JPH11119019A - Radiation sensitive composition for color filter - Google Patents

Radiation sensitive composition for color filter

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JPH11119019A
JPH11119019A JP29795597A JP29795597A JPH11119019A JP H11119019 A JPH11119019 A JP H11119019A JP 29795597 A JP29795597 A JP 29795597A JP 29795597 A JP29795597 A JP 29795597A JP H11119019 A JPH11119019 A JP H11119019A
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富雄 長塚
Yukiko Itou
由樹子 伊藤
Satoru Shimada
哲 嶋田
Takahiro Iijima
孝浩 飯島
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a transmission color filter excellent in transparency to radiation, balance of saturation and lightness, etc., by incorporating a colorant contg. at least one specified perylene pigment, an alkali-soluble resin, etc. SOLUTION: The radiation sensitive compsn. contains a colorant contg. at least one perylene pigment selected from the group comprising compds. represented by formula I or II, an alkali-soluble resin, a multifunctional monomer and a photopolymn. initiator. In the formula I, X and Y are each 1-10C alkyl, 6-20C monovalent arom. hydrocarbon, its substd. deriv., a group having a 5- or 6-membered N-contg. heterocycle or its substd. deriv., the 1-10C alkyl is, e.g. methyl or ethyl and the 6-20C monovalent arom. hydrocarbon is, e.g. phenyl, 4-biphenyl or 1-naphthyl.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置、カラー撮像管素子等に用いられる透過型あるいは反
射型のカラーフィルタの製造に使用されるカラーフィル
タ用感放射線性組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter used for producing a transmission type or reflection type color filter used for a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子
等に用いられるカラーフィルタは、感光性樹脂の塗膜に
フォトマスクを介し放射線を照射(以下、「露光」とい
う。)して、露光部を硬化させ、その後現像処理を行な
って、塗膜の未露光部を除去してパターンを形成したの
ち、染色する方法(染色法)や、感光性樹脂に着色剤を
分散した組成物を用いて、前記と同様に塗膜形成、露光
および現像処理を行うフォトリソグラフィー法等の方法
により製造されており、これらのカラーフィルタの着色
剤には、赤、緑および青の3原色のほか、特にカラー撮
像管の場合、シアン、マゼンタおよび黄の補色の組み合
わせも使用されている。ところで、カラー液晶表示装
置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタ
は、ガラス等の透明基板の表面に、2種以上の色調の異
なる画素を、ストライプ状の画素では平行にまたは交差
して配列され、また方形状の画素では縦横に配列されて
おり、画素サイズも数十μmから数百μm程度と微細で
ある。このような微細な画素を一定に配列したカラーフ
ィルタを製造する際には、従来、感光性樹脂を基板上に
塗布し、形成された塗膜にフォトマスクを介し露光して
放射線照射部を硬化させ、その後現像処理を行なって、
塗膜の未露光部を除去してパターン化したのち、染色す
る染色法や、感光性樹脂に着色剤(染料や顔料)を溶解
あるいは分散した組成物を用いて、前記と同様に塗膜形
成、露光および現像処理を行ってパターン化するフォト
リソグラフィー法等の方法が採用されている。また、カ
ラー液晶表示装置には、一般に液晶を駆動させるため
に、酸化インジウムや酸化錫等からなる透明電極が、カ
ラーフィルタ上に例えば蒸着あるいはスパッタリングに
より形成され、さらにその上に液晶を一定方向に配向さ
せるための配向膜が形成されており、高性能の透明電極
および配向膜を得るためには、それらの形成時に、一般
に200℃以上、好ましくは250℃以上の高温が必要
とされている。前記方法により製造されたカラーフィル
タのうち、染料を用いたカラーフィルタは、放射線に対
する透明性は高いが、耐熱性が不十分であるため、透明
電極および配向膜の形成を200℃未満の温度で行なわ
ざるをえず、透明電極および配向膜の性能が充分確保で
きないという問題があった。また、染料を用いたカラー
フィルタは耐光性も劣っており、屋外での使用には適さ
ないという欠点があった。そこで染料の代わりに、耐熱
性、耐光性に優れた顔料が用いられるようになり、現在
製造されているカラーフィルタの殆どが有機顔料を用い
ている。また、カラーフィルタには、大別して、装置背
面に光源(バックライト)を設け、その透過光により表
示する透過型と、アルミニウム箔等の光反射板を装置背
面に設けた透明基板の裏面に取付け、装置前面からの入
射光を反射させて表示する反射型とがある。そして、近
年におけるカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等の
高品質化および用途の拡大を反映して、カラーフィルタ
に用いられる着色剤には、優れた放射線に対する透明
性、彩度と明度のバランス、樹脂成分への分散性等を有
することが求められており、また感放射線性組成物とし
ても、画素アレイを形成する際の塗布均一性、現像液に
対する溶解性や、感度、パターン形状等が厳しく要求さ
れている。しかしながら、カラーフィルタに使用される
着色剤の種類は多岐を極めており、前記諸特性のバラン
スに優れた適切な着色剤あるいはその組み合わせを見出
すことは極めて困難であるのが実状である。
2. Description of the Related Art A color filter used in a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, or the like irradiates radiation (hereinafter, referred to as "exposure") to a coating film of a photosensitive resin through a photomask to form an exposure portion. Is cured, and then subjected to a development treatment to remove a non-exposed portion of the coating film to form a pattern, and then use a dyeing method (a dyeing method) or a composition in which a colorant is dispersed in a photosensitive resin. In the same manner as described above, it is manufactured by a method such as a photolithography method in which a coating film is formed, exposed and developed, and the colorants of these color filters include, in addition to the three primary colors of red, green and blue, For image pickup tubes, combinations of complementary colors of cyan, magenta and yellow have also been used. By the way, a color filter used in a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, or the like is composed of two or more kinds of pixels having different color tones arranged in parallel or intersecting in a striped pixel on the surface of a transparent substrate such as glass. The rectangular pixels are arranged vertically and horizontally, and the pixel size is as fine as about several tens μm to several hundred μm. Conventionally, when manufacturing a color filter in which such fine pixels are regularly arranged, a photosensitive resin is applied onto a substrate, and the formed coating film is exposed through a photomask to cure the radiation-irradiated portion. And then develop it,
After removing the unexposed portion of the coating film to form a pattern, a dyeing method for dyeing, or using a composition in which a coloring agent (dye or pigment) is dissolved or dispersed in a photosensitive resin, to form a coating film in the same manner as described above. In addition, a method such as a photolithography method of performing patterning by performing exposure and development processing is employed. In general, in a color liquid crystal display device, in order to drive a liquid crystal, a transparent electrode made of indium oxide, tin oxide, or the like is formed on a color filter by, for example, vapor deposition or sputtering, and the liquid crystal is further formed thereon in a certain direction. An alignment film for alignment is formed, and in order to obtain a high-performance transparent electrode and an alignment film, a high temperature of generally 200 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher is required when forming them. Among the color filters manufactured by the above method, a color filter using a dye has high transparency to radiation, but has insufficient heat resistance. Therefore, formation of a transparent electrode and an alignment film is performed at a temperature of less than 200 ° C. Inevitably, the performance of the transparent electrode and the alignment film cannot be sufficiently ensured. In addition, color filters using dyes also have poor light resistance, and are not suitable for outdoor use. Therefore, instead of dyes, pigments having excellent heat resistance and light resistance have come to be used, and most of currently manufactured color filters use organic pigments. The color filter is roughly divided into a light source (backlight) on the back of the device and a transmissive type that displays by the transmitted light, and a light reflection plate such as an aluminum foil attached to the back of a transparent substrate provided on the back of the device. And a reflection type in which incident light from the front of the device is reflected and displayed. In recent years, reflecting the high quality of color liquid crystal display devices and color image pickup tube elements and the expansion of applications, colorants used in color filters have excellent transparency to radiation, balance between saturation and brightness. It is required to have dispersibility in resin components, etc., and also as a radiation-sensitive composition, coating uniformity when forming a pixel array, solubility in a developer, sensitivity, pattern shape, etc. Strictly required. However, the types of colorants used in color filters are extremely diverse, and it is actually difficult to find an appropriate colorant or a combination thereof that has an excellent balance of the above-mentioned various properties.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑みてなされたものであり、その課題は、画素
アレイを形成する際の塗布均一性、感度、現像性等が優
れており、しかもパターン形状、放射線に対する透明
性、彩度と明度のバランス等に優れた透過型あるいは反
射型のカラーフィルタを形成しうるカラーフィルタ用感
放射線性組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to improve the uniformity of application, sensitivity, developability, and the like when forming a pixel array. Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition for a color filter capable of forming a transmission-type or reflection-type color filter which is excellent in pattern shape, transparency to radiation, balance between saturation and brightness, and the like.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)下記式
(1)または式(2)で表される化合物の群から選ばれ
る少なくとも1種のペリレン系顔料を含む着色剤、
(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性モノマーお
よび(D)光重合開始剤を含有することを特徴とするカ
ラーフィルタ用感放射線性組成物、からなる。
The present invention provides (A) a colorant containing at least one kind of perylene pigment selected from the group of compounds represented by the following formula (1) or (2):
The radiation-sensitive composition for a color filter, comprising (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator.

【0005】[0005]

【化1】Embedded image

【0006】〔式(1)において、XおよびYは相互に
独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20の
1価の芳香族炭化水素基もしくはその置換誘導体または
5〜6員環の含窒素複素環を有する基もしくはその置換
誘導体を示す。〕、
[In the formula (1), X and Y each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or a substituted derivative thereof, or a 5- to 6-membered compound. And a group having a nitrogen-containing heterocyclic ring or a substituted derivative thereof. ],

【0007】[0007]

【化2】Embedded image

【0008】以下、本発明を詳細に説明する。(A)着色剤 本発明における着色剤は、前記式(1)で表される化合
物(以下、「顔料(1)」という。)および前記式
(2)で表される化合物(以下、「顔料(2)」とい
う。)の群から選ばれる少なくとも1種のペリレン系顔
料を含むことを特徴とする。顔料(1)において、Xお
よびYの炭素数1〜10のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピ
ル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル
基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、
n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル
基、n−ノニル基、n−デシル基等を挙げることができ
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. (A) Colorant The colorant in the present invention is a compound represented by the formula (1) (hereinafter, referred to as “pigment (1)”) and a compound represented by the formula (2) (hereinafter, “pigment”) (2) "), at least one perylene pigment selected from the group of (2). In the pigment (1), examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of X and Y include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, and sec. -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group,
Examples thereof include an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group.

