JPH09131976A - Direct drawing type waterless lithographic printing original plate - Google Patents

Direct drawing type waterless lithographic printing original plate

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JPH09131976A
JPH09131976A JP7289764A JP28976495A JPH09131976A JP H09131976 A JPH09131976 A JP H09131976A JP 7289764 A JP7289764 A JP 7289764A JP 28976495 A JP28976495 A JP 28976495A JP H09131976 A JPH09131976 A JP H09131976A
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JP
Japan
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printing plate
ink
silicone rubber
plate precursor
direct drawing
Prior art date
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JP7289764A
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Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Yanagida
俊一 柳田
Norimasa Ikeda
憲正 池田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Priority to AU75071/96A priority patent/AU7507196A/en
Priority to EP96937548A priority patent/EP0802067B1/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve scumming properties and sensitivity by forming a silicone rubber layer on a lower layer of an ink acceptive heat-sensitive layer and using a metal film of low melting point as the ink acceptive heat-sensitive layer. SOLUTION: When an ink acceptive heat-sensitive layer is formed on a silicone rubber layer provided on a base and a direct drawing type waterless lithographic printing original plate is constituted, the ink acceptive heat-sensitive layer is formed by a metal film. the ink acceptive heat-sensitive layer is a metal film having a melting point of 930K or lower. As for the metal, anyone of tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, tarium, zinc and bismuth is used. The scumming properties and sensitivity can be improved by the arrangement.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いずに印
刷が可能な、水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザ光で直接製版できる直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waterless planographic printing plate precursor which can be printed without using dampening water, and more particularly to a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor which can be directly made by laser light. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。
2. Description of the Related Art Direct plate making, in which an offset printing plate is produced directly from an original without using a plate making film, is simple, does not require skill, is quick in obtaining a printing plate in a short time, Utilizing features such as rationality that can be selected according to quality and cost from the system,
In addition to the light printing industry, it has begun to enter the general offset printing and gravure printing fields.

【0003】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザプリンタなどの出力システムの急
激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が開
発されている。
In recent years, new types of various lithographic printing materials have been developed in recent years due to rapid advances in output systems such as prepress systems, imagesetters, and laser printers.

【0004】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザ光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。
[0004] These lithographic printing plates can be classified according to plate making methods: a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode,
A method of forming an ink repellent layer or an ink deposited layer by ink jetting, and the like can be given.

【0005】なかでも、レーザ光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。
[0005] Above all, the method using laser light is superior to other methods in resolution and plate making speed.
There are many types.

【0006】このレーザ光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの2つのタイプ
に分けられる。
[0006] The lithographic printing plate using the laser light is further classified into two types, a photon mode by a photoreaction and a heat mode by which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction.

【0007】フォトンモードタイプとしては (1)フォトポリマーを用いた高感度PS版 (2)有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 (3)銀塩方式平版 (4)銀塩複合方式平版 (5)直描マスター 等があり、ヒートモードタイプとしては (6)熱破壊方式平版 が挙げられる。As the photon mode type, (1) a high sensitivity PS plate using a photopolymer (2) an electrophotographic lithographic plate using an organic photoconductor or zinc oxide (3) a silver salt lithographic plate (4) a silver salt composite System lithography (5) Direct drawing master, etc., and the heat mode type includes (6) Thermal destruction system lithography.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(1)
の方式はレーザ光源に主としてアルゴンイオンレーザを
使用しているため装置が大型となり、また印刷版も高感
度のフォトポリマーを使用しているため、印刷版の取扱
いに注意が必要で、なおかつ保存安定性も低下しやすい
といった欠点がある。
However, (1)
The method uses an argon ion laser as the laser light source, which makes the equipment large, and the printing plate uses high-sensitivity photopolymer. There is a drawback that the property is easily reduced.

【0009】(2)の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後2〜5分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。
The electrophotographic lithographic method (2) has an advantage that it can be handled in a bright room, but since the dark decay becomes large within 2 to 5 minutes after charging of the photosensitive layer, the exposure and development process is performed in a short time after charging. Therefore, it is difficult to output a large format with high resolution.

【0010】(3)の銀塩方式は、さまざま波長のレー
ザに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取扱
いに注意を要するといった問題もある。
In the silver salt method (3), printing plates corresponding to lasers of various wavelengths have been developed. However, there is a problem that silver waste liquid comes out, and since the sensitivity is high, care must be taken when handling. There is also a problem that requires.

【0011】(4)の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザで露光、現像後それをマ
スクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が2回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。
(4) The silver-salt composite lithographic plate is provided with a high-sensitivity silver halide emulsion layer on a photosensitive layer, exposing the upper silver halide emulsion layer with an argon ion laser, developing the resultant, and further using the mask as a mask for further ultraviolet irradiation. Exposure and development. However, since this printing plate has two exposure and development steps, there is a problem that the processing of the printing plate becomes complicated.

【0012】(5)の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザで書き込むわけではないが、レーザプリンタで形成
されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上に転
写するものである。しかし、印刷版の解像度という面で
は、他の方式と比較して劣っている。
The direct drawing master (5) does not directly write on a printing plate with a laser, but transfers a toner image formed by a laser printer onto a printing plate as an ink-coated portion. However, the resolution of the printing plate is inferior to other methods.

【0013】以上のフォトンモードタイプに対して、
(6)の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザの急激な進歩によ
って、最近その有用性が見直されてきている。
For the above photon mode type,
The thermal destruction method of (6) has an advantage that it can be handled in a bright room, and its usefulness has recently been reviewed due to the rapid progress of the semiconductor laser that serves as a light source.

【0014】例えば、特開平6―199064号、特開
平7―164773号、USP5339737号、US
P5353705号、EP0580393号、特開平6
―55723号、EP0573091号、USP537
8580号公報にはレーザ光を光源として用いる、直描
型水なし平版印刷版原版が記載されている。
For example, JP-A-6-199064, JP-A-7-164773, USP5339737, US
P5353705, EP0580393, JP-A-6
-55723, EP0573091, USP537
Japanese Patent No. 8580 describes a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor using a laser beam as a light source.

【0015】この熱破壊方式の印刷版原版のインキ受容
性感熱層は、レーザ光吸収化合物としてカーボンブラッ
クを用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用
している。 そしてこのカーボンブラックがレーザ光を
吸収することによって熱エネルギーに変換され、さらに
その熱でインキ受容性感熱層が破壊される。
The ink-receptive heat-sensitive layer of the thermal destruction printing plate precursor uses carbon black as the laser light absorbing compound and nitrocellulose as the thermal decomposition compound. The carbon black absorbs the laser light to be converted into heat energy, and the heat destroys the ink-receptive heat-sensitive layer.

【0016】そして最終的に、現像によってこの部分を
除去することによって、表面のシリコーンゴム層が同時
に剥離され、インキ着肉部となる。
Finally, by removing this portion by development, the silicone rubber layer on the surface is peeled off at the same time to form an ink inking portion.

【0017】しかしながらこの印刷版は、レーザ光の吸
収率が十分ではないために、印刷版の感度が低いといっ
た問題があった。
However, this printing plate has a problem that the sensitivity of the printing plate is low because the absorptance of laser light is not sufficient.

【0018】この原因として、使用しているカーボンブ
ラックの1次粒子径が適当でないことが挙げられる。す
なわち、上述の特許で使用されているカーボンブラック
の1次粒子径は、全て30μm以上で、使用している半
導体レーザ(波長800nm付近)の光を必ずしも効率
良く吸収しているとは言えない。これは、レーザ光の吸
収効率の1つの目安である、印刷版としての光学濃度が
上記の粒子径では、最大にならないということによるも
のである。すなわち、光学濃度は粒子径が20μm前後
の時が最大となり、30μmよりも大きくなると黒色度
が低下してしまう。これは表面での光の反射が多くなっ
てしまうためである。
The cause of this is that the primary particle diameter of the carbon black used is not appropriate. That is, the primary particle diameters of the carbon blacks used in the above patents are all 30 μm or more, and it cannot be said that the light of the used semiconductor laser (wavelength near 800 nm) is always absorbed efficiently. This is because the optical density as a printing plate, which is one measure of the absorption efficiency of laser light, does not reach the maximum with the above particle size. That is, the optical density becomes maximum when the particle diameter is around 20 μm, and when it is larger than 30 μm, the blackness decreases. This is because the reflection of light on the surface increases.

【0019】また、粒子径が15μmよりも小さくなっ
ても、光学濃度は低下する。これは、粒子が小さくなる
とカーボンブラック自体が透明性を帯びやすくなること
と、粒子の分散性が低下することによるものである。
Further, even if the particle diameter is smaller than 15 μm, the optical density is lowered. This is because the carbon black itself tends to become transparent as the particles become smaller and the dispersibility of the particles decreases.

