JPH11121974A - Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same - Google Patents

Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same

Info

Publication number
JPH11121974A
JPH11121974A JP9297946A JP29794697A JPH11121974A JP H11121974 A JPH11121974 A JP H11121974A JP 9297946 A JP9297946 A JP 9297946A JP 29794697 A JP29794697 A JP 29794697A JP H11121974 A JPH11121974 A JP H11121974A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mesh
electromagnetic wave
wave shielding
display
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9297946A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Nagasaki
修 長崎
Hideo Abe
秀男 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP9297946A priority Critical patent/JPH11121974A/en
Publication of JPH11121974A publication Critical patent/JPH11121974A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding plate provided with meshes composed of metallic thin films, having superior see-through property and electromagnetic wave shielding property. SOLUTION: An electromagnetic wave shielding plate 100, which is used in a state such that the plate 10 is placed on the front face of a display and has an electromagnetic wave shielding property, is formed by laminating meshes composed of metallic thin films 117 upon another on one surface of a transparent substrate 130. Each mesh is composed of a plurality of lines 150 arranged in parallel with each other in the X-direction at prescribed pitch Py intervals and with a plurality of segments 170 which respectively connect adjacent lines 150 to each other and cross the lines 150 at a prescribed angle θ, and the segments 170 between each line 150 is provided at prescribed pitch Px intervals in the X-direction and used mesh-shaped prescribed regions which are randomly arranged in the X-direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属薄膜メッシュ
を用いた電磁波遮蔽板と、該金属薄膜メッシュを形成す
るためのパターン版に関する。更に詳しくは、ディスプ
レイ用電子管等の電磁波発生源から発生する電磁波を遮
蔽するための金属薄膜メッシュを用いた電磁波遮蔽板
と、該金属薄膜メッシュを作成するためのメッシュ状の
パターン版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding plate using a metal thin film mesh, and a pattern plate for forming the metal thin film mesh. More specifically, the present invention relates to an electromagnetic wave shielding plate using a metal thin film mesh for shielding an electromagnetic wave generated from an electromagnetic wave generation source such as an electron tube for a display, and a mesh pattern plate for producing the metal thin film mesh.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、直接人が接近して利用する電
磁波を発生する電子装置、例えばプラズマディスプレイ
等のディスプレイ用電子管は、人体への電磁波による弊
害を考慮して電磁波放出の強さを規格内に抑えることが
要求されている。更に、プラズマディスプレイパネル
(以下PDPとも言う)においては、発光はプラズマ放
電を利用しているので、周波数帯域が30MHz〜13
0MHzの不要な電磁波を外部に漏洩するため、他の機
器(例えば情報処理装置等)へ弊害を与えないよう電磁
波を極力抑制することが要求されている。これら要求に
対応し、一般には、電磁波を発生する電子装置から装置
外部へ流出する電磁波を除去ないし減衰させるために、
電磁波を発生する電子装置などの外周部を適当な導電性
部材で覆う電磁波シールドが採られる。プラズマディス
プレイパネル等のディスプレイ用パネルでは、良好な透
視性のある電磁波遮蔽板をディスプレイ前面に設けるの
が普通である。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic device for generating an electromagnetic wave used directly by a person in close proximity, for example, an electronic tube for a display such as a plasma display, has a standardized intensity of electromagnetic wave emission in consideration of the adverse effect of the electromagnetic wave on the human body. It is required to keep within. Further, in a plasma display panel (hereinafter also referred to as a PDP), light emission uses plasma discharge, so that the frequency band is 30 MHz to 13 MHz.
In order to leak unnecessary electromagnetic waves of 0 MHz to the outside, it is required to suppress the electromagnetic waves as much as possible so as not to adversely affect other devices (for example, information processing devices and the like). In response to these demands, generally, in order to remove or attenuate electromagnetic waves flowing out of the device from an electronic device that generates electromagnetic waves,
An electromagnetic wave shield that covers an outer peripheral portion of an electronic device or the like that generates an electromagnetic wave with a suitable conductive member is employed. In a display panel such as a plasma display panel, an electromagnetic wave shielding plate having good transparency is generally provided on the front surface of the display.

【0003】電磁波遮蔽板は、基本構造自体は比較的簡
単なものであり、透明なガラスやプラスチック基板面
に、例えばインジュウムー錫酸化物膜(ITO膜)等の
透明導電性膜を蒸着やスパッタリング法などで薄膜形成
したもの、透明なガラスやプラスチック基板面に、例え
ば金網等の適当な金属スクリーンを貼着したもの、透明
なガラスやプラスチック基板面に、無電解メッキや蒸着
などにより全面に金属薄膜を形成し、該金属薄膜をフォ
トリソグラフィー法等により加工して微細な金属薄膜か
らなるメッシュを設けたもの等が知られている。
The basic structure of the electromagnetic wave shielding plate is relatively simple. For example, a transparent conductive film such as an indium-tin oxide film (ITO film) is formed on a transparent glass or plastic substrate by vapor deposition or sputtering. A transparent glass or plastic substrate on which a suitable metal screen such as a wire mesh is adhered, or a transparent glass or plastic substrate with a metal thin film on the entire surface by electroless plating or evaporation. Is formed, and the metal thin film is processed by a photolithography method or the like to provide a mesh made of a fine metal thin film.

