JPH109826A - Measuring method of dimensions of pga base - Google Patents

Measuring method of dimensions of pga base

Info

Publication number
JPH109826A
JPH109826A JP16498996A JP16498996A JPH109826A JP H109826 A JPH109826 A JP H109826A JP 16498996 A JP16498996 A JP 16498996A JP 16498996 A JP16498996 A JP 16498996A JP H109826 A JPH109826 A JP H109826A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pga substrate
pga
holes
distance
image processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16498996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinya Nishimoto
晋也 西本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP16498996A priority Critical patent/JPH109826A/en
Publication of JPH109826A publication Critical patent/JPH109826A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring method of dimensions of a PGA(pin grid array) base which enables improvement of the accuracy in measurement of the dimensions of the PGA base and further simultaneous execution of measurement of a center-parted dimension of a through hole, by a relatively simple constitution. SOLUTION: In a method for measuring dimensions Y and X in two orthogonal directions, i.e., the longitudinal direction and the lateral direction, of the outlines of a PGA base 1 having a rectangular shape and having a large number of through holes 2 arranged at equal intervals to be rectangular along the outlines, the distances between the centers of the through holes 2 positioned in the outermost end parts on both right and left sides in respect to the longitudinal and lateral directions and the side end edges of the PGA base 1 are measured respectively by local image processing of each corner part of the PGA base 1, and the sums obtained by adding to the measured distances the distances between the through holes 2 positioned in the outermost end parts on both the right and left sides in respect to the directions of the axis (y) and the axis (x) are calculated respectively as the dimension Y in the longitudinal direction and the dimension X in the lateral direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はピングリットアレイ
(PGA)基板の外寸測定方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring the outer dimensions of a Pinglit Array (PGA) substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、矩形形状を有し且つ格子目状
に並んだ多数のスルホールを有するPGA基板を製造す
るにあたっては、回路形成後に切断して個々のPGA基
板とする工程があり、このとき、得られたPGA基板の
寸法検査が行われている。このPGA基板の寸法検査で
は、該PGA基板の外形寸法、PGA基板におけるスル
ホールの形成位置を確かめる中央振分け寸法などを測定
して規定の寸法との比較を行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in manufacturing a PGA substrate having a rectangular shape and a large number of through holes arranged in a grid pattern, there is a step of cutting the individual circuits after forming a circuit. At that time, the dimensional inspection of the obtained PGA substrate is performed. In the dimension inspection of the PGA substrate, an outer dimension of the PGA substrate, a central distribution dimension for confirming a formation position of a through hole in the PGA substrate, and the like are measured and compared with prescribed dimensions.

【0003】従来においてPGA基板の外形寸法の測定
は、PGA基板全体を一括して画像処理することにより
該PGA基板における外形の縦横寸法を測定する方法が
行われている。また、中央振分け寸法は、PGA基板の
最側縁部に位置するスルホールについて、縦方向及び横
方向それぞれにおける該スルホール中心からPGA基板
の側端縁までの距離を指すものであって、スルホールの
位置ズレの有無を調べるためのものであり、該中央振分
け寸法はノギス等で測定されている。そして、PGA基
板の寸法検査では、目標とする寸法から、例えば±10
0μm外れた場合には寸法不良としているものであっ
た。したがって、寸法検査では寸法測定の測定精度には
高いレベルの精度が要求されるものであって、例えば測
定精度±50μmが望まれるものであった。
Conventionally, for measuring the external dimensions of a PGA substrate, a method of measuring the vertical and horizontal dimensions of the external shape of the PGA substrate by performing image processing on the entire PGA substrate at once. The center distribution dimension refers to the distance from the center of the through hole to the side edge of the PGA substrate in each of the vertical and horizontal directions for the through hole located at the outermost edge of the PGA substrate. This is for checking the presence / absence of deviation, and the central distribution dimension is measured with a caliper or the like. In the dimension inspection of the PGA substrate, for example, ± 10
When it deviated from 0 μm, it was determined that the size was defective. Therefore, in the dimensional inspection, a high level of accuracy is required for the measurement accuracy of the dimension measurement. For example, a measurement accuracy of ± 50 μm has been desired.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにPGA基板の外形寸法を一括して画像処理するこ
とにより測定する場合には、画素数により解像度が低下
して測定精度は低いものとなるものであった。これに対
して画像処理装置の画素数を増やして解像度を向上させ
ると測定精度を高めることは可能であるものの、非常に
高価な画像処理装置が必要となるものであった。
However, when the external dimensions of the PGA substrate are measured by collectively performing image processing as described above, the resolution is reduced by the number of pixels, and the measurement accuracy is low. Was something. On the other hand, if the resolution is improved by increasing the number of pixels of the image processing device, the measurement accuracy can be increased, but an extremely expensive image processing device is required.