【0020】また、上記特許のカーボンブラックは吸油
量が高い、すなわちハイストラクチャー構造を有してい
るために、粒子どうしが相互に凝集してしまい、インキ
受容性感熱層溶液の粘度が高くなって取扱が不便になっ
たり、塗膜が均一にならないといった問題点を有してい
た。
Further, since the carbon black of the above patent has a high oil absorption, that is, has a high structure structure, the particles agglomerate with each other, and the viscosity of the ink-receptive heat-sensitive layer solution increases. There are problems that handling is inconvenient and the coating film is not uniform.

【0021】また、特に特開平6―55723号、EP
0573091号、USP5378580号では光源と
してNd―YAGレーザを用いているために、露光装置
がかなり大がかりなものとなってしまうといった、別の
問題点を持っていた。
Further, in particular, JP-A-6-55523, EP
In 0573991 and US Pat. No. 5,378,580, since an Nd-YAG laser is used as a light source, there is another problem that the exposure apparatus becomes quite large.

【0022】さらに、USP5379698には、金属
薄膜をインキ受容性感熱層として用いる直描型水なし平
版印刷版が記載されている。
Further, US Pat. No. 5,379,698 describes a direct drawing type waterless planographic printing plate using a metal thin film as an ink-receptive heat-sensitive layer.

【0023】これは、金属薄膜上にインキ反撥層である
シリコーンゴム層を形成したものであるが、使用してい
る金属が、チタン、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロ
ムといった、比較的融点の高い金属を使用しているため
に、印刷版の感度が低いといった問題があった。
This is one in which a silicone rubber layer which is an ink repellent layer is formed on a metal thin film, and the metal used is a metal having a relatively high melting point such as titanium, aluminum, iron, nickel or chromium. Therefore, there is a problem that the sensitivity of the printing plate is low.

【0024】また、この印刷版材は、インキ受容性感熱
層がかなり薄いために、非常にシャープな画像が得ら
れ、印刷版の解像度という面では有利であるが、印刷時
に版表面の温度が上昇した場合、非画像部であるシリコ
ーンゴム層上にインキが付着し、結果的に印刷物が汚れ
る(地汚れする)といった問題を有していた。
In addition, since this printing plate material has a very thin ink-receptive heat-sensitive layer, a very sharp image can be obtained, which is advantageous in terms of the resolution of the printing plate, but the temperature of the plate surface during printing is high. When the temperature rises, there is a problem that the ink adheres to the silicone rubber layer which is the non-image area, and as a result, the printed matter is stained (ground stain).

【0025】この原因として、シリコーンゴム層の膜厚
が薄いことが挙げられる。
The cause is that the thickness of the silicone rubber layer is thin.

【0026】従って、この地汚れ性を向上させるために
は、シリコーンゴム層の膜厚を厚くする必要があるが、
膜厚を厚くすると、現像性が低下するといった問題が生
じる。
Therefore, in order to improve the stain resistance, it is necessary to increase the thickness of the silicone rubber layer.
When the film thickness is increased, there arises a problem that developability is deteriorated.

【0027】また、画像部のセルの深さが深いため、イ
ンキを多く盛りすぎ、インキの消費量が多くなりやすい
といった問題もあった。
Further, since the cells in the image area are deep, there is a problem that too much ink is deposited and the ink consumption tends to increase.

【0028】この問題はシリコーンゴム上層型の水なし
平版印刷版に共通する問題であり、これを解決する方法
として、従来の水なし平版印刷版ではシリコーンゴム層
を感光層の下に設ける、いわゆるシリコーンゴム下層型
水なし平版印刷版が特公昭56―14976号に記載さ
れている。
This problem is a problem common to waterless planographic printing plates of the silicone rubber upper layer type, and as a method for solving this problem, in a conventional waterless planographic printing plate, a silicone rubber layer is provided below the photosensitive layer. A waterless lithographic printing plate of silicone rubber lower layer type is described in JP-B-56-14976.

【0029】これは、直描型ではなく、通常の水なし平
版印刷版であるが、シリコーンゴム層上に感光層を積層
することは、シリコーンゴム層が多くの液体を反撥しや
すいために良好に塗布することは極めて難しい。
This is not a direct drawing type but an ordinary waterless planographic printing plate, but it is preferable to laminate a photosensitive layer on a silicone rubber layer because the silicone rubber layer easily repels many liquids. It is extremely difficult to apply to.

【0030】また、良好に塗布できても、シリコーンゴ
ム層との接着性が悪いために、印刷時に表面層が剥がれ
やすく、耐刷性が悪くなるといった問題があった。
Further, even if the coating can be satisfactorily applied, there is a problem that the surface layer is easily peeled off at the time of printing due to poor adhesion to the silicone rubber layer, resulting in poor printing durability.

【0031】これは、シリコーンゴム層と感光層との間
に化学結合が形成されにくいことによるものであった。
This was due to the difficulty of forming a chemical bond between the silicone rubber layer and the photosensitive layer.

【0032】本発明はかかる従来技術の欠点を改良する
ため、シリコーンゴム層をインキ受容性感熱層の下層に
設け、インキ受容性感熱層として融点の低い金属の薄膜
を使用し、さらに2層の間にシランカップリング剤の層
を設けることによって、シリコーンゴム層への接着性を
向上させ、結果的に地汚れ性、及び感度の向上した直描
型水なし平版印刷版原版を提供することを目的とする。
In order to improve the drawbacks of the prior art, the present invention provides a silicone rubber layer under the ink-receptive heat-sensitive layer, uses a thin film of a metal having a low melting point as the ink-receptive heat-sensitive layer, and further comprises two layers. By providing a layer of a silane coupling agent between them, it is possible to improve the adhesion to the silicone rubber layer, and as a result, to provide a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor with improved background stain resistance and sensitivity. To aim.

【0033】[0033]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は下記の構成からなる。
To achieve the above object, the present invention comprises the following constitution.

【0034】1.基板、該基板上に設けたシリコーンゴ
ム層、および該シリコーンゴム層上に設けた、インキ受
容性感熱層からなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、インキ受容性感熱層が金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。
1. In a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor comprising a substrate, a silicone rubber layer provided on the substrate, and an ink receiving heat sensitive layer provided on the silicone rubber layer, the ink receiving heat sensitive layer is a thin metal film. A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor characterized by being present.

【0035】2.前記1において、インキ受容性感熱層
が融点930(K)以下の金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。
2. 1. The direct drawing type waterless planographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the ink-receptive heat-sensitive layer is a thin metal film having a melting point of 930 (K) or less.

【0036】3.前記1において金属がテルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セ
レン、タリウム、亜鉛、ビスマスのいずれかであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
3. In the above 1, the metal is tellurium, tin,
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor characterized by being any one of antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc and bismuth.

【0037】4.前記1において金属が、テルル、ス
ズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのい
ずれか2種類の組み合わせからなる、アロイであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
4. 1. The direct drawing type waterless planographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the metal is an alloy composed of a combination of any two kinds of tellurium, tin, antimony, gallium, bismuth and zinc.

【0038】5.前記1において金属が、テルル、ス
ズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのい
ずれか3種類の組み合わせからなる、アロイであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
5. 1. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the metal is an alloy comprising a combination of any three kinds of tellurium, tin, antimony, gallium, bismuth and zinc.

【0039】6.前記1においてインキ受容性感熱層の
膜厚が、50〜10000オングストロームであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
6. 1. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the thickness of the ink-receptive heat-sensitive layer is 50 to 10,000 angstroms.

【0040】7.前記1においてインキ受容性感熱層の
光学濃度が0.6〜2.5であることを特徴とする直描
型水なし平版印刷版原版。
7. 1. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the ink-receptive heat-sensitive layer has an optical density of 0.6 to 2.5.

【0041】8.前記1においてシリコーンゴム層とイ
ンキ受容性感熱層の間に、シランカップリング剤層を設
けたことを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版。
8. 1. A waterless lithographic printing plate precursor for direct drawing, which is characterized in that a silane coupling agent layer is provided between the silicone rubber layer and the ink-receptive heat-sensitive layer in the above 1.

【0042】9.前記1において基板とシリコーンゴム
層の間に、シランカップリング剤層を設けたことを特徴
とする、直描型水なし平版印刷版原版。
9. 1. A waterless planographic printing plate precursor for direct drawing, which is characterized in that a silane coupling agent layer is provided between the substrate and the silicone rubber layer in the above 1.

【0043】10.前記1においてシリコーンゴム層
が、シランカップリング剤を含有することを特徴とす
る、直描型水なし平版印刷版原版。
10. 1. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the silicone rubber layer contains a silane coupling agent.

【0044】11.片側にシリコーンゴム層表面を有す
る基板と、片側にインキ受容性感熱層を有するフィルム
を、シリコーンゴム層面側とインキ受容性感熱層面側が
接するようにラミネートすることを特徴とする、直描型
水なし平版印刷版原版の製造方法。
11. Direct drawing type waterless, characterized in that a substrate having a silicone rubber layer surface on one side and a film having an ink-receptive heat-sensitive layer on one side are laminated so that the silicone rubber layer surface side and the ink-receptive heat-sensitive layer surface side are in contact. Method for manufacturing lithographic printing plate precursor.

