させる直描型水なし平版印刷版原版の製造法
において、基板に、エポキシ化合物およびカルボキシル
基を有する化合物からなる断熱層組成物を塗布し、断熱
層組成物のエポキシ基が残存する状態で、感熱層である
金属薄膜を形成するため、感熱層と断熱層の接着性が改
良され、従来の直描型水なし平版印刷版に比べ、飛躍的
に耐刷性が向上する。
The method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to the present invention is a method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor in which a heat insulating layer, a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer are sequentially laminated on a substrate. In, on the substrate, a heat insulating layer composition comprising an epoxy compound and a compound having a carboxyl group is applied, and in a state where the epoxy group of the heat insulating layer composition remains, to form a metal thin film that is a heat sensitive layer, the heat sensitive layer and The adhesiveness of the heat insulating layer is improved, and the printing durability is dramatically improved as compared with the conventional direct drawing type waterless lithographic printing plate.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に断熱層、感熱層、シリコーンゴム
層を順次積層させる直描型水なし平版印刷版原版の製造
法において、基板に、エポキシ化合物およびカルボキシ
ル基を有する化合物からなる断熱層組成物を塗布し、断
熱層組成物のエポキシ基が残存する状態で、感熱層であ
る金属薄膜を形成することを特徴とする直描型水なし平
版印刷版原版の製造法。
In a method for producing a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor comprising sequentially laminating a heat insulating layer, a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, the substrate comprises a heat insulating layer comprising an epoxy compound and a compound having a carboxyl group. A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, comprising applying a composition and forming a metal thin film as a heat-sensitive layer in a state where the epoxy group of the heat-insulating layer composition remains.
【請求項2】断熱層組成物中のエポキシ化合物が、アミ
ン化合物、アミンアダクト化合物の群から選ばれる少な
くとも1種の化合物により架橋されていることを特徴と
する請求項1記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造
法。
2. The direct drawing water according to claim 1, wherein the epoxy compound in the heat insulating layer composition is cross-linked by at least one compound selected from the group consisting of an amine compound and an amine adduct compound. None Manufacturing method of lithographic printing plate precursor.
【請求項3】断熱層組成物中に含燐化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項1または2記載の直描型水なし平
版印刷版原版の製造法。
3. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the heat-insulating layer composition contains a phosphorus-containing compound.
【請求項4】シリコーンゴム層が、エポキシ基を有する
シラン化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3
いずれか1項記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造
法。
4. The method according to claim 1, wherein the silicone rubber layer contains a silane compound having an epoxy group.
A method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to any one of the preceding claims.
【請求項5】感熱層が、融点2000(K)以下の金属
によりなることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項
記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造法。
5. The method for producing a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the heat-sensitive layer is made of a metal having a melting point of 2000 (K) or less.
【請求項6】感熱層が、テルル、スズ、アンチモン、ガ
リウム、ビスマス、亜鉛から選ばれる1種、あるいはこ
れらのうちの2種類以上を組み合わせてなるアロイから
なることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項記載の
直描型水なし平版印刷版原版の製造法。
6. The heat-sensitive layer is made of one selected from tellurium, tin, antimony, gallium, bismuth, and zinc, or an alloy obtained by combining two or more of these. 5. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to any one of items 5 to 5.
【請求項7】感熱層の膜厚が、1000オングストロー
ム以下であることを特徴とする請求項1〜6いずれか1
項記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造法。
7. The heat-sensitive layer according to claim 1, wherein the thickness of the heat-sensitive layer is 1000 Å or less.
Production method of direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in section.
【請求項8】感熱層の光学濃度が0.6〜2.3である
ことを特徴とする請求項1〜7いずれか1項記載の直描
型水なし平版印刷版原版の製造法。
8. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the optical density of the heat-sensitive layer is 0.6 to 2.3.
【請求項9】断熱層組成物塗布後および感熱層形成後
に、加熱処理を施すことを特徴とする請求項1〜8いず
れか1項記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造法。
9. The method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein a heat treatment is performed after the heat-insulating layer composition is applied and after the heat-sensitive layer is formed.
JP9292325A 1997-10-24 1997-10-24 Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate Pending JPH11123884A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9292325A JPH11123884A (en) 1997-10-24 1997-10-24 Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9292325A JPH11123884A (en) 1997-10-24 1997-10-24 Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11123884A true JPH11123884A (en) 1999-05-11