【0004】透明基板上にITO膜を形成した電磁波遮
蔽板は、透明性の点で優れており、一般的に、光の透過
率が90%前後となり、且つ基板全面に均一な膜形成が
可能なため、ディスプレイ等に用いられた場合には、電
磁波遮蔽板に起因するモアレ等の発生も懸念することな
い。しかし、透明基板上にITO膜を形成した電磁波遮
蔽板においては、ITO膜を形成するのに、蒸着やスパ
ッタリング、技術を用いるので、製造装置が高価であ
り、また、生産性も一般的に劣ることから、製品として
の電磁波遮蔽板自体の価格が高価になるという間題があ
る。更に、透明基板上にITO膜を形成した電磁波遮蔽
板においては、金属薄膜からなるメッシュを形成した電
磁波遮蔽板と比較して、導電性が1桁以上劣ることか
ら、電磁波放出が比的に弱い対象物に対して有効である
が、強い対象物に用いた場合には、その遮蔽機能が不十
分となり、漏洩電磁波が放出されて、その規格値を満足
させることかできない場合があるという問題がある。こ
の透明基板上にITO膜を形成した電磁波遮蔽板におい
ては、導電性を高めるために、ITO膜の膜厚を厚くす
ればある程度の導電性は向上するが、この場合、透明性
が著しく低下するという問題が発生する。加えて、更に
厚くすることにより、製造価格もより高価になるという
問題がある。
An electromagnetic wave shielding plate in which an ITO film is formed on a transparent substrate is excellent in transparency, generally has a light transmittance of about 90%, and can form a uniform film on the entire surface of the substrate. Therefore, when used for a display or the like, there is no concern about occurrence of moire or the like due to the electromagnetic wave shielding plate. However, in an electromagnetic wave shielding plate in which an ITO film is formed on a transparent substrate, since a vapor deposition, a sputtering, and a technique are used to form the ITO film, a manufacturing apparatus is expensive, and productivity is generally poor. Therefore, there is a problem that the price of the electromagnetic wave shielding plate itself as a product becomes high. Further, the electromagnetic wave shielding plate having an ITO film formed on a transparent substrate has a conductivity that is at least one order of magnitude lower than that of an electromagnetic wave shielding plate having a mesh made of a metal thin film, and therefore, the electromagnetic wave emission is relatively weak. Although effective for target objects, when used for strong objects, there is a problem that the shielding function becomes insufficient, leaked electromagnetic waves are emitted, and it may not be possible to satisfy the standard value. is there. In the electromagnetic wave shielding plate in which the ITO film is formed on the transparent substrate, the conductivity is improved to some extent by increasing the thickness of the ITO film in order to increase the conductivity, but in this case, the transparency is significantly reduced. The problem occurs. In addition, there is a problem that the manufacturing cost becomes higher due to the further increase in thickness.

【0005】また、透明なガラスやプラスチック基板面
に金属スクリーンを貼った電磁波遮蔽板を用いる場合、
あるいは、金網等の適当な金属スクリーンを直接ディス
プレイ面に貼着する場合、簡単であり、かつ、コストも
安価となるが、有効なメッシュ(100−200メッシ
ュ)の金属スクリーンの透過率が、50%以下であり、
極めて暗いディスブレイとなってしまうという重大な欠
点を持っている。
When an electromagnetic wave shielding plate in which a metal screen is attached to a transparent glass or plastic substrate surface is used,
Alternatively, when an appropriate metal screen such as a wire mesh is directly adhered to the display surface, it is simple and the cost is low, but the transmittance of an effective mesh (100-200 mesh) metal screen is 50%. % Or less,
It has the serious drawback of extremely dark displays.

【0006】また、透明なガラスやプラスチック基板面
に金属薄膜からなるメッシュを形成したものは、フオト
リソグラフィー法を用いたエッチング加工により外形加
工されるため、微細加工が可能で高開口率(高透過率)
メッシュを作成することができ、且つ金属薄膜にてメッ
シュを形成しているので、導電性が上記のITO膜等と
比して非常に高く、強力な電磁波放出を遮蔽することが
できるという利点を有する。しかし、その製造工程は煩
雑かつ複雑で、その生産性は低く、生産コストが高価に
なるという間題点を避けることができない。
[0006] In addition, since a mesh formed of a metal thin film is formed on the surface of a transparent glass or plastic substrate, the outer shape is processed by etching using photolithography, so that fine processing is possible and a high aperture ratio (high transmittance) is obtained. rate)
Since the mesh can be formed and the mesh is formed by a metal thin film, the conductivity is very high as compared with the above-mentioned ITO film and the like, and an advantage that strong electromagnetic wave emission can be shielded. Have. However, the manufacturing process is complicated and complicated, the productivity is low, and the production cost is inevitable.