【0045】12.前記11においてフィルムの、イン
キ受容性感熱層上に、予めシランカップリング剤が塗布
されていることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版
原版の製造方法。
12. 11. The method for producing a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in 11 above, wherein a silane coupling agent is previously coated on the heat-sensitive ink-receptive layer of the film.

【0046】13.前記1〜10のいずれかに記載の直
描型水なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像して
なる、水なし平版印刷版。
13. A waterless planographic printing plate obtained by selectively exposing and developing the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor described in any one of 1 to 10 above.

【0047】[0047]

【発明の実施の形態】ここで、直描型とは、露光時にネ
ガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版上に直接
記録ヘッドから、画像形成を行うことをいう。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Here, the direct drawing type means that an image is formed directly from a recording head on a printing plate without using a negative or positive film at the time of exposure.

【0048】また、ここでの光学濃度とはラッテンフィ
ルター No.106を用いて、マクベス反射濃度計
RD―514で測定を行った場合の数値をいう。
Further, the optical density here means the Ratten filter No. Macbeth reflection densitometer using 106
The numerical value when measured with RD-514.

【0049】次に、本発明に使用する直描型水なし平版
印刷版について説明する。
The direct drawing type waterless planographic printing plate used in the present invention will be described below.

【0050】本発明では、シリコーンゴム層上に金属の
インキ受容性感熱層を設けたことが特徴となっている。
The present invention is characterized in that a metal ink-receptive heat-sensitive layer is provided on the silicone rubber layer.

【0051】ここで使用されるインキ受容性感熱層は、
レーザ光を効率よく吸収して、その熱によって瞬間的に
一部または全部が蒸発、または融解することが好まし
い。
The ink-receptive heat-sensitive layer used here is
It is preferable that the laser light be efficiently absorbed and the heat thereof causes a partial or complete evaporation or melting.

【0052】まず、レーザ光を効率良く吸収するために
は、光源として用いられる半導体レーザの波長(800
nm付近)に対する吸収率が重要となってくる。
First, in order to efficiently absorb the laser light, the wavelength of the semiconductor laser used as the light source (800
The absorption rate for (near nm) becomes important.

【0053】そして、この800nm付近の光に対する
吸収率の指標として、印刷版の光学濃度を測定してい
る。すなわち、光学濃度が高いほどレーザ光を効率良く
吸収することができるのである。
Then, the optical density of the printing plate is measured as an index of the absorptance for the light near 800 nm. That is, the higher the optical density, the more efficiently the laser light can be absorbed.

【0054】この、光学濃度は0.6〜2.5が好まし
く、より好ましくは0.8〜1.8である。光学濃度が
0.6よりも小さいと、レーザ光が効率良く吸収されな
いために印刷版の感度が低下しやすく、2.5よりも大
きくても膜厚が厚くなるために画像を形成するためのエ
ネルギーが余分に必要となり、感度が低下してしまう。
The optical density is preferably 0.6 to 2.5, more preferably 0.8 to 1.8. When the optical density is less than 0.6, the sensitivity of the printing plate is likely to be lowered because the laser light is not efficiently absorbed, and when the optical density is more than 2.5, the film thickness becomes large, and therefore an image is formed. Extra energy is required and the sensitivity is reduced.

【0055】このような金属材料としては、金属光沢
の、より小さい材料が好まれる。金属光沢が大きくなる
と、表面でのレーザ光の反射も大きくなるためである。
As such a metallic material, a material having a metallic luster and a smaller size is preferred. This is because as the metallic luster increases, the reflection of laser light on the surface also increases.

【0056】このような金属として具体的には、テル
ル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロ
ニウム、セレン、タリウム、亜鉛、銅、インジウム、マ
ンガン、鉛、リン、ビスマス、コバルト、パラジウム、
ビスマスが好ましく使用されるが、より好ましくは、テ
ルル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポ
ロニウム、セレン、タリウム、亜鉛、ビスマスである。
Specific examples of such a metal include tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc, copper, indium, manganese, lead, phosphorus, bismuth, cobalt, palladium,
Bismuth is preferably used, more preferably tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc and bismuth.

【0057】また、瞬間的に一部または全部が蒸発、ま
たは融解する金属としては、融点が1500(K)以下
であれば、どのようなものでも好ましく使用できるが、
より好ましくは930(K)以下である。融点が150
0(K)よりも大きいと、レーザ光を照射しても、蒸発
または融解するのに時間がかかるため、結果的に版材の
感度が低下してしまう。
Further, as the metal which partly or wholly evaporates or melts, any metal having a melting point of 1500 (K) or less can be preferably used.
It is more preferably 930 (K) or less. Melting point 150
If it is larger than 0 (K), it takes time to evaporate or melt even if the laser beam is irradiated, and as a result, the sensitivity of the plate material decreases.

【0058】具体的には、融点が930(K)以下の金
属である、テルル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグ
ネシウム、ポロニウム、セレン、タリウム、亜鉛、ビス
マスが好ましく使用されるが、より好ましくはテルル、
スズ、亜鉛である。これらの金属は、薄膜にレーザ光が
照射された時に、熱によって容易に蒸発、または融解す
るために特に好ましい。
Specifically, tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc and bismuth, which are metals having a melting point of 930 (K) or less, are preferably used, and more preferably tellurium. ,
They are tin and zinc. These metals are particularly preferable because they easily evaporate or melt by heat when the thin film is irradiated with laser light.

【0059】またこれらの金属は、2種類あるいは3種
類のアロイとすることによって、より融点が低下しやす
くなり、印刷版としての感度も向上するため、特に好ま
しい。
Further, these metals are particularly preferable because the melting point is more easily lowered and the sensitivity as a printing plate is improved by using two or three kinds of alloys.

【0060】そのようなアロイとする場合の組み合わせ
としては、請求項4や5に記載の、テルル、スズ、アン
チモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛からなる群より選ば
れる。
The combination for forming such an alloy is selected from the group consisting of tellurium, tin, antimony, gallium, bismuth and zinc described in claims 4 and 5.

【0061】具体的には、2種類の組み合わせのアロイ
としては、テルル/スズ、テルル/アンチモン、テルル
/ガリウム、テルル/ビスマス、テルル/亜鉛、スズ/
亜鉛、が好ましく、より好ましくはテルル/亜鉛、テル
ル/スズ、スズ/亜鉛、のアロイである。
Specifically, as alloys of two kinds of combination, tellurium / tin, tellurium / antimony, tellurium / gallium, tellurium / bismuth, tellurium / zinc, tin /
Zinc is preferable, and more preferable is an alloy of tellurium / zinc, tellurium / tin, tin / zinc.

【0062】3種類のアロイとしては、テルル/スズ/
亜鉛、テルル/ガリウム/亜鉛、スズ/アンチモン/亜
鉛、スズ/ビスマス/亜鉛、が好ましく、より好ましく
はテルル/スズ/亜鉛、スズ/アンチモン/亜鉛、のア
ロイである。
The three types of alloys are tellurium / tin /
Zinc, tellurium / gallium / zinc, tin / antimony / zinc, tin / bismuth / zinc are preferable, and more preferable are alloys of tellurium / tin / zinc and tin / antimony / zinc.

【0063】またこの時、薄膜の膜厚も版材の感度に大
きな影響を与える。すなわち、膜厚が厚すぎると、薄膜
を蒸発、融解させるために要するエネルギーが余分に必
要となるために、版材の感度が低下してしまうのであ
る。そのため、膜厚としては50〜10000オングス
トロームが好ましく、より好ましくは200〜2000
オングストロームである。
At this time, the film thickness of the thin film also greatly affects the sensitivity of the plate material. That is, if the film thickness is too thick, extra energy is required to evaporate and melt the thin film, and thus the sensitivity of the plate material decreases. Therefore, the film thickness is preferably 50 to 10000 angstroms, more preferably 200 to 2000 angstroms.
Angstrom.

【0064】このような薄膜の形成方法としては、真空
蒸着、スパッタリングのいずれかの方法で行うことが好
ましい。
As a method for forming such a thin film, it is preferable to carry out either of vacuum vapor deposition and sputtering.

【0065】真空蒸着は、10-4〜10-7mmHgの減
圧容器中で、金属と炭素を加熱蒸発させ、基板の表面に
薄膜を形成させるのが一般的である。
In the vacuum evaporation, it is general to heat and evaporate metal and carbon in a decompression container of 10 −4 to 10 −7 mmHg to form a thin film on the surface of the substrate.

【0066】スパッタリングは10-1〜10-3mmHg
の減圧容器中で1対の電極に直流あるいは交流電圧を加
え、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現象
を利用して基板上に薄膜を形成する。
Sputtering is 10 -1 to 10 -3 mmHg
Direct current or alternating current voltage is applied to the pair of electrodes in the decompression container to cause glow discharge, and a thin film is formed on the substrate by utilizing the sputtering phenomenon of the cathode.