【0005】また、PGA基板の外径寸法の測定とスル
ホールの中央振分け寸法の測定とは別々に行われていた
ので、一度に行えるようにして効率化を図ることも望ま
れるものであった。
In addition, since the measurement of the outer diameter of the PGA substrate and the measurement of the central distribution of the through hole are performed separately, it has been desired that the efficiency can be improved by performing them all at once.

【0006】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、比較的簡単な構成でPGA基板の外形寸法の測定
精度を向上させることが可能であり、さらにスルホール
の中央振分け寸法の測定をも同時に行うことが可能なP
GA基板の外寸測定方法を提供するものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and can improve the measurement accuracy of the outer dimensions of a PGA substrate with a relatively simple configuration. Can be performed simultaneously
An object of the present invention is to provide a method for measuring the outer dimensions of a GA substrate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項1に係るPGA基板の外寸測定方法
は、矩形形状を有し且つ外形に沿って等間隔矩形に並ん
だ多数のスルホールを有するPGA基板における外形の
縦横寸法を測定するPGA基板の外寸測定方法であっ
て、PGA基板の各コーナー部を局部的に画像して、縦
方向及び横方向それぞれについて左右両側の最端部に位
置するスルホールとPGA基板の側端縁との距離をそれ
ぞれ測定し、これに縦方向及び横方向それぞれについて
左右両側の最端部に位置するスルホール間の距離を加算
した和を、縦方向及び横方向の外形寸法として算出する
ことを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate, wherein the outer dimensions of the PGA substrate are rectangular and are arranged at regular intervals along the outer shape. A method for measuring the outer and vertical dimensions of an outer shape of a PGA substrate having a large number of through-holes, the method comprising: locally measuring an image of each corner of the PGA substrate; The sum of the distance between the through hole located at the extreme end and the side edge of the PGA substrate was measured, and the sum of the distances between the extreme ends of the through holes located on both the left and right sides in the vertical and horizontal directions was calculated. It is characterized in that it is calculated as the outer dimensions in the vertical and horizontal directions.

【0008】請求項2に係るPGA基板の外寸測定方法
は、請求項1に係るPGA基板の外寸測定方法におい
て、上記縦方向及び横方向それぞれについて左右両側の
最端部に位置するスルホール間の距離の寸法として、隣
合うスルホール同士の間隔寸法に、同方向にて並ぶスル
ホールの数から1だけ引いた数を掛け合わせた数値を用
いることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for measuring an outer dimension of a PGA substrate according to the first aspect, further comprising the step of: Is characterized by using a value obtained by multiplying the distance between adjacent through holes by the number obtained by subtracting 1 from the number of through holes arranged in the same direction.

【0009】請求項3に係るPGA基板の外寸測定方法
は、請求項1に係るPGA基板の外寸測定方法におい
て、PGA基板又は画像処理用カメラのいずれか一方を
xyテーブルに縦横2軸方向に移動自在に設置し、上記
PGA基板又は画像処理用カメラのいずれか一方を縦横
2軸方向に移動させてPGA基板の各コーナー部を画像
処理する際の、上記PGA基板又は画像処理用カメラの
移動距離を、この移動方向における左右両側の最端部に
位置するスルホール間の距離の寸法とすることを特徴と
するものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to the first aspect, wherein one of the PGA substrate and the camera for image processing is placed on an xy table in the vertical and horizontal biaxial directions. The PGA substrate or the camera for image processing when moving either one of the PGA substrate or the camera for image processing in the vertical and horizontal biaxial directions to perform image processing on each corner of the PGA substrate. The moving distance is characterized by a distance between the through holes located at the extreme left and right ends in the moving direction.

