JPH11107915A - クライオポンプ装置 - Google Patents
クライオポンプ装置Info
- Publication number
- JPH11107915A JPH11107915A JP27566797A JP27566797A JPH11107915A JP H11107915 A JPH11107915 A JP H11107915A JP 27566797 A JP27566797 A JP 27566797A JP 27566797 A JP27566797 A JP 27566797A JP H11107915 A JPH11107915 A JP H11107915A
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- JP
- Japan
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- cryopump
- temperature
- cryopumps
- cryopanel
- compressor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マルチ構造の各クライオポンプのクールダウ
ンを効率よく行う。 【解決手段】 再生コントローラ７は、再生処理時に、
クライオポンプ１,２を加熱すると共にケーシング２０,
２１内を真空ポンプ１５で真空引きを行ってクライオパ
ネル２５,２６,１８,１９に付着/吸着されたプロセスガ
スを排出する。その後、圧縮機３を駆動してクールダウ
ンを開始する。そして、両クライオポンプ１,２のクラ
イオパネル温度ｔ1,ｔ2の温度比率ｔ1/ｔ2に基づく判定
値Ｔが所定値Ｔ0を越えた場合に流量制御弁１７を制御
して、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やす。こうして、クールダウンを
効率よく行って再生処理時間を短縮する。
ンを効率よく行う。 【解決手段】 再生コントローラ７は、再生処理時に、
クライオポンプ１,２を加熱すると共にケーシング２０,
２１内を真空ポンプ１５で真空引きを行ってクライオパ
ネル２５,２６,１８,１９に付着/吸着されたプロセスガ
スを排出する。その後、圧縮機３を駆動してクールダウ
ンを開始する。そして、両クライオポンプ１,２のクラ
イオパネル温度ｔ1,ｔ2の温度比率ｔ1/ｔ2に基づく判定
値Ｔが所定値Ｔ0を越えた場合に流量制御弁１７を制御
して、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やす。こうして、クールダウンを
効率よく行って再生処理時間を短縮する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、１台の圧縮機に
複数台のクライオポンプが接続されたクライオポンプ装
置に関する。
複数台のクライオポンプが接続されたクライオポンプ装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、半導体製造装置等における真空チ
ャンバ内を高真空にするクライオポンプは、異なる容積
の複数の真空チャンバの夫々に接続された複数台のクラ
イオポンプを１台の圧縮機によって動作させるマルチ構
造が主流になってきている。
ャンバ内を高真空にするクライオポンプは、異なる容積
の複数の真空チャンバの夫々に接続された複数台のクラ
イオポンプを１台の圧縮機によって動作させるマルチ構
造が主流になってきている。
【０００３】ところで、クライオポンプには、クライオ
パネルを加熱してクライオパネルに付着/吸着されたガ
スを排出し、再度クライオパネルを２０Ｋの低温まで冷
却する再生処理が必要である。
パネルを加熱してクライオパネルに付着/吸着されたガ
スを排出し、再度クライオパネルを２０Ｋの低温まで冷
却する再生処理が必要である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のマルチ構造のクライオポンプユニットは、１台の圧
縮機に複数台のクライオポンプが接続されているため
に、夫々のクライオポンプを個別に再生処理することが
できない。そこで、全クライオポンプを同時に再生する