【0067】以上のインキ受容性感熱層を形成するため
の基板としては、寸法的に安定な板状物が用いられる。
この様な寸法的に安定な板状物としては、従来印刷版の
基板として使用されたものが含まれ、それらを好適に使
用することができる。かかる基板としては、紙、プラス
チック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど)がラミネ−トされた紙、例えばアルミニウ
ム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えばセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ−ボ
ネ−ト、ポリビニルアセタ−ルなどのようなプラスチッ
クのフィルム、上記の如き金属がラミネ−トもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれ
る。これらの基板のうち、アルミニウム板は寸法的に著
しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。
また、軽印刷用の基板として用いられている、ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。
As a substrate for forming the above ink-receptive heat-sensitive layer, a dimensionally stable plate is used.
Such dimensionally stable plate-like objects include those conventionally used as substrates for printing plates, and they can be suitably used. Such substrates include paper, paper on which plastics (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) are laminated, for example, plates of metal such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, copper, etc., for example, cellulose, carboxy. Plastic films such as methylcellulose, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetate, etc .; Alternatively, vapor-deposited paper or plastic film is included. Among these substrates, the aluminum plate is particularly preferable because it is extremely stable in dimension and inexpensive.
Further, a polyethylene terephthalate film used as a substrate for light printing is also preferably used.

【0068】本発明で使用する水なし平版印刷版は、基
板とシリコーンゴム層との接着を強固にするため、プラ
イマ−層を設けても良い。本発明で使用する直描型水な
し平版印刷版原版のプライマ−層は、次の条件を満たす
ことが必要である。すなわち、基板とシリコーンゴム層
とをよく接着し、経時において安定であること、さらに
現像液の溶剤に対する耐溶剤性が良いことである。この
ような条件を満たすものとして、特公昭61−5421
9号公報に示されるようなエポキシ樹脂を含むものの
他、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリル樹
脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、
塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、エチレン―酢酸ビニル共重合
体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル―ブ
タジエン共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリエーテルス
ルフォン樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン等を使用する
ことが出来る。これらの樹脂は単独であるいは二種以上
混合して用いることができる。
The waterless planographic printing plate used in the present invention may be provided with a primer layer in order to strengthen the adhesion between the substrate and the silicone rubber layer. The primer layer of the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor used in the invention is required to satisfy the following conditions. That is, the substrate is well adhered to the silicone rubber layer, is stable over time, and has good solvent resistance to the solvent of the developer. Japanese Patent Publication No. 61-5421 for satisfying such conditions.
In addition to those containing an epoxy resin as disclosed in JP-A-9, a polyurethane resin, a phenol resin, an acrylic resin, an alkyd resin, a polyester resin, a polyamide resin, a melamine resin, a urea resin, a benzoguanamine resin,
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, polyvinyl butyral resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polycarbonate resin, polyacrylonitrile-butadiene copolymer, polyether resin, polyether sulfone resin, milk casein, gelatin, etc. Can be used. These resins may be used alone or in combination of two or more.

【0069】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは2種以上を混合して用いることが
好ましい。
Of these, polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, urea resins and the like are preferably used alone or in admixture of two or more.

【0070】また、上記プライマー層を構成するアンカ
ー剤としては、例えばシランカップリング剤等の、公知
の接着剤を用いることができ、また有機チタネート等も
有効である。
As the anchor agent constituting the primer layer, a known adhesive such as a silane coupling agent can be used, and organic titanate is also effective.

【0071】さらに塗工性を改良する目的で、界面活性
剤を添加することも任意である。
It is also optional to add a surfactant for the purpose of improving the coatability.

【0072】また、印刷版の露光部は、プライマー層が
露出して画線部となるために、このプライマー層中に染
料等の添加剤を含有させて検版性を向上させることが好
ましい。
In the exposed area of the printing plate, the primer layer is exposed and becomes an image area. Therefore, it is preferable to add an additive such as a dye to the primer layer to improve the plate inspection property.

【0073】上記のプライマー層を形成するための組成
物は、DMF、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン、トルエン、キシレン、THF等の
適当な有機溶剤に溶解させることによって組成物溶液と
して調整される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗
布し必要な温度で必要な時間加熱することにより、プラ
イマー層が形成される。
The composition for forming the above-mentioned primer layer is prepared as a composition solution by dissolving it in a suitable organic solvent such as DMF, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, toluene, xylene and THF. A primer layer is formed by uniformly applying the composition solution on a substrate and heating it at a required temperature for a required time.

【0074】プライマ−層の厚さは被覆層にして0.5
〜50g/m2 が好ましく、より好ましくは1〜10
g/m2 である。厚さが0.5g/m2 よりも薄いと基
板表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおと
り、50g/m2 よりも厚いと経済的見地から不利とな
るので上記の範囲が好ましい。
The primer layer has a thickness of 0.5 as a coating layer.
~ 50 g / m 2 is preferred, more preferably 1-10.
g / m 2 . When the thickness is less than 0.5 g / m 2 , the effect of blocking morphological defects and chemical adverse effects on the surface of the substrate is reduced, and when it is more than 50 g / m 2, it is disadvantageous from the economical point of view, so the above range is preferable.

【0075】基板上または、プライマー層上に形成され
るシリコーンゴム層としては、従来の水なし平版印刷版
のシリコーンゴム組成物がすべて使用できる。
For the silicone rubber layer formed on the substrate or on the primer layer, all conventional silicone rubber compositions for waterless lithographic printing plates can be used.

【0076】このようなシリコ−ンゴム層は線状オルガ
ノポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサ
ン)をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なシリコ−ンゴム層は、次式(I)に示すよ
うな繰り返し単位を有するものである。
Such a silicone rubber layer is obtained by sparsely cross-linking a linear organopolysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane), and a typical silicone rubber layer has the following formula (I). It has a repeating unit as shown in.

【0077】[0077]

【化1】 (ここでnは2以上の整数である。Rは炭素数1〜10
のアルキル、アリ−ル、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のRの40%以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Rの60%以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。) 本発明の印刷版に適用するシリコ−ンゴム層の場合には
次に示すような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴム(R
TV、LTV型シリコ−ンゴム)を用いることができ
る。このようなシリコ−ンゴムとしてはオルガノポリシ
ロキサン鎖のRの一部がHに置換されたものも使用でき
るが、通常次式(II)と(III )、(IV)で表される末
端基どうしの縮合によって架橋される。これにさらに過
剰の架橋剤を存在させる場合もある。
Embedded image (Here, n is an integer of 2 or more. R has 1 to 10 carbon atoms.)
Alkyl, aryl, or cyanoalkyl group. Preferably, 40% or less of the whole R is vinyl, phenyl, vinyl halide, or halogenated phenyl, and 60% or more of R is a methyl group. Further, it has at least one or more hydroxyl group in the molecular chain at the chain end or in the form of a side chain. In the case of the silicone rubber layer applied to the printing plate of the present invention, a silicone rubber (R
TV, LTV type silicone rubber) can be used. As such a silicone rubber, one in which a part of R of the organopolysiloxane chain is replaced by H can be used, but usually, the end groups represented by the following formulas (II), (III) and (IV) are not used. Are crosslinked by the condensation of. In some cases, an excess of a crosslinking agent may be present.

【0078】[0078]

【化2】 Embedded image

【化3】 Embedded image

【化4】 (ここでRは先に説明したRと同様であり、R1 、R2
は一価の低級アルキル基であり、Acはアセチル基であ
る。) このような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴムには、
錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボ
ン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル錫、錫(II)オクト
エ−ト、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸のよう
な触媒が添加される。
Embedded image (Where R is the same as R described above; R1, R2
Is a monovalent lower alkyl group, and Ac is an acetyl group. ) Silicone rubber which performs such condensation type crosslinking includes:
Metal carboxylates such as tin, zinc, lead, calcium, manganese, for example, dibutyltin laurate, tin (II) octoate, naphthenates, etc., or catalysts such as chloroplatinic acid are added.

【0079】更に、本発明において用いられる次式
(V)と(VI)との付加反応により架橋を行ったシリコ
−ンゴム層としては、多価ハイドロジェンオルガノポリ
シロキサンと1分子中に2個以上の式(VI)結合を有す
るポリシロキサンとの反応によって得られ、望ましくは
以下の成分からなる組成物を架橋硬化したものがあげら
れる。
Further, the silicone rubber layer crosslinked by the addition reaction of the following formulas (V) and (VI) used in the present invention is a polyvalent hydrogenorganopolysiloxane and two or more in one molecule. A composition obtained by reaction with a polysiloxane having a bond of the formula (VI), preferably a composition comprising the following components, is crosslinked and cured.

