JP2003273574A - Electromagnetic wave shielding member - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、窓やＰＤＰ、ＣＲ
Ｔなどの電磁波遮蔽効果を有する、電磁波シールド用の
部材と、その製造方法に関し、特に、電磁波遮蔽性イン
キからなりメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交
差するパターンを、基材の面に配設した、電磁波遮蔽性
を有する電磁波シールド用の部材とその製造方法に関す
る。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a window, a PDP, a CR.
Regarding an electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding effect such as T and a method for manufacturing the same, in particular, a pattern made of an electromagnetic wave shielding ink in which two or more lines with a line width L intersect such as a mesh is formed on a substrate. TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electromagnetic wave shielding member having electromagnetic wave shielding properties, which is disposed on a surface, and a manufacturing method thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、直接人が接近して利用する電
磁波を発生する電子装置、例えばプラズマディスプレイ
等のディスプレイ用電子管は、人体への電磁波による弊
害を考慮して電磁波放出の強さを規格内に抑えることが
要求されている。更に、プラズマディスプレイパネル
（以下ＰＤＰとも言う）においては、発光はプラズマ放
電を利用しているので、周波数帯域が３０ＭＨｚ〜１３
０ＭＨｚの不要な電磁波を外部に漏洩するため、他の機
器（例えば情報処理装置等）へ弊害を与えないよう電磁
波を極力抑制することが要求されている。これら要求に
対応し、一般には、電磁波を発生する電子装置から装置
外部へ流出する電磁波を除去ないし減衰させるために、
電磁波を発生する電子装置などの外周部を適当な導電性
部材で覆う電磁波シールドが採られる。プラズマディス
プレイパネル等のディスプレイ用パネルでは、良好な透
視性のある電磁波遮蔽板をディスプレイ前面に設けるの
が普通である。2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic device for generating an electromagnetic wave which a person directly approaches and uses, for example, an electronic tube for a display such as a plasma display, has a standardized intensity of the electromagnetic wave in consideration of the harmful effect of the electromagnetic wave on the human body. It is required to keep it within. Further, in the plasma display panel (hereinafter also referred to as PDP), since the light emission utilizes plasma discharge, the frequency band is 30 MHz to 13 MHz.
Since unnecessary electromagnetic waves of 0 MHz are leaked to the outside, it is required to suppress the electromagnetic waves as much as possible so as not to adversely affect other devices (for example, information processing devices). In order to meet these demands, in general, in order to remove or attenuate the electromagnetic waves flowing out of the device from an electronic device that generates electromagnetic waves,
An electromagnetic wave shield is used in which the outer peripheral portion of an electronic device that generates electromagnetic waves is covered with a suitable conductive member. In a display panel such as a plasma display panel, it is common to provide an electromagnetic wave shielding plate having good transparency on the front surface of the display.
【０００３】電磁波遮蔽板は、基本構造自体は比較的簡
単なものであり、透明なガラスやプラスチック基板面
に、例えばインジュウムー錫酸化物膜（ＩＴＯ膜）等の
透明導電性膜を蒸着やスパッタリング法などで薄膜形成
したもの、透明なガラスやプラスチック基板面に、例え
ば金網等の適当な金属スクリーンを貼着したもの、透明
なガラスやプラスチック基板面に、無電解メッキや蒸着
などにより全面に金属薄膜を形成し、該金属薄膜をフォ
トリソグラフィー法等により加工して微細な金属薄膜か
らなるメッシュを設けたもの等が知られている。The electromagnetic wave shielding plate has a relatively simple basic structure, and a transparent conductive film such as an indium-tin oxide film (ITO film) is vapor-deposited or sputtered on a transparent glass or plastic substrate surface. Thin film formed with, such as a transparent glass or plastic substrate surface with a suitable metal screen such as wire mesh attached, transparent glass or plastic substrate surface, metal thin film over the entire surface by electroless plating or vapor deposition It is known that a metal thin film is formed, and the metal thin film is processed by a photolithography method or the like to provide a mesh made of a fine metal thin film.
【０００４】透明基板上にＩＴＯ膜を形成した電磁波遮
蔽板は、透明性の点で優れており、一般的に、光の透過
率が９０％前後となり、且つ基板全面に均一な膜形成が
可能なため、ディスプレイ等に用いられた場合には、電
磁波遮蔽板に起因するモアレ等の発生も懸念することな
い。しかし、透明基板上にＩＴＯ膜を形成した電磁波遮
蔽板においては、ＩＴＯ膜を形成するのに、蒸着やスパ
ッタリングなどの技術を用いるので、製造装置が高価で
あり、また、生産性も一般的に劣ることから、製品とし
ての電磁波遮蔽板自体の価格が高価になるという問題が
ある。更に、透明基板上にＩＴＯ膜を形成した電磁波遮
蔽板においては、金属薄膜からなるメッシュを形成した
電磁波遮蔽板と比較して、導電性が１桁以上劣ることか
ら、電磁波放出が比的に弱い対象物に対して有効である
が、強い対象物に用いた場合には、その遮蔽機能が不十
分となり、漏洩電磁波が放出されて、その規格値を満足
させることかできない場合があるという問題がある。こ
の透明基板上にＩＴＯ膜を形成した電磁波遮蔽板におい
ては、導電性を高めるために、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くす
ればある程度の導電性は向上するが、この場合、透明性
が著しく低下するという問題が発生する。加えて、更に
厚くすることにより、製造価格もより高価になるという
問題がある。An electromagnetic wave shielding plate having an ITO film formed on a transparent substrate is excellent in transparency and generally has a light transmittance of about 90% and can form a uniform film on the entire surface of the substrate. Therefore, when used in a display or the like, there is no concern about the occurrence of moire or the like due to the electromagnetic wave shielding plate. However, in an electromagnetic wave shielding plate having an ITO film formed on a transparent substrate, techniques such as vapor deposition and sputtering are used to form the ITO film, so the manufacturing apparatus is expensive and the productivity is generally high. Since it is inferior, there is a problem that the price of the electromagnetic wave shielding plate itself as a product becomes expensive. Further, the electromagnetic wave shielding plate having the ITO film formed on the transparent substrate is inferior in conductivity to the electromagnetic wave shielding plate having the mesh made of the metal thin film by one digit or more, so that the electromagnetic wave emission is relatively weak. It is effective for the target object, but when it is used for a strong target object, its shielding function becomes insufficient and leaked electromagnetic waves are emitted, which may cause the problem that the standard value cannot be satisfied. is there. In the electromagnetic wave shielding plate having the ITO film formed on the transparent substrate, if the thickness of the ITO film is increased in order to increase the conductivity, the conductivity is improved to some extent, but in this case, the transparency is significantly lowered. The problem occurs. In addition, there is a problem in that the manufacturing cost becomes higher by making the thickness further thick.