ことになる。ここで、夫々のクライオポンプが接続され
ている真空チャンバの容積が異なる場合には、各真空チ
ャンバにはその真空チャンバの容積に応じた容量のクラ
イオポンプが接続される。したがって、各クライオポン
プのクールダウン時間は異なり、半導体製造装置の稼働
開始時間が最もクールダウン時間の長い(つまり、最も
容積の大きい)クライオポンプのクールダウン時間によ
って規制されてしまい、半導体製造装置を効率よく稼働
できないという問題がある。
来のマルチ構造のクライオポンプユニットは、１台の圧
縮機に複数台のクライオポンプが接続されているため
に、夫々のクライオポンプを個別に再生処理することが
できない。そこで、全クライオポンプを同時に再生する
ことになる。ここで、夫々のクライオポンプが接続され
ている真空チャンバの容積が異なる場合には、各真空チ
ャンバにはその真空チャンバの容積に応じた容量のクラ
イオポンプが接続される。したがって、各クライオポン
プのクールダウン時間は異なり、半導体製造装置の稼働
開始時間が最もクールダウン時間の長い(つまり、最も
容積の大きい)クライオポンプのクールダウン時間によ
って規制されてしまい、半導体製造装置を効率よく稼働
できないという問題がある。
【０００５】そこで、この発明の目的は、マルチ構造の
各クライオポンプのクールダウンを効率よく行って再生
処理時間を短縮できるクライオポンプ装置を提供するこ
とにある。
各クライオポンプのクールダウンを効率よく行って再生
処理時間を短縮できるクライオポンプ装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明のクライオポンプ装置は、１台
の圧縮機からの冷媒ガスが供給される複数台のクライオ
ポンプと、上記圧縮機からクライオポンプへの冷媒ガス
供給路に介設されると共に,上記圧縮機から夫々のクラ
イオポンプへの冷媒ガスの流量を制御する流量制御弁
と、上記各クライオポンプにおけるクライオパネルの温
度を検出して,クライオパネル温度を表す温度信号を出
力する温度センサと、上記温度センサからの温度信号を
受けて,上記クライオポンプの再生に伴うクールダンウ
ン時に,クライオパネル温度の低下が早い方のクライオ
ポンプ側への冷媒ガス流量を減らす一方,クライオパネ
ル温度の低下が遅い方のクライオポンプ側への冷媒ガス
流量を増やすように上記流量制御弁の動作を制御する制
御手段を備えたことを特徴としている。
め、請求項１に係る発明のクライオポンプ装置は、１台
の圧縮機からの冷媒ガスが供給される複数台のクライオ
ポンプと、上記圧縮機からクライオポンプへの冷媒ガス
供給路に介設されると共に,上記圧縮機から夫々のクラ
イオポンプへの冷媒ガスの流量を制御する流量制御弁
と、上記各クライオポンプにおけるクライオパネルの温
度を検出して,クライオパネル温度を表す温度信号を出
力する温度センサと、上記温度センサからの温度信号を
受けて,上記クライオポンプの再生に伴うクールダンウ
ン時に,クライオパネル温度の低下が早い方のクライオ
ポンプ側への冷媒ガス流量を減らす一方,クライオパネ
ル温度の低下が遅い方のクライオポンプ側への冷媒ガス
流量を増やすように上記流量制御弁の動作を制御する制
御手段を備えたことを特徴としている。
【０００７】上記構成によれば、クライオパネルの再生
に伴うクールダンウン時において、クライオパネル温度
の低下が早い方のクライオポンプへの冷媒ガス供給量を
減らす一方、クライオパネル温度の低下が遅い方のクラ
イオポンプへの冷媒ガス供給量を増やすことによって、
マルチ構造のクライオポンプ装置の総てのクライオポン
プのクールダウンは略同時に終了することになる。こう
して、クールダウンが効率よく行われて再生処理時間が
短縮される。
に伴うクールダンウン時において、クライオパネル温度
の低下が早い方のクライオポンプへの冷媒ガス供給量を
減らす一方、クライオパネル温度の低下が遅い方のクラ
イオポンプへの冷媒ガス供給量を増やすことによって、
マルチ構造のクライオポンプ装置の総てのクライオポン
プのクールダウンは略同時に終了することになる。こう
して、クールダウンが効率よく行われて再生処理時間が
短縮される。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、この発明を図示の実施の形