【0080】[0080]

【化5】 Embedded image

【化6】 (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくとも式(V)基を2個有するオルガノハイドロジェンポ リシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 成分(1)のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあってもよく、アルケニル基以外の有機基としては、
置換もしくは非置換のアルキル基、アリ−ル基である。
成分(1)は水酸基を微量有していることが好ましい。
成分(2)は成分(1)と反応してシリコ−ンゴム層を
形成するが、感熱破壊層に対する接着性の付与の役割を
果たす。成分(2)の水素基は分子鎖末端、中間のいず
れにあってもよく、水素以外の有機基としては成分
(1)と同様のものから選ばれる。成分(1)と成分
(2)の有機基はインキ反撥性の向上の点で総じて基数
の60%以上がメチル基であることが好ましい。成分
(1)及び成分(2)の分子構造は直鎖状、環状、分枝
状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量が
1000を超えることがゴム物性の面で好ましく、更
に、成分(2)の分子量が1000を超えることが好ま
しい。成分(1)としては、α,ω−ジビニルポリジメ
チルシロキサン、両末端メチル基の(メチルビニルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水素基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の(メチルハイドロジェ
ンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体、環状
ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが例示され
る。成分(3)の付加触媒は、公知のもののなかから任
意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金
単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金など
が例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目
的で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどの
ビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三
重結合含有のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピレングリコ−ルモ
ノメチルエ−テルなどの架橋抑制剤を添加することも可
能である。これらの組成物は、3成分を混合した時点に
おいて付加反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反
応温度が高くなるに従い急激に大きくなる特徴を有す
る。故に組成物のゴム化までのポットライフを長くし、
かつ感光層上での硬化時間を短くする目的で、組成物の
硬化条件は、基板、感光層の特性が変わらない範囲の温
度条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持しておく
ことが、感光層との接着力の安定性の面で好ましい。
[Chemical 6] (1) 100 parts by weight of organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule (2) Organo having at least two groups of formula (V) in one molecule Hydrogen polysiloxane 0.1 to 1000 parts by weight (3) Addition catalyst 0.00001 to 10 parts by weight The alkenyl group of the component (1) may be at the terminal or in the middle of the molecular chain, and may be an organic compound other than the alkenyl group. As a basis,
It is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.
Component (1) preferably has a small amount of hydroxyl groups.
The component (2) reacts with the component (1) to form a silicone rubber layer, and plays a role of imparting adhesiveness to the heat-sensitive destruction layer. The hydrogen group of the component (2) may be at the terminal of the molecular chain or at the middle, and the organic group other than hydrogen is selected from those similar to the component (1). It is preferable that 60% or more of the organic groups of the components (1) and (2) are methyl groups as a whole in terms of improving ink repellency. The molecular structure of component (1) and component (2) may be linear, cyclic or branched, and it is preferable that at least one of them has a molecular weight of more than 1000 from the viewpoint of rubber physical properties. It is preferred that the molecular weight of) exceeds 1000. Examples of the component (1) include α, ω-divinylpolydimethylsiloxane and a (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, and the component (2) has a hydrogen group at both terminals. Examples thereof include polydimethyl siloxane, α, ω-dimethyl polymethyl hydrogen siloxane, (methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer having methyl groups at both ends, and cyclic polymethyl hydrogen siloxane. The addition catalyst of the component (3) is arbitrarily selected from known catalysts, and is particularly preferably a platinum compound, such as platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. In order to control the curing rate of these compositions, organopolysiloxanes containing vinyl groups such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, alcohols containing carbon-carbon triple bonds, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as propylene glycol monomethyl ether. These compositions have the characteristic that, when the three components are mixed, an addition reaction occurs and curing starts, but the curing rate increases rapidly as the reaction temperature increases. Therefore, the pot life until rubberization of the composition is lengthened,
In addition, for the purpose of shortening the curing time on the photosensitive layer, the curing conditions of the composition should be a temperature condition in which the characteristics of the substrate and the photosensitive layer do not change, and be kept at a high temperature until completely cured. It is preferable in terms of stability of adhesive force with the photosensitive layer.

【0081】これらの組成物の他に、インキ受容性感熱
層との接着性を向上させる目的でシラン系化合物をシリ
コーンゴム層中に添加したり、シリコーンゴム層とイン
キ受容性感熱層あるいは、シリコーンゴム層と基板の間
にシラン系化合物層を設けることが、好ましい。
In addition to these compositions, a silane compound is added to the silicone rubber layer for the purpose of improving the adhesiveness to the ink-receptive heat-sensitive layer, or the silicone rubber layer and the ink-receptive heat-sensitive layer or silicone. It is preferable to provide a silane compound layer between the rubber layer and the substrate.

【0082】このような、シラン系化合物としては、公
知のシランカップリング剤の他、シリル基を有する化合
物であれば、いかなるものでも使用できるが、本発明に
おいては、アクリルシラン、メタアクリルシラン(以下
両者をあわせて(メタ)アクリルシランという)、ビニ
ルシラン及びアリルシラン等の不飽和基含有シランカッ
プリング剤やエポキシシラン、アミノシラン、メルカプ
トシラン、等の官能基含有シランカップリング剤が好ま
しく用いられる。
As such a silane-based compound, in addition to a known silane coupling agent, any compound having a silyl group can be used. In the present invention, an acrylic silane or a methacrylic silane ( Hereinafter, both are collectively referred to as (meth) acrylsilane), and unsaturated group-containing silane coupling agents such as vinylsilane and allylsilane, and functional group-containing silane coupling agents such as epoxysilane, aminosilane, and mercaptosilane are preferably used.

【0083】これらの中でも、不飽和基含有シランカッ
プリング剤は感熱破壊層を光または熱キュアーした際
に、他のモノマーと共重合し、かつシリコーン層との界
面で接着力を発現するため、本発明における、感熱破壊
層の接着に有効に作用する。
Among these, since the unsaturated group-containing silane coupling agent copolymerizes with other monomers and develops an adhesive force at the interface with the silicone layer when the heat-sensitive destruction layer is subjected to light or heat curing, It effectively acts on the adhesion of the heat-sensitive destructive layer in the present invention.

【0084】(メタ)アクリルシランとしては、具体的
には、N―(3―(メタ)アクリロキシ―2―ヒドロキ
シプロピル)―3―アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、ビス((メタ)アクリロキシプロピル)―1,1,
3,3―テトラメチルジシロキサン、2―(メタ)アク
リロキシエチルジメチル(3―(トリメトキシシリル)
プロピル)アンモニウムクロライド、(メタ)アクリロ
キシプロピルビス(トリメチルシロキシ)メチルシラ
ン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルクロロ
シラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジク
ロロシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリク
ロロシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチ
ルエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピル
メチルジエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシ
プロピルジメチルメトキシシラン、3―(メタ)アクリ
ロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3―(メタ)
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3―(メ
タ)アクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、
3―(メタ)アクリロキシプロピルトリス(メトキシエ
トキシ)シラン、3―(メタ)アクリロキシトリス(ト
リメチルシロキシ)シラン、2―(トリメチルシロキ
シ)エチル(メタ)アクリレート、トリメチルシリル
(メタ)アクリレート等が挙げられるが、好ましくは、
3―(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルエトキ
シシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピル
ジメチルメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、3―(メタ)アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる。
Specific examples of the (meth) acrylsilane include N- (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane and bis ((meth) acryloxypropyl)- 1, 1,
3,3-Tetramethyldisiloxane, 2- (meth) acryloxyethyldimethyl (3- (trimethoxysilyl)
Propyl) ammonium chloride, (meth) acryloxypropylbis (trimethylsiloxy) methylsilane, 3- (meth) acryloxypropyldimethylchlorosilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldichlorosilane, 3- (meth) acryloxypropyltri Chlorosilane, 3- (meth) acryloxypropyldimethylethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyldimethylmethoxysilane 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth)
Acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylpentamethyldisiloxane,
3- (meth) acryloxypropyltris (methoxyethoxy) silane, 3- (meth) acryloxytris (trimethylsiloxy) silane, 2- (trimethylsiloxy) ethyl (meth) acrylate, trimethylsilyl (meth) acrylate and the like can be mentioned. However, preferably,
3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyldimethylethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3 -(Meth) acryloxypropyldimethylmethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, and the like.

【0085】また、ビニルシラン、及びアリルシラン
は、特に下層のシリコーンゴム層が付加型の場合、ハイ
ドロジェンポリシロキサンと反応して、接着力を発揮す
る。
Further, vinylsilane and allylsilane exhibit an adhesive force by reacting with hydrogenpolysiloxane, especially when the lower silicone rubber layer is an addition type.