【0009】また、XおよびYの炭素数6〜20の1価
の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、4
−ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1
−アントラニル基、2−アントラニル基、9−アントラ
ニル基、9−フェナントリル基等を挙げることができ
る。前記芳香族炭化水素基の置換誘導体における置換基
としては、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、炭素数1〜10のアルキル基、 -OR1 、-COR2 、-C
OOR3 、 -N(R4)(R5) 、 -SO3R6 、 -SO2R7 、 -OCO
R8 、 -N=NR9 (但し、R1〜R6は相互に独立に水素原
子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリ
ール基、炭素数7〜13のアラルキル基を示し、 R7
R8 は相互に独立に炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
6〜12のアリール基または炭素数7〜13のアラルキ
ル基を示し、 R9 は炭素数6〜20の1価の芳香族炭化
水素基を示す。)等を挙げることができる。XおよびY
の炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基の置換誘導
体の具体例としては、p−クロロフェニル基、3,5−
ジクロロフェニル、p−ニトロフェニル基、3,5−ジ
ニトロフェニル基、p−シアノフェニル基、3,5−ジ
シアノフェニル基、o−メチルフェニル基、m−メチル
フェニル基、p−メチルフェニル基、3,5−ジメチル
フェニル基、p−エチルフェニル基、3,5−ジエチル
フェニル基、o−ヒドロキシフェニル基、m−ヒドロキ
シフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、3,5−ジ
ヒドロキシフェニル基、o−メトキシフェニル基、m−
メトキシフェニル基、p−メトキシフェニル基、3,5
−ジメトキシフェニル基、p−エトキシフェニル基、
3,5−ジエトキシフェニル基、p−ホルミルフェニル
基、3,5−ジホルミルフェニル基、p−メチルカルボ
ニルフェニル基、3,5−ジメチルカルボニルフェニル
基、p−カルボキシフェニル基、3,5−ジカルボキシ
フェニル基、p−メトキシカルボニルフェニル基、3,
5−ジメトキシカルボニルフェニル基、p−エトキシカ
ルボニルフェニル基、3,5−ジエトキシカルボニルフ
ェニル基、p−アミノフェニル基、3,5−ジアミノフ
ェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、3,5−ビ
ス(ジメチルアミノ)フェニル基、p−スルホフェニル
基、3,5−ジスルホフェニル基、p−メチルスルホフ
ェニル基、3,5−ジメチルスルホフェニル基、p−メ
チルスルホニルフェニル基、3,5−ジメチルスルホニ
ルフェニル基、p−メチルカルボニルオキシフェニル
基、3,5−ジメチルカルボニルオキシフェニル基、下
記式(3)で表される基等の置換フェニル基、
The monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms for X and Y includes, for example, phenyl group, 4
-Biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1
-Anthranyl group, 2-anthranyl group, 9-anthranyl group, 9-phenanthryl group and the like. The substituted derivatives of the aromatic hydrocarbon group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, -OR 1, -COR 2, -C
OOR 3 , -N (R 4 ) (R 5 ), -SO 3 R 6 , -SO 2 R 7 , -OCO
R 8 , -N = NR 9 (where R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms) Indicates that R 7
R 8 independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, and R 9 represents a monovalent aromatic having 6 to 20 carbon atoms. Shows a hydrocarbon group. ) And the like. X and Y
Specific examples of the substituted derivative of a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include a p-chlorophenyl group, 3,5-
Dichlorophenyl, p-nitrophenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, p-cyanophenyl group, 3,5-dicyanophenyl group, o-methylphenyl group, m-methylphenyl group, p-methylphenyl group, 3, 5-dimethylphenyl group, p-ethylphenyl group, 3,5-diethylphenyl group, o-hydroxyphenyl group, m-hydroxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, 3,5-dihydroxyphenyl group, o-methoxyphenyl Group, m-
Methoxyphenyl group, p-methoxyphenyl group, 3,5
-Dimethoxyphenyl group, p-ethoxyphenyl group,
3,5-diethoxyphenyl group, p-formylphenyl group, 3,5-diformylphenyl group, p-methylcarbonylphenyl group, 3,5-dimethylcarbonylphenyl group, p-carboxyphenyl group, 3,5- Dicarboxyphenyl group, p-methoxycarbonylphenyl group, 3,
5-dimethoxycarbonylphenyl group, p-ethoxycarbonylphenyl group, 3,5-diethoxycarbonylphenyl group, p-aminophenyl group, 3,5-diaminophenyl group, p-dimethylaminophenyl group, 3,5-bis (Dimethylamino) phenyl group, p-sulfophenyl group, 3,5-disulfophenyl group, p-methylsulfophenyl group, 3,5-dimethylsulfophenyl group, p-methylsulfonylphenyl group, 3,5-dimethyl A substituted phenyl group such as a sulfonylphenyl group, a p-methylcarbonyloxyphenyl group, a 3,5-dimethylcarbonyloxyphenyl group, a group represented by the following formula (3),

【0010】[0010]

【化3】 Embedded image ;

【0011】4’−クロロ−4−ビフェニル基、4’−
ニトロ−4−ビフェニル基、4’−シアノ−4−ビフェ
ニル基、4’−メチル−4−ビフェニル基、4’−ヒド
ロキシ−4−ビフェニル基、4’−メトキシ−4−ビフ
ェニル基、4’−ホルミル−4−ビフェニル基、4’−
メチルカルボニル−4−ビフェニル基、4’−カルボキ
シ−4−ビフェニル基、4’−メトキシカルボニル−4
−ビフェニル基、4’−アミノ−4−ビフェニル基、
4’−ジメチルアミノ−4−ビフェニル基、4’−スル
ホ−4−ビフェニル基、4’−メチルスルホ−4−ビフ
ェニル基、4’−メチルスルホニル−4−ビフェニル
基、4’−メチルカルボニルオキシ−4−ビフェニル
基、下記式(4)で表される基等の置換−4−ビフェニ
ル基、
4'-chloro-4-biphenyl group, 4'-
Nitro-4-biphenyl group, 4'-cyano-4-biphenyl group, 4'-methyl-4-biphenyl group, 4'-hydroxy-4-biphenyl group, 4'-methoxy-4-biphenyl group, 4'- Formyl-4-biphenyl group, 4'-
Methylcarbonyl-4-biphenyl group, 4'-carboxy-4-biphenyl group, 4'-methoxycarbonyl-4
-Biphenyl group, 4'-amino-4-biphenyl group,
4'-dimethylamino-4-biphenyl group, 4'-sulfo-4-biphenyl group, 4'-methylsulfo-4-biphenyl group, 4'-methylsulfonyl-4-biphenyl group, 4'-methylcarbonyloxy-4 -Biphenyl group, a substituted 4-biphenyl group such as a group represented by the following formula (4),

【0012】[0012]

【化4】 Embedded image ;

【0013】4−クロロ−1−ナフチル基、4−ニトロ
−1−ナフチル基、4−シアノ−1−ナフチル基、4−
メチル−1−ナフチル基、4−ヒドロキシ−1−ナフチ
ル基、4−メトキシ−1−ナフチル基、4−ホルミル−
1−ナフチル基、4−メチルカルボニル−1−ナフチル
基、4−カルボキシ−1−ナフチル基、4−メトキシカ
ルボニル−1−ナフチル基、4−アミノ−1−ナフチル
基、4−ジメチルアミノ−1−ナフチル基、4−スルホ
−1−ナフチル基、4−メチルスルホ−1−ナフチル
基、4−メチルスルホニル−1−ナフチル基、4−メチ
ルカルボニルオキシ−1−ナフチル基、下記式(5)で
表される基等の置換1−ナフチル基、
4-chloro-1-naphthyl group, 4-nitro-1-naphthyl group, 4-cyano-1-naphthyl group, 4-
Methyl-1-naphthyl group, 4-hydroxy-1-naphthyl group, 4-methoxy-1-naphthyl group, 4-formyl-
1-naphthyl group, 4-methylcarbonyl-1-naphthyl group, 4-carboxy-1-naphthyl group, 4-methoxycarbonyl-1-naphthyl group, 4-amino-1-naphthyl group, 4-dimethylamino-1- Naphthyl group, 4-sulfo-1-naphthyl group, 4-methylsulfo-1-naphthyl group, 4-methylsulfonyl-1-naphthyl group, 4-methylcarbonyloxy-1-naphthyl group, represented by the following formula (5) Substituted 1-naphthyl group such as

【0014】[0014]

【化5】 Embedded image

【0015】等を挙げることができる。And the like.

【0016】また、XおよびYの5〜6員環の含窒素複
素環を有する基としては、例えば、1−ピロリル基、2
−ピロリル基、3−ピロリル基、1−ピラゾリル基、3
−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、1−イミダゾリル
基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル基、1−ト
リアゾリル基、4−トリアゾリル基、5−トリアゾリル
基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジ
ニル基、2−ピリミジニル基、4−ピリミジニル基、5
−ピリミジニル基、6−ピリミジニル基、2−ピラジニ
ル基、3−ピラジニル基、s−トリアジニル基、2−オ
キサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル
基、3−イソオキサゾリル基、4−イソオキサゾリル
基、5−イソオキサゾリル基、2−チアゾリル基、4−
チアゾリル基、5−チアゾリル基、3−イソチアゾリル
基、4−イソチアゾリル基、5−イソチアゾリル基等を
挙げることができる。前記含窒素複素環を有する基の置
換誘導体における置換基のうち、該含窒素複素環を有す
る基中の窒素原子に対する置換基としては、例えば、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数7〜13のアラルキル基等を挙げることがで
き、また該含窒素複素環を有する基中の炭素原子に対す
る置換基としては、例えば、炭素数1〜5のアルキル
基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数7〜13のア
ラルキル基のほか、前記芳香族炭化水素基の置換誘導体
における置換基(但し、アルキル基を除く。)と同様の
基を挙げることができる。
Examples of the group having a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring of X and Y include a 1-pyrrolyl group,
-Pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 1-pyrazolyl group, 3
-Pyrazolyl group, 4-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group, 2-imidazolyl group, 4-imidazolyl group, 1-triazolyl group, 4-triazolyl group, 5-triazolyl group, 2-pyridinyl group, 3-pyridinyl group, 4 -Pyridinyl group, 2-pyrimidinyl group, 4-pyrimidinyl group, 5
-Pyrimidinyl group, 6-pyrimidinyl group, 2-pyrazinyl group, 3-pyrazinyl group, s-triazinyl group, 2-oxazolyl group, 4-oxazolyl group, 5-oxazolyl group, 3-isooxazolyl group, 4-isoxazolyl group, 5 -Isoxazolyl group, 2-thiazolyl group, 4-
Examples thereof include a thiazolyl group, a 5-thiazolyl group, a 3-isothiazolyl group, a 4-isothiazolyl group, and a 5-isothiazolyl group. Among the substituents in the substituted derivative of the group having a nitrogen-containing heterocyclic ring, examples of the substituent for the nitrogen atom in the group having a nitrogen-containing heterocyclic ring include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a carbon atom having 6 to 5 carbon atoms. Examples thereof include an aryl group having 12 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms. Examples of the substituent for a carbon atom in the group having a nitrogen-containing heterocyclic ring include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, In addition to the aryl group having 6 to 12 carbon atoms and the aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, the same groups as the substituents (excluding the alkyl group) in the substituted derivatives of the aromatic hydrocarbon group can be exemplified. .

【0017】XおよびYの5〜6員環の含窒素複素環を
有する基の置換誘導体の具体例としては、2−メチル−
1−ピロリル基、3−メチル−1−ピロリル基、1−メ
チル−2−ピロリル基、3−メチル−1−ピラゾリル
基、4−メチル−1−ピラゾリル基、1−メチル−3−
ピラゾリル基、2−メチル−1−イミダゾリル基、4−
メチル−1−イミダゾリル基、1−メチル−2−イミダ
ゾリル基、4−メチル−2−イミダゾリル基、4−メチ
ル−1−トリアゾリル基、1−メチル−4−トリアゾリ
ル基、4−メチル−2−ピリジニル基、2−メチル−4
−ピリジニル基、4−メチル−2−ピリミジニル基、2
−メチル−4−ピリミジニル基、3−メチル−2−ピラ
ジニル基、2−メチル−3−ピラジニル基、メチル−s
−トリアジニル基、ジメチル−s−トリアジニル基等の
アルキル置換誘導体;2−フェニル−1−ピロリル基、
3−フェニル−1−ピロリル基、1−フェニル−2−ピ
ロリル基、3−フェニル−1−ピラゾリル基、4−フェ
ニル−1−ピラゾリル基、1−フェニル−3−ピラゾリ
ル基、2−フェニル−1−イミダゾリル基、4−フェニ
ル−1−イミダゾリル基、1−フェニル−2−イミダゾ
リル基、4−フェニル−2−イミダゾリル基、4−フェ
ニル−1−トリアゾリル基、1−フェニル−4−トリア
ゾリル基、4−フェニル−2−ピリジニル基、2−フェ
ニル−4−ピリジニル基、4−フェニル−2−ピリミジ
ニル基、2−フェニル−4−ピリミジニル基、3−フェ
ニル−2−ピラジニル基、2−フェニル−3−ピラジニ
ル基、フェニル−s−トリアジニル基、ジフェニル−s
−トリアジニル基等のフェニル置換誘導体;2−ベンジ
ル−1−ピロリル基、3−フェニル−1−ピロリル基、
1−ベンジル−2−ピロリル基、3−ベンジル−1−ピ
ラゾリル基、4−ベンジル−1−ピラゾリル基、1−ベ
ンジル−3−ピラゾリル基、2−ベンジル−1−イミダ
ゾリル基、4−ベンジル−1−イミダゾリル基、1−ベ
ンジル−2−イミダゾリル基、4−ベンジル−2−イミ
ダゾリル基、4−ベンジル−1−トリアゾリル基、1−
ベンジル−4−トリアゾリル基、4−ベンジル−2−ピ
リジニル基、2−ベンジル−4−ピリジニル基、4−ベ
ンジル−2−ピリミジニル基、2−ベンジル−4−ピリ
ミジニル基、3−ベンジル−2−ピラジニル基、2−ベ
ンジル−3−ピラジニル基、ベンジル−s−トリアジニ
ル基、ジベンジル−s−トリアジニル基等のベンジル置
換誘導体等を挙げることができる。
Specific examples of substituted derivatives of a group having a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring of X and Y include 2-methyl-
1-pyrrolyl group, 3-methyl-1-pyrrolyl group, 1-methyl-2-pyrrolyl group, 3-methyl-1-pyrazolyl group, 4-methyl-1-pyrazolyl group, 1-methyl-3-
Pyrazolyl group, 2-methyl-1-imidazolyl group, 4-
Methyl-1-imidazolyl group, 1-methyl-2-imidazolyl group, 4-methyl-2-imidazolyl group, 4-methyl-1-triazolyl group, 1-methyl-4-triazolyl group, 4-methyl-2-pyridinyl Group, 2-methyl-4
-Pyridinyl group, 4-methyl-2-pyrimidinyl group, 2
-Methyl-4-pyrimidinyl group, 3-methyl-2-pyrazinyl group, 2-methyl-3-pyrazinyl group, methyl-s
Alkyl-substituted derivatives such as -triazinyl group, dimethyl-s-triazinyl group; 2-phenyl-1-pyrrolyl group;
3-phenyl-1-pyrrolyl group, 1-phenyl-2-pyrrolyl group, 3-phenyl-1-pyrazolyl group, 4-phenyl-1-pyrazolyl group, 1-phenyl-3-pyrazolyl group, 2-phenyl-1 -Imidazolyl group, 4-phenyl-1-imidazolyl group, 1-phenyl-2-imidazolyl group, 4-phenyl-2-imidazolyl group, 4-phenyl-1-triazolyl group, 1-phenyl-4-triazolyl group, 4 -Phenyl-2-pyridinyl group, 2-phenyl-4-pyridinyl group, 4-phenyl-2-pyrimidinyl group, 2-phenyl-4-pyrimidinyl group, 3-phenyl-2-pyrazinyl group, 2-phenyl-3- Pyrazinyl group, phenyl-s-triazinyl group, diphenyl-s
Phenyl-substituted derivatives such as -triazinyl group; 2-benzyl-1-pyrrolyl group, 3-phenyl-1-pyrrolyl group,
1-benzyl-2-pyrrolyl group, 3-benzyl-1-pyrazolyl group, 4-benzyl-1-pyrazolyl group, 1-benzyl-3-pyrazolyl group, 2-benzyl-1-imidazolyl group, 4-benzyl-1 -Imidazolyl group, 1-benzyl-2-imidazolyl group, 4-benzyl-2-imidazolyl group, 4-benzyl-1-triazolyl group, 1-
Benzyl-4-triazolyl group, 4-benzyl-2-pyridinyl group, 2-benzyl-4-pyridinyl group, 4-benzyl-2-pyrimidinyl group, 2-benzyl-4-pyrimidinyl group, 3-benzyl-2-pyrazinyl And benzyl-substituted derivatives such as a 2-benzyl-3-pyrazinyl group, a benzyl-s-triazinyl group and a dibenzyl-s-triazinyl group.

