JPH11109253A - 干渉顕微鏡 - Google Patents

干渉顕微鏡

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JPH11109253A
JPH11109253A JP26863797A JP26863797A JPH11109253A JP H11109253 A JPH11109253 A JP H11109253A JP 26863797 A JP26863797 A JP 26863797A JP 26863797 A JP26863797 A JP 26863797A JP H11109253 A JPH11109253 A JP H11109253A
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JP
Japan
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optical system
light beam
light
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JP26863797A
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Yasuhiro Uehara
靖弘 上原
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 単純な構成により短時間で試料の微細構造を
高精度で観察可能な干渉顕微鏡を提供する。 【解決手段】 可干渉性光源1と、コリメート光学系2
と、光束分割手段3と、参照ミラー8と、両テレセント
リックな結像光学系6と、観察面10と、撮像素子11
とを備えている。光束分割手段3は、結像光学系6と試
料7の像を観察する観察面10との間に配置されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の干渉を利用し
て試料の微細構造を観察する干渉顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、試料表面の微細構造を光学的に観
察する手段として、光の干渉を利用した干渉計や干渉顕
微鏡があった。図3は従来周知のマイケルソン型干渉計
の基本構成を示しているが、光源31から発した光はレ
ンズ32により平行光にされ、ハーフミラー33により
試料34へ向う光路と、参照ミラー35へ向う光路とに
分割され、そして試料34で反射された光と参照ミラー
で反射された光は夫々ハーフミラー33で合致され、観
察面36上で干渉縞を観察するようになっている。
【0003】このマイケルソン型干渉計を顕微鏡に適用
したものとして、マイケルソン型干渉対物レンズを用い
た顕微鏡とリニーク型の干渉顕微鏡が知られている。マ
イケルソン型干渉対物レンズを用いた顕微鏡は、例え
ば、実用新案登録第2520950号公報に開示されて
いるが、図4はその光学系の要部を示している。図示し
ない光源から発した光は、対物レンズ41を介して光路
分割プリズム(光束分割手段)42により標本(試料)
43へ向う光路と、参照ミラー44へ向う光路とに分割
される。標本43上で反射された光と参照ミラー44で
反射された光は、光路分割プリズム42で合致され、干
渉縞が観察されるようになっている。
【0004】リニーク型の干渉顕微鏡は、例えば実開平
5−43006号公報にその改良例が開示されており、
図5はその概略構成を示している。光源51から発した
光は、照明装置52を介してビームスプリッタ(光束分
割手段)53へ入射し、ここで被測定物(試料)54へ
向う光路と、反射平面(参照ミラー)55へ向う光路と
に分割される。照明装置52からの光束の夫々の集光点
に、第1の対物レンズ56と第2の対物レンズ57の後
側焦点位置が来るように、配置されている。第1の対物
レンズ56を通過して被測定物54上で反射された光
と、第2の対物レンズ57を通過して反射平面55上で
反射された光はビームスプリッタ53で合致され、検出
器58で干渉縞が観察されるようになっている。
【0005】また、他の形式の干渉顕微鏡としては、半
導体レーザ共焦点干渉顕微鏡がある。半導体レーザ共焦