【0007】このように、各電磁波遮蔽板にはそれぞれ
得失があり、用途に応じて選択して用いられている。中
でも、透明なガラスやプラスチック基板面に金属薄膜か
らなるメッシュを形成した電磁波遮蔽板は、電磁波シー
ルド性、光透過性の面では良好で、近年プラズマディス
プレイパネル等のディスプレイ用パネルの前面に置い
て、電磁波シールド用として用いられるようになってき
た。しかし、この金属薄膜メッシュを設けた電磁遮蔽板
をプラズマディスプレイパネル(PDP)の前面に置き
用いた場合、金属薄膜メッシュと、ディスプレイの走査
線との相互作用により、観察者にはモアレが目立つとい
う問題があった。尚、直交マトリックス構造で画像表示
する表示体の前面に設置した場合に発生するモアレは、
一般に表示走査ラインと15度、30度、または22.
5度等にメッシュが交叉するときに最小とあるが、それ
でも観察者には不快感を与える。これは最小モアレとは
言え、一定の間隔で規則正しく配列表示されていること
によるものである。
[0007] As described above, each electromagnetic wave shielding plate has advantages and disadvantages, and is selected and used according to the application. Among them, an electromagnetic wave shielding plate in which a mesh made of a metal thin film is formed on the surface of a transparent glass or plastic substrate is good in terms of electromagnetic wave shielding and light transmission, and has recently been placed on the front of a display panel such as a plasma display panel. , And has been used for electromagnetic wave shielding. However, when the electromagnetic shielding plate provided with the metal thin film mesh is used in front of a plasma display panel (PDP), moire is noticeable to an observer due to the interaction between the metal thin film mesh and the scanning lines of the display. There was a problem. In addition, the moiré generated when installed in front of the display body displaying an image in an orthogonal matrix structure is as follows.
In general, display scan lines and 15 degrees, 30 degrees, or 22.
There is a minimum when the mesh crosses at 5 degrees or the like, but it still gives the viewer discomfort. Although this is the minimum moiré, it is due to the fact that the images are displayed regularly at regular intervals.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、金属薄膜メッシュを設けた電磁遮蔽板をPDP等の
ディスプレイの前面に置いて用いても、金属薄膜メッシ
ュとディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの
発生がない、あるいはモアレが目立たないような電磁遮
蔽板が求められていた。本発明はこれに対応するもの
で、金属薄膜メッシュを設けた電磁遮蔽板であって、デ
ィスプレイの前面に置いて用いても、金属薄膜メッシュ
とディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの発
生がない、あるいはモアレが目立たないように金属メッ
シュの形状を工夫した電磁遮蔽板を提供しようとするも
のである。同時に、そのような金属薄膜メッシュ形状を
作製するためのパターン版を提供しようとするものであ
る。
Under such circumstances, even if an electromagnetic shielding plate provided with a metal thin-film mesh is used in front of a display such as a PDP or the like, and the electromagnetic shielding plate is used in front of a display such as a PDP, the distance between the metal thin-film mesh and the scanning lines of the display is reduced. There has been a demand for an electromagnetic shielding plate that does not generate moiré due to interaction or makes moiré less noticeable. The present invention corresponds to this, and is an electromagnetic shielding plate provided with a metal thin film mesh, and even when used on the front of the display, generation of moire due to the interaction between the metal thin film mesh and the scanning line of the display. It is an object of the present invention to provide an electromagnetic shielding plate in which the shape of a metal mesh is devised so as not to be noticeable or moire is inconspicuous. At the same time, it is intended to provide a pattern plate for producing such a metal thin film mesh shape.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波遮蔽板
は、ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基
板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波
遮蔽性を有する電磁波遮蔽板であって、前記メッシュの
形状は、所定のピッチPy間隔で互いに平行にX方向に
沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラインの各
隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する
複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定のX方
向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、そのX方向位置が
ランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いたもので
あることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、ディスプレイの前面に置いて用いられた際にディス
プレイの画面領域を囲むように、メッシュ部の外周辺に
メッシュと同じ金属薄膜からなる接地用枠部を設けたこ
とを特徴とするものである。そしてまた、上記におい
て、ディスプレイの前面に置いて用いられた際に、ディ
スプレイの水平走査線とメッシュのライン方向とのなす
角度が15度〜45度の範囲であることを特徴とするも
のである。尚、ここで言う透明な基板とは、ガラス、ポ
リアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂からなる剛性
のある基板に加えプラスチックフィルムを含むものであ
る。
The electromagnetic wave shielding plate of the present invention is an electromagnetic wave shielding plate which is used on the front of a display and has an electromagnetic wave shielding property in which a mesh made of a metal thin film is laminated on one surface of a transparent substrate. The shape of the mesh connects a plurality of lines provided along the X direction in parallel with each other at a predetermined pitch Py and each adjacent line of the plurality of lines, and intersects the line at a predetermined angle θ. It is composed of a plurality of line segments, and the line segments between the lines are provided at a predetermined X-direction pitch Px and use a predetermined mesh-shaped region whose X-direction position is random. It is assumed that. In the above, a grounding frame portion made of the same metal thin film as the mesh is provided around the periphery of the mesh portion so as to surround the screen area of the display when used on the front surface of the display. Things. Further, in the above, when used in front of the display, an angle between a horizontal scanning line of the display and a line direction of the mesh is in a range of 15 degrees to 45 degrees. . The transparent substrate referred to here includes a plastic film in addition to a rigid substrate made of glass, polyacrylic resin, or polycarbonate resin.

【0010】本発明のメッシュパターン版は、ディスプ
レイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金
属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性を有す
る電磁波遮蔽板における該メッシュを形成するためのパ
ターン版であって、少なくとも1つのパターン版の中に
作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、
パターン形状は、所定のピッチPy間隔で互いに平行に
X方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のラ
インの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで
交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所
定のX方向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、そのX方
向位置がランダムであるメッシュ形状の所定領域を用い
たものであることを特徴とするものである。尚、前述の
ように、ここで言う透明な基板とは、ガラス、ポリアク
リル系樹脂、ポリカーボネート樹脂からなる剛性のある
基板に加えプラスチックフィルムを含むものである。
[0010] The mesh pattern plate of the present invention is used for forming the mesh on an electromagnetic wave shielding plate having an electromagnetic wave shielding property in which a mesh made of a metal thin film is laminated on one surface of a transparent substrate and used on the front surface of a display. A pattern version, which has all the patterns of the mesh area to be created in at least one pattern version,
The pattern shape is formed by connecting a plurality of lines provided along the X direction in parallel with each other at a predetermined pitch Py and each adjacent line of the plurality of lines, and a plurality of line segments crossing the line at a predetermined angle θ. And a line segment between each line is provided at a predetermined pitch Px in the X direction, and a predetermined area of a mesh shape whose X direction position is random is used. is there. As described above, the transparent substrate referred to here includes a plastic film in addition to a rigid substrate made of glass, polyacrylic resin, or polycarbonate resin.

【0011】[0011]

【作用】本発明の電磁波遮蔽板は、このような構成にす
ることにより、PDP等のディスプレイの前面に置いて
用いても、金属薄膜メッシュとディスプレイの走査線と
の相互作用によるモアレの発生がない、あるいはモアレ
が目立たない金属薄膜メッシュを設けた電磁遮蔽板の提
供を可能としている。これにより、PDP等ディスプレ
イ用の良好な透視性と電磁波シールド性を兼ね備えた電
磁波遮蔽板の提供を可能としている。具体的には、メッ
シュの形状は、所定のピッチPy間隔で互いに平行にX
方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のライ
ンの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交
叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定
のX方向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、そのX方向
位置がランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いた
ものであることにより、これを達成している。即ち、各
ライン間の線分のX方向位置をランダムにすることによ
り、メッシュ配列の規則性をなくして、金属薄膜メッシ
ュとディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの
発生がない、あるいはモアレが目立たないようにしてい
る。更に、ディスプレイの前面に置いて用いられた際
に、ディスプレイの水平走査線とメッシュのライン方向
とのなす角度を15度〜45度の範囲とすることによ
り、一層有効にしている。また、ディスプレイの前面に
置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むよ
うに、メッシュ部の外周辺にメッシュと同じ金属薄膜か
らなる接地用枠部を設けたことにより、実用的な形態と
している。
According to the electromagnetic wave shielding plate of the present invention having such a structure, even when the electromagnetic wave shielding plate is used in front of a display such as a PDP, moire is generated due to the interaction between the metal thin film mesh and the scanning lines of the display. It is possible to provide an electromagnetic shielding plate provided with a metal thin film mesh having no or no noticeable moiré. This makes it possible to provide an electromagnetic wave shielding plate having both good transparency and electromagnetic wave shielding properties for a display such as a PDP. Specifically, the mesh shape is X parallel to each other at a predetermined pitch Py interval.
A plurality of lines provided along the direction, and a plurality of line segments connecting the adjacent lines of the plurality of lines and intersecting the lines at a predetermined angle θ. This is achieved by using a predetermined mesh-shaped region provided at intervals of the direction pitch Px and having a random position in the X direction in the X direction. That is, by randomizing the X direction position of the line segment between the lines, the regularity of the mesh arrangement is lost, and no moire is generated due to the interaction between the metal thin film mesh and the scanning line of the display, or the moire is reduced. They are not noticeable. Further, when used on the front surface of the display, the angle between the horizontal scanning line of the display and the line direction of the mesh is set in the range of 15 to 45 degrees, which is more effective. In addition, a grounding frame made of the same metal thin film as the mesh is provided around the outside of the mesh so as to surround the screen area of the display when used on the front of the display. I have.