【0010】請求項4に係るPGA基板の外寸測定方法
は、請求項3に係るPGA基板の外寸測定方法におい
て、上記画像処理用カメラ又はPGA基板のいずれか一
方を縦横2軸方向に移動させてPGA基板の各コーナー
部を画像処理する際に、各コーナー部にて最端部に位置
するスルホールと画像中心との位置ズレ寸法を縦横2軸
方向について測定して、このときの測定値により、上記
PGA基板又は画像処理用カメラの移動距離と、この移
動方向における左右両側の最端部に位置するスルホール
間の距離の寸法との誤差を校正することを特徴とするも
のである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for measuring the outer dimension of a PGA substrate according to the third aspect, wherein one of the image processing camera and the PGA substrate is moved in two axial directions. When image processing is performed on each corner of the PGA substrate, the misalignment dimension between the through hole located at the end and the image center at each corner is measured in the vertical and horizontal biaxial directions, and the measured value at this time is measured. Thus, an error between the moving distance of the PGA substrate or the image processing camera and the distance between the through holes located at the extreme left and right ends in the moving direction is calibrated.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0012】図1は、本発明の実施形態に係るPGA基
板の外寸測定方法において、外形寸法を測定するPGA
基板を示す上面図である。
FIG. 1 shows a PGA for measuring external dimensions in a method for measuring the external dimensions of a PGA substrate according to an embodiment of the present invention.
It is a top view which shows a board | substrate.

【0013】本発明に係るPGA基板の外寸測定方法
は、矩形形状を有し且つ外形に沿って等間隔矩形に並ん
だ多数のスルホール2を有するPGA基板1の外形の直
交する2方向すなわち、縦方向の寸法Yおよび横方向の
寸法Xを測定するものであって、PGA基板1の各コー
ナー部を局部的に画像処理して、縦方向及び横方向それ
ぞれについて左右両側の最端部に位置するスルホール2
中心とPGA基板1の側端縁との距離をそれぞれ測定
し、これにx軸方向及びy軸方向それぞれについて左右
両側の最端部に位置するスルホール2,2間の距離を加
算した和を、それぞれ縦方向の寸法Yおよび横方向のX
として算出するものである。
According to the method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to the present invention, the outer shape of a PGA substrate 1 having a rectangular shape and having a large number of through holes 2 arranged at regular intervals along the outer shape is perpendicular to two directions, ie, The vertical dimension Y and the horizontal dimension X are measured. Each corner portion of the PGA substrate 1 is locally image-processed, and is positioned at the leftmost and rightmost ends in the vertical direction and the horizontal direction, respectively. Surhole 2
The distance obtained by measuring the distance between the center and the side edge of the PGA substrate 1 and adding the distance between the through holes 2 and 2 located at the left and right extreme ends in the x-axis direction and the y-axis direction, respectively, The vertical dimension Y and the horizontal dimension X, respectively.
Is calculated as

【0014】本発明の第1実施形態に係るPGA基板の
外寸測定方法について説明する。図2は該第1実施形態
に係るPGA基板の外寸測定方法の説明図であって、こ
の図2に基づいて、第1実施形態におけるPGA基板1
の外形寸法の測定原理について説明する。画像処理用カ
メラによりPGA基板1の4隅のコーナー部をそれぞれ
局部的に拡大して撮影し、画像処理することにより各コ
ーナー部の最端部に位置するスルホール2に関して、該
スルホール2に近接するPGA基板1の縦側及び横側の
側端縁と該スルホール2中心との距離を測定する。この
とき、例えばPGA基板1の横方向の寸法Xを算出する
場合について説明すると、PGA基板1の横方向一辺側
における左右両コーナー部について上記画像処理により
測定した、それぞれ最端部に位置するスルホール2とP
GA基板1縦辺側の側端縁との距離X1及びX2に、同上横
方向の左右両端のスルホール2,2中心間の距離X3を算
出して加算し、その和を寸法Xとする。このとき、上記
横方向の左右両端に位置するスルホール2,2中心間の
距離X3は、同方向にて隣合うスルホール2,2間の距離
aに、同方向にて一直線に並ぶスルホール2の総数n
(nは2以上の整数)から1を引いた数を掛け合わせて
算出するものである。すなわち、この寸法Xを算出する
式は、 X=X1+X2+X3=X1+X2+a×(n−1) となる。
A method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is an explanatory diagram of a method for measuring the outer dimensions of the PGA substrate according to the first embodiment. Based on FIG.
The principle of measuring the external dimensions will be described. The four corners of the PGA substrate 1 are locally enlarged and photographed by an image processing camera, and the image processing is performed, whereby the through holes 2 located at the extreme end of each corner are brought close to the through holes 2. The distance between the vertical and horizontal side edges of the PGA substrate 1 and the center of the through hole 2 is measured. At this time, for example, the case of calculating the lateral dimension X of the PGA substrate 1 will be described. The right and left corners of the PGA substrate 1 measured at the left and right corners on one side in the lateral direction by the above-described image processing are respectively located. 2 and P
The distance X3 between the centers of the through holes 2 and 2 at the left and right ends in the horizontal direction is calculated and added to the distances X1 and X2 with the side edge of the vertical side of the GA substrate 1, and the sum is defined as a dimension X. At this time, the distance X3 between the centers of the through holes 2 and 2 located at the left and right ends in the lateral direction is the distance a between the adjacent through holes 2 and 2 in the same direction and the total number of the through holes 2 aligned in the same direction. n
This is calculated by multiplying (n is an integer of 2 or more) by subtracting 1. That is, the formula for calculating the dimension X is as follows: X = X1 + X2 + X3 = X1 + X2 + a × (n-1)

