JPH11121322A - 投影露光装置及び方法 - Google Patents
投影露光装置及び方法Info
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- JPH11121322A JPH11121322A JP9291807A JP29180797A JPH11121322A JP H11121322 A JPH11121322 A JP H11121322A JP 9291807 A JP9291807 A JP 9291807A JP 29180797 A JP29180797 A JP 29180797A JP H11121322 A JPH11121322 A JP H11121322A
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- projection optical
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 投影光学系の特定収差のみについての収差補
正が容易で、照明光の条件変化に対して露光性能の悪化
が少ない投影露光装置を提供すること。 【解決手段】 平行板駆動装置６３に設けた第１駆動部
６３ａは、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回
転位置を調整して、平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な
面から所望の角度だけ傾ける。これにより、露光条件の
変化によって本体部分７０で生じた特定方向の偏心コマ
収差のみを独立して補正することができる。一方、第２
駆動部６３ｂは、第１部材８２と本体部分７０との相対
的な回転位置を調整して、平行平面板８１の傾き方向を
適宜設定する。これにより、露光条件の変化によって生
じた偏心コマ収差の補正方向を調節することができる。
正が容易で、照明光の条件変化に対して露光性能の悪化
が少ない投影露光装置を提供すること。 【解決手段】 平行板駆動装置６３に設けた第１駆動部
６３ａは、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回
転位置を調整して、平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な
面から所望の角度だけ傾ける。これにより、露光条件の
変化によって本体部分７０で生じた特定方向の偏心コマ
収差のみを独立して補正することができる。一方、第２
駆動部６３ｂは、第１部材８２と本体部分７０との相対
的な回転位置を調整して、平行平面板８１の傾き方向を
適宜設定する。これにより、露光条件の変化によって生
じた偏心コマ収差の補正方向を調節することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明は、半導体基板等の
感光基板にマスクのパターンを投影する投影光学系を備
える投影露光装置及び方法に関し、特に投影光学系の収
差補正機構を備える投影露光装置及び方法に関する。
感光基板にマスクのパターンを投影する投影光学系を備
える投影露光装置及び方法に関し、特に投影光学系の収
差補正機構を備える投影露光装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】投影露光装置では、マスクと呼ばれる原
画に描かれた回路パターンを投影レンズを用いて半導体
ウェハのレジスト層に焼付け、それを現像することで所
望の回路のレジストパターンを形成している。
画に描かれた回路パターンを投影レンズを用いて半導体
ウェハのレジスト層に焼付け、それを現像することで所
望の回路のレジストパターンを形成している。
【０００３】このような投影露光装置に組み込まれる投
影レンズは、回路パターンの集積度を決定する要因とな
るものであり、単に投影露光装置に取り付けられるだけ
でなく、投影されたマスクのパターンの収差を極限まで
低減するための収差補正が適宜行われる。
影レンズは、回路パターンの集積度を決定する要因とな
るものであり、単に投影露光装置に取り付けられるだけ
でなく、投影されたマスクのパターンの収差を極限まで
低減するための収差補正が適宜行われる。
【０００４】このような収差補正は、投影レンズを構成
する特定のレンズを他のレンズ等から独立して光軸と直
角な面内で移動させること等によって行われている。
する特定のレンズを他のレンズ等から独立して光軸と直
角な面内で移動させること等によって行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特定のレンズ
を光軸と直角な面内で移動させる上記のような収差補正
では、本来補正しようとする収差以外にも副作用として
他の収差が発生してしまうという問題があった。すなわ
ち、目的とする収差補正により他の収差が発生してしま
うという副作用があるため、特定の収差について独立し
た補正ができず、露光性能を向上させることが困難であ
るという欠点を有していた。
を光軸と直角な面内で移動させる上記のような収差補正
では、本来補正しようとする収差以外にも副作用として
他の収差が発生してしまうという問題があった。すなわ
ち、目的とする収差補正により他の収差が発生してしま
うという副作用があるため、特定の収差について独立し
た補正ができず、露光性能を向上させることが困難であ
るという欠点を有していた。
【０００６】特に、投影レンズに入射してくる照明光の
条件が変化することにより偏心コマ収差が大きく変化し
てしまう場合が多く、それのみを適宜補正する手段を有
しいなかったため、照明条件の変化に伴って露光性能が
悪化してしまうという問題点があった。
条件が変化することにより偏心コマ収差が大きく変化し
てしまう場合が多く、それのみを適宜補正する手段を有
しいなかったため、照明条件の変化に伴って露光性能が
悪化してしまうという問題点があった。
【０００７】そこで、本発明は、このような従来の問題
点を解決し、投影光学系の特定収差のみについての収差
補正が容易で、照明光の条件変化に対して露光性能の悪
化が少ない投影露光装置及び投影露光方法を提供するこ
とを目的とする。
点を解決し、投影光学系の特定収差のみについての収差
補正が容易で、照明光の条件変化に対して露光性能の悪
化が少ない投影露光装置及び投影露光方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するためのものであり、以下に、実施形態に示した
各図面を用いてその内容を説明する。
達成するためのものであり、以下に、実施形態に示した
各図面を用いてその内容を説明する。
【０００９】本発明の投影露光装置は、感光基板（２
５）にマスク（１６）のパターンを投影する投影光学系
部分（７０）と、前記投影光学系部分の前記感光基板側
に前記投影光学系部分の光軸（ＡＸ）にほぼ垂直に配置
される平行平面板（８１）と、前記投影光学系部分の光
軸（ＡＸ）に対する前記平行平面板（８１）の法線の傾
き角と前記平行平面板（８１）の傾き方向との少なくと
も一方を調整する調整装置（８０，６３）とを備えるこ
とを特徴とする。
５）にマスク（１６）のパターンを投影する投影光学系
部分（７０）と、前記投影光学系部分の前記感光基板側
に前記投影光学系部分の光軸（ＡＸ）にほぼ垂直に配置
される平行平面板（８１）と、前記投影光学系部分の光
軸（ＡＸ）に対する前記平行平面板（８１）の法線の傾
き角と前記平行平面板（８１）の傾き方向との少なくと
も一方を調整する調整装置（８０，６３）とを備えるこ
とを特徴とする。
【００１０】また、好ましい態様によれば、前記マスク
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更（７）する照明光学系（１，４，６，
７，１１，１３，１４，１５）を更に備え、前記調整装
置（８０，６３）が、前記２次光源の変更（７）に連動
して、前記平行平面板（８１）の傾き角及び傾き方向の
少なくとも一方を調整することを特徴とする。
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更（７）する照明光学系（１，４，６，
７，１１，１３，１４，１５）を更に備え、前記調整装
置（８０，６３）が、前記２次光源の変更（７）に連動
して、前記平行平面板（８１）の傾き角及び傾き方向の
少なくとも一方を調整することを特徴とする。
【００１１】また、別の態様によれば、マスク（１６）
のパターンで感光基板（２５）を露光する投影露光装置
において、前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ
直交する光軸に沿って配列される複数の光学素子（７
０）と前記感光基板側に配置される平行平面板とを有す
る投影光学系（８１）と、前記感光基板の露光条件の変
更に応じて前記平行平面板（８１）を移動して投影光学
系（２３）の収差を調整する調整装置（８０，６３）と
を備えたことを特徴とする。
のパターンで感光基板（２５）を露光する投影露光装置
において、前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ
直交する光軸に沿って配列される複数の光学素子（７
０）と前記感光基板側に配置される平行平面板とを有す
る投影光学系（８１）と、前記感光基板の露光条件の変
更に応じて前記平行平面板（８１）を移動して投影光学
系（２３）の収差を調整する調整装置（８０，６３）と
を備えたことを特徴とする。
【００１２】また、好ましい態様によれば、前記調整装
置（８０，６３）が、前記平行平面板（８１）を実質的
に回転させることなく前記投影光学系の光軸（ＡＸ）と
垂直な面に対して相対的に傾けて前記投影光学系（２
３）の偏心コマ収差を調整することを特徴とする。
置（８０，６３）が、前記平行平面板（８１）を実質的
に回転させることなく前記投影光学系の光軸（ＡＸ）と
垂直な面に対して相対的に傾けて前記投影光学系（２
３）の偏心コマ収差を調整することを特徴とする。
【００１３】また、好ましい態様によれば、偏心コマ収
差以外の前記投影光学系の収差、投影倍率、及び焦点位