【0012】本発明のメッシュパターン版は、このよう
な構成にすることにより、本発明の電磁波遮蔽板に用い
られる金属メッシュのフオトリソグラフィー法による微
細加工を可能とするものであり、また、メッシュパター
ン版自体を比較的簡単に作成することを可能としてい
る。具体的には、少なくとも1つのパターン版の中に作
成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているもので、パ
ターン形状は、所定のピッチPy間隔で互いに平行にX
方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数のライ
ンの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角θで交
叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分は所定
のX方向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、そのX方向
位置がランダムであるメッシュ形状の所定領域を用いた
ものであることにより、これを達成している。
The mesh pattern plate of the present invention, by adopting such a constitution, enables fine processing of a metal mesh used for the electromagnetic wave shielding plate of the present invention by photolithography. This makes it possible to create the plate itself relatively easily. Specifically, it has all the patterns of the mesh area to be created in at least one pattern plate, and the pattern shape is X parallel to each other at a predetermined pitch Py interval.
A plurality of lines provided along the direction, and a plurality of line segments connecting the adjacent lines of the plurality of lines and intersecting the lines at a predetermined angle θ. This is achieved by using a predetermined mesh-shaped region provided at intervals of the direction pitch Px and having a random position in the X direction in the X direction.

【0013】[0013]

【実施の形態】本発明の実施の形態を図に基づいて説明
する。図1は、本発明の電磁波遮蔽板の実施の形態の1
例で、図2(a)、図2(b)はそれぞれ本発明のメッ
シュパターン版の1例で、図3はメッシュパターンのパ
ターン形状を説明するための一部拡大図で、図4はメッ
シュパターン版の製造方法を説明するための図である。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an electromagnetic wave shielding plate according to a first embodiment of the present invention.
2 (a) and 2 (b) are examples of a mesh pattern plate of the present invention. FIG. 3 is a partially enlarged view for explaining the pattern shape of the mesh pattern, and FIG. It is a figure for explaining a manufacturing method of a pattern version.

【0014】先ず本発明の電磁波遮蔽板の実施の形態の
1例を図1に基づいて説明する。図1に示す例は、PD
P等のディスプレイの前面に置き用いられる電磁波シー
ルド用電磁波遮蔽板で、透明基板の一面上に接地用枠部
とメッシュ部とを形成したものである。図1中、100
は電磁波遮蔽板、110はメッシュ部、115は接地用
枠部、117は金属薄膜、130は透明基板、150は
ライン、170は線分である。図1(a)は平面図、図
1(b)は図1(a)のA1−A2における断面図、図
1(c)はメッシュ部の一部の拡大図である。尚、図1
(a)と図1(c)には、位置関係、メッシュ形状を明
確にするための、X方向、Y方向を表示してある。図1
(b)にその断面を示すように、メッシュ部110、接
地用枠部115とを透明基板130の一面に設けたもの
である。接地用枠部115は、ディスプレイの前面に置
いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むよう
に、メッシュ部110の外周辺にメッシュ部と同じ金属
薄膜で形成されている。メッシュ部110は、その形状
を図1(c)に一部拡大して示すように、所定のピッチ
Py間隔で互いに平行にX方向に沿い設けられた複数の
ライン150と、前記複数のラインの各隣接するライン
を繋ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分17
0とからなるメッシュ形状の所定領域を接地用枠部11
5で囲んだものである。尚、上記メッシュ形状において
は、各ライン150間の線分170は所定のX方向ピッ
チPx間隔で設けられ、且つ、そのX方向位置がランダ
ムである。
First, an embodiment of an electromagnetic wave shielding plate according to the present invention will be described with reference to FIG. The example shown in FIG.
An electromagnetic wave shielding plate for electromagnetic wave shielding placed on the front surface of a display such as P, and having a grounding frame portion and a mesh portion formed on one surface of a transparent substrate. In FIG. 1, 100
Is an electromagnetic wave shielding plate, 110 is a mesh portion, 115 is a ground frame portion, 117 is a metal thin film, 130 is a transparent substrate, 150 is a line, and 170 is a line segment. 1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line A1-A2 in FIG. 1A, and FIG. 1C is an enlarged view of a part of a mesh portion. FIG.
1A and 1C show the X direction and the Y direction for clarifying the positional relationship and the mesh shape. FIG.
(B), as shown in the cross section, a mesh section 110 and a grounding frame section 115 are provided on one surface of a transparent substrate 130. The grounding frame portion 115 is formed of the same metal thin film as the mesh portion around the outer periphery of the mesh portion 110 so as to surround the screen area of the display when used on the front of the display. The mesh part 110 has a plurality of lines 150 provided along the X direction in parallel with each other at a predetermined pitch Py as shown in FIG. A plurality of line segments 17 connecting each adjacent line and intersecting the line at a predetermined angle θ
The predetermined area of the mesh shape consisting of
It is the one surrounded by 5. In the above mesh shape, the line segments 170 between the lines 150 are provided at a predetermined pitch Px in the X direction, and the positions in the X direction are random.