【0015】該PGA基板の外寸測定方法においては、
PGA基板1の縦方向の寸法Yについても上記寸法Xと
同様に求めることができるものであり、このようにして
PGA基板1の外形寸法である外周4辺の寸法を全て測
定ことが可能なものである。
In the method for measuring the outer dimensions of the PGA substrate,
The dimension Y in the vertical direction of the PGA substrate 1 can be obtained in the same manner as the dimension X described above. In this way, all dimensions of the outer four sides, which are the external dimensions of the PGA substrate 1, can be measured. It is.

【0016】上記のように、該PGA基板の外寸測定方
法では、PGA基板1の各コーナー部を局部的に拡大し
て画像処理することにより、各コーナー部については高
い解像度で画像処理することができるものであり、ゆえ
に各コーナー部にて最端部に位置するスルホール2とP
GA基板1の縦横側端縁との距離を高精度で測定すると
が可能となるものである。また、一般にPGA基板1に
おいてはスルホール2はコンピュータ制御された精密穿
孔機により高精度に所定間隔で形成されていることか
ら、同方向にて隣合うスルホール2,2間の距離aの同
方向における総和は、同方向の左右両端のスルホール
2,2中心間の距離と等しいものと見なすことができる
ものである。したがって、該PGA基板の外寸測定方法
では、PGA基板1の外径寸法を精度良く測定すること
ができるものであり、しかも、比較的簡易な装置で行え
るものである。また、このとき同時に、PGA基板1に
おける各コーナー部にて最端部に位置するスルホール2
とPGA基板1の縦横側端縁との距離の測定、すなわち
スルホール2の中央振分け寸法の測定を行っていること
から、PGA基板1の寸法検査を効率よく行えるもので
ある。
As described above, in the method for measuring the outer dimensions of the PGA substrate, each corner portion of the PGA substrate 1 is locally enlarged and image-processed, so that each corner portion is image-processed with high resolution. Therefore, the through holes 2 and P located at the extreme ends at each corner are
The distance between the vertical and horizontal edges of the GA substrate 1 can be measured with high accuracy. In general, in the PGA substrate 1, the through holes 2 are formed at a predetermined interval with high precision by a precision drilling machine controlled by a computer. Therefore, the distance a between the through holes 2 and 2 adjacent in the same direction is the same in the same direction. The sum can be regarded as being equal to the distance between the centers of the through holes 2 at the left and right ends in the same direction. Therefore, the method for measuring the outer dimension of the PGA substrate can accurately measure the outer diameter of the PGA substrate 1 and can be performed by a relatively simple device. At the same time, at the same time, the through holes 2 located at the end portions at the respective corner portions of the PGA substrate 1 are formed.
Since the measurement of the distance between the PGA substrate 1 and the vertical and horizontal edges of the PGA substrate 1, that is, the measurement of the central distribution dimension of the through hole 2, the dimensional inspection of the PGA substrate 1 can be performed efficiently.

【0017】なお、該実施形態においては、図3に示す
如く、PGA基板1の4隅のうち一か所に一部をカット
した面取り部3が形成されているが、この面取り部3を
有するコーナー部においては図中の点線で示したように
直線補完してPGA基板1の縦横両辺の延長線を仮想し
て、このコーナー部における最端部に位置するスルホー
ル2とPGA基板1の縦横側端縁との距離を測定するも
のである。
In this embodiment, as shown in FIG. 3, a chamfered portion 3 is formed by cutting a part at one of the four corners of the PGA substrate 1. In the corner portion, as shown by a dotted line in the figure, a straight line is complemented, and an extension line of both the vertical and horizontal sides of the PGA substrate 1 is imagined. It measures the distance to the edge.