態により詳細に説明する。図１は、本実施の形態のクラ
イオポンプ装置における構成図である。
態により詳細に説明する。図１は、本実施の形態のクラ
イオポンプ装置における構成図である。
【０００９】本実施の形態におけるクライオポンプ装置
は、クライオポンプ１とクライオポンプ２の２台のクラ
イオポンプを１台の圧縮機３によって駆動するマルチ構
造のクライオポンプ装置である。そして、クライオポン
プ１,２は、半導体製造装置４の２つの異なる容積の真
空チャンバ５,６に接続されている。ここで、真空チャ
ンバ５は真空チャンバ６よりも容積が大きい。したがっ
て、真空チャンバ５に接続されているクライオポンプ１
の方がクライオポンプ２よりも容量が大きく、クライオ
ポンプ１のクールダウン時間がクライオポンプ２よりも
長い。尚、この発明におけるクライオポンプの台数は、
特に２台に限定されるものではない。
は、クライオポンプ１とクライオポンプ２の２台のクラ
イオポンプを１台の圧縮機３によって駆動するマルチ構
造のクライオポンプ装置である。そして、クライオポン
プ１,２は、半導体製造装置４の２つの異なる容積の真
空チャンバ５,６に接続されている。ここで、真空チャ
ンバ５は真空チャンバ６よりも容積が大きい。したがっ
て、真空チャンバ５に接続されているクライオポンプ１
の方がクライオポンプ２よりも容量が大きく、クライオ
ポンプ１のクールダウン時間がクライオポンプ２よりも
長い。尚、この発明におけるクライオポンプの台数は、
特に２台に限定されるものではない。
【００１０】再生バルブドライバ８は、上記クライオポ
ンプ１,２の再生開始時にケーシング内を真空引きを行
うための再生バルブ９,１０の開閉動作を行う。ゲート
バルブドライバ１１は、クライオポンプ１,２と真空チ
ャンバ５,６との間を開閉するゲートバルブ１２,１３の
開閉動作を行う。真空ポンプドライバ１４は、真空ポン
プ１５を駆動させてクライオポンプ１,２の真空引きを
行う。流量制御弁ドライバ１６は、圧縮機３から両クラ
イオポンプ１,２へ供給されるヘリウムガスの流量を制
御する流量制御弁１７を動作させる。圧縮機ドライバ２
４は圧縮機３を動作させる。再生コントローラ７には、
両クライオポンプ１,２の最終段の第２クライオパネル
１８,１９に取り付けられた温度センサ２２,２３からの
クライオパネル温度を表す温度信号が入力される。そう
すると、再生コントローラ７は、クライオポンプ１,２
のクライオパネル温度に応じて、後に詳述するようにし
て圧縮機ドライバ２４および流量制御弁ドライバ１６等
を制御して両クライオポンプ１,２のクールダウンが効
率よく行われるように再生処理動作を行う。
ンプ１,２の再生開始時にケーシング内を真空引きを行
うための再生バルブ９,１０の開閉動作を行う。ゲート
バルブドライバ１１は、クライオポンプ１,２と真空チ
ャンバ５,６との間を開閉するゲートバルブ１２,１３の
開閉動作を行う。真空ポンプドライバ１４は、真空ポン
プ１５を駆動させてクライオポンプ１,２の真空引きを
行う。流量制御弁ドライバ１６は、圧縮機３から両クラ
イオポンプ１,２へ供給されるヘリウムガスの流量を制
御する流量制御弁１７を動作させる。圧縮機ドライバ２
４は圧縮機３を動作させる。再生コントローラ７には、
両クライオポンプ１,２の最終段の第２クライオパネル
１８,１９に取り付けられた温度センサ２２,２３からの
クライオパネル温度を表す温度信号が入力される。そう
すると、再生コントローラ７は、クライオポンプ１,２
のクライオパネル温度に応じて、後に詳述するようにし
て圧縮機ドライバ２４および流量制御弁ドライバ１６等
を制御して両クライオポンプ１,２のクールダウンが効
率よく行われるように再生処理動作を行う。
【００１１】以下、上記再生コントローラ７による再生
処理制御動作について説明する。クライオポンプ１,２
の運転全体を制御している制御部(図示せず)から再生コ
ントローラ７に対して再生処理開始が指令されると、再
生コントローラ７による再生処理動作がスタートする。
処理制御動作について説明する。クライオポンプ１,２
の運転全体を制御している制御部(図示せず)から再生コ
ントローラ７に対して再生処理開始が指令されると、再
生コントローラ７による再生処理動作がスタートする。
【００１２】先ず、上記クライオポンプ１,２のケーシ