【０００５】また、透明なガラスやプラスチック基板面
に金属スクリーンを貼った電磁波遮蔽板を用いる場合、
あるいは、金網等の適当な金属スクリーンを直接ディス
プレイ面に貼着する場合、簡単であり、かつ、コストも
安価となるが、有効なメッシュ（１００−２００メッシ
ュ）の金属スクリーンの透過率が、５０％以下であり、
極めて暗いディスプレイとなってしまうという重大な欠
点を持っている。When an electromagnetic wave shielding plate having a transparent glass or plastic substrate surface with a metal screen is used,
Alternatively, when a suitable metal screen such as a wire mesh is directly attached to the display surface, it is simple and the cost is low, but an effective mesh (100-200 mesh) metal screen has a transmittance of 50 or less. % Or less,
It has the serious drawback of becoming an extremely dark display.
【０００６】また、透明なガラスやプラスチック基板面
に金属薄膜からなるメッシュを形成したものは、フオト
リソグラフィー法を用いたエッチング加工により外形加
工されるため、微細加工が可能で高開口率（高透過率）
メッシュを作成することができ、且つ金属薄膜にてメッ
シュを形成しているので、導電性が上記のＩＴＯ膜等と
比して非常に高く、強力な電磁波放出を遮蔽することが
できるという利点を有する。しかし、その製造工程は煩
雑かつ複雑で、その生産性は低く、生産コストが高価に
なるという問題点を避けることができない。Further, a transparent glass or plastic substrate having a mesh formed of a metal thin film is externally processed by etching using a photolithography method, so that fine processing is possible and a high aperture ratio (high transmission) is achieved. rate)
Since the mesh can be created and the mesh is formed of a metal thin film, the conductivity is much higher than that of the ITO film and the like, and the advantage that strong electromagnetic wave emission can be shielded is provided. Have. However, the manufacturing process is complicated and complicated, the productivity is low, and the production cost is unavoidable.
【０００７】導電性インキあるいは磁性インキを用いて
スクリーン印刷にてメッシュを形成することも考えられ
るが、細線化には限界があり、エンドレスパターン化は
難しく、ウエブへの印刷に問題がある。グラビア印刷に
よる導電性インキあるいは磁性インキを用いたメッシュ
の形成は、細線印刷ができない。It is conceivable to form a mesh by screen printing using a conductive ink or a magnetic ink, but there is a limit to thinning, endless patterning is difficult, and there is a problem in printing on a web. Fine line printing is not possible in forming a mesh using conductive ink or magnetic ink by gravure printing.
【０００８】このように、各電磁波遮蔽板にはそれぞれ
得失があり、用途に応じて選択して用いられている。こ
のような中、ＰＤＰ等のディスプレイ用パネルの前面に
置いて、電磁波シールド用として用いられる電磁波遮蔽
板を、品質面でメッシュの細線化が可能で、量産化で
き、且つ、安価に行なえる製造方法が求められている。As described above, each electromagnetic wave shielding plate has its advantages and disadvantages, and is selected and used according to the application. In such a situation, the electromagnetic wave shielding plate used for electromagnetic wave shielding placed on the front surface of a display panel such as a PDP can be made into a mesh with fine quality, can be mass-produced, and can be manufactured at low cost. A method is needed.
【０００９】ここで、透明なガラスやプラスチック基板
面に金属薄膜等からなるメッシュを形成した電磁波遮蔽
板の１例を、図４に示し、簡単に説明しておく。図４
（ａ）は電磁波遮蔽板の平面図で、図４（ｂ）は図４
（ａ）のＤ１−Ｄ２における断面図、図４（ｃ）はメッ
シュ部の一部の拡大図である。尚、図４（ａ）と図４
（ｃ）には、位置関係、メッシュ形状を明確にするため
の、Ｘ方向、Ｙ方向を表示してある。図４に示す電磁波
遮蔽板は、ＰＤＰ等のディスプレイの前面に置き用いら
れる電磁波シールド用電磁波遮蔽板４０で、透明基板４
３の一面上に接地用枠部４２とメッシュ部４１とを形成
したもので、接地用枠部４２は、ディスプレイの前面に
置いて用いられた際にディスプレイの画面領域を囲むよ
うに、メッシュ部４１の外周辺にメッシュ部と同じ金属
薄膜４４で形成されている。メッシュ部４１は、その形
状を図４（ｃ）に一部拡大して示すように、それぞれ所
定のピッチＰｘ、Ｐｙ間隔で互いに平行に、Ｙ、Ｘ方向
に沿い設けられた複数のライン４６群とライン４５群と
からなる。尚、メッシュ形状は、図４に示すものに限定
はされない。また、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネ
ル）等のディスプレイ用パネルの前面に置いて用いられ
る電磁波遮蔽板には、通常、反射防止層、近赤外線カッ
ト層等が図４に示す電磁波遮蔽板に更に配設されてい
る。Here, an example of an electromagnetic wave shielding plate in which a mesh made of a metal thin film or the like is formed on the surface of a transparent glass or plastic substrate is shown in FIG. 4 and briefly described. Figure 4
4A is a plan view of the electromagnetic wave shielding plate, and FIG.
4A is a cross-sectional view taken along line D1-D2 of FIG. 4A, and FIG. 4C is an enlarged view of a part of the mesh portion. 4 (a) and FIG.
In (c), the X direction and the Y direction are displayed for clarifying the positional relationship and the mesh shape. The electromagnetic wave shielding plate shown in FIG. 4 is an electromagnetic wave shielding plate 40 for electromagnetic wave shielding that is used in front of a display such as a PDP.