【0018】本発明の第2実施形態に係るPGA基板の
外寸測定方法について説明する。図4は第2実施形態に
係るPGA基板の外寸測定方法の説明図であって、この
図4に基づいて、第2実施形態におけるPGA基板1の
外形寸法の測定原理について説明する。第2実施形態に
おいては、第1実施形態と同様に、画像処理用カメラに
よりPGA基板1の4隅のコーナー部をそれぞれ局部的
に拡大して撮影し、画像処理することにより各コーナー
部の最端部に位置するスルホール2に関して、該スルホ
ール2に近接するPGA基板1の縦側及び横側の側端縁
と該スルホール2中心との距離を測定し、そして、同一
方向における上記の測定値と、同方向における左右両端
のスルホール2,2中心間の距離とを加算した和をその
方向におけるPGA基板1の寸法とすることにより、外
形寸法を測定するものであるが、第2実施形態では、同
一方向における左右両端のスルホール2,2中心間の距
離の算出方法が第1実施形態とは異なっているものであ
る。
A method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to the second embodiment. Based on FIG. 4, the principle of measuring the outer dimensions of the PGA substrate 1 in the second embodiment will be described. In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the four corners of the PGA substrate 1 are locally enlarged and photographed by an image processing camera, and the image processing is performed to obtain the maximum of each corner. With respect to the through hole 2 located at the end, the distance between the longitudinal and lateral side edges of the PGA substrate 1 close to the through hole 2 and the center of the through hole 2 is measured, and the above measured values in the same direction are measured. The outer dimension is measured by taking the sum of the distance between the centers of the through holes 2 and 2 at both ends in the same direction as the dimension of the PGA substrate 1 in that direction, but in the second embodiment, The method of calculating the distance between the centers of the through holes 2 at the left and right ends in the same direction is different from that of the first embodiment.

【0019】第2実施形態では、画像処理用カメラがP
GA基板1と対峙するxyテーブルに縦横2軸方向に移
動自在に設置されているもので、上記画像処理用カメラ
を縦横2軸方向に移動させてPGA基板1の各コーナー
部を画像処理する際の、上記画像処理用カメラがコーナ
ー部から他のコーナー部へと移動する移動距離から、こ
のときの移動方向における左右両端に位置するスルホー
ル2,2中心間の距離の寸法を算出しているものであ
る。
In the second embodiment, the camera for image processing is P
The camera is mounted on an xy table facing the GA substrate 1 so as to be movable in the vertical and horizontal directions. When the image processing camera is moved in the vertical and horizontal directions, image processing of each corner of the PGA substrate 1 is performed. The distance between the centers of the through holes 2 and 2 located at the left and right ends in the moving direction at this time is calculated from the moving distance of the image processing camera moving from one corner to another corner. It is.

【0020】第2実施形態に係るPGA基板の外寸測定
方法において、例えばPGA基板1の横方向の寸法Xを
算出する場合について説明すると、図4に示す如く、P
GA基板1の横方向一辺側における左右両コーナー部に
ついて上記画像処理により測定した、それぞれ最端部に
位置するスルホール2中心とPGA基板1縦辺側の側端
縁との距離X1及びX2に、同上横方向の左右両端のスルホ
ール2,2中心間の距離X3を同上横方向の画像処理用カ
メラの移動距離X5から算出して加算し、その和を寸法X
とする。
In the method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to the second embodiment, for example, a case where the lateral dimension X of the PGA substrate 1 is calculated will be described. As shown in FIG.
The distances X1 and X2 between the center of the through hole 2 located at the outermost end and the side edge on the longitudinal side of the PGA substrate 1 were measured by the above-described image processing for both the left and right corners on one side in the horizontal direction of the GA substrate 1, The distance X3 between the centers of the through holes 2 at the right and left ends in the horizontal direction is calculated from the moving distance X5 of the image processing camera in the horizontal direction, and the sum is added.
And

