JPH11119002A - 光学部品製造装置およびこれを用いた光学部品製造方法ならびに光学部品さらにこの光学部品を用いたプロジェクションテレビ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 生産性が良好な光学部品製造装置及びこれを
用いた光学部品製造方法ならびに光学特性が良好な光学
部品ならびにこの光学部品を用いたプロジェクションテ
レビを提供する。 【解決手段】 ポリエチレンナフタレートなどの支持体
３ａを、送りロール４にセットして、送りロール４から
巻き取りロール６の方向へ、ガイドロール５ａ、５ｂ、
５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆを経由して巻き取りロール６に
巻き取るようにする。次に、Ｓｉのターゲットの蒸発源
７ａとＮｂのターゲットの蒸発源７ｂを交互にスパッタ
させて、Ａｒガスおよび酸素ガスの流量を調節しつつ、
光学モニタ１０により所定の透過率特性を満たすように
膜厚を調整しつつ、予め光学設計された薄膜構成の光学
薄膜のＳｉＯ₂ とＮｂ₂ Ｏ₅ を例えば１０層づつ併せて
２０層形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学部品製造装置お
よびこれを用いた光学部品製造方法ならびに光学部品さ
らにこの光学部品を用いたプロジェクションテレビに関
し、さらに詳しくは、減圧雰囲気中で支持体上に光学薄
膜を形成することを特徴とする光学部品製造装置および
これを用いた光学部品製造方法ならびに光学部品さらに
これを用いたプロジェクションテレビに関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜付部品や、ダイクロイックミ
ラー等の光学薄膜を形成した光学部品において、良好な
光学特性を実現するためには、少なくとも１０層の光学
薄膜を形成する必要がある。光学薄膜は、低屈折率材料
のＭｇＦ₂ やＳｉＯ₂ 、高屈折率材料のＴｉＯ₂ やＮｂ
₂ Ｏ₅ 等により構成される。通常のバッチプロセスで光
学薄膜を形成して作製される光学部品は、真空装置内で
蒸着やスパッタリングなどの薄膜形成方法により光学薄
膜原材料を蒸発させてこれをガラス基板などの透明部材
上に直接成膜し作製される。その光学特性は、例えばガ
ラス基板上に光学薄膜を直接成膜したプロジェクション
テレビ用ダイクロイックミラーの透過率特性の測定結果
の一例を示した概略状態図である図６のように、５２５
ｎｍの波長で約９７％の透過率（光源はＰ偏光で入射角
４５度の条件）を得ることができる。ガラス基板など透
明部材に光学薄膜が形成された面の反対面は通常反射防
止処理を行って反射防止膜を形成している。上記の真空
装置内でガラス基板などに直接光学薄膜を成膜する光学
部品の製造方法では、大面積のガラス基板を真空装置内
に配置する空間が制限され、また大面積のガラス基板に
光学薄膜を均一に形成することが困難であり、一度に作
製できる光学部品の数量は小であり、またこのようなバ
ッチプロセスを用いることが避けられないためにより量
産性を有する光学部品の製造装置および製造方法が望ま
れていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点に鑑み、生産性が良好な光学部品製造装置およびこれ
を用いた光学部品製造方法ならびに光学特性が良好な光
学部品ならびにこの光学部品を用いたプロジェクション
テレビを提供することを課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の光学部品製造装
置は、少なくとも、支持体を巻着する送りロールと、送
りロールから送出される支持体を巻き取る巻き取りロー
ルと、送りロールと巻き取りロールとの間に光学薄膜原
材料を蒸発させる蒸発手段とを具備し、支持体を送りロ
ールから巻き取りロールに送りつつ、減圧雰囲気中で少
なくとも屈折率の異なる２種の前記光学薄膜原材料の選
択的蒸発を可能とする蒸発手段により光学薄膜原材料を
蒸発させ、支持体上に光学薄膜を形成することを特徴と
する。送りロールおよび巻き取りロールの芯径は少なく
とも１００ｍｍの径を有することが望ましい。