3 has a grounding frame portion 42 and a mesh portion 41 formed on one surface thereof. The grounding frame portion 42 surrounds the screen area of the display when used on the front surface of the display. A metal thin film 44, which is the same as the mesh portion, is formed on the outer periphery of 41. The mesh portion 41 has a plurality of groups of lines 46 provided in parallel in the Y and X directions at predetermined pitches Px and Py, respectively, as shown in a partially enlarged view of the shape of the mesh portion 41. And 45 groups of lines. The mesh shape is not limited to that shown in FIG. Further, in an electromagnetic wave shielding plate used by being placed on the front surface of a display panel such as a PDP (plasma display panel), an antireflection layer, a near infrared ray cutting layer, etc. are usually further provided on the electromagnetic wave shielding plate shown in FIG. ing.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】この為、図４に示すよ
うな金属薄膜等からなる電磁波遮蔽性を有するメッシュ
を透明基板上に設けた電磁波遮蔽板が、その透視性と電
磁波遮蔽性の面から、量的に多く求められるようになっ
てきた。本発明はこれに対応するもので、具体的には、
生産性の面、品質の面から、量的、コスト的に対応でき
るフレキソ印刷方法により作製されたもので、フィルム
基材の一面上に、電磁波遮蔽効果を有するインキからな
るメッシュを配設した電磁波シールド用の部材を提供し
ようとするものであるTherefore, as shown in FIG. 4, an electromagnetic wave shielding plate provided with a mesh having an electromagnetic wave shielding property made of a metal thin film or the like on a transparent substrate has a perspective and an electromagnetic wave shielding property. Since then, it has come to be demanded in large quantities. The present invention addresses this, and specifically,
An electromagnetic wave produced by a flexographic printing method that can be quantitatively and cost-effectively taken into consideration in terms of productivity and quality. A mesh made of ink having an electromagnetic wave shielding effect is arranged on one surface of a film substrate. It is intended to provide a member for shielding
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
用の部材は、電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の
２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィル
ム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電
磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚
がライン部分の１. ２倍〜３倍であることを特徴とする
ものである。また、本発明の電磁波シールド用の部材
は、電磁波シールド用の部材は、電磁波遮蔽性インキか
らなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差す
るパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁
波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、線
幅Ｌのラインの交点部分の面積がＬ×Ｌの２倍〜３０倍
であることを特徴とするものである。上記において、ウ
エブ状のフィルム基材を版胴と圧胴間に挟むようにして
搬送しながら、アニロックスロール等のインキ供給ロー
ルから版胴に転写された電磁波遮蔽性インキを、前記版
胴から、フィルム基材の一面上に、連続的に転写形成す
る方式で、且つ、版胴にＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔ
ｏ Ｐｌａｔｅ）版を用いたフレキソ印刷方法により、
電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線
幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面
上に配設されたものであることを特徴とするものであ
る。尚、ここでは、ライン交点部分の膜厚は交点部厚肉
部の膜厚、ライン部分の膜厚は、交点部中間のライン部
箇所における膜厚で代表させる。また、通常、ライン交
点部分は太り、その平面図において、交点部の隣接する
各ライン同志を接続する外辺を延長して囲まれる略矩形
部で表されるため、この、略矩形部の面積を、ここで
は、交点部分の面積とする。The member for electromagnetic wave shielding of the present invention has a pattern in which two or more lines having a line width L such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink intersect on one surface of a film substrate. An electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding property is provided, which is characterized in that the film thickness at the line intersection is 1.2 to 3 times that of the line. The member for electromagnetic wave shielding of the present invention has a pattern in which two or more lines having a line width L such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink intersect on one surface of the film substrate. An electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding property, which is characterized in that an area of an intersection of lines having a line width L is 2 to 30 times L × L. In the above, while transporting the web-shaped film base material so as to be sandwiched between the plate cylinder and the impression cylinder, the electromagnetic wave shielding ink transferred from the ink supply roll such as an anilox roll to the plate cylinder is transferred from the plate cylinder to the film base. It is a method of continuously transferring and forming on one surface of the material, and CTP (Computer T
o Plate) by flexographic printing method using a plate,
A pattern in which two or more lines having a line width L intersect, such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink, is arranged on one surface of the film substrate. Here, the film thickness at the line intersection is represented by the film thickness at the intersection thick portion, and the film thickness at the line is represented by the film thickness at the line portion in the middle of the intersection. Further, the line intersection portion is usually thick, and in the plan view, it is represented by a substantially rectangular portion that is surrounded by extending the outer side connecting the adjacent lines of the intersection portion. Is the area of the intersection here.
【００１２】[0012]
【作用】本発明の電磁波シールド用の部材は、このよう
な構成にすることにより、生産性の面、品質の面から、
量的、コスト的に対応できるフレキソ印刷方法により作
製されたもので、フィルム基材の一面上に、電磁波遮蔽
効果を有するメッシュを配設した電磁波シールド用の部
材の提供を、品質面でも対応できるものとしている。こ
れにより、図４に示すようなＰＤＰ等ディスプレイ用の
良好な透視性と電磁波シールド性を兼ね備えた電磁波遮
蔽板を多量に早期に提供できるものとしている。具体的
には、ウエブ状のフィルム基材を版胴と圧胴間に挟むよ
うにして搬送しながら、アニロックスロール等のインキ
供給ロールから版胴に転写された電磁波遮蔽性インキ
を、前記版胴から、フィルム基材の一面上に、連続的に
転写形成する方式で、且つ、版胴にＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕ
ｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔｅ）版を用いたフレキソ印刷方
法により、電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２
本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム
基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁
波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚が
ライン部分の１. ２倍〜３倍であることことにより、ま
た、線幅Ｌのラインの交点部分の面積がＬ×Ｌの２倍〜
３０倍であることにより、これを達成している。詳しく
は、版胴にＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔ
ｅ）版を用いたフレキソ印刷を用いていることにより、
パターン全体を薄膜に形成でき、しかも交点部分だけを
肉厚にでき、肉厚部分がスペーサとして機能して、ブロ
ッキングの防止、フィルム基材のロール巻き取り、巻き
出しをスムーズに行なえ、これにより、細線化を達成で
き、且つ、量産を可能にしている。また、ライン交点部
分の膜厚をライン部分より厚く、太らせることにより、
良好な導電性を得ることができる。尚、ブロッキングと
は、フィルム基材をロールに巻き取る際、フィルム基材
がくっつくことをブロッキングと言い、これにより、フ
ィルム基材にしわが発生したり、フィルム基材が剥がれ
にくくなる。The member for electromagnetic wave shield of the present invention has the above-mentioned structure, and thus, in terms of productivity and quality,
Produced by a flexographic printing method that can be quantitatively and cost-effectively provided. Also, it is possible to provide a member for electromagnetic wave shielding in which a mesh having an electromagnetic wave shielding effect is arranged on one surface of a film base material in terms of quality. I am supposed to. This makes it possible to provide a large amount of an electromagnetic wave shielding plate having good transparency and electromagnetic wave shielding property for a display such as PDP as shown in FIG. 4 at an early stage. Specifically, while transporting a web-shaped film substrate sandwiched between the plate cylinder and the impression cylinder, the electromagnetic wave shielding ink transferred from the ink supply roll such as an anilox roll to the plate cylinder, from the plate cylinder, It is a method of continuously transferring and forming on one surface of a film substrate, and a CTP (Compu
The flexographic printing method using a ter To Plate) plate can be used to remove a mesh or the like made of an electromagnetic wave shielding ink.