【0021】ところで、このとき同上横方向の左右両コ
ーナー部に対する画像処理用カメラの移動距離X5は、画
像処理用カメラがそれぞれ左右両コーナー部を撮影した
ときの画像中心S1,S2 間の距離に等しいものとなる。こ
こで、画像中心S1,S2 と、同上横方向の左右両端のスル
ホール2,2中心とは一致するとは限らないものであ
り、この場合、画像中心S1,S2 と同上スルホール2,2
とが横方向にズレた距離X6,X7 の分だけ、上記左右両端
のスルホール2,2中心間の距離X3と画像処理用カメラ
の移動距離X5とは一致しないものとなる。したがって、
画像処理用カメラの移動距離X5から上記左右両端のスル
ホール2,2中心間の距離X3を算出するにあたっては、
ズレた距離X6,X7 により校正する必要があるものであ
る。例えば、画像中心S1,S2 が上記左右両端のスルホー
ル2,2中心に対して内側にズレた場合の上記ズレた距
離X6,X7 をプラスの値とし、外側にズレた場合の上記ズ
レた距離X6,X7 をマイナスの値と定義すると、上記左右
両端のスルホール2,2中心間の距離X3は、画像処理用
カメラの移動距離X5と上記ズレた距離X6,X7 とを加算し
た和に等しいものとなる。したがってこの場合、PGA
基板1 の横方向の寸法Xを算出する式は、 X=X1+X2+X3=X1+X2+(X5+X6+X7) となる。
At this time, the moving distance X5 of the image processing camera with respect to the left and right corners in the horizontal direction is the distance between the image centers S1 and S2 when the image processing camera has photographed the left and right corners, respectively. Will be equal. Here, the image centers S1 and S2 do not always coincide with the centers of the through holes 2 and 2 at the left and right ends in the horizontal direction. In this case, the image centers S1 and S2 and the through holes 2 and 2
The distance X3 between the centers of the through holes 2 at the left and right ends and the moving distance X5 of the image processing camera do not coincide with each other by the distances X6 and X7 that are shifted in the horizontal direction. Therefore,
In calculating the distance X3 between the centers of the through holes 2 at the left and right ends from the moving distance X5 of the image processing camera,
Calibration is required based on the shifted distances X6 and X7. For example, the shifted distances X6 and X7 when the image centers S1 and S2 are shifted inward with respect to the centers of the through holes 2 and 2 at the left and right ends are set to plus values, and the shifted distance X6 when the image centers S1 and S2 are shifted outward. , X7 is defined as a negative value, the distance X3 between the centers of the through holes 2 at the left and right ends is equal to the sum of the moving distance X5 of the image processing camera and the displaced distances X6, X7. Become. Therefore, in this case, PGA
The formula for calculating the lateral dimension X of the substrate 1 is as follows: X = X1 + X2 + X3 = X1 + X2 + (X5 + X6 + X7)

【0022】PGA基板の外寸測定方法においては、P
GA基板1の縦方向の寸法Yについても上記寸法Xと同
様に求めることができるものであり、このようにしてP
GA基板1の外形寸法である外周4辺の寸法を全て測定
ことが可能なものである。
In the method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate, P
The dimension Y in the vertical direction of the GA substrate 1 can be obtained in the same manner as the dimension X described above.
The outer dimensions of the GA substrate 1 can be measured on all four sides.