【0018】顔料(1)におけるXおよびYとしては、
メチル基、エチル基、o−メチルフェニル基、m−メチ
ルフェニル基、p−メチルフェニル基、3,5−ジメチ
ルフェニル基、o−メトキシフェニル基、m−メトキシ
フェニル基、p−メトキシフェニル基、3,5−ジメト
キシフェニル基、p−エトキシフェニル基、3,5−ジ
エトキシフェニル基、前記式(3)で表される基等が好
ましく、さらに好ましくは、メチル基、3,5−ジメチ
ルフェニル基、p−エトキシフェニル基、前記式(3)
で表される基等である。顔料(1)の具体例を、カラー
インデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colou
rists 社発行。以下同様。) 番号で示すと、C.I.ピグメ
ントレッド123(XおよびYがp−エトキシフェニル
基)、C.I.ピグメントレッド149(XおよびYが3,
5−ジメチルフェニル基)、C.I.ピグメントレッド17
8(XおよびYが式(3)で表される基)、C.I.ピグメ
ントレッド179(XおよびYがメチル基)等を挙げる
ことができる。本発明におけるペリレン系顔料として
は、特に顔料(2)が好ましい。顔料(2)は、カラー
インデックス番号でC.I.ピグメントレッド224に相当
するものである。本発明において、前記ペリレン系顔料
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
X and Y in the pigment (1) are as follows:
Methyl group, ethyl group, o-methylphenyl group, m-methylphenyl group, p-methylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, o-methoxyphenyl group, m-methoxyphenyl group, p-methoxyphenyl group, Preferred are a 3,5-dimethoxyphenyl group, a p-ethoxyphenyl group, a 3,5-diethoxyphenyl group, a group represented by the above formula (3), and more preferably a methyl group, 3,5-dimethylphenyl Group, p-ethoxyphenyl group, the formula (3)
And the like. Specific examples of the pigment (1) are described in Color Index (CI; The Society of Dyers and Colou).
Published by rists. The same applies hereinafter. ), CI Pigment Red 123 (X and Y are p-ethoxyphenyl groups), CI Pigment Red 149 (X and Y are 3,
5-dimethylphenyl group), CI Pigment Red 17
8 (X and Y are groups represented by the formula (3)), CI Pigment Red 179 (X and Y are methyl groups), and the like. As the perylene pigment in the invention, pigment (2) is particularly preferred. Pigment (2) corresponds to CI Pigment Red 224 by a color index number. In the present invention, the perylene pigments can be used alone or in combination of two or more.

【0019】本発明においては、場合により、前記顔料
(1)と共に、他の着色剤を併用することができる。前
記他の着色剤は、色調が特に限定されるものではなく、
また有機着色剤でも無機着色剤でもよい。前記有機着色
剤としては、染料、有機顔料、天然色素等を挙げること
ができ、また前記無機着色剤としては、無機顔料のほ
か、体質顔料と呼ばれる無機塩等を挙げることができる
が、本発明における他の着色剤としては、発色性が高
く、且つ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い着
色剤が好ましく、通常有機着色剤が使用され、特に有機
顔料が好ましい。前記有機顔料の具体例としては、カラ
ーインデックス番号で下記ものを挙げることができる。
C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイエロー
3、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエ
ロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメン
トイエロー16、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピ
グメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、
C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー
55、C.I.ピグメントイエロー60、C.I.ピグメントイ
エロー65、C.I.ピグメントイエロー73、C.I.ピグメ
ントイエロー74、C.I.ピグメントイエロー81、C.I.
ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー9
3、C.I.ピグメントイエロー95、C.I.ピグメントイエ
ロー97、C.I.ピグメントイエロー98、C.I.ピグメン
トイエロー100、C.I.ピグメントイエロー101、C.
I.ピグメントイエロー104、C.I.ピグメントイエロー
106、C.I.ピグメントイエロー108、C.I.ピグメン
トイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.
I.ピグメントイエロー113、C.I.ピグメントイエロー
114、C.I.ピグメントイエロー116、C.I.ピグメン
トイエロー117、C.I.ピグメントイエロー119、C.
I.ピグメントイエロー120、C.I.ピグメントイエロー
126、C.I.ピグメントイエロー127、C.I.ピグメン
トイエロー128、C.I.ピグメントイエロー129、C.
I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー
139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメン
トイエロー151、C.I.ピグメントイエロー152、C.
I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー
154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメン
トイエロー156、C.I.ピグメントイエロー166、C.
I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー
175;C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメント
オレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ51、C.I.ピグ
メントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ71、C.
I.ピグメントオレンジ73;C.I.ピグメントレッド9、
C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド12
2、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッ
ド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメン
トレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピ
グメントレッド180、C.I.ピグメントレッド202、
C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド2
15、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレ
ッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメ
ントレッド265;C.I.ピグメントバイオレット19、
C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイ
オレット29;C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメ
ントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、
C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー
60;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリ
ーン36;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメン
トブラウン25;C.I.ピグメントブラック1、ピグメン
トブラック7。
In the present invention, other coloring agents can be used in combination with the pigment (1) as the case may be. The other colorant is not particularly limited in color tone,
Further, an organic colorant or an inorganic colorant may be used. Examples of the organic colorant include dyes, organic pigments, and natural pigments. Examples of the inorganic colorant include, in addition to inorganic pigments, inorganic salts called extenders, and the like. As the other colorant in the above, a colorant having a high coloring property and a high heat resistance, particularly a colorant having a high thermal decomposition resistance is preferable, and an organic colorant is usually used, and an organic pigment is particularly preferable. As specific examples of the organic pigment, the following can be given by color index number.
CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24,
CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI Pigment Yellow 81, CI
Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 9
3, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97, CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI Pigment Yellow 101, C.I.
I. Pigment Yellow 104, CI Pigment Yellow 106, CI Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, C.I.
Pigment Yellow 113, CI Pigment Yellow 114, CI Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 119, C.I.
CI Pigment Yellow 120, CI Pigment Yellow 126, CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment Yellow 129, C.I.
CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI Pigment Yellow 152, C.I.
Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 156, CI Pigment Yellow 166, C.I.
CI Pigment Yellow 168, CI Pigment Yellow 175; CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 71, C.I.
I. Pigment Orange 73; CI Pigment Red 9,
CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 12
2, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 202,
CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 2
15, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 255, CI Pigment Red 265; CI Pigment Violet 19,
CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29; CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4,
CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 60; CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36; CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25; CI Pigment Black 1, Pigment Black 7.

【0020】また、前記無機着色剤としては、例えば、
酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、
硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(II
I))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバ
ルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボ
ンブラック等を挙げることができる。本発明において、
他の着色剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用す
ることができる。他の着色剤の使用割合は、全着色剤に
対して、通常、99重量%以下、好ましくは90重量%
以下である。この場合、他の着色剤の使用割合が99重
量%を超えると、彩度と明度のバランスをとりつつ、良
好な塗布性、感度、現像性等を確保することが困難とな
る傾向がある。
The inorganic colorant includes, for example,
Titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white,
Lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron oxide (II
I)), cadmium red, ultramarine blue, navy blue, chromium oxide green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like. In the present invention,
Other coloring agents can be used alone or in combination of two or more. The proportion of other colorants used is usually 99% by weight or less, preferably 90% by weight, based on all the colorants.
It is as follows. In this case, if the use ratio of the other colorant exceeds 99% by weight, it tends to be difficult to secure good coatability, sensitivity, developability, and the like while maintaining a balance between chroma and lightness.

【0021】本発明における着色剤は、所望により、分
散剤とともに使用することができる。このような分散剤
としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン
系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙
げることができる。前記界面活性剤としては、例えば、
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイル
エーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;
ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレングリ
コールジラウレート、ポリエチレングリコールジステア
レート等のポリエチレングリコールジエステル類;ソル
ビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル類;
3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチレンイミン類
のほか、以下商品名で、KP(信越化学工業製)、ポリ
フロー(共栄社油脂化学工業製)、エフトップ(トーケ
ムプロダクツ製)、メガファック(大日本インキ化学工
業製)、フロラード(住友スリーエム製)、アサヒガー
ド、サーフロン(以上、旭硝子製)等を挙げることがで
きる。これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。界面活性剤の使用量
は、着色剤100重量部に対して、通常、50重量部以
下、好ましくは0〜40重量部である。
The colorant in the present invention can be used together with a dispersant, if desired. Examples of such a dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants. As the surfactant, for example,
Polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene oleyl ether;
Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as polyoxyethylene octyl phenyl ether and polyoxyethylene nonyl phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters;
Tertiary amine-modified polyurethanes: In addition to polyethyleneimines, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo), F-Top (manufactured by Tochem Products), Megafac (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) Chemical Industry), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard, Surflon (above, manufactured by Asahi Glass) and the like. These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The amount of the surfactant to be used is generally 50 parts by weight or less, preferably 0 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant.