置の少なくとも１つを調整するために、前記投影光学系
の複数の光学素子（７０）の少なくとも１つ（７０ａ）
を移動する駆動装置（６２）を更に備えたことを特徴と
する。
差以外の前記投影光学系の収差、投影倍率、及び焦点位
置の少なくとも１つを調整するために、前記投影光学系
の複数の光学素子（７０）の少なくとも１つ（７０ａ）
を移動する駆動装置（６２）を更に備えたことを特徴と
する。
【００１４】また、好ましい態様によれば、前記マスク
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系（１，４，６，７，１
１，１３，１４，１５）と、前記照明光学系の開口数を
可変とする開口絞り（７）とを更に備え、前記感光基板
の露光条件が、前記２次光源の大きさと形状、前記マス
ク上のパターンの種類、及び前記投影光学系の開口数の
少なくとも１つを含むことを特徴とする。
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系（１，４，６，７，１
１，１３，１４，１５）と、前記照明光学系の開口数を
可変とする開口絞り（７）とを更に備え、前記感光基板
の露光条件が、前記２次光源の大きさと形状、前記マス
ク上のパターンの種類、及び前記投影光学系の開口数の
少なくとも１つを含むことを特徴とする。
【００１５】また、別の態様によれば、マスク（１６）
のパターンで感光基板（２５）を露光する投影露光装置
において、前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ
直交する光軸に沿って配列される平行平面板（８１）を
有する投影光学系（２３）と、前記投影光学系の光軸
（ＡＸ）と垂直な面に対して前記平行平面板（８１）を
傾ける駆動機構（６３，８１）とを備えたことを特徴と
する。
のパターンで感光基板（２５）を露光する投影露光装置
において、前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ
直交する光軸に沿って配列される平行平面板（８１）を
有する投影光学系（２３）と、前記投影光学系の光軸
（ＡＸ）と垂直な面に対して前記平行平面板（８１）を
傾ける駆動機構（６３，８１）とを備えたことを特徴と
する。
【００１６】また、好ましい態様によれば、前記投影光
学系（２３）の投影倍率に応じた速度比で前記マスクと
前記感光基板とを同期移動するステージシステム（１
８，１９，２７，２９）を更に備え、前記ステージシス
テム（１８，１９，２７，２９）を駆動して、前記マス
クのパターンで前記感光基板を走査露光することを特徴
とする。
学系（２３）の投影倍率に応じた速度比で前記マスクと
前記感光基板とを同期移動するステージシステム（１
８，１９，２７，２９）を更に備え、前記ステージシス
テム（１８，１９，２７，２９）を駆動して、前記マス
クのパターンで前記感光基板を走査露光することを特徴
とする。
【００１７】本発明の投影露光方法は、投影光学系（２
３）を介してマスク（１６）のパターンで感光基板（２
５）を露光する投影露光方法において、２次光源から出
射して前記マスク（１６）を通過する光ビームの前記投
影光学系（２３）の瞳面（Ｅｐ）上での光強度分布を変
更する第１工程と、前記光強度分布の変更に連動して、
前記投影光学系（２３）の前記感光基板（２５）側に配
置される平行平面板（８１）を移動する第２工程とを含
むことを特徴とする。
３）を介してマスク（１６）のパターンで感光基板（２
５）を露光する投影露光方法において、２次光源から出
射して前記マスク（１６）を通過する光ビームの前記投
影光学系（２３）の瞳面（Ｅｐ）上での光強度分布を変
更する第１工程と、前記光強度分布の変更に連動して、
前記投影光学系（２３）の前記感光基板（２５）側に配
置される平行平面板（８１）を移動する第２工程とを含
むことを特徴とする。
【００１８】また、好ましい態様によれば、前記第１工
程が、前記マスク（１６）のパターンに応じて２次光源
の大きさと形状との少なくとも一方を変更する（１７，
１８）ことを特徴とする。
程が、前記マスク（１６）のパターンに応じて２次光源
の大きさと形状との少なくとも一方を変更する（１７，
１８）ことを特徴とする。
【００１９】また、好ましい態様によれば、前記第２工
程が、前記平行平面板（８１）を実質的に回転させるこ
となく前記投影光学系（２３）の光軸（ＡＸ）と垂直な
面に対して相対的に傾けて前記投影光学系（２３）の偏
心コマ収差を調整することを特徴とする。
程が、前記平行平面板（８１）を実質的に回転させるこ
となく前記投影光学系（２３）の光軸（ＡＸ）と垂直な
面に対して相対的に傾けて前記投影光学系（２３）の偏
心コマ収差を調整することを特徴とする。
【００２０】
〔第１実施形態〕図１は、本発明の第１実施形態に係る
投影露光装置の概略的構成を説明する図である。図示の
ように、投影露光装置本体は、チャンバ１００内に収容
されており、内部温度が一定に保たれるように制御され
ている。
投影露光装置の概略的構成を説明する図である。図示の
ように、投影露光装置本体は、チャンバ１００内に収容
されており、内部温度が一定に保たれるように制御され
ている。
【００２１】まず、チャンバ１００内の適所に配置され
たマスクであるレチクル１６を照明するための照明光学
系の概要について簡単に説明する。チャンバ１００外に
設けたＡｒＦエキシマレーザ光源１は、レーザ光をほぼ
平行光束として出射する。ＡｒＦエキシマレーザ光源１
からのレーザ光は、シャッタ２を介して投影露光装置の
本体側の光透過窓３へ導かれる。光透過窓３を通過した
レーザ光は、チャンバ１００内に設けたビーム整形光学
系４で所定断面形状のレーザ光に整形され、タレット板
ＴＰに設けられた透過率が異なる複数のＮＤフィルタの
いずれか１つ（図１ではＮＤ１）を通過して反射ミラー
５で反射され、オプティカルインテグレータであるフラ
イアイレンズ６に導かれる。
たマスクであるレチクル１６を照明するための照明光学
系の概要について簡単に説明する。チャンバ１００外に
設けたＡｒＦエキシマレーザ光源１は、レーザ光をほぼ
平行光束として出射する。ＡｒＦエキシマレーザ光源１
からのレーザ光は、シャッタ２を介して投影露光装置の
本体側の光透過窓３へ導かれる。光透過窓３を通過した
レーザ光は、チャンバ１００内に設けたビーム整形光学
系４で所定断面形状のレーザ光に整形され、タレット板
ＴＰに設けられた透過率が異なる複数のＮＤフィルタの
いずれか１つ（図１ではＮＤ１）を通過して反射ミラー
５で反射され、オプティカルインテグレータであるフラ
イアイレンズ６に導かれる。
【００２２】このフライアレンズ６によって形成される
多数の２次光源からの光束は、タレット板７の可変開口
絞りを通過してビームスプリッタ９で２つの光路に分岐
される。ビームスプリッタ９からの反射光は、光電検出
器１０に導かれて照明光の照度（強度）が検出される。
検出された照度に応じた信号は、メインコントローラ４
０に入力される。一方、ビームスプリッタ９からの透過
光は、可変視野絞り１２を間に挟んだ一対のリレーレン
ズ１１、１３を通って反射ミラー１４で反射された後、
複数のレンズ等の屈折性光学素子で構成されるコンデン
サ光学系１５にて集光される。これにより、リレーレン
ズ１１、１３間に設けた可変視野絞り１２の開口によっ
て規定されるレチクル１６上の照明領域が重畳的にほぼ
均一に照明される。
多数の２次光源からの光束は、タレット板７の可変開口
絞りを通過してビームスプリッタ９で２つの光路に分岐
される。ビームスプリッタ９からの反射光は、光電検出
器１０に導かれて照明光の照度（強度）が検出される。
検出された照度に応じた信号は、メインコントローラ４
０に入力される。一方、ビームスプリッタ９からの透過
光は、可変視野絞り１２を間に挟んだ一対のリレーレン
ズ１１、１３を通って反射ミラー１４で反射された後、
複数のレンズ等の屈折性光学素子で構成されるコンデン
サ光学系１５にて集光される。これにより、リレーレン
ズ１１、１３間に設けた可変視野絞り１２の開口によっ
て規定されるレチクル１６上の照明領域が重畳的にほぼ
均一に照明される。
【００２３】次に、感光基板であるウェハ２５にレチク
ル１６上の回路パターンを投影するための投影光学系２
３について簡単に説明する。投影光学系２３は、光学素
子である複数のレンズから構成される本体部分７０と、
本体部分７０の下部に配置されるとともに内蔵した平行
平面板８１を移動して本体部分７０の特定の収差を調整
する調整装置８０とを備える。照明光学系によって照明
されたレチクル１６上の回路パターンの像は、投影光学
系２３によってウェハ２５上に縮小投影され、ウェハ２
５上に塗布されたレジストが感光して、ウェハ２５上に
回路パターン像が転写される。
ル１６上の回路パターンを投影するための投影光学系２
３について簡単に説明する。投影光学系２３は、光学素
子である複数のレンズから構成される本体部分７０と、
本体部分７０の下部に配置されるとともに内蔵した平行
平面板８１を移動して本体部分７０の特定の収差を調整
する調整装置８０とを備える。照明光学系によって照明
されたレチクル１６上の回路パターンの像は、投影光学
系２３によってウェハ２５上に縮小投影され、ウェハ２
５上に塗布されたレジストが感光して、ウェハ２５上に
回路パターン像が転写される。
【００２４】以下、各部の詳細について説明する。照明
光学系を構成するＡｒＦエキシマレーザ光源１は、例え
ば波長１９３ｎｍのレーザ光を発生する。このＡｒＦエ
キシマレーザ光源１は、光源制御回路４５から送出され
るトリガパルスに応じてパルス光を発振する。光源制御
回路４５は、ＡｒＦエキシマレーザ光源１への印加電圧
（充電電圧）を調整して、ＡｒＦエキシマレーザ光源１
から射出されるパルス光の強度を調整する。なお、光源
制御回路４５は、投影露光装置全体を統括制御するメイ
ンコントローラ４０からの指令に従ってＡｒＦエキシマ
レーザ光源１を制御する。
光学系を構成するＡｒＦエキシマレーザ光源１は、例え
ば波長１９３ｎｍのレーザ光を発生する。このＡｒＦエ
キシマレーザ光源１は、光源制御回路４５から送出され
るトリガパルスに応じてパルス光を発振する。光源制御