【０００５】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も、支持体を送りロールから巻き取りロールに送りつ
つ、減圧雰囲気中で少なくとも屈折率の異なる２種の光
学薄膜原材料の選択的蒸発を可能とした蒸発工程によ
り、支持体上に光学薄膜を形成する工程を有することを
特徴とする。光学薄膜を蒸発させる蒸発工程が、屈折率
の異なる２種の光学薄膜をそれぞれ交互に少なくとも１
０層形成する工程を有することが望ましい。支持体上に
光学薄膜を形成する工程の後に、支持体を板状ガラスな
どの透明部材に接合する工程と、支持体を所定の形状に
裁断する工程とを有することが望ましい。支持体上に光
学薄膜を形成する工程の前に、透明部材が、少なくとも
透明部材の一主面に接着剤層と、接着剤層上に保護フィ
ルムとを形成する工程を有することが望ましい。支持体
上に前記光学薄膜を形成する工程の後に、前記支持体を
フレームに接合する工程と、フレームを所定の形状に裁
断する工程とを有することが望ましい。

【０００６】本発明の光学部品の製造装置および製造方
法において、光学薄膜原材料が、一方はＳｉ、Ｓｉの酸
化物およびＭｇＦ₂ のいずれかであり、他方がＴｉ、Ｎ
ｂ、Ｔｉの酸化物、Ｎｂ酸化物のいずれかである少なく
とも２種の屈折率の異なる光学薄膜であることが望まし
い。蒸発手段／光学薄膜形成工程が、真空蒸着装置／方
法、電子ビーム蒸着装置／方法、スパッタリング装置／
方法およびイオンプレーティング装置／方法のうちのい
ずれか１種であることが望ましい。光学薄膜を形成する
手段／工程が、前記光学薄膜を形成するために反応ガス
を導入する反応ガス導入手段／工程を有することが望ま
しい。光学薄膜を形成する手段／工程が、減圧雰囲気の
圧力調整手段／工程を有することが望ましい。光学薄膜
を形成する前に、支持体が光学薄膜形成面の反対面に接
着剤層を形成し、接着剤層上に保護フィルムとを形成す
る手段／工程を有することが望ましい。また、光学薄膜
を形成する前に支持体が光学薄膜形成面に予めハードコ
ート層を形成する手段／工程を有することが望ましい。
支持体がポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリメチルメタアクリレートおよびポリカ
ーボネートのうちのいずれか１種の高分子フィルムであ
ることが望ましい。

【０００７】本発明の光学部品製造装置または光学部品
製造方法のいずれかにより作製される光学薄膜を形成さ
れた支持体を用いて作製された光学部品であることを特
徴とする。光学部品はダイクロイックミラー、エッジフ
ィルタ、バンドパスフィルタ、反射防止膜付部品および
ペリクルビームスプリッターのいずれか１種であること
が望ましい。

【０００８】本発明の光学部品製造装置または光学部品
製造方法のいずれかにより作製される光学薄膜を形成さ
れた支持体を用いて作製された光学部品のダイクロイッ
クミラーを用いて色分離などを行うプロジェクションテ
レビであることを特徴とする。