【0086】ビニルシランとして具体的には、ビス(ジ
メチルアミノ)メチルビニルシラン、1―ブロモビニル
トリメチルシラン、クロロメチルジメチルビニルシラ
ン、3―クロロプロピルジメチルビニルシラン、1―ク
ロロビニルトリクロロシラン、N,N―ジメチルアミノ
ビニルジエトキシシラン、ジフェニルビニルクロロシラ
ン、ジフェニルビニルエトキシシラン、1,3―ジビニ
ル―1,3―ジメチル―1,3―ジクロロジシロキサ
ン、ジビニルジメチルシラン、1,3―ジビニル―1,
3―ジフェニル―1,3―ジメチルジシラザン、1,3
―ジビニル―1,3―ジフェニル―1,3―ジメチルジ
シロキサン、1,3―ジビニルテトラテトラエトキシジ
シロキサン、1,3―ジビニルテトラメチルジシラザ
ン、1,3―ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,
4―ジビニル―1,1,4,4―テトラメチルジシリル
エチレン、フェニルジメチルビニルシラン、フェニルメ
チルビニルクロロシラン、フェニルメチルビニルシラ
ン、フェニルビニルクロロシラン、フェニルビニルジメ
トキシシラン、1,1,3,3―テトラビニルジメチル
ジシロキサン、テトラビニルシラン、1,3,5,7―
テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン、ト
リフェニルビニルシラン、トリビニルメチルシラン、
1,3,5―トリビニル―1,1,3,5,5―ペンタ
メチルトリシロキサン、ビニルジエチルメチルシラン、
ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルエトキシ
シラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルメチルジ
アセトキシシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニ
ルメチルジエトキシシラン、1―ビニルシラトラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリメチル
シラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス
(トリ―s―ブトキシシロキサニル)シラン、ビニルト
リス(t―ブチルパーオキシ)シラン、ビニルトリス
(2―メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリス(トリ
メチルシロキシ)シランが挙げられるが、好ましくは、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2―メトキ
シエトキシ)シラン、ビニルトリメトキシシラン、ジビ
ニルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシランで
ある。
Specific examples of vinylsilanes include bis (dimethylamino) methylvinylsilane, 1-bromovinyltrimethylsilane, chloromethyldimethylvinylsilane, 3-chloropropyldimethylvinylsilane, 1-chlorovinyltrichlorosilane and N, N-dimethylamino. Vinyldiethoxysilane, diphenylvinylchlorosilane, diphenylvinylethoxysilane, 1,3-divinyl-1,3-dimethyl-1,3-dichlorodisiloxane, divinyldimethylsilane, 1,3-divinyl-1,
3-diphenyl-1,3-dimethyldisilazane, 1,3
-Divinyl-1,3-diphenyl-1,3-dimethyldisiloxane, 1,3-divinyltetratetraethoxydisiloxane, 1,3-divinyltetramethyldisilazane, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, 1,
4-divinyl-1,1,4,4-tetramethyldisilylethylene, phenyldimethylvinylsilane, phenylmethylvinylchlorosilane, phenylmethylvinylsilane, phenylvinylchlorosilane, phenylvinyldimethoxysilane, 1,1,3,3-tetravinyl Dimethyldisiloxane, tetravinylsilane, 1,3,5,7-
Tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane, triphenylvinylsilane, trivinylmethylsilane,
1,3,5-trivinyl-1,1,3,5,5-pentamethyltrisiloxane, vinyldiethylmethylsilane,
Vinyldimethylchlorosilane, vinyldimethylethoxysilane, vinylethyldichlorosilane, vinylmethyldiacetoxysilane, vinylmethyldichlorosilane, vinylmethyldiethoxysilane, 1-vinylsilatrane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrichlorosilane,
Vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethylsilane, vinyltriphenoxysilane, vinyltris (tri-s-butoxysiloxanyl) silane, vinyltris (t-butylperoxy) silane, vinyltris ( 2-methoxyethoxy) silane and vinyltris (trimethylsiloxy) silane can be mentioned, but preferably,
They are vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, vinyltrimethoxysilane, divinyldiethoxysilane and vinyltriacetoxysilane.

【0087】アリルシランとして具体的には、アリルジ
メチルクロロシラン、アリルジメチルシラン、アリルメ
チルジクロロシラン、アリルトリクロロシラン、アリル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジア
リルジエトキシシラン、ジアリルジメトキシシラン、ト
リアリルエトキシシラン、トリアリルメトキシシラン、
フェニルアリルジエトキシシラン、フェニルアリルジメ
トキシシラン、フェニルジアリルエトキシシラン、フェ
ニルジアリルメトキシシタン、アリルトリメチルシラ
ン、ジアリルジクロロシラン、ジアリルジメチルシラ
ン、ジフェニルジアリルシラン、フェニルアリルジクロ
ロシラン、テトラアリロキシシラン、O―トリメチルシ
リルアリルアルコール等が挙げられるが、好ましくはア
リルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、
ジアリルジエトキシシラン、ジアリルジメトキシシラン
である。
Specific examples of the allylsilane include allyldimethylchlorosilane, allyldimethylsilane, allylmethyldichlorosilane, allyltrichlorosilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, diallyldiethoxysilane, diallyldimethoxysilane and triallylethoxysilane. , Triallylmethoxysilane,
Phenylallyldiethoxysilane, phenylallyldimethoxysilane, phenyldiallylethoxysilane, phenyldiallylmethoxysilane, allyltrimethylsilane, diallyldichlorosilane, diallyldimethylsilane, diphenyldiallylsilane, phenylallyldichlorosilane, tetraallyloxysilane, O-trimethylsilyl Examples include allyl alcohol, but preferably allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane,
These are diallyldiethoxysilane and diallyldimethoxysilane.

【0088】エポキシシランとしては、3―グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、2―(3,4―エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランであり、
アミノシランとしては、N―2―(アミノエチル)―3
―アミノプロピルトリメトキシシラン、N―2―(アミ
ノエチル)―3―アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3―アミノプロピルトリエトキシシランであり、メ
ルカプトシランとしては、3―メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、3―メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン等が挙げられる。
The epoxysilane is 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,
As aminosilane, N-2- (aminoethyl) -3
-Aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, and as the mercaptosilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercapto Examples include propyltriethoxysilane.

【0089】このような、シラン系化合物の添加量は、
全感熱破壊層組成物に対して、0.01〜20重量%が
好ましく、より好ましくは0.05〜10重量%であ
る。
The addition amount of such a silane compound is
The amount is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on the total heat-sensitive destruction layer composition.

【0090】あるいは、シランカップリング剤を、適当
な溶剤に溶解して希薄溶液の状態で、シリコーンゴム層
上、あるいは基板上に塗布して、接着層として用いるこ
とも可能である。
Alternatively, the silane coupling agent may be dissolved in an appropriate solvent and applied in a dilute solution onto the silicone rubber layer or the substrate to be used as the adhesive layer.

【0091】この場合、シランカップリング剤層の膜厚
は、シランカップリング剤の単分子膜が形成される程度
の膜厚があれば十分であり、具体的には1000オング
ストローム以下が好ましく、より好ましくは500オン
グストローム以下である。
In this case, the film thickness of the silane coupling agent layer is sufficient if the film thickness is such that a monomolecular film of the silane coupling agent is formed. Specifically, it is preferably 1000 angstroms or less. It is preferably 500 angstroms or less.

【0092】膜厚が1000オングストロームよりも厚
い場合には、シリコーンゴム層との接着性が低下しやす
くなり、印刷版の耐刷性や溶剤耐性が低下する。
When the film thickness is thicker than 1000 angstroms, the adhesiveness with the silicone rubber layer is likely to be lowered, and the printing durability and solvent resistance of the printing plate are reduced.

【0093】これ以外にも、縮合型シリコ−ンゴム層の
組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水
分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)を添加
することも任意であり、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加させることも任意
である。
In addition to the above, it is optional to add a hydroxyl group-containing organopolysiloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), which is a composition of the condensed silicone rubber layer, and to improve the rubber strength. For this purpose, it is optional to add a known filler such as silica.

【0094】これら、シリコーンゴム層の膜厚は0.5
〜50g/m2 が好ましく、さらに好ましくは0.5〜
10g/m2 である。膜厚が0.5g/m2 よりも小さ
い場合には印刷版のインキ反撥性が低下しやすく、50
g/m2 よりも大きい場合には、経済的見地から不利で
ある。
The thickness of these silicone rubber layers is 0.5.
To 50 g / m 2 , more preferably 0.5 to 50 g / m 2.
10 g / m 2 . When the film thickness is less than 0.5 g / m 2 , the ink repellency of the printing plate tends to decrease, and
If it is larger than g / m 2 , it is disadvantageous from an economic point of view.

【0095】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版の表面を保護するなどの目的で、インキ
受容性感熱層の表面にプレ−ンまたは凹凸処理した薄い
保護フィルムをラミネ−トしたり、予めインキ受容性感
熱層が形成されたフィルムをシリコーンゴム層上にラミ
ネートすることも可能である。
For the purpose of protecting the surface of the waterless planographic printing plate precursor constructed as described above, the surface of the ink-receptive heat-sensitive layer is provided with a thin protective film having a plane or an uneven treatment. Alternatively, it is also possible to laminate a film having an ink-receptive heat-sensitive layer formed thereon in advance on the silicone rubber layer.