ング２０,２１と真空チャンバ５,６との間のゲートバル
ブ１２,１３が閉鎖される。そして、両クライオポンプ
１,２に設けられたヒータ(図示せず)に通電されて第１
クライオパネル２５,２６および第２クライオパネル１
８,１９が加熱され、両クライオパネル２５,２６,１８,
１９に付着/吸着されたプロセスガスが放出される。そ
うした後に、再生バルブドライバ８に制御信号が出力さ
れて再生バルブ９,１０が開放され、引き続いて真空ポ
ンプドライバ１４に制御信号が出力されてクライオポン
プ１,２のケーシング２０,２１内が真空引きされる。こ
うして、各クライオパネル２５,２６,１８,１９から放
出されたプロセスガスが十分に排出される所定時間経過
後、再生バルブドライバ８に制御信号が出力されて再生
バルブ９,１０が閉鎖され、真空ポンプドライバ１４に
制御信号が出力されて真空ポンプ１５が停止され、上記
ヒータへの通電が停止される。そうした後、クールダウ
ン動作に移行する。
ング２０,２１と真空チャンバ５,６との間のゲートバル
ブ１２,１３が閉鎖される。そして、両クライオポンプ
１,２に設けられたヒータ(図示せず)に通電されて第１
クライオパネル２５,２６および第２クライオパネル１
８,１９が加熱され、両クライオパネル２５,２６,１８,
１９に付着/吸着されたプロセスガスが放出される。そ
うした後に、再生バルブドライバ８に制御信号が出力さ
れて再生バルブ９,１０が開放され、引き続いて真空ポ
ンプドライバ１４に制御信号が出力されてクライオポン
プ１,２のケーシング２０,２１内が真空引きされる。こ
うして、各クライオパネル２５,２６,１８,１９から放
出されたプロセスガスが十分に排出される所定時間経過
後、再生バルブドライバ８に制御信号が出力されて再生
バルブ９,１０が閉鎖され、真空ポンプドライバ１４に
制御信号が出力されて真空ポンプ１５が停止され、上記
ヒータへの通電が停止される。そうした後、クールダウ
ン動作に移行する。
【００１３】上記流量制御弁ドライバ１６に制御信号が
出力されて、両クライオポンプ１,２に対するヘリウム
ガスの流量がクライオポンプ１,２の容量に応じて予め
設定された流量になるように流量制御弁１７が制御され
る。そうした後、圧縮機ドライバ２４に制御信号が出力
されて圧縮機３が駆動される。こうして、クライオポン
プ１,２が起動されてクールダウンが開始する。
出力されて、両クライオポンプ１,２に対するヘリウム
ガスの流量がクライオポンプ１,２の容量に応じて予め
設定された流量になるように流量制御弁１７が制御され
る。そうした後、圧縮機ドライバ２４に制御信号が出力
されて圧縮機３が駆動される。こうして、クライオポン
プ１,２が起動されてクールダウンが開始する。
【００１４】上記両クライオポンプ１,２に取り付けら
れた温度センサ２２,２３からの上記温度信号が取り込
まれて、クライオポンプ１のクライオパネル温度ｔ1と
クライオポンプ２のクライオパネル温度ｔ2とが求めら
れる。そして、温度比率ｔ1/ｔ2が算出され、この温度
比率ｔ1/ｔ2に定数ａを掛けた判定値Ｔが所定値Ｔ0を越
えたか否かを監視する。尚、上記判定値Ｔは、温度差
(ｔ1−ｔ2)に定数ｂを掛けて求めてもよい。
れた温度センサ２２,２３からの上記温度信号が取り込
まれて、クライオポンプ１のクライオパネル温度ｔ1と
クライオポンプ２のクライオパネル温度ｔ2とが求めら
れる。そして、温度比率ｔ1/ｔ2が算出され、この温度
比率ｔ1/ｔ2に定数ａを掛けた判定値Ｔが所定値Ｔ0を越
えたか否かを監視する。尚、上記判定値Ｔは、温度差
(ｔ1−ｔ2)に定数ｂを掛けて求めてもよい。
【００１５】そして、上記判定値Ｔが所定値Ｔ0を越え
ると、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やすように、上記流量制御弁１７
を制御する制御信号を流量制御弁ドライバ１６に出力す
る。以後、上記判定値Ｔの算出、所定値Ｔ0を越えたか
の判定、流量制御弁１７の制御を繰り返す。
ると、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やすように、上記流量制御弁１７
を制御する制御信号を流量制御弁ドライバ１６に出力す
る。以後、上記判定値Ｔの算出、所定値Ｔ0を越えたか
の判定、流量制御弁１７の制御を繰り返す。
【００１６】上記両クライオポンプ１,２のクライオパ
ネル温度ｔ1,ｔ2が２０Ｋに到達した時点でクールダウ
ンを終了する。そして、両クライオポンプ１,２へのヘ
リウムガス流量が予め設定された定常運転時の流量にな
るように流量制御弁１７を制御する制御信号を、流量制
御弁ドライバ１６に出力する。そうした後、再生処理動
作を終了する。
ネル温度ｔ1,ｔ2が２０Ｋに到達した時点でクールダウ
ンを終了する。そして、両クライオポンプ１,２へのヘ
リウムガス流量が予め設定された定常運転時の流量にな
るように流量制御弁１７を制御する制御信号を、流量制
御弁ドライバ１６に出力する。そうした後、再生処理動
作を終了する。
【００１７】このように、本実施の形態においては、ク
ライオポンプ１のクライオパネル温度ｔ1とクライオポ
ンプ２のクライオパネル温度ｔ2との温度比率ｔ1/ｔ2あ
るいは温度差(ｔ1−ｔ2)に基づく判定値Ｔが所定値Ｔ0
を越えた場合(つまり、２台のクライオポンプ１,２の温
度差が大きくなった場合)には、流量制御弁１７を制御
して、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やすようにしている。したがっ
て、両クライオポンプ１,２のクールダウンを略同時に
終了することができる。こうして、クールダウンを効率
よく行って再生処理時間を短縮するのである。
ライオポンプ１のクライオパネル温度ｔ1とクライオポ
ンプ２のクライオパネル温度ｔ2との温度比率ｔ1/ｔ2あ
るいは温度差(ｔ1−ｔ2)に基づく判定値Ｔが所定値Ｔ0
を越えた場合(つまり、２台のクライオポンプ１,２の温
度差が大きくなった場合)には、流量制御弁１７を制御
して、クライオパネル温度が早く下がっている方のクラ
イオポンプへのヘリウムガス供給量を減らす一方、クラ
イオパネル温度の低下が遅い方のクライオポンプへのヘ
リウムガス供給量を増やすようにしている。したがっ
て、両クライオポンプ１,２のクールダウンを略同時に
終了することができる。こうして、クールダウンを効率
よく行って再生処理時間を短縮するのである。
【００１８】
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項１に係
る発明のクライオポンプ装置は、１台の圧縮機からの複
数台のクライオポンプに冷媒ガスを供給するマルチ構造
のクライオポンプ装置において、上記クライオパネルの
再生処理に伴うクールダンウン時に、温度センサからの
上記各クライオポンプのクライオパネル温度を表す温度
信号に基づいて、制御手段によって、クライオパネル温
度の低下が早い方のクライオポンプ側への冷媒ガス流量
を減らす一方、クライオパネル温度の低下が遅い方のク
ライオポンプ側への冷媒ガス流量を増やすように流量制
御弁の動作を制御するので、総てのクライオポンプのク
ールダウンを略同時に終了することができる。したがっ
て、この発明によれば、クールダウンを効率よく行って
再生処理時間を短縮できる。
る発明のクライオポンプ装置は、１台の圧縮機からの複
数台のクライオポンプに冷媒ガスを供給するマルチ構造
のクライオポンプ装置において、上記クライオパネルの
再生処理に伴うクールダンウン時に、温度センサからの
上記各クライオポンプのクライオパネル温度を表す温度
信号に基づいて、制御手段によって、クライオパネル温
度の低下が早い方のクライオポンプ側への冷媒ガス流量
を減らす一方、クライオパネル温度の低下が遅い方のク
ライオポンプ側への冷媒ガス流量を増やすように流量制
御弁の動作を制御するので、総てのクライオポンプのク
ールダウンを略同時に終了することができる。したがっ
て、この発明によれば、クールダウンを効率よく行って
再生処理時間を短縮できる。
【図１】この発明のクライオポンプ装置における構成図
である。
である。
１,２…クライオポンプ、 ３…圧縮機、５,
６…真空チャンバ、 ７…再生コントロー
ラ、８…再生バルブドライバ、 ９,１０…再
生バルブ、１４…真空ポンプドライバ、 １５…
真空ポンプ、１６…流量制御弁ドライバ、 １７
…流量制御弁、１８,１９…第２クライオパネル、 ２
２,２３…温度センサ。
６…真空チャンバ、 ７…再生コントロー
ラ、８…再生バルブドライバ、 ９,１０…再
生バルブ、１４…真空ポンプドライバ、 １５…