回路４５は、ＡｒＦエキシマレーザ光源１への印加電圧
（充電電圧）を調整して、ＡｒＦエキシマレーザ光源１
から射出されるパルス光の強度を調整する。なお、光源
制御回路４５は、投影露光装置全体を統括制御するメイ
ンコントローラ４０からの指令に従ってＡｒＦエキシマ
レーザ光源１を制御する。
【００２５】シャッタ２は、例えばウェハまたはレチク
ルの交換中に照明光路を閉じ、これによりＡｒＦエキシ
マレーザ光源１が自己発振して、パルス光の中心波長、
波長幅および強度の少なくとも１つを含むビーム特性を
安定化（調節）する。
ルの交換中に照明光路を閉じ、これによりＡｒＦエキシ
マレーザ光源１が自己発振して、パルス光の中心波長、
波長幅および強度の少なくとも１つを含むビーム特性を
安定化（調節）する。
【００２６】タレット板ＴＰは、６つのＮＤフィルタ
（図１ではＮＤ１、ＮＤ２のみ図示）を保持しており、
メインコントローラ４０に制御されたモータＭＴ１によ
ってタレット板ＴＰを回転させることにより、６つのフ
ィルタがそれぞれ回転可能に照明光路内に配置されるよ
うになっている。ここで、６つのＮＤフィルタは、ウェ
ハ２５上のレジスト感度、ＡｒＦエキシマレーザ光源１
の強度のばらつき、およびウェハ２５上の１点に照射す
べきパルス光の数（露光パルス数）に応じて適宜選択さ
れる。このうち露光パルス数とは、可変視野絞り１２に
よって規定されるレチクル１６上の照明領域と投影光学
系２３に関して共役な領域（すなわち、照明領域内に存
在するレチクル１６のパターンの一部の像が投影される
領域）を、ウェハ２５上の１点がその走査方向に沿って
横切る間にその１点に照射されるパルス光の数である。
（図１ではＮＤ１、ＮＤ２のみ図示）を保持しており、
メインコントローラ４０に制御されたモータＭＴ１によ
ってタレット板ＴＰを回転させることにより、６つのフ
ィルタがそれぞれ回転可能に照明光路内に配置されるよ
うになっている。ここで、６つのＮＤフィルタは、ウェ
ハ２５上のレジスト感度、ＡｒＦエキシマレーザ光源１
の強度のばらつき、およびウェハ２５上の１点に照射す
べきパルス光の数（露光パルス数）に応じて適宜選択さ
れる。このうち露光パルス数とは、可変視野絞り１２に
よって規定されるレチクル１６上の照明領域と投影光学
系２３に関して共役な領域（すなわち、照明領域内に存
在するレチクル１６のパターンの一部の像が投影される
領域）を、ウェハ２５上の１点がその走査方向に沿って
横切る間にその１点に照射されるパルス光の数である。
【００２７】なお、図１中のタレット板ＴＰの代わり
に、例えば複数のスリットをそれぞれ有する２枚のプレ
ートを対向して配置し、その２枚のプレートをスリット
の配列方向に相対移動してパルス光の強度を調整するも
のでもよい。
に、例えば複数のスリットをそれぞれ有する２枚のプレ
ートを対向して配置し、その２枚のプレートをスリット
の配列方向に相対移動してパルス光の強度を調整するも
のでもよい。
【００２８】この実施形態では、光源制御回路４５によ
るＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振強度の調整と、タ
レット板ＴＰによるパルス光の透過率（減光率）の調整
との少なくとも一方によって、レチクル１６すなわちウ
ェハ２５上でのパルス光の強度を調整できるようになっ
ている。
るＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振強度の調整と、タ
レット板ＴＰによるパルス光の透過率（減光率）の調整
との少なくとも一方によって、レチクル１６すなわちウ
ェハ２５上でのパルス光の強度を調整できるようになっ
ている。
【００２９】ミラー５は、レチクル１６とウェハ２５と
を同期移動してレチクル１６のパターンの像でウェハ２
５を露光している間、モータＭＴ２によって回転してい
る（この技術については、例えば特開平７−１４２３５
４号公報参照）。このミラー５の回転により、走査露光
中、可変視野絞り１２によって規定されるレチクル１６
上の照明領域内でスペックルなどの干渉縞が移動し、こ
れによってウェハ２５上でのパルス光の積算光量分布が
ほぼ均一化される。
を同期移動してレチクル１６のパターンの像でウェハ２
５を露光している間、モータＭＴ２によって回転してい
る（この技術については、例えば特開平７−１４２３５
４号公報参照）。このミラー５の回転により、走査露光
中、可変視野絞り１２によって規定されるレチクル１６
上の照明領域内でスペックルなどの干渉縞が移動し、こ
れによってウェハ２５上でのパルス光の積算光量分布が
ほぼ均一化される。
【００３０】この方法では、メインコントローラ４０に
制御されたミラー５の回転に伴って、レチクル１６上の
１点がその走査方向に沿ってその照明領域を横切る間に
その干渉縞を一回移動させる。また、照明領域内で干渉
縞が走査方向、およびその走査方向と直交する方向にそ
れぞれ移動するように反射ミラー５を振動させることが
好ましい。なお、照明領域内で干渉縞をレチクル１６の
走査方向に沿って移動させるときは、前後一対のパルス
発光の間にレチクル１６が移動する距離を考慮し、レチ
クル１６上の１点が照明領域を横切る間にその１点と干
渉縞との位置関係が適宜変化するように、そのパルス発
光間での反射ミラー５の振り角、すなわち干渉縞の移動
量を決定する。
制御されたミラー５の回転に伴って、レチクル１６上の
１点がその走査方向に沿ってその照明領域を横切る間に
その干渉縞を一回移動させる。また、照明領域内で干渉
縞が走査方向、およびその走査方向と直交する方向にそ
れぞれ移動するように反射ミラー５を振動させることが
好ましい。なお、照明領域内で干渉縞をレチクル１６の
走査方向に沿って移動させるときは、前後一対のパルス
発光の間にレチクル１６が移動する距離を考慮し、レチ
クル１６上の１点が照明領域を横切る間にその１点と干
渉縞との位置関係が適宜変化するように、そのパルス発
光間での反射ミラー５の振り角、すなわち干渉縞の移動
量を決定する。
【００３１】フライアイレンズ６は、多数のレンズ素子
が束ねられて構成されており、このフライアイレンズ６
の出射端面側には、これを構成するレンズ素子の数に対
応した多数の光源像（２次光源）が形成される。
が束ねられて構成されており、このフライアイレンズ６
の出射端面側には、これを構成するレンズ素子の数に対
応した多数の光源像（２次光源）が形成される。
【００３２】なお、この実施形態では、フライアイレン
ズ６を１つ設けているが、例えば特開平１−２５９５３
３号公報に開示されているように、反射ミラー５とタレ
ット板ＴＰとの間に、第２のフライアイレンズを設けて
もよく、さらにはフライアイレンズ６の代わりに内面反
射型のロッド状の光学部材を束ねたオプティカルインテ
グレータを用いてもよい。
ズ６を１つ設けているが、例えば特開平１−２５９５３
３号公報に開示されているように、反射ミラー５とタレ
ット板ＴＰとの間に、第２のフライアイレンズを設けて
もよく、さらにはフライアイレンズ６の代わりに内面反
射型のロッド状の光学部材を束ねたオプティカルインテ
グレータを用いてもよい。
【００３３】フライアイレンズ６により多数の２次光源
が形成される位置近傍には、２次光源の形状および大き
さの少なくとも一方を調節するためのタレット板７が設
けられている。
が形成される位置近傍には、２次光源の形状および大き
さの少なくとも一方を調節するためのタレット板７が設
けられている。
【００３４】このタレット板７は、石英性の透明基板か
らなり、図２に示すように、互いに形状と大きさの少な
くとも一方が異なる複数の開口絞り７ａ〜７ｆが形成さ
れている。これらのうち、円形開口を持つ３つの開口絞
り７ａ〜７ｃは、σ値（コヒレーント・ファクタ）を積
極的に変化させるためのものである。また、３つの変形
開口を持つ開口絞り７ｄ〜７ｆは投影光学系２３の解像
力（焦点深度）を向上させるためのものである。開口校
り７ｄ、７ｅは、互いに輪帯比（輪帯開口の内径と外径
の比）の異なる開口を持つ絞りであり、残りの１つの開
口絞り７ｆは、４つの偏心した２次光源領域を形成する
ために４つの偏心した開口を持つ絞りである。
らなり、図２に示すように、互いに形状と大きさの少な
くとも一方が異なる複数の開口絞り７ａ〜７ｆが形成さ
れている。これらのうち、円形開口を持つ３つの開口絞
り７ａ〜７ｃは、σ値（コヒレーント・ファクタ）を積
極的に変化させるためのものである。また、３つの変形
開口を持つ開口絞り７ｄ〜７ｆは投影光学系２３の解像
力（焦点深度）を向上させるためのものである。開口校
り７ｄ、７ｅは、互いに輪帯比（輪帯開口の内径と外径
の比）の異なる開口を持つ絞りであり、残りの１つの開
口絞り７ｆは、４つの偏心した２次光源領域を形成する
ために４つの偏心した開口を持つ絞りである。
【００３５】ここで、σ値について簡単に説明してお
く。図１に示すように、照明光学系の光路中に挿入され
たタレット板７上の開口絞りの最周縁（最外径）から光
軸ＡＸに平行に進行する主光線Ｒｉにより決定される照
明光学系の開口数をＮＡｉ（＝ｓｉｎθｉ）とし、投影
光学素２３の開口絞りＥｐの最周縁から光軸ＡＸに平行
に進行する主光線Ｒ０により決定される投影光学系２３
の照明光学系側の開口数をＮＡ０（＝ｓｉｎθ０）とす
るとき、σ値はσ＝ＮＡｉ／ＮＡ０で定義される。一般
的に、光リソグラフィー工程における投影露光装置のσ
値は、０．３〜０．８の範囲に設定されるように構成さ
れている。
く。図１に示すように、照明光学系の光路中に挿入され
たタレット板７上の開口絞りの最周縁（最外径）から光
軸ＡＸに平行に進行する主光線Ｒｉにより決定される照
明光学系の開口数をＮＡｉ（＝ｓｉｎθｉ）とし、投影
光学素２３の開口絞りＥｐの最周縁から光軸ＡＸに平行
に進行する主光線Ｒ０により決定される投影光学系２３
の照明光学系側の開口数をＮＡ０（＝ｓｉｎθ０）とす
るとき、σ値はσ＝ＮＡｉ／ＮＡ０で定義される。一般
的に、光リソグラフィー工程における投影露光装置のσ
値は、０．３〜０．８の範囲に設定されるように構成さ
れている。
【００３６】このタレット板７は、メインコントローラ
４０によって制御されているモータ８にて回転駆動さ