【0096】また、特開平5―323588号公報に記
載の現像溶媒に溶解するような、ポリマーの塗膜を形成
することも可能である。
It is also possible to form a polymer coating film which is soluble in the developing solvent described in JP-A-5-323588.

【0097】特に、保護フィルムをラミネートした場合
には、保護フィルム上からレーザ露光を行い、その後保
護フィルムを剥離することによって印刷版上にパターン
を形成する、いわゆる剥離現像を行うことによって印刷
版を作成することも可能である。
In particular, when a protective film is laminated, laser exposure is performed on the protective film, and then the protective film is peeled to form a pattern on the printing plate. It is also possible to create.

【0098】次に、本発明における水なし平版印刷版原
版の製造方法について説明する。
Next, the method for producing the waterless planographic printing plate precursor according to the invention will be described.

【0099】まず、基板上にリバースロールコーター、
エアーナイフコーター、メーヤバーコーターなどの通常
のコーターあるいはホエラーのような回転塗布装置を用
い、必要に応じてプライマー層組成物を塗布し100〜
300℃で数分間硬化した後、シリコーンゴム組成物を
塗布し50〜150℃の温度で数分間熱処理してゴム硬
化させてシリコーンゴム層を形成する。
First, a reverse roll coater on the substrate,
An ordinary coater such as an air knife coater or a Mayer bar coater, or a spin coater such as a whaler is used to coat the primer layer composition as necessary.
After curing at 300 ° C. for several minutes, the silicone rubber composition is applied and heat-treated at a temperature of 50 to 150 ° C. for several minutes to cure the rubber to form a silicone rubber layer.

【0100】その上に、インキ受容性感熱層を蒸着また
はスパッタリングによって形成し、必要に応じて保護フ
ィルムをラミネートするかあるいは、保護層を形成す
る。
An ink-receptive heat-sensitive layer is formed thereon by vapor deposition or sputtering, and a protective film is laminated or a protective layer is formed, if necessary.

【0101】この時、インキ受容性感熱層が予め形成さ
れたフィルムをシリコーンゴム層上にラミネートするこ
とも可能である。
At this time, it is also possible to laminate a film having an ink-receptive heat-sensitive layer previously formed thereon on the silicone rubber layer.

【0102】また、インキ受容性感熱層とシリコーンゴ
ム層との接着性を向上させる目的で、上述のインキ受容
性感熱層上に予めシランカップリング剤を塗布してお
き、これをシリコーンゴムが塗布された基板上にラミネ
ートすることも有効である。
Further, for the purpose of improving the adhesiveness between the ink-receptive heat-sensitive layer and the silicone rubber layer, a silane coupling agent is applied in advance on the above-mentioned ink-receptive heat-sensitive layer, which is then coated with silicone rubber. It is also effective to laminate on the formed substrate.

【0103】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してからまたは、保
護フィルム上からレーザ光で画像状に露光する。
The direct drawing type waterless planographic printing plate precursor thus obtained is imagewise exposed with a laser beam after the protective film is peeled off or from the protective film.

【0104】露光には通常レーザ光が使用されるが、こ
の時の光源としては、発振波長が300nm〜1500
nmの範囲にあるArイオンレーザ、Krイオンレー
ザ、He―Neレーザ、He―Cdレーザ、ルビーレー
ザ、ガラスレーザ、半導体レーザ、YAGレーザ、チタ
ンサファイアレーザ、色素レーザ、窒素レーザ、金属蒸
気レーザ等の種々のレーザが使用できる。なかでも、半
導体レーザは近年の技術的進歩により、小型化し、経済
的にも他のレーザ光源よりも有利であるので、好まし
い。
Laser light is usually used for exposure, and the light source at this time has an oscillation wavelength of 300 nm to 1500.
such as Ar ion laser, Kr ion laser, He-Ne laser, He-Cd laser, ruby laser, glass laser, semiconductor laser, YAG laser, titanium sapphire laser, dye laser, nitrogen laser, metal vapor laser in the range of nm. Various lasers can be used. Among them, the semiconductor laser is preferable because it is miniaturized due to the recent technical progress and is economically advantageous over other laser light sources.

【0105】上記の方法で露光された、直描型水なし平
版印刷版は必要に応じて、剥離現像、または通常の溶剤
現像処理される。
The direct drawing type waterless planographic printing plate exposed by the above-mentioned method is subjected to peeling development or usual solvent development treatment, if necessary.

【0106】本発明で用いられる現像液としては、例え
ば水や、水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族
炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーE,
G,H」(ESSO製イソパラフィン系炭化水素の商品
名)、ガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トル
エン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化水素類(トリク
レンなど)などの少なくとも1種類以上の混合溶媒に下
記の極性溶媒を少なくとも1種類添加したものが好まし
く用いられる。
The developing solution used in the present invention includes, for example, water, one obtained by adding the polar solvent shown below to water, and aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, "Isopar E,
G, H "(trade names of isoparaffinic hydrocarbons manufactured by ESSO), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), and halogenated hydrocarbons (trichlene, etc.). A mixture obtained by adding at least one of the following polar solvents to a mixed solvent is preferably used.

【0107】アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングルコール、ジプ
ロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、1,3―ブチレングリコール、
2,3―ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、
2―エチル―1,3―ヘキサンジオールなど) エーテル類(エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ―2
―エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど) エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテートなど) カルボン酸(2―エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、2―エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など) また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加
することも自由に行われる。また、さらにアルカリ剤、
例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコールア
ミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを
添加することもできる。
Alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol,
Polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol,
2,3-butylene glycol, hexylene glycol,
2-ethyl-1,3-hexanediol, etc.) Ethers (ethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-2
-Ethylhexyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc. Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) , Diacetone alcohol, etc. Esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.) Acid (2-ethylbutyric acid, Prong acid, caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, capric acid, oleic acid,
In addition, a known surfactant can be freely added to the above-mentioned developer composition. In addition, further alkaline agent,
For example, sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, diglycolamine, monoglycolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added.

【0108】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。
When developing, these developing solutions may be impregnated into a non-woven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge or the like, and the plate surface may be wiped off to develop.

【0109】また、現像には特開昭63―163357
に記載されているような自動現像機を用い、上記の現像
液で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしなが
ら回転ブラシで版面を擦ることによって、好適に現像す
ることができる。
For development, Japanese Patent Laid-Open No. 63-163357.
It is possible to suitably develop by pretreatment of the plate surface with the above-mentioned developing solution using an automatic developing machine as described in 1) and then rubbing the plate surface with a rotating brush while showering with tap water or the like.

【0110】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。
Development can also be performed by spraying hot water or steam onto the plate surface instead of the above developing solution.

【0111】[0111]

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto.

【0112】実施例1〜6 厚さ0.24mmの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなるプライマー液を塗布し、230℃、2分間乾燥
し、4g/m2 のプライマ−層を設けた。
Examples 1 to 6 A primer solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.24 mm and dried at 230 ° C. for 2 minutes to provide a 4 g / m 2 primer layer. .

【0113】 (a)カンコ−ト90T−25−3094(関西ペイント(株)製、エポキシフ ェノ−ル樹脂) 15重量部 (b)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸 0.1重量部 (c)ジメチルホルムアミド 85重量部 次に、このプライマー層上に、下記の組成のシリコーン
ゴム溶液を塗布し、120℃、2分間乾燥し、厚さ5g
/m2 のシリコ−ンゴム層を設けた。
(A) Cancoat 90T-25-3094 (Epoxy phenolic resin manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) 15 parts by weight (b) Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonic acid 0.1 part by weight (c) 85 parts by weight of dimethylformamide Next, a silicone rubber solution having the following composition was applied on this primer layer and dried at 120 ° C. for 2 minutes to give a thickness of 5 g.
/ M 2 of silicone rubber layer was provided.

【0114】 (a)ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (d)3―アミノプロピルトリエトキシシラン 0.2重量部 (e)“アイソパ−G”(エクソン化学(株)製) 1200重量部 次いで、このシリコーン層上に次の組成を有するシラン
カップリング剤溶液を塗布し、120℃ 2分間 露点
30℃の条件でキュアーして、厚さ0.01g/m2
シランカップリング剤層を設けた。
(A) Polydimethylsiloxane (molecular weight about 25,000, terminal hydroxyl group) 100 parts by weight (b) Ethyltriacetoxysilane 12 parts by weight (c) Dibutyltin diacetate 0.1 parts by weight (d) 3-Amino Propyltriethoxysilane 0.2 parts by weight (e) "Isopa-G" (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 1200 parts by weight Then, a silane coupling agent solution having the following composition was applied onto the silicone layer, and 120 It was cured at a dew point of 30 ° C. for 2 minutes to form a silane coupling agent layer having a thickness of 0.01 g / m 2 .

【0115】 (a)3―アミノプロピルトリメトキシシラン 0.001重量部 (b)トルエン 100重量部 次に、厚さ80μmのポリプロピレンフィルム“トレフ
ァン”(東レ(株)製)上に、次の組成を有するインキ
受容性感熱層組成物を真空蒸着によって形成し、インキ
受容性感熱層を設けた。
(A) 3-Aminopropyltrimethoxysilane 0.001 parts by weight (b) Toluene 100 parts by weight Next, the following was placed on a polypropylene film “Trephan” (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 80 μm. An ink-receptive heat-sensitive layer composition having a composition was formed by vacuum vapor deposition to provide an ink-receptive heat-sensitive layer.

【0116】(a)金属(表1) このフィルムと、シランカップリング剤まで塗布された
基板の、それぞれの塗布面が接するように、カレンダー
ローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平版印刷
版原版を得た。
(A) Metal (Table 1) This film and a substrate coated with a silane coupling agent are laminated using a calendar roller so that their coated surfaces are in contact with each other, and direct drawing type waterless planographic printing I got the original edition.

【0117】その後、この印刷版原版の“トレファン”
を剥離して金属層をシリコーン層上に転写し、X―Yテ
ーブルに装着した半導体レーザ(SLD―304XT、
出力1W、波長809nm、ソニー(株)製)を用い
て、ビーム直径20μm、露光時間10μsでパルス露
光を行った。この時、レーザ出力はLDパルス変調駆動
装置で任意に変化させ、版面上でのレーザパワーを測定
した。
Then, the "trephane" of this printing plate precursor
Is peeled off, the metal layer is transferred onto the silicone layer, and the semiconductor laser (SLD-304XT,
Pulse exposure was performed using an output of 1 W, a wavelength of 809 nm, manufactured by Sony Corporation, with a beam diameter of 20 μm and an exposure time of 10 μs. At this time, the laser output was arbitrarily changed by an LD pulse modulation driving device, and the laser power on the plate was measured.

【0118】この印刷版の画像再現性を50倍のルーペ
で評価し、ドットが形成される最小レーザパワーを決定
し、その結果から印刷版の感度を測定した。
The image reproducibility of this printing plate was evaluated with a magnifying power of 50 times, the minimum laser power at which dots were formed was determined, and the sensitivity of the printing plate was measured from the result.

【0119】また、得られた印刷版について、オフセッ
ト印刷機(小森スプリント4色機)に取り付け、大日本
インキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、
紅、黄インキを用いて、上質紙に印刷を行い、印刷物に
汚れが見られる時の、版面の温度を地汚れ温度として評
価した。
The obtained printing plate was attached to an offset printing machine (Komori Sprint 4-color machine), and was manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. "Dry Ocolor" ink, indigo,
Printing was carried out on high-quality paper using red and yellow inks, and the temperature of the plate surface when stains were observed on the printed matter was evaluated as the background stain temperature.

【0120】実施例7 実施例1において、プライマ層とシリコーンゴム層の間
に次の組成を有するシランカップリング剤層溶液を塗布
し、120℃で2分間、露点30℃の条件でキュアーし
て、厚さ0.01g/m2 のシランカップリング剤層を
設けた以外は全て同一にして、直描型水なし平版印刷版
原版を作製し、同様に評価した。
Example 7 In Example 1, a silane coupling agent layer solution having the following composition was applied between the primer layer and the silicone rubber layer, and cured at 120 ° C. for 2 minutes at a dew point of 30 ° C. A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner except that a silane coupling agent layer having a thickness of 0.01 g / m 2 was provided, and evaluated in the same manner.

【0121】 (a)3―メルカプトプロピルトリメトキシシラン 0.001重量部 (b)トルエン 100重量部 比較例1,2 実施例1及び2において、同一組成で基板上にプライマ
ー層、インキ受容性感熱層、シランカップリング剤層、
シリコーンゴム層をこの順に積層し、あとは全て同様に
して評価した。ただし、シリコーンゴム層の膜厚のみ、
2g/m2 とした。
(A) 3-mercaptopropyltrimethoxysilane 0.001 parts by weight (b) Toluene 100 parts by weight Comparative Examples 1 and 2 In Examples 1 and 2, a primer layer, an ink-receptive heat-sensitive material having the same composition on a substrate. Layer, silane coupling agent layer,
Silicone rubber layers were laminated in this order, and the rest was evaluated in the same manner. However, only the thickness of the silicone rubber layer,
It was 2 g / m 2 .

【0122】表1において、本発明の印刷版は比較例の
ものよりも、地汚れ性、及び感度が向上していることが
判る。
In Table 1, it can be seen that the printing plate of the present invention has improved background stain resistance and sensitivity as compared with the comparative example.

【0123】[0123]

【表1】 [Table 1]

【0124】[0124]

【発明の効果】本発明の直描型水なし平版印刷版は、従
来の直描型水なし平版印刷版よりも、地汚れ性および感
度が向上した。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The direct drawing type waterless planographic printing plate of the present invention has improved scumming resistance and sensitivity as compared with the conventional direct drawing type waterless planographic printing plate.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板、該基板上に設けたシリコーンゴム
層、および該シリコーンゴム層上に設けた、インキ受容
性感熱層からなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、インキ受容性感熱層が金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。
1. A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor comprising a substrate, a silicone rubber layer provided on the substrate, and an ink receiving heat sensitive layer provided on the silicone rubber layer. Direct drawing type waterless planographic printing plate precursor characterized in that is a thin metal film.
【請求項2】請求項1において、インキ受容性感熱層が
融点930(K)以下の金属の薄膜であることを特徴と
する直描型水なし平版印刷版原版。
2. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the ink-receptive heat-sensitive layer is a metal thin film having a melting point of 930 (K) or less.
【請求項3】請求項1において金属がテルル、スズ、ア
ンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレ
ン、タリウム、亜鉛、ビスマスのいずれかであることを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
3. A direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the metal is any one of tellurium, tin, antimony, gallium, magnesium, polonium, selenium, thallium, zinc and bismuth.
【請求項4】請求項1において金属が、テルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのいずれ
か2種類の組み合わせからなる、アロイであることを特
徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
4. The metal according to claim 1, wherein the metal is tellurium, tin,
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor characterized by being an alloy which is a combination of any two kinds of antimony, gallium, bismuth and zinc.
【請求項5】請求項1において金属が、テルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのいずれ
か3種類の組み合わせからなる、アロイであることを特
徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
5. The metal according to claim 1, wherein the metal is tellurium, tin,
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor characterized by being an alloy made of a combination of any three kinds of antimony, gallium, bismuth and zinc.
【請求項6】請求項1においてインキ受容性感熱層の膜
厚が、50〜10000オングストロームであることを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
6. A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the thickness of the ink-receptive heat-sensitive layer is 50 to 10,000 angstroms.
【請求項7】請求項1においてインキ受容性感熱層の光
学濃度が0.6〜2.5であることを特徴とする直描型
水なし平版印刷版原版。
7. A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the ink-receptive heat-sensitive layer has an optical density of 0.6 to 2.5.
【請求項8】請求項1においてシリコーンゴム層とイン
キ受容性感熱層の間に、シランカップリング剤層を設け
たことを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版。
8. A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor comprising a silane coupling agent layer provided between the silicone rubber layer and the ink-receptive heat-sensitive layer according to claim 1.
【請求項9】請求項1において基板とシリコーンゴム層
の間に、シランカップリング剤層を設けたことを特徴と
する、直描型水なし平版印刷版原版。
9. A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor comprising a silane coupling agent layer provided between the substrate and the silicone rubber layer in claim 1.
【請求項10】請求項1においてシリコーンゴム層が、
シランカップリング剤を含有することを特徴とする、直
描型水なし平版印刷版原版。
10. The silicone rubber layer according to claim 1,
A waterless planographic printing plate precursor for direct drawing, characterized by containing a silane coupling agent.
【請求項11】片側にシリコーンゴム層表面を有する基
板と、片側にインキ受容性感熱層を有するフィルムを、
シリコーンゴム層面側とインキ受容性感熱層面側が接す
るようにラミネートすることを特徴とする、直描型水な
し平版印刷版原版の製造方法。
11. A substrate having a silicone rubber layer surface on one side and a film having an ink-receptive heat-sensitive layer on one side,
A method for producing a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor, which comprises laminating the silicone rubber layer surface side and the ink receptive heat sensitive layer surface side in contact with each other.
【請求項12】請求項11においてフィルムの、インキ
受容性感熱層上に、予めシランカップリング剤が塗布さ
れていることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原
版の製造方法。
12. A method for producing a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in claim 11, wherein a silane coupling agent is applied in advance on the ink-receptive heat-sensitive layer of the film.
【請求項13】請求項1〜10のいずれかに記載の直描
型水なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像してな
る、水なし平版印刷版。
13. A waterless planographic printing plate obtained by selectively exposing and developing the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10.
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