A member for electromagnetic wave shielding, which has an electromagnetic wave shielding property, in which a pattern in which two or more lines having a line width L intersect is disposed on one surface of a film substrate, and the film thickness at the line intersection is 1 . By being 2 to 3 times, the area of the intersection part of the line having the line width L is 2 to 2 times L × L.
This is achieved by being 30 times. For more details, see CTP (Computer To Plat) on the plate cylinder.
e) By using flexographic printing with a plate,
The entire pattern can be formed into a thin film, and only the intersections can be made thick, and the thick portions function as spacers, preventing blocking, winding the film base roll, and unwinding smoothly. It is possible to achieve thin lines and mass production. Also, by making the film thickness at the line intersection point thicker than the line portion,
Good conductivity can be obtained. In addition, blocking means blocking of the film base material when the film base material is wound up on a roll, which causes wrinkling of the film base material and peeling of the film base material.
【００１３】[0013]
【実施の形態】本発明の実施の形態を図に基づいて説明
する。図１（ａ）は本発明の電磁波シールド用の部材の
実施の形態の１例を示した平面図で、図１（ａ１）は図
１（ａ）のＡ１部の拡大図で、図１（ｂ）は図１（ａ）
のＡ２−Ａ３における断面図で、図１（ｃ）はメッシュ
部の交点部を示した図で、図１（ｄ）は図１（ｃ）のＡ
４−Ａ５における断面図で、図２はフレキソ印刷法を実
施する装置の１例を示した図で、図３（ａ）〜図３
（ｅ）はＣＴＰ版の製造工程断面図で、図３（ａ１）、
図３（ｃ１）〜図３（ｅ１）は従来のフレキソ印刷版の
工程断面図である。図１〜図３中、１０は電磁波シール
ド部材、１１はメッシュ部、１２は接地用枠部、１３は
フィルム基材、１４は電磁波遮蔽性インキ、１５は（Ｘ
方向の）ライン、１６は（Ｙ方向の）ライン、１７は交
点部、２１はインキ供給用ロール、２２は版胴、２３は
圧胴、２４はインキ貯め部、２５はスキージ、２６は版
（フレキソ樹脂版とも言う）、２７はフィルム基材、２
８は（電磁波遮蔽性の）インキ、２９はガイドロール、
３１はベース基材、３２はＵＶ硬化性樹脂、３２ａは硬
化した部分、３２ｂは現像後の残存したＵＶ硬化性樹脂
（不溶化部とも言う）、３２ｃは後露光後のＵＶ硬化性
樹脂、３３はマスク層、３４はＵＶ光、３６はマスキン
グフィルム（フィルムパターンとも言う）、３７はバキ
ュームシート、３８は凸部である。また、Ｐｘ、Ｐｙは
それぞれ、ラインのｘ方向ピッチ、ｙ方向ピッチを表
す。以下、図１に基づいて、本例の電磁波シールド部材
を説明する。本例の電磁波シールド部材は、ＰＤＰ用等
ディスプレイパネルの前面に置き用いられる電磁波遮蔽
板用の電磁波シールド部材で、透明なフィルム基材１３
の一面上に、電磁波遮蔽性インキ１４からなるＸ方向の
線幅Ｌのライン、Ｙ方向の線幅Ｌのラインが互いに交差
するメッシュパターンからなるメッシュ部１１を配設
し、且つ、その周囲に電磁波遮蔽性インキ１４からなる
接地用枠部を設けたものであり、フィルム基材１３の一
面上への電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ部１１お
よび接地用枠部１２の配設は、ウエブ状のフィルム基材
を版胴と圧胴間に挟むようにして搬送しながら、アニロ
ックスロール等のインキ供給ロールから版胴に転写され
た電磁波遮蔽性インキを、前記版胴から、フィルム基材
の一面上に、連続的に転写形成する方式で、且つ、版胴
にＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ＴｏＰｌａｔｅ）版を用
いたフレキソ印刷方法により、行ったものである。そし
て、ライン交点部１７の膜厚がライン１５、１６の高さ
の１. ２〜２倍の範囲とし、線幅Ｌのラインの交点部１
７の交点部面積がＬ×Ｌの２〜３０倍の範囲としたもの
である。尚、ここでは、図１（ｄ）に示す交点部１７の
膜厚１とライン部１５（あるいは１６）の膜厚ｈ２と比
ｈ１／ｈ２が１. ２倍〜３倍の範囲である。ｈは交点部
１７の膜厚１とライン部１５（あるいは１６）の膜厚と
の差である。また、交点部面積とは、ここでは、図１
（ｃ）の斜線部に示すように、その平面図において、交
点部の隣接する各ライン同志を接続する外辺１８を延長
して囲まれる略矩形部１９の面積Ｓを言う。ここでは、
矩形部１９の平面図における面積ＳとＬ×Ｌとの比（Ｓ
／（Ｌ×Ｌ））が２倍〜３０倍内の範囲である。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view showing an example of an embodiment of a member for electromagnetic wave shielding of the present invention, and FIG. 1A1 is an enlarged view of a portion A1 of FIG. b) is shown in FIG.
1A is a cross-sectional view taken along line A2-A3 of FIG. 1C, in which FIG. 1C is a view showing an intersection of mesh portions, and FIG.
4A5 is a cross-sectional view taken along line 4-A5, and FIG. 2 is a view showing an example of an apparatus for performing a flexographic printing method, and FIGS.