【0015】メッシュ部110の開口率は100%に近
い程有利であるが、技術的に実用適な範囲である65〜
95%でも良い。光は金属薄膜117からなるライン1
50と線分170により囲まれる透明基板130が露出
した領域を通過する。X方向のラインとディスプレイの
水平走査線の方向とのなす角度γについては、PDP等
のディスプレイの前面において用いられる場合に観察さ
れるモアレの面から、特に15度〜45度の範囲である
ことが好ましい。
Although the aperture ratio of the mesh portion 110 is more advantageous as it approaches 100%, it is in a technically practical range of 65 to 65%.
It may be 95%. Light is a line 1 consisting of a metal thin film 117
The light passes through a region where the transparent substrate 130 surrounded by the line 50 and the line segment 170 is exposed. The angle γ between the line in the X direction and the direction of the horizontal scanning line of the display is, in particular, in the range of 15 ° to 45 ° from the moire plane observed when used on the front of a display such as a PDP. Is preferred.

【0016】透明基板130としては、ガラス、ポリア
クリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂基板が好適に用い
られるが、必要に応じプラスチックフィルムとしても良
い。プラスチックフィルムの材質としては、トリアセチ
ルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィル
ム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエ
ーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィル
ム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、,ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリロニ
トリルフィルム等が使用できるが、特に、二軸延伸ポリ
エステルが透明性、耐久性に優れている点で好適であ
る。その厚みは、通常は8μm〜1000μm程度のも
のが好ましい。尚、大型のディスプレイに対しては1〜
10mm厚の剛性をもつ基板が用いられ、キャラクタ表
示管用の小型のディスプレイに対しては、適当な可撓性
を持つ、厚さ0.01mm〜0.5mmのプラスチック
フィルムをディスプレイに貼付して用いる。上記透明基
板130やこれに代わるプラスチックフィルムの光透過
率としては、100%のものが理想であるが、透過率8
0%以上のものを選択することが好ましい。接地用枠部
115とメッシュ部110を形成する金属薄膜として
は、一般には、金属が安価であり、且つ加工も容易であ
ることが好ましい材料であり、更には電磁波シールド性
の良いものが好ましい。具体的に使用される材料として
は、Au、Ag、Cu、Ni、Fe、Al、Zn、S
n、Ti、Ta、Mo、Co、その他の各種単体金属、
あるいは、各種合金類を、単層ないし多層にしたものが
挙げられる。尚、電磁波を効果的に遮蔽するための金属
薄膜117の厚さは、電磁波遮蔽の点では厚い程良いが
加工性の点からは0.2〜20μm程度が好ましい。
As the transparent substrate 130, a glass, polyacrylic resin or polycarbonate resin substrate is preferably used, but if necessary, a plastic film may be used. Examples of plastic film materials include triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, and polysulfone film. An ether film, a trimethylpentene film, a polyetherketone film, a (meth) acrylonitrile film and the like can be used, and a biaxially stretched polyester is particularly preferable because it has excellent transparency and durability. Usually, the thickness is preferably about 8 μm to 1000 μm. In addition, 1 to large displays
A rigid substrate having a thickness of 10 mm is used. For a small display for a character display tube, a plastic film having an appropriate flexibility and a thickness of 0.01 mm to 0.5 mm is attached to the display. . The light transmittance of the transparent substrate 130 or the plastic film in place of the transparent substrate is ideally 100%.
It is preferable to select one having 0% or more. In general, as the metal thin film forming the grounding frame 115 and the mesh 110, a metal is preferably a material which is preferably inexpensive and easy to process, and more preferably a material having good electromagnetic wave shielding properties. Specific examples of materials used include Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Al, Zn, and S.
n, Ti, Ta, Mo, Co, various other simple metals,
Alternatively, a single layer or a multilayer of various alloys may be used. The thickness of the metal thin film 117 for effectively shielding electromagnetic waves is preferably as large as possible in terms of electromagnetic wave shielding, but is preferably about 0.2 to 20 μm from the viewpoint of workability.

【0017】図1に示す例は、このような構成にするこ
とにより、PDP等ディスプレイの前面に置いて用いら
れた場合、観察者には、金属薄膜メッシュとディスプレ
イの走査線との相互作用によるモアレが観察されなくな
る、あるいはモアレが目立たなくなる。即ち、良好な透
視性と電磁波シールド性を兼ね備えた電磁波遮蔽板の提
供を可能としている。
The example shown in FIG. 1 has such a configuration, so that when used on a front surface of a display such as a PDP, an observer can see the interaction between the metal thin film mesh and the scanning lines of the display. Moiré is no longer observed or moiré is inconspicuous. That is, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding plate having both good transparency and electromagnetic wave shielding.