点干渉顕微鏡は、例えば、SPIE Vol. 2655 p86-91 に開
示されているが、図6はその光学系の原理的な構成を示
している。半導体レーザ61から出た光束は、ビームス
プリッタ62,シングルモードファイバー63を通過
し、レンズ系65を介して物体66上に入射する。シン
グルモードファイバー63の端面64からの反射光が参
照光となり、物体66からの反射光と干渉し、この干渉
光はビームスプリッタ62により検出器67に導かれて
観察されるようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの干渉顕微鏡
は、何れも光の波長という微小な量を測定の基準として
いるため、高分解能の測定が可能であるが、マイケルソ
ン型の干渉対物レンズを用いる顕微鏡は、対物レンズと
試料との間にハーフミラーを配置してマイケルソン型の
干渉計を構成するため標本と対物レンズとの間に広い空
間を必要とし、高倍,高NAの対物レンズを使うことが
できない。そのため、試料の微小範囲を高精度で測定す
ることが困難であるという問題点を有する。
【0007】リニーク型の干渉顕微鏡は、できるだけ無
収差に近く且つ等しい光学性能を有する二つの対物レン
ズを用意する必要があるが、かかる高精度の対物レンズ
を2個用意するということは、製造上非常に難しいこと
であり、而も2個の対物レンズ及びそれを支持する機構
部品を相対的に極めて高精度に配置する必要があるとい
う点で問題がある。また上記二つの方式の顕微鏡におい
ては、何れも参照ミラーにより生成される参照波長は対
物レンズを通過して観察面へ到達するので、参照波面は
対物レンズの収差の影響を受けてしまうという問題点も
ある。
【0008】半導体レーザ共焦点干渉顕微鏡は、検出器
と参照波面を発生させるファイバー端面との間にレンズ
系が存在しないため、参照波面の劣化を最小限に抑える
ことが出来るという利点はあるが、試料面が点状に照明
されるため、試料の一定範囲を測定するには試料或いは
ファイバーを走査する機構が必要になり、装置が複雑に
なると共に測定に時間が掛かるという問題点がある。
【0009】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、単純な構成により短時間で試料の微細構造を高
精度で観察可能な干渉顕微鏡を提供しようとするもので
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による干渉顕微鏡は、可干渉性光源と、該可
干渉性光源からの光束を略平行な光束に成形するコリメ
ート光学系と、光束分割手段と、参照ミラーと、結像光
学系とを有し、前記光束分割手段が、前記コリメート光
学系により成形された略平行な光束を、前記参照ミラー
へ向う第1の光束と、前記結像光学系を経て試料へ向う
第2の光束とに分割し、前記参照ミラーからの反射光と
前記試料からの反射光が前記光束分割手段により合致さ
れて観察面へ導かれるようにされた干渉顕微鏡におい
て、前記結像光学系は両テレセントリックな光学系であ
り、前記光束分割手段は前記結像光学系と観察面との間
に配置されていることを特徴とする。
【0011】これにより、参照ミラーへ到達する第1の
光束中にレンズなどを配置しなくても、試料と参照ミラ
ーの両方が略平行な光束で照明され、干渉測定の基準と
なる第1の光束はレンズなどの収差により波面が劣化す
ることなく観察面に到達するので、高精度に干渉測定を
行うことができる。また、試料の一定範囲が略平行な光
束で照明されるため、試料の走査機構は不要であり、試
料表面の面情報を短時間で測定することができる。
【0012】本発明によれば、干渉顕微鏡は、観察面を
拡大投影するレンズ系を有している。これにより、二つ
の光束に分割された後の光路長の増加を抑えながら試料
を高倍率で拡大することが可能になる。一般に、光束を
二つに分割する方式の干渉測定では、光束が二つに分割
される前或いは分割された光束が再び合致された後で
は、光路が長くなって振動などの影響を受け易くなって
も、二つの光束が同一光路を通るため測定結果に与える
影響は小さいが、光束が二つに分割された状態で振動が
加わると、これが測定結果に与える影響は大きいため、
分割された後の光路長は出来るだけ短いことが望まし
い。ところで、両テレセントリックな結像光学系のみで