真空ポンプ、１６…流量制御弁ドライバ、 １７
…流量制御弁、１８,１９…第２クライオパネル、 ２
２,２３…温度センサ。
Claims (1)
- 【請求項１】 １台の圧縮機(３)からの冷媒ガスが供給
される複数台のクライオポンプ(１,２)と、 上記圧縮機(３)からクライオポンプ(１,２)への冷媒ガ
ス供給路に介設されると共に、上記圧縮機(３)から夫々
のクライオポンプ(１,２)への冷媒ガスの流量を制御す
る流量制御弁(１７)と、 上記各クライオポンプ(１,２)におけるクライオパネル
(１８,１９)の温度を検出して、クライオパネル温度を
表す温度信号を出力する温度センサ(２２,２３)と、 上記温度センサ(２２,２３)からの温度信号を受けて、
上記クライオポンプ(１,２)の再生に伴うクールダンウ
ン時に、クライオパネル温度の低下が早い方のクライオ
ポンプ側への冷媒ガス流量を減らす一方、クライオパネ
ル温度の低下が遅い方のクライオポンプ側への冷媒ガス
流量を増やすように上記流量制御弁(１７)の動作を制御
する制御手段(７,１６)を備えたことを特徴とするクラ
イオポンプ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27566797A JPH11107915A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | クライオポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27566797A JPH11107915A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | クライオポンプ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11107915A true JPH11107915A (ja) | 1999-04-20 |
Family
ID=17558679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27566797A Pending JPH11107915A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | クライオポンプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11107915A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7788942B2 (en) | 2001-07-20 | 2010-09-07 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
-
1997
- 1997-10-08 JP JP27566797A patent/JPH11107915A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7788942B2 (en) | 2001-07-20 | 2010-09-07 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| US8261562B2 (en) | 2001-07-20 | 2012-09-11 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| US8869552B2 (en) | 2001-07-20 | 2014-10-28 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| US9334859B2 (en) | 2001-07-20 | 2016-05-10 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
| US10288052B2 (en) | 2001-07-20 | 2019-05-14 | Brooks Automation, Inc. | Helium management control system |
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