【０００９】本発明の光学部品の製造装置およびこれを
用いた製造方法によれば、高分子フィルムの支持体上に
光学薄膜を均一で連続的に容易に形成することができ、
かつ光学特性を良好にすることができる。従って、本発
明の光学部品製造装置およびこれを用いた光学部品製造
方法により作製された例えばダイクロイックミラー、エ
ッジフィルター、バンドパスフィルタ、反射防止膜付部
品およびペリクルビームスプリッターなどは光学特性に
優れた光学部品の提供が可能である。本発明の光学部品
製造装置およびこれを用いた光学部品製造方法により作
製されたダイクロイックミラーを用いれば画質に優れた
プロジェクションテレビを提供できる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の高分子フィルムの支持体
上に光学薄膜を形成した光学部品の製造装置および製造
方法ならびに光学部品さらにプロジェクションテレビに
ついての実施の形態について以下に説明する。本発明の
光学部品の製造装置として、真空排気装置を具備した真
空装置内に、高分子フィルムの支持体を送りロールから
ガイドロールを経由して巻き取りロールに定速で走行さ
せる走行装置を配設する。ガイドロールなどに支持され
た支持体に対向して光学薄膜原材料の蒸発源を少なくと
も２種配設する。光学薄膜原材料の蒸発源は例えばＳｉ
Ｏ₂ などのＳｉ酸化物およびＭｇＦ₂ のうちのいずれか
の低屈折率材料、およびＴｉＯ₂ などのＴｉ酸化物およ
びＮｂ₂ Ｏ₅ などのＮｂ酸化物のうちのいずれかの高屈
折率材料を使用できる。蒸発手段としては、スパッタリ
ング装置、真空蒸着装置、電子ビーム蒸着装置およびイ
オンプレーティング装置のうちのいずれかを使用でき
る。真空装置には、ガス導入バルブを設けて、蒸発手段
の光学薄膜原材料と反応する反応ガスなどを導入できる
ようにしても良い。その場合、上記の光学薄膜を形成す
るために、光学薄膜原材料として例えばＳｉ、Ｔｉおよ
びＮｂを用い、反応ガスとして酸素ガスを用いることに
より、それぞれＳｉＯ₂ などのＳｉ酸化物、ＴｉＯ₂ な
どのＴｉ酸化物およびＮｂ₂ Ｏ₅ などのＮｂ酸化物を形
成することができる。

【００１１】光学薄膜を形成する場合、まず、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
メチルメタアクリレートおよびポリカーボネートなどの
高分子フィルムの支持体を、送りロールにセットし、送
りロールから巻き取りロールの方向へ、ガイドロールを
経由して巻き取りロールに巻き取りつつ上記の蒸発手段
により光学薄膜原材料を蒸発させて支持体に光学薄膜を
形成する。光学薄膜は、支持体を送りロールから巻き取
りロールの方向へ定速で走行させつつ、少なくとも２種
の光学薄膜原材料を選択的に蒸発させて、所定の透過率
特性を満たすように所定の膜厚に調整しつつ、予め光学
設計された薄膜構成の光学薄膜を例えば低屈折率層１０
層および高屈折率層１０層を併せて２０層形成する。そ
の場合、支持体の送りロールから巻き取りロールへの走
行を交互に逆転させることにより光学薄膜原材料を選択
的に蒸発させて繰り返し形成することも可能である。支
持体に直接形成される最下層の光学薄膜としてＳｉＯ_x
およびＴｉＯ_x のいずれかの光学薄膜を形成しても良
い。（ｘは、２以下の正数である。） 光学薄膜形成時に蒸発手段のプラズマ源のＡｒガスおよ
び酸素ガスなどの流量を制御して蒸発雰囲気の圧力を調
節することができる。支持体の薄膜形成面にはハードコ
ート層を形成したものを用いても良い。また、薄膜形成
前または後に支持体に接着剤層と接着剤層上に保護フィ
ルムとを形成しても良い。

【００１２】透明部材として、例えばガラス基板などを
用意し、上記の薄膜形成装置で光学薄膜を形成した支持
体に接着剤を介してラミネート接合し、ダイクロイック
ミラー、エッジフィルタ、バンドパスフィルタおよび反
射防止膜付部品などの光学部品として完成する。透明部
材は予め接着剤層を形成し、接着剤層上に保護フィルム
を形成したものを使用しても良い。また、光学薄膜を形
成した高分子フィルムの支持体に例えば円形状のフレー
ムを接着剤を介して接合してペリクルビームスプリッタ
ーなどの光学部品とすることができる。上記の光学部品
の製造装置およびこれを用いた光学部品製造方法で作製
されたダイクロイックミラーはプロジェクションテレビ
に用いることができる。