【0022】(B)アルカリ可溶性樹脂 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、(A)着
色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィ
ルタ製造時の現像処理工程において用いられるアルカリ
現像液に可溶性である限り、適宜の樹脂を使用すること
ができる。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、例
えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基等の酸性官
能基を含有する樹脂を挙げることができる。アルカリ可
溶性樹脂のうち、カルボキシル基含有アルカリ可溶性樹
脂としては、例えば、1個以上のカルボキシル基を有す
るエチレン性不飽和モノマー(以下、単に「カルボキシ
ル基含有不飽和モノマー」という。)の(共)重合体を
挙げることができる。前記カルボキシル基含有不飽和モ
ノマーの(共)重合体としては、特にカルボキシル基含
有不飽和モノマーと他の共重合可能なエチレン性不飽和
モノマー(以下、単に「他の不飽和モノマー」とい
う。)とからなるモノマー混合物の共重合体(以下、単
に「カルボキシル基含有共重合体(b)」という。)が
好ましい。前記カルボキシル基含有不飽和モノマーとし
ては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、α−クロルアクリル酸、エタクリル酸、けい皮酸等
の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカル
ボン酸(無水物)類;3価以上の不飽和多価カルボン酸
(無水物)類;こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエ
チル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチ
ル)、フタル酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、
フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)等の2
価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロ
キシアルキル〕エステル類;ω−カルボキシ−ポリカプ
ロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカ
プロラクトンモノメタクリレート等の両末端カルボキシ
ポリマーのモノ(メタ)アクリレート類等を挙げること
ができる。これらのカルボキシル基含有不飽和モノマー
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
(B) Alkali-Soluble Resin As the alkali-soluble resin in the present invention, (A) acts as a binder for a colorant and is soluble in an alkali developing solution used in a developing step in the production of a color filter. Any suitable resin can be used as long as the resin is used. Examples of such an alkali-soluble resin include a resin containing an acidic functional group such as a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group. Among the alkali-soluble resins, the carboxyl group-containing alkali-soluble resin includes, for example, (co) -weight of an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups (hereinafter, simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”). Coalescence can be mentioned. Examples of the (co) polymer of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include a carboxyl group-containing unsaturated monomer and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter, simply referred to as “other unsaturated monomer”). (Hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing copolymer (b)”) is preferred. Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, ethacrylic acid, and cinnamic acid; maleic acid, maleic anhydride, and fumaric acid. Unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides) such as, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid; trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids (anhydrides); succinic acid mono (2 -Acryloyloxyethyl), mono (2-methacryloyloxyethyl) succinate, mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate,
2 such as mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalate
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyhydric carboxylic acids having a valency of at least 1, mono- (meth) acrylate of carboxy polymer at both terminals such as ω-carboxy-polycaprolactone monomethacrylate and ω-carboxy-polycaprolactone monomethacrylate And the like. These carboxyl group-containing unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0023】また、前記他の不飽和モノマーとしては、
例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルト
ルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、o
−クロルスチレン、m−クロルスチレン、p−クロルス
チレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレ
ン、p−メトキシスチレン、インデン、o−ビニルベン
ジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテ
ル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシ
ジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル
等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタ
クリレート、i−プロピルアクリレート、i−プロピル
メタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチル
メタクリレート、i−ブチルアクリレート、i−ブチル
メタクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec
−ブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t
−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒド
ロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、3−
ヒドロキシブチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチ
ルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベン
ジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2−
メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエチルメタ
クリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、2−
フェノキシエチルメタクリレート、メトキシジエチレン
グルコールアクリレート、メトキシジエチレングルコー
ルメタクリレート、メトキシトリエチレングルコールア
クリレート、メトキシトリエチレングルコールメタクリ
レート、メトキシプロピレングルコールアクリレート、
メトキシプロピレングルコールメタクリレート、メトキ
シジプロピレングルコールアクリレート、メトキシジプ
ロピレングルコールメタクリレート、イソボルニルアク
リレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペン
タジエニルアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタ
クリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル
アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類;2
−アミノエチルアクリレート、2−アミノエチルメタク
リレート、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2
−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−アミノプ
ロピルアクリレート、2−アミノプロピルメタクリレー
ト、2−ジメチルアミノプロピルアクリレート、2−ジ
メチルアミノプロピルメタクリレート、3−アミノプロ
ピルアクリレート、3−アミノプロピルメタクリレー
ト、3−ジメチルアミノプロピルアクリレート、3−ジ
メチルアミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボ
ン酸アミノアルキルエステル類;グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グ
リシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニル
エステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエー
テル、アリルグリシジルエーテル、メタリルグリシジル
エーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シア
ン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、
N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−
(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド等の不飽和
アミド;マレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、
N−フェニルマレイミド等の不飽和イミド類;1,3−
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役
ジエン類;ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポ
リメチルメタクリレート、ポリn−ブチルアクリレー
ト、ポリn−ブチルメタクリレート、ポリシリコーン等
の重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル基あるいはモ
ノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等を挙げ
ることができる。これらの他の不飽和モノマーは、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The other unsaturated monomers include:
For example, styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, o
-Chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, indene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzylmethyl Aromatic vinyl compounds such as ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether; methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate I-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, s c- butyl acrylate, sec
-Butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t
-Butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl Methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-
Hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate,
Phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-
Methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-
Phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate,
Methoxy propylene glycol methacrylate, methoxy dipropylene glycol acrylate, methoxy dipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, 2-hydroxy-3- Unsaturated carboxylic esters such as phenoxypropyl acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate; 2
-Aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2
-Dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate Aminoalkyl esters of unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid and 3-dimethylaminopropyl methacrylate; Glycidyl esters of unsaturated carboxylic acids such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acids such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate Vinyl esters; unsaturated esters such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether and methallyl glycidyl ether; Ethers; acrylonitrile, methacrylonitrile, alpha-chloro acrylonitrile, vinyl cyanide compounds such as vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, alpha-chloro acrylamide,
N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N-
Unsaturated amides such as (2-hydroxyethyl) methacrylamide; maleimide, N-cyclohexylmaleimide,
Unsaturated imides such as N-phenylmaleimide; 1,3-
Aliphatic conjugated dienes such as butadiene, isoprene and chloroprene; monoacryloyl groups or the like at the terminal of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly n-butyl acrylate, poly n-butyl methacrylate, and polysilicone. Examples thereof include macromonomers having a monomethacryloyl group. These other unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0024】カルボキシル基含有共重合体(b)として
は、アクリル酸および/またはメタクリル酸と、ス
チレン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタ
クリレート、N−フェニルマレイミド、ポリスチレンマ
クロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマーの群から選ばれる少なくとも1種との共重合体が
好ましい。
As the carboxyl group-containing copolymer (b), acrylic acid and / or methacrylic acid, styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate,
Co-polymerization with at least one selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer Coalescence is preferred.

【0025】好ましいカルボキシル基含有共重合体
(b)の具体例としては、アクリル酸/ベンジルアクリ
レート共重合体、アクリル酸/スチレン/メチルアクリ
レート共重合体、アクリル酸/スチレン/ベンジルアク
リレート共重合体、アクリル酸/メチルアクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/メ
チルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルアクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベ
ンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロ
モノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレー
ト共重合体、アクリル酸/スチレン/メチルメタクリレ
ート共重合体、アクリル酸/スチレン/ベンジルメタク
リレート共重合体、アクリル酸/メチルメタクリレート
/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/
メチルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレ
ート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル
酸/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−
ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレ
ート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体等のアクリル酸共重合体類;
Specific examples of preferred carboxyl group-containing copolymer (b) include acrylic acid / benzyl acrylate copolymer, acrylic acid / styrene / methyl acrylate copolymer, acrylic acid / styrene / benzyl acrylate copolymer, Acrylic acid / methyl acrylate /
Polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / methyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl acrylate /
Polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, acrylic acid / styrene / methyl methacrylate copolymer, acrylic acid / styrene / benzyl methacrylate copolymer Polymer, acrylic acid / methyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid /
Methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl Methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-
Acrylic acid copolymers such as hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer;

【0026】メタクリル酸/ベンジルアクリレート共重
合体、メタクリル酸/スチレン/メチルアクリレート共
重合体、メタクリル酸/スチレン/ベンジルアクリレー
ト共重合体、メタクリル酸/メチルアクリレート/ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/メチ
ルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、メタクリル酸/ベンジルアクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/
ベンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリ
レート共重合体、メタクリル酸/スチレン/メチルメタ
クリレート共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベンジ
ルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/メチルメタ
クリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メ
タクリル酸/メチルメタクリレート/ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベン
ジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリ
ル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジル
メタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、
Methacrylic acid / benzyl acrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / methyl acrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl acrylate copolymer, methacrylic acid / methyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / Methyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl acrylate /
Polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid /
Benzyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / methyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / polystyrene Macromonomer copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic Acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / - hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymers,

【0027】メタクリル酸/スチレン/ベンジルメタク
リレート/N−フェニルマレイミド共重合体、メタクリ
ル酸/スチレン/フェニルメタクリレート/N−フェニ
ルマレイミド共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベン
ジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリス
チレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレ
ン/ベンジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド
/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
メタクリル酸/スチレン/フェニルメタクリレート/N
−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、メタクリル酸/スチレン/フェニルメタクリレ
ート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン
/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタ
クリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/2−
ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレ
ート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン
/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/フェニルメタ
クリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/2−
ヒドロキシエチルメタクリレート/フェニルメタクリレ
ート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体等のメタクリル酸共重合体
類等を挙げることができる。
Methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macro Monomer copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
Methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N
-Phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenyl Maleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-
Hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / Styrene / 2-
Examples thereof include methacrylic acid copolymers such as hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer.

【0028】これらのカルボキシル基含有共重合体
(b)のうち、特に、メタクリル酸/ベンジルメタクリ
レート共重合体、メタクリル酸/スチレン/メチルメタ
クリレート共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベンジ
ルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/メチルメタ
クリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メ
タクリル酸/メチルメタクリレート/ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベン
ジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリ
ル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジル
メタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/
ベンジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重
合体、メタクリル酸/スチレン/フェニルメタクリレー
ト/N−フェニルマレイミド共重合体、メタクリル酸/
スチレン/ベンジルメタクリレート/N−フェニルマレ
イミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタク
リル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/N−フェ
ニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、メタクリル酸/スチレン/フェニルメタ
クリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/フェ
ニルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリ
ル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート
/ベンジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/
スチレン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベン
ジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリ
ル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート
/フェニルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/
スチレン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/フェ
ニルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体が好まし
い。
Among these carboxyl group-containing copolymers (b), methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / methyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate copolymer, Methacrylic acid / methyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate Macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2- Mud methacrylate / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymers, methacrylic acid / styrene /
Benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid /
Styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenyl Maleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide /
Polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid /
Styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide /
Polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid /
Styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer is preferred.

【0029】カルボキシル基含有共重合体(b)におけ
るカルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、
通常、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%で
ある。この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの
共重合割合が5重量%未満では、得られる感放射線性組
成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向が
あり、また50重量%を超えると、アルカリ現像液によ
る現像時に、形成された画素の基板からの脱落や画素表
面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。特にカルボ
キシル基含有不飽和モノマーを前記特定の共重合割合で
含有するカルボキシル基含有共重合体(b)は、アルカ
リ現像液に対して優れた溶解性を有するものであり、当
該共重合体をバインダーとして用いた感放射線性組成物
は、アルカリ現像液による現像後に未溶解物が残存する
ことが極めて少なく、基板上の画素を形成する部分以外
の領域における地汚れ、膜残り等が発生し難く、しかも
該組成物から得られる画素は、アルカリ現像液に過剰に
溶解することがなく、基板に対して、優れた密着性を有
し、基板から脱落するおそれもないものとなる。カルボ
キシル基含有共重合体(b)のゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー(GPC;溶出溶媒テトラヒドロフラ
ン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、単に「重量平均分子量」という。)は、好ましくは
3,000〜300,000、さらに好ましくは5,0
00〜100,000である。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer (b) is as follows:
Usually, it is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight. In this case, if the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developing solution tends to decrease. During development with a developer, the formed pixels tend to fall off the substrate and the surface of the pixels becomes rough. In particular, the carboxyl group-containing copolymer (b) containing the carboxyl group-containing unsaturated monomer at the specific copolymerization ratio has excellent solubility in an alkali developer, and the copolymer is used as a binder. The radiation-sensitive composition used as the non-dissolved material is very unlikely to remain after development with an alkaline developer, and it is difficult to cause background fouling, film residue, and the like in a region other than a portion where a pixel is formed on a substrate, Moreover, the pixel obtained from the composition does not dissolve excessively in the alkali developing solution, has excellent adhesion to the substrate, and does not have a risk of falling off the substrate. The carboxyl group-containing copolymer (b) preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, simply referred to as "weight average molecular weight") measured by gel permeation chromatography (GPC; elution solvent: tetrahydrofuran) of preferably 3,000 or more. 300,000, more preferably 5,0
00 to 100,000.