れ、ウェハ２５上に転写すべきレチクル１６のパターン
に応じて１つの開口絞りが選択されて照明光学系の光路
中に挿入される。
４０によって制御されているモータ８にて回転駆動さ
れ、ウェハ２５上に転写すべきレチクル１６のパターン
に応じて１つの開口絞りが選択されて照明光学系の光路
中に挿入される。
【００３７】可変視野絞り１２は、レチクル１６上の照
明領域を規定するが、この照明領域は、レチクル１６の
走査方向の幅がパターン領域よりも狭くなっており、か
つ走査方向と直交する方向の幅がパターン領域よりも広
くなっている。さらに照明領域は、投影光学系２３の光
軸ＡＸを中心とし、投影光学系２３の円形のイメージフ
ィールド内でその直径に沿って延びている。
明領域を規定するが、この照明領域は、レチクル１６の
走査方向の幅がパターン領域よりも狭くなっており、か
つ走査方向と直交する方向の幅がパターン領域よりも広
くなっている。さらに照明領域は、投影光学系２３の光
軸ＡＸを中心とし、投影光学系２３の円形のイメージフ
ィールド内でその直径に沿って延びている。
【００３８】また、メインコントローラ４０によって制
御されたモータＭＴ３によって可変視野絞り１２を構成
する少なくとも１つのブレードを移動することにより、
可変視野絞り１２の矩形開口の形状や大きさを変更でき
るようになっている。特に、矩形開口の短手方向の幅を
変更すると、レチクル１６上での照明領域の走査方向の
幅が変化し、これにより走査露光にウェハ２５上の１点
に照射される複数のパルス光の積算光量（露光ドーズ）
を調整することが可能となる。これは、投影光学系２３
に関してレチクル１６上の照明領域と共役な矩形領域を
ウェハ２５上の１点がその走査方向に沿って横切る間に
その１点に照射されるパルス光の数が結果的に変更され
るためである。
御されたモータＭＴ３によって可変視野絞り１２を構成
する少なくとも１つのブレードを移動することにより、
可変視野絞り１２の矩形開口の形状や大きさを変更でき
るようになっている。特に、矩形開口の短手方向の幅を
変更すると、レチクル１６上での照明領域の走査方向の
幅が変化し、これにより走査露光にウェハ２５上の１点
に照射される複数のパルス光の積算光量（露光ドーズ）
を調整することが可能となる。これは、投影光学系２３
に関してレチクル１６上の照明領域と共役な矩形領域を
ウェハ２５上の１点がその走査方向に沿って横切る間に
その１点に照射されるパルス光の数が結果的に変更され
るためである。
【００３９】また、この実施形態では、前述したように
光源制御回路４５から送出されるトリガパルスによって
ＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振周波数を変更でき、
これにより走査露光中にウェハ２５上の１点に照射され
る複数のパルス光の積算光量を調整することが可能とな
っている。さらに、ウェハ２５（およびレチクル１６）
の走査速度を変更することによっても、走査露光中にウ
ェハ２５上の１点に照射される複数のパルス光の積算光
量を調整できる。これも前述と同様に、発振周渡数や走
査速度の変更により、レチクル１６上の照明榎域と共役
な投影領域をウェハ２５上の１点がその走査方向に沿っ
て横切る間にその１点に照射されるパルス光の数が変更
されるためである。
光源制御回路４５から送出されるトリガパルスによって
ＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振周波数を変更でき、
これにより走査露光中にウェハ２５上の１点に照射され
る複数のパルス光の積算光量を調整することが可能とな
っている。さらに、ウェハ２５（およびレチクル１６）
の走査速度を変更することによっても、走査露光中にウ
ェハ２５上の１点に照射される複数のパルス光の積算光
量を調整できる。これも前述と同様に、発振周渡数や走
査速度の変更により、レチクル１６上の照明榎域と共役
な投影領域をウェハ２５上の１点がその走査方向に沿っ
て横切る間にその１点に照射されるパルス光の数が変更
されるためである。
【００４０】以上の説明からも明らかなように、このよ
うな走査型の露光装置では、ウェハ２５上でのパルス光
の強度と、走査露光中にウェハ２５上の各点にそれぞれ
照射されるパルス光の数との少なくとも一方を調整し、
これによってレチクル１６のパターン像で露光されるウ
ェハ２５上の領域内の各点にそれぞれ照射される複数の
パルス光の積算光量を、ウェハ２５上のフォトレジスト
の感度に応じた適正値に制御している。すなわち、この
実施形態では、ＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振強
度、パルス光の透過率（減光率）、ウェハ２５上でのパ
ルス光の幅、光源１の発振周波数、およびウェハ２５の
走査速度の少なくとも１つを調整して、ウェハ２５上の
各点での露光ドーズをその適正値に、あるいはその露光
ドーズの制御精度を要求精度（例えば±１〜２％）内に
設定できる。
うな走査型の露光装置では、ウェハ２５上でのパルス光
の強度と、走査露光中にウェハ２５上の各点にそれぞれ
照射されるパルス光の数との少なくとも一方を調整し、
これによってレチクル１６のパターン像で露光されるウ
ェハ２５上の領域内の各点にそれぞれ照射される複数の
パルス光の積算光量を、ウェハ２５上のフォトレジスト
の感度に応じた適正値に制御している。すなわち、この
実施形態では、ＡｒＦエキシマレーザ光源１の発振強
度、パルス光の透過率（減光率）、ウェハ２５上でのパ
ルス光の幅、光源１の発振周波数、およびウェハ２５の
走査速度の少なくとも１つを調整して、ウェハ２５上の
各点での露光ドーズをその適正値に、あるいはその露光
ドーズの制御精度を要求精度（例えば±１〜２％）内に
設定できる。
【００４１】投影光学系２３の本体部分７０は、全て屈
析性のレンズ等の光学素子で構成されており、投影光学
系２３の瞳（入射瞳）の位置には開口絞りＥｐが配置さ
れている。この開口絞りＥｐは、投影光学系２３の開口
数を変更できるように、メインコントローラ４０に制御
された絞り駆動装置６１によって開口の大きさを適宜変
更できる構造になっている。なお、投影光学系２３内の
開口絞りＥｐと照明光学系内の可変開口絞り７ａ〜７ｇ
とは、光学的に共役な位置に配置される。
析性のレンズ等の光学素子で構成されており、投影光学
系２３の瞳（入射瞳）の位置には開口絞りＥｐが配置さ
れている。この開口絞りＥｐは、投影光学系２３の開口
数を変更できるように、メインコントローラ４０に制御
された絞り駆動装置６１によって開口の大きさを適宜変
更できる構造になっている。なお、投影光学系２３内の
開口絞りＥｐと照明光学系内の可変開口絞り７ａ〜７ｇ
とは、光学的に共役な位置に配置される。
【００４２】投影光学系２３の本体部分７０に配置され
た特定のレンズ７０ａは、メインコントローラ４０に制
御されたレンズ駆動装置６２によって適宜移動可能とな
っており、このようなレンズ７０ａの移動により、偏心
コマ収差以外の収差、投影倍率、および焦点位置の少な
くとも１つが調整される。
た特定のレンズ７０ａは、メインコントローラ４０に制
御されたレンズ駆動装置６２によって適宜移動可能とな
っており、このようなレンズ７０ａの移動により、偏心
コマ収差以外の収差、投影倍率、および焦点位置の少な
くとも１つが調整される。
【００４３】投影光学系２３を構成する調整装置８０
は、本体部分７０とウェハ２５との間に配置されて本体
部分７０で生じた球面収差を補正する平行平面板８１を
備える。この平行平面板８１は、投影光学系２３の光軸
ＡＸにほぼ垂直に配置されているが、メインコントロー
ラ４０に制御された平行板駆動装置６３によって適宜移
動可能となっている。例えば、平行平面板８１を光軸Ａ
Ｘに垂直な面から僅かに傾けることにより、本体部分７
０で生じた偏心コマ収差のみを独立して補正することが
できる。すなわち、平行平面板８１の法線が光軸ＡＸと
なす傾き角と平行平面板８１のこのような傾きの方向と
の少なくとも一方を調整することによって、他の球面収
差等から独立して投影光学系２３の偏心コマ収差のみを
独立して補正することができる。このような偏心コマ収
差の補正は、ウェハ２５の露光条件の変化に応じて適宜
再調整が行われる。具体的には、露光条件として、２次
光源の大きさ・形状、タレット板７の開口絞り７ａ〜７
ｆの開口形状の変更、レチクル１６上のパターンの種
類、および投影光学系２３の開口数の少なくとも１つを
変更した場合、平行板駆動装置６３を駆動して投影光学
系２３の偏心コマ収差が最小限となるような補正を行
う。
は、本体部分７０とウェハ２５との間に配置されて本体
部分７０で生じた球面収差を補正する平行平面板８１を
備える。この平行平面板８１は、投影光学系２３の光軸
ＡＸにほぼ垂直に配置されているが、メインコントロー
ラ４０に制御された平行板駆動装置６３によって適宜移
動可能となっている。例えば、平行平面板８１を光軸Ａ
Ｘに垂直な面から僅かに傾けることにより、本体部分７
０で生じた偏心コマ収差のみを独立して補正することが
できる。すなわち、平行平面板８１の法線が光軸ＡＸと
なす傾き角と平行平面板８１のこのような傾きの方向と
の少なくとも一方を調整することによって、他の球面収
差等から独立して投影光学系２３の偏心コマ収差のみを
独立して補正することができる。このような偏心コマ収
差の補正は、ウェハ２５の露光条件の変化に応じて適宜
再調整が行われる。具体的には、露光条件として、２次
光源の大きさ・形状、タレット板７の開口絞り７ａ〜７
ｆの開口形状の変更、レチクル１６上のパターンの種
類、および投影光学系２３の開口数の少なくとも１つを
変更した場合、平行板駆動装置６３を駆動して投影光学
系２３の偏心コマ収差が最小限となるような補正を行
う。
【００４４】レチクル１６は、レチクルホルダ１７によ
りレチクルステージ１８に保持固定される。レチクルス
テージ１８は、図１の紙面と直交する面内に沿って２次
元的に移動するようにベース２２に取り付けられてい
る。レチクルホルダ１７にはミラー２１が設置され、レ
ーザ干渉計２０からのレーザ光がミラー２１で反射され
てレーザ干渉計２０に人射する。このようなレーザ干渉
計２０により、レチクルステージ１８の位置が計測され