3E is a sectional view of a CTP plate manufacturing process, and FIG.
3 (c1) to 3 (e1) are process sectional views of a conventional flexographic printing plate. 1 to 3, 10 is an electromagnetic wave shield member, 11 is a mesh portion, 12 is a grounding frame portion, 13 is a film base material, 14 is an electromagnetic wave shielding ink, and 15 is (X
Direction), 16 (Y direction) line, 17 intersection, 21 ink feed roll, 22 plate cylinder, 23 impression cylinder, 24 ink reservoir, 25 squeegee, 26 plate ( Also referred to as a flexo resin plate), 27 is a film substrate, 2
8 is ink (of electromagnetic wave shielding), 29 is a guide roll,
31 is a base material, 32 is a UV curable resin, 32a is a cured portion, 32b is a remaining UV curable resin after development (also referred to as an insolubilized portion), 32c is a UV curable resin after post-exposure, and 33 is A mask layer, 34 is UV light, 36 is a masking film (also referred to as a film pattern), 37 is a vacuum sheet, and 38 is a convex portion. Moreover, Px and Py represent the x-direction pitch and the y-direction pitch of the line, respectively. Hereinafter, the electromagnetic wave shield member of this example will be described with reference to FIG. The electromagnetic wave shield member of the present example is an electromagnetic wave shield member for an electromagnetic wave shield plate used on the front surface of a display panel such as a PDP, and is a transparent film substrate 13.
On one surface, a mesh portion 11 composed of a mesh pattern in which a line having a line width L in the X direction and a line having a line width L in the Y direction made of the electromagnetic wave shielding ink 14 intersects with each other is arranged, and around the mesh part 11. A grounding frame portion made of the electromagnetic wave shielding ink 14 is provided, and the mesh portion 11 made of the electromagnetic wave shielding ink and the grounding frame portion 12 are arranged on one surface of the film base material 13 in a web shape. While conveying the film substrate sandwiched between the plate cylinder and the impression cylinder, the electromagnetic wave shielding ink transferred from the ink supply roll such as an anilox roll to the plate cylinder, from the plate cylinder, on one surface of the film substrate, This is performed by a continuous transfer method and a flexographic printing method using a CTP (Computer To Plate) plate on the plate cylinder. The thickness of the line intersection 17 is set to be 1.2 to 2 times the height of the lines 15 and 16, and the line intersection L of the line width L
The area of the intersection of 7 is in the range of 2 to 30 times L × L. Here, the film thickness 1 of the intersection 17 and the film thickness h2 of the line portion 15 (or 16) and the ratio h1 / h2 shown in FIG. 1D are in the range of 1.2 to 3 times. h is the difference between the thickness 1 of the intersection 17 and the thickness of the line 15 (or 16). In addition, here, the area of the intersection point is as shown in FIG.
As shown by the hatched portion in (c), in the plan view, the area S of a substantially rectangular portion 19 that is surrounded by extending the outer side 18 that connects adjacent lines at the intersection is surrounded. here,
The ratio of the area S in the plan view of the rectangular portion 19 to L × L (S
/ (L × L)) is in the range of 2 to 30 times.
【００１４】透明なフィルム基材１３としては、具体的
には、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセ
ルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフ
ィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル
系樹脂、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフ
ィルム、ポリカーボネートフィルム、，ポリスルホンフ
ィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフ
ィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリ
ロニトリルフィルム等が使用できるが、特に、二軸延伸
ポリエステルが透明性、耐久性に優れている点で好適で
ある。その厚みは、通常は２００μｍ程度のものが好ま
しいが、これに限定はされない。上記透明なフィルムの
光透過率としては、１００％のものが理想であるが、透
過率８０％以上のものを選択することが好ましい。Specific examples of the transparent film substrate 13 include triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin, polyurethane resin film, polyester film. , Polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, trimethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film and the like can be used, but in particular, biaxially stretched polyester is excellent in transparency and durability. It is suitable. The thickness is usually preferably about 200 μm, but is not limited to this. The light transmittance of the transparent film is ideally 100%, but it is preferable to select the light transmittance of 80% or more.
【００１５】電磁波遮蔽性インキ１４としては、導電性
インキあるいは磁性インキを使用する。導電性インキ
は、主に電磁波の反射によって電磁波遮蔽効果を発現す
る。導電性インキとしては、その乾燥皮膜の体積抵抗率
が好ましくは１０-3Ω・ｃｍ〜１０-6Ω・ｃｍ、より好
ましくは１０-4Ω・ｃｍ〜１０-5Ω・ｃｍ程度になるよ
うに、導電性粉末をビヒクル中に分散させてインキ化し
たものを用いる。このような導電性粉末としては、例え
ば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、ニッケル、黒
鉛、錫等を１種あるいは２種以上混合して用いる。ま
た、ビヒクル中のバインダー樹脂としては、例えば、ア
クリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等を１種
又は２種以上混合して用いる。また、導電性粉末の形状
は、球や楕円球よりも、鱗片形状の方が導電性が良好と
なる点で好ましい。また、導電性粉末には、透明性を向
上させるために、他の金属又は金属酸化物をドープして
も良い。例えば、ＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）等で
ある。一方、磁性インキは、主に電磁波の吸収によって
電磁波遮蔽効果を奏する。磁性インキとしては、磁性粉
末をビヒクル中に分散させてインキ化したものを用い
る。このような磁性粉末としては、例えば、Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト等のフェライト、軟鉄、ケイ素鋼、カーボニ
ル鉄、センダスト鉄、パーマロイ等の軟磁性体等の平均
粒径１μｍ〜１０μｍ程度の粉末が用いられる。ビヒク
ル中のバインダー樹脂としては、上記導電性インキの場
合と同様のものを用いる。A conductive ink or a magnetic ink is used as the electromagnetic wave shielding ink 14. The conductive ink exhibits an electromagnetic wave shielding effect mainly by reflection of electromagnetic waves. As the conductive ink, the dry film has a volume resistivity of preferably 10 −3 Ω · cm to 10 −6 Ω · cm, more preferably 10 −4 Ω · cm to 10 −5 Ω · cm. As the ink, a conductive powder is dispersed in a vehicle to form an ink. As such a conductive powder, for example, silver, gold, platinum, copper, aluminum, nickel, graphite, tin, etc. may be used alone or in combination of two or more. As the binder resin in the vehicle, for example, acrylic resin, urethane resin, polyester resin, etc. may be used alone or in combination of two or more. The shape of the conductive powder is preferably scale-shaped rather than spherical or ellipsoidal, because the conductivity is better. Further, the conductive powder may be doped with another metal or a metal oxide in order to improve transparency. For example, it is ITO (indium-tin oxide) or the like. On the other hand, the magnetic ink has an electromagnetic wave shielding effect mainly by absorbing electromagnetic waves. As the magnetic ink, an ink prepared by dispersing magnetic powder in a vehicle is used. Examples of such magnetic powder include Mn-Zn.