【0030】また、アルカリ可溶性のポリエステル樹脂
を、アルカリ可溶性樹脂として使用することもできる。
このようなポリエステル樹脂としては、特に比較的低分
子量のポリ乳酸が好ましい。前記ポリ乳酸の重量平均分
子量は、通常、3,000〜300,000、好ましく
は5,000〜100,000である。また、フェノー
ル性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、
フェノール性水酸基含有ビニル芳香族化合物の(共)重
合体、フェノールノボラック樹脂等を挙げることができ
る。前記フェノール性水酸基含有ビニル芳香族化合物と
しては、例えば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロ
キシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキ
シ−α−メチルスチレン、m−ヒドロキシ−α−メチル
スチレン、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン等を挙
げることができる。これらのフェノール性水酸基含有ビ
ニル芳香族化合物は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。前記フェノール性水酸基含有ビ
ニル芳香族化合物は、場合により、1種以上の他の共重
合可能なエチレン性不飽和モノマー、例えば、カルボキ
シル基含有共重合体(b)について例示した前記他の不
飽和モノマーと共重合させることができる。また、前記
フェノールノボラック樹脂に使用されるフェノール類と
しては、例えば、o−クレゾール、m−クレゾール、p
−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレ
ノール、2,5−キシレノール、3,4−キシレノー
ル、3,5−キシレノール、 2,3,5−トリメチル
フェノール、3,4,5−トリメチルフェノール等を挙
げることができ、またアルデヒド類としては、例えば、
ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、グリオキサー
ル、グルタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、イソ
フタルアルデヒド等を挙げることができる。これらのフ
ェノール類およびアルデヒド類は、それぞれ単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。フェノー
ル性水酸基含有ビニル芳香族化合物の(共)重合体の重
量平均分子量は、好ましくは1,000〜150,00
0、さらに好ましくは3,000〜100,000であ
る。また、フェノールノボラック樹脂の重量平均分子量
は、好ましくは1,000〜150,000、さらに好
ましくは1,500〜80,000である。
Further, an alkali-soluble polyester resin can be used as the alkali-soluble resin.
As such a polyester resin, polylactic acid having a relatively low molecular weight is particularly preferable. The weight average molecular weight of the polylactic acid is usually from 3,000 to 300,000, preferably from 5,000 to 100,000. Further, as the phenolic hydroxyl group-containing alkali-soluble resin, for example,
Examples thereof include a (co) polymer of a phenolic hydroxyl group-containing vinyl aromatic compound and a phenol novolak resin. Examples of the phenolic hydroxyl group-containing vinyl aromatic compound include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, o-hydroxy-α-methylstyrene, m-hydroxy-α-methylstyrene, p-hydroxy -Α-methylstyrene and the like. These phenolic hydroxyl group-containing vinyl aromatic compounds can be used alone or in combination of two or more. The phenolic hydroxyl group-containing vinyl aromatic compound may optionally be one or more other copolymerizable ethylenically unsaturated monomers, such as the other unsaturated monomers exemplified for the carboxyl group-containing copolymer (b). And can be copolymerized. Examples of the phenol used in the phenol novolak resin include o-cresol, m-cresol, and p-cresol.
-Cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, 2,3,5-trimethylphenol, 3,4,5-trimethylphenol And the like, and as the aldehydes, for example,
Examples include formaldehyde, trioxane, paraformaldehyde, benzaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, phenylacetaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, terephthalaldehyde, and isophthalaldehyde. These phenols and aldehydes can be used alone or in combination of two or more. The weight average molecular weight of the (co) polymer of the phenolic hydroxyl group-containing vinyl aromatic compound is preferably from 1,000 to 150,000.
0, more preferably 3,000 to 100,000. The weight average molecular weight of the phenol novolak resin is preferably from 1,000 to 150,000, and more preferably from 1,500 to 80,000.

【0031】本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、
(A)着色剤100重量部に対して、通常、10〜10
00重量部、好ましくは20〜500重量部である。こ
の場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が10重量部未満
では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、画素が形
成される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生する
おそれがあり、一方1000重量部を超えると、相対的
に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色
濃度を達成することが困難となる場合がある。
In the present invention, the alkali-soluble resin is
They can be used alone or in combination of two or more. The amount of the alkali-soluble resin used in the present invention is
(A) Usually 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the colorant.
00 parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight. In this case, if the use amount of the alkali-soluble resin is less than 10 parts by weight, for example, alkali developability may be reduced, and background contamination or film residue may occur in a region other than a portion where a pixel is formed. If the amount exceeds 1,000 parts by weight, the concentration of the colorant relatively decreases, so that it may be difficult to achieve the desired color density as a thin film.

【0032】(C)多官能性モノマー 本発明における多官能性モノマーは、重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を2個以上有するモノマーからなる。こ
のような多官能性モノマーとしては、例えば、エチレン
グリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリ
コールのジアクリレートまたはジメタクリレート類;ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の
ポリアルキレングリコールのジアクリレートまたはジメ
タクリレート類;グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等
の3価以上の多価アルコールのポリアクリレートまたは
ポリメタクリレート類;ポリエステル、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラ
ン樹脂等のオリゴアクリレートまたはオリゴメタクリレ
ート類;両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、
両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポ
リカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ
アクリレートまたはジメタクリレート類や、トリス(2
−アクリロイルオキシエチル)フォスフェート、トリス
(2−メタクリロイルオキシエチル)フォスフェート等
を挙げることができる。
(C) Polyfunctional Monomer The polyfunctional monomer in the present invention comprises a monomer having two or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds. Examples of such polyfunctional monomers include diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; diacrylates and dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; Polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as methylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol; polyesters, epoxy resins,
Oligoacrylates or oligomethacrylates such as urethane resins, alkyd resins, silicone resins, and spirane resins; both ends hydroxypoly-1,3-butadiene;
Diacrylate or dimethacrylates of hydroxyl-terminated polymers such as hydroxyl-terminated hydroxypolyisoprene and hydroxyl-terminated hydroxypolycaprolactone, and tris (2
-Acryloyloxyethyl) phosphate, tris (2-methacryloyloxyethyl) phosphate, and the like.

【0033】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類が好ましく、具体的には、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等
を挙げることができ、特にトリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートが、画素強度が
高く、画素表面の平滑性に優れ、かつ画素が形成される
部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点で
好ましい。本発明において、多官能性モノマーは、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。本
発明における多官能性モノマーの使用量は、(B)アル
カリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、5〜50
0重量部、好ましくは20〜300重量部である。この
場合、多官能性モノマーの使用量が5重量部未満では、
画素強度あるいは画素表面の平滑性が不十分となる傾向
があり、一方500重量部を超えると、例えば、アルカ
リ現像性が低下したり、画素が形成される部分以外の領
域での地汚れや膜残りが発生しやすくなる傾向がある。
Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols are preferred. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate Pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and the like. Particularly, trimethylolpropane Triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythr Penta acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, high pixel intensities, excellent smoothness of the pixel surface and scumming in the region other than a portion where pixels are formed, are unlikely to generate film residue and the like. In the present invention, the polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more. The amount of the polyfunctional monomer used in the present invention is usually 5 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (B).
0 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight. In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight,
If the pixel strength or the smoothness of the pixel surface tends to be insufficient, on the other hand, if it exceeds 500 parts by weight, for example, the alkali developability is reduced, and background contamination or film in a region other than the portion where the pixel is formed is reduced. The remainder tends to occur easily.

【0034】(D)光重合開始剤 本発明における光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠
紫外線、電子線、X線等の放射線を露光することによ
り、前記(C)多官能性モノマーの重合を開始しうる活
性種を発生することができる化合物からなる。このよう
な光重合開始剤としては、下記式(6)、式(7)また
は式(8)で表される主要骨格を少なくとも1種有する
ビイミダゾール系化合物のほか、ベンゾイン系化合物、
アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α
−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン
系化合物、ジアゾ系化合物、トリアジン系化合物等を挙
げることができ、これらのうちビイミダゾール系化合物
が好ましい。
(D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator of the present invention is obtained by exposing the above (C) polyfunctional monomer to light by exposing it to radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam and X-ray. It consists of a compound capable of generating an active species capable of initiating polymerization. Examples of such a photopolymerization initiator include a biimidazole compound having at least one main skeleton represented by the following formula (6), formula (7) or formula (8), a benzoin compound,
Acetophenone compound, benzophenone compound, α
-Diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds, triazine compounds and the like can be mentioned, and among them, biimidazole compounds are preferable.

【0035】[0035]

【化3】Embedded image

【0036】前記ビイミダゾール系化合物の具体例とし
ては、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカ
ルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニルフェ
ニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’
−テトラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,
6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリ
ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(2−シアノフェニル)
−4,4’,5.5’−テトラキス(4−エトキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−シアノフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニルフェニ
ル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2
−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−メトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2−メチルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−エチ
ルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
メトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−エチルフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フェニル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−メ
トキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−フェニルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−フェニルフェニル)−4,4’,5,5’−テ
トラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、
Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4 -Phenoxycarbonylphenyl) -1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4
-Ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,
2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4',
5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxy Carbonylphenyl) -1,2'-
Biimidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4', 5,5 '
-Tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl)-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,
6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, , 2'-bis (2-cyanophenyl)
-4,4 ', 5.5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,
2'-bis (2-cyanophenyl) -4,4 ', 5
5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2
-Methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl)-
1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-
Methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,
4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis ( 4-phenoxycarbonylphenyl) -1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′ -Bis (2-phenylphenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-phenylphenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis ( 4-phenoxycarbonylphenyl) -1,
2'-biimidazole,

【0037】2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリ
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,
4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジシアノフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリシアノフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジメ
チルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,
4,6−トリメチルフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4−ジエチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリエチルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジフェニルフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−
トリフェニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール等を挙げることが
できる。
2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2 ,
4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4-dicyanophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tricyanophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl- 1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dimethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 ,
4,6-trimethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2 '
-Bis (2,4-diethylphenyl) -4,4 ', 5
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-triethylphenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-diphenylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1 ,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-
(Triphenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like.

【0038】これらのビイミダゾール系化合物のうち、
特に、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,
6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’
−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールおよび
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾールが好ましい。前記ビイミダゾール系化合物
は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の
異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエ
ネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとと
もに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じ
ることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不
溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する
未硬化部分とに明確に区分され、パターンの欠落、欠損
やアンダーカットのない優れたカラーフィルタを形成す
ることができる。
Of these biimidazole compounds,
In particular, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis ( 4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2 '
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,
6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4', 5,5 '
-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl)-
4,4 ', 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferred. The biimidazole-based compound is excellent in solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates, and has high sensitivity. Since the curing reaction is high and no curing reaction occurs in the unexposed area, the coated film after exposure is clearly divided into a cured area insoluble in the developer and an uncured area having a high solubility in the developer. It is possible to form an excellent color filter which is divided and has no pattern missing, missing or undercut.

【0039】また、前記ベンゾイン系化合物としては、
例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインi−プロピルエーテ
ル、ベンゾインi−ブチルエーテル、メチル−2−ベン
ゾイルベンゾエート等を挙げることができる。前記アセ
トフェノン系化合物としては、例えば、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−
(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン、2−メチル−(4−メチルチ
オフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−1−
オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、4−アジドアセト
フェノン、4−アジドベンザルアセトフェノン等を挙げ
ることができる。前記ベンゾフェノン系化合物として
は、例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン等を挙げることができる。前記α−
ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベ
ンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げること
ができる。前記多核キノン系化合物としては、例えば、
アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−
ブチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン等を挙げ
ることができる。前記キサントン系化合物としては、例
えば、キサントン、チオキサントン、2,4−ジエチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン等を挙げる
ことができる。前記ジアゾ系化合物としては、例えば、
4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−4’−メト
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフ
ェニルアミン等を挙げることができる。前記トリアジン
系化合物としては、例えば、2−(2’−フリルエチリ
デン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4’−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’−ブロモ
−4’−メチルフェニル)−4,6−ビス(トリク15
メチル)−s−トリアジン、2−(2’−チオフェニル
エチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン等を挙げることができる。さらに、前記以
外の光重合開始剤として、4−アジドベンズアルデヒ
ド、アジドピレン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオ
キサイド、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート等を使用することもできる。
The benzoin-based compound includes
For example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin i-propyl ether, benzoin i-butyl ether, methyl-2-benzoylbenzoate and the like can be mentioned. Examples of the acetophenone-based compound include, for example, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-
2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-
(4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl- (4- Methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propane-1-
On, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-
Morpholinophenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 4-azidoacetophenone, 4-azidobenzalacetophenone and the like. Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, and the like. . The α-
Examples of the diketone compound include diacetyl, dibenzoyl, methylbenzoyl formate and the like. As the polynuclear quinone compound, for example,
Anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-
Butyl anthraquinone, 1,4-naphthoquinone and the like can be mentioned. Examples of the xanthone-based compound include xanthone, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone. As the diazo compound, for example,
4-diazodiphenylamine, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine and the like can be mentioned. Examples of the triazine-based compound include 2- (2′-furylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and 2- (3 ′, 4′-dimethoxystyryl)-
4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,
2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2'-bromo-4'-methylphenyl) -4,6-bis (tric 15
Methyl) -s-triazine, 2- (2′-thiophenylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s
-Triazine and the like. Further, as other photopolymerization initiators, 4-azidobenzaldehyde, azidopyrene, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, N-phenylthioacridone, triphenylpyridone Lium perchlorate can also be used.