る。この位置情報は、メインコントローラ４０に入力さ
れ、この位置情報に基づいてメインコントローラ４０は
レチクルステージ駆動用モータ１９を駆動してレチクル
１６の位置、走査露光中のレチクル１６の速度等を制御
している。
りレチクルステージ１８に保持固定される。レチクルス
テージ１８は、図１の紙面と直交する面内に沿って２次
元的に移動するようにベース２２に取り付けられてい
る。レチクルホルダ１７にはミラー２１が設置され、レ
ーザ干渉計２０からのレーザ光がミラー２１で反射され
てレーザ干渉計２０に人射する。このようなレーザ干渉
計２０により、レチクルステージ１８の位置が計測され
る。この位置情報は、メインコントローラ４０に入力さ
れ、この位置情報に基づいてメインコントローラ４０は
レチクルステージ駆動用モータ１９を駆動してレチクル
１６の位置、走査露光中のレチクル１６の速度等を制御
している。
【００４５】ウェハ２５は、ウェハホルダ２６によりウ
ェハステージ２７に保持固定される。ウェハステージ２
７は、図１の紙面と直交する面内に沿って２次元的に移
動するように設けられている。ウェハステージ２７には
ミラー３１が設置され、レーザ干渉計３０からのレーザ
光がミラー３１で反射されてレーザ干渉計３０に入射す
る。このようなレーザ干渉計３０によりウェハステージ
２７の位置が計測される。この位置情報はメインコント
ローラ４０に入力され、この位置情報に基づいてメイン
コントローラ４０はウェハステージ駆動用モータ２９を
駆動してウェハ２５の位置および走査中のウェハ２５の
速度などを制御している。ウェハステージ２７上には照
度センサ（光電検出器）２８が設けられ、ウェハ２５に
照射される露光光の照度が検出される。この照度センサ
２８の検出信号はメインコントローラ４０に入力され
る。
ェハステージ２７に保持固定される。ウェハステージ２
７は、図１の紙面と直交する面内に沿って２次元的に移
動するように設けられている。ウェハステージ２７には
ミラー３１が設置され、レーザ干渉計３０からのレーザ
光がミラー３１で反射されてレーザ干渉計３０に入射す
る。このようなレーザ干渉計３０によりウェハステージ
２７の位置が計測される。この位置情報はメインコント
ローラ４０に入力され、この位置情報に基づいてメイン
コントローラ４０はウェハステージ駆動用モータ２９を
駆動してウェハ２５の位置および走査中のウェハ２５の
速度などを制御している。ウェハステージ２７上には照
度センサ（光電検出器）２８が設けられ、ウェハ２５に
照射される露光光の照度が検出される。この照度センサ
２８の検出信号はメインコントローラ４０に入力され
る。
【００４６】この実施形態の投影露光装置では、照明光
学系を窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気中に配設する。
そのため、たとえば特開平６−２６０３８５号公報に開
示されているように、図示しない照明光学系の筐体に不
活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、筐体から汚
染された不活性ガスを排出する不活性ガス排出装置とが
設けられる。また、投影光学系２３を構成する複数の光
学素子間に形成される複数の空間にも窒素ガスなどの不
活性ガスを供給し、汚染された不活性がスを複数の空間
から排出される。そのため、不活性ガス供給装置４１と
不活性ガス排出装置４２が設けられ、ガス供給装置４１
は、パイプ４３を介して投影光学素２３の内部へ乾燥し
た窒素などの不活性ガスを供給し、また排出装置４２は
投影光学系２３の内部の気体をパイプ４４を介して外部
へ排出する。
学系を窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気中に配設する。
そのため、たとえば特開平６−２６０３８５号公報に開
示されているように、図示しない照明光学系の筐体に不
活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、筐体から汚
染された不活性ガスを排出する不活性ガス排出装置とが
設けられる。また、投影光学系２３を構成する複数の光
学素子間に形成される複数の空間にも窒素ガスなどの不
活性ガスを供給し、汚染された不活性がスを複数の空間
から排出される。そのため、不活性ガス供給装置４１と
不活性ガス排出装置４２が設けられ、ガス供給装置４１
は、パイプ４３を介して投影光学素２３の内部へ乾燥し
た窒素などの不活性ガスを供給し、また排出装置４２は
投影光学系２３の内部の気体をパイプ４４を介して外部
へ排出する。
【００４７】図３は、投影光学系２３の下端部に配置さ
れる調整装置８０の構造を説明する図である。図３
（ａ）は側方の断面構造を模式的に示し、図３（ｂ）
は、側面の構造を示す。図示のように、調整装置８０
は、平行平面板８１を内部に保持固定するための金具で
ある第１部材８２と、この第１部材８２と本体部分７０
との間に配置される金具である第２部材８３とを備え
る。
れる調整装置８０の構造を説明する図である。図３
（ａ）は側方の断面構造を模式的に示し、図３（ｂ）
は、側面の構造を示す。図示のように、調整装置８０
は、平行平面板８１を内部に保持固定するための金具で
ある第１部材８２と、この第１部材８２と本体部分７０
との間に配置される金具である第２部材８３とを備え
る。
【００４８】第１部材８２と第２部材８３とは、光軸Ａ
Ｘに垂直な面から僅かに傾いた摺り合わせ面８６を介し
て摺動可能に連結されており、両部材８２、８３を光軸
ＡＸの回りに相対的に回転させることにより、光軸ＡＸ
に対する平行平面板８１の法線の傾き角を調節できるよ
うになっている。なお、光軸ＡＸと摺り合わせ面８６と
の傾き角は、平行平面板８１の法線の光軸ＡＸに対する
最大の傾き角の１／２に設定されている。つまり、図示
の状態から第１部材８２が第２部材８３に対して１８０
゜回転すると、平行平面板８１の法線の光軸ＡＸに対す
る傾き角は、光軸ＡＸと摺り合わせ面８６との傾き角の
２倍となる。
Ｘに垂直な面から僅かに傾いた摺り合わせ面８６を介し
て摺動可能に連結されており、両部材８２、８３を光軸
ＡＸの回りに相対的に回転させることにより、光軸ＡＸ
に対する平行平面板８１の法線の傾き角を調節できるよ
うになっている。なお、光軸ＡＸと摺り合わせ面８６と
の傾き角は、平行平面板８１の法線の光軸ＡＸに対する
最大の傾き角の１／２に設定されている。つまり、図示
の状態から第１部材８２が第２部材８３に対して１８０
゜回転すると、平行平面板８１の法線の光軸ＡＸに対す
る傾き角は、光軸ＡＸと摺り合わせ面８６との傾き角の
２倍となる。
【００４９】第２部材８３と本体部分７０とは、光軸Ａ
Ｘに垂直な摺り合わせ面８７を介して摺動可能に連結さ
れており、第２部材８３および本体部分７０を光軸ＡＸ
の回りに相対的に回転させることにより、光軸ＡＸに対
する平行平面板８１の法線の傾き方向が調節可能になっ
ている。
Ｘに垂直な摺り合わせ面８７を介して摺動可能に連結さ
れており、第２部材８３および本体部分７０を光軸ＡＸ
の回りに相対的に回転させることにより、光軸ＡＸに対
する平行平面板８１の法線の傾き方向が調節可能になっ
ている。
【００５０】第１部材８２と第２部材８３との相対的な
回転位置は、第１部材８２の上端周囲に設けた目盛環８
４を、第２部材８３の下端の一箇所に設けた指標８９で
読み取ることにより視覚的に検出することができる。ま
た、第２部材８３の本体部分７０との相対的な回転位置
は、第２部材８３の上端周囲に設けた目盛環８７を、本
体部分７０の下端の一箇所に設けた指標８９で読み取る
ことにより視覚的に検出することができる。
回転位置は、第１部材８２の上端周囲に設けた目盛環８
４を、第２部材８３の下端の一箇所に設けた指標８９で
読み取ることにより視覚的に検出することができる。ま
た、第２部材８３の本体部分７０との相対的な回転位置
は、第２部材８３の上端周囲に設けた目盛環８７を、本
体部分７０の下端の一箇所に設けた指標８９で読み取る
ことにより視覚的に検出することができる。
【００５１】平行板駆動装置６３に設けた第１駆動部６
３ａは、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転
位置を調整して、平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面
から所望の角度だけ傾ける。これにより、本体部分７０
で生じた特定方向の偏心コマ収差のみを独立して補正す
ることができる。一方、第２駆動部６３ｂは、第１部材
８２と本体部分７０との相対的な回転位置を調整して、
平行平面板８１の傾き方向を適宜設定する。これによ
り、偏心コマ収差の補正方向を調節することができる。
なお、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転位
置や、第１部材８２と本体部分７０との相対的な回転位
置は、両駆動部６３ａ、６３ｂによる駆動量をモニタす
ることにより電気的に検出することもできる。例えば、
第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転位置を両
駆動部６３ａの駆動量に基づいて検出することにより、
この回転位置を第１部材８２の傾き角に換算することが
できる。
３ａは、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転
位置を調整して、平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面
から所望の角度だけ傾ける。これにより、本体部分７０
で生じた特定方向の偏心コマ収差のみを独立して補正す
ることができる。一方、第２駆動部６３ｂは、第１部材
８２と本体部分７０との相対的な回転位置を調整して、
平行平面板８１の傾き方向を適宜設定する。これによ
り、偏心コマ収差の補正方向を調節することができる。
なお、第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転位
置や、第１部材８２と本体部分７０との相対的な回転位
置は、両駆動部６３ａ、６３ｂによる駆動量をモニタす