Powders having an average particle size of about 1 μm to 10 μm, such as ferrite such as ferrite, soft iron, silicon steel, carbonyl iron, sendust iron, permalloy, and the like are used. As the binder resin in the vehicle, the same binder resin as in the case of the conductive ink is used.
【００１６】ここで言うフレキソ印刷法を、図２に基づ
いて簡単に説明しておく。ウエブ状のフィルム基材を２
７版胴２２と圧胴２３間に挟むようにして搬送しなが
ら、アニロックスロール等のインキ供給ロール２１から
版胴２２に転写された電磁波遮蔽性インキ２８を、版胴
２２から、フィルム基材２７の一面上に、連続的に転写
形成する方式のもので、これにより、図１に示す電磁波
遮蔽性インキ１４（図２の電磁波遮蔽性インキ２８に相
当）からなるメッシュ部１１、接地用枠部が、版胴２２
側からフィルム基材２７（図１の１３に相当）の一面に
転写形成されて配設される。尚、図２に示す形態はフレ
キソ印刷装置の１例でこれに限定されない。The flexographic printing method here will be briefly described with reference to FIG. 2 web-like film substrates
7 The electromagnetic wave shielding ink 28 transferred from the ink supply roll 21 such as an anilox roll to the plate cylinder 22 is conveyed from the plate cylinder 22 to the one surface of the film substrate 27 while being conveyed so as to be sandwiched between the plate cylinder 22 and the impression cylinder 23. On the above, a continuous transfer type is used, whereby the mesh portion 11 made of the electromagnetic wave shielding ink 14 shown in FIG. 1 (corresponding to the electromagnetic wave shielding ink 28 in FIG. 2) and the grounding frame portion are Plate cylinder 22
The film substrate 27 (corresponding to 13 in FIG. 1) is transferred from the side and formed by transfer. The form shown in FIG. 2 is an example of a flexographic printing apparatus and is not limited to this.
【００１７】次いで、ＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ
Ｐｌａｔｅ）版について、図３を基に、従来版のフレ
キソ印刷版の作製方法と比較しながら、その作製方法を
説明しておく。図３（ａ）〜図３（ｅ）はＣＴＰ版の製
造工程断面図で、図３（ａ１）、図３（ｃ１）〜図３
（ｅ１）は従来のフレキソ印刷版の工程断面図である。
先ず、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等のベー
ス基材３１の一面上に版作製のためのＵＶ硬化性樹脂３
２、マスク形成のためのマスク層３３を形成し、ベース
基材３１側から全面に露光（バック露光と言う）を行な
う。（図３（ａ））
これにより、ベース基材３１側のＵＶ硬化性樹脂３２が
硬化し、後に行なう現像の現像液に対し、不溶化する。
次いで、マスク層３３の所定領域にレーザ光を照射し
て、マスク層３３を開口して、マスク層３３からなるマ
スクを作製する。（図３（ｂ））
これにより、ＵＶ硬化性樹脂３２の面上にマスク層から
なるマスクが積層されたこととなる。次いで、作製され
たＵＶ硬化樹脂上の前記マスク層３３からなるマスクを
介して、ＵＶ硬化樹脂３２を露光し（図３（ｃ））、更
に、現像する。（図３（ｄ））
従来のフレキソ版の作製では、マスク層を設けず、ベー
ス基材３１側から全面に露光（バック露光と言う）を行
なった（図３（ａ１））後、ベース基材３１上に配設さ
れたＵＶ硬化樹脂３２の上にマスキングフィルム３６を
バキュームシート３７で抑え、両者を真空密着しなが
ら、マスキングフィルム３６を介して露光し（図３（ｃ
１））、更に、現像していた。（図３（ｄ１））
ＵＶ硬化性樹脂３２の面上に積層されたマスク層３３か
らなるマスクを介した露光は、従来のフレキソ版の作製
における露光（図３（ｂ１））に比べ、光の散乱による
影響は少なく、露光部が空気にふれているため、現像後
の不溶化部である凸部３８は、従来のフレキソ版の作製
に比べ細くなる。この後、更に、不溶化部３２ｂ全体に
ＵＶ光３４を照射しておく。従来のフレキソ版の作製の
場合も同様である。ここでは、図３（ａ）〜図３（ｅ）
に示す工程により作製された、図３（ｅ）に示す版をＣ
ＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔｅ）版と言
い、図３（ｅ１）に示される従来のフレキソ版に比べ、
細線化が可能である。Next, CTP (Computer To
The plate) will be described with reference to FIG. 3 while comparing it with the conventional flexographic printing plate. 3 (a) to 3 (e) are cross-sectional views of the manufacturing process of the CTP plate, and FIG. 3 (a1) and FIG. 3 (c1) to FIG.
(E1) is a process sectional view of a conventional flexographic printing plate.
First, a UV curable resin 3 for plate making is formed on one surface of a base substrate 31 such as PET (polyethylene terephthalate).
2. A mask layer 33 for forming a mask is formed, and the entire surface is exposed from the base material 31 side (referred to as back exposure). (FIG. 3A) As a result, the UV curable resin 32 on the side of the base material 31 is cured and becomes insoluble in the developing solution for the later development.
Then, a predetermined region of the mask layer 33 is irradiated with laser light to open the mask layer 33, and a mask made of the mask layer 33 is manufactured. (FIG. 3B) As a result, a mask made of a mask layer is laminated on the surface of the UV curable resin 32. Next, the UV curable resin 32 is exposed through the mask made of the mask layer 33 on the UV curable resin thus produced (FIG. 3C), and further developed. (FIG. 3 (d)) In the conventional production of a flexographic plate, a mask layer was not provided, and the entire surface was exposed from the base material 31 side (referred to as back exposure) (FIG. 3 (a1)). The masking film 36 is held on the UV curable resin 32 disposed on the material 31 with a vacuum sheet 37, and the two are exposed to each other through the masking film 36 while being vacuum-adhered to each other (see FIG.