【００１３】

【実施例】本発明の光学部品製造装置および光学部品製
造方法ならびに光学部品さらにプロジェクションテレビ
の実施例についてプロジェクションテレビ用のダイクロ
イックミラーに用いる光学薄膜を形成する一例について
以下に説明する。先ず、高分子フィルムの支持体に光学
薄膜を形成する薄膜形成装置の一例を示す概略断面図で
ある図１を用いて光学薄膜形成装置および製造方法を説
明する。真空排気装置２を具備した光学薄膜形成装置１
内に、高分子フィルムの支持体３ａを送りロール４から
ガイドロール５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆを経
由して巻き取りロール６に定速で走行させる走行装置を
配設する。蒸発手段としては、例えばスパッタリング装
置を用い、光学薄膜原材料として例えばＳｉおよびＮｂ
のターゲットをそれぞれ蒸発源７ａ、７ｂとしてガイド
ロール５ｄに対向して２個配設する。また、支持体３ａ
の脱ガスなどの前処理装置としてガイドロール５ａおよ
び５ｂ間の支持体に対向してプラズマ電極８を配設す
る。真空装置には、ガス導入バルブ９を設けて、スパッ
タにおいては、Ａｒガスおよび酸素ガスなどの反応ガス
の導入流量を調節できるようにする。ガイドロール５ｄ
は、図示を省略するが成膜時に高分子フィルムの支持体
３ａの温度上昇を防止するために冷却される構造になっ
ている。

【００１４】次に、この光学薄膜形成装置１を用いてプ
ロジェクションテレビ用のダイクロイックミラーに適用
する光学薄膜を形成する事例を説明する。まず、厚さ１
８８μm のポリエチレンナフタレートの支持体３ａを、
送りロール４にセットして、送りロール４から巻き取り
ロール６の方向へ、ガイドロール５ａ、５ｂ、５ｃ、５
ｄ、５ｅ、５ｆを経由して巻き取りロール６に巻き取る
ようにする。次に、Ａｒガスおよび酸素ガスの流量を調
節しつつ、Ｓｉのターゲットの蒸発源７ａをスパッタさ
せてＳｉＯ_x（ｘは、２以下の正数）を支持体３ａに形
成する。次に、Ｎｂのターゲットの蒸発源７ｂ、Ｓｉの
ターゲットの蒸発源７ａとを交互にスパッタさせて、Ａ
ｒガスおよび酸素ガスの流量を調節しつつ、光学モニタ
１０により所定の透過率特性を満たすように膜厚を調整
しつつ、予め［表１］のように光学設計された薄膜構成
の光学薄膜のＳｉＯ₂ とＮｂ₂ Ｏ₅ を例えば１０層づつ
併せて２０層形成する。（ＳｉＯ_x はＳｉＯ₂ に含め
る。）また、光学薄膜成膜のときに、スパッタのＡｒガ
スおよび酸素ガスの流量をガス導入バルブ９により調節
して圧力を変化させて薄膜の応力が小となるような条件
に設定する。例えば通常のスパッタ条件は圧力が０．３
Ｐａ程度であるが、これを１．６Ｐａ程度にすることに
より、ＳｉＯ₂ とＮｂ₂ Ｏ₅ の応力のバランスを調整し
つつ光学薄膜全体の内部応力を小とし、フィルム状の支
持体３ａのカールを低減することができる。支持体３ａ
は予め光学薄膜形成面にはハードコート層を形成し、ま
た、光学薄膜形成面の反対面に接着剤層と接着剤層上に
保護フィルムを形成したものを使用する。ポリエチレン
ナフタレートの支持体３ａは、耐熱性があり熱変形が小
さいので成膜時に光学薄膜を均一に成膜することができ
る。例えば、ポリエチレンナフタレートのガラス転移点
は１１０℃であり、ポリエチレンテレフタレートの６９
℃と比べて耐熱性に優れるものと推察される。