【0018】次いで、本発明のメッシュパターン版の実
施の形態の例を図2に挙げて説明する。図2(a)、図
2(b)は、それぞれパターン版のメッシュ部の一部を
拡大して示した図である。、図3(a)は図2(a)に
示すパターン版の一部を拡大して示した図である。尚、
図2はメッシュ部のみ一部拡大して示したもので接地用
枠部は示していない。図2中、210、211はパター
ン版、221は黒部、222は白部で、図1と同様、1
50はライン、170は線分、θは交叉角である。図2
に示す例は、図1に示すPDP等のディスプレイの前面
に置き用いられる電磁波シールド用電磁波遮蔽板のメッ
シュ部をフォトリソグラフィー法によりエッチング加工
するためのパターン版で、少なくとも1つのパターン版
の中に作成するメッシュ領域の絵柄を全て備えているも
ので、パターン形状は、所定のピッチPy間隔で互いに
平行にX方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複
数のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の
角θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線
分は所定のX方向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、そ
のX方向位置がランダムであるメッシュ形状の所定領域
を用いたものである。図2(a)に示すパターン210
は、互いに直交するライン150と線分170とにより
構成するもので、ライン150と線分170との交叉角
θが90度の場合である。図2(b)に示すパターン2
11は、互いに斜交するライン150と線分170とに
より構成するもので、ライン150と線分170との交
叉角θが90度より小の場合である。
Next, an embodiment of the mesh pattern plate of the present invention will be described with reference to FIG. 2 (a) and 2 (b) are diagrams each showing an enlarged part of the mesh portion of the pattern plate. FIG. 3A is an enlarged view of a part of the pattern plate shown in FIG. still,
FIG. 2 shows only a part of the mesh portion in an enlarged manner, and does not show a frame portion for grounding. 2, reference numerals 210 and 211 denote pattern plates, 221 denotes a black portion, 222 denotes a white portion.
50 is a line, 170 is a line segment, and θ is an intersection angle. FIG.
An example shown in FIG. 1 is a pattern plate for etching a mesh portion of an electromagnetic wave shielding plate for electromagnetic wave shielding used for placing on the front surface of a display such as a PDP shown in FIG. 1 by a photolithography method, and includes at least one pattern plate. It is provided with all the pictures of the mesh area to be created, and the pattern shape connects a plurality of lines provided along the X direction in parallel with each other at a predetermined pitch Py interval and each adjacent line of the plurality of lines. , A plurality of line segments intersecting the line at a predetermined angle θ, and a line segment between the lines is provided at a predetermined pitch in the X direction Px, and the position in the X direction is random. This is based on a region. The pattern 210 shown in FIG.
Is composed of a line 150 and a line segment 170 that are orthogonal to each other, and corresponds to a case where the intersection angle θ between the line 150 and the line segment 170 is 90 degrees. Pattern 2 shown in FIG.
Numeral 11 indicates a case where the crossing angle θ between the line 150 and the line segment 170 is smaller than 90 degrees.

【0019】図2(a)に示すパターン版210の形状
について、一部拡大して示すと図3(a)に示すように
なる。ところで、図3(a)に示すようなラインと線分
との組合せからなる形状の繰り返し形状のパターンにつ
いては、図3(b)の式、式に示すように、Y方向
m個目のラインLmとY方向m+1個目のラインLm+
1との間で、X方向がn個目の各線分Lnmの位置Pn
mは求められる。但し、Rmは0〜Pxの範囲でmが変
わる毎にランダムに変わる変数であり、各線分Lnmの
原点位置(図3ではP0点)からX方向、Y方向にα、
βの所定の位置を線分Lnmの位置Pnmとしている。
尚、各線分の原点位置はそれぞれ対応する位置を原点位
置としてとれば良い。原点位置のとり方によりα、βの
値も変わることは言うまでもない。図2(b)に示すパ
ターン版201については、線分170のライン150
に交叉する角度が図2(a)に示すパターン版とは異な
るが、X方向n個目、Y方向m個目の線分Lnmの位置
をPnmとした場合、図2(a)(即ち図3の場合)と
同様に、PnmのX座標は(Rm+α+(n−1)P
x、Y座標はβ+(m−1)py)で表される。
FIG. 3A shows a partially enlarged shape of the pattern plate 210 shown in FIG. 2A. By the way, as for the pattern of the repetitive shape formed by the combination of the line and the line segment as shown in FIG. 3A, the m-th line in the Y direction as shown in the equation of FIG. Lm and the (m + 1) th line Lm + in the Y direction
1, the position Pn of each n-th line segment Lnm in the X direction
m is determined. Here, Rm is a variable that changes randomly every time m changes in the range of 0 to Px, and α, in the X and Y directions from the origin position (point P0 in FIG. 3) of each line segment Lnm.
A predetermined position of β is a position Pnm of the line segment Lnm.
In addition, the origin position of each line segment may be set to the corresponding position as the origin position. It goes without saying that the values of α and β also change depending on how the origin position is set. For the pattern plate 201 shown in FIG.
2A is different from that of the pattern plate shown in FIG. 2A, but when the position of the nth line segment Lnm in the X direction and the mth line segment Lnm in the Y direction is Pnm, FIG. 3), the X coordinate of Pnm is (Rm + α + (n−1) P
The x and Y coordinates are represented by β + (m−1) py).

【0020】次いで、パターン版210、211の製造
方法の1例を簡単に説明しておく。先ず、メッシュ部の
パターンについての作成を以下のようにして行う。図3
にて説明したように、各線分170の位置PnmのX座
標は(Rm+α+(n−1)Px、Y座標はβ+(m−
1)py)で表され 且つ、ライン150はY方向に所
定ピックP間隔に設けられているため、1つの線分15
0に対応するデータ、および1つのラインに対応するデ
ーターを所定ピッチで送ることにより全パターン領域の
絵柄位置を表現できることが分かる。即ち、ピッチ指定
でパターン版の全領域の絵柄を表現できるが、先ず、こ
の特性を利用して、CADにて描画用の画像データを作
成するには、これらピッチ送りされる数だけ持つ、多数
のデータをフラット化してもつ描画データとしておく。
次に、接地用枠部のパターンについては、座標指定によ
り直接CADにて描画データを作成しておく。このよう
にして、メッシュ部および接地用枠部の描画データを得
る。次いで、得られた描画用データをラスター型の電子
線露光機用データに変換し、電子線露光機にて、前述の
透明基板の一面に蒸着やスパッタリング等にて形成され
た金属薄膜上に塗布されたレジストのパターン領域を一
括して露光する。次いで、これを現像して金属薄膜上に
パターンに対応したレジスト像を形成し、該レジスト像
をマスクとして露出している金属薄膜部分をエッチング
除去することにより、パターン版を得る。
Next, an example of a method of manufacturing the pattern plates 210 and 211 will be briefly described. First, the creation of the pattern of the mesh portion is performed as follows. FIG.
As described above, the X coordinate of the position Pnm of each line segment 170 is (Rm + α + (n−1) Px, and the Y coordinate is β + (m−
1) py), and the line 150 is provided at a predetermined pitch P in the Y direction.
It can be seen that the picture position of the entire pattern area can be expressed by sending the data corresponding to 0 and the data corresponding to one line at a predetermined pitch. That is, although the pattern of the entire area of the pattern plate can be expressed by designating the pitch, first of all, in order to create image data for drawing by CAD using this characteristic, it is necessary to use the number of pitch feeds. Is flattened as drawing data.
Next, with respect to the pattern of the grounding frame portion, drawing data is created directly by CAD by specifying coordinates. Thus, the drawing data of the mesh part and the grounding frame part is obtained. Then, the obtained drawing data is converted into raster type electron beam exposure machine data, and the electron beam exposure machine coats the above-mentioned metal thin film formed on one surface of the transparent substrate by vapor deposition or sputtering. The exposed pattern area of the resist is collectively exposed. Next, this is developed to form a resist image corresponding to the pattern on the metal thin film, and the exposed metal thin film portion is removed by etching using the resist image as a mask to obtain a pattern plate.