Family

ID=17780329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9292325A Pending JPH11123884A (en) 1997-10-24 1997-10-24 Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11123884A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002011996A1 (en) * 2000-08-09 2002-02-14 Labo Co., Ltd. Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method
JP2005186341A (en) * 2003-12-24 2005-07-14 Seiko Epson Corp Inspection method for liquid storage bag
JP2007237428A (en) * 2006-03-06 2007-09-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd Original lithographic printing plate
JP2009508321A (en) * 2005-06-01 2009-02-26 プラスティック ロジック リミテッド Layer selective laser ablation patterning

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002011996A1 (en) * 2000-08-09 2002-02-14 Labo Co., Ltd. Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method
EP1308312A1 (en) * 2000-08-09 2003-05-07 Labo Co., Ltd Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method
EP1308312A4 (en) * 2000-08-09 2005-08-31 Labo Co Ltd Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method
JP2005186341A (en) * 2003-12-24 2005-07-14 Seiko Epson Corp Inspection method for liquid storage bag
JP2009508321A (en) * 2005-06-01 2009-02-26 プラスティック ロジック リミテッド Layer selective laser ablation patterning
US9209400B2 (en) 2005-06-01 2015-12-08 Flexenable Limited Layer-selective laser ablation patterning
USRE45885E1 (en) 2005-06-01 2016-02-09 Flexenable Limited Laser ablation of electronic devices
JP2007237428A (en) * 2006-03-06 2007-09-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd Original lithographic printing plate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5536619A (en) Heat mode recording material
WO1997017208A1 (en) Direct drawing type waterless planographic original form plate
EP3276417B1 (en) Silicone composition for printing plates, lithographic printing plate master, lithographic printing plate and method of producing printed matter
US5849464A (en) Method of making a waterless lithographic printing plate
JPH11123884A (en) Manufacture of original plate for direct-description type waterless lithographic printing plate
US6849386B2 (en) Method for preparing master plate useful for making lithographic printing plate without need of dampening water
EP1029666A1 (en) Waterless planographic printing plate precursor and production method thereof
JP4983975B2 (en) Waterless planographic printing plate precursor manufacturing method and waterless planographic printing plate precursor
JPH09150589A (en) Original plate of direct writing waterless lithographic printing plate
JP7533811B1 (en) Direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor and method for producing waterless lithographic printing plate using the same
JP4983976B2 (en) Waterless planographic printing plate precursor
JP3496370B2 (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor
JP4983514B2 (en) Waterless planographic printing plate precursor
JP3484589B2 (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor
JP4022988B2 (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor
JPH0986065A (en) Direct drawing type waterless planographic printing base plate
JP2008170665A (en) Waterless planographic printing plate precursor
JP6930145B2 (en) Silicone composition for printing plate, and method for manufacturing lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate and printed matter
JP3496371B2 (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor
JPH11245529A (en) Direct drawing type waterless lithographic printing plate original plate
JPH09131976A (en) Direct drawing type waterless lithographic printing original plate
JP4022987B2 (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor
JPH0986062A (en) Direct drawing type waterless planographic printing base plate
JP2023125063A (en) Sleeve waterless lithographic printing plate original plate for two-piece can printing, and manufacturing method of sleeve waterless lithographic printing plate for two-piece can printing using the same
JPH0986064A (en) Direct drawing type waterless planographic printing raw plate and production thereof