【0040】本発明において、光重合開始剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。本発
明における光重合開始剤の使用量は、(C)多官能性モ
ノマー100重量部に対して、通常、0.01〜200
重量部、好ましくは1〜120重量部、特に好ましくは
1〜50重量部である。この場合、光重合開始剤の使用
量が0.01重量部未満では、放射線照射による硬化が
不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカット
を生じるおそれがあり、一方200重量部を超えると、
形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、
またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜
残り等を生じやすくなる。
In the present invention, the photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. The amount of the photopolymerization initiator used in the invention is usually 0.01 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer (C).
It is preferably 1 to 120 parts by weight, particularly preferably 1 to 50 parts by weight. In this case, if the amount of the photopolymerization initiator is less than 0.01 part by weight, curing by radiation irradiation becomes insufficient, and there is a possibility that a pattern may be missing, chipped or undercut, while if it exceeds 200 parts by weight,
The formed pattern easily falls off the substrate during development,
In addition, background contamination, film residue, and the like are likely to occur in a region other than the portion where the pattern is formed.

【0041】さらに、本発明においては、前記光重合開
始剤と共に、増感剤、硬化促進剤、高分子光架橋・増感
剤等を併用することもできる。前記増感剤としては、例
えば、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミ
ノベンゾエート、2−エチルヘキシル−1,4−ジメチ
ルアミノベンゾエート、2,5−ビス(4’−ジエチル
アミノベンザル)シクロヘキサノン、7−ジエチルアミ
ノ−3−(4−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、
4−(ジエチルアミノ)カルコン等を挙げることができ
る。これらの増感剤は、単独でまたは2種以上を混合し
て使用することができる。また、前記硬化促進剤として
は、例えば、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオ
キサゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−4,6−ジメチルアミノ
ピリジン等の連鎖移動剤を挙げることができる。これら
の硬化促進剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用
することができる。また、前記高分子光架橋・増感剤
は、放射線の照射により架橋剤および/または増感剤と
して作用しうる少なくとも1種の官能基を主鎖および/
または側鎖中に有する高分子化合物であり、その例とし
ては、4−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコ
ールとの縮合物、4−アジドベンズアルデヒドとフェノ
ールノボラック樹脂との縮合物、4−アクリロイルフェ
ニルシンナモイルエステルの単独重合体あるいは共重合
体、1,4−ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン
等を挙げることができる。これらの高分子光架橋・増感
剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することが
できる。本発明における増感剤、硬化促進剤および高分
子光架橋・増感剤の合計使用量は、光重合開始剤100
重量部に対して、通常、300重量部以下、好ましくは
5〜200重量部、さらに好ましくは10〜100重量
部である。
Further, in the present invention, a sensitizer, a curing accelerator, a polymer photocrosslinking / sensitizer and the like can be used together with the photopolymerization initiator. Examples of the sensitizer include 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, and 2,5-bis (4 ′ -Diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin,
4- (diethylamino) chalcone and the like can be mentioned. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more. Examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzimidazole and 2-mercaptobenzimidazole.
Chain transfer agents such as mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole and 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine can be exemplified. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. In addition, the polymer photocrosslinking / sensitizer has at least one functional group capable of acting as a crosslinking agent and / or a sensitizer upon irradiation with a radiation having a main chain and / or a functional group.
Or a high molecular compound having in a side chain, examples of which include a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, a condensate of 4-azidobenzaldehyde and a phenol novolak resin, and 4-acryloylphenylcinnamoyl ester Homopolymer or copolymer, 1,4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene and the like can be mentioned. These polymer photocrosslinking / sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The total used amount of the sensitizer, the curing accelerator and the polymer photocrosslinking / sensitizer in the present invention is 100 photopolymerization initiators.
It is usually 300 parts by weight or less, preferably 5 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight with respect to parts by weight.

【0042】本発明においては、光重合開始剤として、
特に、ビイミダゾール系化合物とベンゾフェノン系化合
物および/またはチアゾール系硬化促進剤とを組み合わ
せて使用することが、形成された画素が現像時に基板か
ら脱落し難く、画素強度および感度も高い点で好まし
い。本発明において、光重合開始剤としてビイミダゾー
ル系化合物と他の成分とを併用する場合、他の成分の使
用量は、光重合開始剤全体の80重量%以下であること
が好ましい。本発明における特に好ましい光重合開始剤
を、その構成成分の組み合わせとして示すと、下記のも
のを挙げることができる。即ち、2,2’−ビス(2−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイ
ミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェ
ニル)ブタン−1−オン、2,2’−ビス(2−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エ
トキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
/1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,
2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン/2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−
1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン/2−メルカ
プトベンゾチアゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブ
ロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチ
ルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−
1−オン、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン/2−メルカプトベンゾチアゾール。
In the present invention, as the photopolymerization initiator,
In particular, it is preferable to use a combination of a biimidazole-based compound and a benzophenone-based compound and / or a thiazole-based curing accelerator, since the formed pixels are less likely to fall off the substrate during development, and the pixel strength and sensitivity are high. In the present invention, when a biimidazole compound and another component are used in combination as the photopolymerization initiator, the amount of the other component used is preferably 80% by weight or less based on the entire photopolymerization initiator. Particularly preferred photopolymerization initiators in the present invention are shown below as combinations of the components. That is, 2,2′-bis (2-
(Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2- Chlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'
-Bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5, 5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,
2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)
-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone / 2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4' , 5,5'-Tetraphenyl-1,2 '
-Biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino)
Benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-
1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one,
2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-
Morpholinophenyl) butan-1-one / 2-mercaptobenzothiazole, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-bi Imidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-
1-one, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 ′
-Biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino)
Benzophenone / 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,
2′-biimidazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone / 2-mercaptobenzothiazole.

【0043】添加剤 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物には、溶剤
を配合することができる。前記溶剤としては、前記
(A)、(B)、(C)および(D)成分や、所望によ
り配合される前記添加剤成分を溶解または分散し、かつ
これらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するもので
ある限り、適宜に選択して使用することができる。この
ような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、
エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のエチ
レングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコ
ールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のポ
リエチレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−
n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n
−ブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキ
ルエーテル類;ジプロピレングリコールモノメチルエー
テル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノエチルエーテル等のポリプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメ
チルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、
3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳
酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、
3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピ
オン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エト
キシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキ
シ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メト
キシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチ
ルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸
i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピ
オン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪
酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、
ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢
酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル
類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メ
チルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を挙げること
ができる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
Additives The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention may contain a solvent. The solvent may dissolve or disperse the components (A), (B), (C) and (D), and the additive component, if desired, and may not react with these components. As long as it has volatility, it can be appropriately selected and used. Examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether,
Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol mono-n-butyl ether; ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and ethylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol mono- Polyethylene glycol monoalkyl ethers such as n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether; propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-
n-propyl ether, propylene glycol mono-n
Propylene glycol monoalkyl ethers such as -butyl ether; dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether; propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahi Other ethers such as Rofuran; methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone,
Ketones such as 3-heptanone; alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; methyl 3-methoxypropionate;
Ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3 -Methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, butyric acid n-butyl, methyl pyruvate, ethyl pyruvate,
Other esters such as n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N ,
Examples thereof include amides such as N-dimethylacetamide. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0044】さらに、前記溶剤と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、
イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノー
ル、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジ
ル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジ
エチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロ
ピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセ
テート等の高沸点溶剤を併用することもできる。これら
の高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用
することができる。
Further, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone,
Isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate , Etc., can be used in combination. These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0045】これらの溶剤のうち、溶解性、顔料分散
性、塗布性等の観点から、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘ
キサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシ
ブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸エチ
ル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプ
ロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、
ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブ
チル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチ
ル、ピルビン酸エチル等が好まく、また高沸点溶剤とし
ては、γ−ブチロラクトン等が好ましい。本発明におけ
る溶剤の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重
量部に対して、通常、100〜10000重量部、好ま
しくは500〜5000重量部である。
Among these solvents, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, coatability and the like.
Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3- Ethyl ethoxypropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate,
Preferred are n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like, and as the high boiling solvent, γ-butyrolactone and the like preferable. The amount of the solvent used in the present invention is usually 100 to 10000 parts by weight, preferably 500 to 5000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (B).

【0046】さらに、本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、必要に応じて溶剤以外の種々の添加剤を
含有することもできる。前記添加剤としては、感放射線
性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性をより改善
し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用を
有する有機酸を挙げることができる。このような有機酸
としては、分子量が1000以下である、脂肪族カルボ
ン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。前
記脂肪族カルボン酸の具体例としては、ぎ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジ
エチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン
酸類;しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セ
バシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチル
こはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等の
ジカルボン酸類;トリカルバリル酸、アコニット酸、カ
ンホロン酸等のトリカルボン酸類等を挙げることができ
る。また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、カ
ルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香族カルボ
ン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に
結合したカルボン酸等を挙げることができ、それらの具
体例としては、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメ
リト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類;フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカル
ボン酸類;トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン
酸、ピロメリット酸等の3価以上の芳香族ポリカルボン
酸類や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい
皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、け
い皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸等を
挙げることができる。これらの有機酸のうち、マロン
酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル
酸、メサコン酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類お
よび芳香族ジカルボン酸類が、アルカリ溶解性、溶媒に
対する溶解性、基板上の画素が形成される部分以外の領
域での地汚れや膜残りの防止等の観点から好ましい。前
記有機酸は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。有機酸の使用量は、感放射線性組成物全
体に対して、通常、10重量%以下、好ましくは0.0
01〜10重量%、さらに好ましくは0.01〜1重量
%である。この場合、有機酸の使用量が10重量%を超
えると、形成された画素の基板に対する密着性が低下す
る傾向がある。
Further, the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention may contain various additives other than the solvent, if necessary. Examples of the additive include an organic acid having a function of further improving the solubility of the radiation-sensitive composition in an alkali developer and suppressing the remaining of undissolved material after development. As such an organic acid, an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid having a molecular weight of 1,000 or less is preferable. Specific examples of the aliphatic carboxylic acids include monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, Succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itacone acid,
Examples thereof include dicarboxylic acids such as citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, and mesaconic acid; and tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid. Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include an aromatic carboxylic acid in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group, and a carboxylic acid in which a carboxyl group is bonded to a phenyl group via a carbon chain. Specific examples include aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemelitic acid, and mesitylene acid; aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid; trimellitic acid, trimesic acid, and melophane Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as acid and pyromellitic acid, phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidenic acid, coumaric acid, umbel Acids and the like can be mentioned. Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and phthalic acid have alkali solubility, solubility in a solvent, This is preferable from the viewpoint of preventing background contamination and film residue in a region other than the portion where the upper pixel is formed. The organic acids can be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic acid used is usually 10% by weight or less, preferably 0.0% by weight, based on the whole radiation-sensitive composition.
It is from 0.01 to 10% by weight, more preferably from 0.01 to 1% by weight. In this case, if the amount of the organic acid used exceeds 10% by weight, the adhesion of the formed pixel to the substrate tends to decrease.

【0047】また、有機酸以外の添加剤としては、例え
ば、銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色
顔料誘導体等の分散助剤;ガラス、アルミナ等の充填
剤;ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモ
ノアルキルエーテル、ポリ(フロロアルキルアクリレー
ト)等の高分子化合物;ノニオン系、カチオン系、アニ
オン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシ
エトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミ
ノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−
ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチ
ル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の
紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止
剤等を挙げることができる。
Examples of additives other than the organic acids include dispersing aids such as blue pigment derivatives and yellow pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives; fillers such as glass and alumina; polyvinyl alcohol and polyethylene glycol monoalkyl ether. And high molecular compounds such as poly (fluoroalkyl acrylate); nonionic, cationic and anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane,
3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane , 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and other adhesion promoters; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 6-di-t-
Antioxidants such as butylphenol; UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone; aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate Can be mentioned.