【0021】このようにして得られたパターン版を用
い、フォトリソグラフィー法によりエッチング加工を行
い、電磁波遮蔽板を作製することができる。透明基板
(図1の130に相当)の一面に蒸着やスパッタリン
グ、電着法等にて形成された金属薄膜(図1の117に
相当)上に塗布されたレジストを、上記パターン版で密
着露光し、これを現像して金属薄膜上にパターン版に対
応したレジスト像を形成し、該レジスト像をマスクとし
て露出している金属薄膜部分をエッチング除去すること
により、図1に示す電磁波遮蔽板を作製することができ
る。
Using the pattern plate thus obtained, an etching process is performed by a photolithography method to produce an electromagnetic wave shielding plate. A resist applied on a metal thin film (corresponding to 117 in FIG. 1) formed on one surface of a transparent substrate (corresponding to 130 in FIG. 1) by vapor deposition, sputtering, electrodeposition, or the like, is subjected to close contact exposure with the above pattern plate. Then, by developing this, a resist image corresponding to the pattern plate is formed on the metal thin film, and the exposed metal thin film portion is removed by etching using the resist image as a mask, whereby the electromagnetic wave shielding plate shown in FIG. 1 is formed. Can be made.

【0022】[0022]

【実施例】本発明の電磁波遮蔽板の実施例を挙げる。図
1に示す実施の形態において、透明基板130としてア
クリル板5mm厚、金属薄膜117としてCuを6μm
厚としその表面を黒化銅としたもので、図2(a)に示
すメッシュ部形状を持つ電磁波遮蔽板100について、
PDPの前面に置いて、電磁波シールド性、透視性を確
認したが、電磁波の減衰率は30dB程度で、且つモア
レもほとんど見えず実用に耐えるものであった。メッシ
ュ部110は、金属薄膜117の線幅は全て15μmと
し、ラインのY方向送りピッチPy、線分のX方向送り
ピッチPxを、それぞれ、160μmとした。また、メ
ッシュの交叉角度θは30度とした。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the electromagnetic wave shielding plate of the present invention will be described. In the embodiment shown in FIG. 1, an acrylic plate is 5 mm thick as the transparent substrate 130, and Cu is 6 μm as the metal thin film 117.
The electromagnetic wave shielding plate 100 having a thickness and a blackened copper surface and having a mesh shape shown in FIG.
Electromagnetic wave shielding properties and transparency were confirmed on the front surface of the PDP. The attenuation rate of the electromagnetic waves was about 30 dB, and almost no moiré was seen, so that it was practically usable. In the mesh section 110, the line width of the metal thin film 117 is 15 μm, and the feed pitch Py of the line in the Y direction and the feed pitch Px of the line in the X direction are 160 μm. The mesh crossing angle θ was 30 degrees.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明は、上記のように、PDP等ディ
スプレイの前面に置いて用いても、金属薄膜メッシュと
ディスプレイの走査線との相互作用によるモアレの発生
がない、あるいはモアレが目立たない良好な透視性と、
電磁波シールド性を兼ね備えた電磁波遮蔽板の提供を可
能としている。
As described above, even when the present invention is used in front of a display such as a PDP, moire does not occur or is not noticeable due to the interaction between the metal thin film mesh and the scanning line of the display. With good transparency,
It is possible to provide an electromagnetic wave shielding plate having electromagnetic wave shielding properties.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電磁波遮蔽板の実施の形態の1例を示
した図
FIG. 1 is a diagram showing an example of an embodiment of an electromagnetic wave shielding plate of the present invention.

【図2】本発明のメッシュパターン版の実施の形態の例
を示した図
FIG. 2 is a diagram showing an example of an embodiment of a mesh pattern plate of the present invention.

【図3】図2に示すメッシュパターンのパターン形状を
説明するための拡大図
FIG. 3 is an enlarged view for explaining a pattern shape of the mesh pattern shown in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 電磁波遮蔽板 110 メッシュ部 115 接地用枠部 117 金属薄膜 130 透明基板 150 ライン 170 線分 210、211 パターン版 221 黒部(遮光部) 222 白部(透明部) θ 交叉角 REFERENCE SIGNS LIST 100 electromagnetic wave shielding plate 110 mesh part 115 grounding frame part 117 metal thin film 130 transparent substrate 150 line 170 line segment 210, 211 pattern plate 221 black part (light shielding part) 222 white part (transparent part) θ crossing angle

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 17/04 H01J 17/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01J 17/04 H01J 17/04