ることにより電気的に検出することもできる。例えば、
第１部材８２と第２部材８３との相対的な回転位置を両
駆動部６３ａの駆動量に基づいて検出することにより、
この回転位置を第１部材８２の傾き角に換算することが
できる。
【００５２】なお、図示を省略しているが、第１部材８
２と第２部材８３とを光軸ＡＸを中心にした任意の角度
で確実に固定できるように、第１部材８２側に固定用の
ビス長穴が加工されており、さらに、第２部材８３と本
体部分７０とを光軸ＡＸを中心にした任意の角度で確実
に固定できるように、第２部材８３側に固定用のビス長
穴が加工されている。
２と第２部材８３とを光軸ＡＸを中心にした任意の角度
で確実に固定できるように、第１部材８２側に固定用の
ビス長穴が加工されており、さらに、第２部材８３と本
体部分７０とを光軸ＡＸを中心にした任意の角度で確実
に固定できるように、第２部材８３側に固定用のビス長
穴が加工されている。
【００５３】図４は、第１部材８２に保持されている平
行平面板８１の傾き角と偏心コマ収差の発生および補正
との関係を概念的に説明する図である。例えば、実線で
示すように平行平面板８１とウェハ２５とが平行になっ
ている場合、本体部分７０からの露光用のレーザ光ＬＢ
はウェハ２５上の点Ｐ１に結像するものとする。この状
態から平行平面板８１を２点鎖線で示すように僅かに傾
けると、露光用のレーザ光ＬＢは、偏心コマ収差によっ
て点Ｐ１に結像しなくなる。具体的には、レーザ光ＬＢ
のうち光軸ＡＸに沿って進行してきた光は、平行平面板
８１によって平行移動して点Ｐ１の近傍の点Ｐ２に結像
するが、レーザ光ＬＢのうち開口角で進行してきた光
は、平行平面板８１の比較的大きな作用を受けて平行移
動し、点Ｐ２よりも点Ｐ１から離れた点Ｐ３に結像す
る。つまり、本体部分７０によって偏心コマ収差が生じ
ていなかったとしても、平行平面板８１を傾けることに
よって偏心コマ収差が生じてしまう。このことは、当初
２点鎖線で示すレーザ光ＬＢのような偏心コマ収差が生
じていた場合、平行平面板８１を時計方向に回転させる
ことによって偏心コマ収差を補正できることを意味す
る。
行平面板８１の傾き角と偏心コマ収差の発生および補正
との関係を概念的に説明する図である。例えば、実線で
示すように平行平面板８１とウェハ２５とが平行になっ
ている場合、本体部分７０からの露光用のレーザ光ＬＢ
はウェハ２５上の点Ｐ１に結像するものとする。この状
態から平行平面板８１を２点鎖線で示すように僅かに傾
けると、露光用のレーザ光ＬＢは、偏心コマ収差によっ
て点Ｐ１に結像しなくなる。具体的には、レーザ光ＬＢ
のうち光軸ＡＸに沿って進行してきた光は、平行平面板
８１によって平行移動して点Ｐ１の近傍の点Ｐ２に結像
するが、レーザ光ＬＢのうち開口角で進行してきた光
は、平行平面板８１の比較的大きな作用を受けて平行移
動し、点Ｐ２よりも点Ｐ１から離れた点Ｐ３に結像す
る。つまり、本体部分７０によって偏心コマ収差が生じ
ていなかったとしても、平行平面板８１を傾けることに
よって偏心コマ収差が生じてしまう。このことは、当初
２点鎖線で示すレーザ光ＬＢのような偏心コマ収差が生
じていた場合、平行平面板８１を時計方向に回転させる
ことによって偏心コマ収差を補正できることを意味す
る。
【００５４】〔第２実施形態〕図５は、第２実施形態の
投影露光装置の要部を概念的に説明する図である。な
お、第２実施形態の装置は、第１実施形態の装置の変形
であるので、変形の要部のみを説明する。
投影露光装置の要部を概念的に説明する図である。な
お、第２実施形態の装置は、第１実施形態の装置の変形
であるので、変形の要部のみを説明する。
【００５５】第２実施形態の投影露光装置では、調整装
置８０に設けた平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面に
対して傾けるための手段として、マイクロメータヘッド
１８２とアクチュエータ１８３とからなる微調機構を設
けている。この微調機構によれば、平行平面板８１を本
体部分の光軸ＡＸの回りに回転させることがなく、他の
収差を発生させる可能性を低くすることができる。
置８０に設けた平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面に
対して傾けるための手段として、マイクロメータヘッド
１８２とアクチュエータ１８３とからなる微調機構を設
けている。この微調機構によれば、平行平面板８１を本
体部分の光軸ＡＸの回りに回転させることがなく、他の
収差を発生させる可能性を低くすることができる。
【００５６】投影光学系を構成する本体部分７０の下部
に固定された台座１８５は、図示を省略する装置に案内
されて平行平板保持室１８６に対して光軸方向に相対的
に移動可能となっている。台座１８５と平行平板保持室
１８６との距離は、台座１８５の周囲３箇所に固定され
た３つのマイクロメータヘッド１８２をアクチュエータ
１８３によって駆動することによって調節できる。この
際、各マイクロメータヘッド１８２の駆動量を不均等に
して台座１８５の下面からのスピンドル１８４の突出量
を異なるものとすれば、平行平板保持室１８６に固定保
持された平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面に対して
任意の方向に任意の角度だけ傾けることができる。な
お、マイクロメータヘッド１８２の駆動量と平行平面板
８１の傾き角および方向とは一定の関係にあるので、必
要な傾き角および方向をメインコントローラ４０に設定
することにより予め求めてある計算式に従って各マイク
ロメータヘッド１８２の駆動量を算出することができ
る。
に固定された台座１８５は、図示を省略する装置に案内
されて平行平板保持室１８６に対して光軸方向に相対的
に移動可能となっている。台座１８５と平行平板保持室
１８６との距離は、台座１８５の周囲３箇所に固定され
た３つのマイクロメータヘッド１８２をアクチュエータ
１８３によって駆動することによって調節できる。この
際、各マイクロメータヘッド１８２の駆動量を不均等に
して台座１８５の下面からのスピンドル１８４の突出量
を異なるものとすれば、平行平板保持室１８６に固定保
持された平行平面板８１を光軸ＡＸに垂直な面に対して
任意の方向に任意の角度だけ傾けることができる。な
お、マイクロメータヘッド１８２の駆動量と平行平面板
８１の傾き角および方向とは一定の関係にあるので、必
要な傾き角および方向をメインコントローラ４０に設定
することにより予め求めてある計算式に従って各マイク
ロメータヘッド１８２の駆動量を算出することができ
る。
【００５７】図６（ａ）は、図５に示す投影光学系の平
面図であり、図６（ｂ）は、投影光学系の下部に設けた
平行平板保持室１８６の平面図である。マイクロメータ
ヘッド１８２は、図６（ａ）に示すように、本体部分７
０の下端に固定した台座１８５の周囲を均等に区分する
位置に配置されている。また、マイクロメータヘッド１
８２のスピンドル１８４は、平行平板保持室１８６に対
し、図６（ｂ）に示すような位置で当接する。すなわ
ち、平行平板保持室１８６上に台座１８５および本体部
分７０が３点支持された状態で載置されていることにな
る。
面図であり、図６（ｂ）は、投影光学系の下部に設けた
平行平板保持室１８６の平面図である。マイクロメータ
ヘッド１８２は、図６（ａ）に示すように、本体部分７
０の下端に固定した台座１８５の周囲を均等に区分する
位置に配置されている。また、マイクロメータヘッド１
８２のスピンドル１８４は、平行平板保持室１８６に対
し、図６（ｂ）に示すような位置で当接する。すなわ
ち、平行平板保持室１８６上に台座１８５および本体部
分７０が３点支持された状態で載置されていることにな
る。
【００５８】図５に戻って、コンデンサ光学系１５とレ
チクル１６との間には光量その他の照明条件を検出する
センサ１４が配置されている。このセンサ１４で検出さ
れた照明条件の変化は、メインコントローラ４０に伝達
される。メインコントローラ４０は、センサ１４等で検
出された照明条件の変化に応じてアクチュエータ１８３
を駆動し、平行平面板８１の傾き角および方向を適宜調
節する。
チクル１６との間には光量その他の照明条件を検出する
センサ１４が配置されている。このセンサ１４で検出さ
れた照明条件の変化は、メインコントローラ４０に伝達
される。メインコントローラ４０は、センサ１４等で検
出された照明条件の変化に応じてアクチュエータ１８３
を駆動し、平行平面板８１の傾き角および方向を適宜調
節する。
【００５９】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たが、この発明は、上記実施形態に限定されるものでは
ない。例えば、第１実施形態において、平行平面板８１
の傾き角および方向を調節する第１および第２部材８
２、８３の回転や、第２実施形態において、マイクロメ
ータヘッド１８２の駆動は、作業者が手作業によって行
うことができる。ただし、第１および第２実施形態のよ
うに露光条件の変化に応じて自動的に平行平面板８１を
傾けて、作業者を介することなく収差補正を行う方が、
スループットの低下を引き起こすなく焼き付けが可能で
あるという点で有利である。
たが、この発明は、上記実施形態に限定されるものでは
ない。例えば、第１実施形態において、平行平面板８１
の傾き角および方向を調節する第１および第２部材８
２、８３の回転や、第２実施形態において、マイクロメ
ータヘッド１８２の駆動は、作業者が手作業によって行
うことができる。ただし、第１および第２実施形態のよ
うに露光条件の変化に応じて自動的に平行平面板８１を
傾けて、作業者を介することなく収差補正を行う方が、
スループットの低下を引き起こすなく焼き付けが可能で
あるという点で有利である。
【００６０】
【発明の効果】上記課題を解決するため、本発明の投影
露光装置は、前記投影光学系部分の前記感光基板側に前
記投影光学系部分の光軸にほぼ垂直に配置される平行平
面板と、前記投影光学系部分の光軸に対する前記平行平
面板の法線の傾き角と前記平行平面板の傾き方向との少
なくとも一方を調整する調整装置とを備えるので、投影