1)), and was further developed. (FIG. 3 (d1)) The exposure through the mask made of the mask layer 33 laminated on the surface of the UV curable resin 32 is more effective than the exposure in the conventional flexographic plate fabrication (FIG. 3 (b1)). Since the exposed portion is exposed to the air, the convex portion 38, which is the insolubilized portion after development, becomes thinner than in the conventional flexographic plate production. After this, the UV light 34 is further applied to the entire insolubilized portion 32b. The same applies to the production of a conventional flexographic plate. Here, FIG. 3A to FIG.
The plate shown in FIG. 3 (e) manufactured by the process shown in FIG.
It is called a TP (Computer To Plate) plate, and compared to the conventional flexo plate shown in FIG. 3 (e1),
Thin lines are possible.
【００１８】本例では、ライン交点部１７の膜厚がライ
ン１５、１６の高さの１. ２〜３倍とし、線幅Ｌのライ
ンの交点部１７の交点部面積がＬ×Ｌの２〜３０倍とし
たが、この理由を簡単に述べておく。図１（ｄ）に示す
交点部１７の膜厚ｈ１をライン部１５（あるいは１６）
の膜厚ｈ２の比ｈ１／ｈ２は、図２に示す装置を用いた
フレキソ印刷方法においては、ブロッキングを防ぐ面か
ら大きいほうが良いが、比ｈ１／ｈ２が１. ２より小さ
い場合には、ブロッキングを防止できる効果はなく、比
ｈ１／ｈ２が３より大きいと欠落し易く、結局、比ｈ１
／ｈ２を１. ２〜３とすることが好ましい。また、矩形
部１９の平面図における面積ＳとＬ×Ｌとの比（Ｓ／
（Ｌ×Ｌ））が２より小さいとインキ転移量が小さくな
り、メッシュ部１１の開口率の面からは、３０が好まし
く、結局、矩形部１９の平面図における面積ＳとＬ×Ｌ
との比（Ｓ／（Ｌ×Ｌ））は、２〜３０の範囲が好まし
い。In this example, the film thickness of the line intersection 17 is 1.2 to 3 times the height of the lines 15 and 16, and the area of the intersection 17 of the line having the line width L is L × L = 2. Although it is set to 30 times, the reason for this will be briefly described. The film thickness h1 of the intersection 17 shown in FIG.
In the flexographic printing method using the apparatus shown in FIG. 2, it is preferable that the ratio h1 / h2 of the film thickness h2 is large in order to prevent blocking, but if the ratio h1 / h2 is smaller than 1.2, blocking Is not effective, and if the ratio h1 / h2 is larger than 3, it is easy to drop out, and eventually the ratio h1
It is preferable that / h2 is 1.2 to 3. In addition, the ratio (S / L) of the area S and L × L in the plan view of the rectangular portion 19
When (L × L)) is less than 2, the amount of ink transfer is small, and in view of the aperture ratio of the mesh portion 11, 30 is preferable, and in the end, the area S and L × L in the plan view of the rectangular portion 19 are
The ratio (S / (L × L)) is preferably in the range of 2 to 30.
【００１９】[0019]
【実施例】次いで実施例を挙げ、本発明を更に説明す
る。実施例は、図２に示すフレキソ印刷装置にて、ＣＴ
Ｐ版を用い、図１（ａ）において、設計寸法の３０μｍ
のライン幅について、ピッチ３８０ｍｍのメッシュ部を
持つ、各電磁波シールド用部材１０を、それぞれ、フレ
キソ印刷にて作製したものである。フレキソ樹脂版２６
に圧胴２３を適度に押しつけながら、印刷速度５０ｍ／
ｍｉｎで、ＰＥＴからなるフィルム基材２７の一面上に
電磁遮蔽性インキ２８を版胴２２側から転写して、メッ
シュ部（図１の１１）等を形成した。インキ供給用ロー
ルとしては、６００線／ｉｎｃｈのアニロックスロール
を用いた。インキ物性は、１０００ｃＰｓの粘度のもの
で、チクソ性を有するものを用いた。尚、ＣＴＰ版は、
それぞれ、図３（ａ）〜図３（ｅ）に示す製造工程に
て、目的とする版形状に合せて作製した。結果は、図１
におけるｈ１／ｈ２が２. １となった。また、図１にお
ける矩形部１９の面積Ｓについては、Ｓ／（Ｌ×Ｌ）が
７. １となった。EXAMPLES Next, the present invention will be further described with reference to examples. In the example, the flexographic printing apparatus shown in FIG.
Using the P plate, the design dimension of 30 μm in FIG.
Each of the electromagnetic wave shielding members 10 having a mesh portion with a line width of 380 mm is manufactured by flexographic printing. Flexo resin plate 26
While appropriately pressing the impression cylinder 23, a printing speed of 50 m /
The electromagnetic shielding ink 28 was transferred from the plate cylinder 22 side onto one surface of the film base material 27 made of PET for a period of time to form a mesh portion (11 in FIG. 1) and the like. As the ink supply roll, 600 lines / inch anilox roll was used. The ink had a viscosity of 1000 cPs and had thixotropy. The CTP version is
Each was manufactured according to the target plate shape in the manufacturing process shown in FIGS. 3 (a) to 3 (e). The result is shown in Figure 1.
H1 / h2 in 2.1 became 2.1. As for the area S of the rectangular portion 19 in FIG. 1, S / (L × L) was 7.1.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明は、上記のように、生産性の面、
品質の面から、量的、コスト的に対応できるフレキソ印
刷方法により作製されたもので、フィルム基材の一面上
に、電磁波遮蔽効果を有するメッシュを配設した電磁波
シールド用の部材の提供を、品質面でも対応できるもの
としている。As described above, the present invention has the following advantages in terms of productivity:
From the aspect of quality, it was produced by a flexographic printing method that can be quantitatively and cost-effectively provided, and on one surface of the film substrate, provision of a member for electromagnetic wave shielding in which a mesh having an electromagnetic wave shielding effect is arranged, It is supposed to be able to support quality.