【００１５】

【表１】

【００１６】次に、透明部材として、例えば幅５ｃｍ、
長さ８．７５ｃｍ、厚さ１ｍｍの板状ガラスを用意し、
上記の光学薄膜を形成した支持体３ａに接着剤を介して
ラミネート接合し支持体３ａを板状ガラスの外形形状に
裁断することにより、例えばプロジェクションテレビ用
のダイクロイックミラーに適用した光学部品として完成
する。透明部材は予め接着剤層と接着剤層上に保護フィ
ルムを形成したものを使用しても良い。上記の製造方法
により製造されたプロジェクションテレビ用のダイクロ
イックミラーに適用した光学部品について概略構成断面
図である図２を用いて説明する。板状ガラスの透明部材
２１上にポリエチレンナフタレートの支持体３ａが接着
剤層２２により接合され、支持体３上にはハードコート
層３ｂが形成されている。ＳｉＯ_x の低屈折率層３
ｃ′、Ｎｂ₂ Ｏ₅の高屈折率層３ｄおよびＳｉＯ₂ の低
屈折率層３ｃが交互に１０層づつ併せて２０層積層され
た構成となっている。（（ＳｉＯ_x 層はＳｉＯ₂ に含め
る。） また、図３（ａ）、図３（ｂ）の概略構成図に示すよう
に、上記の光学薄膜を形成した支持体３ａに例えば円形
状のフレーム３１を接着剤を介して接合してペリクルビ
ームスプリッター３０に適用した光学部品を完成する。

【００１７】次に、上記の製造装置および製造方法によ
り作製されたダイクロイックミラーに適用した光学部品
の透過率特性を図４および図５に示す。図４はポリエチ
レンナフタレート上に形成したダイクロイックミラーの
理論的な透過率特性の概略状態図を示し（この場合、裏
面の反射率はないものとする）、図５は、ガラス基板上
に接合されたポリエチレンナフタレート上に形成したダ
イクロイックミラーの透過率特性の測定結果の概略状態
図を示す。（但し、図４および図５の光源はいずれもＰ
偏光で入射角が４５度である。） 図５の透過率特性の測定結果によれば、このダイクロイ
ックミラーの波長５２５ｎｍにおける透過率は約９０％
であり、これはプロジェクションテレビ用のダイクロイ
ックミラーに必要な性能としては充分な値である。この
場合、５２５ｎｍで全散乱は１％、全吸収は約３％であ
る。また、約４．５％の残存透過率損失は高分子フィル
ムとガラスの屈折率をほぼ同一とすることで低減するこ
とができる。さらには、このダイクロイックミラーにお
いて、高分子フィルム材料内の吸収の低減および光学薄
膜形成工程の最適化による光学薄膜内の吸収の低減によ
り、全吸収を低減することが可能である。また、プロジ
ェクションテレビ用のダイクロイックミラーでは、４５
度入射角、Ｐ偏光においてガラス基板の裏面反射は約
１．５％と非常に小であり、基板裏面の反射防止膜処理
の必要はないものと考えられる。

【００１８】

【発明の効果】本発明の光学部品製造装置およびこれを
用いた光学部品製造方法ならびに光学部品さらにこの光
学部品を用いたプロジェクションテレビによれば、光学
部品の製造において生産性を良好にするとともに、光学
特性の優れた光学部品さらには画質に優れたプロジェク
ションテレビを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態例を示し、薄膜形成装置
の一例を示す概略断面図である。

【図２】 本発明の光学部品の構成の一例を示し、ダイ
クロイックミラーの概略構成断面図を示す。

【図３】 本発明の光学部品の一例であり、（ａ）はペ
リクルビームスプリッターの概略構成平面図および
（ｂ）はペリクルビームスプリッターの概略構成側面図
を示す。

【図４】 本発明の光学部品の一例であるダイクロイッ
クミラーの理論的な透過率特性の概略状態図を示す。

【図５】 本発明の光学部品の一例であるダイクロイッ
クミラーの透過率特性の測定結果の概略状態図を示す。

【図６】 従来例の光学部品の一例であるダイクロイッ
クミラーの透過率特性の測定結果の概略状態図を示す。

【符号の説明】

１…光学薄膜形成装置、２…真空排気装置、３ａ…支持
体、３ｂ…ハードコート層、３ｃ、３ｃ′…低屈折率
層、３ｄ…高屈折率層、４…送りロール、５ａ，５ｂ，
５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ…ガイドロール、６…巻き取り
ロール、７ａ，７ｂ…蒸発源、８…プラズマ電極、９…
ガス導入バルブ、１０…光学モニタ、２０…ダイクロイ
ックミラー、２１…透明部材、２２…接着剤層、３０…
ペリクルビームスプリッター、３１…フレーム