光学系部分によって生じた偏心コマ収差を他の収差から
独立して簡易に補正することができ、偏心コマ収差の補
正によって他の収差を相対的に悪化させるという副作用
が生じにくい。
露光装置は、前記投影光学系部分の前記感光基板側に前
記投影光学系部分の光軸にほぼ垂直に配置される平行平
面板と、前記投影光学系部分の光軸に対する前記平行平
面板の法線の傾き角と前記平行平面板の傾き方向との少
なくとも一方を調整する調整装置とを備えるので、投影
光学系部分によって生じた偏心コマ収差を他の収差から
独立して簡易に補正することができ、偏心コマ収差の補
正によって他の収差を相対的に悪化させるという副作用
が生じにくい。
【００６１】また、好ましい態様によれば、前記マスク
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系を更に備え、前記調整装
置が、前記２次光源の変更に連動して前記平行平面板の
傾き角及び傾き方向の少なくとも一方を調整するので、
２次光源の変動にともなって照明条件が変化し、偏心コ
マ収差の補正の前提条件が変化した場合にも、かかる前
提条件の変化に対応して偏心コマ収差を最適に補正する
ことができ、露光装置の露光性能の悪化を効果的に防止
できる。
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系を更に備え、前記調整装
置が、前記２次光源の変更に連動して前記平行平面板の
傾き角及び傾き方向の少なくとも一方を調整するので、
２次光源の変動にともなって照明条件が変化し、偏心コ
マ収差の補正の前提条件が変化した場合にも、かかる前
提条件の変化に対応して偏心コマ収差を最適に補正する
ことができ、露光装置の露光性能の悪化を効果的に防止
できる。
【００６２】また、別の態様によれば、マスクのパター
ンで感光基板を露光する投影露光装置において、前記マ
スクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光軸に沿
って配列される複数の光学素子と前記感光基板側に配置
される平行平面板とを有する投影光学系と、前記感光基
板の露光条件の変更に応じて前記平行平面板を移動して
投影光学系の収差を調整する調整装置とを備えることと
しているので、露光条件が変化した場合にかかる前提条
件の変化に対応して偏心コマ収差等を補正することがで
き、露光装置の露光性能の悪化を効果的に防止できる。
ンで感光基板を露光する投影露光装置において、前記マ
スクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光軸に沿
って配列される複数の光学素子と前記感光基板側に配置
される平行平面板とを有する投影光学系と、前記感光基
板の露光条件の変更に応じて前記平行平面板を移動して
投影光学系の収差を調整する調整装置とを備えることと
しているので、露光条件が変化した場合にかかる前提条
件の変化に対応して偏心コマ収差等を補正することがで
き、露光装置の露光性能の悪化を効果的に防止できる。
【００６３】また、好ましい態様によれば、前記調整装
置が、前記平行平面板を実質的に回転させることなく前
記投影光学系の光軸と垂直な面に対して相対的に傾けて
前記投影光学系の偏心コマ収差を調整するので、露光条
件の変動にともなって、偏心コマ収差の補正の前提条件
が変化した場合にかかる前提条件の変化に対応して偏心
コマ収差を最適に補正することができ、露光装置の露光
性能の悪化を効果的に防止できる。
置が、前記平行平面板を実質的に回転させることなく前
記投影光学系の光軸と垂直な面に対して相対的に傾けて
前記投影光学系の偏心コマ収差を調整するので、露光条
件の変動にともなって、偏心コマ収差の補正の前提条件
が変化した場合にかかる前提条件の変化に対応して偏心
コマ収差を最適に補正することができ、露光装置の露光
性能の悪化を効果的に防止できる。
【００６４】また、好ましい態様によれば、偏心コマ収
差以外の前記投影光学系の収差、投影倍率、及び焦点位
置の少なくとも１つを調整するために、前記投影光学系
の複数の光学素子の少なくとも１つを移動する駆動装置
を更に備えるので、偏心コマ収差を最適に補正しつつ投
影光学系による結像を最適なものとすることができる。
差以外の前記投影光学系の収差、投影倍率、及び焦点位
置の少なくとも１つを調整するために、前記投影光学系
の複数の光学素子の少なくとも１つを移動する駆動装置
を更に備えるので、偏心コマ収差を最適に補正しつつ投
影光学系による結像を最適なものとすることができる。
【００６５】また、好ましい態様によれば、前記マスク
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系と、前記照明光学系の開
口数を可変とする開口絞りとを更に備え、前記感光基板
の露光条件が、前記２次光源の大きさと形状、前記マス
ク上のパターンの種類、及び前記投影光学系の開口数の
少なくとも１つを含むので、偏心コマ収差等を最適に補
正しつつ、上記のような各種露光条件を適宜変更するこ
とができる。
のパターンに応じて２次光源の大きさと形状との少なく
とも一方を変更する照明光学系と、前記照明光学系の開
口数を可変とする開口絞りとを更に備え、前記感光基板
の露光条件が、前記２次光源の大きさと形状、前記マス
ク上のパターンの種類、及び前記投影光学系の開口数の
少なくとも１つを含むので、偏心コマ収差等を最適に補
正しつつ、上記のような各種露光条件を適宜変更するこ
とができる。
【００６６】また、別の態様によれば、マスクのパター
ンで感光基板を露光する投影露光装置において、前記マ
スクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光軸に沿
って配列される平行平面板を有する投影光学系と、前記
投影光学系の光軸と垂直な面に対して前記平行平面板を
傾ける駆動機構とを備えるので、露光条件の変動にとも
なって、偏心コマ収差の補正の前提条件が変化した場合
にかかる前提条件の変化に対応して偏心コマ収差を最適
に補正することができ、露光装置の露光性能の悪化を効
果的に防止できる。
ンで感光基板を露光する投影露光装置において、前記マ
スクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光軸に沿
って配列される平行平面板を有する投影光学系と、前記
投影光学系の光軸と垂直な面に対して前記平行平面板を
傾ける駆動機構とを備えるので、露光条件の変動にとも
なって、偏心コマ収差の補正の前提条件が変化した場合
にかかる前提条件の変化に対応して偏心コマ収差を最適
に補正することができ、露光装置の露光性能の悪化を効
果的に防止できる。
【００６７】また、好ましい態様によれば、前記投影光
学系の投影倍率に応じた速度比で前記マスクと前記感光
基板とを同期移動するステージシステムを更に備え、前
記ステージシステムを駆動して、前記マスクのパターン
で前記感光基板を走査露光するので、偏心コマ収差等を
最適に補正し、かつ、露光むらを防止できる。
学系の投影倍率に応じた速度比で前記マスクと前記感光
基板とを同期移動するステージシステムを更に備え、前
記ステージシステムを駆動して、前記マスクのパターン
で前記感光基板を走査露光するので、偏心コマ収差等を
最適に補正し、かつ、露光むらを防止できる。
【００６８】本発明の投影露光方法は、投影光学系を介
してマスクのパターンで感光基板を露光する投影露光方
法において、第１工程における前記光強度分布の変更に
連動して、前記投影光学系の前記感光基板側に配置され
る平行平面板を移動する第２工程とを含むので、露光条
件の変化に伴って光ビームの前記投影光学系の瞳面上で
の光強度分布に変更が生じた場合にこれに対応して偏心
コマ収差等を補正することができ、露光性能の悪化を効
果的に防止できる。
してマスクのパターンで感光基板を露光する投影露光方
法において、第１工程における前記光強度分布の変更に
連動して、前記投影光学系の前記感光基板側に配置され
る平行平面板を移動する第２工程とを含むので、露光条
件の変化に伴って光ビームの前記投影光学系の瞳面上で
の光強度分布に変更が生じた場合にこれに対応して偏心
コマ収差等を補正することができ、露光性能の悪化を効
果的に防止できる。
【００６９】また、好ましい態様によれば、前記第１工
程が前記マスクのパターンに応じて２次光源の大きさと
形状との少なくとも一方を変更するので、偏心コマ収差
等を最適に補正し、かつ、露光むらを防止できる。
程が前記マスクのパターンに応じて２次光源の大きさと
形状との少なくとも一方を変更するので、偏心コマ収差
等を最適に補正し、かつ、露光むらを防止できる。
【００７０】また、好ましい態様によれば、前記第２工
程が前記平行平面板を実質的に回転させることなく前記
投影光学系の光軸と垂直な面に対して相対的に傾けて前
記投影光学系の偏心コマ収差を調整するので、露光条件
が変化しても露光性能を維持することができる。
程が前記平行平面板を実質的に回転させることなく前記
投影光学系の光軸と垂直な面に対して相対的に傾けて前
記投影光学系の偏心コマ収差を調整するので、露光条件
が変化しても露光性能を維持することができる。
【図１】第１実施形態の投影露光装置の構造を示した図
である。
である。
【図２】図１の投影露光装置に組み込まれるタレット板
の構造を説明する図である。
の構造を説明する図である。
【図３】図１の投影露光装置に設けた調整装置の構造を
説明する図である。
説明する図である。
【図４】図３の調整装置に固定保持された平行平面板の
傾斜と偏心コマ収差との関係を説明する図である。
傾斜と偏心コマ収差との関係を説明する図である。
【図５】第２実施形態の投影露光装置の構造を示した図
である。
である。
【図６】図５の投影露光装置に設けた調整装置の要部の
構造を説明する図である。
構造を説明する図である。
１ ＡｒＦエキシマレーザ光源 ４ ビーム整形光学系 ５ 反射ミラー ６ フライアイレンズ ７ タレット板 ９ ビームスプリッタ １１，１３ リレーレンズ １２ 可変視野絞り １４ 反射ミラー １６ レチクル ２３ 投影光学系 ２５ ウェハ ４０ メインコントローラ ７０ 本体部分 ８０ 調整装置 ６２ レンズ駆動装置 ６３ 平行板駆動装置 １００ チャンバ