【0023】上述したように、該PGA基板の外寸測定
方法では、PGA基板1の各コーナー部を局部的に拡大
して画像処理することにより、各コーナー部にて最端部
に位置するスルホール2中心とPGA基板1の縦横側端
縁との距離を高精度で測定するとが可能となるものであ
る。また、画像処理用カメラの移動距離から左右両端の
スルホール2,2中心間の距離を正確に算出することが
できる。したがって、該PGA基板の外寸測定方法で
は、PGA基板1の外径寸法を精度良く測定することが
できるものであり、しかも、比較的簡易な装置で行える
ものである。また、このとき同時に、PGA基板1にお
ける各コーナー部にて最端部に位置するスルホール2と
PGA基板1の縦横側端縁との距離の測定、すなわちス
ルホール2の中央振分け寸法の測定を行っていることか
ら、PGA基板1の寸法検査を効率よく行えるものであ
る。
As described above, in the method of measuring the outer dimensions of the PGA substrate, each corner portion of the PGA substrate 1 is locally enlarged and image-processed, so that the through hole located at the outermost end at each corner portion is obtained. The distance between the two centers and the vertical and horizontal edges of the PGA substrate 1 can be measured with high accuracy. Further, the distance between the centers of the through holes 2 and 2 at the left and right ends can be accurately calculated from the moving distance of the image processing camera. Therefore, the method for measuring the outer dimension of the PGA substrate can accurately measure the outer diameter of the PGA substrate 1 and can be performed by a relatively simple device. At this time, at the same time, the distance between the through hole 2 located at the end of each corner of the PGA substrate 1 and the vertical and horizontal edges of the PGA substrate 1, that is, the central distribution dimension of the through hole 2 was measured. Therefore, the dimensional inspection of the PGA substrate 1 can be performed efficiently.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項1
乃至請求項4に係るPGA基板の外寸測定方法による
と、PGA基板1の各コーナー部を局部的に画像処理し
て、縦方向及び横方向それぞれについて左右両側の最端
部に位置するスルホール2中心とPGA基板1の側端縁
との距離をそれぞれ測定し、これにx軸方向及びy軸方
向それぞれについて左右両側の最端部に位置するスルホ
ール2,2間の距離を加算した和を、それぞれ縦方向の
寸法Yおよび横方向のXとして算出する手法により、比
較的簡単な構成でPGA基板の外形寸法の測定精度を向
上させることが可能であり、さらにスルホールの中央振
分け寸法の測定をも同時に行うことが可能なものであ
る。
As described above, according to the first aspect of the present invention,
According to the method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to claim 4, each corner portion of the PGA substrate 1 is locally image-processed, and the through hole 2 located at the leftmost and rightmost ends in the vertical and horizontal directions respectively. The distance obtained by measuring the distance between the center and the side edge of the PGA substrate 1 and adding the distance between the through holes 2 and 2 located at the left and right extreme ends in the x-axis direction and the y-axis direction, respectively, By the method of calculating the vertical dimension Y and the horizontal dimension X, respectively, it is possible to improve the measurement accuracy of the outer dimensions of the PGA substrate with a relatively simple configuration, and it is also possible to measure the central distribution dimension of the through hole. It can be done at the same time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態にて外形寸法を測定するPG
A基板を示す上面図である。
FIG. 1 is a PG for measuring external dimensions according to an embodiment of the present invention.
It is a top view which shows A board | substrate.

【図2】本発明の第1実施形態に係るPGA基板の外寸
測定方法の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a PGA substrate outer dimension measuring method according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態に係るPGA基板の面取り部
を示す上面図である。
FIG. 3 is a top view showing a chamfered portion of the PGA substrate according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2実施形態に係るPGA基板の外寸
測定方法の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】 1 PGA基板 2 スルホール[Explanation of Signs] 1 PGA substrate 2 Through hole