Claims (31)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも、支持体を巻着する送りロー
   ルと、 前記送りロールから送出される前記支持体を巻き取る巻
   き取りロールと、 前記送りロールと前記巻き取りロールとの間に光学薄膜
   原材料を蒸発させる蒸発手段とを具備し、 前記支持体を前記送りロールから前記巻き取りロールに
   送りつつ、減圧雰囲気中で前記蒸発手段により前記光学
   薄膜原材料を蒸発させ、前記支持体上に光学薄膜を形成
   することを特徴とする光学部品製造装置。
2. 【請求項２】 前記蒸発手段が、少なくとも屈折率の異
   なる２種の前記光学薄膜原材料の選択的蒸発を可能とす
   る手段を有することを特徴とする請求項１に記載の光学
   部品製造装置。
3. 【請求項３】 前記屈折率の異なる２種の前記光学薄膜
   原材料の一方はＳｉ、Ｓｉ酸化物およびＭｇＦ₂ のいず
   れかを含有し、他方はＴｉ、Ｎｂ、Ｔｉ酸化物およびＮ
   ｂ酸化物のいずれかを含有することを特徴とする請求項
   ２に記載の光学部品製造装置。
4. 【請求項４】 前記光学部品製造装置は、前記光学部品
   製造装置内部に反応ガスを導入する反応ガス導入手段を
   有することを特徴とする請求項１に記載の光学部品製造
   装置。
5. 【請求項５】 前記光学部品製造装置は、前記光学部品
   製造装置内部に前記減圧雰囲気の圧力調整手段を有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品製造装置。
6. 【請求項６】 前記蒸発手段が、真空蒸着装置、電子ビ
   ーム蒸着装置、スパッタリング装置およびイオンプレー
   ティング装置のうちのいずれか１種であることを特徴と
   する請求項１に記載の光学部品製造装置。
7. 【請求項７】 前記送りロールおよび前記巻き取りロー
   ルの芯径は少なくとも１００ｍｍの径を有することを特
   徴とする請求項１に記載の光学部品製造装置。
8. 【請求項８】 前記支持体が、前記光学薄膜形成面の反
   対面に形成された接着剤層と、 前記接着剤層上に形成された保護フィルムを有すること
   を特徴とする請求項１に記載の光学部品製造装置。
9. 【請求項９】 前記支持体が、前記光学薄膜形成面に予
   め形成されたハードコート層を有することを特徴とする
   請求項１に記載の光学部品製造装置。
10. 【請求項１０】 前記支持体が、ポリエチレンテレフタ
    レート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタア
    クリレートおよびポリカーボネートのうちのいずれか１
    種の高分子フィルムであることを特徴とする請求項１に
    記載の光学部品製造装置。
11. 【請求項１１】 少なくとも、支持体を送りロールから
    巻き取りロールに送りつつ、減圧雰囲気中で光学薄膜原
    材料を蒸発させ、前記支持体上に光学薄膜を形成する工
    程とを有することを特徴とする光学部品製造方法。
12. 【請求項１２】 前記支持体上に前記光学薄膜を形成す
    る工程の後に、前記支持体を透明部材に接合する工程
    と、 前記支持体を所定の形状に裁断する工程とを有すること
    を特徴とする請求項１１に記載の光学部品製造方法。
13. 【請求項１３】 前記透明部材が板状ガラスであること
    を特徴とする請求項１２に記載の光学部品製造方法。
14. 【請求項１４】 前記光学薄膜を形成する工程の前に、
    前記透明部材の少なくとも一主面に接着剤層と、 前記接着剤層上に保護フィルムとを形成する工程とを有
    することを特徴とする請求項１２に記載の光学部品製造
    方法。
15. 【請求項１５】 前記光学薄膜を形成する工程の後に、
    前記支持体をフレームに接合する工程と、 前記支持体を所定の形状に裁断する工程とを有すること