Claims (11)
- 【請求項１】 感光基板にマスクのパターンを投影する
投影光学系部分と、 前記投影光学系部分の前記感光基板側に前記投影光学系
部分の光軸にほぼ垂直に配置される平行平面板と、 前記投影光学系部分の光軸に対する前記平行平面板の法
線の傾き角と前記平行平面板の傾き方向との少なくとも
一方を調整する調整装置とを備えることを特徴とする投
影露光装置。 - 【請求項２】 前記マスクのパターンに応じて２次光源
の大きさと形状との少なくとも一方を変更する照明光学
系を更に備え、 前記調整装置は、前記２次光源の変更に連動して、前記
平行平面板の傾き角及び傾き方向の少なくとも一方を調
整することを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。 - 【請求項３】 マスクのパターンで感光基板を露光する
投影露光装置において、 前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光
軸に沿って配列される複数の光学素子と、前記感光基板
側に配置される平行平面板とを有する投影光学系と、 前記感光基板の露光条件の変更に応じて、前記平行平面
板を移動して投影光学系の収差を調整する調整装置とを
備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項４】 前記調整装置は、前記平行平面板を実質
的に回転させることなく前記投影光学系の光軸と垂直な
面に対して相対的に傾けて前記投影光学系の偏心コマ収
差を調整することを特徴とする請求項３記載の投影露光
装置。 - 【請求項５】 偏心コマ収差以外の前記投影光学系の収
差、投影倍率、及び焦点位置の少なくとも１つを調整す
るために、前記投影光学系の複数の光学素子の少なくと
も１つを移動する駆動装置を更に備えたことを特徴とす
る請求項４記載の投影露光装置。 - 【請求項６】 前記マスクのパターンに応じて２次光源
の大きさと形状との少なくとも一方を変更する照明光学
系と、 前記照明光学系の開口数を可変とする開口絞りとを更に
備え、 前記感光基板の露光条件は、前記２次光源の大きさと形
状、前記マスク上のパターンの種類、及び前記投影光学
系の開口数の少なくとも１つを含むことを特徴とする請
求項３から請求項５のいずれか記載の投影露光装置。 - 【請求項７】 マスクのパターンで感光基板を露光する
投影露光装置において、 前記マスクと前記感光基板のそれぞれとほぼ直交する光
軸に沿って配列される平行平面板を有する投影光学系
と、 前記投影光学系の光軸と垂直な面に対して前記平行平面
板を傾ける駆動機構とを備えたことを特徴とする投影露
光装置。 - 【請求項８】 前記投影光学系の投影倍率に応じた速度
比で前記マスクと前記感光基板とを同期移動するステー
ジシステムを更に備え、 前記ステージシステムを駆動して、前記マスクのパター
ンで前記感光基板を走査露光することを特徴とする請求
項１から請求項７のいずれかに記載の投影露光装置。 - 【請求項９】 投影光学系を介してマスクのパターンで
感光基板を露光する投影露光方法において、 ２次光源から出射して前記マスクを通過する光ビームの
前記投影光学系の瞳面上での光強度分布を変更する第１
工程と、 前記光強度分布の変更に連動して、前記投影光学系の前
記感光基板側に配置される平行平面板を移動する第２工
程とを含むことを特徴とする投影露光方法。 - 【請求項１０】 前記第１工程は、前記マスクのパター
ンに応じて２次光源の大きさと形状との少なくとも一方
を変更することを特徴とする請求項９記載の投影露光方
法。 - 【請求項１１】 前記第２工程は、前記平行平面板を実
質的に回転させることなく前記投影光学系の光軸と垂直
な面に対して相対的に傾けて前記投影光学系の偏心コマ
収差を調整することを特徴とする請求項９又は請求項１
０記載の投影露光方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9291807A JPH11121322A (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 投影露光装置及び方法 |
| US09/166,884 US6235438B1 (en) | 1997-10-07 | 1998-10-06 | Projection exposure method and apparatus |
| PCT/JP1998/004536 WO1999018604A1 (fr) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Procede et appareil d'exposition par projection |
| EP98947777A EP1037266A4 (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | PROJECTION EXPOSURE METHOD AND DEVICE |
| KR1020007003666A KR20010015698A (ko) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | 투영노광방법 및 장치 |
| AU94581/98A AU9458198A (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Projection exposure method and apparatus |
| US09/819,724 US6522390B2 (en) | 1997-10-07 | 2001-03-29 | Projection exposure method and apparatus |
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|---|---|---|---|
| JP9291807A JPH11121322A (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 投影露光装置及び方法 |
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|---|---|
| JPH11121322A true JPH11121322A (ja) | 1999-04-30 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9291807A Withdrawn JPH11121322A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-09 | 投影露光装置及び方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11121322A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004020868A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Canon Inc | 投影光学系における光学要素の保持装置、該保持装置による光学調整方法、該保持装置を有する露光装置、露光方法、デバイス製造方法 |
| US8582081B2 (en) | 2003-03-26 | 2013-11-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Device for the low-deformation replaceable mounting of an optical element |
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| JP2015522838A (ja) * | 2012-05-24 | 2015-08-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| US10168603B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-01-01 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Optical member driving apparatus and projection type image display apparatus |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP9291807A patent/JPH11121322A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004020868A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Canon Inc | 投影光学系における光学要素の保持装置、該保持装置による光学調整方法、該保持装置を有する露光装置、露光方法、デバイス製造方法 |
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| JP2015522838A (ja) * | 2012-05-24 | 2015-08-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| US9529269B2 (en) | 2012-05-24 | 2016-12-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2014120682A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Canon Inc | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
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