試料を拡大するには結像レンズの焦点距離を長くする必
要があるが、これは光束分割手段で二つに分割された片
方の光路を長くすることを意味する。これは上で述べた
ように干渉計として望ましい構成ではない。
【0013】また、本発明によれば、干渉顕微鏡は、観
察面を撮像する撮像手段と、前記第1と第2の光束の光
路長差を変化させる位相シフト手段と、該位相シフト手
段により前記第1と第2の光束の光路長差を変えた複数
の状態での前記撮像手段からの画像データを記憶し処理
する画像データ解析手段とを有することを特徴とする。
これにより、位相シフト測定を行うことが可能になり、
測定で得られた干渉縞から試料形状を高精度で数値化す
ることが可能になる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図示した実施例に基づき本
発明実施の形態を説明する。実施例1 図1は、本実施例の基本構成を示す図である。図中、1
はHe−Neレーザなどの可干渉性光源、2は可干渉性
光源1からの照明光束を略平行な光束に成形するコリメ
ート光学系、3は照明光束の進行方向に配置された光束
分割手段であり、例えばハーフミラーを用いることがで
き、入射した照明光束を干渉測定において参照光となる
第1の光束と、試料光となる第2の光束とに分割する。
第1の光束の進行方向上には参照ミラー8を光軸に対し
て垂直に配置している。他方、第2の光束上に結像レン
ズ4と対物レンズ5とからなる両テレセントリックな結
像光学系6、試料7を配置している。この両テレセント
リックな結像光学系6は、結像レンズ4と対物レンズ5
を、結像レンズ4の前側焦点位置と対物レンズ5の後側
焦点位置が一致するように配置している。そして、観察
面10は両テレセントリックな結像光学系6による試料
7の結像位置であり、そこに撮像素子11を配置してい
る。
【0015】本実施例は上記のように構成されているか
ら、可干渉性光源1から出た光は、コリメート光学系2
により略平行な光束に成形されて、ハーフミラー3に入
射し、ハーフミラー3を透過する第1の光束と、反射さ
れる第2の光束とに分割される。ハーフミラー3を透過
した第1の光束は参照ミラー8に入射する。参照ミラー
8で反射された光束はもとの光路をたどり再びハーフミ
ラー3へ入射する。ハーフミラー3で反射された第2の
光束は、両テレセントリックな結像光学系6へ入射し、
略平行な光束として射出し試料7に入射する。試料7で
反射或いは回折された光は、再び両テレセントリックな
結像光学系6を通り、ハーフミラー3へ入射する。この
とき、光軸上の1点を例に取り図中に点線で示すよう
に、試料7からの光は、対物レンズ5を介して結像レン
ズ4に入射し、観察面10上で結像する。参照ミラー8
で反射された光束と試料7で反射された光束は、再びハ
ーフミラー3で合致されて干渉を起こす。その干渉縞を
撮像素子11により検出する。
【0016】本実施例によれば、試料7の表面と観察面
10とが共役な位置に配置されているため、試料7の微
細構造を反映した位相情報が観察面10で観察できる。
それに加え、参照波面である第1の光束はレンズなどの
収差により波面が劣化しないため、正確な測定が可能で
ある。また両テレセントリックな結像光学系6により試
料7の一定範囲が平行な光束で照明されるため、試料の
走査機構は不要であり、試料表面の面情報を短時間で測
定することができる。
【0017】実施例2 図2は、本実施例の基本構成を示す図である。図中、図
1に示したのと同一又は対応する部材には同一符号が付
されており、これらの部材の説明は省略する。12は無
限遠補正の対物レンズであり、試料7は該対物レンズ1
2の前側焦点位置に配置する。参照ミラー8の裏側に
は、参照ミラー8を光軸方向に微小量変位させるための
ピエゾ素子9を配置している。14はレンズとランプか
らなる白色光源部であり、結像レンズ4と対物レンズ1
2の間の第2の光束の光軸と白色照明光の光軸の交点
に、ハーフミラー13を配置する。15は肉眼観察系で
あり、ハーフミラー3と結像レンズ4との間に配置され
る。16は拡大レンズ系であり、試料面の1次結像位置
10′の像を拡大して第2の観察面17に結像する。観
察面17には撮像素子11を配置する。
【0018】本実施例は上記のように構成されているか