【0048】カラーフィルタの形成方法 次に、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を用
いて、透過型カラーフィルタおよび反射型カラーフィル
タを形成する方法について説明する。まず、透明基板の
表面上の画素パターンを形成する部分を区画するように
遮光層を形成し、この基板上に、例えば(A)着色剤が
分散された組成物を塗布したのち、プリベークを行って
溶剤を蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜に
フォトマスクを介して露光したのち、アルカリ現像液で
現像処理を行い、塗膜の未露光部を溶解除去し、好まし
くはその後ポストベークを行うことによって、着色され
た画素が所定のパターンで配置された画素アレイを形成
する。その後、必要に応じて、他の色(例えば、赤、緑
または青)の着色剤が分散された各組成物を用い、上記
と同様にして、各組成物の塗布、プリベーク、露光およ
び現像処理を行い、好ましくはその後ポストベークを行
って、各色の画素アレイを同一基板上に順次形成するこ
とにより、カラーフィルタを得る。カラーフィルタを形
成する際に使用される透明基板としては、例えば、ガラ
ス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香
族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げ
ることができる。これらの透明基板には、所望により、
シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処
理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応
法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともでき
る。本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を透明
基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗
布等の適宜の塗布法を採用することができる。塗布厚さ
は、乾燥後の膜厚として、通常、0.1〜10μm、好
ましくは0.2〜1.5μmである。カラーフィルタを
形成する際に使用される放射線としては、可視光線、紫
外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができ
るが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が
好ましい。放射線の照射エネルギー量は、好ましくは1
〜1000mJ/cm2 である。また、前記アルカリ現
像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8
−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、
1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン
等の水溶液が好ましい。前記アルカリ現像液には、例え
ばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活
性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現
像後は、通常、水洗する。アルカリ現像法としては、シ
ャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像
法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができ、
現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。このよう
にして形成された透過型カラーフィルタおよび反射型カ
ラーフィルタは、特にカラー撮像管素子に好適に使用さ
れるほか、カラー液晶表示装置、カラーセンサー等にも
有用である。
Method for Forming Color Filter Next, a method for forming a transmission color filter and a reflection color filter using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention will be described. First, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed on the surface of a transparent substrate, and for example, a composition in which a colorant (A) is dispersed is applied onto the substrate, and then prebaking is performed. To evaporate the solvent to form a coating film. Next, after this coating film is exposed through a photomask, development processing is performed with an alkali developing solution to dissolve and remove unexposed portions of the coating film, and preferably by performing post-baking, whereby the colored pixels are formed. A pixel array arranged in a predetermined pattern is formed. Thereafter, if necessary, using each composition in which a colorant of another color (for example, red, green or blue) is dispersed, coating, pre-baking, exposure and development treatment of each composition in the same manner as described above. , And preferably post-baking to form a pixel array of each color sequentially on the same substrate to obtain a color filter. Examples of the transparent substrate used when forming a color filter include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide. On these transparent substrates, if desired,
Appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, a gas phase reaction method, or vacuum deposition can also be performed. When applying the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention to a transparent substrate, an appropriate coating method such as spin coating, casting coating, and roll coating can be adopted. The coating thickness is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 1.5 μm, as a film thickness after drying. As the radiation used for forming the color filter, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, an electron beam, X-ray, or the like can be used, and radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable. The irradiation energy amount of the radiation is preferably 1
10001000 mJ / cm 2 . Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8, and the like.
-Diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene,
An aqueous solution such as 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkali developer. After the alkali development, the film is usually washed with water. As the alkali developing method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, and the like can be applied.
The development condition is preferably at room temperature for 5 to 300 seconds. The transmission type color filter and the reflection type color filter thus formed are particularly suitably used for a color image pickup tube element, and are also useful for a color liquid crystal display device, a color sensor and the like.

【0049】[0049]

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹
脂、(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤
を必須成分として含有するものであるが、特に好ましい
組成物を具体的に例示すると、下記(イ)〜(ヲ)のと
おりである。 (イ) (B)成分がカルボキシル基含有共重合体
(b)からなり、(D)成分が2,2’−ビス(2−ク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾールおよび2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾールの群から選
ばれる1種以上を含むカラーフィルタ用感放射線性組成
物。 (ロ) (B)成分がカルボキシル基含有共重合体
(b)からなり、(D)成分が2,2’−ビス(2,4
−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフ
ェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾールおよび2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾールの群から選ばれる1種以上を
含むカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ハ) (D)成分がさらに他の光重合開始剤、増感
剤、硬化促進剤および高分子光架橋・増感剤の群から選
ばれる1種以上の成分を含む前記(イ)または(ロ)の
カラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ニ) (B)成分であるカルボキシル基含有共重合体
(b)が、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート共重
合体、メタクリル酸/スチレン/メチルメタクリレート
共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリ
レート共重合体、メタクリル酸/メチルメタクリレート
/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸
/メチルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタ
クリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/2−
ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレ
ート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリ
ル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジル
メタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベンジルメタ
クリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、メタク
リル酸/スチレン/フェニルメタクリレート/N−フェ
ニルマレイミド共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベ
ンジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチ
レン/ベンジルメタクリレート/N−フェニルマレイミ
ド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、メタクリル酸/スチレン/フェニルメタクリレート
/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、メタクリル酸/スチレン/フェニルメタク
リレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチ
レン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジル
メタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/
2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタク
リレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチ
レン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/フェニル
メタクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体およびメタクリル酸/スチレ
ン/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/フェニルメ
タクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメ
タクリレートマクロモノマー共重合体の群から選ばれる
少なくとも1種からなる前記(イ)、(ロ)または
(ハ)のカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ホ) (C)成分がトリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートおよびジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートの群から選ばれる
少なくとも1種からなる前記(イ)、(ロ)、(ハ)ま
たは(ニ)のカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ヘ) (A)成分が顔料(1)および/または顔料
(2)と他の着色剤とを含む前記(イ)、(ロ)、
(ハ)、(ニ)または(ホ)のカラーフィルタ用感放射
線性組成物。 (ト) 他の着色剤がC.I.ピグメントイエロー150を
含む前記(ヘ)のカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (チ) 他の着色剤がC.I.ピグメントイエロー155を
含む前記(ヘ)または(ト)のカラーフィルタ用感放射
線性組成物。 (リ) 他の着色剤がC.I.ピグメントレッド254を含
む前記(ヘ)、(ト)または(チ)のカラーフィルタ用
感放射線性組成物。 (ヌ) 他の着色剤がC.I.ピグメントレッド177を含
む前記(ヘ)、(ト)、(チ)または(リ)のカラーフ
ィルタ用感放射線性組成物。 (ル) 他の着色剤がC.I.ピグメントイエロー83を含
む前記(ヘ)、(ト)、(チ)、(リ)または(ヌ)の
カラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ヲ) 他の着色剤がC.I.ピグメントイエロー139を
含有する前記(ヘ)、(ト)、(チ)、(リ)、(ヌ)
または(ル)のカラーフィルタ用感放射線性組成物。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention essentially comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator. Although it is contained as a component, the following (a) to (下 記) are specific examples of particularly preferred compositions. (A) The component (B) is composed of a carboxyl group-containing copolymer (b), and the component (D) is 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4)
-Ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2-bromophenyl)-
A radiation-sensitive composition for a color filter, comprising at least one member selected from the group consisting of 4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole. (B) The component (B) is composed of the carboxyl group-containing copolymer (b), and the component (D) is 2,2′-bis (2,4).
-Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-
A radiation-sensitive composition for a color filter, comprising at least one member selected from the group consisting of 1,2'-biimidazole. (C) The component (D) wherein the component (D) further contains one or more components selected from the group of other photopolymerization initiators, sensitizers, curing accelerators, and polymer photocrosslinking / sensitizers. B) The radiation-sensitive composition for a color filter. (D) The carboxyl group-containing copolymer (b) as the component (B) is a methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, a methacrylic acid / styrene / methyl methacrylate copolymer, or a methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate copolymer. , Methacrylic acid / methyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl Methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-
Hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer Methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / Polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmale Mido / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / Polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene /
2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer and methacryl The color of (a), (b) or (c), which is at least one selected from the group consisting of acid / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / phenyl methacrylate / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer. Radiation-sensitive composition for filters. (E) The component (C) is composed of at least one selected from the group consisting of trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, (A), (B), and (B). The radiation-sensitive composition for a color filter according to (c) or (d). (F) The above (a), (b), wherein the component (A) contains the pigment (1) and / or the pigment (2) and another colorant.
(C) The radiation-sensitive composition for a color filter according to (d) or (e). (G) The radiation-sensitive composition for color filters as described in (f) above, wherein the other colorant contains CI Pigment Yellow 150. (H) The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (F) or (G), wherein the other colorant contains CI Pigment Yellow 155. (I) The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (f), (g) or (h), wherein the other coloring agent comprises CI Pigment Red 254. (N) The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (F), (G), (H) or (H), wherein the other colorant contains CI Pigment Red 177. (R) The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (F), (G), (H), (H), or (H), wherein the other colorant contains CI Pigment Yellow 83. (ヲ) The above (f), (g), (h), (li), (nu) in which the other colorant contains CI Pigment Yellow 139
Or (11) a radiation-sensitive composition for a color filter.

【0050】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これら
の実施例に何ら制約されるものではない。 比較例1 (A)成分としてC.I.ピグメントレッド177とC.I.ピ
グメントイエロー139との80/20(重量比)混合
物を100重量部、(B)成分としてメタクリル酸/ベ
ンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共
重合体(共重合重量比=25/65/10、重量平均分
子量=55,000)50重量部、(C)成分としてジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート40重量部、
(D)成分として2,2’−ビス(2−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール10重量部と4,4’−ビス(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフェノン10重量部、有機酸としてマ
ロン酸5重量部、および溶剤としてエチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート800重量部を混合し
て、感放射線性組成物を調製した。次いで、表面にナト
リウムイオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成さ
れたソーダガラス製透明基板の表面上に、画素パターン
を形成する部分を区画するように遮光層を設けたのち、
スピンコーターを用いて前記感放射線性組成物を塗布
し、90℃で2分間プリベークを行なって、膜厚2.0
μmの塗膜を形成した。その後、基板を冷却したのち、
高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に
波長365nm、405nmおよび436nmの光を含
む100mJ/cm2 の紫外線を露光した。次いで、基
板を25℃の0.1重量%テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド水溶液中に1分間浸漬して現像処理を行い、
超純水で洗浄し、風乾したのち、さらに180℃で30
分間ポストベークを行なって、各辺20μm×20μm
の大きさの赤色の画素パターンが形成された画素アレイ
を作製した。このとき、プリベーク後の基板を目視にて
観察したところ、基板中央部に盛り上がりが見られ、塗
布均一性が不十分であった。また、得られた画素アレイ
を光学顕微鏡で観察したところ、基板上のパターンが形
成されていない領域に未溶解物の残存が認められた。さ
らに、画素アレイの放射線に対する透明性の指標とし
て、カラーアナライザー(東京電色(株)製TC−18
00M)を用い、C光源、2度視野にて、CIE表色系
におけるY値を測定したところ、Y=20と低い値であ
った。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these embodiments. Comparative Example 1 100 parts by weight of an 80/20 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 177 and CI Pigment Yellow 139 as the component (A), and methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer as the component (B) Copolymer weight ratio = 25/65/10, weight average molecular weight = 55,000) 50 parts by weight, dipentaerythritol pentaacrylate as component (C) 40 parts by weight,
Component (D) is 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 ′
A mixture of 10 parts by weight of biimidazole, 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 5 parts by weight of malonic acid as an organic acid, and 800 parts by weight of ethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent; A composition was prepared. Next, on a surface of a transparent substrate made of soda glass on which a silica (SiO 2 ) film that prevents elution of sodium ions on the surface is formed, a light-shielding layer is provided so as to partition a portion where a pixel pattern is formed,
The radiation-sensitive composition was applied using a spin coater, and prebaked at 90 ° C. for 2 minutes to form a film having a thickness of 2.0
A μm coating film was formed. After cooling the board,
Using a high-pressure mercury lamp, the coating film was exposed to ultraviolet light of 100 mJ / cm 2 including light of wavelengths of 365 nm, 405 nm and 436 nm through a photomask. Next, the substrate is immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute to perform a development process.
After washing with ultrapure water and air-drying,
20 minutes post-baking for each side 20μm × 20μm
The pixel array in which the red pixel pattern of the size of was formed. At this time, when the substrate after prebaking was visually observed, a swell was observed at the center of the substrate, and the coating uniformity was insufficient. In addition, when the obtained pixel array was observed with an optical microscope, it was found that undissolved matter remained in a region on the substrate where no pattern was formed. Further, a color analyzer (TC-18 manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.) is used as an index of the transparency of the pixel array to radiation.
00M), the Y value in the CIE color system was measured with a C light source and a 2 degree field of view, and it was a low value of Y = 20.