【図１】図１（ａ）は本発明の電磁波シールド用の部材
の実施の形態の１例を示した平面図で、図１（ａ１）は
図１（ａ）のＡ１部の拡大図で、図１（ｂ）は図１
（ａ）のＡ２−Ａ３における断面図で、図１（ｃ）はメ
ッシュ部の交点部を示した図で、図１（ｄ）は図１
（ｃ）のＡ４−Ａ５における断面図である。FIG. 1 (a) is a plan view showing an example of an embodiment of a member for an electromagnetic wave shield of the present invention, and FIG. 1 (a1) is an enlarged view of a portion A1 of FIG. 1 (a). , FIG. 1 (b) is shown in FIG.
1A is a cross-sectional view taken along line A2-A3, FIG. 1C is a view showing an intersection of mesh portions, and FIG. 1D is FIG.
It is sectional drawing in A4-A5 of (c).
【図２】フレキソ印刷法を実施する装置の１例を示した
図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of an apparatus for performing a flexographic printing method.
【図３】図３（ａ）〜図３（ｅ）はＣＴＰ版の製造工程
断面図で、図３（ａ１）、図３（ｃ１）〜図３（ｅ１）
は従来のフレキソ印刷版の工程断面図である。3 (a) to 3 (e) are cross-sectional views of a manufacturing process of a CTP plate, and FIGS. 3 (a1) and 3 (c1) to 3 (e1).
FIG. 4 is a process sectional view of a conventional flexographic printing plate.
【図４】金属薄膜等からなるメッシュを用いた電磁波遮
蔽板を説明するための図FIG. 4 is a diagram for explaining an electromagnetic wave shielding plate using a mesh made of a metal thin film or the like.
１０ 電磁波シールド部材
１１ メッシュ部
１２ 接地用枠部
１３ フィルム基材
１４ 電磁波遮蔽性インキ
１５ （Ｘ方向の）ライン
１６ （Ｙ方向の）ライン
１７ 交点部
Ｐｘ、 ラインのｘ方向ピッチ
Ｐｙ ラインのｙ方向ピッチ
２１ インキ供給用ロール
２２ 版胴
２３ 圧胴
２４ インキ貯め部
２５ スキージ
２６ 版（フレキソ樹脂版とも言う）
２７ フィルム基材
２８ （電磁波遮蔽性の）インキ
２９ ガイドロール
３１ ベース基材
３２ ＵＶ硬化性樹脂
３２ａ 硬化した部分
３２ｂ 現像後の残存したＵＶ硬化性樹脂
（不溶化部とも言う）
３２ｃ 後露光後のＵＶ硬化性樹脂
３３ マスク層
３４ ＵＶ光
３６ マスキングフィルム（フィルムパタ
ーンとも言う）
３７ バキュームシート
３８ 凸部
４０ 電磁波シールド用電磁波遮蔽板
４１ メッシュ部
４２ 接地用枠部
４３ 透明基板
４４ 金属薄膜
４５、４６ ライン10 Electromagnetic Wave Shielding Member 11 Mesh Part 12 Frame Part for Grounding 13 Film Base Material 14 Electromagnetic Wave Shielding Ink 15 Line 16 (X Direction) Line 17 Intersection Px, x Pitch of Line Py Line y Direction Pitch 21 Ink supply roll 22 Plate cylinder 23 Impression drum 24 Ink storage section 25 Squeegee 26 Plate (also called flexo resin plate) 27 Film base material 28 (electromagnetic wave shielding) ink 29 Guide roll 31 Base base material 32 UV curability Resin 32a Cured portion 32b UV curable resin remaining after development (also referred to as insolubilized portion) 32c UV curable resin after post-exposure 33 Mask layer 34 UV light 36 Masking film (also referred to as film pattern) 37 Vacuum sheet 38 Convex Part 40 Electromagnetic wave shield plate Electromagnetic wave shield plate 41 Mesh part 42 For grounding Part 43 transparent substrate 44 the metal film 45 lines
フロントページの続き (72)発明者 齋藤 信雄 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2E001 DH01 FA32 GA05 GA23 GA32 HB01 HB04 HB05 JD02 KA01 5E321 AA04 AA46 BB32 BB41 BB51 BB53 GG05 GH01 Continued front page (72) Inventor Nobuo Saito 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai Nippon Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2E001 DH01 FA32 GA05 GA23 GA32 HB01 HB04 HB05 JD02 KA01 5E321 AA04 AA46 BB32 BB41 BB51 BB53 GG05 GH01
Claims (3)
の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィ
ルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する
電磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜
厚がライン部分の１. ２倍〜３倍であることを特徴とす
る電磁波シールド用の部材。1. An electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding property, wherein a pattern of two or more lines having a line width L intersecting each other, such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink, is arranged on one surface of a film substrate. A member for electromagnetic wave shielding, wherein the film thickness at the line intersection is 1.2 to 3 times that of the line.
の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィ
ルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する
電磁波シールド用の部材であって、線幅Ｌのラインの交
点部分の面積がＬ×Ｌの２倍〜３０倍であることを特徴
とする電磁波シールド用の部材。2. An electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding property, in which a pattern, such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink, in which two or more lines having a line width L intersect is provided on one surface of a film substrate. A member for electromagnetic wave shielding, wherein an area of an intersection of lines having a line width L is 2 to 30 times L × L.
に挟むようにして搬送しながら、アニロックスロール等
のインキ供給ロールから版胴に転写された電磁波遮蔽性
インキを、前記版胴から、フィルム基材の一面上に、連
続的に転写形成する方式で、且つ、版胴にＣＴＰ（Ｃｏ
ｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔｅ）版を用いたフレキソ
印刷方法により、電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ
等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフ
ィルム基材の一面上に配設されたものであることを特徴
とする、請求項１ないし２記載の電磁波シールド用の部
材。3. An electromagnetic wave shielding ink transferred from an ink supply roll such as an anilox roll to the plate cylinder while transporting a web-shaped film substrate sandwiched between the plate cylinder and the impression cylinder, It is a method of continuously transferring and forming on one surface of a film substrate, and CTP (Co
A pattern in which two or more lines having a line width L, such as a mesh made of an electromagnetic wave shielding ink, intersect is arranged on one surface of a film substrate by a flexographic printing method using a printer To Plate). The member for electromagnetic wave shielding according to claim 1 or 2, characterized in that.
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