ら、白色光源14から射出した白色照明光は、ハーフミ
ラー13により第2の光束の途中に導入され、対物レン
ズ12を介して試料7を照明する。試料7からの戻り光
は、対物レンズ12,ハーフミラー13及び結像レンズ
4を通って肉眼観察系15に入射する。可干渉性光源1
から出た光は、コリメート光学系2により略平行な光束
に成形されて、ハーフミラー3に入射し、ハーフミラー
3を透過する第1の光束と、反射される第2の光束とに
分割される。ハーフミラー3を透過した第1の光束は参
照ミラー8に入射する。参照ミラー8で反射された光束
は、もとの光路をたどり再びハーフミラー3へ入射す
る。ハーフミラー3で反射された第2の光束は、両テレ
セントリックな結像光学系6へ入射し、略平行な光束と
して射出し、試料7に入射する。試料7で反射或いは回
折された光は、再び両テレテントリックな結像光学系6
を通り、ハーフミラー3へ入射する。参照ミラー8で反
射された光束と試料7で反射された光束は、再びハーフ
ミラー3で合致され干渉を起こす。これを拡大レンズ系
16によりさらに拡大し、第2の観察面17に結像し、
その像を撮像素子11で検出する。このとき、光軸上の
1点を例に取り図中に点線で示すように、試料7からの
光は、対物レンズ12により平行な光束になり、結像レ
ンズ4に入射して1次結像位置10′上で結像する。そ
の後、拡大レンズ16により観察面17上に結像する。
【0019】ここで、図示しないピエゾ素子駆動装置か
らの信号によりピエゾ素子9を制御することにより、参
照ミラー8を光軸方向に微小量動かして、第1の光束と
第2の光束の間の光路長差を変化させ、複数の干渉縞を
撮像素子11により取り込んで処理することにより、位
相シフト測定を行うことができる。位相シフト測定に関
しては公知の技術であるので、ここでは説明を省略す
る。この説明で明らかなように、ピエゾ素子9は位相シ
フト手段を構成しており、撮像素子11には画像データ
を記憶し処理する公知の画像データ解析手段(図示せ
ず)が接続されている。なお、上記のハーフミラー13
及び肉眼観察系15は、干渉測定時には光路から外せる
ように移動機構を設けておいても良い。
【0020】本実施例によれば、試料7の1次結像面を
拡大投影するレンズ系16を有するので、光束分割手段
3により光束が二つに分割された後の光路長をいたずら
に長くすることなく、試料を高倍で観察することが可能
である。これは耐振動性の向上につながる。また、試料
の構造を反映した干渉縞を位相シフト測定により正確に
数値化することができる。さらに、無限遠補正の対物レ
ンズ12を用いたので、対物レンズと結像レンズ間にハ
ーフミラー13を組み込んでも、二重像やフレアーの問
題が発生しない。また、肉眼観察系を組み合わせたの
で、試料の位置だしやレーザの光軸調整などが容易に行
える。
【0021】以上の説明から明らかなように、本干渉顕
微鏡は、特許請求の範囲に記載した特徴のほかに下記の
通りの特徴も有する。 (1) 前記結像光学系は結像レンズと対物レンズとから成
り、前記結像レンズと対物レンズは、前記結像レンズの
前側焦点と前記対物レンズの後側焦点とが略一致するよ
うに配置されていることを特徴とする請求項1に記載の
干渉顕微鏡。これにより通常の顕微鏡に用いられる対物
レンズと結像レンズを用い、他にレンズを用意すること
なしに両テレセントリックな結像光学系を構成すること
ができる。
【0022】(2) 前記結像光学系による試料の結像位置
に観察面を配置したことを特徴とする請求項1に記載の
干渉顕微鏡。これにより、表面に構造物例えば凹凸が存
在して反射光だけでなしに回折光も発生するような試料
の場合でも、試料の微細な構造に関する情報を正確に測
定することができる。
【0023】(3) 前記対物レンズが無限遠補正の対物レ
ンズであることを特徴とする上記(1)又は(2)に記
載の干渉顕微鏡。これにより、略平行な光束で照明され
て試料から発した光が対物レンズと結像レンズの間で平
行光束になるため、他の光学装置を付加する目的で対物
レンズと結像レンズの間に平板状のハーフミラーなどを
配置する場合でも、二重像が発生せず、またフィルター
などを挿入しても結像位置がずれることはない。従っ
て、他の光学装置を組み込む際に自由度が高いという利
点が生じる。
【0024】(4) 前記可干渉性光源がレーザであること
を特徴とする請求項1又は2もしくは上記(1)乃至
(3)の何れかに記載の干渉顕微鏡。これにより、光束
の単色性が良くなり可干渉距離が延びるので、干渉計の
光学部品の配置の自由度が高くなる。
【0025】
【発明の効果】上記のように、本発明によれば、試料の
走査機構が不要であり、参照波面がレンズ系などの収差
による劣化を受けることなく観察面に到達するので、単
純な構成により短時間で試料の微細構造を高精度で測定
することが可能な干渉顕微鏡を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る干渉顕微鏡の第1実施例の基本構
成を示す図である。
【図2】本発明に係る干渉顕微鏡の第2実施例の基本構
成を示す図である。
【図3】マイケルソン型干渉計の基本構成を示す図であ
る。
【図4】マイケルソン型干渉対物レンズを用いる顕微鏡
の基本構成を示す図である。
【図5】リニーク型干渉顕微鏡の基本構成を示す図であ
る。
【図6】半導体レーザ共焦点干渉顕微鏡の基本構成を示
す図である。
【符号の説明】
1 可干渉性光源 2 コリメート光学系 3,42,53 光束分割手段 4 結像レンズ 5,41 対物レンズ 6 両テレセントリックな結像光学系 7,34,43 試料 8,35,44,55 参照ミラー 9 ピエゾ素子 10,17,36 観察面 10′ 一次像結像位置 11 撮像素子 12 無限遠補正の対物レンズ 13,33 ハーフミラー 14 白色光源部 15 肉眼観察系 16 拡大レンズ系 31,51 光源 32 レンズ 52 照明装置 56 第1の対物レンズ 57 第2の対物レンズ 58,67 検出器 61 半導体レーザ 62 ビームスプリッタ 63 シングルモードファイバー 64 端面 65 レンズ系 66 物体

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可干渉性光源と、該可干渉性光源からの
    光束を略平行な光束に成形するコリメート光学系と、光
    束分割手段と、参照ミラーと、結像光学系とを有し、前
    記光束分割手段が、前記コリメート光学系により成形さ
    れた略平行な光束を、前記参照ミラーへ向う第1の光束
    と、前記結像光学系を経て試料へ向う第2の光束とに分
    割し、前記参照ミラーからの反射光と前記試料からの反
    射光が前記光束分割手段により合致されて観察面へ導か
    れるようにされた干渉顕微鏡において、前記結像光学系
    は両テレセントリックな光学系であり、前記光束分割手
    段は前記結像光学系と観察面との間に配置されているこ
    とを特徴とする干渉顕微鏡。
  2. 【請求項2】 観察面を拡大投影するレンズ系を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の干渉顕微鏡。
  3. 【請求項3】 観察面を撮像する撮像手段と、前記第1
    と第2の光束の光路長差を変化させる位相シフト手段
    と、該位相シフト手段により前記第1と第2の光束の光
    路長差を変えた複数の状態での前記撮像手段からの画像
    データを記憶し処理する画像データ解析手段とを有する
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の干渉顕微鏡。
JP26863797A 1997-10-01 1997-10-01 干渉顕微鏡 Withdrawn JPH11109253A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011519016A (ja) * 2007-12-14 2011-06-30 インテクプラス カンパニー、リミテッド 表面形状測定システム及びそれを用いた測定方法
US10025085B2 (en) 2012-12-05 2018-07-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Image generation device and image generation method

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