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ディスプレイの前面に置いて用いられ
る、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積
層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板であって、前
記メッシュの形状は、所定のピッチPy間隔で互いに平
行にX方向に沿い設けられた複数のラインと、前記複数
のラインの各隣接するラインを繋ぎ、ラインと所定の角
θで交叉する複数の線分とからなり、各ライン間の線分
は所定のX方向ピッチPx間隔で設けられ、且つ、その
X方向位置がランダムであるメッシュ形状の所定領域を
用いたものであることを特徴とする電磁波遮蔽板。
1. An electromagnetic wave shielding plate, which is used on a front surface of a display and has an electromagnetic wave shielding property in which a mesh made of a metal thin film is laminated on one surface of a transparent substrate, wherein the mesh has a predetermined pitch Py. A plurality of lines provided along the X direction in parallel with each other at intervals, and a plurality of line segments that connect each adjacent line of the plurality of lines and intersect the line at a predetermined angle θ. The electromagnetic wave shielding plate is characterized in that the line segments are provided at predetermined X-direction pitches Px and use a predetermined mesh-shaped region whose X-direction position is random.
【請求項2】 請求項1において、ディスプレイの前面
に置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲む
ように、メッシュ部の外周辺にメッシュと同じ金属薄膜
からなる接地用枠部を設けたことを特徴とする電磁波遮
蔽板。
2. The grounding frame portion made of the same metal thin film as the mesh around the outer periphery of the mesh portion so as to surround the screen area of the display when used on the front surface of the display. An electromagnetic wave shielding plate, characterized in that:
【請求項3】 請求項1ないし2において、ディスプレ
イの前面に置いて用いられた際に、ディスプレイの水平
走査線とメッシュのライン方向とのなす角度が15度〜
45度の範囲であることを特徴とする電磁波遮蔽板。
3. The display device according to claim 1, wherein an angle between a horizontal scanning line of the display and a line direction of the mesh is 15 degrees or more when used in front of the display.
An electromagnetic wave shielding plate having a range of 45 degrees.
【請求項4】 ディスプレイの前面に置いて用いられ
る、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積
層した電磁波遮蔽性を有する電磁波遮蔽板における該メ
ッシュを形成するためのパターン版であって、少なくと
も1つのパターン版の中に作成するメッシュ領域の絵柄
を全て備えているもので、パターン形状は、所定のピッ
チPy間隔で互いに平行にX方向に沿い設けられた複数
のラインと、前記複数のラインの各隣接するラインを繋
ぎ、ラインと所定の角θで交叉する複数の線分とからな
り、各ライン間の線分は所定のX方向ピッチPx間隔で
設けられ、且つ、そのX方向位置がランダムであるメッ
シュ形状の所定領域を用いたものであることを特徴とす
るメッシュパターン版。
4. A pattern plate for forming a mesh on an electromagnetic wave shielding plate having an electromagnetic wave shielding property in which a mesh made of a metal thin film is laminated on one surface of a transparent substrate and used on a front surface of a display, At least one pattern plate is provided with all the patterns of the mesh area to be created, and the pattern shape includes a plurality of lines provided along the X direction in parallel with each other at a predetermined pitch Py interval, and the plurality of lines. A plurality of line segments connecting the adjacent lines of the line and intersecting the line at a predetermined angle θ are provided, and the line segments between the lines are provided at a predetermined pitch Px in the X direction, and the positions in the X direction Wherein a predetermined region of a random mesh shape is used.
JP9297946A 1997-10-16 1997-10-16 Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same Pending JPH11121974A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9297946A JPH11121974A (en) 1997-10-16 1997-10-16 Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9297946A JPH11121974A (en) 1997-10-16 1997-10-16 Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11121974A true JPH11121974A (en) 1999-04-30

Family

ID=17853145

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9297946A Pending JPH11121974A (en) 1997-10-16 1997-10-16 Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11121974A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005221897A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd Display panel apparatus
KR100603260B1 (en) * 2001-11-03 2006-07-20 삼성코닝 주식회사 Filter shielding electro magnetic wave of plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2006278617A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Jsr Corp Electromagnetic wave shielding film
JP2008089727A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Nec Lcd Technologies Ltd Optical element and illumination optical apparatus, display apparatus and electronic equipment using the same
JP2012506639A (en) * 2008-10-21 2012-03-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Ultraviolet-transmissive microwave reflector with micromesh screen
JP2015046603A (en) * 2014-09-26 2015-03-12 大日本印刷株式会社 Conductive mesh, conductive mesh sheet, touch panel device and image display device
US10434748B2 (en) 2015-11-13 2019-10-08 Fujifilm Corporation Conductive film

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100603260B1 (en) * 2001-11-03 2006-07-20 삼성코닝 주식회사 Filter shielding electro magnetic wave of plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2005221897A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd Display panel apparatus
JP2006278617A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Jsr Corp Electromagnetic wave shielding film
JP2008089727A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Nec Lcd Technologies Ltd Optical element and illumination optical apparatus, display apparatus and electronic equipment using the same
US8026880B2 (en) 2006-09-29 2011-09-27 Nec Lcd Technologies, Ltd Optical element, and illuminating optical device, display device and electronic device using the same
JP2012506639A (en) * 2008-10-21 2012-03-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Ultraviolet-transmissive microwave reflector with micromesh screen
JP2015046603A (en) * 2014-09-26 2015-03-12 大日本印刷株式会社 Conductive mesh, conductive mesh sheet, touch panel device and image display device
US10434748B2 (en) 2015-11-13 2019-10-08 Fujifilm Corporation Conductive film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9642245B2 (en) Conductive sheet, touch panel, display device, method for producing said conductive sheet, and non-transitory recording medium
US9591743B2 (en) Conductive laminate body, touch panel, and display device
JP6563497B2 (en) Conductive film for touch panel, touch panel, and display device with touch panel
JPH02296398A (en) Window for shielding fref of moire pattern
JP6377007B2 (en) Conductive film, wiring, and touch panel sensor
JPH11121974A (en) Electromagnetic wave shielding plate and mesh pattern plate for manufacturing the same
JP2000066614A (en) Filter for display and its usage
CN112864216A (en) Display panel and electronic device
EP0446038A2 (en) Non-moire shielded window
US4853791A (en) Electromagnetic emission shield for cathode ray tube display
JP4280843B2 (en) Design method of electromagnetic shielding film and mesh structure pattern thereof
WO2017126212A1 (en) Electroconductive film and touch panel
JP2013068856A (en) Micro louver laminate and image display device
EP1195991B1 (en) Filter and image device with filter
JP2003273574A (en) Electromagnetic wave shielding member
JP2000223036A (en) Transparent plate for shielding electromagnetic wave, and plasma display device
JP6761591B2 (en) antenna
JP6768212B2 (en) antenna
JPH11260271A (en) Manufacture of electromagnetic wave shielding plate and the electromagnetic wave shielding plate
JPH11119675A (en) Production of electromagnetic shielding plate
JP2000013089A (en) Electromagnetic-wave shielding material for display
JP2020202593A (en) antenna
JP2004022851A (en) Translucent electromagnetic shielding material and its manufacturing method
JPH11346088A (en) Electromagnetic shielding plate and manufacture thereof
CN110211492B (en) Display panel and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041013

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041013

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070828

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080129