【0051】比較例2 (A)成分としてC.I.ピグメントレッド177とC.I.ピ
グメントイエロー83との75/25(重量比)混合物
を100重量部、(B)成分としてメタクリル酸/ベン
ジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重
合体(共重合重量比=25/65/10、重量平均分子
量=55,000)50重量部、(C)成分としてジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート40重量部、
(D)成分として2,2’−ビス(2−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール10重量部と4,4’−ビス(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフェノン10重量部、有機酸としてシ
トラコン酸5重量部、および溶剤としてエチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート800重量部を混合
して、感放射線性組成物を調製した。次いで、表面にナ
トリウムイオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成
されたソーダガラス製透明基板の表面上に、画素パター
ンを形成する部分を区画するように遮光層を設けたの
ち、スピンコーターを用いて前記感放射線性組成物を塗
布し、90℃で2分間プリベークを行なって、膜厚2.
0μmの塗膜を形成した。その後、基板を冷却したの
ち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗
膜に波長365nm、405nmおよび436nmの光
を含む100mJ/cm2 の紫外線を露光した。次い
で、基板を25℃の0.1重量%テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液中に1分間浸漬して現像処理を
行い、超純水で洗浄し、風乾したのち、さらに180℃
で30分間ポストベークを行なって、各辺20μm×2
0μmの大きさの赤色の画素パターンが形成された画素
アレイを作製した。このとき、プリベーク後の基板を目
視にて観察したところ、基板中央部に盛り上がりが見ら
れ、塗布均一性が不十分であった。また、得られた画素
アレイを光学顕微鏡で観察したところ、基板上のパター
ンが形成されていない領域に未溶解物の残存が認められ
た。さらに、画素アレイの放射線に対する透明性の指標
として、カラーアナライザー(東京電色(株)製TC−
1800M)を用い、C光源、2度視野にて、CIE表
色系におけるY値を測定したところ、Y=21と低い値
であった。
Comparative Example 2 100 parts by weight of a 75/25 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 177 and CI Pigment Yellow 83 was used as the component (A), and methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer was used as the component (B). 50 parts by weight of a polymer (copolymerization weight ratio = 25/65/10, weight average molecular weight = 55,000), 40 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate as the component (C),
Component (D) is 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 ′
A mixture of 10 parts by weight of biimidazole, 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 5 parts by weight of citraconic acid as an organic acid, and 800 parts by weight of ethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent; A composition was prepared. Next, a light-shielding layer is provided on the surface of a transparent substrate made of soda glass on which a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions from being formed is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is formed. The radiation-sensitive composition was applied using a coater, and prebaked at 90 ° C. for 2 minutes to form a film having a thickness of 2.
A 0 μm coating was formed. After cooling the substrate, the coating film was exposed to ultraviolet light of 100 mJ / cm 2 including light of wavelengths of 365 nm, 405 nm and 436 nm using a high-pressure mercury lamp through a photomask. Next, the substrate is immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute to perform a development treatment, washed with ultrapure water, air-dried, and further dried at 180 ° C.
And post-bake for 30 minutes at each side, 20 μm × 2
A pixel array in which a red pixel pattern having a size of 0 μm was formed. At this time, when the substrate after prebaking was visually observed, a swell was observed at the center of the substrate, and the coating uniformity was insufficient. In addition, when the obtained pixel array was observed with an optical microscope, it was found that undissolved matter remained in a region on the substrate where no pattern was formed. Further, a color analyzer (TC-TC manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.)
1800M), the Y value in the CIE color system was measured with a C light source and a 2 degree visual field, and it was a low value of Y = 21.

【0052】[0052]

【実施例】【Example】

実施例1 (A)成分としてC.I.ピグメントレッド224、C.I.ピ
グメントレッド177およびC.I.ピグメントイエロー1
39の47/49/4(重量比)混合物80重量部、
(B)成分としてメタクリル酸/ベンジルメタクリレー
ト/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量
比=25/65/10、重量平均分子量=55,00
0)50重量部、(C)成分としてジペンタエリスリト
ールペンタアクリレート40重量部、(D)成分として
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
10重量部と4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン10重量部、有機酸としてマロン酸5重量部、
および溶剤としてエチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート800重量部を混合して、感放射線性組成
物を調製した。次いで、表面にナトリウムイオンの溶出
を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製
透明基板の表面上に、画素パターンを形成する部分を区
画するように遮光層を設けたのち、スピンコーターを用
いて前記感放射線性組成物を塗布し、90℃で2分間プ
リベークを行なって、塗膜を形成した。その後、基板を
冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを
介して、塗膜に波長365nm、405nmおよび43
6nmの光を含む100mJ/cm2 の紫外線を露光し
た。次いで、基板を25℃の0.1重量%テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド水溶液中に1分間浸漬して現
像処理を行い、超純水で洗浄し、風乾したのち、さらに
180℃で30分間ポストベークを行なって、各辺20
μm×20μmの大きさの赤色の画素パターンが形成さ
れた画素アレイを作製した。但し、実施例1では、比較
例1と同じ色度(CIE表色系のxおよびy値)が得ら
れるように、膜厚を調整した。このとき、プリベーク後
の基板を目視にて観察したところ、基板中央部に盛り上
がりが無く、塗布均一性に優れていた。しかも、得られ
た画素アレイを光学顕微鏡で観察したところ、基板上の
パターンが形成されていない領域に未溶解物の残存が認
められず、現像性に優れており、またパターン形状も良
好であった。さらに、画素アレイの放射線に対する透明
性の指標として、カラーアナライザー(東京電色(株)
製TC−1800M)を用い、C光源、2度視野にて、
CIE表色系におけるY値を測定したところ、Y=24
と高い値が得られた。また、得られた画素アレイは、彩
度と明度のバランスも良好であった。
Example 1 CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 177 and CI Pigment Yellow 1 as the components (A)
80 parts by weight of a 47/49/4 (weight ratio) mixture of 39
As the component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 25/65/10, weight average molecular weight = 550,000)
0) 50 parts by weight, 40 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate as the component (C), and 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, as the component (D).
10,5 parts by weight of 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 10 parts by weight of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 5 parts by weight of malonic acid as an organic acid,
Then, 800 parts by weight of ethylene glycol monoethyl ether acetate was mixed as a solvent to prepare a radiation-sensitive composition. Next, a light-shielding layer is provided on the surface of a transparent substrate made of soda glass on which a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions from being formed is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is formed. The radiation-sensitive composition was applied using a coater, and prebaked at 90 ° C. for 2 minutes to form a coating film. Then, after cooling the substrate, the wavelengths of 365 nm, 405 nm and 43
It was exposed to ultraviolet light of 100 mJ / cm 2 including light of 6 nm. Next, the substrate is immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute to perform development processing, washed with ultrapure water, air-dried, and further post-baked at 180 ° C. for 30 minutes. Line up, each side 20
A pixel array in which a red pixel pattern having a size of μm × 20 μm was formed. However, in Example 1, the film thickness was adjusted so as to obtain the same chromaticity (x and y values in the CIE color system) as in Comparative Example 1. At this time, when the substrate after prebaking was visually observed, there was no swelling at the center of the substrate and the coating uniformity was excellent. In addition, when the obtained pixel array was observed with an optical microscope, no undissolved matter remained in the region where the pattern was not formed on the substrate, and the pixel array was excellent in developability and the pattern shape was good. Was. Furthermore, a color analyzer (Tokyo Denshoku Co., Ltd.) is used as an index of the transparency of the pixel array against radiation.
TC-1800M), using a C light source and a 2 degree visual field,
When the Y value in the CIE color system was measured, Y = 24
And high values were obtained. Further, the obtained pixel array had a good balance between saturation and lightness.

【0053】実施例2 (A)成分としてC.I.ピグメントレッド224を100
重量部、(B)成分としてメタクリル酸/ベンジルメタ
クリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共
重合重量比=25/65/10、重量平均分子量=5
5,000)50重量部、(C)成分としてジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート40重量部、(D)成
分として2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール10重量部と4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン10重量部、有機酸としてシトラコン酸
5重量部、および溶剤としてエチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート800重量部を混合して、感放
射線性組成物を調製した。次いで、表面にナトリウムイ
オンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソー
ダガラス製透明基板の表面上に、画素パターンを形成す
る部分を区画するように遮光層を設けたのち、スピンコ
ーターを用いて前記感放射線性組成物を塗布し、90℃
で2分間プリベークを行なって、塗膜を形成した。その
後、基板を冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォ
トマスクを介して、塗膜に波長365nm、405nm
および436nmの光を含む100mJ/cm2 の紫外
線を露光した。次いで、基板を25℃の0.1重量%テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液中に1分間
浸漬して現像処理を行い、超純水で洗浄し、風乾したの
ち、さらに180℃で30分間ポストベークを行なっ
て、各辺20μm×20μmの大きさの赤色の画素パタ
ーンが形成された画素アレイを作製した。但し、実施例
2では、比較例2と同じ色度(CIE表色系のxおよび
y値)が得られるように、膜厚を調整した。このとき、
プリベーク後の基板を目視にて観察したところ、基板中
央部に盛り上がりが無く、塗布均一性に優れていた。し
かも、得られた画素アレイを光学顕微鏡で観察したとこ
ろ、基板上のパターンが形成されていない領域に未溶解
物の残存が認められず、現像性に優れており、またパタ
ーン形状も良好であった。さらに、画素アレイの放射線
に対する透明性の指標として、カラーアナライザー(東
京電色(株)製TC−1800M)を用い、C光源、2
度視野にて、CIE表色系におけるY値を測定したとこ
ろ、Y=27と高い値が得られた。また、得られた画素
アレイは、彩度と明度のバランスも良好であった。
Example 2 CI Pigment Red 224 was used as the component (A) in 100 parts.
Parts by weight, as component (B), methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 25/65/10, weight average molecular weight = 5)
5,000) 50 parts by weight, dipentaerythritol pentaacrylate 40 parts by weight as the component (C), and 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,
10 parts by weight of 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 4,4'-bis (diethylamino)
A radiation-sensitive composition was prepared by mixing 10 parts by weight of benzophenone, 5 parts by weight of citraconic acid as an organic acid, and 800 parts by weight of ethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent. Next, a light-shielding layer is provided on the surface of a transparent substrate made of soda glass on which a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions from being formed is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is formed, and then a spin-coat is performed. Apply the radiation-sensitive composition using a coater,
For 2 minutes to form a coating film. Then, after cooling the substrate, the wavelength of 365 nm and 405 nm was applied to the coating film through a photomask using a high pressure mercury lamp.
And 100 mJ / cm 2 of ultraviolet light including light of 436 nm. Next, the substrate is immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute to perform development processing, washed with ultrapure water, air-dried, and further post-baked at 180 ° C. for 30 minutes. Then, a pixel array in which a red pixel pattern having a size of 20 μm × 20 μm on each side was formed. However, in Example 2, the film thickness was adjusted so that the same chromaticity (x and y values in the CIE color system) as in Comparative Example 2 was obtained. At this time,
When the substrate after prebaking was visually observed, there was no swelling at the center of the substrate and the coating uniformity was excellent. In addition, when the obtained pixel array was observed with an optical microscope, no undissolved matter remained in the region where the pattern was not formed on the substrate, and the pixel array was excellent in developability and the pattern shape was good. Was. Further, a color analyzer (TC-1800M manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.) was used as an index of transparency of the pixel array against radiation, and a C light source and a C light source were used.
When the Y value in the CIE color system was measured in a degree visual field, a high value of Y = 27 was obtained. Further, the obtained pixel array had a good balance between saturation and lightness.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ用感放射線性組
成物は、画素アレイを形成する際の塗布均一性、現像
性、感度等が優れており、しかもパターン形状、放射線
に対する透明性、彩度と明度のバランス等に優れた画素
アレイを形成することができる。
The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention has excellent coating uniformity, developability, sensitivity and the like when forming a pixel array, and has a pattern shape, transparency to radiation, and chroma. And a pixel array having an excellent balance of brightness and the like.

【化6】 Embedded image

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/028 G03F 7/028 // C08F 2/50 C08F 2/50 C08L 101/00 C08L 101/00 (72)発明者 飯島 孝浩 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 根本 宏明 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI G03F 7/028 G03F 7/028 // C08F 2/50 C08F 2/50 C08L 101/00 C08L 101/00 (72) Inventor Iijima Takahiro 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)下記式(1)または式(2)で表
される化合物の群から選ばれる少なくとも1種のペリレ
ン系顔料を含む着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、
(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤を含
有することを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組
成物。 【化1】 〔式(1)において、XおよびYは相互に独立に炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族
炭化水素基もしくはその置換誘導体または5〜6員環の
含窒素複素環を有する基もしくはその置換誘導体を示
す。〕 【化2】
(A) a colorant containing at least one perylene pigment selected from the group of compounds represented by the following formula (1) or (2): (B) an alkali-soluble resin,
A radiation-sensitive composition for a color filter, comprising (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator. Embedded image [In the formula (1), X and Y each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or a substituted derivative thereof, or a 5- to 6-membered ring. A group having a nitrogen heterocycle or a substituted derivative thereof is shown. [Chemical formula 2]
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