    を特徴とする請求項１１に記載の光学部品製造方法。
16. 【請求項１６】 前記光学薄膜を形成する工程が、少な
    くとも屈折率の異なる２種の前記光学薄膜原材料を選択
    的に蒸発させることを特徴とする請求項１１に記載の光
    学部品製造方法。
17. 【請求項１７】 前記屈折率の異なる２種の前記光学薄
    膜原材料の一方はＳｉ、Ｓｉ酸化物およびＭｇＦ₂ のい
    ずれかを含有し、他方はＴｉ、Ｎｂ、Ｔｉ酸化物および
    Ｎｂ酸化物のいずれかを含有することを特徴とする請求
    項１６に記載の光学部品製造方法。
18. 【請求項１８】 前記光学薄膜を形成する工程が、真空
    蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法およびイ
    オンプレーティング法のうちのいずれか１種を用いるこ
    とを特徴とする請求項１１に記載の光学部品製造方法。
19. 【請求項１９】 前記光学薄膜を形成する工程が、前記
    屈折率の異なる２種の光学薄膜をそれぞれ交互に少なく
    とも１０層形成する工程を有することを特徴とする請求
    項１６に記載の光学部品製造方法。
20. 【請求項２０】 前記光学薄膜を形成する工程が、反応
    ガスを導入する反応ガス導入工程を有することを特徴と
    する請求項１１に記載の光学部品製造方法。
21. 【請求項２１】 前記光学薄膜を形成する工程が、前記
    減圧雰囲気の圧力調整工程を有することを特徴とする請
    求項１１に記載の光学部品製造方法。
22. 【請求項２２】 前記支持体が、ポリエチレンテレフタ
    レート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタア
    クリレートおよびポリカーボネートのうちのいずれか１
    種の高分子フィルムであることを特徴とする請求項１１
    に記載の光学部品製造方法。
23. 【請求項２３】 前記光学薄膜を形成する工程の前およ
    び後のいずれかに、前記支持体の前記光学薄膜形成面の
    反対面に接着剤層と、前記接着剤層上に保護フィルムと
    を形成する工程を有することを特徴とする請求項１１に
    記載の光学部品製造方法。
24. 【請求項２４】 前記光学薄膜を形成する工程の前に、
    前記支持体の前記光学薄膜形成面に予めハードコート層
    を形成する工程を有することを特徴とする請求項１１に
    記載の光学部品製造方法。
25. 【請求項２５】 前記支持体の屈折率と前記透明部材の
    屈折率とがほぼ同一であることを特徴とする請求項１２
    に記載の光学部品製造方法。
26. 【請求項２６】 請求項１に記載の光学部品製造装置に
    より作製された光学薄膜を形成した支持体を用いて作製
    された光学部品。
27. 【請求項２７】 前記光学部品がダイクロイックミラ
    ー、エッジフィルタ、バンドパスフィルタ、反射防止膜
    付部品およびペリクルビームスプリッターのうちのいず
    れか１種であることを特徴とする請求項２６に記載の光
    学部品。
28. 【請求項２８】 請求項１１に記載の光学部品製造方法
    により作製された光学薄膜を形成した支持体を用いて作
    製された光学部品。
29. 【請求項２９】 前記光学部品がダイクロイックミラ
    ー、エッジフィルタ、バンドパスフィルタ、反射防止膜
    付部品およびペリクルビームスプリッターのうちのいず
    れか１種であることを特徴とする請求項２８に記載の光
    学部品。
30. 【請求項３０】 請求項２７に記載のダイクロイックミ
    ラーを用いたことを特徴とするプロジェクションテレ
    ビ。
31. 【請求項３１】 請求項２９に記載のダイクロイックミ
    ラーを用いたことを特徴とするプロジェクションテレ
    ビ。