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 矩形形状に形成され且つ外形に沿って等
間隔矩形に並んだ多数のスルホールを有するPGA基板
における外形の縦横寸法を測定するPGA基板の外寸測
定方法であって、PGA基板の各コーナー部を局部的に
画像処理して、縦方向及び横方向それぞれについて左右
両側の最端部に位置するスルホールとPGA基板の側端
縁との距離をそれぞれ測定し、これに縦方向及び横方向
それぞれについて左右両側の最端部に位置するスルホー
ル間の距離を加算した和を、縦方向及び横方向の外形寸
法として算出することを特徴とするPGA基板の外寸測
定方法。
1. A PGA substrate outer dimension measuring method for measuring the vertical and horizontal dimensions of an outer shape of a PGA substrate having a large number of through holes formed in a rectangular shape and arranged at regular intervals along the outer shape of the PGA substrate. Each corner is locally image-processed to measure the distance between the through hole located at the leftmost end on each of the left and right sides and the side edge of the PGA substrate in the vertical direction and the horizontal direction, respectively. A method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate, wherein a sum of the distances between the through holes located at the extreme left and right ends in each of the directions is calculated as the outer dimensions in the vertical and horizontal directions.
【請求項2】 上記PGA基板の縦方向及び横方向それ
ぞれについて左右両側の最端部に位置するスルホール間
の距離の寸法として、隣合うスルホール同士の間隔寸法
に、同方向にて並ぶスルホールの数から1だけ引いた数
を掛け合わせた数値を用いることを特徴とする請求項1
記載のPGA基板の外寸測定方法。
2. The number of through holes arranged in the same direction as the distance between the adjacent through holes in the longitudinal direction and the lateral direction of the PGA substrate, the distance between the through holes located at the left and right end portions. 2. A numerical value obtained by multiplying a value obtained by subtracting 1 from the value of the number.
The method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate described in the above.
【請求項3】 PGA基板又は画像処理用カメラのいず
れか一方をxyテーブルに縦横2軸方向に移動自在に設
置し、上記PGA基板又は画像処理用カメラのいずれか
一方を縦横2軸方向に移動させてPGA基板の各コーナ
ー部を画像処理する際の、上記PGA基板又は画像処理
用カメラの移動距離を、この移動方向における左右両側
の最端部に位置するスルホール間の距離の寸法とするこ
とを特徴とする請求項1記載のPGA基板の外寸測定方
法。
3. A PGA substrate or an image processing camera is mounted on an xy table so as to be movable in two vertical and horizontal directions, and one of the PGA substrate and the image processing camera is moved in two vertical and horizontal directions. When performing image processing on each corner of the PGA substrate, the moving distance of the PGA substrate or the camera for image processing is set to the distance between the through holes located at the extreme left and right ends in the moving direction. The method for measuring the outer dimensions of a PGA substrate according to claim 1, wherein:
【請求項4】 上記画像処理用カメラ又はPGA基板の
いずれか一方を縦横2軸方向に移動させてPGA基板の
各コーナー部を画像処理する際に、各コーナー部にて最
端部に位置するスルホールと画像中心との位置ズレ寸法
を縦横2軸方向について測定して、このときの測定値に
より、上記PGA基板又は画像処理用カメラの移動距離
と、この移動方向における左右両側の最端部に位置する
スルホール間の距離の寸法との誤差を校正することを特
徴とする請求項3記載のPGA基板の外寸測定方法。
4. When one of the image processing camera and the PGA substrate is moved in two vertical and horizontal directions to perform image processing on each corner of the PGA substrate, the corner is located at the end of each corner. The displacement between the through hole and the center of the image is measured in the vertical and horizontal biaxial directions, and the measured value at this time indicates the moving distance of the PGA substrate or the image processing camera and the right and left ends in the moving direction. 4. The method for measuring an outer dimension of a PGA substrate according to claim 3, wherein an error with a dimension of a distance between the located through holes is calibrated.
JP16498996A 1996-06-25 1996-06-25 Measuring method of dimensions of pga base Pending JPH109826A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16498996A JPH109826A (en) 1996-06-25 1996-06-25 Measuring method of dimensions of pga base

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16498996A JPH109826A (en) 1996-06-25 1996-06-25 Measuring method of dimensions of pga base

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH109826A true JPH109826A (en) 1998-01-16

Family

ID=15803731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16498996A Pending JPH109826A (en) 1996-06-25 1996-06-25 Measuring method of dimensions of pga base

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH109826A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5262258A (en) Process of manufacturing semiconductor devices
US7180593B2 (en) Overlay mark for aligning different layers on a semiconductor wafer
WO2015096665A1 (en) Compensation method for pcb expansion and contraction
JPH02143544A (en) Semiconductor device provided with vernier pattern for mesh matching use
JP2870461B2 (en) Photomask alignment mark and semiconductor device
JP3552884B2 (en) Pattern for measuring overlay accuracy
JPH109826A (en) Measuring method of dimensions of pga base
US7136520B2 (en) Method of checking alignment accuracy of patterns on stacked semiconductor layers
JP3012622B1 (en) Manufacturing method of printed wiring board
JPH09205281A (en) Method for inspecting inner-layer circuit pattern deviation of multilayer printed wiring board
JP2663623B2 (en) Method of forming resist pattern
KR102617622B1 (en) Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark
US11683891B2 (en) Inspection method of printed wiring board
JPH02125490A (en) Printed circuit board
KR100811372B1 (en) Overlay measuring mark
JPS5839361Y2 (en) Mask pattern position measurement jig
JPS587654Y2 (en) printed wiring board
US20020127486A1 (en) Shot configuration measuring mark and transfer error detection method using the same
CN116782489A (en) Monitoring mark for interlayer deviation of inner core plate, circuit board and monitoring method thereof
JPH109824A (en) Measuring method of dimensions of pga base
JPS62273725A (en) Vernier pattern for evaluating mask alignment accuracy
JPS63155686A (en) Wiring board and manufacture of the same
JPH10185541A (en) Method for measuring accuracy of arrangement, photomask and semiconductor device
JPH0823143A (en) Printed board
KR20230003846A (en) Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark